JP2014096149A - タッチパネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】従来の金属材質によるモアレ（ｍｏｉｒｅ）現象を防止し、視認性を改善することができるタッチパネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のタッチパネル１００は、透明基板１１０と、透明基板１１０の上部面に多数の開口部１４０を備えたブラックマトリックスパターン１３１と、ブラックマトリックスパターン１３１上に備えられた第１電極パターン１２１´と、透明基板１１０の下部面に備えられた第２電極パターン１２２´と、を含むものである。
【選択図】図２

Description

本発明は、タッチパネル及びその製造方法に関する。

デジタル技術を用いるコンピュータが発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコン、携帯用送信装置、その他の個人用の情報処理装置などは、キーボード、マウスなどの様々な入力装置（Ｉｎｐｕｔ Ｄｅｖｉｃｅ）を用いてテキスト及びグラフィック処理を行う。

しかし、情報化社会の急速な進行により、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在、入力装置の役割を担当しているキーボード及びマウスだけでは、効率的な製品の駆動が困難であるという問題点がある。従って、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報を入力することができる機器の必要性が高まっている。

また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を越えて、高信頼性、耐久性、革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置としてタッチパネル（Ｔｏｕｃｈ Ｐａｎｅｌ）が開発された。

このようなタッチパネルは、電子手帳、液晶表示装置（ＬＣＤ；Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）、Ｅｌ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）などの平板ディスプレイ装置及びＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）などの画像表示装置の表示面に設けられ、ユーザが画像表示装置を見ながら所望の情報を選択するために用いられる機器である。

一方、タッチパネルの種類は、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ Ｔｙｐｅ）、電磁方式（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｔｙｐｅ）、表面弾性波方式（ＳＡＷ Ｔｙｐｅ；Ｓｕｒｆａｃｅ Ａｃｏｕｓｔｉｃ Ｗａｖｅ Ｔｙｐｅ）及び赤外線方式（Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｔｙｐｅ）に区分される。このような多様な方式のタッチパネルは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度、光学的特性、電気的特性、機械的特性、耐環境特性、入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に採用されるが、現在、最も幅広い分野で用いられている方式は、抵抗膜方式タッチパネル及び静電容量方式タッチパネルである。

このようなタッチパネルは、通常、電極パターンをＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ；インジウム−スズ酸化物）で形成する。しかし、ＩＴＯは、電気伝導度が低いだけでなく、原料であるインジウム（Ｉｎｄｉｕｍ）が希土類金属で高価であり、今後、１０年内に枯渇が予想され、需給がスムーズでないという欠点がある。さらに、ＩＴＯで形成した電極パターンは脆性破壊が発生しやすくて、耐久性に劣るという問題点が存在する。

このような理由により、特許文献１に開示されたように、金属を用いて電極パターンを形成しようとする研究が活発に進められている。

このように、金属で電極パターンを形成すると、電気伝導度に優れ、需給がスムーズになるという利点があるが、金属で電極パターンを形成する場合、ユーザに認識されることを防止するためにメッシュ（Ｍｅｓｈ）構造に形成しなければならない。

しかし、タッチパネルの電極パターンを規則的で一定な間隔のメッシュ構造に形成すると、タッチパネルの電極パターン間の周期特性が重なることにより、モアレ（ｍｏｉｒｅ）現象が発生し、視認性が低下する問題点が存在する。

米国特許出願公開第２０１１／０２９１９６６号明細書

本発明の目的は、前記の問題点を解消するために銀塩とブラックマトリックスからなる電極パターンを備えたタッチパネルを提供することにある。

本発明の他の目的は、前記の問題点を解消するために銀塩とブラックマトリックスからなる電極パターンを備えたタッチパネルの製造方法を提供することにある。

本発明の一実施例によるタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板の上部面に多数の開口部を備えたブラックマトリックスパターンと、前記ブラックマトリックスパターン上に備えられた第１電極パターンと、前記透明基板の下部面に備えられた第２電極パターンと、を含む。

本発明の一実施例によるタッチパネルは、前記開口部に多数のカラーフィルターをさらに含むことを特徴とする。

本発明の一実施例によるタッチパネルにおいて、前記ブラックマトリックスパターンは、カーボン系物質（Ｇｒａｐｈｅｎｅ Ｏｘｉｄｅ、ＤＬＣ：Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｎｅ Ｃａｒｂｏｎ）、クロム系酸化物（ＣｒＯ、ＣｒＯ_２）、銅系酸化物（ＣｕＯ）、マンガン系酸化物（ＭｎＯ_２）、コバルト系酸化物（ＣｏＯ）、硫化物（ＣｏＳ_２、Ｃｏ_３Ｓ_４）、ニッケル系酸化物（Ｎｉ_２Ｏ_３）、ＨｇＴｅ、ＹＢａ_２Ｃｕ_３Ｏ_７、ＭｏＳ_２、ＲｕＯ_２、ＰｄＯ、ＩｎＰ、ＳｎＯ、ＴａＮ及びＴａＳ_２のうち何れか一つ又はこれらの組み合わせを用いて黒色に形成されることを特徴とする。

本発明の一実施例によるタッチパネルにおいて、前記第１電極パターン及び第２電極パターンは、銀塩乳剤層を露光及び現像して形成された銀を含有するパターンに形成されることを特徴とする。

本発明の一実施例によるタッチパネルは、前記第１電極パターンとブラックマトリックスパターンとの間に備えられた他の透明基板と、前記他の透明基板の下部面に形成され、前記カラーフィルターに電気的に連結される透明電極パターンと、をさらに含むことを特徴とする。

本発明の一実施例によるタッチパネルにおいて、前記透明電極パターンは、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を含有する金属酸化物からなることを特徴とする。

また、本発明の他の実施例によるタッチパネルの製造方法は、（Ａ）透明基板の上部面方向にブラックマトリックス層と第１電極層を順に形成する段階と、（Ｂ）前記透明基板の下部面に第２電極層を形成する段階と、（Ｃ）前記第１電極層の上部面にドライフィルムパターンを形成し、前記ドライフィルムパターンを用いたパターニング工程により一方向に配列された多数の第１電極パターン及び多数の開口部を有するブラックマトリックスパターンを形成する段階と、（Ｄ）前記開口部にカラーフィルターを充填する段階と、（Ｅ）前記第２電極層に対してドライフィルムパターンを用いたパターニング工程を施して前記第１電極パターンの配列方向と直交し、前記開口部に重なる他の開口部を露出する多数の第２電極パターンを形成する段階と、を含む。

本発明の他の実施例によるタッチパネルの製造方法は、前記（Ａ）段階において、前記ブラックマトリックス層は、カーボン系物質（Ｇｒａｐｈｅｎｅ Ｏｘｉｄｅ、ＤＬＣ：Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｎｅ Ｃａｒｂｏｎ）、クロム系酸化物（ＣｒＯ、ＣｒＯ_２）、銅系酸化物（ＣｕＯ）、マンガン系酸化物（ＭｎＯ_２）、コバルト系酸化物（ＣｏＯ）、硫化物（ＣｏＳ_２、Ｃｏ_３Ｓ_４）、ニッケル系酸化物（Ｎｉ_２Ｏ_３）、ＨｇＴｅ、ＹＢａ_２Ｃｕ_３Ｏ_７、ＭｏＳ_２、ＲｕＯ_２、ＰｄＯ、ＩｎＰ、ＳｎＯ、ＴａＮ及びＴａＳ_２のうち何れか一つ又はこれらの組み合わせを用いて黒色に形成されることを特徴とする。

本発明の他の実施例によるタッチパネルの製造方法において、前記第１電極層及び第２電極層は、溶媒に銀塩とバインダーを含有するスラリー状を用いて銀塩乳剤層からなる特徴とする。

また、本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルの製造方法は、（Ｉ）上部透明基板の上部面と下部面にそれぞれ第１電極パターンと透明電極パターンを含む上部構造体を形成する段階と、（ＩＩ）下部透明基板の上部面と下部面にそれぞれブラックマトリックスパターンと第２電極パターンを含む下部構造体を形成する段階と、（ＩＩＩ）前記上部透明基板の透明電極パターンと、前記下部透明基板のブラックマトリックスパターンとが互いに対応するように前記上部構造体と前記下部構造体を接合する段階と、を含む。

本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルの製造方法において、前記（Ｉ）段階は、（Ｉ−１）前記上部透明基板の上部面に銀塩材質からなる第１電極層を形成する段階と、（Ｉ−２）前記上部透明基板の下部面に透明伝導性材質からなる透明電極パターンを形成する段階と、（Ｉ−３）前記第１電極層に対してドライフィルムパターンを用いたパターニング工程を施し、前記第１電極層を一方向に配列された多数の第１電極パターンに形成する段階と、を含むことを特徴とする。

本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルの製造方法において、前記（ＩＩ）段階は、（ＩＩ−１）前記下部透明基板の上部面にブラックマトリックス層を形成する段階と、（ＩＩ−２）前記下部透明基板の下部面に銀塩材質からなる第２電極層を形成する段階と、（ＩＩ−３）前記ブラックマトリックス層に対してドライフィルムパターンを用いたパターニング工程を施し、開口部が多数形成されたブラックマトリックスパターンを形成する段階と、（ＩＩ−４）前記開口部にカラーフィルターを備える段階と、（ＩＩ−５）前記第２電極層に対してドライフィルムパターンを用いたパターニング工程を施し、前記第１電極パターンの配列方向と直交し、前記開口部に重なる他の開口部を露出する多数のライン状に第２電極パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする。

本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルの製造方法において、前記（ＩＩＩ）段階は、前記ブラックマトリックスパターンの開口部に前記第１電極パターンの開口部が重なるように前記上部構造体と前記下部構造体を接合することを特徴とする。

本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルの製造方法において、前記ブラックマトリックス層は、カーボン系物質（Ｇｒａｐｈｅｎｅ Ｏｘｉｄｅ、ＤＬＣ：Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｎｅ Ｃａｒｂｏｎ）、クロム系酸化物（ＣｒＯ、ＣｒＯ_２）、銅系酸化物（ＣｕＯ）、マンガン系酸化物（ＭｎＯ_２）、コバルト系酸化物（ＣｏＯ）、硫化物（ＣｏＳ_２、Ｃｏ_３Ｓ_４）、ニッケル系酸化物（Ｎｉ_２Ｏ_３）、ＨｇＴｅ、ＹＢａ_２Ｃｕ_３Ｏ_７、ＭｏＳ_２、ＲｕＯ_２、ＰｄＯ、ＩｎＰ、ＳｎＯ、ＴａＮ及びＴａＳ_２のうち何れか一つ又はこれらの組み合わせを用いて黒色に形成されることを特徴とする。

本発明のさらに他の実施例によるタッチパネルの製造方法において、前記透明電極パターンは、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を含有する金属酸化物からなることを特徴とする。

本発明の実施例によるタッチパネルは、多数の開口部を備えたブラックマトリックスパターンを介して銀塩からなる第１電極パターンを備え、従来の金属材質によるモアレ（ｍｏｉｒｅ）現象を防止し、視認性を改善することができる効果がある。

本発明の実施例によるタッチパネルの製造方法は、透明基板と第１電極パターンの間にブラックマトリックスパターンを介在し、第１電極パターンと第２電極パターンを銀塩で形成し、従来の金属材質によるモアレ（ｍｏｉｒｅ）現象を防止し、視認性を改善したタッチパネルを提供することができる効果がある。

本発明の一実施例によるタッチパネルの上面図である。 本発明の一実施例によるタッチパネルの背面図である。 図１ＡのＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。 本発明の他の実施例によるタッチパネルの断面図である。 本発明の一実施例によるタッチパネルの製造方法を説明するための工程断面図である。 本発明の一実施例によるタッチパネルの製造方法を説明するための工程断面図である。 本発明の一実施例によるタッチパネルの製造方法を説明するための工程断面図である。 本発明の他の実施例によるタッチパネルの製造方法を説明するための工程断面図である。 本発明の他の実施例によるタッチパネルの製造方法を説明するための工程断面図である。 本発明の他の実施例によるタッチパネルの製造方法を説明するための工程断面図である。 本発明の他の実施例によるタッチパネルの製造方法を説明するための工程断面図である。

本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。

以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。

図１Ａは、本発明の一実施例によるタッチパネルの上面図であり、図１Ｂは、本発明の一実施例によるタッチパネルの背面図であり、図２は、図１ＡのＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。

本発明の一実施例によるタッチパネル１００は、透明基板１１０、透明基板１１０の上部面に多数の開口部１４０を備えたブラックマトリックスパターン１３１、ブラックマトリックスパターン１３１上に備えられた第１電極パターン１２１´、及び透明基板１１０の下部面に備えられた第２電極パターン１２２´を含む。

透明基板１１０は、アクティブ領域とベゼル領域とに区画されるが、アクティブ領域は、入力手段のタッチを認識するためのブラックマトリックスパターン１３１、第１電極パターン１２１´及び第２電極パターン１２２´が形成される部分であり、透明基板１１０の中心に備えられ、ベゼル領域は、第１電極パターン１２１´に連結される第１電極配線１６０と第２電極パターン１２２´に連結される第２電極配線（不図示）が形成される部分であり、アクティブ領域の縁部に備えられる。

この際、透明基板１１０は、ブラックマトリックスパターン１３１、第１電極パターン１２１´及び第２電極パターン１２２´を支持するための支持力と、画像表示装置で提供する画像をユーザが認識するための透明性を備えなければならない。

このような支持力と透明性を考慮すると、透明基板１１０の材質は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ ｏｒｉｅｎｔｅｄ ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。

ブラックマトリックスパターン１３１は、透明基板１１０の上部面に多数の開口部１４０を形成し、それぞれの開口部１４０には赤色Ｒのカラーフィルター１４１、緑色Ｇのカラーフィルター１４２、青色Ｂのカラーフィルター１４３が備えられる。

ブラックマトリックスパターン１３１は、カーボン系物質（Ｇｒａｐｈｅｎｅ Ｏｘｉｄｅ、ＤＬＣ：Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｎｅ Ｃａｒｂｏｎ）、クロム系酸化物（ＣｒＯ、ＣｒＯ_２）、銅系酸化物（ＣｕＯ）、マンガン系酸化物（ＭｎＯ_２）、コバルト系酸化物（ＣｏＯ）、硫化物（ＣｏＳ_２、Ｃｏ_３Ｓ_４）、ニッケル系酸化物（Ｎｉ_２Ｏ_３）、ＨｇＴｅ、ＹＢａ_２Ｃｕ_３Ｏ_７、ＭｏＳ_２、ＲｕＯ_２、ＰｄＯ、ＩｎＰ、ＳｎＯ、ＴａＮ及びＴａＳ_２などを用いて黒色に形成することができる。

このようなブラックマトリックスパターン１３１は、カラーフィルター１４１、１４２、１４３が備えられる多数の開口部１４０を形成し、カラーフィルター１４１、１４２、１４３が備えられる隣接した開口部１４０間の光干渉を防止し、外部光を遮断する機能を果す。

このようなブラックマトリックスパターン１３１は、その内部に、カラーフィルター１４１、１４２、１４３に電気的に連結される伝導パターン（不図示）を備えることができる。

第１電極パターン１２１´は、図１Ａに図示されたように、ブラックマトリックスパターン１３１上で一方向に配列され、開口部１４０を露出する多数のライン状を有し、例えば、銀塩乳剤層を露光及び現像して形成されることができる。

ここで、銀塩乳剤層は、溶媒に銀塩とバインダーを含有するスラリー状を用いて、染料などの添加剤をさらに含むことができる。

具体的に、銀塩としては、ハロゲン化銀（Ｓｉｌｖｅｒ ｈａｌｉｄｅ）などの無機銀塩又は酢酸銀のような有機銀塩を用いており、バインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉などの多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリシン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロースなどを用いることができる。

溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類、ホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、酢酸エチルなどのエステル類、エーテル類など）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を用いることができる。その他の添加剤は特に制限されず、公知のものを好ましく用いることができる。

このような第１電極パターン１２１´の面抵抗は、例えば０．１〜１０Ω／□であることができる。ここで、第１電極パターン１２１´の面抵抗を０．１〜１０Ω／□に形成する理由は、第１電極パターン１２１´の面抵抗が０．１Ω／□以下であれば銀塩の量が多くなり過ぎて透明性が低下する恐れがあるためであり、第１電極パターン１２１´の面抵抗を１０Ω／□以上に具現すると、電気伝導度が低くなり、電極に対する活用度が低下するためである。

第２電極パターン１２２´は、図１Ｂと図２に図示されたように、透明基板１１０の下部面に、第１電極パターン１２１´の配列方向と直交する方向に開口部１４０に重なる他の開口部（不図示）を露出する多数のライン状に形成される。

このような第２電極パターン１２２´は、第１電極パターン１２１´と同様に、銀塩乳剤層を露光及び現像して形成され、０．１〜１０Ω／□の面抵抗を有するように形成されることができる。

また、第１電極パターン１２１´及び第２電極パターン１２２´それぞれは、電気的信号を伝達するための第１電極配線１６０及び第２電極配線（不図示）をベゼル領域に延長して備えることができる。

このような本発明の一実施例によるタッチパネル１００は、多数の開口部１４０を備えたブラックマトリックスパターン１３１を介して銀塩からなる第１電極パターン１２１´を備え、従来の金属材質によるモアレ（ｍｏｉｒｅ）現象を防止し、視認性を改善することができる。

以下、本発明の他の実施例によるタッチパネルについて、図３を参照して説明する。

図３は、本発明の他の実施例によるタッチパネルの断面図である。

本発明の他の実施例によるタッチパネル２００は、本発明の一実施例によるタッチパネル１００と異なり、二つの透明基板２１１、２１２を備え、その間にカラーフィルター２４１、２４２、２４３とブラックマトリックスパターン２３１を介在した構造に具現される。これにより、本発明の他の実施例によるタッチパネル２００について本発明の一実施例によるタッチパネル１００と重複される部分に対する説明は省略する。

本発明の他の実施例によるタッチパネル２００は、図３に図示されたように、上部透明基板２１１、上部透明基板２１１の上部面に多数の開口部２４０を備えた第１電極パターン２２１´、上部透明基板２１１と下部透明基板２１２との間に開口部２４０に重なって備えられたカラーフィルター２４１、２４２、２４３とカラーフィルター２４１、２４２、２４３を囲むブラックマトリックスパターン２３１、下部透明基板２１２の下部面に備えられた第２電極パターン２２２´、及び上部透明基板２１１の下部面にカラーフィルター２４１、２４２、２４３に電気的に連結するための透明電極パターン２４５を含む。

上部透明基板２１１と下部透明基板２１２は、その間にカラーフィルター２４１、２４２、２４３それぞれを囲むブラックマトリックスパターン２３１を介在し、カラーフィルター２４１、２４２、２４３に電気的に連結される透明電極２４５を備えることができる。

ここで、透明電極２４５は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの金属酸化物からなることができる。

第１電極パターン２２１´は、図３に図示されたように、上部透明基板２１１上でカラーフィルター２４１、２４２、２４３に重なる開口部２４０を露出する多数のライン状に、一方向に形成され、例えば銀塩乳剤層を露光及び現像して形成されることができる。

第２電極パターン２２２´は、下部透明基板２１２の下部面に、第１電極パターン２２１´と同様に銀塩乳剤層を露光及び現像して、第１電極パターン２２１´の配列方向と直交する方向に開口部２４０に重なる他の開口部（不図示）を露出する多数のライン状に形成される。

ブラックマトリックスパターン２３１は、カーボン系物質（Ｇｒａｐｈｅｎｅ Ｏｘｉｄｅ、ＤＬＣ：Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｎｅ Ｃａｒｂｏｎ）、クロム系酸化物（ＣｒＯ、ＣｒＯ_２）、銅系酸化物（ＣｕＯ）、マンガン系酸化物（ＭｎＯ_２）、コバルト系酸化物（ＣｏＯ）、硫化物（ＣｏＳ_２、Ｃｏ_３Ｓ_４）、ニッケル系酸化物（Ｎｉ_２Ｏ_３）、ＨｇＴｅ、ＹＢａ_２Ｃｕ_３Ｏ_７、ＭｏＳ_２、ＲｕＯ_２、ＰｄＯ、ＩｎＰ、ＳｎＯ、ＴａＮ及びＴａＳ_２などを用いて黒色に形成することができる。

このような本発明の他の実施例によるタッチパネル２００は、銀塩材質からなり、第１電極パターン２２１´と第２電極パターン２２２´を備え、第１電極パターン２２１´と第２電極パターン２２２´との間にブラックマトリックスパターン２３１を備え、従来の金属材質によるモアレ現象を防止し、視認性を改善することができる。

以下、本発明の一実施例によるタッチパネル１００の製造方法について、図４Ａ〜図４Ｃを参照して説明する。

図４Ａ〜図４Ｃは、本発明の一実施例によるタッチパネル１００の製造方法を説明するための工程断面図である。

図４Ａに図示されたように、本発明の一実施例によるタッチパネル１００の製造方法は、先ず、透明基板１１０の上部面方向にブラックマトリックス層１３０と第１電極層１２１を順に形成し、透明基板１１０の下部面に第２電極層１２２を形成する。

具体的に、ブラックマトリックス層１３０は、ＣＶＤ又はＰＶＤなどの蒸着方法、又はコーティング方法により、例えば、カーボン系物質（Ｇｒａｐｈｅｎｅ Ｏｘｉｄｅ、ＤＬＣ：Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｎｅ Ｃａｒｂｏｎ）、クロム系酸化物（ＣｒＯ、ＣｒＯ_２）、銅系酸化物（ＣｕＯ）、マンガン系酸化物（ＭｎＯ_２）、コバルト系酸化物（ＣｏＯ）、硫化物（ＣｏＳ_２、Ｃｏ_３Ｓ_４）、ニッケル系酸化物（Ｎｉ_２Ｏ_３）、ＨｇＴｅ、ＹＢａ_２Ｃｕ_３Ｏ_７、ＭｏＳ_２、ＲｕＯ_２、ＰｄＯ、ＩｎＰ、ＳｎＯ、ＴａＮ及びＴａＳ_２などを用いて黒色に形成されることができる。

その後、第１電極層１２１と第２電極層１２２は、溶媒に銀塩とバインダーを含有するスラリーをコーティング方法を用いて銀塩乳剤層からなることができる。

具体的に、銀塩としては、ハロゲン化銀などの無機銀塩又は酢酸銀のような有機銀塩を用いて、バインダーは例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉などの多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリシン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロースなどを用いることができる。

溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類、ホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、酢酸エチルなどのエステル類、エーテル類など）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を用いることができる。その他の添加剤は特に制限されず、公知のものを好ましく用いることができる。

第１電極層１２１と第２電極層１２２を形成した後、図４Ｂに図示されたように、第１電極層１２１の上部面に第１電極層１２１をパターニングするためのドライフィルムパターン１６０を形成する。

このようなドライフィルムパターン１６０を用いた露光（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）工程及び現像（ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ）工程を施し、図４Ｃに図示されたように、開口部１４０が備えられた第１電極パターン１２１´とブラックマトリックスパターン１３１を形成する。

これにより、第１電極パターン１２１´とブラックマトリックスパターン１３１は、開口部１４０を備えた形態を有して同時に形成され、開口部１４０に対するパターンの不一致（ｍｉｓａｌｉｇｎ）を防止することができる。

その後、図４Ｃに図示されたように、開口部１４０に赤色Ｒのカラーフィルター１４１、緑色Ｇのカラーフィルター１４２、及び青色Ｂのカラーフィルター１４３を充填して形成する。

このような過程とは別に、第２電極層１２２に対してドライフィルムパターンを用いたパターニング工程を施して第１電極パターン１２１´の配列方向と直交して開口部１４０に重なる他の開口部（不図示）を露出する多数のライン状に第２電極パターン１２２´を形成する。

このような本発明の一実施例によるタッチパネル１００の製造方法は、透明基板１１０と第１電極パターン１２１´との間にブラックマトリックスパターン１３１を介在し、第１電極パターン１２１´と第２電極パターン１２２´を銀塩で形成し、従来の金属材質によるモアレ（ｍｏｉｒｅ）現象を防止し、視認性を改善したタッチパネルを提供することができる。

以下、本発明の他の実施例によるタッチパネル２００の製造方法について、図５Ａから図５Ｄを参照して説明する。

図５Ａから図５Ｄは、本発明の他の実施例によるタッチパネルの製造方法を説明するための工程断面図である。

図５Ａに図示されたように、本発明の他の実施例によるタッチパネル２００の製造方法は、先ず、上部透明基板２１１に関する構造体と下部透明基板２１２に関する構造体とに分けて行う。

即ち、上部透明基板２１１には上部面と下部面にそれぞれ銀塩材質からなる第１電極層２２１と透明伝導性材質からなる透明電極パターン２４５を形成し、下部透明基板２１２には上部面と下部面にそれぞれブラックマトリックス層２３０と第２電極層２２２を形成する。

その後、図５Ｂに図示されたように、下部透明基板２１２に関する構造体に対してブラックマトリックス層２３０に対してドライフィルムパターン２６０を用いたパターニング工程を施し、カラーフィルター２４１、２４２、２４３を備えるための開口部が形成されたブラックマトリックスパターン２３１を形成する。

この際、第２電極層２２２に対してドライフィルムパターンを用いたパターニング工程を施して第１電極パターン２２１´の配列方向と直交し、開口部２４０に重なる他の開口部（不図示）を露出する多数のライン状に第２電極パターン２２２´を形成することができる。

また、上部透明基板２１１に関する構造体でも同様に、第１電極層２２１に対してドライフィルムパターン（不図示）を用いたパターニング工程を施し、第１電極層２２１を第１電極パターン２２１´に形成する。

上部透明基板２１１に関する構造体と下部透明基板２１２に関する構造体を形成した後、図５Ｃに図示されたように、ブラックマトリックスパターン２３１の開口部にカラーフィルター２４１、２４２、２４３を充填する。

その後、カラーフィルター２４１、２４２、２４３に透明電極パターン２４５が対応して結合するように、図５Ｃに図示されたように、上部透明基板２１１に関する構造体と下部透明基板２１２に関する構造体を互いに接合する。ここで、上部透明基板２１１に関する構造体と下部透明基板２１２に関する構造体を互いに接合するために、熱圧着を利用することができる。

これにより、図５Ｄに図示されたように、カラーフィルター２４１、２４２、２４３に重なる開口部２４０を有する第１電極パターン２２１´と第２電極パターン２２２´を銀塩材質で形成し、第１電極パターン２２１´と第２電極パターン２２２´との間、即ち、上部透明基板２１１と下部透明基板２１２との間にブラックマトリックスパターン２３１を介在した構造を具現することができる。

従って、本発明の他の実施例によるタッチパネル２００の製造方法は、上部透明基板２１１と下部透明基板２１２のような二つの透明基板を含むタッチパネル構造で、従来の金属材質によるスパークリング（ｓｐａｒｋｌｉｎｇ）を解消してモアレ（ｍｏｉｒｅ）現象を防止し、視認性を改善したタッチパネルを提供することができる。

以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。

本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。

本発明は、タッチパネル及びその製造方法に適用可能である。

１００、２００ タッチパネル
１１０ 透明基板
１２１´、２２１´ 第１電極パターン
１２２´、２２２´ 第２電極パターン
１３１、２３１ ブラックマトリックスパターン
１４０、２４０ 開口部
１４１、１４２、１４３、２４１、２４２、２４３ カラーフィルター
２１１ 上部透明基板
２１２ 下部透明基板
２４５ 透明電極

Claims (15)

1. 透明基板と、
   前記透明基板の上部面に多数の開口部を備えたブラックマトリックスパターンと、
   前記ブラックマトリックスパターン上に備えられた第１電極パターンと、
   前記透明基板の下部面に備えられた第２電極パターンと、を含むタッチパネル。
2. 前記開口部に多数のカラーフィルターをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
3. 前記ブラックマトリックスパターンは、
   カーボン系物質（Ｇｒａｐｈｅｎｅ Ｏｘｉｄｅ、ＤＬＣ：Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｎｅ Ｃａｒｂｏｎ）、クロム系酸化物（ＣｒＯ、ＣｒＯ_２）、銅系酸化物（ＣｕＯ）、マンガン系酸化物（ＭｎＯ_２）、コバルト系酸化物（ＣｏＯ）、硫化物（ＣｏＳ_２、Ｃｏ_３Ｓ_４）、ニッケル系酸化物（Ｎｉ_２Ｏ_３）、ＨｇＴｅ、ＹＢａ_２Ｃｕ_３Ｏ_７、ＭｏＳ_２、ＲｕＯ_２、ＰｄＯ、ＩｎＰ、ＳｎＯ、ＴａＮ及びＴａＳ_２のうち何れか一つ又はこれらの組み合わせを用いて黒色に形成されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
4. 前記第１電極パターン及び第２電極パターンは、銀塩乳剤層を露光及び現像して形成された銀を含有するパターンに形成されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
5. 前記第１電極パターンとブラックマトリックスパターンとの間に備えられた他の透明基板と、
   前記他の透明基板の下部面に形成され、前記カラーフィルターに電気的に連結される透明電極パターンと、をさらに含むことを特徴とする、請求項２に記載のタッチパネル。
6. 前記透明電極パターンは、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を含有する金属酸化物からなることを特徴とする、請求項５に記載のタッチパネル。
7. （Ａ）透明基板の上部面方向にブラックマトリックス層と第１電極層を順に形成する段階と、
   （Ｂ）前記透明基板の下部面に第２電極層を形成する段階と、
   （Ｃ）前記第１電極層の上部面にドライフィルムパターンを形成し、前記ドライフィルムパターンを用いたパターニング工程により一方向に配列された多数の第１電極パターン及び多数の開口部を有するブラックマトリックスパターンを形成する段階と、
   （Ｄ）前記開口部にカラーフィルターを充填する段階と、
   （Ｅ）前記第２電極層に対してドライフィルムパターンを用いたパターニング工程を施して前記第１電極パターンの配列方向と直交し、前記開口部に重なる他の開口部を露出する多数の第２電極パターンを形成する段階と、を含む、タッチパネルの製造方法。
8. 前記（Ａ）段階において、
   前記ブラックマトリックス層は、カーボン系物質（Ｇｒａｐｈｅｎｅ Ｏｘｉｄｅ、ＤＬＣ：Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｎｅ Ｃａｒｂｏｎ）、クロム系酸化物（ＣｒＯ、ＣｒＯ_２）、銅系酸化物（ＣｕＯ）、マンガン系酸化物（ＭｎＯ_２）、コバルト系酸化物（ＣｏＯ）、硫化物（ＣｏＳ_２、Ｃｏ_３Ｓ_４）、ニッケル系酸化物（Ｎｉ_２Ｏ_３）、ＨｇＴｅ、ＹＢａ_２Ｃｕ_３Ｏ_７、ＭｏＳ_２、ＲｕＯ_２、ＰｄＯ、ＩｎＰ、ＳｎＯ、ＴａＮ及びＴａＳ_２のうち何れか一つ又はこれらの組み合わせを用いて黒色に形成されることを特徴とする、請求項７に記載のタッチパネルの製造方法。
9. 前記第１電極層及び第２電極層は、溶媒に銀塩とバインダーを含有するスラリー状を用いて銀塩乳剤層からなる特徴とする、請求項７に記載のタッチパネルの製造方法。
10. （Ｉ）上部透明基板の上部面と下部面にそれぞれ第１電極パターンと透明電極パターンを含む上部構造体を形成する段階と、
    （ＩＩ）下部透明基板の上部面と下部面にそれぞれブラックマトリックスパターンと第２電極パターンを含む下部構造体を形成する段階と、
    （ＩＩＩ）前記上部透明基板の透明電極パターンと、前記下部透明基板のブラックマトリックスパターンとが互いに対応するように前記上部構造体と前記下部構造体を接合する段階と、を含む、タッチパネルの製造方法。
11. 前記（Ｉ）段階は、
    （Ｉ−１）前記上部透明基板の上部面に銀塩材質からなる第１電極層を形成する段階と、
    （Ｉ−２）前記上部透明基板の下部面に透明伝導性材質からなる透明電極パターンを形成する段階と、
    （Ｉ−３）前記第１電極層に対してドライフィルムパターンを用いたパターニング工程を施し、前記第１電極層を一方向に配列された多数の第１電極パターンに形成する段階と、を含むことを特徴とする、請求項１０に記載のタッチパネルの製造方法。
12. 前記（ＩＩ）段階は、
    （ＩＩ−１）前記下部透明基板の上部面にブラックマトリックス層を形成する段階と、
    （ＩＩ−２）前記下部透明基板の下部面に銀塩材質からなる第２電極層を形成する段階と、
    （ＩＩ−３）前記ブラックマトリックス層に対してドライフィルムパターンを用いたパターニング工程を施し、開口部が多数形成されたブラックマトリックスパターンを形成する段階と、
    （ＩＩ−４）前記開口部にカラーフィルターを備える段階と、
    （ＩＩ−５）前記第２電極層に対してドライフィルムパターンを用いたパターニング工程を施し、前記第１電極パターンの配列方向と直交し、前記開口部に重なる他の開口部を露出する多数のライン状に第２電極パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする、請求項１０に記載のタッチパネルの製造方法。
13. 前記（ＩＩＩ）段階は、
    前記ブラックマトリックスパターンの開口部に前記第１電極パターンの開口部が重なるように前記上部構造体と前記下部構造体を接合することを特徴とする、請求項１２に記載のタッチパネルの製造方法。
14. 前記ブラックマトリックス層は、カーボン系物質（Ｇｒａｐｈｅｎｅ Ｏｘｉｄｅ、ＤＬＣ：Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｎｅ Ｃａｒｂｏｎ）、クロム系酸化物（ＣｒＯ、ＣｒＯ_２）、銅系酸化物（ＣｕＯ）、マンガン系酸化物（ＭｎＯ_２）、コバルト系酸化物（ＣｏＯ）、硫化物（ＣｏＳ_２、Ｃｏ_３Ｓ_４）、ニッケル系酸化物（Ｎｉ_２Ｏ_３）、ＨｇＴｅ、ＹＢａ_２Ｃｕ_３Ｏ_７、ＭｏＳ_２、ＲｕＯ_２、ＰｄＯ、ＩｎＰ、ＳｎＯ、ＴａＮ及びＴａＳ_２のうち何れか一つ又はこれらの組み合わせを用いて黒色に形成されることを特徴とする、請求項１２に記載のタッチパネルの製造方法。
15. 前記透明電極パターンは、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を含有する金属酸化物からなることを特徴とする、請求項１１に記載のタッチパネルの製造方法。