JP2014155799A - セラミックインプラントシステム、およびセラミックインプラントシステムを備えるセット - Google Patents

Abstract

【課題】２要素からなる、良好な破損耐性を特徴とするセラミックインプラントシステムを提供する。
【解決手段】セラミックインプラントシステム（４０）は、内側円錐部を有する近位領域（３２）を有するインプラント（２０）と、外側円錐部を有する遠位領域（２）を有する支台（１）とを備える。クランプ留め領域（３，３３，４３）中の支台（１）の遠位領域（２）およびインプラント（２０）の近位領域（３２）は、各々の場合、少なくとも１つの円錐形クランプ留め表面（４，３４）を備え、これらは、対で、正確に嵌合する態様で互いに対して適合され、これにより、セラミックインプラントシステム（４０）の支台（１）とインプラント（２０）とはクランプ留め接続によって接続可能である。
【選択図】図３

Description

発明は歯科医療の分野に存在し、セラミックインプラントおよび支台（abutment）を備えるセラミックインプラントシステムに関する。

２要素からなるおよび複数要素からなる歯科インプラントシステムは、大部分が骨の中にアンカー固定されるインプラントとは別に、たとえばクラウンまたは義歯などの上部構造を締結するように働く支台を備える。現行技術の大部分の歯科インプラントはチタンまたはチタン合金などの延性材料から製造される。２要素からなるインプラントの場合、インプラントはたいていチタンまたはチタン合金などの延性材料から製造され、支台はしばしば延性材料またはセラミックから製造される。支台は大部分が延性材料の支台ねじを用いてインプラントの中に締結される。

しかしながら、チタンインプラントと比較して、セラミックインプラントは、それらの優れた生体適合性に関していくらかの大きな利点があり、それらはしばしば美観上の理由でも好ましい。

しかしながら、チタンインプラントと比較して、セラミックインプラントには、セラミック材料、特に、酸化ジルコニウム系のセラミックまたは酸化アルミニウム系のセラミックなどのセラミック酸化物が脆性材料であるという欠点がある。これは特に、チタンインプラントと比較して非常に破損しやすく、より複雑な製造方法を要求する。セラミックインプラントシステムの技術的設計をセラミック材料の脆性材料特性に合わせることが課題のままとなっている。

脆性セラミック材料による破損しやすさが増すと、単一要素からなるインプラントの場合よりも２要素からなるインプラントシステムについて影響がより大きい。その理由は、骨に埋め込まれるセラミックインプラントとインプラントの近位に歯茎領域に配置される支台との間の接続が、特にインプラントと支台との間の接続がねじ接続である場合は、特に破損しやすいからである。この理由により、たとえば、特許文献１の現行技術に記載されるような単一要素からなるセラミックインプラントがあり、このインプラントは支台−インプラント接続によって生じるこの付加的な破損しやすさも有しない。

しかしながら、歯科医療の実務では、実際、単一要素からなるインプラントよりも２要素からなるインプラントシステムの方が好ましいことがしばしばである。複数要素からなるインプラントシステムの異なる組合せの可能性により、それらは、歯科補綴における特に包括的な適用の可能性を特徴とする。２要素からなるインプラントのさらなる利点は、骨の中のインプラントの内部成長（ingrowth）による被覆治癒（covered healing-in）が確実になることであり、一方で、単一要素からなるインプラントは治癒段階で歯茎から突出し、外部からの影響から保護されなければならない。しばしば、複数要素からなるインプラントシステムは、有利には、複数の同等のインプラントプラットフォームおよび市販のメス型システムに適合される支台も備える。２要素からなるインプラントシステムのさらなる大きな利点は、角度のある支台もインプラントに接続可能なことである。

２要素からなるセラミックインプラントシステムは現行技術にも記載され、そのシステムにおいて、たとえば特許文献２または特許文献３では、支台は接合接続によってインプラントの中に締結される。しかしながら、接合接続すら備える２要素からなるセラミックインプラントシステムも、同等の単一要素からなるセラミックインプラントと比較して、破損しやすさが増していることがわかっている。

ＥＰ１６１７７８３ ＥＰ１７１３４１１ ＣＨ７０３０１２

したがって、本発明の目的は、２要素からなり、できるだけ外側輪郭と同一の単一要素からなるインプラントと同等程度に良好な破損耐性を特徴とし、かつ以上言及する２要素からなるインプラントの利点を有するセラミックインプラントシステムを提供することである。

この目的は、請求項１に記載のセラミックインプラントシステムによって達成される。従属請求項はさらなる実施形態を請求する。

発明に従うセラミックインプラントシステムは、内側円錐部を有する近位領域を有するインプラントと、外側円錐部を有する遠位領域を有する支台とを備える。クランプ留め領域中の支台の遠位領域および支台の近位領域は各々の場合、１対の円錐形クランプ留め表面を備え、その対で、クランプ留め表面は正確に嵌合する態様で互いに適合され、これにより、セラミックインプラントシステムの支台とインプラントとはクランプ留め接続によって接続可能である。

セラミックインプラントシステムは２要素からなるまたは複数要素からなる歯科インプラントシステムとして規定され、インプラントおよび支台とは別にさらなる部品を含むことができる。そうでないと述べられなければ、セラミックインプラントシステムという用語はこの文脈ではインプラントシステムという用語でも示される。

セラミックインプラントシステムのインプラントは、セラミック材料、特に、酸化ジルコニウム系セラミック、特にイットリウム安定化酸化ジルコニウム系セラミック、または酸化アルミニウム系セラミックなどのセラミック酸化物からなる。支台は、いくつかの実施形態では同様にセラミック材料からなる。他の実施形態では、支台は、セラミック材料およびチタンもしくはチタン合金の部品などの他の材料を含むか、または、支台は１つもしくはいくつかの非セラミック材料からなる。

接続されたインプラントシステムまたはインプラントおよび支台のクランプ留め領域は、支台の遠位領域およびインプラントの近位領域の軸方向セクション内のインプラントおよび支台の表面領域であり、そのセクションに、インプラントと支台との間でクランプ留め接続をなす、正確に嵌合するように製造された少なくとも１対の円錐形クランプ留め表面が配置される。

正確に嵌合する円錐形クランプ留め表面は、支台の遠位領域のクランプ留め領域中の内側円錐部の横方向表面の少なくとも一部として規定され、インプラントの正確に嵌合する円錐形クランプ留め表面はインプラントの近位領域のクランプ留め領域中の内側円錐部の横方向表面の少なくとも一部として規定される。この文脈では、正確に嵌合する円錐形クランプ留め表面は円錐形クランプ留め表面または単にクランプ留め表面と略される。

インプラントの近位領域の少なくとも１つの円錐形クランプ留め表面は空洞に配置される。この空洞の遠端はインプラントの近位領域の遠端を規定する。

少なくとも１つの円錐形クランプ留め表面を備える支台の遠位領域は、インプラントシステムの接続状態で、インプラントの近位領域の空洞の中に挿入される。支台の遠位領域の近端は、インプラントシステムの接続状態で、インプラントの近端と本質的に同じ軸方向高さ（レベル）に配置される。

クランプ留め領域中の外側円錐部および対応の内側円錐部は同一のまたはほぼ同一の円錐角を有する急勾配の円錐台として、正確に嵌合する態様で対で製造される。同一のまたはほぼ同一の円錐角は、外側円錐部が内側円錐部に押込まれるとセラミックインプラントシステムの接続状態で作用するクランプ留め効果を可能にする。ほぼ同一の円錐角は、製造が可能な範囲で、実施形態に依存して、たとえば、０．５°まで、１°まで、または１．５°までの範囲の内側円錐部の円錐角と外側円錐部の円錐角との間の差を有する。

外側円錐部と内側円錐部との間のそのような摩擦嵌合接続またはクランプ留め接続は、工具と機械工具との間の締結および力の伝達の文脈で機械工業からのモールステーパの原則から現行技術で公知である。これにより、たとえば、工具の外側円錐部が機械工具の内側円錐部に押込まれ、しっかりとクランプ留めされる。工具業界からのそのような公知のモールス円錐の円錐角は２°〜３°の範囲にある。驚くべきことに、本発明に従うと、モールス円錐のこの原則をセラミックから製造されるインプラントシステムに適用可能である。

セラミックは脆性材料であるので、材料の破損をできるかぎり防止するには、セラミック製品について可能ならば常にフープ応力および引っ張り応力を避けなければならない。この理由により、発明に従うセラミックインプラントシステムの技術的設計は、インプラントの破損につながり得るフープ応力および引っ張り応力が最小限となるように最適化される。

接続されるセラミックインプラントシステムにおけるクランプ留め接続は、支台がインプラントの中に押込まれるとすぐになされる。内側円錐部にしっかりと着座する外側円錐部を取り外すには、内側円錐部および外側円錐部の横方向表面の重なり合う領域の間の接着摩擦に勝らなければならない。正確に嵌合して製造される円錐形クランプ留め表面は、接続されるインプラントシステム中で本質的に同じ軸方向レベルで重なり合う。インプラントおよび支台の重なり合うクランプ留め表面はクランプ留め接続をなす。したがって、重なり合う円錐形クランプ留め表面が大きいと強いクランプ留め接続に有利である。さらに、その横方向表面または横方向表面の一部がクランプ留め表面を形成する内側および外側円錐部の円錐角が小さいほど、クランプ留め接続がより強くなる。

本発明に従うセラミックインプラントシステムの大きな利点は、支台とインプラントとの間のクランプ留め接続が大きな接触面または摩擦面にわたって作用することである。これは、強い接続、および特に支台とインプラントとの間の非常に大きな力伝達面ももたらす。現行技術から公知のセラミックインプラントシステムと比較して、力伝達面は大幅により大きい。接続されたインプラントシステム中で支台に作用する力は力伝達面にわたって分散される態様でインプラントに伝達されるので、力伝達面が大きい場合は、高い局所的応力ピークが発生する数がかなり少なく、かつ破損が発生する数がより少ない。したがって、セラミックインプラントシステムは、公知の２要素からなるセラミックインプラントシステムよりもかなり破損耐性が高く、このため、支台に対して作用する力は点の態様でしかまたはより小さな表面にわたってしか及ばない。

外側および内側円錐部の円錐角の大きさは、接続されるインプラントシステム中でのインプラントと支台との間の十分に強いクランプ留め接続を確実にするのに十分小さく選択され、かつ内部空洞の軸方向高さを最小限にするのに十分大きく選択される。外側および内側円錐部の円錐角の大きさは、２°〜１５°の範囲、特に下限が２°〜３°もしくは４°までかつ上限が７°〜１０°もしくは１２°までの範囲、または５°〜９°、６°〜８°、もしくは６．５°〜７．５°の範囲にある。

たとえば３°未満、４°未満、または５°未満の外側円錐部および内側円錐部の非常に小さな円錐角の場合、いくつかの実施形態は、より大きな円錐角を有する実施形態と比較して、高い製造精度で作られる。その円錐形クランプ留め表面が、円錐角が非常に小さい内側円錐部および外側円錐部の横方向表面または横方向表面の一部であるいくつかの実施形態は、内側円錐部および外側円錐部の円錐角同士の間の最大差が０．５°または０．４°または０．３°以下で製造される。

いくつかの実施形態では、クランプ留め領域は単一対の正確に嵌合する円錐形クランプ留め表面、具体的には支台の円錐形クランプ留め表面とインプラントの円錐形クランプ留め表面とを備え、いくつかの実施形態では当該クランプ留め表面は両者とも外側または内側円錐部の連続した横方向表面を備える。他の実施形態では、クランプ留め領域は、いくつかの対の正確に嵌合する円錐形クランプ留め表面、たとえば頸部（necking）、溝、窪み、または筒型表面で中断される外側または内側円錐部の横方向表面を備える。頸部または溝を有するいくつかの例示的な実施形態では、これらは支台およびインプラントの長手方向軸に垂直にまたは長手方向軸に平行に走る。

いくつかの実施形態では、クランプ留め領域は数対の正確に嵌合する円錐形クランプ留め表面、具体的には、支台の少なくとも２つの円錐形クランプ留め表面とインプラントの少なくとも２つの円錐形クランプ留め表面とを備え、これらは支台の少なくとも２つの外側円錐部およびインプラントの内側円錐部の横方向表面であり、当該表面は、各々の場合、正確に嵌合する態様で互いに適合される。各々の場合、正確に嵌合する態様で互いに適合される少なくとも２つの外側円錐部および内側円錐部は、異なって大きな円錐角を有することができる。したがって、数対の正確に嵌合する円錐形クランプ留め表面を有するこれらの実施形態のうちいくつかは、円錐角に対応する異なって急勾配のクランプ留め表面を備える。

１対の正確に嵌合する円錐形クランプ留め表面、支台、およびインプラントを有する接続されるセラミックインプラントシステムのクランプ留め領域の中間軸方向レベルは、１対の正確に嵌合する円錐形クランプ留め表面の近端とこれらの円錐形クランプ留め表面の遠端との間の中間に位置する。１つよりも多くの対の正確に嵌合する円錐形クランプ留め表面を有する実施形態では、クランプ留め領域の中間軸方向レベルは近位に最も遠く配置される正確に嵌合する円錐形クランプ留め表面の近端と遠位に最も遠く配置される正確に嵌合する円錐形クランプ留め表面の遠端との間の中間に位置する。

インプラントまたはインプラントシステムの骨レベルは、インプラントのエノッサル（enossal）領域の近端として規定される。インプラントのエノッサル領域は、インプラントの遠端から骨レベルまで、このようにインプラントまたはインプラントシステムの軸方向レベルまで延在し、そこまでは、インプラントは、骨組織中のインプラントのアンカー固定および内部成長について想定される。

いくつかの実施形態では、骨レベルは本質的に、ねじ山の走出部（thread run-out）の近端に対応する。いくつかの実施形態では、エノッサル領域は粗面化、たとえばサンドブラストされ、骨レベルは本質的にサンドブラストされた領域の近端に対応する。

埋込レベルは、Isonorm 14801（Status：2013）に従う破損試験を行なうためにそのレベルまでインプラントシステムが埋込まれるインプラントシステムの軸方向レベルである。Isonorm 14801は、埋込レベルが骨レベルへ遠位に３ｍｍに配置されることを特定する。この結果、骨レベルと埋込レベルとの間の領域にクランプ留め領域の中間軸方向レベルを有するセラミックインプラントシステムの実施形態では、中間軸方向レベルが骨レベルと埋込レベルとの間の中間から１．５ｍｍを超えて離れない。

いくつかの実施形態では、クランプ留め領域の中間軸方向レベルは、骨レベルと埋込レベルとの間の中間から３ｍｍしか、特に２．５ｍｍ、または２ｍｍ、１．５ｍｍ、１ｍｍ、または０．５ｍｍしか異ならない。

クランプ留め領域の中間軸方向レベルは、支台からインプラントに力が伝達される結果となるてこの間の回動点である。材料応力はこの回動点で最大であり、このため、特にクランプ留め領域の中間軸方向レベルでのインプラントの破損が予想される。骨レベルの遠位に、またはさらに遠位にすら、たとえば本質的に埋込レベルに存在する回動点を有するインプラントシステムのいくつかの実施形態の場合、破損しやすさはかなりより小さい。さらに、インプラントの近位領域中の内側空洞の周りの壁厚みがより大きいと、破損しやすさが低減される。

いくつかの実施形態では、クランプ留め領域の中間軸方向レベルは、埋込レベルにもしくはそのすぐ遠位に、またはたとえば埋込レベルの遠位に０．５ｍｍもしくは１ｍｍまでの領域に配置される。これらの実施形態では、支台からインプラントに伝達される力のてこ効果が最小限になる。

いくつかの実施形態では、たとえばクランプ留め領域または回動点の中間軸方向レベルは、骨レベルと埋込レベルとの間の中間に、またはねじ山の近端と骨レベルとの間の領域中の、特にねじ山の走出部の領域中の軸方向レベルに配置される。これらの実施形態では、支台からインプラントに伝達される力のてこ効果は、回動点が埋込レベルに配置される前述の実施形態と比較して大きくなる。一方、有利には、インプラントの近位領域中の内側空洞の周りの壁厚みは、回動点が骨レベルと埋込レベルとの間の中間に、またはねじ山の近端と骨レベルとの間の領域中の、特にねじ山の走出部の領域中もしくはねじ山の走出部のすぐ近位に、たとえばねじ山の走出部の近位に０．５ｍｍまでの領域中の軸方向レベルに配置される例示的な実施形態では、比較的より大きい。これは、これらの実施形態の回動点がねじ山の近位のまたはねじ山の走出部の近位の領域に存在するからである。

これと比較して、内側空洞の遠端がねじ山区域の中に突出する場合には、内側空洞の周りの壁厚みはより小さくされる。ねじ山の区域では、ねじ山の谷径は、破損耐性のための重要なインプラント直径である。破損耐性に重要なインプラント直径よりも小さな谷径はねじ山区域中の内側空洞のより小さな壁厚みを実現する。ここでは、内側空洞がインプラントのねじ山区域と重なり合う。

いくつかの実施形態では、クランプ留め領域の中間軸方向レベルは、骨レベルと埋込レベルとの間の中間の近位に１ｍｍまで、１．５ｍｍまで、２ｍｍまで、または３ｍｍまでに配置される。いくつかの実施形態では、クランプ留め領域の中間軸方向レベルは、埋込レベルの遠位に１ｍｍまで、１．５ｍｍまで、２ｍｍまで、または３ｍｍまでである。

セラミックインプラントシステムのいくつかの実施形態では、支台の遠位領域およびインプラントの近位領域中のクランプ留め接続は、各々の場合、少なくとも１つの接合区域による付加的な接合接続によって補われ、これは、支台の遠位領域およびインプラントの近位領域において互いに対して対で割り当てられる。接合される２要素からなるセラミックインプラントについて現行技術から公知のように、支台がインプラントに挿入される前に、支台および／またはインプラントの上に接着剤または接合剤が置かれる。そのような付加的な接合接続は、より長期間にわたるインプラントに対する支台の接続の付加的な固定を実現する。なお、その間に、埋め込まれたインプラントシステムは微細に動く（micro-movements）。

少なくとも１つの接合区域を有するセラミックインプラントシステムのいくつかの実施形態では、これまたはこれらはクランプ留め領域の遠位にまたは近位に配置される。このことは、これらの実施形態では、クランプ留め領域に接着剤が置かれないように、インプラントおよび支台に少なくとも１つの接合区域が設けられることを意味する。少なくとも１つの接合区域は、たとえば、支台の遠端表面に、ならびにしたがってインプラントの近位領域中および／またはたとえばクランプ留め領域の近位に支台もしくはインプラントの円筒形領域中に配置される少なくとも１つの接着空隙の中、および／または挿入外形としても働く内部構造中のインプラントの近位領域中の空洞の開口に近い領域中、および／またはクランプ留め領域の近位に配置される近位インプラント領域の他の区域中、の空洞の遠端に、位置する。

付加的な接合接続を有するセラミックインプラントシステムのいくつかの実施形態では、クランプ留め領域に少なくとも１つの接合区域が配置される。これらの実施形態のいくつかでは、円錐形クランプ留め表面は接合区域によって中断される。少なくとも１つの接合区域がクランプ留め領域に配置されるこれらまたは他の実施形態で、接合区域は１つ以上の円錐形クランプ留め区域と少なくとも部分的に重なり合うことができる。円錐形クランプ留め表面と重なり合う接合区域は接着空隙として設計される。そのような接着空隙は、塗布される接着剤中の粒子の粒径と等しい大きさのまたはほぼ同程度の大きさの幅を有する。接着空隙の幅と用いられる接着剤の粒子の粒径との間のこの一致は、接合接続とは別に、円錐形クランプ留め表面領域におけるクランプ留め接続を確実にし続ける。

ａは例示的な支台の斜視図であり、ｂは例示的な支台の第１の横方向の図であり、ｃは例示的な支台の第２の横方向の図である、クランプ留め領域を有する支台の実施形態の例の図である。 ａは例示的なインプラントの図であり、ｂはインプラントの近位領域を備える例示的なインプラントの部分断面図である、クランプ留め領域を有するインプラントの実施形態の例の図である。 ａは例示的なセラミックインプラントシステムの図であり、ｂは例示的なインプラントシステムの断面である、クランプ留め領域および付加的に接合区域を有する例示的な実施形態における接続されるセラミックインプラントシステムの実施形態の例の図である。

図面の詳細な説明
図１は、セラミックインプラントシステム４０の支台１の実施形態の例を示し、図１ａに例示的な支台の斜視図を表わし、図１ｂに第１の横方向の図を表わし、図１ｃに例示的な支台１の第２の横方向の図を表わす。

例示的な支台１は、クランプ留め領域３を有する遠位領域２を備え、その中に円錐形クランプ留め表面４が配置され、当該クランプ留め領域３は中間軸方向レベル５を有する。円錐形クランプ留め表面４はクランプ留め領域３中の外側円錐部の横方向表面である。この例示的な実施形態では、クランプ留め領域３は、クランプ留め領域３全体にわたって延在する１つの円錐形クランプ留め表面４しか有しない。クランプ留め領域３の中間軸方向レベル５はこのように外側円錐部の中間軸方向レベルに対応する。外側円錐部は急勾配の円錐であり、これはたとえば２°〜１５°である円錐角αを有する。

図示しない支台１の他の例示的な実施形態では、インプラント２０の対応の円錐形クランプ留め表面３４と対にされた態様では正確に嵌合する態様で互いに対して適合されるいくつかの円錐形クランプ留め表面４がクランプ留め領域３に配置される。クランプ留め領域３にいくつかの円錐形セクション４を有する支台１の実施形態では、円錐形クランプ留め表面４は外側円錐部の横方向表面の異なる部分であり得る。なぜなら、たとえば、この外側円錐部の横方向表面は、水平方向の１つ以上の頸部、鉛直方向の溝、または円筒形セクション、または他の表面で中断されるからである。さらに、いくつかのクランプ留め表面４を有する支台１の例示的な実施形態では、これらは異なる外側円錐部の横方向表面または横方向表面の一部であり得る。なお、これらの実施形態は図示しない。

一例では、図１の支台１の実施形態は、遠位領域２中に円筒形セクション６も有する。さらに、支台１は、遠位領域２の近位に配置される近位領域８を有する。支台１の近位領域８はセラミックインプラントシステム３０のインプラントに挿入されるのではなく、ここではクラウン、ブリッジなどの上部構造への支台の接続のために働き、この接続は図示しない。いくつかの実施形態では、近位領域は、現行技術から公知のたとえばNovaloc（登録商標）またはPro-Snapメス型システムなどの義歯用の市販のメス型システムのためのオス型を備える。図示しないさらなる実施形態では、支台１の近位領域８は角度のあるスタブまたは柱を有する。

図１に表わされる例示的な支台１の近位領域８は、工具用保持構造９およびトルクの伝達のための基礎（ground）側１０を有する例示的な図示しない単一要素からなるシステムと同じ外側輪郭を有し、これにより、例示的な単一要素からなるシステムと同じ工具を用いることができる。

図２は、セラミックインプラントシステム４０のインプラント２０の実施形態の例を示し、図２ａには例示的なインプラント２０の図を表わし、図２ｂには近位領域３２を有する例示的なインプラント２０の部分断面を示す。

図２ａに表わされる例示的なインプラント２０の図は、インプラントの近端から遠端に延在するインプラント長さ２１と、インプラントの遠端からねじ山２６またはねじ山の走出部２７の近端まで延在するねじ山区域２２とを有する。インプラント長さ２１は、たとえば、６ｍｍ〜１６ｍｍ、特に６ｍｍ〜１５ｍｍの長さがあり、ねじ山区域２２は、たとえば、５ｍｍ〜１４ｍｍ、特に８ｍｍ〜１３ｍｍの長さがある。インプラント２０の表わされる例示的な実施形態は、ねじ山区域２２の遠端に向けた領域中に、刃先を有する少なくとも１つの溝２８を備える。

想定される骨レベル２３は、いくつかの実施形態では、本質的にねじ山またはねじ山の走出部の近端での軸方向レベルを想定する。このことは、いくつかの実施形態では、想定される骨レベル２３がねじ山またはねじ山の走出部のすぐ端に配置されることを意味するか、または、いくつかの実施形態では、ねじ山の走出部の端の近位に０．５ｍｍまでもしくは１ｍｍまでに配置されることを意味する。

インプラントのいくつかの実施形態では、骨レベル２３は、７ｍｍ〜１４ｍｍ、たとえば、８ｍｍ、９ｍｍ、１０ｍｍ、１１．５ｍｍ、または１３ｍｍである。一例として示されるインプラント２０またはインプラントシステム４０の骨レベル２３は、ねじ山の走出部の近端と例示的なチューリップ（tulip）部２４の遠端との間の領域中に軸方向レベルに配置される。

一例として示される実施形態では、例示的なチューリップ部２４の遠端は骨レベル２３のすぐ近位に配置される。チューリップ部の領域では、インプラントの直径は、ねじ山の外径からインプラント２０の近端でのインプラント直径２９へと広がり、これは、公知の態様でインプラントの破損耐性を増す。ねじ山の外径は、たとえば、３ｍｍ〜６ｍｍ、特に３．６ｍｍ、４ｍｍ、４．５ｍｍ、５ｍｍ、または５．５ｍｍの長さである。チューリップ部２４を有するそのような実施形態でのインプラントの近端でのインプラント直径２９はねじ山の外径よりも大きく、これは、たとえば、ねじ山の外径よりも０．５ｍｍ〜１．５ｍｍより大きい。一例として示される実施形態では、円筒形の区域２５はチューリップ部２４の近位に存在する。ここでは示さないインプラント２０のいくつかの実施形態では、挿入工具用の挿入外形として働く外側構造は、インプラント２０を骨組織の中で回転させるために、たとえば円筒形区域に配置される。

図２ｂに示す例示的なインプラント２０の近位領域３２を含む部分断面は、インプラント２０の近位面側で開放し、かつその中に支台１を挿入可能な内部空洞３１を示す。内部空洞２１の遠端は近位領域３２の遠端を規定する。これは、中間軸方向レベル３５に円錐形クランプ留め表面３４が配置されるクランプ留め領域３３を備える。円錐形クランプ留め表面３４は、クランプ留め領域３３中の内側円錐部の横方向表面である。示される例示的な実施形態では、クランプ留め領域は、クランプ留め領域３３全体にわたって延在する円錐形クランプ留め表面３４を１つだけ備える。したがって、クランプ留め領域３３の中間軸方向レベル３５は内側円錐部の中間軸方向レベルに対応する。外側円錐部は急勾配の円錐であり、これは、たとえば２°〜１５°の円錐角αを備える。

一例として示される実施形態の例では、クランプ留め領域３３の中間軸方向レベル３５は本質的にねじ山の走出部の近端に配置される。中間軸方向レベル３５または回動点のこの配置は、クランプ留め領域または一方ではインプラントのエノッサル領域中の回動点の中間軸方向レベルのできるかぎり遠位の窪みまたは凹部と、他方ではインプラントのできるかぎり大きな壁厚みを有する領域中の配置との間の中間物（compromise）に対応する。

示さないインプラントの他の例示的な実施形態では、クランプ留め領域３３の中にいくつかの円錐形クランプ留め表面３４が配置され、支台１の対応の円錐形クランプ留め表面４と対にされた態様では、正確に嵌合する態様で互いに対して適合される。クランプ留め領域３３の中にいくつかの円錐形クランプ留め表面３４を有するインプラント２０の実施形態では、円錐形クランプ留め表面３４は、たとえば、内側円錐部の横方向表面が水平方向の１つ以上の頸部、鉛直方向の溝、または円筒形セクション、または他の表面で中断されることにより、内側円錐部の横方向表面の異なる部分であり得る。いくつかの円錐形クランプ留め表面を有するインプラント２０のさらなる図示しない例示的な実施形態では、これらは異なる内側円錐部の横方向表面または横方向表面の部分であり得る。

一例として図２ｂに表わされるインプラント２０の実施形態は、近位領域３２の中に円筒形セクション３６も備える。さらに、内部空洞３１の近位開口の領域中のインプラント２０は、インプラント２０を骨組織の中で回転させるために、その中に挿入工具と係合できる挿入外形としての内側構造３７を備える。

図３は、クランプ留め領域および付加的に少なくとも１つの接合区域を有する、例示的な実施形態の接続状態のセラミックインプラントシステム４０の実施形態の例を示す。図３ａは例示的なセラミックインプラントシステムの図を示し、図３ｂは例示的なセラミックインプラントシステムを通る点ＮとＮとの間の接続線に沿った断面を示す。

一例として表わされるセラミックインプラントシステム４０では、例示的な支台１の遠位領域２は、接続状態で例示的なインプラント２０の空洞３７の中に挿入される。クランプ留め領域３、３３、４３中のインプラントシステム４０、支台１、およびインプラント２０は、ねじ山の走出部２７の領域中のクランプ留め領域３、３３、４３の中間軸方向レベル５、３５、４５の例示的な配置を有する円錐形クランプ留め表面４、３４、４４を備える。

例示的なセラミックインプラントシステム４０について想定される骨レベル２３は、クランプ留め領域３、３３、４３の中間軸方向レベル５、３５、４５の、３ｍｍ未満、特に２ｍｍ、１ｍｍ、または０．５ｍｍ未満上方の領域の中に、ねじ山の走出部２７の近位に存在する。

一例として示されるセラミックインプラントシステムはいくつかのオプションの接合区域：すなわち、支台１の遠端の、またはインプラント２０の近位領域３２および空洞３７の遠端の接合区域５１；円筒形領域６、３６、４６に沿った接着空隙中の接合区域５２；支台１がインプラント２０の空洞３１の中に着座する座に配置される接着空隙の中の接合区域５３；ならびに挿入外形の内側構造中の接合区域５４を備える。付加的な接合接続を有する図示しないセラミックインプラントシステムのさらなる実施形態は、他の接合区域、付加的な接合区域を備える、および／またはこれらの接合区域５１〜５４のすべてを備えるわけではない。少なくとも１つの接合区域を有するいくつかの実施形態では、これはインプラントシステム４０の異なる場所にも配置され得る。

１つ以上のオプションの接合区域を有するいくつかのセラミックインプラントシステムでは、これらは、接続されるインプラントシステムの接着空隙の中、または支台の遠位領域の中、および／またはインプラントの近位領域の中に配置される。そのような接着空隙は、たとえば、クランプ留め領域および力伝達領域の外側、またはその外側とその少なくとも部分的に中とにも配置され得る。特にクランプ留め領域および力伝達領域内に少なくとも部分的に配置される接着空隙を有するいくつかの実施形態では、これは、セメントまたは接着剤の粒径に一致する幅、特に、１００μｍまで、または１０〜８０μｍ、２０〜７０μｍ、または３０〜５０μｍの範囲の幅を有する。

いくつかの実施形態では、クランプ留め領域中の接着空隙は、たとえば、インプラントの内側円錐部および／または支台の外側円錐部の横方向表面の中断によって形成される。これらの実施形態のうちいくつかは、支台および／またはインプラントの円錐形クランプ留め表面に頸部または溝を備える。

発明のさらなる局面は、セラミックインプラントシステムと、少なくとも１つの接合区域のための接着剤とを含むセットに関する。

１ 支台、２ 遠位領域、３、３３、４３ クランプ留め領域、４、３４、４４ 円錐形クランプ留め表面、５、３５、４５ 中間軸方向レベル、８、３２ 近位領域、２０ インプラント、４０ セラミックインプラントシステム。

Claims (11)

1. セラミックインプラントシステム（４０）であって、内側円錐部を有する近位領域（３２）を有するインプラント（２０）と、外側円錐部を有する遠位領域（２）を有する支台（１）とを備え、
   クランプ留め領域（３，３３，４３）中の前記支台（１）の前記遠位領域（２）および前記インプラント（２０）の前記近位領域（３２）は、各々の場合、少なくとも１つの円錐形クランプ留め表面（４，３４）を備え、これらは、対で、正確に嵌合する態様で互いに対して適合され、これにより、前記セラミックインプラントシステム（４０）の前記支台（１）と前記インプラント（２０）とはクランプ留め接続によって接続可能であることを特徴とする、セラミックインプラントシステム。
2. 前記支台（１）の前記遠位領域（２）中の前記外側円錐部および前記インプラント（２０）の前記近位領域（３２）中の前記内側円錐部は、１．５°〜１５°の範囲、特に下限が２°〜３°もしくは４°まででありかつ上限が７°〜１０°もしくは１２°までの範囲、または５°〜９°もしくは６°〜８°もしくは６．５°〜７．５°の範囲の前記外側円錐部および前記内側円錐部の円錐角αを備える、請求項１に記載のセラミックインプラントシステム。
3. 前記クランプ留め領域（３３）の中間軸方向レベル（３５）は、骨レベル（２３）と埋込レベルとの間の中間から、３ｍｍよりも多く、特に２．５ｍｍ、２ｍｍ、１．５ｍｍ、１ｍｍまたは０．５ｍｍ以下、離れない、請求項１または２に記載のセラミックインプラントシステム。
4. 前記支台（１）の前記遠位領域（２）および前記インプラント（２０）の前記近位領域（３２）は少なくとも１つの接合区域（５１，５２，５３，５４）を備える、請求項１から３の１項に記載のセラミックインプラントシステム。
5. 前記少なくとも１つの接合区域（５１，５２，５３，５４）は前記クランプ留め領域（３，３３，４３）の遠位にまたは近位に配置される、請求項４に記載のセラミックインプラントシステム。
6. 前記クランプ留め領域（３，３３，４３）中に付加的に少なくとも１つのさらなる接合区域が配置される、請求項５に記載のセラミックインプラントシステム。
7. 前記クランプ留め接続のために、前記円錐形クランプ留め表面（４，３４）の外側に少なくとも１つの接合区域が配置される、請求項４から６の１項に記載のセラミックインプラントシステム。
8. 接続された状態で、前記支台（１）の前記遠位領域（２）または前記インプラント（２０）の前記近位領域（３２）の中に少なくとも１つの接着空隙を備える、請求項４から７の１項に記載のセラミックインプラントシステム。
9. 前記接着空隙は、前記クランプ留め領域（３，３３，４３）の外側、またはその外側とその少なくとも部分的に中とに配置される、請求項８に記載のセラミックインプラントシステム。
10. 前記クランプ留め領域（３，３３，４３）内の前記接着空隙の幅は接着剤またはセメントの粒径に合わせられ、たとえば、１〜１００μｍまたは１０〜８０μｍまたは２０〜７０μｍまたは３０〜５０μｍの範囲の幅を有する、請求項８または９に記載のセラミックインプラントシステム。
11. 請求項４から１０の１項に記載のセラミックインプラントシステム（４０）と少なくとも１つの接合区域のための接着剤とを備えるセット。