JP2014097471A - クリーニング機構および塗布装置 - Google Patents

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哲也 上田
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Abstract

【課題】乾式による清掃でディスペンサノズルの根元に付着した液剤を除去することができ、かつ除去した液剤の再付着を防止できるクリーニング機構および塗布装置を提供する。
【解決手段】クリーニング機構1は、ディスペンサノズル10と、ワイピング材20とを備えている。ディスペンサノズル10は、基端部11および先端部12を有し、かつ先端部12に設けられた吐出口12aから液剤2を吐出するためのものである。ワイピング材20は、吐出口12aから吐出されて先端部12および基端部11に付着した液剤2をディスペンサノズル10に押し当てられることで除去可能なものである。ワイピング材20は、ワイピング材20を挟んでディスペンサノズル10側およびディスペンサノズル10の反対側の両側からワイピング材20に圧力が加えられた状態で、先端部12および基端部11に接触するように構成されている。
【選択図】図3

Description

本発明は、クリーニング機構および塗布装置に関し、特に、ディスペンサノズルに付着した液剤を除去可能なワイピング材を備えたクリーニング機構およびそれを備えた塗布装置に関するものである。
携帯電話、携帯型コンピュータ、その他の小型電子機器の高機能化に伴い、これらに搭載される半導体装置の高集積化、狭ピッチ化の要求が高まっている。これらの要求に対してBGA(Ball grid array)、CSP(Chip size package)およびベアチップ実装などの高密度実装が可能なパッケージがある。
これらのパッケージでは、信頼性の観点から、アンダーフィルが用いられている場合が多い。アンダーフィルとは配線基板と配線基板に実装された半導体チップとの間に形成される間隙をアンダーフィル材の充填によって樹脂封止することである。これにより、アンダーフィル材でバンプを補強して半導体チップと配線基板との接合強度を高めたり、アンダーフィル材で間隙を密閉して大気中の水分の間隙への侵入を防止することで半導体パッケージの耐湿性を向上させたりすることができる。
アンダーフィル材の供給に関しては、エアパルス方式、ジェット方式およびスクリュー方式などのディスペンサが用いられる。特に高密度実装されたパッケージおよび狭ギャップ部品への塗布を行う際には、周辺部品への付着および供給量不足といった不具合を抑制するために、吐出量精度および塗布位置精度の管理が重要である。
ディスペンサの吐出が不安定になる要因としては、大きく以下の3つがある。1つ目は、アンダーフィル材(液剤)そのものが変質することである。たとえば、溶剤成分の揮発および長時間放置による硬化反応の進行などにより、液剤が増粘して吐出異常となるケースがある。2つ目は、吐出条件が不適正なことである。吐出条件は、ディスペンサノズルの先端からの液切れの良し悪しおよび液滴の落下速度に影響を与えるため、液剤ごとに適切な条件で実施することが望ましい。
また、3つ目は、ディスペンサノズルの先端および側面に液剤が付着することによるものである。吐出動作時において、ディスペンサノズルの内部の液剤は、液滴となって落下するもの以外に、ノズル先端に液切れして残留するものがある。ディスペンサノズルの先端に付着した液剤の残留物は、毛細管現象により針状のディスペンサノズルを這い上がってノズル根元まで到達することがある。一旦、ディスペンサノズルの先端から根元までの付着痕跡のパスができると、以降の吐出動作時には、表面張力による這い上がりがさらに生じ易くなる。
ディスペンサノズルへの液剤の付着が進行すると、液剤が液滴として落下せずに全てディスペンサノズルを這い上がってしまうことおよび液剤が偏析してディスペンサノズルに付着した場合に液剤の吐出が鉛直方向に行われずに塗布位置がずれてしまうことが発生する。このように、ディスペンサノズルへの液剤の付着状態が吐出性に大きく影響しており、品質安定化および量産能力向上のために、定期的なディスペンサノズルのクリーニングが必須である。
一般的に、ディスペンサノズルのクリーニング手法として以下の手法が提案されている。たとえば、特開2009−283579号公報(特許文献1)では、ディスペンサノズルの先端をワイピング材である低発塵性不織布に押し当て、ディスペンサノズルの先端に残存した塗布剤を低発塵性不織布に付着させて取り除く手法が提案されている。
また、特開2006−142147号公報(特許文献2)では、液体材料を吐出する吐出ヘッドの吐出面を液体材料に生じる凝集物を分解可能な所定液に浸漬する工程と、浸漬後の吐出面をワイピング材で拭う工程とにより吐出ヘッドを清掃する手法が提案されている。
さらに、特開平7−155666号公報(特許文献3)では、ノズルに加圧空気を吹き付けてノズルに付着した流体を除去する手法が提案されている。
特開2009−283579号公報 特開2006−142147号公報 特開平7−155666号公報
しかし、上記の特開2009−283579号公報の手法では、張力が付与された低発塵性不織布にディスペンサノズルが押し当てられている。このため、低発塵性不織布は凹型に曲がるが、ディスペンサノズルの根元まで低発塵性不織布を密着させることは困難である。したがって、ディスペンサノズルの根元に付着した塗布剤を除去することは困難である。
また、上記の特開2006−142147号公報の手法では、吐出ヘッド全体を洗浄液に浸漬させるため、吐出ヘッドの根元の付着物を除去することが可能であるが、湿式による清掃のため、吐出ヘッド内部への洗浄液の浸入による液体材料の変質の可能性がある。この場合、侵入した洗浄液を洗浄後の捨て打ちによって除去する工程が新たに必要となり、工数増大につながる。また、捨て打ちが不十分な場合には、洗浄液が混在した液体材料を塗布することになるため、本来の液体材料の物性が損なわれるおそれがある。
さらに、特開平7−155666号公報の手法では、加圧空気で吹き飛ばした液体が飛散してノズルに再付着するおそれがある。
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的は、乾式による清掃でディスペンサノズルの根元に付着した液剤を除去することができ、かつ除去した液剤の再付着を防止できるクリーニング機構および塗布装置を提供することである。
本発明のクリーニング機構は、ディスペンサノズルと、ワイピング材とを備えている。ディスペンサノズルは、基端部および基端部から突出する先端部を有し、かつ先端部に設けられた吐出口から液剤を吐出するためのものである。ワイピング材は、吐出口から吐出されて先端部および基端部に付着した液剤をディスペンサノズルに押し当てられることで除去可能なものである。ワイピング材は、ワイピング材を挟んでディスペンサノズル側およびディスペンサノズルの反対側の両側からワイピング材に圧力が加えられた状態で、先端部および基端部に接触するように構成されている。
本発明のクリーニング機構によれば、ワイピング材は、基端部に付着した液剤をディスペンサノズルに押し当てられることで除去可能なものであるため、乾式による清掃で基端部に付着した液剤を除去することができる。また、ワイピング材で液剤を除去するため、ディスペンサノズルに除去された液剤が再付着することを防止できる。さらに、ワイピング材は、ワイピング材を挟んでディスペンサノズル側およびディスペンサノズルの反対側の両側からワイピング材に圧力が加えられた状態で、先端部および基端部に接触するように構成されている。このため、ワイピング材を先端部および基端部に接触させることができる。これにより、基端部に付着した液剤を除去することができる。よって、ディスペンサノズルの根元に付着した液剤を除去することができる。
本発明の実施の形態1における塗布装置を概略的に示す斜視図である。 本発明の実施の形態1における塗布装置の吐出部を概略的に示す図である。 本発明の実施の形態1における塗布装置のクリーニング機構を概略的に示す断面図である。 本発明の実施の形態1における塗布装置のクリーニング機構のディスペンサノズルにワイピング材が押し当てられた状態を概略的に示す断面図である。 比較例の塗布装置のクリーニング機構のディスペンサノズルにワイピング材が押し当てられた状態を概略的に占めす断面図である。 本発明の実施の形態2における塗布装置のクリーニング機構を概略的に示す断面図である。 本発明の実施の形態2における塗布装置のクリーニング機構のディスペンサノズルにワイピング材が押し当てられた状態を概略的に示す断面図である。 本発明の実施の形態2における塗布装置のクリーニング機構のディスペンサノズルの先端部および基端部からワイピング材が離れた状態を概略的に示す断面図である。 本発明の実施の形態3における塗布装置のクリーニング機構を概略的に示す断面図である。 本発明の実施の形態3における塗布装置のクリーニング機構のディスペンサノズルにワイピング材が押し当てられた状態を概略的に示す断面図である。 本発明の実施の形態3における塗布装置のクリーニング機構のディスペンサノズルの先端部および基端部からワイピング材が離れた状態を概略的に示す断面図である。 本発明の実施の形態4における塗布装置のクリーニング機構を概略的に示す断面図である。 本発明の実施の形態4における塗布装置のクリーニング機構のディスペンサノズルにワイピング材が押し当てられた状態を概略的に示す断面図である。
以下、本発明の実施の形態について図に基づいて説明する。
(実施の形態1)
最初に本発明の実施の形態1における塗布装置の構成について説明する。
図1を参照して、本実施の形態の塗布装置100は、クリーニング機構1と、移動機構(3軸ロボット)110と、テーブル120と、吐出部200と、ヘッドベース201と、クリーニング部300とを主に有している。なお、クリーニング機構1は、後で詳しく説明する。また、図1ではワーク(被塗布物)400がテーブル120上に載置されている。
移動機構110は、X方向移動機構101と、Y方向移動機構102と、Z方向移動機構103とを有している。X方向移動機構101は、図中左右方向(図中X方向)に吐出部200を移動可能に構成されている。Y方向移動機構102は、図中手前および奥側方向(図中Y方向)に吐出部200を移動可能に構成されている。Z方向移動機構103は、図中上下方向(図中Z方向)に吐出部200を移動可能に構成されている。
吐出部200は、X方向移動機構101に搭載されたヘッドベース201に着脱可能に固定されている。また、テーブル120はY方向移動機構102に搭載されている。また、Z方向移動機構103はX方向移動機構101に移動可能に支持されている。
X方向移動機構101およびY方向移動機構102によってテーブル120上に載置されたワーク400と吐出部200とが相対的に移動される。これによりワーク400の所望位置に所望量の液剤を塗布することができる。また、Z方向移動機構103によって吐出部200がワーク400の表面に向かって移動される。これにより、吐出部200が吐出動作する際の吐出部200とワーク400の表面との距離(クリアランス)を所望量に調整することができる。
続いて、図2を参照して、吐出部200の構成についてさらに詳しく説明する。吐出部200は、ディスペンサノズル10と、シリンジ202と、シリンジホルダ203と、エアチューブ204と、ディスペンサ205と、カメラ206と、カメラホルダ207、画像認識部208と、カメラ照明209とを主に有している。
ディスペンサノズル10はシリンジ202の下方端部に取り付けられている。シリンジ202は内部に液剤2を貯留可能に構成されている。シリンジ202はシリンジホルダ203によってヘッドベース201に固定されている。Z方向移動機構103によってシリンジ202は図中Z方向に移動することができる。
シリンジ202の上方端部には、エアチューブ204が取り付けられている。エアチューブ204はディスペンサ205に接続されている。ディスペンサ205はエアチューブ204を介して加圧エアをシリンジ202に供給可能に構成されている。ディスペンサ205としてはたとえばジェット方式のものを用いることができる。
ヘッドベース201には、筒状のカメラ206がカメラホルダ207によって取り付けられている。カメラ206は画像認識部208に接続されている。画像認識部208はカメラ206で撮像した画像データが転送されるように構成されている。カメラ206には、その先端部を取り囲むように、カメラ照明209が設けられている。なお、カメラ照明209は、LED(Light Emitting Diode)等の公知の照射手段によって構成することができる。
次に、図3を参照して、クリーニング機構1およびクリーニング部300の構成について説明する。
クリーニング機構1は、ディスペンサノズル10と、ワイピング材20と、ノズルキャップ30とを主に有している。また、クリーニング部300は、ワイピング材20と、芯材21と、ノズルキャップ30とを有している。
ディスペンサノズル10は、基端部11および基端部11から突出する先端部12を有している。ディスペンサノズル10は先端部12に設けられた吐出口12aから液剤2を吐出するためのものである。吐出口12aはシリンジ202(図2参照)と貫通孔12bを通じて連通している。ディスペンサノズル10はシリンジ202から液剤2が貫通孔12bを通って吐出口12aから吐出するように構成されている。
液剤2としては、たとえば一液性熱硬化型のエポキシ系アンダーフィル材で、室温で粘度が1Pa・s以上10Pa・s以下、フィラーとして0.3μm以上10μm以下のシリカ粉末が50質量%以上60質量%以下含有されているものを用いることができる。
ディスペンサノズル10としては、たとえば外径0.2mm以上1.0mm以下、内径0.05mm以上0.5mm以下、ノズル長さ0.5mm以上3.0mm以下のタイプを用いることができる。
ワイピング材20は、吐出口12aから吐出されて先端部12および基端部11に付着した液剤2をディスペンサノズル10に押し当てられることで除去可能なものである。ワイピング材20は芯材21にロール状に巻かれている。ワイピング材20は、ワイピング材20を挟んでディスペンサノズル10側およびディスペンサノズル10の反対側の両側からワイピング材20に圧力が加えられた状態で、先端部12および基端部11に接触するように構成されている。ワイピング材20はディスペンサノズル10が貫通しないように構成されている。なお、ワイピング材20として、たとえば厚みが0.1mm以上3.0mm以下の布帛を用いることができるが、ワイピング材20の厚みおよび材質はこれに限定されない。
ノズルキャップ30はディスペンサノズル10とワイピング材20を挟んで嵌合可能に構成されている。ノズルキャップ30は、ワイピング材20を挟んでディスペンサノズル10を受け入れ可能な受け入れ部31を有している。受け入れ部31は、受け入れ口32と、側壁33と、底面34と、凹部35とによって構成されている。受け入れ口32はノズルキャップ30の上面に形成されている。側壁33は受け入れ口32に沿ってノズルキャップ30の下面側に向かって延びるように形成されている。底面34は側壁33の下端に形成されている。凹部35は底面34からさらにノズルキャップ30の下面側に向かって延びるように形成されている。凹部35はディスペンサノズル10の先端部12を挿入可能に形成されている。
ノズルキャップ30は、ワイピング材20を挟み込む厚みの分を含めてディスペンサノズル10の形状の凹凸に合致する形状を有している。ノズルキャップ30は、ディスペンサノズル10の傾きに追従できるように、たとえばJISK6253規格に準拠してデュロメータ(ゴム硬度計)による測定で硬度40以上80以下のシリコーンゴムで形成されている。なお、ノズルキャップ30の材質はこれに限定されず、たとえばニトリル系およびウレタン系のゴムを用いてもよい。
本実施の形態では、ワイピング材20は、ディスペンサノズル10およびノズルキャップ30によって両側から当接された状態で、先端部12および基端部11に接触するように構成されている。
次に、図4を参照して、本実施の形態のクリーニング機構1の動作について説明する。
ディスペンサノズル10の清掃時には、ディスペンサノズル10が下降して、ワイピング材20をディスペンサノズル10とノズルキャップ30とで挟み込む状態となる。この際、ワイピング材20は、ディスペンサノズル10によって、受け入れ口32、側壁33、底面34および凹部35に沿って受け入れ部31に押し込まれる。そして、ワイピング材20にディスペンサノズル10側およびノズルキャップ30側の両側から圧力が加えられる。この結果、ワイピング材20はディスペンサノズル10の形状に倣って変形する。
これにより、基端部11および先端部12にワイピング材20が接触する。このため、基端部11および先端部12に付着した液剤2がワイピング材20に押し当てられることでワイピング材20に転写および吸収される。そして、ディスペンサノズル10とノズルキャップ30とでワイピング材20を一定時間挟み込んだ後、ディスペンサノズル10は上昇して塗布位置に復帰する。このようにして、液剤2が基端部11および先端部12から除去される。
なお、液剤2を転写および吸収したワイピング材20は所定量巻き取られて図示しない回収箱へ送られる。これにより、ワイピング材20に転写および吸収された液剤2が次回清掃時にディスペンサノズル10に再付着することが防止できる。
次に、本実施の形態の作用効果について比較例と対比して説明する。
図5を参照して、比較例のクリーニング機構1は、本実施の形態のクリーニング機構1と対比してノズルキャップ30を備えていない点で主に異なっている。比較例のクリーニング機構1では、ワイピング材20がディスペンサノズル10の形状に倣って変形しないため、基端部11に付着した液剤2をワイピング材20で除去することは困難である。
上記の構成を有する本実施の形態のクリーニング機構1および比較例のクリーニング機構1において、1ショットあたりの液剤吐出重量が0.01mg以上0.05mg以下になるように吐出パラメータを調整して、連続10000ショットを吐出した。その後、ワイピング材20をディスペンサノズル10に10秒間密着させて液剤2を吸収させて、清掃後のディスペンサノズル10の外観および連続吐出性を確認した。10倍の拡大鏡でディスペンサノズル10の外観を観察したところ、比較例のクリーニング機構1ではディスペンサノズル10の根元に液剤2の残りが見られたのに対して、本実施の形態のクリーニング機構1ではディスペンサノズル10の根元に液剤2の残りは見られなかった。
また、連続吐出性に関しては、比較例のクリーニング機構1では、清掃後1000以上10000以下のショットで、ディスペンサノズル10の先端から根元にわたる液剤2の付着が再発したのに対し、本実施の形態のクリーニング機構1では、10000ショット後においてもディスペンサノズル10の根元まで到達する液剤2の付着は見られなかった。
本実施の形態のクリーニング機構1によれば、ワイピング材20は、基端部11に付着した液剤2をディスペンサノズル10に押し当てられることで除去可能なものであるため、乾式による清掃で基端部11に付着した液剤2を除去することができる。また、ワイピング材20で液剤2を除去するため、ディスペンサノズル10に除去された液剤2が再付着することを防止できる。さらに、ワイピング材20は、ワイピング材20を挟んでディスペンサノズル10側およびディスペンサノズル10の反対側の両側からワイピング材20に圧力が加えられた状態で、先端部12および基端部11に接触するように構成されている。このため、ワイピング材20を先端部12および基端部11に接触させることができる。これにより、基端部11に付着した液剤2を除去することができる。よって、ディスペンサノズル10の根元に付着した液剤2を除去することができる。
また、本実施の形態のクリーニング機構1によれば、ワイピング材20は、ディスペンサノズル10およびノズルキャップ30によって両側から当接された状態で、先端部12および基端部11に接触するように構成されている。このため、ディスペンサノズル10およびノズルキャップ30によって両側から当接された状態でワイピング材20を先端部12および基端部11に接触させることができる。
(実施の形態2)
図6を参照して、本発明の実施の形態2のクリーニング機構1では、本発明の実施の形態1のクリーニング機構1と対比して、ノズルキャップ30の構成とエジェクタ40を備えている点とで主に異なっている。なお、本発明の実施の形態1と同一の機能を果たす要素には同一の参照符号を付し、その説明は、特に必要がなければ繰り返さない。
本実施の形態のクリーニング機構1のノズルキャップ30は、受け入れ部31と、開口部30aと、連通孔30bとを主に有している。受け入れ部31はワイピング材20を挟んでディスペンサノズル10を受け入れ可能に構成されている。開口部30aは受け入れ部31に連通するように形成されている。受け入れ部31は、受け入れ口32と、側壁33と、底面34とによって構成されている。連通孔30bは、底面34に設けられた開口部30aと連通するように形成されている。
エジェクタ40はノズルキャップ30に接続されている。具体的にはエジェクタ40は連通孔30bに接続されている。エジェクタ40は、受け入れ部31に対して開口部30aから空気を導入して受け入れ部31の圧力を上げることが可能に構成されている。また、エジェクタ40は開口部30aから受け入れ部31の空気を排出可能に構成されている。
ワイピング材20は、ディスペンサノズル10によって当接され、かつエジェクタ40によって受け入れ部31に対して開口部30aから導入された空気による圧力が加えられた状態で、先端部12および基端部11に接触するように構成されている。
次に、図7および図8を参照して、本実施の形態のクリーニング機構1の動作について説明する。
図7に示すように、ディスペンサノズル10の清掃時には、ディスペンサノズル10が下降して、ワイピング材20を挟んでディスペンサノズル10が受け入れ部31に受け入れられる。この際、ワイピング材20は、ディスペンサノズル10によって受け入れ部31に押し込まれる。
この状態でエジェクタ40から空気が開口部30aを通って受け入れ部31に導入されることにより受け入れ部31の圧力が上げられる。この結果、ワイピング材20がディスペンサノズル10に密着する。したがって、ワイピング材20はディスペンサノズル10の形状に倣って変形する。これにより、基端部11および先端部12にワイピング材20が接触する。このため、基端部11および先端部12に付着した液剤2がワイピング材20に押し当てられることでワイピング材20に転写および吸収される。
そして、図8に示すように、ディスペンサノズル10にワイピング材20を一定時間密着させた後、エジェクタ40によって開口部30aから受け入れ部31の空気が排出される。これにより、ワイピング材20がディスペンサノズル10から離脱される。このようにして、液剤2が基端部11および先端部12から除去される。
本実施の形態のクリーニング機構1によれば、ワイピング材20は、ディスペンサノズル10によって当接され、かつエジェクタ40によって受け入れ部31に対して開口部30aから導入された空気による圧力が加えられた状態で、先端部12および基端部11に接触するように構成されている。このため、ワイピング材20を先端部12および基端部11に接触させることができる。これにより、基端部11に付着した液剤2を除去することができる。よって、ディスペンサノズル10の根元に付着した液剤2を除去することができる。
また、本実施の形態のクリーニング機構1では、ディスペンサノズル10とノズルキャップ30との高精度な位置合わせの必要が無い。また、清掃時におけるディスペンサノズル10とノズルキャップ30との接触によるディスペンサノズル10の損傷を抑制できる。また、ノズルキャップ30の形状は、ディスペンサノズル10の形状に依存しないため、多種のノズル構造に対応することができる。
(実施の形態3)
図9を参照して、本発明の実施の形態3のクリーニング機構1では、本発明の実施の形態2のクリーニング機構1と対比して、ノズルキャップ30の構成が主に異なっている。なお、本発明の実施の形態2と同一の機能を果たす要素には同一の参照符号を付し、その説明は、特に必要がなければ繰り返さない。
本実施の形態のクリーニング機構1のノズルキャップ30は、複数の開口部30aと、複数の連通孔30bとを有している。複数の開口部30aは複数の連通孔30bにそれぞれ連通するように形成されている。複数の開口部30aは側壁33に形成されている。開口部30aは、ディスペンサノズル10の吐出口12aと向かい合う位置からずれて配置されている。
エジェクタ40は複数の連通孔30bのそれぞれに接続されている。エジェクタ40は受け入れ部31に対して開口部30aから空気を導入して受け入れ部31の圧力を上げることが可能に構成されている。また、エジェクタ40は開口部30aから受け入れ部31の空気を排出可能に構成されている。
次に、図10および図11を参照して、本実施の形態のクリーニング機構1の動作について説明する。
図10に示すように、ディスペンサノズル10の清掃時には、ディスペンサノズル10が下降して、ワイピング材20を挟んでディスペンサノズル10が受け入れ部31に受け入れられる。この際、ワイピング材20は、ディスペンサノズル10によって受け入れ部31に押し込まれる。
この状態でエジェクタ40から空気が複数の開口部30aを通って受け入れ部31に導入されることにより受け入れ部31の圧力が上げられる。この結果、ワイピング材20がディスペンサノズル10に密着する。この際、ディスペンサノズル10の先端部12をノズルキャップ30の底面34に接触させた状態でワイピング材20がディスペンサノズル10に押し当てられてもよい。ワイピング材20はディスペンサノズル10の形状に倣って変形するため、基端部11および先端部12にワイピング材20が接触する。このため、基端部11および先端部12に付着した液剤2がワイピング材20に押し当てられることでワイピング材20に転写および吸収される。
そして、図11に示すように、ディスペンサノズル10にワイピング材20を一定時間密着させた後、エジェクタ40によって複数の開口部30aから受け入れ部31の空気が排出される。これにより、ワイピング材20がディスペンサノズル10から離脱される。このようにして、液剤2が基端部11および先端部12から除去される。
本実施の形態のクリーニング機構1によれば、開口部30aは、ディスペンサノズル10の吐出口12aと向かい合う位置からずれて配置されている。このため、ワイピング材20の吸引動作時にディスペンサノズル10の内部に充填されている液剤2の吸引を防ぐことができる。
なお、吐出口12aに対して開口部30aが鉛直方向に設けられた場合には、ワイピング材20の吸引動作時にディスペンサノズル10の内部に充填されている液剤2ごと吸引してしまうおそれがある。また、負圧から開放された際にディスペンサノズル10の内部に気泡を取り込むおそれがある。
(実施の形態4)
図12を参照して、本発明の実施の形態4のクリーニング機構1では、本発明の実施の形態1のクリーニング機構1と対比して、ヒータ50を備えた点で主に異なっている。なお、本発明の実施の形態1と同一の機能を果たす要素には同一の参照符号を付し、その説明は、特に必要がなければ繰り返さない。
図12に示すように、本実施の形態のクリーニング機構1では、ノズルキャップ30にヒータ50が取り付けられている。ヒータ50は、加温機能を有しており、ノズルキャップ30およびワイピング材20を介して、ディスペンサノズル10に付着した液剤2の温度を上げることができるように構成されている。
図13に示すように、ディスペンサノズル10が下降して、ワイピング材20をディスペンサノズル10とノズルキャップ30とで挟み込む状態となった際に、ヒータ50の熱が液剤2に伝わることで液剤2の粘度を低下することができる。
本実施の形態のクリーニング機構1によれば、ノズルキャップ30にヒータ50が取り付けられているため、ヒータ50の熱によって液剤2の温度を上昇させて液剤2の粘度を低下させることができる。このため、液剤2の粘度が温度特性を有する場合、液剤2の粘度を低下させることで、ワイピング材20への吸収力を高めることができる。これにより、クリーニング性を向上することができる。また、清掃時間を短縮することができる。
ディスペンサノズル10の周辺を50℃以上100℃以下に加温することで、液剤2の粘度を室温と比べて1/10以上1/100以下に低減することができた。これによりワイピング材20が液剤2を吸収するのに必要な時間を10%以上90%以下に短縮することができた。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることを意図される。
1 クリーニング機構、2 液剤、10 ディスペンサノズル、11 基端部、12 先端部、12a 吐出口、12b 貫通孔、20 ワイピング材、21 芯材、30 ノズルキャップ、30a 開口部、30b 連通孔、31 受け入れ部、32 受け入れ口、33 側壁、34 底面、35 凹部、40 エジェクタ、50 ヒータ、100 塗布装置、110 移動機構、120 テーブル、200 吐出部、201 ヘッドベース、202 シリンジ、203 シリンジホルダ、204 エアチューブ、205 ディスペンサ、206 カメラ、207 カメラホルダ、208 画像認識部、209 カメラ照明、300 クリーニング部、400 ワーク。

Claims (6)

  1. 基端部および前記基端部から突出する先端部を有し、かつ前記先端部に設けられた吐出口から液剤を吐出するためのディスペンサノズルと、
    前記吐出口から吐出されて前記先端部および前記基端部に付着した前記液剤を前記ディスペンサノズルに押し当てられることで除去可能なワイピング材とを備え、
    前記ワイピング材は、前記ワイピング材を挟んで前記ディスペンサノズル側および前記ディスペンサノズルの反対側の両側から前記ワイピング材に圧力が加えられた状態で、前記先端部および前記基端部に接触するように構成されている、クリーニング機構。
  2. 前記ディスペンサノズルと前記ワイピング材を挟んで嵌合可能なノズルキャップをさらに備え、
    前記ワイピング材は、前記ディスペンサノズルおよび前記ノズルキャップによって両側から当接された状態で、前記先端部および前記基端部に接触するように構成されている、請求項1に記載のクリーニング機構。
  3. 前記ワイピング材を挟んで前記ディスペンサノズルを受け入れ可能な受け入れ部と前記受け入れ部に連通する開口部とを有するノズルキャップと、
    前記ノズルキャップに接続され、前記受け入れ部に対して前記開口部から空気を導入して前記受け入れ部の圧力を上げることが可能なエジェクタとをさらに備え、
    前記ワイピング材は、前記ディスペンサノズルによって当接され、かつ前記エジェクタによって前記受け入れ部に対して前記開口部から導入された空気による圧力が加えられた状態で、前記先端部および前記基端部に接触するように構成されている、請求項1に記載のクリーニング機構。
  4. 前記エジェクタは前記開口部から前記受け入れ部の空気を排出可能に構成されており、
    前記開口部は、前記ディスペンサノズルの前記吐出口と向かい合う位置からずれて配置されている、請求項3に記載のクリーニング機構。
  5. 前記ノズルキャップに取り付けられたヒータをさらに備えた、請求項2〜4のいずれか1項に記載のクリーニング機構。
  6. 請求項1〜5のいずれか1項に記載のクリーニング機構と、
    前記クリーニング機構の前記ディスペンサノズルを移動可能な移動機構とを備えた、塗布装置。
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