JP2014157339A - Resist stripper composition - Google Patents
Resist stripper composition Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014157339A JP2014157339A JP2013029308A JP2013029308A JP2014157339A JP 2014157339 A JP2014157339 A JP 2014157339A JP 2013029308 A JP2013029308 A JP 2013029308A JP 2013029308 A JP2013029308 A JP 2013029308A JP 2014157339 A JP2014157339 A JP 2014157339A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- resist
- remover composition
- mass
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
本発明は、レジスト剥離剤組成物に関する。 The present invention relates to a resist remover composition.
カラーフィルターは、ガラス基板と、該ガラス基板上に形成されたレジストおよび電極とを備えている。レジストは、カラーレジストである赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）パターンと、各画素間の漏れ光を遮断してカラーコントラストの改善や外部光反射の抑制による視野性の向上等の役割を果たすブラックマトリックス（ＢＭ）とで構成されている。 The color filter includes a glass substrate, and a resist and an electrode formed on the glass substrate. The resist is a red (R), green (G), and blue (B) pattern that is a color resist, and the color contrast is improved by blocking leakage light between pixels, and the visibility is improved by suppressing external light reflection. And a black matrix (BM).
カラーフィルターは、通常、以下のようにして製造される。
まず、ガラス基板上にブラックマトリックスの構成材料（ＢＭ材料）を塗布してパターンを露光し、光重合反応によりＢＭ材料を硬化させる。現像により露光されていない部分を除去してブラックマトリックスパターンを形成した後、カラーレジストについてもブラックマトリックスと同様にして、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）毎にカラーレジストの構成材料（レジスト材料）を用いてカラーレジストパターンを形成する。欠陥検査後、必要に応じて透明保護膜（オーバーコート膜）を形成し、さらに透明導電膜（ＩＴＯ電極）を形成して、カラーフィルターを得る。以下、透明保護膜および透明導電膜を形成する前のカラーフィルターをカラーフィルター基板という。
The color filter is usually manufactured as follows.
First, a black matrix constituent material (BM material) is applied onto a glass substrate, the pattern is exposed, and the BM material is cured by a photopolymerization reaction. After removing the unexposed portions by development to form a black matrix pattern, the color resist is configured for each of red (R), green (G), and blue (B) in the same manner as the black matrix. A color resist pattern is formed using a material (resist material). After the defect inspection, a transparent protective film (overcoat film) is formed as necessary, and further a transparent conductive film (ITO electrode) is formed to obtain a color filter. Hereinafter, the color filter before forming the transparent protective film and the transparent conductive film is referred to as a color filter substrate.
ＢＭ材料としては、従来クロム系金属材料が用いられていたが、近年、経済性や環境の面から樹脂系材料が主流となっている。樹脂系材料に含まれる樹脂としては、通常、アクリル系樹脂が用いられる。
一方、レジスト材料に含まれる樹脂としては、通常、アクリル系樹脂やエポキシ樹脂が用いられる。
Conventionally, chromium-based metal materials have been used as the BM material, but in recent years, resin-based materials have become mainstream from the viewpoint of economy and environment. As the resin contained in the resin material, an acrylic resin is usually used.
On the other hand, as the resin contained in the resist material, acrylic resin or epoxy resin is usually used.
従来、欠陥検査により不良品と判定されたカラーフィルター基板は、廃棄処分されていた。
しかし、経済性や環境の面から、近年では不良品となったカラーフィルター基板上のレジストを除去し、ガラス基板を再使用している。
Conventionally, color filter substrates that have been determined to be defective by defect inspection have been discarded.
However, from the viewpoint of economy and environment, in recent years, the resist on the color filter substrate, which has become defective, is removed and the glass substrate is reused.
カラーフィルター基板上のレジストを除去するための剥離剤として、例えば特許文献１には無機アルカリ水酸化物および／または第４級アンモニウム水酸化物と、アルカノールアミン類等のアミン化合物と、環状アルコール系溶剤等の有機溶剤と、カルボン酸またはヒドロキシカルボン酸等の有機酸およびその塩と、水とを含むレジスト剥離液組成物が開示されている。 As a release agent for removing a resist on a color filter substrate, for example, Patent Document 1 discloses an inorganic alkali hydroxide and / or quaternary ammonium hydroxide, an amine compound such as alkanolamines, and a cyclic alcohol type. A resist stripping composition containing an organic solvent such as a solvent, an organic acid such as a carboxylic acid or hydroxycarboxylic acid and a salt thereof, and water is disclosed.
しかしながら、特許文献１に記載の剥離液組成物は、液が分離したり析出物が発生したりしやすく、液安定性に劣るものであった。レジストを除去する場合、通常、カラーフィルター基板に剥離剤をスプレーやシャワーで吹き付けてレジストを剥離する。剥離剤の液安定性が悪いとカラーフィルター基板に均一に吹き付けることができないため、レジストを十分に剥離できなくなる。 However, the stripping solution composition described in Patent Document 1 is inferior in liquid stability because the liquid is easily separated or precipitates are generated. When removing the resist, the resist is usually peeled off by spraying a release agent on the color filter substrate with a spray or shower. If the liquid stability of the release agent is poor, the resist cannot be sufficiently peeled off because it cannot be sprayed uniformly on the color filter substrate.
また、ＢＭ材料とレジスト材料の樹脂組成が異なる場合、１種類の剥離剤ではブラックマトリックスとカラーレジストとを剥離することは困難であった。 Further, when the resin composition of the BM material and the resist material are different, it is difficult to peel off the black matrix and the color resist with one type of release agent.
本発明は上記事情を鑑みてなされたものであり、レジストに対して高い剥離性を有し、かつ液安定性に優れるレジスト剥離剤組成物を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a resist remover composition that has high releasability with respect to a resist and is excellent in liquid stability.
本発明は以下の態様を有する。
［１］ 下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有する、レジスト剥離剤組成物。
（Ａ）成分：第４級アンモニウムの水酸化物。
（Ｂ）成分：アルカリ金属の水酸化物。
（Ｃ）成分：アルカノールアミン。
（Ｄ）成分：下記一般式（１）で表される化合物および／またはその塩。
（Ｅ）成分：下記一般式（２）で表される化合物。
The present invention has the following aspects.
[1] A resist stripper composition containing the following components (A) to (E).
(A) Component: A quaternary ammonium hydroxide.
(B) Component: Alkali metal hydroxide.
(C) Component: Alkanolamine.
Component (D): a compound represented by the following general formula (1) and / or a salt thereof.
(E) Component: A compound represented by the following general formula (2).
式（１）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアルケニル基であり、Ｒ２は水素原子、またはメチル基であり、Ｍは水素原子、またはアルカリ金属である。 In Formula (1), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom or a methyl group, M is a hydrogen atom, Or it is an alkali metal.
式（２）中、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルケニル基、またはヒドロキシ基であり、Ｒ４はメチレン基、またはオキシメチレン基であり、ｎは０〜２の整数である。 In Formula (2), R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a hydroxy group, R 4 is a methylene group or an oxymethylene group, and n Is an integer of 0-2.
［２］ 前記（Ｄ）成分と（Ｅ）成分のモル比（（Ｄ）成分／（Ｅ）成分）が０．２０以上である、［１］に記載のレジスト剥離剤組成物。
［３］ カラーフィルター基板用である、［１］または［２］に記載のレジスト剥離剤組成物。
[2] The resist remover composition according to [1], wherein a molar ratio of the component (D) to the component (E) (component (D) / component (E)) is 0.20 or more.
[3] The resist remover composition according to [1] or [2], which is for a color filter substrate.
本発明のレジスト剥離剤組成物は、レジストに対して高い剥離性を有し、かつ液安定性に優れる。 The resist remover composition of the present invention has a high releasability with respect to a resist and is excellent in liquid stability.
本発明のレジスト剥離剤組成物は、下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有する。
以下、各成分について説明する。
The resist remover composition of the present invention contains the following components (A) to (E).
Hereinafter, each component will be described.
＜（Ａ）成分＞
（Ａ）成分は、第４級アンモニウムの水酸化物である。（Ａ）成分はエッチング作用によりレジストをカラーフィルター基板から剥離するアルカリ剤である。特に、カラーレジストに対する剥離性に優れ、後述の（Ｂ）成分との併用により、カラーレジストに対する剥離性が高まる。
<(A) component>
The component (A) is a quaternary ammonium hydroxide. Component (A) is an alkaline agent that peels the resist from the color filter substrate by an etching action. In particular, the color resist is excellent in releasability, and the combined use with the later-described component (B) increases the releasability from the color resist.
（Ａ）成分としては、例えば水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化トリメチルベンジルアンモニウム、水酸化トリメチル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムなどが挙げられる。これらの中でも、水酸化テトラメチルアンモニウムが好ましい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
Examples of the component (A) include tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, and trimethyl (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide. Among these, tetramethylammonium hydroxide is preferable.
These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
（Ａ）成分の含有量は、レジスト剥離剤組成物１００質量％中、１〜１５質量％が好ましく、５〜１０質量％がより好ましい。（Ａ）成分の含有量が１質量％以上であれば、レジストに対する剥離性がより高まる。一方、（Ａ）成分の含有量が１５質量％以下であれば、液安定性がより良好となる。 The content of the component (A) is preferably 1 to 15% by mass and more preferably 5 to 10% by mass in 100% by mass of the resist remover composition. If content of (A) component is 1 mass% or more, the peelability with respect to a resist will increase more. On the other hand, if content of (A) component is 15 mass% or less, liquid stability will become more favorable.
＜（Ｂ）成分＞
（Ｂ）成分はアルカリ金属の水酸化物である。（Ｂ）成分はエッチング作用によりレジストをカラーフィルター基板から剥離するアルカリ剤である。特に、ブラックマトリックスに対する剥離性に優れ、後述の（Ｃ）成分との併用により、ブラックマトリックスに対する剥離性が高まる。
<(B) component>
The component (B) is an alkali metal hydroxide. Component (B) is an alkaline agent that peels the resist from the color filter substrate by an etching action. In particular, the releasability from the black matrix is excellent, and the releasability from the black matrix is enhanced by the combined use with the component (C) described later.
（Ｂ）成分としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
Examples of the component (B) include sodium hydroxide and potassium hydroxide.
These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
（Ｂ）成分の含有量は、レジスト剥離剤組成物１００質量％中、１〜２０質量％が好ましく、２〜１０質量％がより好ましい。（Ｂ）成分の含有量が１質量％以上であれば、レジストに対する剥離性がより高まる。一方、（Ｂ）成分の含有量が２０質量％以下であれば、液安定性がより良好となる。 The content of the component (B) is preferably 1 to 20% by mass and more preferably 2 to 10% by mass in 100% by mass of the resist remover composition. If content of (B) component is 1 mass% or more, the peelability with respect to a resist will increase more. On the other hand, if content of (B) component is 20 mass% or less, liquid stability will become more favorable.
＜（Ｃ）成分＞
（Ｃ）成分はアルカノールアミンである。（Ｃ）成分はエッチング作用によりレジストをカラーフィルター基板から剥離するアルカリ剤である。特に、前記（Ｂ）成分との併用により、ブラックマトリックスに対する剥離性が高まる。また、（Ｃ）成分は後述の（Ｄ）成分との併用により、液安定性をより高める成分でもある。
<(C) component>
Component (C) is alkanolamine. Component (C) is an alkaline agent that peels the resist from the color filter substrate by an etching action. In particular, the combination with the component (B) increases the peelability to the black matrix. Moreover, (C) component is also a component which improves liquid stability more by using together with the below-mentioned (D) component.
（Ｃ）成分としては、例えばモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルエタノールアミン、アミノエトキシエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエトキシエタノール、イソプロパノールアミンなどが挙げられる。これらの中でも、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、イソプロパノールアミンが好ましく、イソプロパノールアミンがより好ましい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
Examples of the component (C) include monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methylethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N-methyldiethanolamine, aminoethylethanolamine, N, N-dimethylaminoethylethanol. Examples include amines, aminoethoxyethanol, N, N-dimethylaminoethoxyethanol, and isopropanolamine. Among these, monoethanolamine, diethanolamine, and isopropanolamine are preferable, and isopropanolamine is more preferable.
These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
（Ｃ）成分の含有量は、レジスト剥離剤組成物１００質量％中、１〜２０質量％が好ましく、３〜１０質量％がより好ましい。（Ｃ）成分の含有量が１質量％以上であれば、レジストに対する剥離性、および液安定性がより高まる。一方、（Ｃ）成分の含有量が２０質量％以下であれば、液安定性がより良好となる。 The content of the component (C) is preferably 1 to 20% by mass and more preferably 3 to 10% by mass in 100% by mass of the resist remover composition. If content of (C) component is 1 mass% or more, the peelability with respect to a resist and liquid stability will improve more. On the other hand, if content of (C) component is 20 mass% or less, liquid stability will become more favorable.
また、（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分の含有量の合計は、レジスト剥離剤組成物１００質量％中、３〜５５質量％が好ましく、１０〜３０質量％がより好ましい。（Ａ）〜（Ｃ）成分の含有量の合計が３質量％以上であれば、レジストに対する剥離性、および液安定性がより高まる。一方、（Ａ）〜（Ｃ）成分の含有量の合計が５５質量％以下であれば、液安定性がより良好となる。 In addition, the total content of the component (A), the component (B), and the component (C) is preferably 3 to 55% by mass and more preferably 10 to 30% by mass in 100% by mass of the resist remover composition. When the total content of the components (A) to (C) is 3% by mass or more, the peelability to the resist and the liquid stability are further improved. On the other hand, if the sum total of content of (A)-(C) component is 55 mass% or less, liquid stability will become more favorable.
また、（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分の質量比（（Ａ）成分：（Ｂ）成分：（Ｃ）成分）は、（３４〜６３）：（６〜３７）：（２５〜４８）が好ましい。質量比が上記範囲内であれば、レジストに対する剥離性、および液安定性がより高まる。 Moreover, the mass ratio ((A) component: (B) component: (C) component) of (A) component, (B) component, and (C) component is (34-63) :( 6-37) :( 25-48) is preferred. When the mass ratio is within the above range, the peelability to the resist and the liquid stability are further increased.
＜（Ｄ）成分＞
（Ｄ）成分は、下記一般式（１）で表される化合物および／またはその塩である。（Ｄ）成分は後述の（Ｅ）成分をレジスト剥離剤組成物中に可溶化させ、液安定性を向上させる成分である。特に、前記（Ｃ）成分との併用により、液安定性が高まる。レジスト剥離剤組成物の液安定性が高いことで、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｅ）成分の相乗効果が高まり、剥離性がより良好となる。
<(D) component>
The component (D) is a compound represented by the following general formula (1) and / or a salt thereof. The component (D) is a component that solubilizes the component (E) described later in the resist remover composition and improves the liquid stability. In particular, liquid stability is enhanced by the combined use with the component (C). Since the liquid stability of the resist remover composition is high, the synergistic effect of the component (A), the component (B), the component (C), and the component (E) increases, and the releasability becomes better.
式（１）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアルケニル基であり、Ｒ２は水素原子、またはメチル基であり、Ｍは水素原子、またはアルカリ金属である。
Ｒ１がアルキル基またはアルケニル基である場合、Ｒ１の炭素数は１〜４であり、１〜３が好ましい。また、Ｒ１は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
Ｍがアルカリ金属である場合、Ｍとしてはナトリウム、カリウムなどが挙げられる。
In Formula (1), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom or a methyl group, M is a hydrogen atom, Or it is an alkali metal.
When R 1 is an alkyl group or an alkenyl group, R 1 has 1 to 4 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms. R 1 may be linear or branched.
When M is an alkali metal, examples of M include sodium and potassium.
（Ｄ）成分としては、例えばベンゼンスルホン酸、ｍ−キシレンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、クメンスルホン酸、およびこれらのナトリウム塩もしくはカリウム塩などが挙げられる。これらの中でも、ｍ−キシレンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、およびこれらのナトリウム塩もしくはカリウム塩が好ましく、ｍ−キシレンスルホン酸、およびそのナトリウム塩がより好ましい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
Examples of the component (D) include benzenesulfonic acid, m-xylenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, cumenesulfonic acid, and sodium or potassium salts thereof. Among these, m-xylene sulfonic acid, p-toluene sulfonic acid, and a sodium salt or potassium salt thereof are preferable, and m-xylene sulfonic acid and a sodium salt thereof are more preferable.
These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
（Ｄ）成分の含有量は、レジスト剥離剤組成物１００質量％中、５〜２０質量％が好ましく、８〜１５質量％がより好ましい。（Ｄ）成分の含有量が上記範囲内であれば、後述の（Ｅ）成分が分離するのを効果的に抑制し、液安定性をより高めることができる。 The content of the component (D) is preferably 5 to 20% by mass and more preferably 8 to 15% by mass in 100% by mass of the resist remover composition. If content of (D) component is in the said range, it can suppress effectively that the below-mentioned (E) component isolate | separates, and can improve liquid stability more.
＜（Ｅ）成分＞
（Ｅ）成分は、下記一般式（２）で表される化合物である。（Ｅ）成分は前記（Ａ）〜（Ｃ）成分のエッチング作用により剥がれたレジストとガラス基板との間に浸透し、剥離効果を高める成分である。
<(E) component>
The component (E) is a compound represented by the following general formula (2). The component (E) is a component that penetrates between the resist peeled off by the etching action of the components (A) to (C) and the glass substrate to enhance the peeling effect.
式（２）中、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルケニル基、またはヒドロキシ基であり、Ｒ４はメチレン基、またはオキシメチレン基であり、ｎは０〜２の整数である。
Ｒ３がアルキル基またはアルケニル基である場合、Ｒ３の炭素数は１〜４であり、１〜３が好ましい。また、Ｒ３は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
In Formula (2), R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a hydroxy group, R 4 is a methylene group or an oxymethylene group, and n Is an integer of 0-2.
When R 3 is an alkyl group or an alkenyl group, R 3 has 1 to 4 carbon atoms, and preferably 1 to 3 carbon atoms. R 3 may be linear or branched.
（Ｅ）成分としては、例えばベンジルアルコール、フェネチルアルコール、ｐ−ヒドロキシベンジルアルコール、ｐ−ヒドロキシフェネチルアルコール、２−フェノキシエタノールなどが挙げられる。これらの中でも、ベンジルアルコールが好ましい。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
Examples of the component (E) include benzyl alcohol, phenethyl alcohol, p-hydroxybenzyl alcohol, p-hydroxyphenethyl alcohol, and 2-phenoxyethanol. Of these, benzyl alcohol is preferred.
These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
（Ｅ）成分の含有量は、レジスト剥離剤組成物１００質量％中、５〜３０質量％が好ましく、１０〜２０質量％がより好ましい。（Ｅ）成分の含有量が５質量％以上であれば、レジストに対する剥離性がより高まる。一方、（Ｅ）成分の含有量が３０質量％以下であれば、液安定性がより良好となる。 The content of the component (E) is preferably 5 to 30% by mass and more preferably 10 to 20% by mass in 100% by mass of the resist remover composition. If content of (E) component is 5 mass% or more, the peelability with respect to a resist will increase more. On the other hand, if content of (E) component is 30 mass% or less, liquid stability will become more favorable.
また、前記（Ｄ）成分と（Ｅ）成分のモル比（（Ｄ）成分／（Ｅ）成分）は０．２０以上が好ましく、０．３５以上がより好ましい。モル比が０．２０以上であれば、（Ｅ）成分がより分離しにくくなり、液安定性がより向上し、透明均一な状態を良好に維持できる。モル比の上限値については、剥離性を維持する点で、１．４０以下が好ましく、０．７０以下がより好ましい。 Further, the molar ratio of the component (D) to the component (E) (component (D) / component (E)) is preferably 0.20 or more, and more preferably 0.35 or more. When the molar ratio is 0.20 or more, the component (E) is more difficult to separate, the liquid stability is further improved, and a transparent and uniform state can be favorably maintained. The upper limit of the molar ratio is preferably 1.40 or less and more preferably 0.70 or less in terms of maintaining the peelability.
＜その他の成分＞
本発明のレジスト剥離剤組成物は、（Ａ）〜（Ｅ）成分以外の成分として、溶媒を含有する。また、レジスト用の剥離剤に用いられる通常の添加剤を含有してもよい。
溶媒としては、例えば水などが挙げられる。
添加剤としては、例えば界面活性剤、キレート剤、酸化防止剤、防錆剤、消泡剤などが挙げられる。
<Other ingredients>
The resist remover composition of the present invention contains a solvent as a component other than the components (A) to (E). Moreover, you may contain the normal additive used for the peeling agent for resists.
Examples of the solvent include water.
Examples of additives include surfactants, chelating agents, antioxidants, rust inhibitors, and antifoaming agents.
＜製造方法＞
レジスト剥離剤組成物は、例えば（Ａ）〜（Ｅ）成分と、必要に応じて添加剤と、溶媒とを混合することにより製造される。
<Manufacturing method>
The resist remover composition is produced, for example, by mixing the components (A) to (E), and if necessary, an additive and a solvent.
＜使用方法＞
本発明のレジスト剥離剤組成物は、カラーフィルター基板上のレジストの剥離に使用される剥離剤として好適である。
剥離方法としては、レジスト剥離剤組成物をレジストに接触させる方法であれば特に制限されず、例えばシャワー法、スプレー法、浸漬法、超音波法、およびこれらを組み合わせた方法などが挙げられる。
レジストを剥離した後は、通常、水による洗浄を行う。
また、本発明のレジスト剥離剤組成物は、カラーフィルター基板の製造装置内に付着したレジストの除去にも使用できる。
<How to use>
The resist remover composition of the present invention is suitable as a remover used for removing a resist on a color filter substrate.
The stripping method is not particularly limited as long as the resist stripper composition is brought into contact with the resist, and examples thereof include a shower method, a spray method, a dipping method, an ultrasonic method, and a combination thereof.
After removing the resist, washing with water is usually performed.
Moreover, the resist remover composition of the present invention can also be used for removing the resist adhered in the color filter substrate manufacturing apparatus.
＜作用効果＞
以上説明した本発明のレジスト剥離剤組成物は、３種類のアルカリ剤（（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分）を併有し、かつ（Ｄ）成分および（Ｅ）成分を併有する。（Ａ）成分と（Ｂ）成分とを併有することで特にカラーレジストに対する剥離性が高まる。さらに（Ｃ）成分を併有することで特にブラックマトリックスに対する剥離性が高まる。加えて、本発明のレジスト剥離剤組成物は（Ｅ）成分を含有するので、剥離効果が高まる。
<Effect>
The resist stripping composition of the present invention described above has three types of alkali agents (component (A), component (B), component (C)), and comprises component (D) and component (E). Have both. By having both the component (A) and the component (B), the releasability with respect to the color resist is particularly enhanced. Furthermore, by having (C) component together, especially the peelability with respect to a black matrix increases. In addition, since the resist stripper composition of the present invention contains the component (E), the stripping effect is enhanced.
このように、ブラックマトリックスおよびカラーレジストの両方に対して剥離性を発現させるには、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分の全てに加え、（Ｅ）成分が必要である。その一方で、（Ｅ）成分は水などの溶媒に可溶しにくいため、（Ａ）〜（Ｃ）成分と分離しやすく、液安定性が低下する。
しかし、本発明のレジスト剥離剤組成物は（Ｄ）成分を含有するので、（Ｅ）成分がレジスト剥離剤組成物中で可溶化し、液安定性を維持しつつ、優れた剥離性を発現できる。
加えて、本発明のレジスト剥離剤組成物は液安定性に優れるので、シャワー法やスプレー法などでレジスト剥離剤組成物をカラーフィルター基板に吹き付けてレジストを剥離する場合でも、レジスト剥離剤組成物を均一に吹き付けることができ、剥離性を十分に発揮させることができる。
As described above, in order to develop releasability for both the black matrix and the color resist, the component (E) is required in addition to the components (A), (B), and (C). On the other hand, since the component (E) is hardly soluble in a solvent such as water, it is easily separated from the components (A) to (C), and the liquid stability is lowered.
However, since the resist stripping composition of the present invention contains the component (D), the component (E) is solubilized in the resist stripping composition, and exhibits excellent stripping properties while maintaining liquid stability. it can.
In addition, since the resist remover composition of the present invention is excellent in liquid stability, even when the resist remover composition is sprayed on the color filter substrate by a shower method or a spray method, the resist remover composition is removed. Can be sprayed uniformly, and the peelability can be sufficiently exhibited.
上述したように、従来、ＢＭ材料とレジスト材料の樹脂組成が異なる場合、１種類の剥離剤ではブラックマトリックスとカラーレジストとを剥離することは困難であった。
上述の通り、本発明のレジスト剥離剤組成物は（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有するので、ブラックマトリックスおよびカラーレジストの両方に対して高い剥離性を有する。よって、ＢＭ材料とレジスト材料の樹脂組成が異なっていても、１種類の剥離剤で容易にブラックマトリックスとカラーレジストとを剥離できる。
As described above, conventionally, when the resin composition of the BM material is different from that of the resist material, it has been difficult to remove the black matrix and the color resist with one type of release agent.
As described above, since the resist remover composition of the present invention contains the components (A) to (E), it has a high releasability for both the black matrix and the color resist. Therefore, even if the resin compositions of the BM material and the resist material are different, the black matrix and the color resist can be easily peeled with one type of release agent.
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited thereto.
「使用原料」
（Ａ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・水酸化テトラメチルアンモニウム（[(ＣＨ３)４Ｎ]＋[ＯＨ]−）：東洋合成工業株式会社製、「ＴＭＡＨ−２５Ｈ」。
"Raw material"
As the component (A), the following compounds were used.
Tetramethylammonium hydroxide ([(CH 3 ) 4 N] + [OH] − ): “TMAH-25H” manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.
（Ｂ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）：旭硝子株式会社製、「４８％苛性ソーダ」。
・水酸化カリウム（ＫＯＨ）：旭硝子株式会社製、「４８％苛性カリ」。
As the component (B), the following compounds were used.
Sodium hydroxide (NaOH): “48% caustic soda” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.
Potassium hydroxide (KOH): “48% caustic potash” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.
（Ｃ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・モノエタノールアミン（ＮＨ２(ＣＨ２)２ＯＨ）：三井化学株式会社製。
・ジエタノールアミン（ＨＯ(ＣＨ２)２ＮＨ(ＣＨ２)２ＯＨ）：三井化学株式会社製。
・イソプロパノールアミン（ＣＨ３ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ２ＮＨ２）：ダウ・ケミカル社製、「ＭＩＰＡ」。
As the component (C), the following compounds were used.
Monoethanolamine (NH 2 (CH 2 ) 2 OH): manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.
Diethanolamine (HO (CH 2 ) 2 NH (CH 2 ) 2 OH): manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.
Isopropanolamine (CH 3 CH (OH) CH 2 NH 2 ): “MIPA” manufactured by Dow Chemical Co.
（Ｄ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・ｐ−トルエンスルホン酸（ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３Ｈ）：江南化工株式会社製。
・ｍ−キシレンスルホン酸（(ＣＨ３)２Ｃ６Ｈ３ＳＯ３Ｈ）：北星興業株式会社製、「ＳＸＡ−６０」。
As the component (D), the following compounds were used.
P-Toluenesulfonic acid (CH 3 C 6 H 4 SO 3 H): manufactured by Gangnam Chemical Industries, Ltd.
M-xylene sulfonic acid ((CH 3 ) 2 C 6 H 3 SO 3 H): “SXA-60” manufactured by Hokusei Kogyo Co., Ltd.
（Ｄ）成分の代替品（（Ｄ'）成分）として、以下に示す化合物を用いた。
・グルコン酸ナトリウム（ＨＯＣＨ２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ(ＯＨ)ＣＯＯＮａ）：ライオン株式会社製。
As an alternative to component (D) (component (D ′)), the following compounds were used.
Sodium gluconate (HOCH 2 CH (OH) CH (OH) CH (OH) CH (OH) COONa): manufactured by Lion Corporation
（Ｅ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
・ベンジルアルコール（Ｃ６Ｈ５ＣＨ２ＯＨ）：Ｔｅｓｓｅｎｄｅｒｌｏ社製。
・２−フェノキシエタノール（Ｃ６Ｈ５ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）：関東化学株式会社製。
As the component (E), the following compounds were used.
Benzyl alcohol (C 6 H 5 CH 2 OH ): Tessenderlo manufactured.
2-phenoxyethanol (C 6 H 5 OCH 2 CH 2 OH): manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.
「実施例１」
＜レジスト剥離剤組成物の調製＞
表１に示す配合で各成分を混合して、レジスト剥離剤組成物を調製した。
得られたレジスト剥離剤組成物について、以下のようにして液安定性および剥離性を評価した。これらの結果を表１に示す。
なお、表１中の配合量の単位は質量％であり、純分換算量を示す。また、バランス量の水とは、最終生成物であるレジスト剥離剤組成物の総量（全体量）が１００質量％になるように配合量を調整した水のことである。
"Example 1"
<Preparation of resist remover composition>
Each component was mixed by the mixing | blending shown in Table 1, and the resist remover composition was prepared.
About the obtained resist remover composition, liquid stability and peelability were evaluated as follows. These results are shown in Table 1.
In addition, the unit of the compounding quantity in Table 1 is mass%, and shows the pure amount conversion amount. Moreover, the balance amount of water is water whose blending amount is adjusted so that the total amount (total amount) of the resist stripper composition as the final product is 100% by mass.
＜液安定性の評価＞
レジスト剥離剤組成物を２５℃、４０℃、および−５℃の環境下で１ヶ月間保存した。保存後のレジスト剥離剤組成物の外観を以下のように観察し、以下の評価基準にて液安定性を評価した。評価が◎または○であれば、十分な液安定性を有すると判断する。
（観察方法）
外観観察：レジスト剥離剤組成物の外観を目視にて観察し、析出物や液分離の有無を調べた。
（評価基準）
◎：２５℃、４０℃、−５℃のいずれの環境下で保存しても、析出物および液分離は見られなかった。
○：２５℃の環境下で保存した場合は析出物および液分離は見られなかったが、４０℃および／または−５℃の環境下で保存した場合は析出物および／または液分離が見られた。
△：２５℃、４０℃、−５℃のいずれの環境下で保存した場合も、析出物および／または液分離が見られた。
×：レジスト剥離剤組成物の調製直後に析出物や液分離が生じた。
<Evaluation of liquid stability>
The resist remover composition was stored for 1 month at 25 ° C., 40 ° C., and −5 ° C. The appearance of the resist remover composition after storage was observed as follows, and the liquid stability was evaluated according to the following evaluation criteria. If evaluation is (double-circle) or (circle), it will judge that it has sufficient liquid stability.
(Observation method)
Appearance observation: The appearance of the resist remover composition was visually observed to examine the presence of precipitates and liquid separation.
(Evaluation criteria)
(Double-circle): Even if it preserve | saved in any environment of 25 degreeC, 40 degreeC, and -5 degreeC, the deposit and the liquid separation were not seen.
○: Precipitates and liquid separation were not observed when stored in an environment of 25 ° C, but precipitates and / or liquid separation were observed when stored in an environment of 40 ° C and / or -5 ° C. It was.
Δ: Precipitates and / or liquid separation were observed when stored in any environment of 25 ° C., 40 ° C., and −5 ° C.
X: Precipitates and liquid separation occurred immediately after the preparation of the resist remover composition.
＜剥離性の評価＞
ガラス基板上にブラックマトリックスおよびカラーレジストとで構成されたレジストが形成されたカラーフィルター基板を用意した。
カラーフィルター基板を調製直後のレジスト剥離剤組成物に７０℃で２０分間浸漬させた後、水で洗浄し、乾燥させた。乾燥後のカラーフィルター基板の外観を以下のように観察し、以下の評価基準にて剥離性を評価した。評価が◎または○であれば、十分な剥離性を有すると判断する。
（観察方法）
外観観察：浸漬・洗浄・乾燥後のカラーフィルター基板の外観を目視にて観察し、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の残留物をそれぞれ確認した。また。浸漬前のカラーフィルター基板の外観と比較した。
顕微鏡観察：浸漬・洗浄・乾燥後のカラーフィルター基板の表面を顕微鏡で観察し、残留しているブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の量をそれぞれ確認した。
（評価基準）
◎：目視観察で残留物を確認できず、かつ顕微鏡観察で１００％除去された状態。
○：目視観察で残留物を確認できたが、顕微鏡観察で９０％以上１００％未満除去された状態。
△：目視観察で残留物を確認でき、顕微鏡観察で５０％以上９０％未満除去された状態。
×：目視観察で残留物を確認でき、顕微鏡観察で５０％以上残存している状態、あるいは浸漬前のカラーフィルター基板とほぼ同じ状態。
<Evaluation of peelability>
A color filter substrate was prepared in which a resist composed of a black matrix and a color resist was formed on a glass substrate.
The color filter substrate was immersed in a resist remover composition immediately after preparation at 70 ° C. for 20 minutes, then washed with water and dried. The appearance of the color filter substrate after drying was observed as follows, and the peelability was evaluated according to the following evaluation criteria. If evaluation is (double-circle) or (circle), it will judge that it has sufficient peelability.
(Observation method)
Appearance observation: The appearance of the color filter substrate after immersion, washing, and drying was visually observed, and residues of black matrix (BM) and color resist (R, G, B) were confirmed. Also. The appearance of the color filter substrate before immersion was compared.
Microscopic observation: The surface of the color filter substrate after immersion, washing and drying was observed with a microscope, and the amounts of the remaining black matrix (BM) and color resist (R, G, B) were confirmed.
(Evaluation criteria)
A: A state in which no residue was confirmed by visual observation and 100% was removed by microscopic observation.
○: The residue was confirmed by visual observation, but 90% or more and less than 100% were removed by microscopic observation.
(Triangle | delta): The state which could confirm the residue by visual observation and was removed 50% or more and less than 90% by microscopic observation.
X: Residue can be confirmed by visual observation, and 50% or more remains by microscopic observation, or almost the same state as the color filter substrate before immersion.
「実施例２〜９、比較例１〜６」
各成分の配合量を表１、２に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして各例のレジスト剥離剤組成物を調製し、各種評価を行った。結果を表１、２に示す。
"Examples 2-9, Comparative Examples 1-6"
Except having changed the compounding quantity of each component as shown in Table 1, 2, the resist remover composition of each example was prepared like Example 1, and various evaluation was performed. The results are shown in Tables 1 and 2.
表１から明らかなように、各実施例で得られたレジスト剥離剤組成物は、ブラックマトリックスおよびカラーレジストの両方に対して高い剥離性を有し、かつ液安定性に優れていた。
実施例１、７、９を比較すると、（Ｄ）成分と（Ｅ）成分のモル比（（Ｄ）成分／（Ｅ）成分）が０．２０以上である実施例１、９のレジスト剥離剤組成物は、液安定性に特に優れていた。
As is clear from Table 1, the resist remover composition obtained in each example had high peelability for both the black matrix and the color resist, and was excellent in liquid stability.
When Examples 1, 7, and 9 are compared, the resist stripper of Examples 1 and 9 in which the molar ratio of the component (D) to the component (E) (component (D) / component (E)) is 0.20 or more. The composition was particularly excellent in liquid stability.
一方、（Ａ）成分、または（Ｂ）成分を含有しない比較例１、２のレジスト剥離剤組成物は、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対する剥離性に劣っていた。
（Ｃ）成分を含有しない比較例３のレジスト剥離剤組成物は、ブラックマトリックス（ＢＭ）に対する剥離性に劣っていた。
（Ｄ）成分を含有しない比較例４のレジスト剥離剤組成物は、液安定性に劣っていた。また、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対する剥離性も劣っていた。
（Ｄ）成分の代わりに、グルコン酸ナトリウムを用いた比較例５のレジスト剥離剤組成物は、液安定性に劣っていた。また、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対する剥離性も劣っていた。
（Ｅ）成分を含有しない比較例６のレジスト剥離剤組成物は、ブラックマトリックス（ＢＭ）およびカラーレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ）に対する剥離性に劣っていた。
On the other hand, the resist remover compositions of Comparative Examples 1 and 2 that did not contain the component (A) or the component (B) were inferior in peelability to the black matrix (BM) and the color resist (R, G, B). .
The resist remover composition of Comparative Example 3 containing no component (C) was inferior in peelability to the black matrix (BM).
The resist remover composition of Comparative Example 4 containing no component (D) was inferior in liquid stability. Moreover, the peelability with respect to a black matrix (BM) and a color resist (R, G, B) was also inferior.
The resist remover composition of Comparative Example 5 using sodium gluconate instead of the component (D) was inferior in liquid stability. Moreover, the peelability with respect to a black matrix (BM) and a color resist (R, G, B) was also inferior.
The resist remover composition of Comparative Example 6 containing no component (E) was inferior in peelability to the black matrix (BM) and the color resist (R, G, B).
Claims (3)
（Ａ）成分：第４級アンモニウムの水酸化物。
（Ｂ）成分：アルカリ金属の水酸化物。
（Ｃ）成分：アルカノールアミン。
（Ｄ）成分：下記一般式（１）で表される化合物および／またはその塩。
（Ｅ）成分：下記一般式（２）で表される化合物。
(A) Component: A quaternary ammonium hydroxide.
(B) Component: Alkali metal hydroxide.
(C) Component: Alkanolamine.
Component (D): a compound represented by the following general formula (1) and / or a salt thereof.
(E) Component: A compound represented by the following general formula (2).
The resist remover composition according to claim 1 or 2, which is used for a color filter substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013029308A JP2014157339A (en) | 2013-02-18 | 2013-02-18 | Resist stripper composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013029308A JP2014157339A (en) | 2013-02-18 | 2013-02-18 | Resist stripper composition |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014157339A true JP2014157339A (en) | 2014-08-28 |
Family
ID=51578222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013029308A Pending JP2014157339A (en) | 2013-02-18 | 2013-02-18 | Resist stripper composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2014157339A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015072550A1 (en) * | 2013-11-18 | 2015-05-21 | 富士フイルム株式会社 | Modified-resist stripper, modified-resist stripping method using same, and method for manufacturing semiconductor-substrate product |
| WO2017037970A1 (en) * | 2015-09-03 | 2017-03-09 | 日新製鋼株式会社 | Method for stripping resist film from metal plate and method for manufacturing etched metal plate |
| JP2018081303A (en) * | 2016-11-10 | 2018-05-24 | 三洋化成工業株式会社 | Stripping composition for resist |
| JP2020519915A (en) * | 2018-04-17 | 2020-07-02 | エルティーシー カンパニー リミテッド | Dry film resist stripper composition |
| JP2021147501A (en) * | 2020-03-19 | 2021-09-27 | 日油株式会社 | Resin film remover for circuit board |
| WO2022114110A1 (en) * | 2020-11-30 | 2022-06-02 | 花王株式会社 | Cleaning agent composition for detaching resin mask |
-
2013
- 2013-02-18 JP JP2013029308A patent/JP2014157339A/en active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015072550A1 (en) * | 2013-11-18 | 2015-05-21 | 富士フイルム株式会社 | Modified-resist stripper, modified-resist stripping method using same, and method for manufacturing semiconductor-substrate product |
| JP2015118125A (en) * | 2013-11-18 | 2015-06-25 | 富士フイルム株式会社 | Stripper for modified resist, method for stripping modified resist using the same, and method for manufacturing semiconductor substrate product |
| WO2017037970A1 (en) * | 2015-09-03 | 2017-03-09 | 日新製鋼株式会社 | Method for stripping resist film from metal plate and method for manufacturing etched metal plate |
| JP2017049473A (en) * | 2015-09-03 | 2017-03-09 | 日新製鋼株式会社 | Method for removing resist film from metal plate and method for manufacturing etched metal plate |
| US10156789B2 (en) | 2015-09-03 | 2018-12-18 | Nisshin Steel Co., Ltd. | Method for stripping resist film from metal plate and method for manufacturing etched metal plate |
| JP2018081303A (en) * | 2016-11-10 | 2018-05-24 | 三洋化成工業株式会社 | Stripping composition for resist |
| JP2020519915A (en) * | 2018-04-17 | 2020-07-02 | エルティーシー カンパニー リミテッド | Dry film resist stripper composition |
| US11092895B2 (en) | 2018-04-17 | 2021-08-17 | Ltc Co., Ltd. | Peeling solution composition for dry film resist |
| JP2021147501A (en) * | 2020-03-19 | 2021-09-27 | 日油株式会社 | Resin film remover for circuit board |
| JP7419905B2 (en) | 2020-03-19 | 2024-01-23 | 日油株式会社 | Resin film remover for circuit boards |
| WO2022114110A1 (en) * | 2020-11-30 | 2022-06-02 | 花王株式会社 | Cleaning agent composition for detaching resin mask |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2014157339A (en) | Resist stripper composition | |
| JP5318773B2 (en) | Stripping liquid composition and resin layer peeling method using the same | |
| TW201445264A (en) | Photoresist stripping solution | |
| CN103975052A (en) | Microelectronic substrate cleaning compositions having copper/azole polymer inhibition | |
| JP2017530377A (en) | Stripper composition for removing photoresist and method for stripping photoresist using the same | |
| JP2012001719A (en) | Cleaning liquid composition | |
| KR101082515B1 (en) | Stripper composition for photoresist and method for stripping photoresist | |
| KR20090045859A (en) | Stripping agent for polyimide | |
| JP2009115929A (en) | Stripper for color resist | |
| CN109143800A (en) | A kind of universal optical photoresist stripper and its application | |
| CN101676806A (en) | Release agent composition of thermosetting resin for thin film transistor liquid crystal display | |
| KR20110083689A (en) | Gluconic acid containing photoresist cleaning composition for multi-metal device processing | |
| CN109097201A (en) | One kind removing glue and the preparation method and application thereof | |
| KR101741839B1 (en) | Cleaning Composition for removing photosensitive resin | |
| TW201934738A (en) | Resin mask stripping and cleaning method having excellence in resin mask detachment property and continuous operation stability | |
| TW201736988A (en) | Photoresist stripper composition | |
| JP2011028146A (en) | Resist removing agent | |
| JP5143379B2 (en) | Alkaline cleaning solution | |
| KR101733729B1 (en) | Photoresist stripper composition and method of stripping photoresist using the same | |
| TWI780920B (en) | Stripper composition for removing photoresist and stripping method of photoresist using the same | |
| KR101806941B1 (en) | Stripping method of window glass protecting coating layer | |
| KR20150026582A (en) | A resist stripper composition | |
| TWI812342B (en) | Stripper composition for removing photoresist and stripping method of photoresist using the same | |
| JP6198520B2 (en) | Cleaning agent composition for alkali developing device and method for cleaning alkali developing device | |
| JP2017120400A (en) | Negative resin mask peeling detergent composition |