JP2014086725A - タッチスクリーンパネル - Google Patents

Abstract

【課題】電磁波遮蔽能を備えたタッチスクリーンパネルを提供する。
【解決手段】電磁波遮蔽層はウィンドウ基板の少なくとも一面に設けられ得る。電磁波遮蔽層がウィンドウ基板のユーザ側の面に設けられる場合は、ウィンドウ基板を固定する電子機器の外郭フレームに配線を備え、電磁波遮蔽層を接地電極に接続することができる。電磁波遮蔽層がウィンドウ基板の内部パネル側の面に設けられる場合は、非伝導性遮光パターンにホールを設け、そのホールに伝導性物質を満たして電磁波遮蔽層と通電させた後、前記伝導性物質を接地電極と接続することができる。タッチスクリーンパネルの積層構造中の一層として設けられる電磁波遮蔽層は、電磁波遮蔽層形成用組成物を塗布して設けられ得る。電磁波遮蔽層形成用組成物は、電磁波遮蔽物質、バインダ樹脂、及び溶媒を含んで形成される。
【選択図】図１

Description

本発明は、タッチスクリーンパネルに関するものである。

通常、タッチスクリーンは、手で触れると（ｔｏｕｃｈ）、その位置の入力を受けるようにする特殊な入力装置を組み込んだスクリーンである。

このようなタッチスクリーンは、キーボードを用いることなく、スクリーンに表示される文字や特定の位置に人の手又は物体が触れると、その位置を把握する。そして、保存されたソフトウェアによって特定の処理ができるように、画面から入力データを直接受けることができるようにしたものであって、複数の層に積層されて構成される。

このようなタッチスクリーンは、従来、ＩＴＯフィルムとウィンドウ基板とを別々の工程にて製造し接着することでタッチスクリーンが完成されたが、最近は、ウィンドウとＩＴＯフィルムとを一連の過程によって一体に製造する方法が主に用いられている。

一方、ウィンドウ基板及びその上に積層された電極パターン層など各種の層から形成されたタッチスクリーンパネルは、電極パターンや液晶セルに印加される直流又は交流電圧によって駆動される。このような駆動過程において電磁波が発生する。

電磁波障害の社会的な問題として、（１）健康被害、（２）電磁波による誤作動、（３）盗視問題などがある。健康被害の場合、高周波は人体に吸収されやすい性質であるため、人体の大きさや組職などに応じた共鳴現象を起こし、ホットスポット（Ｈｏｔ―ｓｐｏｔ）効果を招くことがあるが、これにより、例えば、携帯電話によって頭部に悪影響を及ぼしかねない。低周波は人体に対する透過力が大きく、特に磁界による発癌性の恐れがある。

電磁波による誤作動障害とは、電気・電子機器から放出される電磁波が他の機器に対して誤動作を引き起こす問題である。病院、飛行機内において携帯電話の使用が禁止されることは今では当然のこととなっているが、それはこの障害によって比較的軽微なものから生命に影響を及ぼしかねない重大な事故までをも引き起こす可能性が高いためである。

盗視問題の場合、コンピュータや社内ＬＡＮなどから放出された電磁波を拾い出して情報を入手することも可能なため、これによる問題も度々指摘されている。

本発明は、電磁波遮蔽能を備えたタッチスクリーンパネルを提供することを目的とする。

１．電磁波遮蔽層を備える、タッチスクリーンパネル。

２．前記項目１において、前記電磁波遮蔽層は、銅、鉄、ニッケル、アルミニウム、スズ、インジウム、亜鉛、金、及び銀からなる群から選択されるいずれか１種又は２種以上の合金、及びこれらの酸化物である電磁波遮蔽物質を含む、タッチスクリーンパネル。

３．前記項目１において、前記電磁波遮蔽層は、ポリピロール、ポリチオフェン、及びポリアニリンからなる群から選択される少なくとも１種の電磁波遮蔽物質を含む、タッチスクリーンパネル。

４．前記項目１において、前記電磁波遮蔽層は屈折率調整層（ｉｎｄｅｘ ｍａｔｃｈｉｎｇ ｌａｙｅｒ；ＩＭＬ）の少なくとも一面に設けられる、タッチスクリーンパネル。

５．前記項目１において、前記電磁波遮蔽層はウィンドウ基板の少なくとも一面に設けられる、タッチスクリーンパネル。

６．前記項目１において、前記電磁波遮蔽層は絶縁層の少なくとも一面に設けられる、タッチスクリーンパネル。

７．前記項目４乃至６のうちいずれか一項において、前記電磁波遮蔽層は、電磁波遮蔽物質、バインダ樹脂、及び溶媒を含む電磁波遮蔽層形成用組成物から形成される、タッチスクリーンパネル。

８．前記項目１において、前記電磁波遮蔽層は屈折率調整層である、タッチスクリーンパネル。

９．前記項目８において、前記屈折率調整層は電磁波遮蔽物質を含んで形成される、タッチスクリーンパネル。

１０．前記項目４乃至６及び９において、屈折率調整層は、ニオブ酸化物、珪素酸化物、又はこれらの混合物を含んで形成される、タッチスクリーンパネル。

本発明のタッチスクリーンパネルは、電磁波遮蔽層を備えることにより、電磁波放出による周辺機器の誤作動や人体に及ぼす有害な影響を防止することができる。

タッチスクリーンパネルを適用した携帯電話の一例示的な概略的斜視図である。

本発明は、電磁波遮蔽層を備えることにより、電磁波遮蔽性を備えたタッチスクリーンパネルに関するものである。

以下、本発明を詳しく説明する。

本発明による電磁波遮蔽層は、タッチスクリーンパネルの積層構造の一層であって、タッチスクリーンパネルに備えられる。

通常、タッチスクリーンパネルは、最外部を構成するウィンドウ基板の一面に非伝導性遮光パターン層、屈折率調整層、電極パターン層、絶縁層などが順次に積層されて形成される。電磁波は、タッチスクリーンパネルの構成要素のうち電気が流れる電極や回路基板などから放出されるため、本発明による電磁波遮蔽層は、このような電磁波放出部分とユーザとの間に位置することが好ましい。

本発明の一実施形態において、電磁波遮蔽層はウィンドウ基板の少なくとも一面に設けられ得る。電磁波遮蔽層がウィンドウ基板のユーザ側の面に設けられる場合は、ウィンドウ基板を固定する電子機器の外郭フレームに配線を備え、電磁波遮蔽層を接地電極に接続することができる。電磁波遮蔽層がウィンドウ基板の内部パネル側の面に設けられる場合は、非伝導性遮光パターンにホールを設け、そのホールに伝導性物質を満たして電磁波遮蔽層と通電させた後、前記伝導性物質を接地電極と接続することができる。

本発明の他の好ましい実施形態において、電磁波遮蔽層は屈折率調整層の少なくとも一面に設けられ得る。但し、図１に示すように、ウィンドウ基板は表示部と非表示部とに分けることができるが、非表示部には下部の電極パターンや回路基板の隠蔽のために非伝導性遮光パターンが先に形成され、その上に屈折率調整層が設けられる。この場合、電磁波遮蔽層の側部に配線を接続し、接地電極と接続することができる。

本発明のさらに他の実施形態において、電磁波遮蔽層はタッチスクリーンパネル積層体の絶縁層の少なくとも一面に設けられることもできる。

本発明の前記実施形態によってタッチスクリーンパネルの積層構造中の一層として設けられる電磁波遮蔽層は、電磁波遮蔽層形成用組成物を塗布して設けられ得る。電磁波遮蔽層形成用組成物は、電磁波遮蔽物質、バインダ樹脂、及び溶媒を含んで形成される。

電磁波遮蔽物質は、公知の電磁波遮蔽物質を特に制限なく用いることができる。例えば、銅、鉄、ニッケル、アルミニウム、スズ、インジウム、亜鉛、金、及び銀からなる群から選択されるいずれか１種又は２種以上の合金などの金属系材料、及びこれらの酸化物を含んで製造されるか、或いは、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリンなどの伝導性高分子材料などの電磁波遮蔽物質を少なくとも１種含んで製造することができる。

バインダ樹脂は、膜を形成して隣接する層との接着性を提供し、耐湿性、耐熱性、耐薬品性などを有する高分子樹脂を用いることが好ましい。例えば、アクリレート樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂などをそれぞれ単独に、又は２種以上混合して用いることができる。

溶媒は、組成物中の成分を溶解／分散し、作業性を提供する。使用可能な溶媒としては、水、アルコールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

選択的に、電磁波遮蔽層形成用組成物は、必要に応じて様々な添加剤をさらに含むことができる。例えば、増粘剤、酸化防止剤、界面活性剤などをさらに含むことができるが、これらに限定されるものではない。

前記電磁波遮蔽層形成用組成物の塗布方法は、当分野において公知の方法を特に制限なく用いることができる。例えば、スクリーン印刷、オフセット印刷、スピンコーティング、インクジェット印刷などを用いることができるが、これらに限定されるものではない。

本発明のさらに他の実施形態として、屈折率調整層が電磁波遮蔽層の機能を兼ねることもできる。この場合、屈折率調整層は、前述の電磁波遮蔽物質を含んで製造されることができる。

通常、屈折率調整層は、ニオブ酸化物、珪素酸化物、又はこれらの混合物を含んで形成される。従って、本発明の他の実施形態において、屈折率調整層は、ニオブ酸化物、珪素酸化物などが前述の電磁波遮蔽物質と共に用いられて製造される。

前述の本発明の実施形態において、電磁波遮蔽層は電磁波遮蔽物質を含むが、電磁波遮蔽層と隣接するか、或いは電磁波遮蔽層として用いられる屈折率調整層は、屈折率調整層の上側に設けられる電極パターン層と絶縁される必要がある。従って、本発明による電磁波遮蔽層は、屈折率調整層と電極パターン層との絶縁性を損なわないように設けられるべきであることは、当分野における通常の技術者にとって自明である。

このように設けられる本発明による電磁波遮蔽層は、タッチスクリーンパネルに適用されて電磁波遮蔽効果を示すことができる。

本発明によるタッチスクリーンパネルは、前述の本発明の実施形態のように、タッチスクリーンパネルの積層構造中において別の層として設けられるか、或いは本発明の他の実施形態のように、電磁波遮蔽物質を含む屈折率調整層として積層されることができる。このように、電磁波遮蔽層を設けた後には、当分野において通常的に遂行される製造方法によって本発明のタッチスクリーンパネルを製造することができる。

本発明で用いられるウィンドウ基板は、タッチスクリーンパネルを外力から充分に保護できるように耐久性が大きく、ユーザにとってディスプレイが見やすくなるような物質であれば特に限定されず、当分野において用いられるウィンドウ基板を特に制限なく用いることができる。例えば、硝子、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ；ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｆｏｎｅ）、ポリアクリレート（ＰＡＲ；ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ；ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ；ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ；ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ；ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅ ｓｕｌｆｉｄｅ）、ポリアリレート（ｐｏｌｙａｌｌｙｌａｔｅ）、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリカーボネート（ＰＣ；ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ；ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ ａｃｅｔａｔｅ ｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ）などを用いることができる。好ましくは硝子を用いることができる。さらに好ましくは強化処理を施した硝子を用いることができる。

本発明のウィンドウ基板の非表示部上には、非伝導性遮光パターンを形成する。

非伝導性遮光パターンは、遮光剤、バインダ樹脂、重合性化合物、重合開始剤、溶剤などを含む非伝導性遮光パターン形成用組成物から形成され得る。

遮光剤としては、当分野において用いられる遮光剤を特に制限なく用いることができる。例えば、着色剤、カーボンブラック、アニリンブラック、酸化クロム、酸化鉄、チタンブラック（ｔｉｔａｎ ｂｌａｃｋ）、又はこれらの混合物を用いることができる。

着色剤としては、ユーザの求める色相を具現するために特に限定されず、例えば、赤色、緑色、青色の染料・顔料、調色用の黄色、オレンジ、バイオレット、ブラウンなどの染料・顔料、及びカーボンブラックなどが挙げられる。これらは単独、又は２種以上混合して用いることができる。

着色剤は、必要に応じて、金属粉、白色顔料、蛍光顔料などをさらに含むことができる。

顔料は、無機顔料又は有機顔料であってもよい。

無機顔料の種類は特に限定されず、例えば、硫酸バリウム、硫酸鉛、酸化チタン、黄鉛、ベンガル、酸化クロム、カーボンブラックなどが挙げられる。

有機顔料の種類は特に限定されず、例えば、以下にＣ．Ｉ．（カラーインデックス）番号で列挙する顔料が挙げられる。

黄色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、２、３、４、５、６、１２、１３、１４、１６、１７、２４、５５、６５、７３、７４、８１、８３、８７、９３、９４、９５、９７、１００、１０１、１０５、１０８、１０９、１１０、１１６、１２０、１２７、１２８、１２９、１３３、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５３、１５４、１５５、１６６、１６８、１６９、１７０、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１８０、１８５、１９３、１９４、２０２などが挙げられる。

オレンジ顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１、２、５、１３、１６、１７、１９、２２、２４、３４、３６、３８、３９、４３、４６、４８、６１、６２、６４、６５、６７、６９、７３、７７などが挙げられる。

赤色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、２、３、４、５、６、８、９、１２、１４、１５、１７、２２、２３、３１、３７、３８、４１、４８:１、４８:２、４８:３、４９、５０：１、５２：１、５３、５７：１、５８：４、６０、６３、６４、６８、８１、８８、９０：１、１１２、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４７、１４９、１５０、１５１、１６６、１６８、１７０、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８１、１８５、１８７、１８８、１９０、１９３、１９４、２０２、２０７、２０８、２０９、２１４、２１６、２２０、２２１、２２４、２４２、２４３、２４５、２４７、２５４、２５５、２６４、２７２などが挙げられる。

バイオレット顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、２、３、５、１９、２３、２９、３１、３２、３７、３９、５０などが挙げられる。

青色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、１７、２５、５６、６０、６６、７５、７９などが挙げられる。

緑色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン２、７、８、１３、３６、５４などが挙げられる。

ブラウン顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン１、２２、２３、２５、２７などが挙げられる。

黒色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、７、３１、３２などが挙げられる。

染料の種類は特に限定されず、例えば、アゾ系染料、アントラキノン系染料、フタロシアニン系染料、キノンイミン系染料、キノリン系染料、ニトロ系染料、カルボニル系染料、メチン系染料などが挙げられる。

アゾ系染料は特に限定されず、例えば、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１１、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド３７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１８０、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー２９、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド２８、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド８３、Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ダイレクトオレンジ２６、Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン２８、Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン５９、Ｃ．Ｉ．リアクティブイエロー２、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１７、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１２０、Ｃ．Ｉ．リアクティブブラック５、Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ５、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド５８、Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー１６５、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー４１、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１８、Ｃ．Ｉ．モルダントレッド７、Ｃ．Ｉ．モルダントイエロー５、Ｃ．Ｉ．モルダントブラック７などが挙げられる。

アントラキノン系染料は特に限定されず、例えば、Ｃ．Ｉ．バットブルー４、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー４０、Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン２５、Ｃ．Ｉ．クリアティブブルー１９、Ｃ．Ｉ．クリアティブブルー４９、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド６０、Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー５６、Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー６０などが挙げられる。

フタロシアニン系染料は特に限定されず、例えば、Ｃ．Ｉ．バットブルー５などが挙げられる。

キノンイミン系染料は特に限定されず、例えば、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー３、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー９などが挙げられる。

キノリン系染料は特に限定されず、例えば、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー３３、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー３、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー６４などが挙げられる。

ニトロ系染料は特に限定されず、例えば、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ３、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー４２などが挙げられる。

前記例示された染料、顔料、及びカーボンブラックの具体的な例を挙げると、三菱カーボンブラックＭ１０００、三菱カーボンブラックＭＡ−１００、三菱カーボンブラック＃４０、ビクトリアピュアブルー（４２５９５）、オーラミンＯ（４１０００）、カチロンブリリアントフラビン（ベーシック１３）、ローダミン６ＧＣＰ（４５１６０）、ローダミンＢ（４５１７０）、サクラニンＯＫ ７０：１００（５０２４０）、エリオグラウシンＸ（４２０８０）、ＮＯ．１２０／リオノールイエロー（２１０９０）、リオノールイエローＧＲＯ（２１０９０）、シミラーファストイエローＧＲＯ（２１０９０）、シミラーファストイエロー８ＧＦ（２１１０５）、ベンジジンイエロー４Ｊ−５６４Ｄ（２１０９５）、ペリオトルイエローＬ０９６０（ピグメントイエロー１３９）、イエローピグメントＥ４−ＧＮ（ピグメントイエロー１５０誘導体）、シミラーファストレッド４０１５（１２３５５）、リオノールレッド７Ｂ４４０１（１５８５０）、ペストゲンブルーＪＧＲ−Ｌ（７４１６０）、リオノールブルーＳＭ（２６１５０）、リオノールブルーＥＳ（ピグメントブルー１５：６、ピグメントブルー１５３６）、リオノーゲンレッドＧＤ（ピグメントレッド１６８、ピグメントレッド１０８）、クロモフタルレッドＡ２Ｂ（ピグメントレッド１７７）、イルガフォアレッドＢ−ＣＦ（ピグメントレッド２５４）、ヘリオゲングリーンＬ８７３０（ピグメントグリーン７）、リオノールグリーン２ＹＳ（ピグメントグリーン３６）などが挙げられる。

バインダ樹脂は、パターン支持体の役割を果たすものであり、カルボキシル基を有する単量体と不飽和結合を有する単量体との共重合体であってもよい。

カルボキシル基を有する単量体は、分子内に１以上のカルボキシル基を有する不飽和カルボン酸であり、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボン酸、フマル酸、メタコン酸、イタコン酸などのジカルボン酸、及びこれらの無水物などが挙げられる。

不飽和結合を有する単量体は、カルボキシル基を有する単量体と共重合可能な不飽和二重結合を有する単量体であれば、その種類は特に限定されない。具体的な例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸エステル化合物；アミノエチル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸の非置換又は置換アルキルエステル化合物；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘプチル（メタ）アクリレート、シクロオクチル（メタ）アクリレート、シクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキセニル（メタ）アクリレート、シクロヘプテニル（メタ）アクリレート、シクロオクテニル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレートなどの脂環式置換基を有する不飽和カルボン酸エステル化合物；３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタンなどの熱硬化可能な置換基を有する不飽和カルボン酸エステル化合物；グリシジル（メタ）アクリレートなどの不飽和グリシジルカルボン酸エステル化合物；ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレートなどの芳香環含有置換基を有する不飽和カルボン酸エステル化合物；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル化合物、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル；（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物などが挙げられる。これらは単独、又は２種以上混合して用いることができる。

共重合体の例としては、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、３−エチル−３−メタクリロキシメチルオキセタン／メチルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合体などが挙げられる。

重合性化合物は特に限定されず、当該分野において用いられるものを制限なく用いることができる。例えば、熱によって硬化されるエポキシ基を有する化合物を用いることができる。

エポキシ基を有する化合物は特に限定されず、例えば、エポキシ（メタ）アクリレート基構造を有する硬化性モノマーが挙げられる。

エポキシ（メタ）アクリレート基構造を有する硬化性モノマーは、市販される化合物から選択されるものを用いることができる。例えば、分子内に２個のエポキシアクリレート基を有するか、或いは分子内に４個のエポキシアクリレート基を有する化合物などが挙げられる。

重合開始剤は特に限定されず、当該分野において用いられるものを制限なく適用することができる。例えば、トリアジン系化合物、アセトフェノン系化合物、キサントン系化合物、ベンゾイン系化合物、イミダゾール系化合物などが挙げられる。これらは単独、又は２種以上混合して用いることができる。

前記重合開始剤の例を挙げると、２，４−ビストリクロロメチル−６−ｐ−メトキシスチリル−ｓ−トリアジン、２−ｐ−メトキシスチリル−４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２，４−卜リクロロメチル−６−トリアジン、２，４−卜リクロロメチル−４−メチルナフチル−６−トリアジン、ベンゾフェノン、ｐ−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，２−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジブトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロリオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、２−メチルチオキサントン、２−イソブチルチオキサントン、２−ドデシルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，２−ビス−２−クロロフェニル−４，５，４，５−テトラフェニル−２−１，２−ビイミダゾール化合物などが挙げられる。これらは単独、又は２種以上混合して用いることができる。

溶剤の種類は特に限定されず、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテートなどのアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテルなどのアルキレングリコールアルキルエーテル；エチルアセテート、エチルラクタート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテートなどの（アルコキシ）アルキルエステル；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン；エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコールなどが挙げられる。これらは単独、又は２種以上混合して用いることができる。

非伝導性遮光パターンは、厚さは１乃至１０μｍであることができ、好ましくは１乃至５μｍであることができる。非伝導性遮光パターンの厚さが前記範囲内である場合、機器内部の基板、配線などが見えないような隠蔽及び遮光効果を有しつつ、導電性電極パターン層の信頼度を向上させることができ、且つ薄いタッチスクリーンパネルを製造することができる。

非伝導性遮光パターンが形成された後には、前述のように電磁波遮蔽層及び屈折率調整層を設ける。

この後には、電極パターン、絶縁層などを設ける。電極パターンは、映像センサのタッチ領域である表示部に指が触れると、人体が発生する静電気を感知して電気信号と接続する役割を果たす。

電極パターンの形成に用いられる導電性物質は特に限定されず、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸貨物（ＩＺＴＯ）、カドミウムスズ酸貨物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４―ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、金属ワイヤなどが挙げられる。これらは単独、又は２種以上混合して用いることができる。

金属ワイヤに用いられる金属は特に限定されず、例えば、銀（Ａｇ）、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタニウム、テルル、クロムなどが挙げられる。これらは単独、又は２種以上混合して用いることができる。

その次に、電極パターンの中で非表示部の対応領域上に電極パターン回路を形成する。電極パターン回路は、ウィンドウ基板表示部のタッチによって電極パターンから発生する電気的信号をＦＰＣＢ、ＩＣ Ｃｈｉｐなどに伝達する役割を果たす。電極パターン回路は、電極パターンと同一の材質、且つ同一の方法によって形成され得る。

その次に、飛散防止膜を設けることができる。飛散防止膜は前記各パターンを保護し、ウィンドウ基板が破裂する際に飛散することを防止する役割を果たす。

飛散防止膜の材質は、耐久性を提供する透明な材質であれば特に限定されず、例えば、ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）であってもよい。

飛散防止膜の形成方法は特に限定されず、例えば、スピン（ｓｐｉｎ）コーティング、ロール（ｒｏｌｌ）コーティング、スプレーコーティング、ディップ（ｄｉｐ）コーティング、フロー（ｆｌｏｗ）コーティング、ドクターブレード（ｄｏｃｔｏｒ ｂｌａｄｅ）とディスペンシング（ｄｉｓｐｅｎｓｉｎｇ）、インクジェットプリンティング、スクリーンプリンティング、パッド（ｐａｄ）プリンティング、グラビアプリンティング、オフセットプリンティング、フレキソ（ｆｌｅｘｏｇｒａｐｈｙ）プリンティング、ステンシルプリンティング、インプリンティング（ｉｍｐｒｉｎｔｉｎｇ）方法などが挙げられる。

次に、電極パターン回路に印刷回路基板の端子を接続する。印刷回路基板としては様々な形態の印刷回路基板が用いられ得るが、例えば、軟性印刷回路基板（ｆｌｅｘｉｂｌｅ ｐｒｉｎｔｅｄ ｃｉｒｃｕｉｔ ｂｏａｒｄ， ＦＰＣＢ）であってもよい。

前記段階を経て製造される本発明のタッチスクリーンパネルは、電磁波遮蔽層を備えることにより、人体に及ぼす有害性を減少させ、タッチスクリーンパネルそのもの及び周辺電子機器の誤作動を減らすことができる。

Claims (10)

1. 電磁波遮蔽層を備えるタッチスクリーンパネル。
2. 前記電磁波遮蔽層は、銅、鉄、ニッケル、アルミニウム、スズ、インジウム、亜鉛、金、及び銀からなる群から選択されるいずれか１種又は２種以上の合金、及びこれらの酸化物である電磁波遮蔽物質を含む、請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
3. 前記電磁波遮蔽層は、ポリピロール、ポリチオフェン、及びポリアニリンからなる群から選択される少なくとも１種の電磁波遮蔽物質を含む、請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
4. 前記電磁波遮蔽層は屈折率調整層（ｉｎｄｅｘ ｍａｔｃｈｉｎｇ ｌａｙｅｒ；ＩＭＬ）の少なくとも一面に設けられる、請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
5. 前記電磁波遮蔽層はウィンドウ基板の少なくとも一面に設けられる、請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
6. 前記電磁波遮蔽層は絶縁層の少なくとも一面に設けられる、請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
7. 前記電磁波遮蔽層は、電磁波遮蔽物質、バインダ樹脂、及び溶媒を含む電磁波遮蔽層形成用組成物から形成される、請求項４乃至６のうちいずれか一項に記載のタッチスクリーンパネル。
8. 前記電磁波遮蔽層は屈折率調整層である、請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
9. 前記屈折率調整層は電磁波遮蔽物質を含んで形成される、請求項８に記載のタッチスクリーンパネル。
10. 前記屈折率調整層は、ニオブ酸化物、珪素酸化物、又はこれらの混合物を含んで形成される、請求項４乃至６及び９のうちいずれか一項に記載のタッチスクリーンパネル。

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