JP2014103289A - Substrate processing line, substrate processing method - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、基板を支持しつつ搬送するコンベアを具備する処理装置を複数並べて、隣接する処理装置のコンベア間で基板を受け渡しつつ各処理装置で基板に処理を行う基板処理技術に関する。 The present invention relates to a substrate processing technique in which a plurality of processing apparatuses each having a conveyer that supports and conveys a substrate are arranged, and a substrate is processed by each processing apparatus while delivering the substrate between conveyors of adjacent processing apparatuses.
特許文献1には、基板投入機と部品実装機をこの順番で基板搬送方向に並べて、基板投入機と部品実装機の間で基板を受け渡しつつ基板への処理を実行する基板処理ライン(同文献の部品実装ライン)が記載されている。具体的には、基板投入機は基板搬送方向の下流側にある部品実装機に基板を投入する処理を行い、部品実装機は基板搬送方向の上流側から投入された基板に対して部品を実装する処理を行う。また、基板投入機や部品実装機といった各処理装置は、コンベアによって基板を基板搬送方向に搬送する構成を具備する。したがって、隣接する処理装置それぞれのコンベアの間で基板の受け渡しが実行されて、これらの処理装置間での基板の搬送が実行される。
上述のような処理装置では、基板搬送方向に直交する直交方向に移動自在な可動コンベアを用いて基板の支持や搬送を行うように構成することで、処理装置の汎用性の向上を図ることができる。しかしながら、複数の処理装置を並べた基板処理ラインにおいて、可動コンベアを具備する処理装置を用いるにあたっては、次のような課題があった。つまり、可動コンベアの移動は任意のタイミングで行えるわけではなく、可動コンベアと他のコンベアとの間で基板の受け渡しが行われる際には、不用意に可動コンベアを動かすと、これらのコンベアで基板をしっかりと支持できなくなるおそれがあった。したがって、これらのコンベア間での基板の受け渡しの実行状況を判断して、不適切なタイミングでの可動コンベアの移動を抑制することが求められていた。 In the processing apparatus as described above, it is possible to improve the versatility of the processing apparatus by using a movable conveyor that is movable in an orthogonal direction orthogonal to the substrate transport direction to support and transport the substrate. it can. However, when using a processing apparatus having a movable conveyor in a substrate processing line in which a plurality of processing apparatuses are arranged, there are the following problems. In other words, the movement of the movable conveyor is not possible at an arbitrary timing. When the substrate is transferred between the movable conveyor and another conveyor, if the movable conveyor is moved carelessly, the substrate is moved by these conveyors. There was a risk that it could not be supported firmly. Therefore, it has been demanded to determine the execution status of substrate transfer between these conveyors and suppress the movement of the movable conveyor at an inappropriate timing.
この発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、少なくとも一方が可動コンベアを具備する互いに隣接する処理装置の各コンベア間での基板の受け渡しの実行状況を的確に判断して、不適切なタイミングでの可動コンベアの移動を抑制することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and at least one of them is determined at an inappropriate timing by accurately determining the execution status of substrate transfer between conveyors of processing apparatuses adjacent to each other having movable conveyors. The purpose is to suppress the movement of the movable conveyor.
本発明にかかる基板処理ラインは、上記目的を達成するために、基板を支持しつつ基板搬送方向に搬送するコンベアを具備する処理装置を基板搬送方向に複数併設し、複数の処理装置のコンベアの間で基板を受け渡しつつ各処理装置で基板に処理を行う基板処理ラインにおいて、複数の処理装置のうち、基板搬送方向に直交する直交方向に移動自在な可動コンベアをコンベアとして具備する一の処理装置の可動コンベアを、直交方向に駆動する駆動部と、駆動部による可動コンベアの移動を制御する制御部と、一の処理装置の可動コンベアに支持された基板の基板搬送方向における位置を検出する一の位置検出部と、複数の処理装置のうちの一の処理装置に隣接する他の処理装置のコンベアに支持された基板の基板搬送方向における位置を検出する他の位置検出部とを備え、制御部は、一の処理装置の可動コンベアと他の処理装置のコンベアとの間で基板を受け渡す基板受渡動作の実行状況を、一の位置検出部および他の位置検出部の両方の検出結果から判断した結果に基づいて、駆動部による可動コンベアの移動を制御している。 In order to achieve the above object, a substrate processing line according to the present invention includes a plurality of processing apparatuses provided with a conveyor that supports a substrate in the substrate transport direction while supporting the substrate in the substrate transport direction. One processing apparatus comprising a movable conveyor as a conveyor that is movable in an orthogonal direction orthogonal to a substrate transport direction among a plurality of processing apparatuses in a substrate processing line that processes substrates on each processing apparatus while delivering the substrates between them. A drive unit that drives the movable conveyor in the orthogonal direction, a control unit that controls movement of the movable conveyor by the drive unit, and a position that detects the position of the substrate supported by the movable conveyor of one processing apparatus in the substrate transport direction. And the position of the substrate supported by the conveyor of another processing apparatus adjacent to one processing apparatus among the plurality of processing apparatuses in the substrate transport direction. The position detection unit, and the control unit displays the execution status of the substrate delivery operation for transferring the substrate between the movable conveyor of the one processing apparatus and the conveyor of the other processing apparatus. The movement of the movable conveyor by the drive unit is controlled based on the result determined from the detection results of both of the other position detection units.
本発明にかかる基板処理方法は、上記目的を達成するために、基板を支持しつつ基板搬送方向に搬送するコンベアを具備する処理装置を基板搬送方向に複数併設し、複数の処理装置のコンベアの間で基板を受け渡しつつ各処理装置で基板に処理を行う基板処理方法において、複数の処理装置のうち、基板搬送方向に直交する直交方向に移動自在な可動コンベアをコンベアとして具備する一の処理装置の可動コンベアに支持された基板の基板搬送方向における位置を一の位置検出結果として検出する工程と、複数の処理装置のうち、一の処理装置に隣接する他の処理装置のコンベアに支持された基板の基板搬送方向における位置を他の位置検出結果として検出する工程と、一の処理装置の可動コンベアと他の処理装置のコンベアとの間で基板を受け渡す基板受渡動作の実行状況を、一の位置検出結果および他の位置検出結果の両方から判断した結果に基づいて、可動コンベアの移動を制御する工程とを備えている。 In order to achieve the above object, a substrate processing method according to the present invention is provided with a plurality of processing apparatuses provided with a conveyor that supports a substrate in the substrate transport direction while supporting the substrate in the substrate transport direction. In a substrate processing method for processing a substrate with each processing apparatus while delivering the substrate between them, one processing apparatus comprising a movable conveyor as a conveyor that is movable in an orthogonal direction orthogonal to the substrate transport direction among the plurality of processing apparatuses Detecting the position of the substrate supported by the movable conveyor in the substrate transport direction as one position detection result, and supported by the conveyor of another processing apparatus adjacent to the one processing apparatus among the plurality of processing apparatuses. The step of detecting the position of the substrate in the substrate transport direction as another position detection result, and the substrate between the movable conveyor of one processing apparatus and the conveyor of another processing apparatus The execution status of the substrate transfer operation to pass only, on the basis of the result of the determination from both the one position detection result and another position detection result, and a step of controlling the movement of the movable conveyor.
このように構成された本発明(基板処理装置、基板処理方法)では、一の処理装置の可動コンベアと他の処理装置のコンベアとの間で実行される基板受渡動作の実行状況が、基板搬送方向における基板の位置を検出した結果から判断される。特に、基板受渡動作が一の処理装置と他の処理装置それぞれのコンベアにより協働して実行されることを鑑みて、一の処理装置の可動コンベア側と他の処理装置のコンベア側の両方で基板の位置が検出される。したがって、基板の位置の検出結果から基板受渡動作の実行状況を的確に判断することができる。そして、こうして判断された実行状況に基づいて可動コンベアの移動を制御することで、不適切なタイミングでの可動コンベアの移動を抑制することができる。 In the present invention (substrate processing apparatus, substrate processing method) configured as described above, the execution status of the substrate delivery operation executed between the movable conveyor of one processing apparatus and the conveyor of another processing apparatus is the substrate transfer. This is determined from the result of detecting the position of the substrate in the direction. In particular, in view of the fact that the substrate delivery operation is performed in cooperation by the conveyors of one processing apparatus and each of the other processing apparatuses, both on the movable conveyor side of one processing apparatus and the conveyor side of another processing apparatus. The position of the substrate is detected. Therefore, it is possible to accurately determine the execution state of the substrate delivery operation from the detection result of the substrate position. Then, by controlling the movement of the movable conveyor based on the execution situation thus determined, the movement of the movable conveyor at an inappropriate timing can be suppressed.
また、本発明は、基板の反りや基板の切欠(スリット、ノッチ)に起因して、適切な基板検出結果を得られない場合においても、一の処理装置と他の処理装置との間における基板受渡動作の実行状況を判断し得るといった利点も有する。つまり、基板に反りがあるために基板検出を行う検出領域から基板が外れたり、基板に切欠があるために切欠が検出領域にかかったりすることで、適切な基板検出結果を得られない場合がある。これに対して、本発明では、基板受渡動作を実行する一の処理装置と他の処理装置のそれぞれで基板検出が実行されるため、いずれかの処理装置において適切な基板検出結果が得られなくても、基板受渡動作の実行状況を把握することが可能となる。その結果、基板の反りや切欠が存在する場合であっても、不適切なタイミングでの可動コンベアの移動を抑制することができる。 Further, the present invention provides a substrate between one processing apparatus and another processing apparatus even when an appropriate substrate detection result cannot be obtained due to substrate warpage or substrate notch (slit, notch). There is also an advantage that the execution status of the delivery operation can be determined. In other words, if the substrate is out of the detection area where the substrate is detected due to the warpage of the substrate, or the notch is applied to the detection region because the substrate is notched, an appropriate substrate detection result may not be obtained. is there. On the other hand, in the present invention, since the substrate detection is performed by each of the one processing apparatus that executes the substrate delivery operation and the other processing apparatus, an appropriate substrate detection result cannot be obtained in any of the processing apparatuses. However, it is possible to grasp the execution status of the substrate delivery operation. As a result, even if there is a warp or notch of the substrate, the movement of the movable conveyor at an inappropriate timing can be suppressed.
具体的には、制御部は、一の位置検出部および他の位置検出部の両方の検出結果から、基板受渡動作が実行中であると判断すると、駆動部に可動コンベアの移動が禁止するように、基板処理ラインを構成しても良い。これによって、基板受渡動作の実行中のタイミングにおける可動コンベアの移動を確実に抑制することができる。 Specifically, when the control unit determines from the detection results of both the one position detection unit and the other position detection unit that the substrate delivery operation is being performed, the control unit prohibits the movement of the movable conveyor to the drive unit. In addition, a substrate processing line may be configured. Thereby, the movement of the movable conveyor at the timing during execution of the substrate delivery operation can be reliably suppressed.
なお、基板受渡動作が実行中でないとしても、可動コンベアによる基板の支持状態によっては、可動コンベアを動かすことが適当でない場合もある。そこで、制御部は、一の処理装置の可動コンベアによる基板の支持状態を判断した結果に基づいて、駆動部による可動コンベアの移動を制御するように、基板処理ラインを構成しても良い。 Even if the substrate delivery operation is not being executed, it may not be appropriate to move the movable conveyor depending on the state of support of the substrate by the movable conveyor. Therefore, the control unit may configure the substrate processing line so as to control the movement of the movable conveyor by the driving unit based on the determination result of the support state of the substrate by the movable conveyor of one processing apparatus.
特にこのような制御は、一の処理装置では、直交方向に並ぶ2個の可動コンベアによって構成される支持テーブルが基板を支持しつつ基板搬送方向に搬送し、駆動部は、2個の可動コンベアの間隔を変更するステージ幅変更動作および2個の可動コンベアをそれぞれの間隔を保ったまま移動させるステージ移動動作を実行するように構成された基板処理ラインに対して好適となる。 In particular, in such a control, in one processing apparatus, a support table constituted by two movable conveyors arranged in an orthogonal direction conveys the substrate in the substrate conveyance direction while supporting the substrate, and the drive unit has two movable conveyors. This is suitable for a substrate processing line configured to execute a stage width changing operation for changing the distance between the two movable conveyors and a stage moving operation for moving the two movable conveyors while maintaining the respective intervals.
具体的には、制御部は、2個の可動コンベアによって基板が支持されていると判断すると、少なくともステージ幅変更動作を禁止するように、基板処理ラインを構成しても良い。つまり、2個の可動コンベアによって基板が支持されている場合には、ステージ幅変更動作を実行すると、2個の可動コンベアによる基板の支持が不安定になってしまう。そこで、ステージ幅変更動作を禁止することが好適となる。 Specifically, when determining that the substrate is supported by two movable conveyors, the control unit may configure the substrate processing line so as to prohibit at least the stage width changing operation. That is, when the substrate is supported by two movable conveyors, when the stage width changing operation is executed, the substrate support by the two movable conveyors becomes unstable. Therefore, it is preferable to prohibit the stage width changing operation.
また、制御部は、基板搬送方向において2個の可動コンベアそれぞれの内側に基板が収容されており、かつ基板受渡動作が実行中でないと判断すると、ステージ移動動作を許可するように、基板処理ラインを構成しても良い。つまり、基板搬送方向において2個の可動コンベアそれぞれの内側に基板が収容されている場合には、ステージ移動動作を行ったとしても、2個のコンベアによる基板の支持が不安定になることはない。そこで、基板受渡動作が実行中でないことを条件にステージ移動動作を許可することで、ステージ移動動作の頻発を抑止して、基板処理をスムーズに行うことが可能となる。 In addition, when the control unit determines that the substrate is accommodated inside each of the two movable conveyors in the substrate transfer direction and the substrate delivery operation is not being performed, the substrate processing line is permitted to permit the stage moving operation. May be configured. That is, when the substrate is accommodated inside each of the two movable conveyors in the substrate transport direction, the substrate support by the two conveyors does not become unstable even if the stage moving operation is performed. . Therefore, by permitting the stage moving operation on condition that the substrate delivery operation is not being executed, it is possible to suppress the frequent occurrence of the stage moving operation and perform the substrate processing smoothly.
また、制御部は、基板搬送方向において基板が収容範囲外にあると判断すると、ステージ幅変更動作およびステージ移動動作の両方を禁止するように、基板処理ラインを構成しても良い。つまり、基板搬送方向において基板が収容範囲外にある場合には、ステージ幅変更動作やステージ移動動作を実行すると、2個の可動コンベアによる基板の支持が不安定になってしまう。そこで、ステージ幅変更動作およびステージ移動動作の両方を禁止することが好適となる。 In addition, when the control unit determines that the substrate is out of the accommodation range in the substrate transport direction, the substrate processing line may be configured to prohibit both the stage width changing operation and the stage moving operation. That is, when the substrate is out of the accommodation range in the substrate transport direction, the support of the substrate by the two movable conveyors becomes unstable when the stage width changing operation or the stage moving operation is executed. Therefore, it is preferable to prohibit both the stage width changing operation and the stage moving operation.
また、制御部が一の処理装置に配置されるように、基板処理ラインを構成しても良い。つまり、制御部による制御対象は、一の処理装置に設けられた可動コンベアである。したがって、制御部を一の処理装置に配置して、制御部を可動コンベアの近くに設けることが合理的である。 Further, the substrate processing line may be configured so that the control unit is arranged in one processing apparatus. That is, the control object by the control unit is a movable conveyor provided in one processing apparatus. Therefore, it is reasonable to arrange the control unit in one processing apparatus and provide the control unit near the movable conveyor.
この場合、他の処理装置での基板の位置の検出結果を、一の処理装置に配置された制御部にまで伝達する必要がある。そこで、一の処理装置および他の処理装置は、相互に伝送信号をやり取りする通信制御部をそれぞれ有し、他の処理装置は、位置検出部の検出結果を通信制御部に送るケーブルを有し、他の処理装置の通信制御部は、ケーブルを介して受け取った検出結果を伝送信号に変換して、一の処理装置の通信制御部へ出力するように、基板処理ラインを構成しても良い。 In this case, it is necessary to transmit the detection result of the position of the substrate in another processing apparatus to a control unit arranged in one processing apparatus. Therefore, one processing device and another processing device each have a communication control unit that exchanges transmission signals with each other, and the other processing device has a cable that sends the detection result of the position detection unit to the communication control unit. The communication control unit of another processing apparatus may configure the substrate processing line so as to convert the detection result received via the cable into a transmission signal and output it to the communication control unit of the one processing apparatus. .
このように、他の処理装置と一の処理装置との間の信号の伝達を各処理装置に設けられた通信制御部で実行する構成では、例えば、基板位置の検出結果のやり取りをこれら通信制御部の間で実行することができる。したがって、他の処理装置の位置検出部の検出結果を一の処理装置にまで伝達する場合であっても、検出結果を伝達するためにケーブルを処理装置間で引き回す必要がない。つまり、他の処理装置においては、その位置検出部からその通信制御部までケーブルを接続すれば足りる。したがって、検出信号を伝達するためのケーブルの引き回しを容易にすることができる。 As described above, in the configuration in which the communication control unit provided in each processing apparatus executes signal transmission between the other processing apparatus and the one processing apparatus, for example, the communication control of the exchange of the detection result of the substrate position is performed. Can be executed between departments. Therefore, even when the detection result of the position detection unit of another processing apparatus is transmitted to one processing apparatus, it is not necessary to route the cable between the processing apparatuses in order to transmit the detection result. That is, in other processing apparatuses, it is sufficient to connect a cable from the position detection unit to the communication control unit. Therefore, it is possible to easily route the cable for transmitting the detection signal.
この発明によれば、少なくとも一方が可動コンベアを具備する互いに隣接する処理装置の各コンベア間での基板の受け渡しの実行状況を的確に判断して、不適切なタイミングでの可動コンベアの移動を抑制することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to accurately determine the execution status of substrate transfer between conveyors of processing apparatuses adjacent to each other, at least one of which includes a movable conveyor, and suppress the movement of the movable conveyor at an inappropriate timing. It becomes possible to do.
第1実施形態
図1は、本発明の第1実施形態にかかる基板処理ラインの一例を模式的に示した図である。同図および以下に示す図では、基板搬送方向をX軸方向とし、X軸方向に直交する直交方向をY軸方向とするXY直交座標軸を適宜示すこととする。この基板処理ライン1は、複数台(2台)の基板処理装置2、3をこの順番で基板搬送方向Xに配列し、基板搬送方向Xに基板A(図4)を搬送しつつ、基板処理装置2、3のそれぞれで基板Aに所定の処理を行う。
First Embodiment FIG. 1 is a diagram schematically showing an example of a substrate processing line according to a first embodiment of the present invention. In the figure and the drawings shown below, an XY orthogonal coordinate axis in which the substrate transport direction is the X-axis direction and the orthogonal direction orthogonal to the X-axis direction is the Y-axis direction is appropriately shown. In this
基板処理ライン1において基板搬送方向Xの上流側に配置された基板処理装置2は、2台の搬送ステージ10をY軸方向に並べることで、2本の基板搬送路を並列配置したいわゆるデュアルレーンタイプのものである。各搬送ステージ10は、Y軸方向に並ぶ2台のコンベア100で構成される。各コンベア100は、基板Aを下方から支持しつつ基板Aを基板搬送方向Xへ搬送するものである。したがって、搬送ステージ10は、自身を構成する2台のコンベア100を動作させることで基板Aを基板搬送方向Xへ搬送する。基板搬送方向Xの上流側における基板処理装置2の壁面には、2台の搬送ステージ10それぞれに対して基板Aの搬入口20iが開口するとともに、基板搬送方向Xの下流側における基板処理装置2の壁面には、2台の搬送ステージそれぞれに対して基板Aの搬出口20oが開口する。
The
搬入口20iから基板処理装置2内に搬入された基板Aは、搬送ステージ10を構成する2台のコンベア100にY軸方向へ架け渡されて、搬送ステージ10により支持される。こうして搬入された基板Aは搬送ステージ10によって基板搬送方向Xに搬送されて、作業位置Paで所定の処理を受ける。作業位置Paでの基板Aへの処理が完了すると、搬送ステージ10は、基板Aを作業位置Paから基板搬送方向Xへ搬送して、基板搬送方向Xの下流側に配置された基板処理装置3へ向けて搬出する。
The substrate A carried into the
上述のとおり、この基板処理装置2は、2台の搬送ステージ10を備えている。したがって、2台の搬送ステージ10それぞれの作業位置Paに位置決めされた基板Aに対して、並行して所定の処理を実行することができる。基板処理装置2が実行する処理の具体的な内容としては、基板Aへの半田ペーストの印刷、基板Aへの電子部品の実装等が挙げられる。例えば、特開2011−151222号公報に記載されたデュアルレーンタイプの印刷装置のように基板処理装置2を構成した場合には、2箇所の作業位置Paのそれぞれで、基板Aに対して印刷処理を実行することができる。あるいは、特開2011−142241号公報に記載されたデュアルレーンタイプの部品実装装置のように基板処理装置2を構成した場合には、2箇所の作業位置Paのそれぞれで、基板Aに対して部品実装処理を実行することができる。なお、2箇所の作業位置Paの両方で同種の処理を行う必要はなく、例えば、一方の作業位置Paで印刷処理を実行するとともに、他方の作業位置Paで部品実装処理を実行することもできる。
As described above, the
ここで、基板処理装置2に設けられた搬送ステージ10の構成の詳細について説明を行う。なお、2台の搬送ステージ10はいずれも同様の構成を備えるため、ここでは基本的に1台の搬送ステージ10について説明を行うこととする。基板処理装置2に設けられた搬送ステージ10は、Y軸方向への幅を変えられるように構成されている。つまり、搬送ステージ10を構成する2本のコンベア100のうちの一方(Y軸方向外側)のコンベア100dは、駆動機構21からの駆動力を受けてY軸方向へ移動する可動コンベア100dである。したがって、駆動機構21により可動コンベア100dをY軸方向へ動かすことで、2本のコンベア100d、100の間隔をY軸方向へ変化させて、搬送ステージ10のY軸方向への幅を変更することができる(ステージ幅変更動作)。これによって、Y軸方向において、搬送ステージ10の幅を基板Aの幅に応じて適切に調整することができる。なお、可動コンベア100dを移動させる駆動機構21の具体的構成としては、従来知られている種々の駆動機構を用いることができる。
Here, details of the configuration of the
また、搬送ステージ10を構成する2本のコンベア100の一方には、基板搬送方向Xに間隔を空けて並ぶ3個の基板センサSai、Sam、Saoが上方から対向する。これら基板センサSai、Sam、Saoは光学式のセンサである。基板センサSaiは、コンベア100の基板搬送方向Xの上流端に配置されており、基板Aの搬入口20i近傍に位置する。基板センサSamは、基板搬送方向Xにおいてコンベア100の中央よりやや下流側に配置されている。基板センサSaoは、コンベア100の基板搬送方向Xの下流端に配置されており、基板Aの搬出口20i近傍に位置する。これらの基板センサSai、Sam、Saoのそれぞれは直下に存在する基板Aを検出するものであり、基板Aが存在すると「ON」を出力し、基板Aが存在しないと「OFF」を出力する。したがって、基板センサSai、Sam、Saoの出力信号Isから、基板搬送方向Xにおける基板Aの位置を把握することができる。
In addition, three substrate sensors Sai, Sam, and Sao that are arranged at intervals in the substrate transport direction X are opposed to one of the two
基板処理装置2は、上述の機械的構成のほかに、制御回路27および入出力回路29といった電気的構成を備える。制御回路27は、CPU(Central
Processing Unit)やメモリーで構成されており、基板処理装置2で実行される動作を統括的に制御する。具体的には、制御回路27は、搬送ステージ10による基板Aの基板搬送方向Xへの搬送を制御したり、駆動制御信号Idを駆動機構21に与えて可動コンベア100dのY軸方向への位置を調整したりする。入出力回路29は、伝送信号として伝送可能に変換された信号を外部と送受信する回路であり、具体的には、基板処理装置3の入出力回路39との間で伝送信号を通信する。
The
Processing unit) and a memory, and comprehensively control operations executed by the
特に、この実施形態では、基板処理装置2、3それぞれの入出力回路29、39の間で、基板センサの出力信号Isがやり取りされる。そこで、基板センサから制御回路27までケーブルCsを介して出力信号Isが送られて、制御回路27が伝送信号に変換した出力信号Isを、入出力回路29を介して基板処理装置3へ出力する。このような構成では、基板センサからの出力信号Isを基板処理装置3まで送信するにも拘わらず、ケーブルCsとしては、基板センサから制御回路27まで出力信号Isを出力するものであれば足りるため、ケーブルCsを基板処理装置3まで引き回す必要がない。その結果、ケーブルCsの引き回しが容易となっている。
In particular, in this embodiment, an output signal Is of the substrate sensor is exchanged between the input /
基板処理ライン1において基板搬送方向Xの下流側に配置された基板処理装置3は、2台の搬送ステージ10(10b、10c)を基板搬送方向Xに直列に並べたものである。各搬送ステージ10は、Y軸方向に並ぶ2台のコンベア100で構成されており、これらのコンベア100を動作させることで基板Aを基板搬送方向Xへ搬送する。基板搬送方向Xの上流側における基板処理装置3の壁面には、基板処理装置2の搬出口20oそれぞれに対向して基板Aの搬入口30iが開口するとともに、基板搬送方向Xの下流側における基板処理装置3の壁面には、基板Aの搬出口30oが1つ開口する。
The
基板処理装置2から搬入口30iを介して基板処理装置3内に搬入された基板Aは、上流側の搬送ステージ10bを構成する2台のコンベア100にY軸方向へ架け渡されて、搬送ステージ10bにより支持される。こうして搬入された基板Aは搬送ステージ10bによって基板搬送方向Xに搬送されて、作業位置Pbで所定の処理を受ける。作業位置Pbでの基板Aへの処理が完了すると、搬送ステージ10bは、基板Aを作業位置Pbから基板搬送方向Xへ搬送して、下流側の搬送ステージ10cへ受け渡す。
The substrate A carried into the
こうして受け渡された基板Aは、下流側の搬送ステージ10cを構成する2台のコンベア100にY軸方向へ架け渡されて、搬送ステージ10cにより支持される。そして、基板Aは搬送ステージ10cによって基板搬送方向Xに搬送されて、作業位置Pcで所定の処理を受ける。作業位置Pcでの基板Aへの処理が完了すると、搬送ステージ10cは、基板Aを作業位置Pcから基板搬送方向Xへ搬送して、搬出口30oから搬出する。
The substrate A delivered in this way is bridged in the Y-axis direction on the two
上述のとおり、この基板処理装置3は、2台の搬送ステージ10を備えている。したがって、2台の搬送ステージ10それぞれの作業位置Pb、Pcに位置決めされた基板Aに対して、並行して所定の処理を実行することができる。この例では、基板処理装置3は、作業位置Pb、Pcのそれぞれで基板Aへ部品実装処理を実行する。
As described above, the
ここで、基板処理装置3に設けられた搬送ステージ10の構成の詳細について説明を行う。なお、2台の搬送ステージ10はいずれも同様の構成を備えるため、ここでは基本的に1台の搬送ステージ10について説明を行うこととする。基板処理装置3に設けられた搬送ステージ10は、Y軸方向への幅を変えられるように構成されている。つまり、搬送ステージ10を構成する2本のコンベア100はいずれも、駆動機構31からの駆動力を受けてY軸方向へ移動する可動コンベア100dである。したがって、駆動機構31により可動コンベア100dをY軸方向へ動かすことで、2本のコンベア100d、100dの間隔をY軸方向へ変化させて、搬送ステージ10のY軸方向への幅を変更することができる(ステージ幅変更動作)。これによって、Y軸方向において、搬送ステージ10の幅を基板Aの幅に応じて適切に調整することができる。また、駆動機構31により2本の可動コンベア100をそれぞれの間隔を保ったままY軸方向へ移動させることで、搬送ステージ10をその幅を保ったままY軸方向へ移動させることができる(ステージ移動動作)。なお、可動コンベア100dを移動させる駆動機構31の具体的構成としては、従来知られている種々の駆動機構を用いることができる。
Here, details of the configuration of the
また、上流側の搬送ステージ10bを構成する2本のコンベア100の一方には、基板搬送方向Xに間隔を空けて並ぶ3個の基板センサSbi、Sbm、Sboが上方から対向する。これら基板センサSbi、Sbm、Sboは光学式のセンサである。基板センサSbiは、コンベア100の基板搬送方向Xの上流端に配置されており、基板Aの搬入口30i近傍に位置する。基板センサSbmは、基板搬送方向Xにおいてコンベア100の中央よりやや下流側に配置されている。基板センサSboは、コンベア100の基板搬送方向Xの下流端に配置されており、下流側の搬送ステージ10cの近傍に位置する。これらの基板センサSbi、Sbm、Sboのそれぞれは直下に存在する基板Aを検出するものであり、基板Aが存在すると「ON」を出力し、基板Aが存在しないと「OFF」を出力する。したがって、基板センサSbi、Sbm、Sboの出力信号Isから、基板搬送方向Xにおける基板Aの位置を把握することができる。
Further, three substrate sensors Sbi, Sbm, Sbo arranged in the substrate transport direction X with an interval are opposed to one of the two
また、下流側の搬送ステージ10cを構成する2本のコンベア100の一方には、基板搬送方向Xに間隔を空けて並ぶ3個の基板センサSci、Scm、Scoが上方から対向する。これら基板センサSci、Scm、Scoは光学式のセンサである。基板センサSciは、コンベア100の基板搬送方向Xの上流端に配置されており、上流側の搬送ステージ10bの近傍に位置する。基板センサScmは、基板搬送方向Xにおいてコンベア100の中央よりやや下流側に配置されている。基板センサScoは、コンベア100の基板搬送方向Xの下流端に配置されており、基板Aの搬出口30o近傍に位置する。これらの基板センサSci、Scm、Scoのそれぞれは直下に存在する基板Aを検出するものであり、基板Aが存在すると「ON」を出力し、基板Aが存在しないと「OFF」を出力する。したがって、基板センサSci、Scm、Scoの出力信号Isから、基板搬送方向Xにおける基板Aの位置を把握することができる。
In addition, three substrate sensors Sci, Scm, and Sco arranged at intervals in the substrate transport direction X are opposed to one of the two
基板処理装置3は、上述の機械的構成のほかに、制御回路37および入出力回路39といった電気的構成を備える。制御回路37は、CPUやメモリーで構成されており、基板処理装置3で実行される動作を統括的に制御する。具体的には、制御回路37は、搬送ステージ10による基板Aの基板搬送方向Xへの搬送を制御したり、駆動制御信号Idを駆動機構31に与えて可動コンベア100dのY軸方向への位置を調整したりする。入出力回路39は、伝送信号として伝送可能に変換された信号を外部と送受信する回路であり、具体的には、基板処理装置2の入出力回路29との間で伝送信号を通信する。
The
特に、この実施形態では、基板処理装置2、3それぞれの入出力回路29、39の間で、基板センサの出力信号Isがやり取りされる。そこで、基板センサから制御回路37までケーブルCsを介して出力信号Isが送られて、制御回路37が伝送信号に変換した出力信号Isを、入出力回路39を介して基板処理装置2へ出力する。このような構成では、基板センサからの出力信号Isを基板処理装置2まで送信するにも拘わらず、ケーブルCsとしては、基板センサから制御回路37まで出力信号Isを出力するものであれば足りるため、ケーブルCsを基板処理装置2まで引き回す必要がない。その結果、ケーブルCsの引き回しが容易となっている。
In particular, in this embodiment, an output signal Is of the substrate sensor is exchanged between the input /
上述のように、基板処理装置2、3を基板搬送方向Xに直列に並べた基板処理ライン1では、基板処理装置2の搬送ステージ10aから基板処理装置3の搬送ステージ10bへ基板Aを受け渡す基板受渡動作が実行される。この基板受渡動作は、上流側の基板処理装置2が搬出した基板Aを下流側の基板処理装置3が搬入するのに伴って実行される。そこで、基板Aの搬出処理および搬入処理と、これに伴って実行される基板受渡動作について、次に詳述する。
As described above, in the
図2は、第1実施形態において上流側の基板処理装置が実行する基板搬出処理の一例を示すフローチャートである。図3は、第1実施形態において下流側の基板処理装置が実行する基板搬入処理の一例を示すフローチャートである。なお、第1実施形態における以下の説明では適宜、上流側の基板処理装置2を上流装置2と称し、下流側の基板処理装置3を下流装置3と称することとする。
FIG. 2 is a flowchart illustrating an example of a substrate carry-out process executed by the upstream substrate processing apparatus in the first embodiment. FIG. 3 is a flowchart illustrating an example of a substrate carry-in process executed by the downstream substrate processing apparatus in the first embodiment. In the following description of the first embodiment, the upstream
まずは、図2を用いて、基板Aを搬出する上流装置2の動作について説明する。なお、図2のフローチャートは、上流装置2の制御回路27の制御下で実行される。上流装置2による基板搬出のフローチャートが開始されると、ステップS101において、上流装置2から基板Aの搬出が可能であるかが判断される。換言すれば、制御回路27は、下流装置3の搬送ステージ10bが基板Aを受け入れられるかを確認する。具体的には、次の搬出条件
・下流装置3の搬送ステージ10b上に基板Aが存在しないこと
・上流装置2で搬出対象の基板Aを支持する搬送ステージ10aに対して基板搬送方向Xに直列に並ぶ位置に、下流装置3の搬送ステージ10bが存在すること
が確認される。そして、制御回路27は、上記の搬出条件が満足されずに基板搬出が不能である場合(ステップS101で「NO」の場合)は、基板搬出を待機させ、上記の搬出条件が満足されて基板搬出が可能である場合(ステップS101で「YES」の場合)は、ステップS102に進む。
First, the operation of the
ステップS102では、搬出対象となる基板Aが載置された搬送ステージ10aの各コンベア100が作動して、基板Aが基板搬送方向Xへ搬送されて上流装置2から搬出される。続いて、ステップS103では、搬出対象となる基板Aが載置されていた搬送ステージ10aの基板センサSaoの出力信号Isが「OFF」となったかを確認する。そして、基板Aが基板センサSaoの直下を通過して、基板センサSaoの出力信号Isが「OFF」になったことが確認されると(ステップS103で「YES」と判断されると)、ステップS104に進む。ステップS104では、基板センサSaの出力信号Isが「OFF」になってから所定時間が経過したことが確認される。そして、所定時間の経過が確認されると(ステップS104で「YES」と判断されると)、上流装置2による基板搬出のフローチャートが終了する。
In step S102, each
続いて、図3を用いて基板Aを搬入する下流装置3の動作について説明する。なお、図3のフローチャートは、下流装置3の制御回路37の制御下で実行される。下流装置3による基板搬入のフローチャートが開始されると、ステップS201において、下流装置3において基板Aの搬入が可能であるかが判断される。具体的には、下流装置3の搬送ステージ10b上に基板Aが存在しないことを求める搬入条件が確認される。そして、制御回路37は、上記搬入条件が満足されずに基板搬入が不能である場合(ステップS201で「NO」の場合)は、基板搬入を待機させ、上記搬入条件が満足されて基板搬出が可能である場合(ステップS201で「YES」の場合)は、ステップS202に進む。
Next, the operation of the
ステップS202では、上流装置2の搬出口20o近傍の両基板センサSao、下流装置3の搬送ステージ10bの上下流端の基板センサSbi、Sbo、および下流装置3の搬送ステージ10cの上流端の基板センサSci全ての出力信号Isが「OFF」であることが確認される。これは、基板Aを受け入れる搬送ステージ10bと、隣接する搬送ステージ10aや搬送ステージ10cとの間で基板Aが跨っていないことを確認するものである。具体的には、基板センサSao、Sbiの両方が「OFF」であることを確認することで、搬送ステージ10bと搬送ステージ10aとの間を跨った基板Aが存在しないことが確認される。また、基板センサSbo、Sciの両方が「OFF」であることを確認することで、搬送ステージ10bと搬送ステージ10cとの間を跨った基板Aが存在しないことが確認される。
In step S202, both substrate sensors Sao in the vicinity of the carry-out port 20o of the
ステップS202において、基板センサSao、Sbi、Sbo、Sciの全てが「OFF」であることが確認できない場合(ステップS202で「NO」の場合)には、ステップS203に進んで、制御回路37は図示を省略するユーザインターフェースを介してエラー表示を出力して、基板Aの搬入を停止し、図3のフローチャートを終了する。一方、ステップS202において、基板センサSao、Sbi、Sbo、Sciの全てが「OFF」であることが確認できた場合(ステップS202で「YES」の場合)には、ステップS204に進んで、可動コンベア100dの移動の必要性が判断される。 In step S202, when it cannot be confirmed that all of the substrate sensors Sao, Sbi, Sbo, and Sci are “OFF” (in the case of “NO” in step S202), the process proceeds to step S203, and the control circuit 37 is illustrated. An error display is output via a user interface that omits, and the loading of the substrate A is stopped, and the flowchart of FIG. 3 is terminated. On the other hand, if it is confirmed in step S202 that all of the substrate sensors Sao, Sbi, Sbo, and Sci are “OFF” (in the case of “YES” in step S202), the process proceeds to step S204, and the movable conveyor The need for 100d movement is determined.
具体的には、搬送ステージ10bについて、ステージ幅調整動作やステージ移動動作の必要性が判断される。つまり、下流装置3へ基板Aを搬入するためには、以下の受取条件
・搬送ステージ10bの幅が搬入されてきた基板Aの幅に対して適切であること
・搬送ステージ10bが搬入されてきた基板Aを受け取る受渡位置に存在すること
が求められる。つまり、受取条件の前者が満足されていない場合は、ステージ幅調整動作が必要となり、受取条件の後者が満足されていない場合は、ステージ移動動作が必要となる。換言すれば、受取条件の後者は、搬出対象の基板Aを支持する搬送ステージ10aに対して基板搬送方向Xに直列に並ぶ受渡位置Pr(図4)に、下流装置3の搬送ステージ10bが存在することを要求する。そして、ステップS204では、受取条件が満たされているか否かを判断した結果に基づいて、ステージ幅調整動作やステージ移動動作の要否が判断されて、可動コンベア100dを移動させるかが決定される。
Specifically, the necessity of the stage width adjusting operation or the stage moving operation is determined for the
ステップS204以後のフローをより具体的に説明するために、以下では、図4および図5を併用して説明を実行する。ここで、図4は、図2および図3のフローチャートに従って実行される具体的動作の一例を模式的示す動作図である。図4では、上流装置2の2台の搬送ステージ10aのうち図1、図4で上側の搬送ステージ10aが対象となる基板Aを搬出する場合が例示されている。また、図5は、図4で例示された動作の時間経過を示すタイミングチャートであり、基板センサSam、Sao、Sbi、Sbmの出力信号Isおよび搬送ステージ10bの位置の時間変化を示している。なお、図5の基板センサSam、Saoは、対象となる基板Aを搬出する搬送ステージ10a(つまり、図1、図4で上側の搬送ステージ10a)に設けられたものである。
In order to describe the flow after step S204 more specifically, the description will be given below using FIG. 4 and FIG. 5 together. Here, FIG. 4 is an operation diagram schematically showing an example of a specific operation executed according to the flowcharts of FIGS. 2 and 3. FIG. 4 illustrates a case where the
上述のとおり、ステップS204では、上記の受取条件が満たされるか判断され、受取条件が満たされない場合はステップS205に進み、受取条件が満たされる場合はステップS206へ進む。図4では、ステップS204で受取条件が満たされなかった場合が例示されている。つまり、図4の「動作M11」の欄に示す例では、上流装置2では、基板Aが搬送ステージ10aの中央に載置され、下流装置3では、搬送ステージ10bが処理位置Ppに位置しており(つまり、受渡位置Prに位置しておらず)、受取条件が満たされていない。したがって、ステップS204では、搬送ステージ10bを受渡位置Prにまで移動させるためにステージ移動動作が必要と少なくとも判断される。また、搬送ステージ10bの幅が基板Aの幅に対して不適切である場合には、ステージ幅調整動作が必要とも判断される。
As described above, in step S204, it is determined whether the above reception condition is satisfied. If the reception condition is not satisfied, the process proceeds to step S205. If the reception condition is satisfied, the process proceeds to step S206. FIG. 4 illustrates a case where the receiving condition is not satisfied in step S204. That is, in the example shown in the column of “Operation M11” in FIG. 4, in the
そして、続くステップS205では、搬送ステージ10bの可動コンベア100dが駆動されて、ステップS204で必要と判断された動作が実行される。その結果、搬送ステージ10bは、時刻t10〜t11をかけて処理位置Ppから受渡位置PrにまでY軸方向へ移動する(図4の「動作M12」、図5)。こうして、ステップS205の動作を実行することで、受取条件が満たされて、ステップS206へと進む。
In the subsequent step S205, the
ステップS206では、上流装置2が基板Aを搬出するとともに、下流装置3が基板Aを搬入する。この動作に伴って、基板Aは、上流装置2の搬送ステージ10aから下流装置3の搬送ステージ10bへと移動する。具体的には、図4に示すように、基板Aは、搬送ステージ10aと搬送ステージ10bを跨いだ状態(動作M13)を経由して、搬送ステージ10bへと乗り移る(動作M14)。
In step S206, the
このような基板Aの移動に応じて、各基板センサが反応する。つまり、基板Aが搬送ステージ10a、10bの境界を通過するため、この境界を挟んで配置された基板センサSao、Sbiがそれぞれ一時的に「ON」となる。具体的には、時刻t12〜t15の間に、基板搬送方向Xの上流側の基板センサSaoが「ON」となる。また、時刻t12〜t15より少し遅れた時刻t13〜t16の間に、基板搬送方向Xの下流側の基板センサSbiが「ON」となる(t12<t13<t15<t16)。上流装置2の搬送ステージ10aからは基板Aが搬出されるため、搬送ステージ10aの略中央に対して設けられた基板センサSamは、時刻t14において「ON」から「OFF」へと変化する(t13<t14<t15)。一方、下流装置3の搬送ステージ10bには基板Aが搬入されるため、搬送ステージ10bの略中央に対して設けられた基板センサSbmは、時刻t17において「OFF」から「ON」となる。
In response to such movement of the substrate A, each substrate sensor reacts. That is, since the substrate A passes through the boundary between the transfer stages 10a and 10b, the substrate sensors Sao and Sbi disposed across the boundary are temporarily turned ON. Specifically, the substrate sensor Sao on the upstream side in the substrate transport direction X is “ON” between times t12 and t15. Also, the substrate sensor Sbi on the downstream side in the substrate transport direction X is turned “ON” (t12 <t13 <t15 <t16) during the time t13 to t16 slightly delayed from the time t12 to t15. Since the substrate A is unloaded from the
そして、ステップS206に続くステップS207、S208では、これらを含む基板センサの状態が確認される。つまり、ステップS207では、基板センサSbmが「ON」となったことを検出して、基板Aの搬送ステージ10bへの搬入が完了したとして、搬送ステージ10bのコンベア100を停止させる。また、ステップS208では、基板センサSao、Sbi、Sbo、Sciの全てが「OFF」であるかが確認される。そして、基板センサSao、Sbi、Sbo、Sciのいすれかが「ON」である場合は、ステップS203に進んで、制御回路37は図示を省略するユーザインターフェースを介してエラー表示を出力して、図3のフローチャートを終了する。
In steps S207 and S208 subsequent to step S206, the state of the substrate sensor including these is confirmed. That is, in step S207, it is detected that the substrate sensor Sbm is “ON”, and the
一方、ステップS208で、基板センサSao、Sbi、Sbo、Sciの全てが「OFF」であることが確認されると、ステップS209に進む。ステップS209では、搬送ステージ10bについて、可動コンベア100dを移動させて、ステージ幅調整動作やステージ移動動作の必要性が判断される。そして、必要でない場合(ステップS209で「NO」の場合)は、図3のフローチャートを終了する一方、必要である場合(ステップS209で「YES」の場合)は、ステップS210に進んで、必要と判断された動作が実行される。
On the other hand, if it is confirmed in step S208 that all of the substrate sensors Sao, Sbi, Sbo, and Sci are “OFF”, the process proceeds to step S209. In step S209, the
ただし、ここでは、基板センサSbmが「ON」となることから、搬送ステージ10bに基板Aが載置されていることが判る。したがって、搬送ステージ10bに対してステージ幅調整動作を実行すると、搬送ステージ10bによる基板Aの支持が不安定になるおそれがあるため、ステージ幅調整動作は禁止される。一方、基板センサSbi、Sboが「OFF」でかつ基板センサSbmが「ON」であることから、基板搬送方向Xにおいて基板Aが搬送ステージ10bの内側に収まっていることが判る。したがって、搬送ステージ10bの幅を変えないステージ移動動作については問題なく実行できる。特に、図4の「動作M14」の時点では、搬送ステージ10bは受渡位置Prにある。したがって、作業位置Pbで基板Aに処理を行うために、搬送ステージ10bを処理位置Ppにまで移動させる必要がある。そこで、搬送ステージ10bに対してステージ移動動作が実行されて、搬送ステージ10bは時刻t18〜t19をかけて受渡位置Prから処理位置PpまでY軸方向へ移動する(動作M15)。
However, since the substrate sensor Sbm is “ON” here, it can be seen that the substrate A is placed on the
このように、基板Aの搬出・搬入に伴って、搬送ステージ10aから搬送ステージ10bへ基板Aを受け渡す基板受渡動作が実行される。そして、この基板受渡動作の実行状況は、主として基板センサSao、Sbiの出力信号Isから判断することができる。ここで、図6を用いて、基板受渡動作の実行状況と基板センサの検出動作との関係について説明しておく。なお、図6は、基板受渡動作の各実行状況の一例を模式的に示す図である。
As described above, the substrate delivery operation for delivering the substrate A from the
同図の「実行状況1」では、基板搬送方向Xにおいて基板Aの下流端が搬送ステージ10aの下流端に一致した基板受渡動作の開始時点が示されている。この実行状況1から基板Aが基板搬送方向Xへ搬送されると、基板搬送方向Xにおいて、基板Aの下流端が搬送ステージ10a、10bの境界に対して上流側にある基板センサSaoに検出された後に、搬送ステージ10bに到達する(実行状況2)。この後しばらくは、基板Aは搬送ステージ10a、10bを跨ぎながら基板搬送方向Xへ搬送されて、基板Aは基板センサSao、Sbiの両方に検出される(実行状況3)。続いて、基板搬送方向Xにおいて基板Aの上流端が、基板センサSaoを通過した後に、搬送ステージ10aの下流端に到達する(実行状況4)。基板Aはさらに搬送されて、基板搬送方向Xにおいて基板Aの上流端が搬送ステージ10bの上流端に到達した時点で、基板受渡動作が終了する(実行状況5)。また、上述のとおり、基板Aの搬送・搬出では、基板Aは図6の「実行状況5」の状況よりもさらに搬送されて、基板搬送方向Xにおいて基板Aの上流端は、基板センサSbiを通過する。このように、基板受渡動作の開始・終了の近傍では、基板Aの端部が基板センサSao、Sbiを通過するため(実行状況1、5)、基板センサSao、Sbiの出力信号Isから基板受渡動作の実行状況を判断することが可能となっている。
“
以上に説明したように、この実施形態では、上流装置2の搬送ステージ10aと下流装置3の搬送ステージ10bとの間で実行される基板受渡動作の実行状況が、基板センサSao、Sbiによって基板搬送方向Xにおける基板Aの位置を検出した結果から判断される。特に、基板受渡動作が上流装置2と下流装置3の搬送ステージ10a、10bにより協働して実行されることを鑑みて、上流装置2の搬送ステージ10a側と下流装置3の搬送ステージ10b側の両方に設けられた基板センサSao、Sbiによって基板Aの位置が検出される。したがって、基板Aの位置の検出結果から基板受渡動作の実行状況を的確に判断することができる。そして、こうして判断された実行状況(ステップS202、S208の判断結果)に基づいて、下流装置3の搬送ステージ10bを構成する可動コンベア100dの移動が制御されている(ステップS204、S205、S208、S209)。したがって、例えば、基板Aが搬送ステージ10a、10bの境界に差し掛かっていたり跨いでいたりといった状況で可動コンベア100dが不用意に移動されずにすみ、不適切なタイミングでの可動コンベア100dの移動が抑制される。
As described above, in this embodiment, the execution status of the substrate delivery operation executed between the
また、この実施形態は、基板Aの反りや基板Aの切欠(スリット、ノッチ)に起因して、適切な基板検出結果を基板センサSao、Sbiの一方から得られない場合においても、上流装置2と下流装置3との間における基板受渡動作の実行状況を判断し得るといった利点も有する。つまり、基板Aに反りがあるために基板センサSao、Sbiの一方の検出領域から基板Aが外れたり、基板Aに切欠があるために切欠が基板センサSao、Sbiの一方の検出領域にかかったりすることで、基板センサSao、Sbiの一方から適切な基板検出結果を得られない場合がある。これに対して、この実施形態では、基板受渡動作を実行する上流装置2と下流装置3のそれぞれで基板センサSao、Sbiによる基板検出が実行されるため、一方の基板センサから適切な基板検出結果が得られなくても、他方の基板センサの基板検出結果から基板受渡動作の実行状況を把握することが可能となる。その結果、基板Aの反りや切欠が存在する場合であっても、不適切なタイミングでの可動コンベアの移動を抑制することができる。
Further, in this embodiment, the
特にこの実施形態では、ステップS202やステップS208で基板センサSao、Sbiの両方が「OFF」であることを確認したうえで、可動コンベア100dを移動させている(ステップS205、S210)。したがって、基板受渡動作が実行中であると判断された場合には、可動コンベア100dの移動が禁止される。これによって、基板受渡動作の実行中のタイミングにおける可動コンベア100dの移動を確実に抑制されている。
In particular, in this embodiment, after confirming that both the substrate sensors Sao and Sbi are “OFF” in step S202 and step S208, the
なお、基板受渡動作が実行中でないとしても、搬送ステージ10bによる基板Aの支持状態によっては、搬送ステージ10bを構成する可動コンベア100dを動かすことが適当でない場合もある。そこで、この実施形態では、搬送ステージ10bによる基板Aの支持状態を判断した結果にも基づいて、搬送ステージ10bを構成する可動コンベアの移動を制御している。
Even if the substrate delivery operation is not being executed, it may not be appropriate to move the
具体的には、搬送ステージ10bによって基板Aが支持されていると判断すると、少なくともステージ幅変更動作が禁止される。つまり、搬送ステージ10bによって基板Aが支持されている場合には、ステージ幅変更動作を実行すると、搬送ステージ10bによる基板Aの支持が不安定になってしまう。そこで、ステージ幅変更動作を禁止することが好適となる。
Specifically, if it is determined that the substrate A is supported by the
また、基板搬送方向Xにおいて搬送ステージ10b(可動コンベア100d1、100d2)の内側に基板Aが収まっており、なおかつ基板受渡動作が実行中でないと判断されれば、ステージ移動動作が許可される。つまり、基板搬送方向Xにおいて搬送ステージ10bの内側に基板Aが収まっている場合には、ステージ移動動作を行ったとしても、搬送ステージ10bによる基板Aの支持が不安定になることはない。そこで、基板受渡動作が実行中でないことを条件にステージ移動動作を許可することで、ステージ移動動作の頻発を抑止して、基板処理をスムーズに行うことが可能となる。
If it is determined that the substrate A is contained inside the
なお、搬送ステージ10b(可動コンベア100d1、100d2)から基板搬送方向Xの下流側に基板Aが突き出ているような場合(例えば、搬送ステージ10b、10cを基板Aが跨いでいるような場合)には、ステージ幅変更動作やステージ移動動作を実行すると、搬送ステージ10bによる基板Aの支持が不安定になってしまう。これに対して、この実施形態では、基板センサSbo、Sciが「ON」であって、このような基板Aの突出が発生していると判断された場合には、ステージ幅変更動作およびステージ移動動作の両方が禁止されている(ステップS202、S208)。これによって、搬送ステージ10bによる基板Aの支持が不安定になることが抑制されている。
When the substrate A protrudes from the
第2実施形態
図7は、本発明の第2実施形態にかかる基板処理ラインの一例を模式的に示した図である。第2実施形態の基板処理ライン1は、基板処理装置2、3の配列が第1実施形態のそれに対して反転している点で、第1実施形態の基板処理ライン1と異なる。したがって、基板処理装置2、3それぞれの詳細な構成は、第1実施形態で上述した内容と共通するため、説明を適宜省略する。
Second Embodiment FIG. 7 is a view schematically showing an example of a substrate processing line according to a second embodiment of the present invention. The
図7に示すとおり、この基板処理ライン1は、2台の基板処理装置3、2をこの順番で基板搬送方向Xに配列し、基板搬送方向Xに基板Aを搬送しつつ、基板処理装置3、2のそれぞれで基板Aに処理を行う。このような基板処理ライン1では、基板処理装置3の搬送ステージ10bから基板処理装置2の搬送ステージ10aへ基板Aを受け渡す基板受渡動作が実行される。この基板受渡動作は、上流側の基板処理装置3が搬出した基板Aを下流側の基板処理装置2が搬入するのに伴って実行される。そこで、基板Aの搬出処理および搬入処理と、これに伴って実行される基板受渡動作について、次に詳述する。
As shown in FIG. 7, the
図8は、第2実施形態において上流側の基板処理装置が実行する基板搬出処理の一例を示すフローチャートである。図9は、第2実施形態において下流側の基板処理装置が実行する基板搬出処理の一例を示すフローチャートである。なお、第2実施形態における以下の説明では適宜、上流側の基板処理装置3を上流装置3と称し、下流側の基板処理装置2を下流装置2と称することとする。
FIG. 8 is a flowchart illustrating an example of a substrate carry-out process executed by the upstream substrate processing apparatus in the second embodiment. FIG. 9 is a flowchart illustrating an example of a substrate carry-out process executed by the downstream substrate processing apparatus in the second embodiment. In the following description of the second embodiment, the upstream
まずは、図8を用いて基板Aを搬出する上流装置3の動作について説明する。なお、図8のフローチャートは、上流装置3の制御回路37の制御下で実行される。上流装置3による基板搬出のフローチャートが開始されると、ステップS301において、上流装置3から基板Aの搬出が可能であるかが判断される。換言すれば、制御回路37は、下流装置2において基板Aの搬出先となる搬送ステージ10aが基板Aを受け入れられるかを確認する。具体的には、次の搬出条件
・下流装置2の基板Aの搬出先となる搬送ステージ10a上に基板Aが存在しないこと
・下流装置2で搬出対象の基板Aを受け入れる搬送ステージ10aに対して基板搬送方向Xに直列に並ぶ位置に、上流装置3の搬送ステージ10bが存在すること
が確認される。そして、制御回路37は、上記の搬出条件が満足されずに基板搬出が不能である場合(ステップS301で「NO」の場合)は、基板搬出を待機させ、上記の搬出条件が満足されて基板搬出が可能である場合(ステップS301で「YES」の場合)は、ステップS302に進む。
First, operation | movement of the
ステップS302では、下流装置2の搬入口20o近傍の両基板センサSao、上流装置3の搬送ステージ10bの上下流端の基板センサSbi、Sbo、および上流装置3の搬送ステージ10cの下流端の基板センサSci全ての出力信号Isが「OFF」であることが確認される。これは、基板Aを搬出する搬送ステージ10bと、隣接する搬送ステージ10aや搬送ステージ10cとの間で基板Aが跨っていないことを確認するものである。具体的には、基板センサSao、Sbiの両方が「OFF」であることを確認することで、搬送ステージ10bと搬送ステージ10aとの間を跨った基板Aが存在しないことが確認される。また、基板センサSbo、Sciの両方が「OFF」であることを確認することで、搬送ステージ10bと搬送ステージ10cとの間を跨った基板Aが存在しないことが確認される。
In step S302, both the substrate sensors Sao in the vicinity of the carry-in port 20o of the
ステップS302において、基板センサSao、Sbi、Sbo、Sciの全てが「OFF」であることが確認できない場合(ステップS302で「NO」の場合)には、ステップS303に進んで、制御回路37は図示を省略するユーザインターフェースを介してエラー表示を出力して、基板Aの搬出を停止し、図8のフローチャートを終了する。一方、ステップS302において、基板センサSao、Sbi、Sbo、Sciの全てが「OFF」であることが確認できた場合(ステップS302で「YES」の場合)には、ステップS304に進んで、可動コンベア100dの移動の必要性が判断される。 In step S302, if it cannot be confirmed that all of the substrate sensors Sao, Sbi, Sbo, and Sci are “OFF” (in the case of “NO” in step S302), the process proceeds to step S303, and the control circuit 37 is illustrated. An error display is output via the user interface that omits, the unloading of the substrate A is stopped, and the flowchart of FIG. 8 ends. On the other hand, if it is confirmed in step S302 that all of the substrate sensors Sao, Sbi, Sbo, and Sci are “OFF” (in the case of “YES” in step S302), the process proceeds to step S304 to move the movable conveyor. The need for 100d movement is determined.
具体的には、搬送ステージ10bについて、ステージ移動動作の必要性が判断される。つまり、下流装置2へ基板Aを搬入するためには、搬送ステージ10bがステージ10aに基板Aを受け渡す受渡位置に存在することが求められる(受渡条件)。換言すれば、下流装置2で基板Aを受け取る搬送ステージ10aに対して基板搬送方向Xに直列に並ぶ受渡位置Pr(図10)に、上流装置3の搬送ステージ10bが存在することが要求される。そして、ステップS304では、この受渡条件が満たされているか否かを判断した結果に基づいて、ステージ移動動作の要否が判断されて、可動コンベア100dを移動させるかが決定される。
Specifically, the necessity of the stage moving operation is determined for the
ステップS304以後のフローをより具体的に説明するために、以下では、図10および図11を併用して説明を実行する。ここで、図10は、図8および図9のフローチャートに従って実行される具体的動作の一例を模式的示す動作図である。図10では、下流装置2の2台の搬送ステージ10aのうち図7、図10で上側の搬送ステージ10aに対して対象となる基板Aを搬出する場合が例示されている。また、図11は、図10で例示された動作の時間経過を示すタイミングチャートであり、基板センサSbm、Sbi、Sao、Samの出力信号Isおよび搬送ステージ10bの位置の時間変化を示している。なお、図11の基板センサSam、Saoは、対象となる基板Aが搬出される搬送ステージ10a(つまり、図7、図10で上側の搬送ステージ10a)に設けられたものである。
In order to describe the flow after step S304 more specifically, the description will be given below using FIG. 10 and FIG. 11 together. Here, FIG. 10 is an operation diagram schematically showing an example of a specific operation executed in accordance with the flowcharts of FIGS. 8 and 9. FIG. 10 illustrates the case where the target substrate A is carried out of the two
上述のとおり、ステップS304では、上記の受渡条件が満たされるか判断され、受渡条件が満たされない場合はステップS305に進み、受渡条件が満たされる場合はステップS306へ進む。図10では、ステップS304で受渡条件が満たされなかった場合が例示されている。つまり、図10の「動作M21」の欄に示す例では、上流装置3では、搬送ステージ10bが処理位置Ppに位置しており(つまり、受渡位置Prに位置しておらず)、受渡条件が満たされていない。したがって、ステップS304では、搬送ステージ10bを受渡位置Prにまで移動させるためにステージ移動動作が必要と判断される。
As described above, in step S304, it is determined whether the delivery condition is satisfied. If the delivery condition is not satisfied, the process proceeds to step S305. If the delivery condition is satisfied, the process proceeds to step S306. FIG. 10 illustrates a case where the delivery condition is not satisfied in step S304. That is, in the example shown in the column of “Operation M21” in FIG. 10, in the
そして、続くステップS305では、搬送ステージ10bの可動コンベア100dが駆動されて、ステージ移動動作が実行される。その結果、搬送ステージ10bは、時刻t20〜t21をかけて処理位置Ppから受渡位置PrにまでY軸方向へ移動する(図10の「動作M22」、図11)。こうして、ステップS305の動作を実行することで、受取条件が満たされて、ステップS306へと進む。
In subsequent step S305, the
ステップS306では、上流装置3が基板Aを搬出するとともに、下流装置2が基板Aを搬入する。この動作に伴って、基板Aは、上流装置3の搬送ステージ10bから下流装置2の搬送ステージ10aへと移動する。具体的には、図10に示すように、基板Aは、搬送ステージ10bと搬送ステージ10aを跨いだ状態(動作M23)を経由して、搬送ステージ10aへと乗り移る(動作M24)。
In step S306, the
このような基板Aの移動に応じて、各基板センサが反応する。つまり、基板Aが搬送ステージ10b、10aの境界を通過するため、この境界を挟んで配置された基板センサSbi、Saoがそれぞれ一時的に「ON」となる。具体的には、時刻t22〜t25の間に、基板搬送方向Xの上流側の基板センサSbiが「ON」となる。また、時刻t22〜t25より少し遅れた時刻t23〜t26の間に、基板搬送方向Xの下流側の基板センサSaoが「ON」となる(t22<t23<t25<t26)。上流装置3の搬送ステージ10bからは基板Aが搬出されるため、搬送ステージ10bの略中央に対して設けられた基板センサSbmは、時刻t24において「ON」から「OFF」へと変化する(t23<t24<t25)。一方、下流装置2の搬送ステージ10aには基板Aが搬入されるため、搬送ステージ10aの略中央に対して設けられた基板センサSamは、時刻t27において「OFF」から「ON」となる。
In response to such movement of the substrate A, each substrate sensor reacts. That is, since the substrate A passes through the boundary between the transfer stages 10b and 10a, the substrate sensors Sbi and Sao disposed across the boundary are temporarily turned ON. Specifically, the substrate sensor Sbi on the upstream side in the substrate transport direction X is “ON” between times t22 and t25. Further, the substrate sensor Sao on the downstream side in the substrate transport direction X is turned “ON” during the time t23 to t26 slightly delayed from the time t22 to t25 (t22 <t23 <t25 <t26). Since the substrate A is unloaded from the
そして、ステップS306に続くステップS307、S308では、これらを含む基板センサの状態が確認される。つまり、ステップS307では、基板センサSamが「ON」となったことを検出して、基板Aの搬送ステージ10aへの搬入が完了したとして、搬送ステージ10aのコンベア100を停止させる。また、ステップS308では、基板センサSao、Sbi、Sbo、Sciの全てが「OFF」であるかが確認される。そして、基板センサSao、Sbi、Sbo、Sciのいすれかが「ON」である場合は、ステップS303に進んで、制御回路37は図示を省略するユーザインターフェースを介してエラー表示を出力して、図8のフローチャートを終了する。
In steps S307 and S308 following step S306, the state of the substrate sensor including these is confirmed. That is, in step S307, it is detected that the substrate sensor Sam is “ON”, and the
一方、ステップS308で、基板センサSao、Sbi、Sbo、Sciの全てが「OFF」であることが確認されると、ステップS309に進む。ステップS309では、搬送ステージ10bについて、可動コンベア100dを移動させて、ステージ幅調整動作やステージ移動動作の必要性が判断される。そして、必要でない場合(ステップS309で「NO」の場合)は、図3のフローチャートを終了する一方、必要である場合(ステップS309で「YES」の場合)は、ステップS210に進んで、必要と判断された動作が実行される。図10に示す例では、搬送ステージ10bは時刻t28〜t29をかけて受渡位置Prから処理位置PpまでY軸方向へ移動する(動作M25)。
On the other hand, if it is confirmed in step S308 that all of the substrate sensors Sao, Sbi, Sbo, and Sci are “OFF”, the process proceeds to step S309. In step S309, the
続いては、図9を用いて、基板Aを搬入する下流装置2の動作について説明する。なお、図9のフローチャートは、下流装置2の制御回路27の制御下で実行される。下流装置2による基板搬入のフローチャートが開始されると、ステップS401において、上流装置3から基板Aの搬入が可能であるかが判断される。具体的には、下流装置2において基板Aの搬入先となる搬送ステージ10a上に基板Aが存在しないことを求める搬入条件が確認される。そして、制御回路27は、上記搬入条件が満足されずに基板搬入が不能である場合(ステップS401で「NO」の場合)は、基板搬入を待機させ、上記搬入条件が満足されて基板搬出が可能である場合(ステップS401で「YES」の場合)は、ステップS402に進む。
Next, the operation of the
ステップS402では、搬乳先となる搬送ステージ10aの各コンベア100が作動して、上流装置3から基板搬送方向Xへ搬送されてきた基板Aを受け入れる。続いて、ステップS403では、基板Aの搬入された搬送ステージ10aの基板センサSamが「ON」となったかを確認する。そして、これが確認されると、下流装置2による基板搬入のフローチャートが終了する。
In step S <b> 402, each
以上に説明したように、この実施形態では、上流装置3の搬送ステージ10bと下流装置2の搬送ステージ10aとの間で実行される基板受渡動作の実行状況が、基板センサSbi、Saoによって基板搬送方向Xにおける基板Aの位置を検出した結果から判断される。特に、基板受渡動作が上流装置3と下流装置2の搬送ステージ10b、10aにより協働して実行されることを鑑みて、上流装置3の搬送ステージ10b側と下流装置2の搬送ステージ10a側の両方に設けられた基板センサSbi、Saoによって基板Aの位置が検出される。したがって、基板Aの位置の検出結果から基板受渡動作の実行状況を的確に判断することができる。そして、こうして判断された実行状況(ステップS302、S308の判断結果)に基づいて、上流装置3の搬送ステージ10bを構成する可動コンベア100dの移動が制御されている(ステップS304、S305、S308、S309)。したがって、例えば、基板Aが搬送ステージ10b、10aの境界に差し掛かっていたり跨いでいたりといった状況で可動コンベア100dが不用意に移動されずにすみ、不適切なタイミングでの可動コンベア100dの移動が抑制される。
As described above, in this embodiment, the execution status of the substrate delivery operation executed between the
また、この実施形態は、基板Aの反りや基板Aの切欠(スリット、ノッチ)に起因して、適切な基板検出結果を基板センサSbi、Saoの一方から得られない場合においても、上流装置3と下流装置2との間における基板受渡動作の実行状況を判断し得るといった利点も有する。つまり、基板Aに反りがあるために基板センサSbi、Saoの一方の検出領域から基板Aが外れたり、基板Aに切欠があるために切欠が基板センサSbi、Saoの一方の検出領域にかかったりすることで、基板センサSbi、Saoの一方から適切な基板検出結果を得られない場合がある。これに対して、この実施形態では、基板受渡動作を実行する上流装置3と下流装置2のそれぞれで基板センサSbi、Saoによる基板検出が実行されるため、一方の基板センサから適切な基板検出結果が得られなくても、他方の基板センサの基板検出結果から基板受渡動作の実行状況を把握することが可能となる。その結果、基板Aの反りや切欠が存在する場合であっても、不適切なタイミングでの可動コンベアの移動を抑制することができる。
Further, in this embodiment, the
特にこの実施形態では、ステップS302やステップS308で基板センサSbi、Saoの両方が「OFF」であることを確認したうえで、可動コンベア100dを移動させている(ステップS305、S310)。したがって、基板受渡動作が実行中であると判断された場合には、可動コンベア100dの移動が禁止される。これによって、基板受渡動作の実行中のタイミングにおける可動コンベア100dの移動を確実に抑制されている。
In particular, in this embodiment, after confirming that both the substrate sensors Sbi and Sao are “OFF” in step S302 and step S308, the
その他
以上のように上記実施形態では、基板処理ライン1が本発明の「基板処理ライン」の一例に相当し、基板処理装置2、3が本発明の「処理装置」の一例に相当し、基板処理装置3が本発明の「一の処理装置」の一例に相当し、基板処理装置2が本発明の「他の処理装置」の一例に相当し、基板センサSbiが本発明の「一の位置検出部」の一例に相当し、基板センサSaoが本発明の「他の位置検出部」の一例に相当し、駆動機構31が本発明の「駆動部」の一例に相当し、制御回路37が本発明の「制御部」の一例に相当し、制御回路37と入出力回路39が協働して本発明の「通信制御部」の一例として機能し、ケーブルCsが本発明の「ケーブル」の一例に相当している。
Others As described above, in the above embodiment, the
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行なうことが可能である。例えば、基板処理ライン1を構成する基板処理装置の個数は、上記の内容に限られず、適宜変更することができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, the number of substrate processing apparatuses constituting the
また、基板処理装置2、3の具体的構成も上記のものに限られない。したがって、基板処理装置2、3それぞれに対して、搬送ステージ10の個数や配列方法、可動コンベア100dの設置態様等について種々の変更が可能である。
Further, the specific configuration of the
また、基板処理装置2、3で実行される処理の内容も上述のものに限られず、リフロー処理や、単に基板を搬送するだけの搬送処理であっても構わない。
Further, the contents of the processing executed by the
また、基板センサの具体的構成、取付態様、取付個数等についても、種々の変更を加えることができる。例えば、上記実施形態では、基板センサは、基板Aの搬送経路の上方に取り付けられて、直下の基板Aを検出するものであった。しかしながら、基板センサは、基板Aの搬送経路の下方に取り付けられて、直上の基板Aを検出するものでも良い、基板Aの搬送経路に水平方向から臨むように取り付けられたものでも良い。また、基板センサの種類も、反射型のセンサに限られず、透過型のセンサを用いることもできる。 Various changes can also be made to the specific configuration, mounting mode, mounting number, etc. of the substrate sensor. For example, in the above-described embodiment, the substrate sensor is attached above the transport path of the substrate A and detects the substrate A immediately below. However, the substrate sensor may be mounted below the transport path of the substrate A to detect the substrate A immediately above it, or may be mounted so as to face the transport path of the substrate A from the horizontal direction. Also, the type of substrate sensor is not limited to a reflective sensor, and a transmissive sensor can also be used.
また、上記実施形態では、基板Aが収容範囲外にある場合を示す例として、基板Aがコンベア100から突き出ている場合が示されていた。しかしながら、基板Aが突き出ていなくても、基板Aがコンベア100に収容されていないと判断される場合には、上記実施形態のように可動コンベア100dの動作を制御するように構成しても良い。
Moreover, in the said embodiment, the case where the board | substrate A protruded from the
1…基板処理ライン
2…基板処理装置(他の処理装置)
3…基板処理装置(一の処理装置)
10,10a,10b,10c…搬送ステージ
21…駆動機構
27…制御回路
29…入出力回路
31…駆動機構(駆動部)
37…制御回路(制御部、通信制御部)
39…入出力回路(通信制御部)
100…コンベア
100d…可動コンベア
A…基板
Cs…ケーブル
Id…駆動制御信号
Is…出力信号
Pp…処理位置
Pr…受渡位置
Sai,Sam,Sao,Sbi,Sbm,Sbo,Sci,Scm,Sco…基板センサ
Sbi…基板センサ(一の位置検出部)
Sao…基板センサ(他の位置検出部)
X…基板搬送方向
DESCRIPTION OF
3 ... Substrate processing apparatus (one processing apparatus)
DESCRIPTION OF
37. Control circuit (control unit, communication control unit)
39: Input / output circuit (communication control unit)
DESCRIPTION OF
Sao ... Substrate sensor (other position detector)
X: Substrate transport direction
Claims (10)
前記複数の処理装置のうち、前記基板搬送方向に直交する直交方向に移動自在な可動コンベアを前記コンベアとして具備する一の処理装置の前記可動コンベアを、前記直交方向に駆動する駆動部と、
前記駆動部による前記可動コンベアの移動を制御する制御部と、
前記一の処理装置の前記可動コンベアに支持された前記基板の前記基板搬送方向における位置を検出する一の位置検出部と、
前記複数の処理装置のうちの前記一の処理装置に隣接する他の処理装置の前記コンベアに支持された前記基板の前記基板搬送方向における位置を検出する他の位置検出部と
を備え、
前記制御部は、前記一の処理装置の前記可動コンベアと前記他の処理装置の前記コンベアとの間で前記基板を受け渡す基板受渡動作の実行状況を、前記一の位置検出部および前記他の位置検出部の両方の検出結果から判断した結果に基づいて、前記駆動部による前記可動コンベアの移動を制御する基板処理ライン。 A plurality of processing apparatuses including a conveyor that supports the substrate and conveys the substrate in the substrate conveyance direction are provided side by side in the substrate conveyance direction, and the substrate is transferred between the conveyors of the plurality of processing apparatuses while the substrate is transferred to each of the processing apparatuses. In the substrate processing line for processing
A driving unit that drives the movable conveyor of the one processing apparatus including the movable conveyor that is movable in an orthogonal direction orthogonal to the substrate transport direction among the plurality of processing apparatuses in the orthogonal direction;
A control unit for controlling movement of the movable conveyor by the driving unit;
One position detection unit for detecting a position of the substrate supported by the movable conveyor of the one processing apparatus in the substrate transport direction;
Another position detection unit that detects a position of the substrate supported by the conveyor of the other processing apparatus adjacent to the one processing apparatus among the plurality of processing apparatuses in the substrate transport direction;
The control unit is configured to determine an execution status of the substrate delivery operation for delivering the substrate between the movable conveyor of the one processing apparatus and the conveyor of the other processing apparatus, and the one position detection unit and the other A substrate processing line for controlling movement of the movable conveyor by the drive unit based on a result determined from both detection results of the position detection unit.
前記駆動部は、前記2個の可動コンベアの間隔を変更するステージ幅変更動作および前記2個の可動コンベアをそれぞれの間隔を保ったまま移動させるステージ移動動作を実行する請求項3に記載の基板処理ライン。 In the one processing apparatus, a support table configured by the two movable conveyors arranged in the orthogonal direction conveys the substrate in the substrate conveyance direction while supporting the substrate,
4. The substrate according to claim 3, wherein the driving unit executes a stage width changing operation for changing an interval between the two movable conveyors and a stage moving operation for moving the two movable conveyors while maintaining the respective intervals. 5. Processing line.
前記他の処理装置は、前記位置検出部の検出結果を前記通信制御部に送るケーブルを有し、
前記他の処理装置の前記通信制御部は、前記ケーブルを介して受け取った検出結果を前記伝送信号に変換して、前記一の処理装置の前記通信制御部へ出力する請求項9に記載の基板処理ライン。 The one processing device and the other processing device each have a communication control unit that exchanges transmission signals with each other,
The other processing device has a cable for sending the detection result of the position detection unit to the communication control unit,
The substrate according to claim 9, wherein the communication control unit of the other processing device converts a detection result received via the cable into the transmission signal and outputs the transmission signal to the communication control unit of the one processing device. Processing line.
前記複数の処理装置のうち、前記基板搬送方向に直交する直交方向に移動自在な可動コンベアを前記コンベアとして具備する一の処理装置の前記可動コンベアに支持された前記基板の前記基板搬送方向における位置を一の位置検出結果として検出する工程と、
前記複数の処理装置のうち、前記一の処理装置に隣接する他の処理装置の前記コンベアに支持された前記基板の前記基板搬送方向における位置を他の位置検出結果として検出する工程と、
前記一の処理装置の前記可動コンベアと前記他の処理装置の前記コンベアとの間で前記基板を受け渡す基板受渡動作の実行状況を、前記一の位置検出結果および前記他の位置検出結果の両方から判断した結果に基づいて、前記可動コンベアの移動を制御する工程と
を備えた基板処理方法。 A plurality of processing apparatuses including a conveyor that supports the substrate and conveys the substrate in the substrate conveyance direction are provided side by side in the substrate conveyance direction, and the substrate is transferred between the conveyors of the plurality of processing apparatuses while the substrate is transferred to each of the processing apparatuses. In the substrate processing method for performing the processing in
Among the plurality of processing apparatuses, a position in the substrate transport direction of the substrate supported by the movable conveyor of one processing apparatus including, as the conveyor, a movable conveyor movable in an orthogonal direction orthogonal to the substrate transport direction. Detecting as a position detection result,
Detecting a position in the substrate transport direction of the substrate supported by the conveyor of another processing apparatus adjacent to the one processing apparatus among the plurality of processing apparatuses as another position detection result;
The execution status of the substrate delivery operation for delivering the substrate between the movable conveyor of the one processing apparatus and the conveyor of the other processing apparatus, both the one position detection result and the other position detection result And a step of controlling the movement of the movable conveyor based on the result of the determination.
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