JP2014047084A - Method for producing glass plate and glass plate producing apparatus - Google Patents

Method for producing glass plate and glass plate producing apparatus Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a glass plate and a glass plate producing apparatus that may uniformize a temperature of a fused glass flowing in a tube consisting of platinum or platinum alloy.SOLUTION: In a method for producing a glass plate of the present invention, a fused glass is transferred through a transfer tube 43. A refiner 41 and the transfer tube 43 comprise a conduit tube 61, an electrode 62 and a heat radiation suppressing member 63. The conduit tube 61 is made of platinum or platinum alloy, in which the fused glass flows. The electrode 62 fitted to the outside wall of the conduit tube 61 applies an electric current to the conduit tube 61 to heat the fused glass flowing in the conduit tube 61. The heat radiation suppressing member 63 is disposed at an outer periphery of the conduit tube 61 and suppresses the heat radiation of the fused glass flowing in the conduit tube 61. Heat resistance of the heat radiation suppressing member 63 is adjusted so that the temperature of the fused glass along the cross sectional direction of the conduit tube 61 is uniform at least in a part of the refiner 41 and the transfer tube 43.

Description

本発明は、ガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置に関する。   The present invention relates to a glass plate manufacturing method and a glass plate manufacturing apparatus.

一般的に、ガラス板の製造装置は、ガラス原料を加熱して熔融ガラスを生成する熔融槽と、熔融ガラスからガラス板を成形する成形装置と、熔融槽から成形装置に向かって熔融ガラスを移送するための移送管とを備える。ガラス板の製造装置は、必要に応じ、熔融ガラスに含まれる微小な気泡を除去する清澄槽と、熔融ガラスを攪拌して均質化する攪拌槽とをさらに備える。熔融槽、清澄槽、攪拌槽および成形装置は、それぞれ移送管で接続されている。移送管の内部を通過する熔融ガラスの温度は、成形するガラス板の組成、および、ガラス板の製造装置の構成等によって異なる。例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用ガラス基板に好適な組成を有するガラス板をダウンドロー法により製造するガラス板製造装置では、熔融ガラスの温度は、１０００℃〜１７００℃である。   Generally, a glass plate manufacturing apparatus heats a glass raw material to produce a molten glass, a molding apparatus that forms a glass plate from the molten glass, and transfers the molten glass from the melting tank to the molding apparatus. A transfer pipe for carrying out the operation. The glass plate manufacturing apparatus further includes a clarification tank for removing minute bubbles contained in the molten glass and a stirring tank for stirring and homogenizing the molten glass as necessary. The melting tank, the clarification tank, the stirring tank, and the molding apparatus are each connected by a transfer pipe. The temperature of the molten glass passing through the inside of the transfer tube varies depending on the composition of the glass plate to be formed, the configuration of the glass plate manufacturing apparatus, and the like. For example, in a glass plate manufacturing apparatus for manufacturing a glass plate having a composition suitable for a glass substrate for a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display (LCD) by the downdraw method, the temperature of the molten glass is 1000 ° C. to 1700 ° C. It is.

高温の熔融ガラスから高品質のガラス板を量産するためには、ガラス板の欠陥の要因となる異物等が熔融ガラスに混入しないことが望ましい。そのため、熔融ガラスに接する部材の内壁は、その部材に接する熔融ガラスの温度、および、要求されるガラス板の品質等に応じて、適切な材料で構成される必要がある。ＦＰＤ用ガラス基板を製造するためのガラス板の製造装置では、熔融ガラスに接する部材の内壁に、通常、白金族金属が用いられる。以下、「白金族金属」は、単一の白金族元素からなる金属、および、白金族元素からなる金属の合金を意味する。白金族元素は、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、オスミウム（Ｏｓ）およびイリジウム（Ｉｒ）の６元素である。白金族金属は、高価であるが、融点が高く、熔融ガラスに対する耐食性に優れている。   In order to mass-produce a high-quality glass plate from a high-temperature molten glass, it is desirable that foreign substances that cause defects in the glass plate do not enter the molten glass. Therefore, the inner wall of the member in contact with the molten glass needs to be made of an appropriate material depending on the temperature of the molten glass in contact with the member and the required quality of the glass plate. In an apparatus for producing a glass plate for producing a glass substrate for FPD, a platinum group metal is usually used on the inner wall of a member that contacts molten glass. Hereinafter, the “platinum group metal” means a metal composed of a single platinum group element and a metal alloy composed of a platinum group element. The platinum group elements are six elements of platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (Os) and iridium (Ir). Platinum group metals are expensive, but have a high melting point and excellent corrosion resistance against molten glass.

また、ガラス板の製造装置では、移送管の内部を通過する熔融ガラスの温度を、移送管の断面方向において均一にする必要がある。例えば、成形装置に熔融ガラスを供給する移送管において、熔融ガラスの温度が移送管の断面方向において異なると、成形体に供給される熔融ガラスの温度が均一にならず、ガラス板の平坦度が悪くなる問題が発生する。   Moreover, in the manufacturing apparatus of a glass plate, it is necessary to make the temperature of the molten glass which passes the inside of a transfer pipe uniform in the cross-sectional direction of a transfer pipe. For example, in a transfer tube that supplies molten glass to a forming apparatus, if the temperature of the molten glass differs in the cross-sectional direction of the transfer tube, the temperature of the molten glass supplied to the formed body is not uniform, and the flatness of the glass plate is reduced. A problem that gets worse occurs.

また、低温ｐ−Ｓｉ（ポリシリコン）・ＴＦＴおよび酸化物半導体が形成されるガラス基板は、歪点が高いため、液相温度が高くなる傾向があり、また、液相温度における粘度である液相粘度が低くなる傾向にある。この場合、移送管の内部を流れる熔融ガラスの粘度と液相粘度との差が小さくなるので、成形されたガラス板が失透するリスクが高くなる。特に、熔融ガラスの温度が断面方向において異なると、熔融ガラスの温度が部分的に低下する領域が生じて、失透のリスクが高くなる。   In addition, a glass substrate on which low-temperature p-Si (polysilicon) TFT and an oxide semiconductor are formed has a high strain point, so the liquidus temperature tends to be high, and the liquid that has a viscosity at the liquidus temperature. The phase viscosity tends to be low. In this case, since the difference between the viscosity of the molten glass flowing inside the transfer tube and the liquid phase viscosity is reduced, the risk of devitrification of the molded glass plate is increased. In particular, when the temperature of the molten glass is different in the cross-sectional direction, a region where the temperature of the molten glass is partially reduced occurs, and the risk of devitrification increases.

移送管の内部を通過する熔融ガラスの温度を均一にするために、特許文献１（特表２０１１−５１３１７３号公報）には、環状の導電体からなるフランジが移送管に取り付けられているガラス板の製造装置が開示されている。このガラス板の製造装置では、フランジに電流を流して移送管を加熱することで、移送管の内部を流れる熔融ガラスの温度を制御することができる。   In order to make the temperature of the molten glass passing through the inside of the transfer pipe uniform, Patent Document 1 (Japanese Patent Publication No. 2011-513173) discloses a glass plate in which a flange made of an annular conductor is attached to the transfer pipe. A manufacturing apparatus is disclosed. In this glass plate manufacturing apparatus, the temperature of the molten glass flowing through the inside of the transfer tube can be controlled by supplying a current to the flange to heat the transfer tube.

しかし、特許文献１に開示される移送管を用いても、フランジの位置およびフランジの取り付け方法等に応じて、移送管に流れる電流が不均一になる場合がある。これにより、移送管の外壁の温度分布が不均一になると、移送管の内部を流れる熔融ガラスの温度が、移送管の断面方向において異なってしまう。その結果、成形体に供給される熔融ガラスの温度が均一にならず、ガラス板の平坦度が悪くなる問題が発生する可能性がある。   However, even if the transfer pipe disclosed in Patent Document 1 is used, the current flowing through the transfer pipe may become uneven depending on the position of the flange, the method of attaching the flange, and the like. Thereby, when the temperature distribution of the outer wall of a transfer pipe becomes non-uniform | heterogenous, the temperature of the molten glass which flows through the inside of a transfer pipe will differ in the cross-sectional direction of a transfer pipe. As a result, there is a possibility that the temperature of the molten glass supplied to the molded body is not uniform and the flatness of the glass plate is deteriorated.

本発明の目的は、白金または白金合金から構成される管の内部を流れる熔融ガラスの温度を均一にすることができるガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置を提供することである。   The objective of this invention is providing the manufacturing method of the glass plate which can make uniform the temperature of the molten glass which flows the inside of the pipe | tube comprised from platinum or a platinum alloy, and the manufacturing apparatus of a glass plate.

本発明に係るガラス板の製造方法は、ガラス原料を加熱して熔融ガラスを生成する熔融工程と、熔融ガラスを清澄槽において清澄する清澄工程と、清澄された熔融ガラスからガラス板を成形する成形工程と、を備える。このガラス板の製造方法では、熔融工程で生成された熔融ガラスは、移送管の内部を通過して成形工程に向かって移送される。清澄槽および移送管は、導管と、電極と、放熱抑制部材とを備える。導管は、白金または白金合金製であり、内部を熔融ガラスが流れる。電極は、導管の外壁に取り付けられ、導管に電流を流して導管の内部を流れる熔融ガラスを加熱する。放熱抑制部材は、導管の外周に設けられ、導管の内部を流れる熔融ガラスの放熱を抑制する。すなわち、放熱抑制部材は、導管の内部を流れる熔融ガラスの放熱量を調整する。放熱抑制部材は、清澄槽および移送管の少なくとも一部において、導管の断面方向における熔融ガラスの温度が均一になるように、熱抵抗が調整されている。   The manufacturing method of the glass plate which concerns on this invention is a shaping | molding which shape | molds a glass plate from the melting process which heats a glass raw material, produces | generates molten glass, the clarification process which clarifies molten glass in a clarification tank, and clarified molten glass A process. In this glass plate manufacturing method, the molten glass produced in the melting step passes through the inside of the transfer pipe and is transferred toward the forming step. The clarification tank and the transfer pipe include a conduit, an electrode, and a heat dissipation suppressing member. The conduit is made of platinum or a platinum alloy, and molten glass flows inside. The electrode is attached to the outer wall of the conduit and heats the molten glass flowing through the conduit by passing an electric current through the conduit. The heat dissipation suppressing member is provided on the outer periphery of the conduit and suppresses heat dissipation of the molten glass flowing inside the conduit. That is, the heat dissipation suppressing member adjusts the heat dissipation amount of the molten glass flowing inside the conduit. The thermal resistance of the heat dissipation suppressing member is adjusted so that the temperature of the molten glass in the cross-sectional direction of the conduit is uniform in at least a part of the clarification tank and the transfer pipe.

本発明に係るガラス板の製造方法では、ガラス原料を加熱して生成された熔融ガラスは、清澄槽および移送管の内部を通過して、熔融ガラスからガラス板が連続的に成形される装置に送られる。清澄槽は、移送管と同様の管状の部材である。清澄槽では、内部を流れる熔融ガラスが加熱されて、熔融ガラスに含まれる微小な気泡が除去される。清澄槽および移送管は、白金または白金合金製の導管と、導管に電流を流すために用いられる電極とを備えている。熔融ガラスは、導管の内部を流れる。電極を介して導管に電流を流すことで導管が加熱され、導管の内部を流れる熔融ガラスが加熱される。導管に流す電流を制御することで、導管の内部を流れる熔融ガラスの温度を制御することができる。導管を流れる電流の電流密度は、導管の外壁の部位によって異なる。例えば、電極が、環状の導電体から構成されるフランジである場合、電源に接続されるフランジの給電端子に近い部位では、導管の外壁を流れる電流密度が大きい。そのため、導管の内部において、フランジの給電端子に近い空間を流れる熔融ガラスは、他の空間を流れる熔融ガラスと比べて、加熱されやすい。一方、フランジの給電端子から最も離れている空間を流れる熔融ガラスは、他の空間を流れる熔融ガラスと比べて、加熱されにくい。   In the manufacturing method of the glass plate which concerns on this invention, the molten glass produced | generated by heating a glass raw material passes the inside of a clarification tank and a transfer pipe, and is an apparatus by which a glass plate is continuously shape | molded from molten glass. Sent. The clarification tank is a tubular member similar to the transfer pipe. In the clarification tank, the molten glass flowing inside is heated, and minute bubbles contained in the molten glass are removed. The clarification tank and the transfer pipe are provided with a conduit made of platinum or a platinum alloy, and an electrode used for passing an electric current through the conduit. The molten glass flows inside the conduit. A current is passed through the electrode through the electrode to heat the conduit, and the molten glass flowing inside the conduit is heated. By controlling the current flowing through the conduit, the temperature of the molten glass flowing inside the conduit can be controlled. The current density of the current flowing through the conduit varies depending on the location of the outer wall of the conduit. For example, when the electrode is a flange made of an annular conductor, the current density flowing through the outer wall of the conduit is large at a portion near the power supply terminal of the flange connected to the power source. Therefore, the molten glass that flows in the space near the power supply terminal of the flange in the inside of the conduit is more easily heated than the molten glass that flows in other spaces. On the other hand, the molten glass that flows through the space farthest from the power supply terminal of the flange is less likely to be heated than the molten glass that flows through other spaces.

本発明に係るガラス板の製造方法では、導管の外周に設けられる放熱抑制部材は、その近傍の導管外壁を流れる電流密度に応じて、熱抵抗が調整されている。例えば、フランジの給電端子に近い導管外壁に対向して設置されている放熱抑制部材は、低い熱抵抗を有する。そのため、フランジの給電端子に近い空間を流れる熔融ガラスの熱は、導管および放熱抑制部材を介して放出されやすい。一方、フランジの給電端子から最も離れている導管外壁に対向して設置される放熱抑制部材は、高い熱抵抗を有する。そのため、フランジの給電端子から最も離れている空間を流れる熔融ガラスの熱は、導管および放熱抑制部材を介して放出されにくい。一般的に、導管を流れる電流の電流密度は、電極の位置および向き等に起因して、外壁の部位に応じて不均一になるので、導管の内部を流れる熔融ガラスの温度は、導管の断面方向において不均一になる傾向がある。しかし、上述したように、熱抵抗が調整された放熱抑制部材を用いて、導管の内部を流れる熔融ガラスの放熱量を、電極の位置および向き等に応じて調整することで、導管の断面方向における熔融ガラスの温度を均一にすることができる。従って、このガラス板の製造方法では、白金または白金合金から構成される管の内部を流れる熔融ガラスの温度を均一にすることができる。   In the method for producing a glass plate according to the present invention, the heat resistance of the heat dissipation suppressing member provided on the outer periphery of the conduit is adjusted in accordance with the current density flowing through the conduit outer wall in the vicinity thereof. For example, a heat dissipation suppression member that is installed facing the outer wall of the conduit near the power supply terminal of the flange has a low thermal resistance. Therefore, the heat of the molten glass flowing in the space near the power supply terminal of the flange is easily released through the conduit and the heat dissipation suppressing member. On the other hand, the heat radiation suppressing member installed facing the outer wall of the conduit furthest from the power supply terminal of the flange has a high thermal resistance. Therefore, the heat of the molten glass flowing through the space farthest from the power supply terminal of the flange is not easily released through the conduit and the heat dissipation suppressing member. Generally, the current density of the current flowing through the conduit becomes non-uniform depending on the location of the outer wall due to the position and orientation of the electrodes, etc. There is a tendency to be non-uniform in direction. However, as described above, by using the heat dissipation suppressing member with adjusted thermal resistance, the heat dissipation amount of the molten glass flowing inside the conduit is adjusted according to the position and orientation of the electrode, so that the cross-sectional direction of the conduit The temperature of the molten glass in can be made uniform. Therefore, in this glass plate manufacturing method, the temperature of the molten glass flowing inside the tube made of platinum or platinum alloy can be made uniform.

また、清澄槽および移送管の少なくとも一部において、異なる厚みを有する複数の放熱抑制部材が、導管の外周に設けられることにより、熱抵抗が調整されていることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the thermal resistance is adjusted by providing a plurality of heat radiation suppressing members having different thicknesses on the outer periphery of the conduit in at least a part of the clarification tank and the transfer pipe.

また、清澄槽および移送管の少なくとも一部において、異なる熱伝導率を有する複数の放熱抑制部材が、導管の外周に設けられることにより、熱抵抗が調整されていることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the thermal resistance is adjusted by providing a plurality of heat radiation suppressing members having different thermal conductivities on the outer periphery of the conduit in at least a part of the clarification tank and the transfer pipe.

また、放熱抑制部材は、耐火レンガであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that a heat dissipation suppression member is a refractory brick.

また、放熱抑制部材は、アルミナセメントであることが好ましい。   The heat dissipation suppressing member is preferably alumina cement.

また、ガラス板は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that a glass plate is a glass substrate for flat panel displays.

また、ガラス板は、低温ポリシリコン用ガラス基板であることが好ましい。   The glass plate is preferably a glass substrate for low-temperature polysilicon.

本発明に係るガラス板の製造装置は、ガラス原料を加熱して熔融ガラスを生成する熔融槽と、熔融槽で生成された熔融ガラスを清澄する清澄槽と、清澄槽で清澄された熔融ガラスからガラス板を成形する成形装置と、を備える。熔融槽で生成された熔融ガラスは、移送管の内部を通過して成形装置に向かって移送される。清澄槽および移送管は、導管と、電極と、放熱抑制部材とを備える。導管は、白金または白金合金製であり、内部を熔融ガラスが流れる。電極は、導管の外壁に取り付けられ、導管に電流を流して導管の内部を流れる熔融ガラスを加熱する。放熱抑制部材は、導管の外周に設けられ、導管の内部を流れる熔融ガラスの放熱を抑制する。すなわち、放熱抑制部材は、導管の内部を流れる熔融ガラスの放熱量を調整する。放熱抑制部材は、清澄槽および移送管の少なくとも一部において、導管の断面方向における熔融ガラスの温度が均一になるように、熱抵抗が調整されている。   An apparatus for producing a glass sheet according to the present invention comprises: a melting tank that heats a glass raw material to produce molten glass; a clarification tank that clarifies molten glass generated in the melting tank; and a molten glass that is clarified in a clarification tank. A molding apparatus for molding a glass plate. The molten glass produced | generated by the melting tank passes the inside of a transfer pipe, and is transferred toward a shaping | molding apparatus. The clarification tank and the transfer pipe include a conduit, an electrode, and a heat dissipation suppressing member. The conduit is made of platinum or a platinum alloy, and molten glass flows inside. The electrode is attached to the outer wall of the conduit and heats the molten glass flowing through the conduit by passing an electric current through the conduit. The heat dissipation suppressing member is provided on the outer periphery of the conduit and suppresses heat dissipation of the molten glass flowing inside the conduit. That is, the heat dissipation suppressing member adjusts the heat dissipation amount of the molten glass flowing inside the conduit. The thermal resistance of the heat dissipation suppressing member is adjusted so that the temperature of the molten glass in the cross-sectional direction of the conduit is uniform in at least a part of the clarification tank and the transfer pipe.

本発明に係るガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置は、白金または白金合金から構成される管の内部を流れる熔融ガラスの温度を均一にすることができる。   The glass plate manufacturing method and the glass plate manufacturing apparatus according to the present invention can make the temperature of the molten glass flowing inside a tube made of platinum or a platinum alloy uniform.

実施形態に係るガラス板製造装置の全体構成図である。It is a whole block diagram of the glass plate manufacturing apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る移送管の外観図である。It is an external view of the transfer pipe concerning an embodiment. 実施形態に係る移送管の断面図である。It is sectional drawing of the transfer pipe which concerns on embodiment. 図３のＩＶ−ＩＶ線における移送管の断面図である。It is sectional drawing of the transfer pipe in the IV-IV line of FIG. 変形例Ｄに係る移送管の断面図である。10 is a cross-sectional view of a transfer pipe according to Modification D. FIG.

（１）ガラス板製造装置の全体構成
本発明に係るガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置の実施形態について、図面を参照しながら説明する。図１は、本実施形態に係るガラス板製造装置２００の構成の一例を示す模式図である。ガラス板製造装置２００は、熔解槽４０と、清澄槽４１と、攪拌装置１００と、成形装置４２と、移送管４３ａ，４３ｂ，４３ｃとを備える。移送管４３ａは、熔解槽４０と清澄槽４１とを接続する。移送管４３ｂは、清澄槽４１と攪拌装置１００とを接続する。移送管４３ｃは、攪拌装置１００と成形装置４２とを接続する。 (1) Whole structure of glass plate manufacturing apparatus Embodiment of the manufacturing method of the glass plate which concerns on this invention, and the manufacturing apparatus of a glass plate is described, referring drawings. FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an example of a configuration of a glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment. The glass plate manufacturing apparatus 200 includes a melting tank 40, a clarification tank 41, a stirring device 100, a molding device 42, and transfer pipes 43a, 43b, and 43c. The transfer pipe 43 a connects the melting tank 40 and the clarification tank 41. The transfer pipe 43 b connects the clarification tank 41 and the stirring device 100. The transfer pipe 43 c connects the stirring device 100 and the molding device 42.

熔解槽４０で生成された熔融ガラスは、移送管４３ａを通過して清澄槽４１に流入する。清澄槽４１で清澄された熔融ガラスは、移送管４３ｂを通過して攪拌装置１００に流入する。攪拌装置１００で攪拌された熔融ガラスは、移送管４３ｃを通過して成形装置４２に流入する。成形装置４２では、オーバーフローダウンドロー法によって熔融ガラスからガラスリボンが成形される。ガラスリボンは、後の工程で所定の大きさに切断されて、ガラス板が製造される。ガラス板の幅方向の寸法は、例えば、５００ｍｍ〜３５００ｍｍである。ガラス板の長さ方向の寸法は、例えば、５００ｍｍ〜３５００ｍｍである。   The molten glass produced | generated by the melting tank 40 flows into the clarification tank 41 through the transfer pipe 43a. The molten glass clarified in the clarification tank 41 passes through the transfer pipe 43b and flows into the stirring device 100. The molten glass stirred by the stirring device 100 flows into the molding device 42 through the transfer pipe 43c. In the forming apparatus 42, a glass ribbon is formed from the molten glass by the overflow downdraw method. The glass ribbon is cut into a predetermined size in a later process to produce a glass plate. The dimension of the glass plate in the width direction is, for example, 500 mm to 3500 mm. The dimension of the length direction of a glass plate is 500 mm-3500 mm, for example.

本発明に係るガラス板の製造方法、および、ガラス板の製造装置によって製造されるガラス板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用のガラス基板として、特に適している。ＦＰＤ用のガラス基板としては、無アルカリガラス、または、アルカリ微量含有ガラスが用いられる。無アルカリガラス、または、アルカリ微量含有ガラスは、高温粘性が高い。具体的には、１０2.5ポアズの粘性を有する熔融ガラスの温度は、１５００℃以上である。 The glass plate manufactured by the glass plate manufacturing method and the glass plate manufacturing apparatus according to the present invention is particularly suitable as a glass substrate for a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display, a plasma display, and an organic EL display. ing. As the glass substrate for FPD, non-alkali glass or alkali-containing glass is used. The alkali-free glass or glass containing a small amount of alkali has a high temperature viscosity. Specifically, the temperature of the molten glass having a viscosity of 10 2.5 poise is 1500 ° C. or higher.

熔解槽４０は、図示されていないが、バーナー等の加熱手段を備えている。熔解槽４０では、加熱手段によりガラス原料が熔解され、熔融ガラスが生成される。ガラス原料は、所望の組成のガラスを実質的に得ることができるように調製される。ガラスの組成の一例として、ＦＰＤ用のガラス基板として好適な無アルカリガラスは、ＳｉＯ2：５０質量％〜７０質量％、Ａｌ2Ｏ3：０質量％〜２５質量％、Ｂ2Ｏ3：１質量％〜１５質量％、ＭｇＯ：０質量％〜１０質量％、ＣａＯ：０質量％〜２０質量％、ＳｒＯ：０質量％〜２０質量％、ＢａＯ：０質量％〜１０質量％を含有する。ここで、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計の含有量は、５質量％〜３０質量％である。 Although not shown, the melting tank 40 includes heating means such as a burner. In the melting tank 40, the glass raw material is melted by the heating means, and molten glass is generated. The glass raw material is prepared so that a glass having a desired composition can be substantially obtained. As an example of the glass composition, non-alkali glass suitable as a glass substrate for FPD is SiO 2 : 50 mass% to 70 mass%, Al 2 O 3 : 0 mass% to 25 mass%, B 2 O 3 : 1 Mass% to 15 mass%, MgO: 0 mass% to 10 mass%, CaO: 0 mass% to 20 mass%, SrO: 0 mass% to 20 mass%, BaO: 0 mass% to 10 mass%. Here, the total content of MgO, CaO, SrO and BaO is 5% by mass to 30% by mass.

また、ＦＰＤ用のガラス基板として、アルカリ金属を微量含むアルカリ微量含有ガラスを用いてもよい。アルカリ微量含有ガラスは、成分として、０．１質量％〜０．５質量％のＲ’2Ｏを含み、好ましくは、０．２質量％〜０．５質量％のＲ’2Ｏを含む。ここで、Ｒ’は、Ｌｉ、ＮａおよびＫから選択される少なくとも１種である。なお、Ｒ’2Ｏの含有量の合計は、０．１質量％未満であってもよい。 Moreover, you may use the alkali trace amount glass which contains a trace amount of alkali metals as a glass substrate for FPD. The alkali-containing glass contains 0.1% by mass to 0.5% by mass of R ′ 2 O as a component, and preferably 0.2% by mass to 0.5% by mass of R ′ 2 O. Here, R ′ is at least one selected from Li, Na and K. The total content of R ′ 2 O may be less than 0.1% by mass.

また、本発明によって製造されるガラスは、上記成分に加えて、ＳｎＯ2：０．０１質量％〜１質量％（好ましくは、０．０１質量％〜０．５質量％）、Ｆｅ2Ｏ3：０質量％〜０．２質量％（好ましくは、０．０１質量％〜０．０８質量％）をさらに含有してもよく、環境負荷を考慮して、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3およびＰｂＯを実質的に含有しなくてもよい。 The glass produced by the present invention, in addition to the above components, SnO 2: 0.01 wt% to 1 wt% (preferably 0.01 mass% to 0.5 mass%), Fe 2 O 3 : 0% by mass to 0.2% by mass (preferably 0.01% by mass to 0.08% by mass) may be further contained. In consideration of environmental load, As 2 O 3 , Sb 2 O 3 And PbO may not be substantially contained.

上記のように調製されたガラス原料は、熔解槽４０に投入される。熔解槽４０では、ガラス原料は、その組成等に応じた温度で熔解される。これにより、熔解槽４０では、例えば、１５００℃〜１６００℃の高温の熔融ガラスが得られる。   The glass raw material prepared as described above is put into the melting tank 40. In the melting tank 40, the glass raw material is melted at a temperature corresponding to its composition. Thereby, in the melting tank 40, the high temperature molten glass of 1500 to 1600 degreeC is obtained, for example.

熔解槽４０で得られた熔融ガラスは、熔解槽４０から移送管４３ａを通過して清澄槽４１に流入する。清澄槽４１は、移送管４３ａ，４３ｂ，４３ｃと同様の管状の部材である。清澄槽４１には、図示されていないが、熔解槽４０と同様に加熱手段が設置されている。清澄槽４１では、熔融ガラスがさらに昇温させられることで清澄される。例えば、清澄槽４１において、熔融ガラスの温度は、１５５０℃以上、さらには１６００℃以上に上昇させられる。熔融ガラスは、昇温されることで清澄されて、熔融ガラスに含まれる微小な泡が除去される。   The molten glass obtained in the melting tank 40 flows from the melting tank 40 through the transfer pipe 43a into the clarification tank 41. The clarification tank 41 is a tubular member similar to the transfer pipes 43a, 43b, and 43c. Although not shown in the clarification tank 41, a heating means is installed in the same manner as the melting tank 40. In the clarification tank 41, the molten glass is clarified by further raising the temperature. For example, in the clarification tank 41, the temperature of the molten glass is raised to 1550 ° C. or higher, and further to 1600 ° C. or higher. The molten glass is clarified by raising the temperature, and fine bubbles contained in the molten glass are removed.

清澄槽４１において清澄された熔融ガラスは、清澄槽４１から移送管４３ｂを通過して攪拌装置１００に流入する。熔融ガラスは、移送管４３ｂを通過する際に冷却される。攪拌装置１００では、清澄槽４１における温度よりも低い温度で、熔融ガラスが攪拌される。例えば、攪拌装置１００において、熔融ガラスの温度は、１２５０℃〜１４５０℃までに冷却される。なお、攪拌装置１００において、熔融ガラスの粘度は、例えば、５００ポアズ〜１３００ポアズである。熔融ガラスは、攪拌装置１００において攪拌されて均質化される。   The molten glass clarified in the clarification tank 41 passes through the transfer pipe 43b from the clarification tank 41 and flows into the stirring device 100. The molten glass is cooled when it passes through the transfer tube 43b. In the stirring device 100, the molten glass is stirred at a temperature lower than the temperature in the clarification tank 41. For example, in the stirring device 100, the temperature of the molten glass is cooled to 1250 ° C to 1450 ° C. In the stirring device 100, the viscosity of the molten glass is, for example, 500 poise to 1300 poise. The molten glass is stirred and homogenized in the stirring device 100.

攪拌装置１００において均質化された熔融ガラスは、攪拌装置１００から移送管４３ｃを通過して成形装置４２に流入する。熔融ガラスは移送管４３ｃを通過する際にさらに冷却され、成形に適した粘度まで冷却される。熔融ガラスは、例えば、１２００℃付近まで冷却される。成形装置４２では、オーバーフローダウンドロー法により熔融ガラスが成形される。具体的には、成形装置４２に流入した熔融ガラスは、成形炉（図示せず）の内部に設置されている成形体５２に供給される。成形体５２は、耐火レンガによって成形され、楔状の断面形状を有する。成形体５２の上面には、成形体５２の長手方向に沿って溝が形成されている。熔融ガラスは、成形体５２の上面の溝に供給される。溝から溢れた熔融ガラスは、成形体５２の一対の側面を伝って下方へ流下する。成形体５２の側面を流下した一対の熔融ガラスは、成形体５２の下端で合流して、ガラスリボンが連続的に成形される。ガラスリボンは下方へ向かうに従って徐々に冷却され、その後、所望の大きさのガラス板に切断される。   The molten glass homogenized in the stirrer 100 flows from the stirrer 100 through the transfer pipe 43 c and flows into the molding device 42. The molten glass is further cooled when passing through the transfer tube 43c, and is cooled to a viscosity suitable for molding. The molten glass is cooled to around 1200 ° C., for example. In the forming apparatus 42, the molten glass is formed by the overflow downdraw method. Specifically, the molten glass that has flowed into the molding apparatus 42 is supplied to a molded body 52 installed in a molding furnace (not shown). The formed body 52 is formed of refractory bricks and has a wedge-shaped cross-sectional shape. A groove is formed on the upper surface of the molded body 52 along the longitudinal direction of the molded body 52. The molten glass is supplied to the groove on the upper surface of the molded body 52. The molten glass overflowing from the groove flows down along the pair of side surfaces of the molded body 52. A pair of molten glass which flowed down the side surface of the molded body 52 joins at the lower end of the molded body 52, and a glass ribbon is continuously molded. The glass ribbon is gradually cooled as it goes downward, and then cut into a glass plate of a desired size.

（２）移送管の構成
熔解槽４０から成形装置４２に向かって熔融ガラスを移送するための移送管４３ａ，４３ｂ，４３ｃの詳細な構成について説明する。以下に説明する移送管４３の構成は、移送管４３ａ、移送管４３ｂおよび移送管４３ｃの少なくとも１つに適用され、かつ、管状の部材である清澄槽４１にも適用される。 (2) Structure of transfer pipe The detailed structure of the transfer pipes 43a, 43b, and 43c for transferring the molten glass from the melting tank 40 toward the molding apparatus 42 will be described. The configuration of the transfer pipe 43 described below is applied to at least one of the transfer pipe 43a, the transfer pipe 43b, and the transfer pipe 43c, and is also applied to the clarification tank 41 that is a tubular member.

図２は、移送管４３の外観図である。図３は、移送管４３の長手方向に垂直な面で切断した、移送管４３の断面図である。図４は、図３のＩＶ−ＩＶ線における移送管４３の断面図である。移送管４３は、導管６１と、電極６２と、放熱抑制部材６３とから構成される。図２において、放熱抑制部材６３は省略されている。図３，４において、電極６２は省略されている。   FIG. 2 is an external view of the transfer pipe 43. FIG. 3 is a cross-sectional view of the transfer tube 43 taken along a plane perpendicular to the longitudinal direction of the transfer tube 43. 4 is a cross-sectional view of the transfer tube 43 taken along line IV-IV in FIG. The transfer pipe 43 includes a conduit 61, an electrode 62, and a heat dissipation suppressing member 63. In FIG. 2, the heat radiation suppressing member 63 is omitted. 3 and 4, the electrode 62 is omitted.

導管６１は、白金族金属で成形される環状部材である。「白金族金属」は、単一の白金族元素からなる金属、および、白金族元素からなる金属の合金を意味する。白金族元素は、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、オスミウム（Ｏｓ）およびイリジウム（Ｉｒ）の６元素である。白金族金属は、高価であるが、融点が高く、熔融ガラスに対する耐食性に優れている。本実施形態において、導管６１は、白金または白金合金で成形され、例えば、０．５ｍｍ〜１．５ｍｍの厚みを有する。移送管４３ａ，４３ｂ，４３ｃの導管６１の内径は、例えば、１００ｍｍ〜２５０ｍｍである。清澄槽４１の導管６１の内径は、例えば、３００ｍｍ〜５００ｍｍである。熔融ガラスは、導管６１の内部を流れる。   The conduit 61 is an annular member formed of a platinum group metal. “Platinum group metal” means a metal composed of a single platinum group element and an alloy of a metal composed of a platinum group element. The platinum group elements are six elements of platinum (Pt), palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), osmium (Os) and iridium (Ir). Platinum group metals are expensive, but have a high melting point and excellent corrosion resistance against molten glass. In this embodiment, the conduit | pipe 61 is shape | molded with platinum or a platinum alloy, for example, has thickness of 0.5 mm-1.5 mm. The inner diameter of the conduit 61 of the transfer pipes 43a, 43b, 43c is, for example, 100 mm to 250 mm. The inner diameter of the conduit 61 of the clarification tank 41 is, for example, 300 mm to 500 mm. The molten glass flows inside the conduit 61.

電極６２は、導管６１の外壁に取り付けられる。電極６２は、環状の導電体からなるフランジである。図２において、導管６１の両端の近傍に、２つの電極６２が取り付けられている。しかし、導管６１に取り付けられる電極６２の数および位置は、導管６１の材質、内径および長さ、または、移送管４３の設置位置等に応じて、適宜に決定される。電極６２は、電源（図示せず）に接続される一対の給電端子６２ａを有する。給電端子６２ａを介して電源から電極６２に電力が供給され、電極６２に電流が流れる。電極６２を流れる電流は、導管６１に伝達される。導管６１に電流が流れることによって、導管６１は加熱され、導管６１の内部を流れる熔融ガラスが加熱される。電極６２を流れる電流を制御することで、導管６１の内部を流れる熔融ガラスの温度を制御することができる。なお、導管６１に取り付けられる２つの電極６２の給電端子６２ａは、図２に示されるように、導管６１の上側に配置されている。   The electrode 62 is attached to the outer wall of the conduit 61. The electrode 62 is a flange made of an annular conductor. In FIG. 2, two electrodes 62 are attached in the vicinity of both ends of the conduit 61. However, the number and position of the electrodes 62 attached to the conduit 61 are appropriately determined according to the material, inner diameter and length of the conduit 61, the installation position of the transfer pipe 43, and the like. The electrode 62 has a pair of power supply terminals 62a connected to a power source (not shown). Power is supplied from the power source to the electrode 62 via the power supply terminal 62 a, and a current flows through the electrode 62. The current flowing through the electrode 62 is transmitted to the conduit 61. When current flows through the conduit 61, the conduit 61 is heated, and the molten glass flowing inside the conduit 61 is heated. By controlling the current flowing through the electrode 62, the temperature of the molten glass flowing inside the conduit 61 can be controlled. Note that the power supply terminals 62a of the two electrodes 62 attached to the conduit 61 are arranged on the upper side of the conduit 61 as shown in FIG.

放熱抑制部材６３は、図３および図４に示されるように、導管６１の外周において、導管６１の内部を流れる熔融ガラスの放熱を抑制するために設けられる。放熱抑制部材６３は、導管６１の断面方向における熔融ガラスの温度が均一になるように、熱抵抗が調整されている。導管６１の断面方向における熔融ガラスの温度が均一であるとは、図３に示される導管６１の内部の熔融ガラスの温度が均一であることを意味する。   As shown in FIGS. 3 and 4, the heat dissipation suppressing member 63 is provided on the outer periphery of the conduit 61 to suppress heat dissipation of the molten glass flowing inside the conduit 61. The heat dissipation suppressing member 63 is adjusted in thermal resistance so that the temperature of the molten glass in the cross-sectional direction of the conduit 61 is uniform. That the temperature of the molten glass in the cross-sectional direction of the conduit 61 is uniform means that the temperature of the molten glass inside the conduit 61 shown in FIG. 3 is uniform.

放熱抑制部材６３は、１つの内側断熱材６３ａ、１つの上部外側断熱材６３ｂ１、２つの側部外側断熱材６３ｂ２および１つの下部外側断熱材６３ｂ３とから構成される。内側断熱材６３ａは、アルミナセメントで成形され、導管６１の外壁と接している。導管６１の外壁は、内側断熱材６３ａによって覆われている。上部外側断熱材６３ｂ１、側部外側断熱材６３ｂ２および下部外側断熱材６３ｂ３は、耐火レンガで成形され、図３に示されるように、内側断熱材６３ａの外壁と接している。内側断熱材６３ａの外壁は、上部外側断熱材６３ｂ１、側部外側断熱材６３ｂ２および下部外側断熱材６３ｂ３によって覆われている。上部外側断熱材６３ｂ１は、導管６１の上方に配置され、電極６２の給電端子６２ａに最も近い。側部外側断熱材６３ｂ２は、導管６１の側方に配置される。下部外側断熱材６３ｂ３は、導管６１の下方に配置され、電極６２の給電端子６２ａから最も離れている。言い換えると、上部外側断熱材６３ｂ１は、内側断熱材６３ａの上面と面接触している。一対の側部外側断熱材６３ｂ２は、内側断熱材６３ａの両側面と面接触している。下部外側断熱材６３ｂ３は、内側断熱材６３ａの下面と面接触している。なお、上部外側断熱材６３ｂ１、側部外側断熱材６３ｂ２および下部外側断熱材６３ｂ３の厚みは、例えば、３００ｍｍ〜８００ｍｍである。   The heat radiation suppressing member 63 includes one inner heat insulating material 63a, one upper outer heat insulating material 63b, two side outer heat insulating materials 63b2, and one lower outer heat insulating material 63b3. The inner heat insulating material 63 a is formed of alumina cement and is in contact with the outer wall of the conduit 61. The outer wall of the conduit 61 is covered with an inner heat insulating material 63a. The upper outer heat insulating material 63b1, the side outer heat insulating material 63b2, and the lower outer heat insulating material 63b3 are formed of firebrick and are in contact with the outer wall of the inner heat insulating material 63a as shown in FIG. The outer wall of the inner heat insulating material 63a is covered with an upper outer heat insulating material 63b1, a side outer heat insulating material 63b2, and a lower outer heat insulating material 63b3. The upper outer heat insulating material 63 b 1 is disposed above the conduit 61 and is closest to the power supply terminal 62 a of the electrode 62. The side outer heat insulating material 63b2 is disposed on the side of the conduit 61. The lower outer heat insulating material 63b3 is disposed below the conduit 61 and is farthest from the power supply terminal 62a of the electrode 62. In other words, the upper outer heat insulating material 63b1 is in surface contact with the upper surface of the inner heat insulating material 63a. The pair of side outer heat insulating materials 63b2 are in surface contact with both side surfaces of the inner heat insulating material 63a. The lower outer heat insulating material 63b3 is in surface contact with the lower surface of the inner heat insulating material 63a. The thicknesses of the upper outer heat insulating material 63b1, the side outer heat insulating material 63b2, and the lower outer heat insulating material 63b3 are, for example, 300 mm to 800 mm.

（３）特徴
（３−１）
本実施形態に係るガラス板製造装置２００では、ガラス原料を加熱して生成された熔融ガラスは、清澄槽４１および移送管４３ａ，４３ｂ，４３ｃの内部を通過して、成形装置４２に送られる。清澄槽４１および移送管４３ａ，４３ｂ，４３ｃは、白金または白金合金製の導管６１と、導管６１に電流を流すために用いられるフランジ形状の電極６２とを備えている。熔融ガラスは、導管６１の内部を流れる。電極６２を介して導管６１に電流を流すことで導管６１が加熱され、導管６１の内部を流れる熔融ガラスが加熱される。 (3) Features (3-1)
In the glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment, the molten glass generated by heating the glass raw material passes through the clarification tank 41 and the transfer pipes 43a, 43b, and 43c and is sent to the forming apparatus 42. The clarification tank 41 and the transfer pipes 43a, 43b, and 43c include a conduit 61 made of platinum or a platinum alloy, and a flange-shaped electrode 62 that is used to pass an electric current through the conduit 61. The molten glass flows inside the conduit 61. By passing an electric current through the electrode 62 through the electrode 62, the conduit 61 is heated, and the molten glass flowing inside the conduit 61 is heated.

しかし、導管６１を流れる電流の電流密度は、導管６１の外壁の部位によって異なる。具体的には、電極６２の給電端子６２ａに近い部位では、導管６１の外壁を流れる電流密度が大きい。そのため、導管６１の内部において、給電端子６２ａに近い空間を流れる熔融ガラスは、他の空間を流れる熔融ガラスと比べて、加熱されやすい。一方、給電端子６２ａから最も離れている空間を流れる熔融ガラスは、他の空間を流れる熔融ガラスと比べて、加熱されにくい。   However, the current density of the current flowing through the conduit 61 varies depending on the portion of the outer wall of the conduit 61. Specifically, the density of the current flowing through the outer wall of the conduit 61 is large at a portion of the electrode 62 close to the power supply terminal 62a. Therefore, in the inside of the conduit 61, the molten glass that flows in the space close to the power supply terminal 62a is more easily heated than the molten glass that flows in other spaces. On the other hand, the molten glass that flows through the space farthest from the power supply terminal 62a is less likely to be heated than the molten glass that flows through another space.

本実施形態に係るガラス板製造装置２００では、導管６１の外周に設けられる複数の放熱抑制部材６３は、その近傍の導管６１の外壁を流れる電流密度に応じて、熱抵抗が調整されている。具体的には、電極６２の給電端子６２ａに最も近い上部外側断熱材６３ｂ１の熱伝導率、および、上部外側断熱材６３ｂ１に隣接する側部外側断熱材６３ｂ２の熱伝導率は、電極６２の給電端子６２ａから最も離れている下部外側断熱材６３ｂ３の熱伝導率より大きい。これにより、給電端子６２ａに近い空間を流れ、加熱されやすい熔融ガラスの熱は、導管６１および放熱抑制部材６３（内側断熱材６３ａおよび上部外側断熱材６３ｂ１）を介して放出されやすい。一方、給電端子６２ａから最も離れている空間を流れ、加熱されにくい熔融ガラスの熱は、導管６１および放熱抑制部材６３（内側断熱材６３ａおよび下部外側断熱材６３ｂ３）を介して放出されにくい。   In the glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment, the thermal resistance of the plurality of heat radiation suppressing members 63 provided on the outer periphery of the conduit 61 is adjusted according to the current density flowing through the outer wall of the conduit 61 in the vicinity thereof. Specifically, the heat conductivity of the upper outer heat insulating material 63b1 closest to the power supply terminal 62a of the electrode 62 and the heat conductivity of the side outer heat insulating material 63b2 adjacent to the upper outer heat insulating material 63b1 are determined by the power supply of the electrode 62. It is larger than the thermal conductivity of the lower outer heat insulating material 63b3 farthest from the terminal 62a. Thereby, the heat of the molten glass that flows through the space close to the power supply terminal 62a and is easily heated is easily released through the conduit 61 and the heat radiation suppressing member 63 (the inner heat insulating material 63a and the upper outer heat insulating material 63b1). On the other hand, the heat of the molten glass that flows through the space farthest from the power supply terminal 62a and is not easily heated is hardly released through the conduit 61 and the heat radiation suppressing member 63 (the inner heat insulating material 63a and the lower outer heat insulating material 63b3).

一般的に、導管６１を流れる電流の電流密度は、電極６２の位置および向き、特に、給電端子６２ａの位置等に応じて、導管６１外壁の部位に応じて不均一になるので、導管６１の内部を流れる熔融ガラスの温度は、導管６１の断面方向において不均一になる傾向がある。しかし、互いに異なる熱伝導率を有する複数種類の放熱抑制部材６３を用いて、導管６１の内部を流れる熔融ガラスの放熱量を、電極６２の位置および向き等に応じて調整することで、導管６１の断面方向における熔融ガラスの温度を均一にすることができる。従って、本実施形態に係るガラス板製造装置２００は、白金または白金合金から構成される管の内部を流れる熔融ガラスの温度を均一にすることができる。   In general, the current density of the current flowing through the conduit 61 becomes non-uniform depending on the position and orientation of the electrode 62, particularly the position of the feeding terminal 62a, etc. The temperature of the molten glass flowing inside tends to be non-uniform in the cross-sectional direction of the conduit 61. However, by using a plurality of types of heat radiation suppressing members 63 having different thermal conductivities, the heat radiation amount of the molten glass flowing inside the conduit 61 is adjusted in accordance with the position and orientation of the electrode 62, so that the conduit 61 The temperature of the molten glass in the cross-sectional direction can be made uniform. Therefore, the glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment can make the temperature of the molten glass flowing inside the tube made of platinum or a platinum alloy uniform.

（３−２）
本実施形態に係るガラス板製造装置２００は、白金または白金合金製の管状の部材である清澄槽４１において、ＳｎＯ2を清澄剤として使用する場合に、特に効果的である。清澄槽４１を加熱して熔融ガラスの温度を上げて熔融ガラスを清澄する清澄工程において、電極６２の位置および向き等に応じて導管６１に電流が不均一に流れる等の要因により、導管６１の内部を流れる熔融ガラスの温度が均一に上昇しない場合がある。 (3-2)
The glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment is particularly effective when SnO 2 is used as a fining agent in the fining tank 41 that is a tubular member made of platinum or a platinum alloy. In the clarification process of heating the clarification tank 41 to raise the temperature of the molten glass and clarifying the molten glass, due to factors such as non-uniform current flowing in the conduit 61 according to the position and orientation of the electrode 62, etc. The temperature of the molten glass flowing inside may not rise uniformly.

この場合、清澄槽４１の導管６１内部において、給電端子６２ａから最も離れている空間を流れ、加熱されにくい熔融ガラスの温度を確実に上昇させるために、清澄槽４１の導管６１に流す電流を増加させることが考えられる。しかし、清澄槽４１の導管６１に流す電流を増加させると、導管６１を構成する白金または白金合金の揮発が促進され、清澄槽４１の寿命が短くなるおそれがある。また、近年、環境負荷の観点から、Ａｓ2Ｏ3の替わりにＳｎＯ2が清澄剤として用いられる。ＳｎＯ2を使用する場合、Ａｓ2Ｏ3を使用する場合よりも、清澄槽４１において熔融ガラスをより高温にする必要があるため、白金または白金合金の揮発の問題が顕著になる。そのため、清澄槽４１を過剰に加熱することは好ましくない。本実施形態では、放熱抑制部材６３によって、清澄槽４１の内部を流れる熔融ガラスの温度を均一にすることができ、かつ、清澄槽４１からの放熱量を効果的に抑制することができるので、ＳｎＯ2を清澄剤として使用するガラス板の製造工程に、特に効果的である。 In this case, in the conduit 61 of the clarification tank 41, the current flowing through the conduit 61 of the clarification tank 41 is increased in order to surely increase the temperature of the molten glass that is hardly heated and flows through the space farthest from the power supply terminal 62a. It is possible to make it. However, when the current flowing through the conduit 61 of the clarification tank 41 is increased, volatilization of platinum or platinum alloy constituting the conduit 61 is promoted, and the life of the clarification tank 41 may be shortened. In recent years, SnO 2 is used as a refining agent instead of As 2 O 3 from the viewpoint of environmental load. When SnO 2 is used, the molten glass needs to be heated to a higher temperature in the clarification tank 41 than when As 2 O 3 is used, and thus the problem of volatilization of platinum or a platinum alloy becomes significant. Therefore, it is not preferable to heat the clarification tank 41 excessively. In the present embodiment, the heat dissipation suppressing member 63 can make the temperature of the molten glass flowing inside the clarification tank 41 uniform, and the heat dissipation from the clarification tank 41 can be effectively suppressed. This is particularly effective in the manufacturing process of glass plates that use SnO 2 as a fining agent.

（３−３）
本実施形態に係るガラス板製造装置２００は、白金または白金合金製の管状の部材である清澄槽４１において、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイおよび有機ＥＬディスプレイ等のＦＰＤ用ガラス基板の製造に好適なガラス原料から生成される熔融ガラスを清澄する場合に、特に効果的である。 (3-3)
The glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment is a glass material suitable for manufacturing a glass substrate for FPD such as a liquid crystal display, a plasma display and an organic EL display in a clarification tank 41 which is a tubular member made of platinum or a platinum alloy. This is particularly effective when refining molten glass produced from the above.

清澄槽４１では、熔融ガラスの粘度を、熔融ガラスに含まれる微小な泡が液面に浮上しやすい粘度に調整することにより、熔融ガラスが清澄される。しかし、ＦＰＤ用ガラス基板に好適な無アルカリガラスおよびアルカリ微量含有ガラスは、高温時において高い粘度を有し、その熔融ガラスの温度を、通常のアルカリガラスの熔融ガラスの温度に比べて高くする必要があるため、上述した白金または白金合金の揮発の問題が顕著になる。そのため、清澄槽４１を過剰に加熱することは好ましくない。本実施形態では、放熱抑制部材６３によって、清澄槽４１の内部を流れる熔融ガラスの温度を均一にすることができ、かつ、清澄槽４１からの放熱量を効果的に抑制することができるので、ＦＰＤ用ガラス基板の製造工程に、特に効果的である。   In the clarification tank 41, the molten glass is clarified by adjusting the viscosity of the molten glass to a viscosity at which minute bubbles contained in the molten glass easily float on the liquid surface. However, alkali-free glass and alkali-containing glass suitable for FPD glass substrates have high viscosity at high temperatures, and the temperature of the molten glass needs to be higher than the temperature of ordinary alkali glass molten glass. Therefore, the problem of volatilization of platinum or platinum alloy described above becomes significant. Therefore, it is not preferable to heat the clarification tank 41 excessively. In the present embodiment, the heat dissipation suppressing member 63 can make the temperature of the molten glass flowing inside the clarification tank 41 uniform, and the heat dissipation from the clarification tank 41 can be effectively suppressed. It is particularly effective for the manufacturing process of the FPD glass substrate.

（３−４）
本実施形態に係るガラス板製造装置２００は、移送管４３ａ，４３ｂ，４３ｃによって熔解槽４０から成形装置４２に向かって移送され、かつ、ＦＰＤ用ガラス基板の製造に好適なガラス原料から生成される熔融ガラスを清澄する場合に、特に効果的である。 (3-4)
The glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment is transferred from the melting tank 40 toward the forming apparatus 42 by transfer pipes 43a, 43b, and 43c, and is generated from a glass raw material suitable for manufacturing a glass substrate for FPD. This is particularly effective when refining molten glass.

ＦＰＤ用ガラス基板は、ガラス板の平坦度等において、高い品質が要求される。しかし、成形装置４２に熔融ガラスを供給する移送管４３ｃの内部を流れる熔融ガラスの温度が不均一であると、成形体５２から熔融ガラスが均一に溢れない。そのため、成形体５２から成形されるガラス板の板厚偏差が大きくなるので、ガラス板の平坦度が悪くなる。本実施形態に係るガラス板製造装置２００は、移送管４３ｃから成形装置４２に供給される熔融ガラスの温度が均一であるので、ＦＰＤ用ガラス基板に好適な、高い平坦度を有するガラス板を製造することができる。   The glass substrate for FPD is required to have high quality in terms of flatness of the glass plate. However, if the temperature of the molten glass flowing inside the transfer pipe 43 c that supplies the molten glass to the molding device 42 is not uniform, the molten glass does not overflow uniformly from the molded body 52. Therefore, the thickness deviation of the glass plate molded from the molded body 52 is increased, and the flatness of the glass plate is deteriorated. The glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment manufactures a glass plate having high flatness suitable for a glass substrate for FPD because the temperature of the molten glass supplied from the transfer pipe 43c to the forming apparatus 42 is uniform. can do.

（３−５）
ＦＰＤ用のガラス基板の表面には、ＴＦＴ等の半導体素子が形成される。近年、ディスプレイ装置のさらなる高精細化を実現するために、従来のα−Ｓｉ・ＴＦＴに替わって、低温ｐ−Ｓｉ（ポリシリコン）・ＴＦＴ、および、酸化物半導体をガラス基板の表面に形成する技術が求められている。 (3-5)
A semiconductor element such as a TFT is formed on the surface of the glass substrate for FPD. In recent years, low-temperature p-Si (polysilicon) TFTs and oxide semiconductors are formed on the surface of a glass substrate in place of conventional α-Si TFTs in order to realize higher definition display devices. Technology is required.

しかし、低温ｐ−Ｓｉ・ＴＦＴ、および、酸化物半導体をガラス基板の表面に形成する工程は、α−Ｓｉ・ＴＦＴをガラス基板の表面に形成する工程と比べて、より高温の熱処理が必要である。そのため、低温ｐ−Ｓｉ・ＴＦＴ、および、酸化物半導体が表面に形成されるガラス板には、熱収縮率が小さい性質が求められる。熱収縮率を小さくするためには、ガラスの歪点を高くすることが好ましい。しかし、歪点が高いガラスは、液相温度が高くなり、液相温度における粘度である液相粘度が低くなる傾向にある。この場合、移送管の内部を流れる熔融ガラスの粘度と液相粘度との差が小さくなるので、成形されたガラス板が失透するリスクが高くなる。特に、熔融ガラスの温度が断面方向において均一でない場合、熔融ガラスの温度が部分的に低下する領域が生じるので、失透のリスクが高くなる。   However, the process of forming the low temperature p-Si • TFT and the oxide semiconductor on the surface of the glass substrate requires a higher temperature heat treatment than the step of forming the α-Si • TFT on the surface of the glass substrate. is there. Therefore, a low-temperature p-Si.TFT and a glass plate on which an oxide semiconductor is formed are required to have a low heat shrinkage property. In order to reduce the thermal shrinkage rate, it is preferable to increase the strain point of the glass. However, glass having a high strain point tends to have a high liquidus temperature and a low liquidus viscosity, which is the viscosity at the liquidus temperature. In this case, since the difference between the viscosity of the molten glass flowing inside the transfer tube and the liquid phase viscosity is reduced, the risk of devitrification of the molded glass plate is increased. In particular, when the temperature of the molten glass is not uniform in the cross-sectional direction, a region in which the temperature of the molten glass is partially reduced occurs, so that the risk of devitrification increases.

本実施形態に係るガラス板製造装置２００は、放熱抑制部材６３によって、清澄槽４１の内部を流れる熔融ガラスの温度を断面方向において均一にすることができるので、低温ｐ−Ｓｉ・ＴＦＴを採用したフラットパネルディスプレイ、および、酸化物半導体を採用したフラットパネルディスプレイ用のガラス基板の製造に、特に適している。具体的には、低温ｐ−Ｓｉ・ＴＦＴを採用した液晶ディスプレイまたは有機ＥＬディスプレイ、および、酸化物半導体を採用した液晶ディスプレイまたは有機ＥＬディスプレイ用のガラス基板の製造に、特に適している。   Since the glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment can make the temperature of the molten glass flowing inside the clarification tank 41 uniform in the cross-sectional direction by the heat radiation suppressing member 63, the low-temperature p-Si · TFT is adopted. It is particularly suitable for the production of flat panel displays and glass substrates for flat panel displays that employ oxide semiconductors. Specifically, it is particularly suitable for the production of glass substrates for liquid crystal displays or organic EL displays that employ low-temperature p-Si · TFTs, and liquid crystal displays or organic EL displays that employ oxide semiconductors.

低温ｐ−Ｓｉ・ＴＦＴ、および、酸化物半導体が表面に形成されるガラス板は、例えば、６５５℃以上の歪点を有し、または、４５０００ポアズ以上の液相粘度を有している。また、このガラス板の組成は、ＳｉＯ2：５２質量％〜７８質量％、Ａｌ2Ｏ3：３質量％〜２５質量％、Ｂ2Ｏ3：１質量％〜１５質量％、ＲＯ：３質量％〜２０質量％であることが好ましい。ここで、Ｒは、ガラス板に含有され、Ｍｇ，Ｃａ，ＳｒおよびＢａから選択される少なくとも１種の成分である。このガラス板は、（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）／Ｂ2Ｏ3で表される質量比が７〜２０である、無アルカリガラスまたはアルカリ微量含有ガラスであることが好ましい。 The glass plate on which the low-temperature p-Si • TFT and the oxide semiconductor are formed has, for example, a strain point of 655 ° C. or higher, or a liquid phase viscosity of 45000 poise or higher. The composition of the glass plate, SiO 2: 52 wt% to 78 wt%, Al 2 O 3: 3 wt% to 25 wt%, B 2 O 3: 1% to 15 wt%, RO: 3 Weight It is preferable that it is% -20 mass%. Here, R is at least one component selected from Mg, Ca, Sr and Ba contained in the glass plate. This glass plate is preferably a non-alkali glass or a trace amount of alkali-containing glass having a mass ratio represented by (SiO 2 + Al 2 O 3 ) / B 2 O 3 of 7 to 20.

低温ｐ−Ｓｉ・ＴＦＴ、および、酸化物半導体が表面に形成されるガラス板は、高い歪点を有するために、（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）／ＲＯで表される質量比が５以上であり、好ましくは６以上であり、さらに好ましくは７．５以上である。また、このガラス板は、β−ＯＨ値が小さすぎると高温領域での粘性が高くなり熔解性が低下し、β−ＯＨ値が大きすぎると歪点が低くなる。そのため、このガラス板は、０．０５／ｍｍ〜０．３／ｍｍのβ−ＯＨ値を有することが好ましい。 Since the glass plate on which the low temperature p-Si.TFT and the oxide semiconductor are formed has a high strain point, the mass ratio represented by (SiO 2 + Al 2 O 3 ) / RO is 5 or more. Yes, preferably 6 or more, more preferably 7.5 or more. In addition, when the β-OH value is too small, the glass plate has a high viscosity in a high temperature region and the meltability is lowered. When the β-OH value is too large, the strain point is lowered. Therefore, this glass plate preferably has a β-OH value of 0.05 / mm to 0.3 / mm.

また、このガラス板は、高い歪点を有しつつ液相粘度の低下を防止するために、ＣａＯ／ＲＯで表される質量比が０．３以上であり、好ましくは０．５以上であり、さらに好ましくは０．６５以上である。また、このガラス板は、環境負荷を考慮して、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3およびＰｂＯを実質的に含有しないことが好ましい。 The glass plate has a high strain point and prevents a decrease in liquid phase viscosity, and the mass ratio represented by CaO / RO is 0.3 or more, preferably 0.5 or more. More preferably, it is 0.65 or more. Further, the glass plate, in consideration of the environmental burden, it is preferred not to substantially contain As 2 O 3, Sb 2 O 3 , and PbO.

（４）変形例
（４−１）変形例Ａ
本実施形態に係るガラス板製造装置２００では、放熱抑制部材６３として、互いに異なる熱伝導率を有する上部外側断熱材６３ｂ１、側部外側断熱材６３ｂ２および下部外側断熱材６３ｂ３が用いられている。また、上部外側断熱材６３ｂ１および側部外側断熱材６３ｂ２は、同じ材質から成形されている。しかし、上部外側断熱材６３ｂ１および側部外側断熱材６３ｂ２は、互いに異なる熱伝導率を有する複数種類の材質から成形されていてもよい。 (4) Modification (4-1) Modification A
In the glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment, an upper outer heat insulating material 63b1, a side outer heat insulating material 63b2, and a lower outer heat insulating material 63b3 having different thermal conductivities are used as the heat radiation suppressing member 63. The upper outer heat insulating material 63b1 and the side outer heat insulating material 63b2 are formed from the same material. However, the upper outer heat insulating material 63b1 and the side outer heat insulating material 63b2 may be formed from a plurality of types of materials having different thermal conductivities.

本変形例では、例えば、側部外側断熱材６３ｂ２として、上部外側断熱材６３ｂ１の熱伝導率より小さい熱伝導率を有する耐火レンガを用いてもよい。これにより、導管６１の側部からの放熱量を、給電端子６２ａに最も近い導管６１上部からの放熱量より小さくすることができるので、熔融ガラスの温度をより効果的に均一にすることができる。   In this modification, for example, a refractory brick having a thermal conductivity smaller than that of the upper outer heat insulating material 63b1 may be used as the side outer heat insulating material 63b2. Thereby, since the heat dissipation from the side part of the conduit | pipe 61 can be made smaller than the heat dissipation from the upper part of the conduit | pipe 61 nearest to the electric power feeding terminal 62a, the temperature of molten glass can be made more effective and uniform. .

（４−２）変形例Ｂ
本実施形態に係るガラス板製造装置２００では、放熱抑制部材６３として、互いに異なる熱伝導率を有する上部外側断熱材６３ｂ１、側部外側断熱材６３ｂ２および下部外側断熱材６３ｂ３が用いられている。しかし、これらの放熱抑制部材６３の替わりに、互いに異なる厚みを有する複数種類の放熱抑制部材が用いられてもよい。この場合、放熱抑制部材の材質は、一種類であってもよい。 (4-2) Modification B
In the glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment, an upper outer heat insulating material 63b1, a side outer heat insulating material 63b2, and a lower outer heat insulating material 63b3 having different thermal conductivities are used as the heat radiation suppressing member 63. However, in place of these heat radiation suppressing members 63, a plurality of types of heat radiation suppressing members having different thicknesses may be used. In this case, the material of the heat dissipation suppressing member may be one type.

本変形例では、例えば、下部外側断熱材６３ｂ３に相当する放熱抑制部材の厚みは、上部外側断熱材６３ｂ１および側部外側断熱材６３ｂ２に相当する放熱抑制部材の厚みより大きい。これにより、本実施形態と同様に、給電端子６２ａに近い空間を流れる熔融ガラスの熱は放出されやすく、給電端子６２ａから最も離れている空間を流れる熔融ガラスの熱は放出されにくくなる。そのため、白金または白金合金から構成される管の内部を流れる熔融ガラスの温度を均一にすることができる。   In this modification, for example, the thickness of the heat dissipation suppressing member corresponding to the lower outer heat insulating material 63b3 is larger than the thickness of the heat dissipation suppressing member corresponding to the upper outer heat insulating material 63b1 and the side outer heat insulating material 63b2. Thereby, similarly to this embodiment, the heat of the molten glass flowing through the space close to the power supply terminal 62a is easily released, and the heat of the molten glass flowing through the space farthest from the power supply terminal 62a is hardly released. Therefore, the temperature of the molten glass flowing inside the tube made of platinum or platinum alloy can be made uniform.

また、側部外側断熱材６３ｂ２に相当する放熱抑制部材の厚みを、上部外側断熱材６３ｂ１に相当する放熱抑制部材の厚みより大きくしてもよい。これにより、導管６１の側部からの放熱量を、導管６１の上部からの放熱量より小さくすることができるので、熔融ガラスの温度をより効果的に均一にすることができる。   Further, the thickness of the heat dissipation suppressing member corresponding to the side outer heat insulating material 63b2 may be larger than the thickness of the heat dissipation suppressing member corresponding to the upper outer heat insulating material 63b1. Thereby, since the heat radiation amount from the side part of the conduit | pipe 61 can be made smaller than the heat radiation amount from the upper part of the conduit | pipe 61, the temperature of molten glass can be made more effective and uniform.

なお、放熱抑制部材６３として、互いに異なる熱伝導率、および、互いに異なる厚みを有する上部外側断熱材６３ｂ１、側部外側断熱材６３ｂ２および下部外側断熱材６３ｂ３を用いてもよい。   As the heat radiation suppressing member 63, an upper outer heat insulating material 63b1, a side outer heat insulating material 63b2, and a lower outer heat insulating material 63b3 having different thermal conductivities and different thicknesses may be used.

（４−３）変形例Ｃ
本実施形態に係るガラス板製造装置２００では、放熱抑制部材６３として、導管６１の外壁に接している内側断熱材６３ａが用いられている。内側断熱材６３ａは、単一の成形部材である。しかし、内側断熱材６３ａは、本実施形態、変形例Ａおよび変形例Ｂで説明されるように、複数種類の断熱材から構成されてもよい。例えば、内側断熱材６３ａは、互いに異なる熱伝導率、または、互いに異なる厚みを有する複数種類の断熱材から構成されてもよく、また、互いに異なる熱伝導率、および、互いに異なる厚みを有する複数種類の断熱材から構成されてもよい。この場合、内側断熱材６３ａを構成する各断熱材の熱伝導率および厚みは、導管６１の外壁の各部位からの放熱量に応じて適宜に決定される。 (4-3) Modification C
In the glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment, the inner heat insulating material 63 a that is in contact with the outer wall of the conduit 61 is used as the heat dissipation suppressing member 63. The inner heat insulating material 63a is a single molded member. However, the inner heat insulating material 63a may be composed of a plurality of types of heat insulating materials as described in the present embodiment, the modified example A, and the modified example B. For example, the inner heat insulating material 63a may be composed of a plurality of types of heat insulating materials having different thermal conductivities or different thicknesses, and also having a plurality of different types of heat conducting materials having different thicknesses from each other. It may be comprised from the heat insulating material. In this case, the thermal conductivity and thickness of each heat insulating material constituting the inner heat insulating material 63a are appropriately determined according to the amount of heat released from each part of the outer wall of the conduit 61.

（４−４）変形例Ｄ
本実施形態に係るガラス板製造装置２００に用いられる放熱抑制部材６３の具体的な変形例について、図５を参照しながら説明する。図５は、導管１６１の外壁面に放熱抑制部材１６３が取り付けられた移送管１４３の断面図である。放熱抑制部材１６３は、上部内側断熱材１６３ａ１、下部内側断熱材１６３ａ２、上部外側断熱材１６３ｂ１および下部外側断熱材１６３ｂ２とから構成される。上部内側断熱材１６３ａ１および下部内側断熱材１６３ａ２は、アルミナセメントで成形され、上部外側断熱材１６３ｂ１および下部外側断熱材１６３ｂ２は、耐火レンガで成形される。なお、上部内側断熱材１６３ａ１と下部内側断熱材１６３ａ２とを組み合わせた部材は、導管１６１と同様に、円筒形状を有する。以下、移送管１４３の組み立て工程について説明する。 (4-4) Modification D
A specific modification of the heat dissipation suppressing member 63 used in the glass plate manufacturing apparatus 200 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view of the transfer pipe 143 in which the heat radiation suppressing member 163 is attached to the outer wall surface of the conduit 161. The heat radiation suppressing member 163 includes an upper inner heat insulating material 163a1, a lower inner heat insulating material 163a2, an upper outer heat insulating material 163b1, and a lower outer heat insulating material 163b2. The upper inner heat insulating material 163a1 and the lower inner heat insulating material 163a2 are formed of alumina cement, and the upper outer heat insulating material 163b1 and the lower outer heat insulating material 163b2 are formed of refractory bricks. In addition, the member which combined upper inner heat insulating material 163a1 and lower inner heat insulating material 163a2 has a cylindrical shape similarly to the conduit 161. Hereinafter, the assembly process of the transfer pipe 143 will be described.

最初に、凹部が形成された下部外側断熱材１６３ｂ２を設置する。次に、下部外側断熱材１６３ｂ２の凹部に、下部内側断熱材１６３ａ２を配置する。次に、下部内側断熱材１６３ａ２の上に、導管１６１を配置する。次に、導管１６１の上側の表面に、上部内側断熱材１６３ａ１を被せる。次に、上部内側断熱材１６３ａ１の上側の表面に、凹部が形成された上部外側断熱材１６３ｂ１を被せる。   First, the lower outer heat insulating material 163b2 in which the concave portion is formed is installed. Next, the lower inner heat insulating material 163a2 is disposed in the recess of the lower outer heat insulating material 163b2. Next, the conduit 161 is disposed on the lower inner heat insulating material 163a2. Next, the upper inner heat insulating material 163a1 is put on the upper surface of the conduit 161. Next, the upper outer heat insulating material 163b1 in which a concave portion is formed is placed on the upper surface of the upper inner heat insulating material 163a1.

本変形例では、上部外側断熱材１６３ｂ１および下部外側断熱材１６３ｂ２は、本実施形態で説明されるように、複数種類の断熱材から構成されてもよい。例えば、上部外側断熱材１６３ｂ１および下部外側断熱材１６３ｂ２は、互いに異なる熱伝導率、または、互いに異なる厚みを有する複数種類の断熱材から構成されてもよく、また、互いに異なる熱伝導率、および、互いに異なる厚みを有する複数種類の断熱材から構成されてもよい。   In the present modification, the upper outer heat insulating material 163b1 and the lower outer heat insulating material 163b2 may be composed of a plurality of types of heat insulating materials as described in the present embodiment. For example, the upper outer heat insulating material 163b1 and the lower outer heat insulating material 163b2 may be composed of a plurality of types of heat insulating materials having different thermal conductivities or different thicknesses, and different thermal conductivities, and You may be comprised from the multiple types of heat insulating material which has mutually different thickness.

４０ 熔融槽
４１ 清澄槽
４２ 成形装置
４３ａ，４３ｂ，４３ｃ 移送管
６１ 導管
６２ 電極
６３ 放熱抑制部材 40 Melting tank 41 Clarification tank 42 Molding apparatus 43a, 43b, 43c Transfer pipe 61 Conduit 62 Electrode 63 Heat radiation suppression member

特表２０１１−５１３１７３号公報Special table 2011-513173 gazette

Claims (8)

ガラス原料を加熱して熔融ガラスを生成する熔融工程と、前記熔融ガラスを清澄槽において清澄する清澄工程と、清澄された前記熔融ガラスからガラス板を成形する成形工程と、を備えるガラス板の製造方法であって、
前記熔融工程で生成された前記熔融ガラスは、移送管の内部を通過して前記成形工程に向かって移送され、
前記清澄槽および前記移送管は、
内部を前記熔融ガラスが流れる、白金または白金合金製の導管と、
前記導管の外壁に取り付けられ、前記導管に電流を流して前記導管の内部を流れる前記熔融ガラスを加熱するための電極と、
前記導管の外周に設けられ、前記導管の内部を流れる前記熔融ガラスの放熱を抑制するための放熱抑制部材と、
を備え、
前記放熱抑制部材は、前記清澄槽および前記移送管の少なくとも一部において、前記導管の断面方向における前記熔融ガラスの温度が均一になるように、熱抵抗が調整されている、
ガラス板の製造方法。 Manufacturing of a glass plate comprising: a melting step for heating a glass raw material to produce a molten glass; a clarification step for clarifying the molten glass in a clarification tank; and a molding step for forming a glass plate from the clarified molten glass. A method,
The molten glass generated in the melting step is transferred toward the forming step through the inside of a transfer pipe,
The clarification tank and the transfer pipe are
A platinum or platinum alloy conduit through which the molten glass flows;
An electrode attached to the outer wall of the conduit for heating the molten glass flowing in the conduit by passing an electric current through the conduit;
A heat dissipation suppressing member for suppressing heat dissipation of the molten glass provided on the outer periphery of the conduit and flowing inside the conduit;
With
In the heat dissipation suppressing member, in at least a part of the fining tank and the transfer pipe, the thermal resistance is adjusted so that the temperature of the molten glass in the cross-sectional direction of the conduit is uniform.
Manufacturing method of glass plate. 前記清澄槽および前記移送管の少なくとも一部において、異なる厚みを有する複数の前記放熱抑制部材が、前記導管の外周に設けられることにより、熱抵抗が調整されている、
請求項１に記載のガラス板の製造方法。 In at least a part of the clarification tank and the transfer pipe, a plurality of the heat radiation suppressing members having different thicknesses are provided on the outer periphery of the conduit, thereby adjusting the thermal resistance.
The manufacturing method of the glass plate of Claim 1. 前記清澄槽および前記移送管の少なくとも一部において、異なる熱伝導率を有する複数の前記放熱抑制部材が、前記導管の外周に設けられることにより、熱抵抗が調整されている、
請求項１または２に記載のガラス板の製造方法。 In at least a part of the clarification tank and the transfer pipe, a plurality of the heat dissipation suppressing members having different thermal conductivities are provided on the outer periphery of the conduit, thereby adjusting the thermal resistance.
The manufacturing method of the glass plate of Claim 1 or 2. 前記放熱抑制部材は、耐火レンガである、
請求項１〜３のいずれか１項に記載のガラス板の製造方法。 The heat dissipation suppressing member is a refractory brick,
The manufacturing method of the glass plate of any one of Claims 1-3. 前記放熱抑制部材は、アルミナセメントである、
請求項１〜３のいずれか１項に記載のガラス板の製造方法。 The heat dissipation suppressing member is alumina cement.
The manufacturing method of the glass plate of any one of Claims 1-3. 前記ガラス板は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板である、
請求項１〜５のいずれか１項に記載のガラス板の製造方法。 The glass plate is a glass substrate for a flat panel display,
The manufacturing method of the glass plate of any one of Claims 1-5. 前記ガラス板は、低温ポリシリコン用ガラス基板である、
請求項１〜５のいずれか１項に記載のガラス板の製造方法。 The glass plate is a glass substrate for low-temperature polysilicon,
The manufacturing method of the glass plate of any one of Claims 1-5. ガラス原料を加熱して熔融ガラスを生成する熔融槽と、
前記熔融槽で生成された前記熔融ガラスを清澄する清澄槽と、
前記清澄槽で清澄された前記熔融ガラスからガラス板を成形する成形装置と、
を備え、
前記熔融槽で生成された前記熔融ガラスは、移送管の内部を通過して前記成形装置に向かって移送され、
前記清澄槽および前記移送管は、
内部を前記熔融ガラスが流れる、白金または白金合金製の導管と、
前記導管の外壁に取り付けられ、前記導管に電流を流して前記導管の内部を流れる前記熔融ガラスを加熱するための電極と、
前記導管の外周に設けられ、前記導管の内部を流れる前記熔融ガラスの放熱を抑制するための放熱抑制部材と、
を備え、
前記放熱抑制部材は、前記清澄槽および前記移送管の少なくとも一部において、前記導管の断面方向における前記熔融ガラスの温度が均一になるように、熱抵抗が調整されている、
ガラス板の製造装置。 A melting tank for heating glass raw material to produce molten glass;
A refining tank for refining the molten glass produced in the melting tank;
A molding device for molding a glass plate from the molten glass clarified in the clarification tank;
With
The molten glass generated in the melting tank passes through the inside of a transfer pipe and is transferred toward the molding device,
The clarification tank and the transfer pipe are
A platinum or platinum alloy conduit through which the molten glass flows;
An electrode attached to the outer wall of the conduit for heating the molten glass flowing in the conduit by passing an electric current through the conduit;
A heat dissipation suppressing member for suppressing heat dissipation of the molten glass provided on the outer periphery of the conduit and flowing inside the conduit;
With
In the heat dissipation suppressing member, in at least a part of the fining tank and the transfer pipe, the thermal resistance is adjusted so that the temperature of the molten glass in the cross-sectional direction of the conduit is uniform.
Glass plate manufacturing equipment.
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