JP2014024199A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】高透過率と高記録感度とを両立できる光記録媒体を提供する。
【解決手段】光記録媒体は、基板と、複数の情報信号層と、保護層とを備える。複数の情報信号層のうちの少なくとも一層が、Ｐｄ、ＢｉおよびＯを含んでいる記録層を有している。
【選択図】図１

Description

本技術は、光記録媒体に関する。詳しくは、複数の情報信号層を備える光記録媒体に関する。

近年、大容量の光記録媒体としてブルーレイディスク（ＢＤ：Blu-ray Disc（登録商標））が製品化されている。この大容量の光記録媒体は、記録再生用光波長を４０５ｎｍ程度、記録再生用光学系の集光レンズの開口数ＮＡを０．８５程度として、約２５ＧＢの記録容量を実現している。

この大容量の光記録媒体では、追記型の光記録媒体の記録材料について種々検討されている。追記型の光情報記録媒体に用いられる記録材料としては、無機材料と有機色素材料とがある。従来の追記型の光情報記録媒体では記録材料として有機色素材料が主に検討されてきたが、近年の大容量の光情報記録媒体では記録材料として無機材料も広く検討されている。記録材料として無機材料を用いた大容量の光記録媒体としては、光記録媒体1枚当たり１００ＧＢを超える情報記録容量を実現したものが報告されている。具体的には、無機記録材料を用いた３層もしくは４層の情報信号層を備える光記録媒体はＢＤ−ＸＬとして実用化されている。無機記録材料としては、Ｔｅの酸化物やＰｄの酸化物などの金属酸化物が提案されている（例えば特許文献１〜３参照）。

特開２００８−１１２５５６号公報 特開２０１１−１９４６１７号公報 特開２０１２−６４２７５号公報

近年では、光記録媒体の記録層を多層化し、記録容量をさらに増大する要求が高まっている。この要求に応えるためには、高透過率と高記録感度とを両立できる記録材料の開発が重要である。

したがって、本技術の目的は、高透過率と高記録感度とを両立できる光記録媒体を提供することにある。

上述の課題を解決するために、本技術は、
基板と、複数の情報信号層と、保護層とを備え、
複数の情報信号層のうちの少なくとも一層が、Ｐｄ、ＢｉおよびＯを含んでいる記録層を有している光記録媒体である。

本技術において、保護層の厚さは特に限定されるものではなく、保護層には、基板、シート、コーティング層などが含まれる。高密度の光記録媒体としては、保護層としてシート、コーティング層などの薄い光透過層を採用し、この光透過層の側から光を照射することにより情報信号の記録および再生が行われる構成を有するものが好ましい。この場合、基板としては、不透明性を有するものを採用することも可能である。情報信号を記録または再生するための光の光照射面は、光記録媒体のフォーマットに応じて保護層側および基板側の表面の少なくとも一方に適宜設定される。

本技術では、記録層がＰｄ、ＢｉおよびＯを含んでいるので、高い透過率を維持しつつ、記録感度を向上することができる。したがって、多層の光記録媒体に適用して好適な記録層を得ることができる。

以上説明したように、本技術によれば、高透過率と高記録感度とを両立できる光記録媒体を提供できる。

図１Ａは、本技術の一実施形態に係る光記録媒体の外観の一例を示す斜視図である。図１Ｂは、本技術の一実施形態に係る光記録媒体の構成の一例を示す概略断面図である。 図２Ａは、各情報信号層の第１の構成例を示す模式図である。図２Ｂは、各情報信号層の第２の構成例を示す模式図である。 図３Ａは、各情報信号層の第３の構成例を示す模式図である。図３Ｂは、各情報信号層の第４の構成例を示す模式図である。 図４は、ディスクドライブ型評価装置の構成を示す概略図である。 図５は、実施例１〜３、比較例１〜４の光ディスクの透過特性および最適記録パワーの評価結果を示す図である。 図６は、実施例１〜３、比較例１の光ディスクのＲＦ信号品質の評価結果を示す図である。

本技術の実施形態について以下の順序で説明する。
１．概要
２．光記録媒体の構成
３．光記録媒体の記録原理
４．光記録媒体の製造方法

［１．概要］
上述した大容量の追記型光記録媒体においては、更なる大容量化を図るために、５層以上の多層化技術と情報信号の高密度記録再生技術の開発が求められている。５層以上の記録層を有する追記型光記録媒体を実現するためには、１層あたりの情報信号層の光透過率を４層の追記型光記録媒体に比べ更に高める必要がある。

具体的には、４層の追記型光記録媒体として商品化されているＢＤ−ＸＬの追記メディアでは、最上位の情報信号層の光透過率は、情報信号の記録再生に用いるレーザー光（波長４０５ｎｍ）に対して８０％である。ここで、最上位の情報信号層とは、情報信号層を記録または再生するための光を照射する光照射面から最も近い情報信号層を意味する。これに対して、５層または６層の光記録媒体では、最上位の情報信号層の光透過率は、情報信号の記録再生に用いるレーザー光に対して８５％〜９０％である。

上述したように情報信号層の光透過率を高めると、情報信号層の光吸収率が低下するので、情報記録に必要なレーザー光のエネルギー吸収量を確保するためには、レーザー光の照射パワーを高める必要がある。しかし、現存のレーザーダイオード（ＬＤ）の出力には限界があるので、記録材料として、レーザー光の照射パワーが低くても情報記録可能な記録材料、すなわち高感度の記録材料が望まれる。

具体的には例えば、光透過率を従来の８０％から８５％以上に引き上げると、光吸収率は単純には５％減少する。光反射率を５％とすると、光透過率を８０％にしたときには光吸収率は１５％であるのに対して、光透過率を８５％にしたときには光吸収率が１０％に減少する。したがって、透過率を８０％から８５％に高めた場合には、記録パワーを１．５倍、すなわち５０％増加させることが必要になる。この記録パワーの増加をできるだけ少なくできる高感度な記録材料が望まれる。

すなわち、５層以上の情報信号層を有する大容量の追記型光記録媒体では、全ての情報信号層の記録再生を良好に行うことできるようにするために、高光透過率と低光記録エネルギーといった特性を併せ持った記録材料の実現が望まれている。そこで、本発明者らは、このような特性を有する記録材料について鋭意検討した結果、Ｐｄ、ＢｉおよびＯを含む記録材料を見出すに至った。

［２．光記録媒体の構成］
［光記録媒体の構造］
図１Ａは、本技術の一実施形態に係る光記録媒体の外観の一例を示す斜視図である。光記録媒体１０は、中央に開口（以下センターホールと称する）が設けられた円盤形状を有する。なお、光記録媒体１０の形状はこの例に限定されるものではなく、カード状などとすることも可能である。

図１Ｂは、本技術の一実施形態に係る光記録媒体の構成の一例を示す概略断面図である。この光記録媒体１０は、いわゆる多層の追記型光記録媒体であり、図１Ｂに示すように、情報信号層Ｌ０、中間層Ｓ１、情報信号層Ｌ１、・・・、中間層Ｓｎ、情報信号層Ｌｎ、保護層である光透過層１２がこの順序で基板１１の一主面に積層された構成を有する。なお、以下の説明において、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎを特に区別しない場合には、情報信号層Ｌという。

この一実施形態に係る光記録媒体１０では、光透過層１２側の表面Ｃからレーザー光を各情報信号層Ｌ０〜Ｌｎに照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。例えば、４００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長を有するレーザー光を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する対物レンズにより集光し、光透過層１２の表面Ｃの側から各情報信号層Ｌ０〜Ｌｎに照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。このような光記録媒体１０としては、例えば多層のＢＤ−Ｒが挙げられる。以下では、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎに情報信号を記録または再生するためのレーザー光が照射される表面Ｃを光照射面Ｃと称する。

光記録媒体１０の厚さは、例えば１．２ｍｍに選ばれる。情報信号層Ｌの層数は、好ましくは３層以上、より好ましくは５層以上、さらに好ましくは５層または６層である。情報信号層Ｌの層数が３層以上である場合、一層当たりの情報信号層Ｌの記録容量は、例えば３０ＧＢ以上に設定される。

以下、光記録媒体１０を構成する基板１１、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎ、中間層Ｓ１〜Ｓｎ、および光透過層１２について順次説明する。

（基板）
基板１１は、例えば、中央にセンターホールが設けられた円盤形状を有する。この基板１１の一主面は、例えば、凹凸面となっており、この凹凸面上に情報信号層Ｌ０が成膜される。以下では、凹凸面のうち凹部をイングルーブＧin、凸部をオングルーブＧonと称する。

このイングルーブＧinおよびオングルーブＧonの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。また、イングルーブＧinおよび／またはオングルーブＧonは、例えば、線速度の安定化やアドレス情報付加などのためにウォブル（蛇行）されている。

基板１１の径（直径）は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、より好ましくは０．６ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センターホールの径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。

基板１１の材料としては、例えば、プラスチック材料またはガラスを用いることができ、コストの観点から、プラスチック材料を用いることが好ましい。プラスチック材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などを用いることができる。

（情報信号層）
情報信号層Ｌ０〜Ｌｎは、レーザー光の照射により情報信号を記録可能な記録層を少なくとも備える。情報信号層Ｌ０〜Ｌｎの各層は、例えば、レーザー光の波長４０５ｎｍおよび集光レンズの開口数ＮＡ０．８５に対して２５ＧＢ以上の記録容量を有する。光照射面Ｃから最も近い情報信号層Ｌｎは、情報信号を記録または再生するためのレーザー光に対して８５％以上の透過率を有していることが好ましい。情報信号層Ｌの層数を５層または６層とした場合に、情報信号層Ｌｎ（ｎ＝５または６）よりも奥側の情報信号層Ｌｎ−１、・・・、Ｌ０に情報信号の記録または再生に対して十分な光量のレーザー光を到達させることができる。したがって、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎの全ての層について、情報信号の記録または再生を良好に行うことができる。

情報信号層Ｌ０〜Ｌｎは、保存信頼性向上の観点からすると、記録層の少なくとも一方の表面に保護層をさらに備えることが好ましく、記録層の両方の表面に保護層を備えることがより好ましい。情報信号層Ｌ０〜Ｌｎの層構成は、全ての層で同一の構成としてもよく、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎごとに求められる特性（例えば光学特性や耐久性など）に応じて層構成を変えるようにしてもよいが、生産性の観点からすると、全ての層で同一の層構成とすることが好ましい。情報信号層Ｌ０〜Ｌｎが記録層のみからなるようにしてもよい。
以下に、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎの具体例として、第１〜第４の構成例について説明する。

（第１の構成例）
図２Ａは、各情報信号層の第１の構成例を示す模式図である。図２Ａに示すように、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎは、記録層２１のみにより構成されている。このような単純な構成とすることで、光記録媒体１０を低廉化し、かつ、その生産性を向上することができる。このような効果は、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎの層数が多い媒体ほど、顕著となる。

（第２の構成例）
図２Ｂは、各情報信号層の第２の構成例を示す模式図である。図２Ｂに示すように、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎは、上側面（第１の主面）および下側面（第２の主面）を有する記録層２１と、記録層２１の上側面に隣接して設けられた保護層２２とを備える。このような構成とすることで、上述の第１の構成例に比して記録層２１の耐久性を向上することができる。ここでは、光記録媒体１０の光照射面Ｃの側を上側といい、それとは反対の側を下側という。

（第３の構成例）
図３Ａは、各情報信号層の第３の構成例を示す模式図である。図３Ａに示すように、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎは、上側面（第１の主面）および下側面（第２の主面）を有する記録層２１と、上述の第１の構成例に比して記録層２１の下側面に隣接して設けられた保護層２３とを備える。このような構成とすることで、記録層２１の耐久性を向上することができる。

（第４の構成例）
図３Ｂは、各情報信号層の第４の構成例を示す模式図である。図３Ｂに示すように、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎは、上側面（第１の主面）および下側面（第２の主面）を有する記録層２１と、記録層２１の下側面に隣接して設けられた保護層２３と、記録層２１の上側面に隣接して設けられた保護層２２とを備える。このような構成とすることで、上述の第１および第２の構成例に比して記録層２１の耐久性を向上することができる。

なお、上述の第１〜第４の構成例では、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎの層構成が全ての層で同一の層構成である場合を例として説明したが、上述の第１〜第４の層構成のうちの２種以上の層構成を情報信号層Ｌ０〜Ｌｎ内で組み合わせて用いることも可能である。

（記録層）
記録層２１は、Ｐｄ、ＢｉおよびＯを含んでいる。Ｐｄ、ＢｉおよびＯは、Ｐｄ酸化物およびＢｉ酸化物として記録層中に存在する。ここで、酸化物には、酸素欠損状態および酸素過剰状態の酸化物も含まれる。

記録層２１は、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｃｏ、Ｗ、ＣｕおよびＡｌからなる群より選ばれる少なくとも１種以上の金属をさらに含んでいることが好ましい。これらの金属は、酸化物として記録層中に存在する。ここで、酸化物には、酸素欠損状態および酸素過剰状態の酸化物も含まれる。

なお、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎの全ての記録層２１が、Ｐｄ、ＢｉおよびＯを含んでいる構成に限定されるものではない。情報信号層Ｌ０〜Ｌｎのうちの少なくとも一層の記録層２１が、Ｐｄ、ＢｉおよびＯを含んでいる構成を採用するようにしてもよい。より具体的には、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎのうちの一部の層の記録層２１がＰｄ、ＢｉおよびＯを含む記録層であるのに対して、残りの層の記録層２１が従来公知の記録材料を用いた記録層である構成を採用してもよい。光照射面Ｃから最も遠い情報信号層Ｌ０以外の全ての情報信号層Ｌ１〜Ｌｎの記録層２１が、Ｐｄ、ＢｉおよびＯを含んでいる構成を採用することが好ましい。特に、光照射面Ｃから最も近い情報信号層Ｌｎの記録層２１が、Ｐｄ、ＢｉおよびＯを含んでいる構成を採用することが好ましい。

記録層２１に含まれる金属元素の総量Ａに対するＢｉ元素の量Ｂの割合Ｃ（＝（Ｂ／Ａ）×１００）は、好ましくは０ａｔ％＜Ｃ≦５０ａｔ％、より好ましくは０ａｔ％＜Ｃ≦４５ａｔ％の関係を満たしている。

（保護層）
保護層２２および保護層２３の材料としては、誘電体材料を用いることが好ましい。保護層１２および保護層１３がガスバリア層として機能することで、記録層２１の耐久性を向上することができるからである。また、記録層２１の酸素の逃避やＨ₂Ｏの侵入を抑制することで、記録層２１の膜質の変化（主に反射率の低下として検出）を抑制することができ、記録層２１として必要な膜質を確保することもできる。

具体的には、保護層２２および保護層２３の材料としては、例えば、酸化物、窒化物、硫化物、炭化物およびフッ化物からなる群より選ばれる少なくとも１種以上を用いることができる。保護層２２および保護層２３の材料としては、例えば、互いに同一または異なる材料を用いることができる。酸化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｇａ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｃｒ、ＢｉおよびＭｇからなる群から選ばれる１種以上の元素の酸化物が挙げられる。窒化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、ＴａおよびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物、好ましくはＳｉ、ＧｅおよびＴｉからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物が挙げられる。硫化物としては、例えば、Ｚｎ硫化物が挙げられる。炭化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、ＴａおよびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物、好ましくはＳｉ、Ｔｉ、およびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物が挙げられる。フッ化物としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、ＣａおよびＬａからなる群より選ばれる１種以上の元素のフッ化物が挙げられる。これらの混合物としては、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂、ＳｉＯ₂−Ｉｎ₂Ｏ₃−ＺｒＯ₂（ＳＩＺ）、ＳｉＯ₂−Ｃｒ₂Ｏ₃−ＺｒＯ₂（ＳＣＺ）、Ｉｎ₂Ｏ₃−ＳｎＯ₂（ＩＴＯ）、Ｉｎ₂Ｏ₃−ＣｅＯ₂（ＩＣＯ）、Ｉｎ₂Ｏ₃−Ｇａ₂Ｏ₃（ＩＧＯ）、Ｉｎ₂Ｏ₃−Ｇａ₂Ｏ₃−ＺｎＯ（ＩＧＺＯ）、Ｓｎ₂Ｏ₃−Ｔａ₂Ｏ₅（ＴＴＯ）、ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃−ＺｎＯ、Ａｌ₂Ｏ₃−ＢａＯなどが挙げられる。

（中間層）
中間層Ｓ１〜Ｓｎは、情報信号層Ｌ０〜Ｌｎを物理的および光学的に十分な距離をもって離間させる役割を果たし、その表面には凹凸面が設けられている。その凹凸面は、例えば、同心円状または螺旋状のグルーブ（イングルーブＧinおよびオングルーブＧon）を形成している。中間層Ｓ１〜Ｓｎの厚みは、９μｍ〜５０μｍに設定することが好ましい。中間層Ｓ１〜Ｓｎの材料は特に限定されるものではないが、例示するならば、光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂などが挙げられる。光硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。また、中間層Ｓ１〜Ｓｎは、奥側の層への情報信号の記録または再生のためのレーザー光の光路となることから、十分に高い光透過性を有していることが好ましい。

（光透過層）
光透過層１２は、例えば、樹脂材料を硬化してなる樹脂層である。この樹脂層の樹脂材料としては、特に限定されるものではないが、例示するならば、光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂などが挙げられる。光硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。また、円環形状を有する光透過性シートと、この光透過性シートを基板１１に対して貼り合わせるための接着層とから光透過層１２を構成するようにしてもよい。光透過性シートは、記録および再生に用いられるレーザー光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率９０パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シートの材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂材料、ポリオレフィン系樹脂（例えばゼオネックス（登録商標））などを用いることができる。接着層の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂、感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）などを用いることができる。

光透過層１２の厚さは、好ましくは１０μｍ以上１７７μｍ以下の範囲内から選ばれ、例えば１００μｍに選ばれる。このような薄い光透過層１２と、例えば０．８５程度の高ＮＡ(numerical aperture)化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。

（ハードコート層）
なお、図示しないが、光透過層１２の表面（レーザー照射面）に、例えば機械的な衝撃や傷に対する保護、また利用者の取り扱い時の塵埃や指紋の付着などから、情報信号の記録再生品質を保護するためのハードコート層をさらに設けてもよい。ハードコート層には、機械的強度を向上させるためにシリカゲルの微粉末を混入したものや、溶剤タイプ、無溶剤タイプなどの紫外線硬化樹脂を用いることができる。機械的強度を有し、撥水性や撥油性を持たせるには、厚さを１μｍから数μｍ程度とすることが好ましい。

［３．光記録媒体の記録原理］
上述の構成を有する光記録媒体１０では、以下のようにして情報信号が記録される。
記録層２１に例えば中心波長４０５ｎｍ近傍のレーザー光を照射すると、記録層２１に含まれるＰｄＯはＰｄとＯ₂に、ＰｄＯ₂はＰｄＯとＯ₂に分解し、Ｏ₂を発生し、レーザー光照射エリアが構造的に膨れる。これにより、周囲と反射率の異なる記録マークが形成される。
ＢｉとＰｄとの組成比を調整して、例えばＢｉ量を増加させてＰｄ量を減少させた場合、透過率および光吸収量が変化しないにもかかわらず、記録感度が高くなる（すなわち記録パワーが減少する）傾向がある。このように記録感度が変化する原理については、以下のように推測される。
記録材料は複数の金属酸化物を含んでおり、金属原子間で酸素原子の奪い合いや押し付け合いをしている。Ｂｉ₂Ｏ₃を添加することで、ＰｄＯに酸素が供給されてＰｄＯ₂が生成しやすくなっていると考えられる。光吸収能の高いＰｄＯ₂が増えることで、記録層２１の光吸収能が補われ、Ｐｄ量が減少しても、記録層２１としての光吸収量の減少が抑制されると推測される。
Ｂｉ量の増加に伴い、記録層２１の光吸収能が変わらないにもかかわらず、記録感度が高くなる（すなわち記録パワーが減少する）点については、Ｂｉ₂Ｏ₃の熱伝導率が関係していると考えられる。Ｂｉやその化合物は非常に熱伝導率が低いため、Ｂｉ₂Ｏ₃の添加量を増やすことで、記録層２１は熱が籠りやすくなる。よって、Ｂｉ₂Ｏ₃の添加量を増やすと、記録時のレーザー光照射による記録層２１の温度上昇が容易になるので、記録パワーを低くすることができる。

［４．光記録媒体の製造方法］
次に、本技術の一実施形態に係る光記録媒体の製造方法の一例について説明する。

（基板の成形工程）
まず、マスタリング原盤の形状を転写することにより、一主面に凹凸面が形成された基板１１を成形する。基板１１の成形の方法としては、例えば、射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などを用いることができる。

（情報信号層の形成工程）
次に、例えばスパッタ法により、基板１１上に情報信号層Ｌ０を形成する。情報信号層Ｌ０の具体的な形成工程は、情報信号層Ｌ０の構成により異なる。
以下に、情報信号層Ｌ０の構成として上述の第４の構成例（図３Ｂ参照）を採用した場合にける情報信号層Ｌ０の形成工程について具体的に説明する。

（保護層の成膜工程）
まず、基板１１を、保護層形成用のターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ₂ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタして、基板１１上に保護層２３を成膜する。スパッタ法としては、例えば高周波（ＲＦ）スパッタ法、直流（ＤＣ）スパッタ法を用いることができるが、特に直流スパッタ法が好ましい。直流スパッタ法は高周波スパッタ法に比して装置が安く且つ成膜レートが高いため、製造コストを下げ、生産性を向上することができるからである。

（記録層の成膜工程）
次に、基板１１を、記録層成膜用のターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ₂ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタして、保護層２３上に記録層２１を成膜する。

酸素アシストを行いながらスパッタリングにより記録層２１を成膜することで、金属が安定な酸化物を形成する。例えば、Ｐｄは、Ｐｄ酸化物としてＰｄＯと不安定かつ光吸収のあるＰｄＯ₂とを形成する。

記録層成膜用のターゲットとしては、ＰｄおよびＢｉなどを含む複合酸化物ターゲットを用いることが好ましい。ＰｄおよびＢｉは、例えば、Ｐｄ酸化物およびＢｉ酸化物として複合酸化物ターゲット中に存在する。ここで、酸化物には、酸素欠損状態および酸素過剰状態の酸化物も含まれる。

複合酸化物ターゲットが、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｃｏ、Ｗ、ＣｕおよびＡｌからなる群より選ばれる少なくとも１種以上の金属をさらに含んでいることが好ましい。これらの金属は、酸化物として複合酸化物ターゲット中に存在する。ここで、酸化物には、酸素欠損状態および酸素過剰状態の酸化物も含まれる。

記録層成膜用のターゲットは上述の例に限定されるものではなく、ＰｄおよびＢｉそれぞれのターゲットを用意し、コスパッタリングの手法で記録層２１を成膜するようにしてもよい。記録層２１がＳｎ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｃｏ、Ｗ、ＣｕおよびＡｌからなる群より選ばれる少なくとも１種以上の金属をさらに含む場合には、これらの金属それぞれのターゲットをさらに用意し、コスパッタリングの手法で記録層２１を成膜すればよい。

（保護層の成膜工程）
次に、基板１１を、保護層形成用のターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ₂ガスなどのプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタして、記録層２１上に保護層２２を成膜する。スパッタ法としては、例えば高周波（ＲＦ）スパッタ法、直流（ＤＣ）スパッタ法を用いることができるが、特に直流スパッタ法が好ましい。直流スパッタ法は高周波スパッタ法に比して装置が安く且つ成膜レートが高いため、製造コストを下げ、生産性を向上することができるからである。
以上により、基板１１上に情報信号層Ｌ０が形成される。

（中間層の形成工程）
次に、例えばスピンコート法により紫外線硬化樹脂を情報信号層Ｌ０上に均一に塗布する。その後、情報信号層Ｌ０上に均一に塗布された紫外線硬化樹脂に対してスタンパの凹凸パターンを押し当て、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させた後、スタンパを剥離する。これにより、スタンパの凹凸パターンが紫外線硬化樹脂に転写され、例えばイングルーブＧinおよびオングルーブＧonが設けられた中間層Ｓ１が情報信号層Ｌ０上に形成される。

（情報信号層および中間層の形成工程）
次に、上述の情報信号層Ｌ０および中間層Ｓ１の形成工程と同様にして、中間層Ｓ１上に、情報信号層Ｌ１、中間層Ｓ２、情報信号層Ｌ２、・・・、中間層Ｓｎ、情報信号層Ｌｎをこの順序で中間層Ｓ１上に積層する。

（光透過層の形成工程）
次に、例えばスピンコート法により、紫外線硬化樹脂（ＵＶレジン）などの感光性樹脂を情報信号層Ｌｎ上に塗布した後、紫外線などの光を感光性樹脂に照射し、硬化する。これにより、情報信号層Ｌｎ上に光透過層１２が形成される。
以上の工程により、目的とする光記録媒体１０が得られる。

（効果）
本実施形態によれば、記録層２１の記録材料はＰｄ、ＢｉおよびＯを含み、かつ、ＰｄおよびＢｉは酸化物（酸素欠損状態および酸素過剰状態も含む）として記録層中に存在する。これにより、高い光透過率と低い光記録エネルギーで情報信号を記録できる性能とを両立した追記型の情報信号層Ｌを提供することが可能になる。そして、この情報信号層Ｌを用いて、多層の追記型光記録媒体を提供することができる。なお、この情報信号層Ｌは、特に５層以上の追記型光記録媒体に適用して好適なものである。

Ｐｄ、ＢｉおよびＯを含む記録層２１を用いて、５層以上の情報信号層Ｌを有する大容量の追記型光記録媒体を作製した場合には、現状想定可能なドライブ装置を用いても情報信号の記録再生を無理なく行うことが可能である。

以下、実施例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。

本実施例では、記録材料としてＰｄＯ_x＋Ｍ（ＭはＳｎ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｃｏ、Ｗ、ＣｕおよびＡｌからなる群より選ばれる少なくとも１種を含む金属酸化物）をベースとし、これにＢｉ₂Ｏ₃を加えたものを用いた。そして、この記録材料を用いて作製した光ディスクの記録再生信号特性を比較することで、記録材料へのＢｉ₂Ｏ₃添加の影響を調べた。

（評価装置）
本実施例では、記録再生信号などのディスクの評価はＢＤディスクドライブ型の評価装置を用いて行った。また、本実施例では、記録材料中にＢｉ酸化物を加えた効果の検証が鍵となるので、光ディスクとしては情報記録層を１層のみ有する光ディスク（いわゆる単層ディスク）を採用した。

図４は、ディスクドライブ型評価装置の構成を示す。以下、図４を参照して、評価対象である光ディスク２０をディスクドライブ型評価装置に搭載し、信号評価を行うまでの動作および手順を説明する。

まず、スピンドルモータ部３１に光ディスク２０を取りつけ回転させる。次に、記録再生光学系３２にてレーザーダイオード４１を発光させて、レーザー光ＬＢをコリメータレンズ４２およびビームスプリッター４３を介して、ミラー４４に入射させる。ミラー４４にて反射したレーザー光ＬＢは、対物レンズ４５を介して光ディスク２０の記録層に集光しつつ落射される。

次に、対物レンズ４５を光ディスク２０の光照射面に対して垂直な方向（光軸方向）に上下動作させて、レーザー光ＬＢの焦点が光ディスク２０の記録層を横切るようにする。このときに、光ディスク２０の記録層で反射されたレーザー光ＬＢは進んできた経路を戻り、記録再生光学系３２のビームスプリッター４３でレーザー光ＬＢの一部または全部が反射されて、集光レンズ４６を介してフォトディテクタ４７に入射される。フォトディテクタ４７にて受光した光は、電気信号に変換されて、信号解析装置３４に供給される。信号解析装置３４は、フォトディテクタ４７から供給された電気信号に基づき、フォーカスサーボ用エラー信号、トラッキングサーボ用エラー信号およびＲＦ信号などを生成し、これらの生成信号に基づき、サーボ制御などを行う。例えば、フォーカスサーボ制御では、フォーカスエラー信号を用いて、フォーカスサーボを働かせて常に記録層にレーザー光の焦点がくるように制御する。また、トラッキングエラー信号を用いて、記録層上の案内溝の凸部（グルーブ）上にレーザー光の焦点がくるように制御する。ここまでの処理で、情報記録の準備が整う。また、既に情報信号が光ディスクに記録されていれば、光ディスク２０からの情報信号の読み出し（再生）が可能な状態になる。

光ディスク２０に対する情報信号の記録は、以下のようにして行われる。信号発生装置３３が、光ディスク２０に記録する情報信号に基づき、レーザーダイオード４１のレーザー発光を制御する。これにより、レーザーダイオード４１から出射されるレーザー光ＬＢの発光波形が制御されて、光ディスク２０の記録層に照射される。レーザー光ＬＢが照射された記録層は、このレーザーエネルギーにより変化する。本実施例の記録層では、レーザーエネルギーによりＰｄＯ₂が分解しＰｄＯとＯ₂が発生して、記録層の屈折率変化と物理的な体積膨張が起きる。レーザーダイオード４１の出力は、レーザー光ＬＢがこの変化が起きるのに十分なエネルギーを記録層に供給する程度に選ばれる。

光ディスク２０に対する情報信号の再生は、以下のようにして行われる。情報信号の再生は、レーザー光照射により光ディスク２０の記録層が１００万回同じところを再生しても変化しない程十分低パワーであり、且つ記録された情報信号を十分なＳ／Ｎをもって読み出せるパワーにて行われる。このように設定したレーザー光のことを再生光と呼び、その時のレーザーパワーを再生パワーと呼ぶ。光ディスク２０の記録層に照射した再生光は、記録再生光学系を逆行しフォトディテクタ４７にて検出される。光ディスク２０としては、未記録部からの戻り光量に比して記録部からの戻り光量が低くなるように設計された光ディスクと、未記録部の戻り光量に比して記録部の戻り光量が高くなるように設計された光ディスクが存在する。前者の記録方式はHigh to Low記録方式、後者の記録方式はLow to High記録方式と呼ばれている。

本実施例の光ディスク２０はHigh to Low記録方式のメディアであり、この記録方式はＣＤ、ＤＶＤおよびＢＤで採用されている。フォトディテクタ４７で検出された光は、電気信号に変化されて信号解析装置３４に供給され、信号解析装置３４にて信号品質が評価される。評価関数としては、例えば光ディスク技術で既に確立された下記のものがある。
ｉ−ＭＬＳＥ、変調度、ＳＥＲ（エラーレート）、アシンメトリなど
ｉ−ＭＬＳＥ、ＳＥＲは、ＲＦ信号の情報抜き出し品質を示す。本実施例でもこれらの評価関数を用いて、信号品質の評価を行った。

（信号特性の評価方法）
本実施例では、光ディスクの記録再生信号評価は、上述のＢＤ用の評価装置を用いて以下のようにして行った。情報記録密度をＢＤ：２５ＧＢの１．２８倍の１情報記録層当たり３２ＧＢ相当で、２倍速記録（７．６９ｍ／ｓ）にて連続５トラックを記録し、中央のトラックの信号を測定した。信号品質の評価にはＢＤ−ＸＬで使用されている、ｉ−ＭＬＳＥという指標を用いた。評価装置における記録用レーザー光の波長は４０５ｎｍ、集光レンズの開口数ＮＡは０．８５である。ｉ−ＭＬＳＥが最も良好になる記録パワーを最適記録パワーＰｗｏとした。

（実施例１）
まず、射出成形により、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート基板を成形した。なお、このポリカーボネート基板上には、イングルーブおよびオングルーブを有する凹凸面を形成した。次に、スパッタリング法によりポリカーボネート基板の凹凸面上に誘電体層、記録層、誘電体層を順次積層することにより、情報信号層を形成した。なお、情報信号層は、Ｌ５層相当の設計とした。

情報信号層の各層の構成は、具体的には以下のようにした。
誘電体層（光透過層側）
材料：ＩＴＯ、厚さ：２０ｎｍ
記録層
材料：Ｃｕ−Ｚｎ−Ｐｄ−Ｗ−Ｂｉ−Ｏの複合酸化物（Ｃｕ：Ｚｎ：Ｐｄ：Ｗ：Ｂｉ＝６．７：３０．２：４．７：３８．８：２１．９（原子比率（単位：ａｔ％））、厚さ：４５ｎｍ
誘電体層（基板側）
材料：ＩＴＯ、厚さ：１０ｎｍ

記録層は、以下のようにして成膜した。ＡｒガスとＯ₂ガスとの混合ガス雰囲気下にて、Ｐｄ酸化物ターゲット、Ｂｉ酸化物ターゲット、Ｃｕターゲット、ＺｎターゲットおよびＷターゲットをコスパッタすることにより成膜した。但し、記録層中のＣｕ、Ｚｎ、Ｐｄ、Ｗ、Ｂｉそれぞれの原子比率が、Ｃｕ：Ｚｎ：Ｐｄ：Ｗ：Ｂｉ＝６．７：３０．２：４．７：３８．８：２１．９となるように、各ターゲットの投入電力を調整した。また、酸素濃度が高い混合ガス雰囲気となるように、ＡｒガスとＯ₂ガスとの流量比を調整した。
以下に、具体的な記録層の成膜条件を示す。
Ａｒガス流量：１０〜１５ｓｃｃｍ
Ｏ₂ガス流量：１５〜２４ｓｃｃｍ
投入電力：５０〜４００Ｗ

次に、スピンコート法により、紫外線硬化樹脂を誘電体層上に均一塗布し、これに紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ１００μｍを有する光透過層を形成した。
以上により、目的とする光ディスクを得た。

（実施例２）
記録層の組成を原子比率でＣｕ：Ｚｎ：Ｐｄ：Ｗ：Ｂｉ＝５．１：２６．１：３．６：３１．６：３３．６となるように成膜条件を調整したこと以外は、実施例１と同様にして光ディスクを得た。

（実施例３）
記録層の組成を原子比率でＣｕ：Ｚｎ：Ｐｄ：Ｗ：Ｂｉ＝３．４：２２．２：２．４：２７．８：４５．１となるように成膜条件を調整したこと以外は、実施例１と同様にして光ディスクを得た。

（比較例１）
記録層の材料として、Ｃｕ−Ｚｎ−Ｐｄ−Ｗ−Ｏの複合酸化物を用い、その組成比を原子比率でＣｕ：Ｚｎ：Ｐｄ：Ｗ＝１１．５：３６．５：８．０：４６．９となるように成膜条件を調整したこと以外は、実施例１と同様にして光ディスクを得た。

（比較例２）
記録層の組成を原子比率でＣｕ：Ｚｎ：Ｐｄ：Ｗ＝１２．３：３５．８：８．５：４３．３となるように成膜条件を調整したこと以外は、比較例１と同様にして光ディスクを得た。

（比較例３）
記録層の組成を原子比率でＣｕ：Ｚｎ：Ｐｄ：Ｗ＝１３．６：３４．８：９．４：４４．９となるように成膜条件を調整したこと以外は、比較例１と同様にして光ディスクを得た。

（比較例４）
記録層の組成を原子比率でＣｕ：Ｚｎ：Ｐｄ：Ｗ＝１５．４：３３．４：１０．７：４０．５となるように成膜条件を調整したこと以外は、比較例１と同様にして光ディスクを得た。

表１は、実施例１〜３、比較例１〜４の光ディスクの記録材料の組成（構成元素の原子比率）を示す。

（光ディスクの評価）
上述のようにして得られた実施例１〜３、比較例１〜４の光ディスクについて、以下の評価を行った。

（透過特性の評価）
分光光度計を用いて光透過率を求めた。具体的にはエリプソメータの測定値から数値解析により情報信号層の光透過率を求めた。その結果を図５に示す。
以下に、測定条件を示す。
分光光度計：J.A.Woollam製 W-VASE
測定波長：４０５ｎｍ

（最適記録パワーＰｗｏの評価）
ｉ−ＭＬＳＥが最も良好になる記録パワーを求め、この記録パワーを最適記録パワーＰｗｏとした。その結果を図５に示す。

（ＲＦ信号品質の評価）
最適記録パワーに対して記録パワーを比例的に変化させて情報記録を行い、ＲＦ信号品質評価に用いる仕様としてｉ−ＭＬＳＥを用いて数値化し、記録パワーに対するｉ−ＭＬＳＥ値の変化をプロットする、所謂パワーマージン評価を行った。その評価結果を図６に示す。記録条件は、上述した「信号特性の評価方法」に記載した条件である。なお、Ｂｉ₂Ｏ₃を記録層に添加していない光ディスクの評価結果としては、比較例１〜４のうち比較例１のものを代表して示した。

（評価結果）
図５は、実施例１〜３、比較例１〜４の光ディスクの透過率および最適記録パワーの評価結果を示す。図５中で「記録層：Ｂｉ₂Ｏ₃添加」と記した枠線にて囲まれたデータが、実施例１〜３の光ディスクに関する評価結果に関するものである。また、図５中で「記録層：Ｂｉ₂Ｏ₃無添加」と記した枠線にて囲まれたデータが、比較例１〜４の光ディスクに関する評価結果に関するものであ。なお、透過率および最適記録パワーを縦軸とし、記録材料に含まれる金属元素の総量Ａに対するＰｄ元素の量Ｂの割合Ｃ（＝（Ｂ／Ａ）×１００）［ａｔ％（原子％）］を横軸とした。すなわち、横軸は、表１の組成比のうちＰｄの数値に対応している。

図５から以下のことがわかる。
Ｂｉ₂Ｏ₃無添加の記録層では、Ｐｄ元素の含有量の減少に伴い、透過率が高まると共に、記録パワーＰｗｏが高まる（すなわち記録感度が悪化する）傾向にある。記録パワーが２０ｍＷにおける透過率は、記録パワーの近似直線Ｌ_Pおよび透過率の近似直線Ｌ_Tから８８％程度であると推測される。したがって、Ｂｉ₂Ｏ₃無添加の記録層では、記録パワーＰｗｏがＰｗｏ≦２０ｍＷであれば、透過率ＴはＴ≦８８％となると推測される。

上記傾向は、以下のように説明できる。Ｐｄ−Ｃｕ−Ｗ−Ｚｎ−Ｏの酸化物記録材料は、ＰｄＯ、ＰｄＯ₂、ＣｕＯ、ＷＯ₃、ＺｎＯからなる複合酸化物材料である。この材料の中で、波長４０５ｎｍの光に対して光吸収の役割を担う主な材料はＰｄＯ₂およびＣｕＯであり、その他の材料は波長４０５ｎｍの光に対してはほぼ透明な材料である。すなわち記録材料中におけるＰｄＯ₂やＣｕＯの絶対量が減ると、記録層における光吸収が減り、光透過率が高まり、情報信号の記録に必要な記録パワーが増加する。

これに対して、Ｂｉ₂Ｏ₃添加の記録層では、Ｂｉ₂Ｏ₃の増加に伴って（すなわちＰｄ元素の含有量の減少に伴って）、透過率は変化せずほぼ一定であるのに対して、記録パワーは低くなる（すなわち記録感度が向上する）傾向にある。記録材料に含まれる金属元素の総量Ａに対するＢｉ元素の量Ｂの割合Ｃを４５ａｔ％とした場合には、記録パワー１７ｍＷで透過率８９％を得ることができる。

以上より、Ｂｉ₂Ｏ₃を記録層に添加することで、高い光透過率を保ちつつ、記録パワーを低減できることがわかる。

図６は、実施例１〜３、比較例１の光ディスクのＲＦ信号品質の評価結果を示す。この結果から以下のことがわかる。
ｉ−ＭＬＳＥボトム値は、Ｂｉ₂Ｏ₃を記録層に添加した場合には、Ｂｉ₂Ｏ₃を添加していない場合と比べて良好な値を示している。このことから、信号品質の観点でも、Ｂｉ₂Ｏ₃を記録層に添加することが好ましいことがわかる。
ｉ−ＭＬＳＥボトム値は、記録材料に含まれる金属元素の総量Ａに対するＢｉ元素の量Ｂの割合Ｃが４５ａｔ％である場合でも、その割合Ｃが０ａｔ％である場合に比べて良好な値を示している。このようなｉ−ＭＬＳＥ値の向上の効果は、記録材料に含まれる金属元素の総量Ａに対するＢｉ元素の量Ｂの割合Ｃが５０ａｔ％程度までは得られると推測される。
以上により、記録材料に含まれる金属元素の総量Ａに対するＰｄ元素の量Ｂの割合Ｃ（＝（Ｂ／Ａ）×１００）［ａｔ％（原子％）］は、好ましくは０ａｔ％＜Ｃ≦５０ａｔ％、より好ましくは０ａｔ％＜Ｃ≦４５ａｔ％の範囲内である。

上述した実施例では、単層の記録層を有する光ディスクに対して本技術を適用した例について示したが、複数の記録層を有する光ディスクに対して本技術を適用可能であることは容易に推測できる。具体的には例えば、ＢＤ−ＸＬの４層追記型ディスク上に上述した記録層を積層することで、５層ディスクを実現できることは容易に推測できる。

以上、本技術の実施形態について具体的に説明したが、本技術は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本技術の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。

例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。

また、上述の実施形態の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本技術の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。

また、上述の実施形態では、基板上に複数層の情報信号層、光透過層がこの順序で積層された構成を有し、この光透過層側からレーザー光を複数層の情報信号層に照射することにより情報信号の記録または再生が行われる光記録媒体に対して本技術を適用した場合を例として説明したが、本技術はこの例に限定されるものではない。例えば、基板上に複数層の情報信号層、保護層がこの順序で積層された構成を有し、基板側からレーザー光を複数層の情報信号層に照射することにより情報信号の記録または再生が行われる光記録媒体、または２枚の基板の間に複数層の情報信号層が設けられた構成を有し、一方の基板の側からレーザー光を複数層の情報信号層に照射することにより情報信号の記録または再生が行われる光記録媒体に対しても本技術は適用可能である。

また、上述の実施形態では、複数の情報信号層を有する光記録媒体に対して本技術を適用したが、本技術はこの例に限定されるものではなく、単層の情報信号層を有する光記録媒体に対して本技術を適用することも可能である。

また、多層の情報信号層のうちの一部の情報信号層を追記型の情報信号層とし、残りの情報信号層を追記型以外の情報信号層としてもよい。この場合、追記型の情報信号層の記録層に対して本技術が適用される。また、再生専用型のピットなどによる記録領域が部分的に設けられる光記録媒体にも本技術は適用可能である。

また、本技術は以下の構成を採用することもできる。
（１）
基板と、複数の情報信号層と、保護層とを備え、
上記複数の情報信号層のうちの少なくとも一層が、Ｐｄ、ＢｉおよびＯを含んでいる記録層を有している光記録媒体。
（２）
上記Ｐｄ、ＢｉおよびＯは、Ｐｄ酸化物およびＢｉ酸化物として上記記録層中に含まれている（１）に記載の光記録媒体。
（３）
上記記録層は、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｃｏ、Ｗ、ＣｕおよびＡｌからなる群より選ばれる少なくとも１種以上をさらに含んでいる（１）から（２）のいずれかに記載の光記録媒体。
（４）
上記記録層に含まれる金属元素の総量Ａに対するＢｉ元素の量Ｂの割合Ｃ（＝（Ｂ／Ａ）×１００）は、０ａｔ％＜Ｃ≦５０ａｔ％の関係を満たす（１）から（３）のいずれかに記載の光記録媒体。
（５）
情報信号を記録または再生するための光を照射する光照射面を有し、
上記光照射面から最も近い情報信号層は、上記光に対して８５％以上の透過率を有している（１）から（４）のいずれかに記載の光記録媒体。
（６）
上記情報信号層が、記録層の表面の少なくとも一方に設けられた保護層をさらに備える（１）から（５）のいずれかに記載の光記録媒体。
（７）
上記保護層は、誘電体材料を含んでいる（６）に記載の光記録媒体。
（８）
情報信号を記録または再生するための光は、上記保護層の側に対して照射される（１）から（７）のいずれかに記載の光記録媒体。

１１ 基板
１２ 光透過層
１０ 光記録媒体
２１ 記録層
２２、２３ 誘電体層
Ｌ、Ｌ０〜Ｌｎ 情報信号層
Ｓ１〜Ｓｎ 中間層
Ｇin イングルーブ
Ｇon オングルーブ
Ｃ 光照射面

Claims (8)

1. 基板と、複数の情報信号層と、保護層とを備え、
   上記複数の情報信号層のうちの少なくとも一層が、Ｐｄ、ＢｉおよびＯを含んでいる記録層を有している光記録媒体。
2. 上記Ｐｄ、ＢｉおよびＯは、Ｐｄ酸化物およびＢｉ酸化物として上記記録層中に含まれている請求項１に記載の光記録媒体。
3. 上記記録層は、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｃｏ、Ｗ、ＣｕおよびＡｌからなる群より選ばれる少なくとも１種以上をさらに含んでいる請求項１に記載の光記録媒体。
4. 上記記録層に含まれる金属元素の総量Ａに対するＢｉ元素の量Ｂの割合Ｃ（＝（Ｂ／Ａ）×１００）は、０ａｔ％＜Ｃ≦５０ａｔ％の関係を満たす請求項１に記載の光記録媒体。
5. 情報信号を記録または再生するための光を照射する光照射面を有し、
   上記光照射面から最も近い情報信号層は、上記光に対して８５％以上の透過率を有している請求項１に記載の光記録媒体。
6. 上記情報信号層が、記録層の表面の少なくとも一方に設けられた保護層をさらに備える請求項１に記載の光記録媒体。
7. 上記保護層は、誘電体材料を含んでいる請求項６に記載の光記録媒体。
8. 情報信号を記録または再生するための光は、上記保護層の側に対して照射される請求項１に記載の光記録媒体。

Images