JP2014011318A - Electromagnetic wave shield sheet and display device including the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電磁波遮蔽シート及びそれを用いた表示装置に関する。 The present invention relates to an electromagnetic wave shielding sheet and a display device using the same.
テレビ、パーソナルコンピュータ、又は携帯電話のモニター等のディスプレイ表示装置（以下、単に「表示装置」とも言う。）として、例えば、液晶ディスプレイ装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ装置（ＰＤＰ）、電場発光（ＥＬ）ディスプレイ装置、陰極線管（ＣＲＴ）ディスプレイ装置、等が知られている。これらの表示装置においては、いずれも不要な電磁波が発生し、周辺機器等の作動に影響を与えるおそれがある。 As a display display device (hereinafter also simply referred to as “display device”) such as a monitor of a television, a personal computer, or a mobile phone, for example, a liquid crystal display device (LCD), a plasma display device (PDP), an electroluminescence (EL) Display devices, cathode ray tube (CRT) display devices, and the like are known. In these display devices, unnecessary electromagnetic waves are generated, which may affect the operation of peripheral devices and the like.
特に、近年需要の高まっている高視野角性能を有するＬＣＤにおいては、日々高精細化、高速駆動化が進んでいるＬＣＤユニット本体からの電磁波放射が周辺機器に影響を与えるおそれを無視できない状況となっている。中でも、近年普及が急速に進んでいる小型ＬＣＤ（携帯電話、スマートフォン等）においては、ＬＣＤ駆動回路の誤作動、前面側設置電気駆動デバイス（タッチパネルユニット等）の誤作動、周辺機器、及び人体への影響を抑止するために、電磁波の放射を遮蔽する意義は大きい。 In particular, in LCDs with high viewing angle performance, which has been increasing in demand in recent years, it is not possible to ignore the possibility that electromagnetic radiation from the LCD unit main body, which is increasing in definition and speeding up every day, affects peripheral devices. It has become. In particular, in small LCDs (cell phones, smartphones, etc.) that have been rapidly spreading in recent years, LCD drive circuit malfunctions, front-side installed electrical drive devices (touch panel units, etc.) malfunction, peripheral devices, and human bodies In order to suppress the influence of, the significance of shielding the radiation of electromagnetic waves is great.
このような表示装置における電磁波の遮蔽について、遮蔽性と光線透過性を兼ね備えた透明部材が求められる。例えば、電磁波を遮蔽する透明部材としては、透明基材上に銀粒子等を含む導電インキによる導電性パターンを設けたＰＤＰ前面用電磁波遮蔽材が開示されている（特許文献１参照）。 For shielding electromagnetic waves in such a display device, a transparent member having both shielding properties and light transmittance is required. For example, as a transparent member that shields electromagnetic waves, an electromagnetic wave shielding material for a front surface of a PDP in which a conductive pattern made of conductive ink containing silver particles or the like is provided on a transparent substrate is disclosed (see Patent Document 1).
又、電磁波遮蔽シートを構成する透明基材としては、透明基材の複屈折に起因して画面上に生じる色の異なるムラ（以下、「ニジムラ」とも言う）を低減させるために、複屈折の少ない基材としてトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）に代表されるセルロースエステルからなるフィルムが一般的に用いられていた。 In addition, as a transparent base material constituting the electromagnetic wave shielding sheet, in order to reduce unevenness of different colors generated on the screen due to the birefringence of the transparent base material (hereinafter also referred to as “Nizimura”), A film made of a cellulose ester typified by triacetyl cellulose (TAC) has been generally used as a small base material.
しかしながら、セルロースエステルは一般的に高価であり、又、吸湿による寸法変化やカールの問題が残っている。このため、セルロースエステルフィルムに代替する材料樹脂として、より低コストで入手、或いは、製造可能なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステルフィルムを利用する試みがなされている（特許文献２参照）。 However, cellulose esters are generally expensive, and the problem of dimensional change and curling due to moisture absorption remains. For this reason, an attempt has been made to use a polyester film such as polyethylene terephthalate (PET) that can be obtained or manufactured at a lower cost as a material resin that replaces the cellulose ester film (see Patent Document 2).
ところが、本発明者らの研究によると、特許文献２において開示されているポリエステルフィルムを用いた場合であっても、特に表示画面を斜めから観察したときには、依然ニジムラの発生の抑止は不十分であり、更なる表示品質の向上を可能とする電磁波遮蔽シートの開発が望まれていた。
However, according to the researches of the present inventors, even when the polyester film disclosed in
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、表示装置に用いる電磁波遮蔽シートに関して、電磁波遮蔽性と光線透過性を兼ね備え、且つ、ニジムラの発生を高度に抑制することができる電磁波遮蔽シートを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a situation, and relates to an electromagnetic wave shielding sheet used for a display device, which has both electromagnetic wave shielding properties and light transmittance properties and can highly suppress the occurrence of azimuth irregularities. The purpose is to provide a sheet.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、透明基材として、所定値以上のリタデーション値を有するポリエステルフィルムを複数積層してなる多層透明基材を用いるとの着想に至り、本発明を完成するに至った。 The present inventor has intensively studied in order to solve the above-mentioned problems, leading to the idea of using a multilayer transparent substrate formed by laminating a plurality of polyester films having a retardation value of a predetermined value or more as a transparent substrate, The present invention has been completed.
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。 Specifically, the present invention provides the following.
（１） 複数の透明基材を積層してなる多層透明基材上に導電層が積層されてなる電磁波遮蔽シートであって、前記多層透明基材を構成する前記透明基材は、３０００ｎｍ以上のリタデーションを有している。 (1) An electromagnetic wave shielding sheet in which a conductive layer is laminated on a multilayer transparent substrate formed by laminating a plurality of transparent substrates, and the transparent substrate constituting the multilayer transparent substrate has a thickness of 3000 nm or more Has retardation.
（１）によれば、導電層によって電磁波を遮蔽することができ、多層透明基材によって光線を透過させることができることに加えて、リタデーションが特定の範囲に限定された透明基材を積層した多層透明基材を用いることによってニジムラの発生をも高度に抑制することができる。 According to (1), in addition to being able to shield electromagnetic waves by the conductive layer and allowing light to be transmitted by the multilayer transparent substrate, a multilayer in which a transparent substrate having a retardation limited to a specific range is laminated. By using a transparent substrate, the occurrence of nitrite can be highly suppressed.
（２） （１）において、前記導電層は、透明導電性材料からなる導電膜である。 (2) In (1), the conductive layer is a conductive film made of a transparent conductive material.
（２）によれば、導電層の電磁波遮蔽性能と光線透過性をより高いレベルで両立させることができる。 According to (2), the electromagnetic wave shielding performance and light transmittance of the conductive layer can be made compatible at a higher level.
（３） （１）において、前記導電層は、金属粒子とバインダー樹脂を含む導電性組成物が所定形状に形成されたものである。 (3) In (1), the conductive layer is formed by forming a conductive composition containing metal particles and a binder resin into a predetermined shape.
（３）によれば、簡易な製造方法により製造可能でありながら、十分な電磁波遮蔽性能を備える電磁波遮蔽シートを提供することができる。よって、例えば、高価なＩＴＯの使用を削減して、製造工程も簡易化することにより、電磁波遮蔽シート及びそれを用いた表示装置の製造コストを低減することができる。 According to (3), it is possible to provide an electromagnetic wave shielding sheet having sufficient electromagnetic wave shielding performance while being capable of being produced by a simple production method. Therefore, for example, by reducing the use of expensive ITO and simplifying the manufacturing process, the manufacturing cost of the electromagnetic wave shielding sheet and the display device using the same can be reduced.
（４） （１）から（３）のいずれかにおいて、前記透明基材は、面内において最も屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、前記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０５以上である。 (4) In any one of (1) to (3), the transparent base material has a refractive index (nx) in the slow axis direction which is the direction having the largest refractive index in the plane, and the slow axis direction. The difference (nx−ny) from the refractive index (ny) in the fast axis direction, which is an orthogonal direction, is 0.05 or more.
（４）によれば、表示装置のニジムラの発生をより高度に抑制することができる。又、透明基材の膜厚を不要に大きくせずに好ましい膜厚の範囲内において、上述した所定のリタデーション値を得ることができる。 According to (4), it is possible to suppress the occurrence of nitrile in the display device to a higher degree. In addition, the above-mentioned predetermined retardation value can be obtained within a preferable film thickness range without unnecessarily increasing the film thickness of the transparent substrate.
（５） （１）から（４）のいずれかにおいて、前記透明基材は、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、（メタ）アクロニトリル系樹脂、及び、シクロオレフィン系樹脂からなる群より選択されるいずれか１種の材料からなる。 (5) In any one of (1) to (4), the transparent base material is a polyester resin, a polyolefin resin, a (meth) acrylic resin, a polyurethane resin, a polyethersulfone resin, or a polycarbonate resin. , A polysulfone resin, a polyether resin, a polyether ketone resin, a (meth) acrylonitrile resin, and a cycloolefin resin.
（５）によれば、透明基材の好ましい光線透過性を保持しつつ、且つ、上述した所定のリタデーション値を得て、ニジムラの発生を十分に抑制することができる。 According to (5), while maintaining the preferable light transmittance of the transparent substrate, the above-mentioned predetermined retardation value can be obtained, and the occurrence of nitrite can be sufficiently suppressed.
（６） （１）から（５）のいずれかにおいて、前記透明基材は、ポリエチレンテレフタレートである。 (6) In any one of (1) to (5), the transparent substrate is polyethylene terephthalate.
（６）によれば、透明基材の好ましい光線透過性を保持しつつ、且つ、より好ましいリタデーション値を得て、ニジムラの発生を更に高度に抑制することができる。又、ポリエチレンテレフタレートは、耐熱性においても優れるため、遮蔽シートの製造及び加工に伴う加熱条件の選択の幅が広がる。これにより、より遮蔽性能の高い導電層をより容易に低コストで透明基材上に形成することができる。 According to (6), while maintaining the preferable light transmittance of the transparent substrate, a more preferable retardation value can be obtained, and the occurrence of nitrite can be further suppressed. Moreover, since polyethylene terephthalate is excellent also in heat resistance, the selection range of the heating conditions accompanying manufacture and a process of a shielding sheet spreads. Thereby, the conductive layer with higher shielding performance can be formed on the transparent substrate more easily and at low cost.
（７） 表示装置において、（１）から（６）のいずれかに記載の電磁波遮蔽シートと、画像表示パネルと、を備える。 (7) The display device includes the electromagnetic wave shielding sheet according to any one of (1) to (6) and an image display panel.
（７）によれば、電磁波の遮蔽性と光線透過性に優れ、且つ、ニジムラの発生を高度に抑制することができる表示装置を提供することができる。 According to (7), it is possible to provide a display device that is excellent in electromagnetic wave shielding and light transmittance and that can highly suppress the occurrence of azimuth.
（８） （７）において、前記画像表示パネルの出光面側に配置される偏光板を備え、前記画像表示パネルは、液晶パネルユニットである。 (8) In (7), a polarizing plate is provided on the light exit surface side of the image display panel, and the image display panel is a liquid crystal panel unit.
（８）によれば、電磁波の遮蔽性と光線透過性に優れ、且つ、ニジムラの発生を高度に抑制することができる液晶ディスプレイ装置を提供することができる。 According to (8), it is possible to provide a liquid crystal display device that is excellent in electromagnetic wave shielding and light transmittance and that can highly suppress the occurrence of nitrile.
（９） （８）において、前記偏光板の吸収軸と前記電磁波遮蔽シートの前記多層透明基材の遅相軸の方向とのなす角度が、０°±３０°又は９０°±３０°となるように配設されている。 (9) In (8), the angle formed between the absorption axis of the polarizing plate and the slow axis direction of the multilayer transparent substrate of the electromagnetic wave shielding sheet is 0 ° ± 30 ° or 90 ° ± 30 °. It is arranged like this.
（９）によれば、表示画像にニジムラが生じることを極めて高度に抑制することができる表示装置を提供することができる。 According to (9), it is possible to provide a display device capable of extremely highly suppressing the occurrence of nitrile in the display image.
（１０） （８）又は（９）において、前記電磁波遮蔽シートが、前記偏光板の前記画像表示パネルと対向する面とは反対側の面に積層されている。 (10) In (8) or (9), the electromagnetic wave shielding sheet is laminated on the surface of the polarizing plate opposite to the surface facing the image display panel.
（１０）によれば、例えば、タッチパネル等の電磁波の混入を防止することが必要な部材を配置する場合に、この部材の近傍にて電磁波を遮蔽することにより、効率よく電磁波の混入を低減することができる。 According to (10), for example, when a member such as a touch panel that needs to prevent the mixing of electromagnetic waves is disposed, the electromagnetic waves are effectively shielded by shielding the electromagnetic waves in the vicinity of the member. be able to.
（１１） （８）又は（９）において、前記電磁波遮蔽シートが、前記偏光板の前記画像表示パネルと対向する面に積層されている。 (11) In (8) or (9), the electromagnetic wave shielding sheet is laminated on a surface of the polarizing plate facing the image display panel.
（１１）によれば、電磁波の発生源の近傍にて、電磁波を遮蔽して、効率よく電磁波を遮蔽することができる。 According to (11), an electromagnetic wave can be efficiently shielded by shielding the electromagnetic wave in the vicinity of the source of the electromagnetic wave.
（１２） （７）から（１１）のいずれかにおいて、前記電磁波遮蔽シートが、前記画像表示パネルの出光面側の面に積層されている。 (12) In any one of (7) to (11), the electromagnetic wave shielding sheet is laminated on a light output surface side surface of the image display panel.
（１２）によれば、電磁波遮蔽シートを画像表示パネルに配置して色味等を管理することができ、製造工程における管理を簡略化することができる。又、電磁波の発生源の近傍側にて、電磁波を遮蔽して、効率よく電磁波を遮蔽することができる。 According to (12), the electromagnetic wave shielding sheet can be arranged on the image display panel to manage the color and the like, and the management in the manufacturing process can be simplified. In addition, the electromagnetic wave can be efficiently shielded by shielding the electromagnetic wave on the vicinity side of the electromagnetic wave generation source.
（１３） （７）から（１１）のいずれかにおいて、最外面にタッチパネルユニットを備えるタッチパネル方式の表示装置。 (13) In any one of (7) to (11), a touch panel display device including a touch panel unit on the outermost surface.
（１３）によれば、電磁波の遮蔽により、タッチパネルの誤動作を防止して表示信頼性の高いタッチパネル方式の表示装置を提供することができる。又、ニジムラの発生を高度に抑制することができるため、表示品質の高いタッチパネル方式の表示装置を提供することができる。 According to (13), it is possible to provide a touch panel display device with high display reliability by preventing malfunction of the touch panel by shielding electromagnetic waves. In addition, since the occurrence of azimuth can be highly suppressed, a touch panel display device with high display quality can be provided.
（１４） 表示装置において、透明基材上に、導電層が積層されてなる電磁波遮蔽シートと、画像表示パネルと、前記透明基材を含んで構成されている機能層を更に備えるものであり、前記電磁波遮蔽シート及び機能層を構成する前記透明基材は、いずれも３０００ｎｍ以上のリタデーションを有する。 (14) The display device further includes an electromagnetic wave shielding sheet in which a conductive layer is laminated on a transparent substrate, an image display panel, and a functional layer configured to include the transparent substrate, Each of the transparent base materials constituting the electromagnetic wave shielding sheet and the functional layer has a retardation of 3000 nm or more.
（１４）によれば、（７）と同様に、電磁波の遮蔽性と光線透過性に優れ、且つ、ニジムラの発生を高度に抑制することができる表示装置を提供することができる。 According to (14), similarly to (7), it is possible to provide a display device that is excellent in electromagnetic wave shielding and light transmittance and can highly suppress the occurrence of nitrile.
（１５） （１４）において、前記機能層が、前記表示装置のタッチパネルユニットの表示面側の最表面に配置されている保護フィルムである。 (15) In (14), the functional layer is a protective film disposed on the outermost surface on the display surface side of the touch panel unit of the display device.
（１５）によれば、（７）と同様に、電磁波の遮蔽性と光線透過性に優れ、且つ、ニジムラの発生を高度に抑制することができる表示装置を提供することができ、又、そのような効果を保持したまま、表示装置における電磁波遮蔽シートを薄膜化することができる。 According to (15), as in (7), it is possible to provide a display device that is excellent in electromagnetic wave shielding and light transmittance and that can highly suppress the occurrence of nitrite, The electromagnetic wave shielding sheet in the display device can be thinned while maintaining such an effect.
（１６） （１４）において、前記機能層が、前記表示装置のタッチパネルユニットの表示面側の最表面に配置されている飛散防止フィルムである。 (16) In (14), the functional layer is a scattering prevention film disposed on the outermost surface on the display surface side of the touch panel unit of the display device.
（１６）によれば、（７）と同様に、電磁波の遮蔽性と光線透過性に優れ、且つ、ニジムラの発生を高度に抑制することができる表示装置を提供することができ、又、そのような効果を保持したまま、表示装置における電磁波遮蔽シートを薄膜化し、更に、画面等が破損した場合においてフィルムの密着と自身の延性による下部ガラス等の飛散による危険性、操作性の悪化を抑え、例えば、修理窓口に出すまでの間、当面の使用を可能にする事ができる。 According to (16), similarly to (7), it is possible to provide a display device that is excellent in electromagnetic wave shielding and light transmittance and that can highly suppress the occurrence of nitrite. While maintaining these effects, the electromagnetic wave shielding sheet in the display device is made thin, and when the screen is damaged, the risk of scatter due to the adhesion of the film and the lower glass due to its own ductility, and the deterioration of operability are suppressed. For example, it can be used for the time being until it is sent to the repair counter.
（１７） （１）から（６）のいずれかに記載の電磁波遮蔽シートの製造方法において、基材樹脂をフィルム状に形成して、透明基材及びそれらを積層してなる多層透明基材を得る多層透明基材形成工程と、前記多層透明基材上に、導電性組成物を所定形状に形成して導電層を形成する導電層形成工程と、を備え、前記導電層形成工程は、前記導電性組成物を所定のパターンに印刷する工程である。 (17) In the method for producing an electromagnetic wave shielding sheet according to any one of (1) to (6), a base resin is formed in a film shape, a transparent base material and a multilayer transparent base material formed by laminating them are provided. A multilayer transparent substrate forming step to be obtained; and a conductive layer forming step of forming a conductive layer by forming a conductive composition on the multilayer transparent substrate in a predetermined shape, This is a step of printing the conductive composition in a predetermined pattern.
（１７）によれば、簡易な工程により、従来よりも低コストで、十分な遮蔽性能を備えた電磁波遮蔽シートを製造することができる。これにより、表示装置の製造コストを大幅に低減することができる。 According to (17), an electromagnetic wave shielding sheet having sufficient shielding performance can be produced by a simple process at a lower cost than in the past. Thereby, the manufacturing cost of a display apparatus can be reduced significantly.
本発明は、上述した構成からなるものであるため、十分な遮蔽性能を備えるものであり、且つ、表示画像にニジムラが生じることを極めて高度に抑制することができる電磁波遮蔽シート及びそれを備えた表示装置を提供できる。 Since the present invention has the above-described configuration, it has sufficient shielding performance, and has an electromagnetic wave shielding sheet that can extremely highly suppress the occurrence of azimuth in a display image and the same. A display device can be provided.
以下に、本発明を詳細に説明する。尚、本明細書においては、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体も「樹脂」と記載する。又、各図面は説明の便宜上、縦横の縮尺の比率を実物よりも増減してある。 The present invention is described in detail below. In the present specification, unless otherwise specified, curable resin precursors such as monomers, oligomers, and prepolymers are also referred to as “resins”. In each drawing, the ratio of the vertical and horizontal scales is increased or decreased from the actual size for convenience of explanation.
＜電磁波遮蔽シート＞
まず初めに本発明の好ましい一実施形態である電磁波遮蔽シート１について説明する。図１に示すように、電磁波遮蔽シート１は、多層透明基材１１と、多層透明基材１１上に所定のパターンで形成された導電層１２とを有する。
<Electromagnetic wave shielding sheet>
First, the electromagnetic
多層透明基材１１は、透明基材１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ（以下、これらを総称して「透明基材１１０」とも言う）を複数積層してなる多層の透明樹脂基材であり、透明基材１１０は、３０００ｎｍ以上のリタデーションを有する樹脂基材である。多層透明基材１１を構成するために積層する透明基材の数は２枚以上の複数であればよく、特に層の数は限定されないが、必要な性能、好ましい厚さ、望ましいコスト等の観点から、一般的には、透明基材を２層から３層の範囲で積層した多層透明基材を好ましく用いることができる。それぞれの透明基材１１０は透明粘着層（図示せず）を介して積層することにより多層透明基材１１とすることができる。
The multilayer
尚、多層透明基材１１は、必要な光線透過性を維持できる範囲で、透明基材１１０以外のその他の層や部材が更にその上に積層又はその層間に配置されているものであってもよい。
The multilayer
多層透明基材１１を構成する透明基材１１０のリタデーションが３０００ｎｍ未満であると、これらを複数（少なくとも２枚）重ねた場合であっても、表示装置の表示画像にニジムラが生じてしまう。一方、上記透明基材１１０のリタデーションの上限は特に限定されないが、３００００ｎｍ以下であることが好ましく、２００００ｎｍ程度であることよりが好ましい。３００００ｎｍを超えると、これ以上の表示画像のニジムラ改善効果の向上が見られず、又、膜厚が相当に厚くなるため好ましくない。
If the retardation of the transparent base material 110 constituting the multilayer
尚、電磁波遮蔽シートにおいてニジムラの発生を抑制するということ本発明の効果を奏するためには、例えば、前述のセルロースエステルの様な材料、又は、特殊な製法によるフィルムを用いて配置する透明基材のリタデーション範囲を制限する等の手段があったが、これらは前述のように製品自体が高価であり、又、材料強度についても種々の制限があり、タッチパネルの様な使用環境の一般用途に供するには適切ではなかった（ここで、使用に不適な透明基材のリタデーションの範囲は本発明者らの研究の結果４００ｎｍ≦Ｒｅ＜３０００ｎｍである）。ニジムラの発生を抑制するための他の方法としては、６０００ｎｍ以上の高いリタデーションを有する単層の透明基材を配置してもよいが、そのような高いリタデーション値を有する基材は、汎用的なものではなく、調達或いは、製造コストが嵩む点において好ましくない。電磁波遮蔽シート１は、リタデーション値の範囲が一般的な範囲である３０００ｎｍ以上の任意の範囲にある汎用的な透明基材の組合せによって製造でき、且つ、製造条件から基材単体の厚みを薄くする事ができる。これらにより、タッチパネル装置において、タッチの検出感度を高め、ひいては部材間の密着性向上による部品信頼性、本体設計自由度の向上によるデザイン、軽量化への寄与することができる。又、これらの作用は、少なくとも２枚以上の積層によって十分な効果を奏するものである。以上より、汎用的な透明基材１１０等の組合せによって製造できる多層透明基材１１を用いた本発明の電磁波遮蔽シート１は、性能向上、コスト削減の両面において、好ましいものである。
In addition, in order to produce the effect of the present invention that the generation of azimuth is suppressed in the electromagnetic wave shielding sheet, for example, a transparent substrate disposed using a material such as the cellulose ester described above or a film by a special manufacturing method. However, these products are expensive as described above, and there are various restrictions on the material strength, and they are used for general applications such as a touch panel. (The range of retardation of the transparent substrate unsuitable for use here is 400 nm ≦ Re <3000 nm as a result of the inventors' research.) As another method for suppressing the occurrence of nitrite, a single-layer transparent substrate having a high retardation of 6000 nm or more may be disposed, but a substrate having such a high retardation value is generally used. It is not preferable in terms of procurement or manufacturing cost. The electromagnetic
尚、上記リタデーションとは、透明基材の面内において最も屈折率が大きい方向（遅相軸方向）の屈折率（ｎｘ）と、遅相軸方向と直交する方向（進相軸方向）の屈折率（ｎｙ）と、透明基材の厚み（ｄ）とにより、以下の式（数１）によって表わされるものである。又、上記リタデーションは、例えば、王子計測機器製ＫＯＢＲＡ−ＷＲによって測定（測定角０°、測定波長５４８．２ｎｍ）することができる。 The retardation is the refractive index (nx) in the direction with the highest refractive index (slow axis direction) in the plane of the transparent substrate, and the refraction in the direction (fast axis direction) perpendicular to the slow axis direction. The ratio (ny) and the thickness (d) of the transparent substrate are expressed by the following formula (Equation 1). The retardation can be measured, for example, by KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments (measurement angle 0 °, measurement wavelength 548.2 nm).
（数１）
リタデーション（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
(Equation 1)
Retardation (Re) = (nx−ny) × d
本発明では、上記ｎｘ−ｎｙ（以下、Δｎとも表記する）は、０．０５以上であることが好ましい。上記Δｎが０．０５未満であると、充分なニジムラの抑制効果が得られないことがある。又、上述したリタデーション値を得るために必要な膜厚が厚くなるため、好ましくない。上記Δｎのより好ましい下限は０．０７である。 In the present invention, the nx-ny (hereinafter also referred to as Δn) is preferably 0.05 or more. If the above Δn is less than 0.05, there may be a case where a sufficient effect of suppressing azimuth cannot be obtained. Moreover, since the film thickness required in order to obtain the retardation value mentioned above becomes thick, it is not preferable. A more preferable lower limit of the Δn is 0.07.
透明基材１１０を構成する材料としては、上述したリタデーションを充足するものであれば特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、（メタ）アクロニトリル系樹脂、及び、シクロオレフィン系樹脂からなる群より選択される１種が好適に用いられる。 The material constituting the transparent substrate 110 is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned retardation. For example, a polyester resin, a polyolefin resin, a (meth) acrylic resin, a polyurethane resin, a polyether sal One type selected from the group consisting of a phon resin, a polycarbonate resin, a polysulfone resin, a polyether resin, a polyether ketone resin, a (meth) acrylonitrile resin, and a cycloolefin resin is preferably used. It is done.
又、透明基材１１０は、上記の中でも、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなることが特に好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。又、ＰＥＴは、光線透過性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりリタデーションの制御が可能であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られるからである。 Further, among the above, the transparent substrate 110 is particularly preferably made of polyethylene terephthalate (PET). This is because polyethylene terephthalate is highly versatile and easily available. Also, PET is excellent in light transmittance, heat or mechanical properties, can be controlled by stretching, has a large intrinsic birefringence, and can easily obtain a large retardation even when the film thickness is small. It is.
更に、ＰＥＴは、加熱による熱収縮率が小さいため、加工処理時の加熱条件の制約が小さい。よって電磁波遮蔽シート１の製造方法の選択の自由度を高めることができる点においても好ましい。例えば、導電層１２の形成時に、熱硬化性樹脂をバインダーとして用いる印刷処理等であっても、広い加熱条件の下で採用することができる。これにより、遮蔽性能の高い導電層１２をより容易に低コストで形成するための選択が可能となる。又、例えば、電磁波遮蔽シートから筐体へアースを取る場合にも、ＰＥＴフィルムを材料として用いることにより、熱圧着の様な簡便で、且つ、耐久性の高い処理を行う事ができる。このように、電磁波遮蔽シート１は、透明基材１１０の材料として、汎用性が極めて高いＰＥＴフィルムを用いることにより、製造コストを抑えながらも、表示装置に更に高い表示品質を発揮させることができるものである。
Furthermore, since PET has a small heat shrinkage ratio due to heating, there are few restrictions on heating conditions during processing. Therefore, the point which can raise the freedom degree of selection of the manufacturing method of electromagnetic
透明基材１１０を得る方法としては、上述したリタデーションを充足する方法であれば特に限定されないが、例えば、材料がＰＥＴ等のポリエステルである場合、材料のポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された未延伸ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。上記横延伸温度としては、８０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは９０〜１２０℃である。又、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られるポリエステルからなる透明基材１１０の光線透過性が低下しやすくなり、延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られる透明基材１１０の複屈折が小さくなり、リタデーションを３０００ｎｍ以上とできないことがある。 The method for obtaining the transparent substrate 110 is not particularly limited as long as the above-described retardation is satisfied. For example, when the material is polyester such as PET, the material polyester is melted and extruded into a sheet. A method of subjecting the unstretched polyester to a heat treatment after transverse stretching using a tenter or the like at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature. The transverse stretching temperature is preferably 80 to 130 ° C, more preferably 90 to 120 ° C. The transverse draw ratio is preferably 2.5 to 6.0 times, more preferably 3.0 to 5.5 times. When the transverse stretching ratio exceeds 6.0 times, the light transmittance of the transparent base material 110 made of polyester is likely to be lowered, and when the stretching ratio is less than 2.5 times, the stretching tension is also reduced. In some cases, the birefringence of the obtained transparent substrate 110 becomes small, and the retardation cannot be made 3000 nm or more.
又、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行った後、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、「縦延伸」とも言う）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、Δｎの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。又、上記熱処理時の処理温度はしては、１００〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１８０〜２４５℃である。 In the present invention, the unstretched polyester is subjected to transverse stretching under the above conditions using a biaxial stretching test apparatus, and then stretched in the flow direction with respect to the transverse stretching (hereinafter also referred to as “longitudinal stretching”). You may go. In this case, the longitudinal stretching preferably has a stretching ratio of 2 times or less. When the draw ratio of the above-mentioned longitudinal stretching exceeds twice, the value of Δn may not be within the preferred range described above. The treatment temperature during the heat treatment is preferably 100 to 250 ° C, more preferably 180 to 245 ° C.
上述した方法で形成した透明基材１１０のリタデーションを３０００ｎｍ以上に制御する方法としては、延伸倍率や延伸温度、形成する透明基材の膜厚を適宜設定する方法が挙げられる。具体的には、例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、又、膜厚が厚いほど、高いリタデーションを得やすくなり、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、又、膜厚が薄いほど、低いリタデーションを得やすくなる。 Examples of the method for controlling the retardation of the transparent substrate 110 formed by the above-described method to 3000 nm or more include a method of appropriately setting the stretching ratio, the stretching temperature, and the film thickness of the transparent substrate to be formed. Specifically, for example, the higher the stretching ratio, the lower the stretching temperature, and the thicker the film, the easier it is to obtain high retardation. The lower the stretching ratio, the higher the stretching temperature, and the film thickness. The thinner, the easier it is to obtain low retardation.
透明基材１１０の厚みとしては、その構成材料等に応じて適宜決定されるが、２０〜５００μｍの範囲内であることが好ましい。２０μｍ未満であると、透明基材１１０のリタデーションを３０００ｎｍ以上にできないことがあり、又、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、５００μｍを超えると、透明基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記透明基材１１０の厚さのより好ましい下限は３０μｍ、より好ましい上限は４００μｍであり、更により好ましい上限は３００μｍである。 The thickness of the transparent substrate 110 is appropriately determined according to the constituent material and the like, but is preferably in the range of 20 to 500 μm. When the thickness is less than 20 μm, the retardation of the transparent substrate 110 may not be 3000 nm or more, the anisotropy of mechanical properties becomes remarkable, and tearing, tearing, etc. are likely to occur, and the practicality as an industrial material is remarkably high. May decrease. On the other hand, if it exceeds 500 μm, the transparent substrate is very rigid, the flexibility specific to the polymer film is lowered, and the practicality as an industrial material is also lowered, which is not preferable. A more preferable lower limit of the thickness of the transparent substrate 110 is 30 μm, a more preferable upper limit is 400 μm, and an even more preferable upper limit is 300 μm.
透明基材１１０は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、８４％以上であるものがより好ましい。尚、上記透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。 The transparent substrate 110 preferably has a transmittance in the visible light region of 80% or more, and more preferably 84% or more. In addition, the said transmittance | permeability can be measured by JISK7361-1 (The test method of the total light transmittance of a plastic-transparent material).
透明基材１１０は、基材のＸ方向、又はＹ方向のいずれかに沿った遅相軸を同一方向に重ねて積層することによって多層透明基材１１とする。尚、以下において、同一に重ね合わされた各透明基材１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの遅相軸の方向を、それらの透明基材１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃによって構成される多層透明基材１１の遅相軸の方向とする。
The transparent base material 110 is made into the multilayer
尚、実際の多層透明基材の製造においては、遅相軸の方向の組合せは、上記に限らず、他の組合せによっても本発明と同様の効果を奏するものとすることは可能である。例えば、遅相軸の方向が厳密に同一方向に重ね合わされたものではなくても、多層透明基材としての実質的なリタデーションが、本発明と同等の範囲にあるものであれば、そのような多層透明基材も、本発明の均等範囲にあるものである。ここでは、樹脂材料の延伸方向から容易に遅相軸の方向を定められる実施可能な好ましい例として、上記の通り遅層軸の方向を定めているものである。 In the actual production of the multilayer transparent substrate, the combination of the directions of the slow axes is not limited to the above, and other combinations can provide the same effects as those of the present invention. For example, even if the slow axis direction is not exactly superimposed in the same direction, if the substantial retardation as a multilayer transparent substrate is in the same range as the present invention, such Multilayer transparent substrates are also within the equivalent scope of the present invention. Here, as a preferable feasible example in which the direction of the slow axis can be easily determined from the stretching direction of the resin material, the direction of the slow axis is determined as described above.
尚、透明基材１１０は、それぞれの基材の遅相軸方向の配向角差が６°以内であることが好ましく、４°以内であることがより好ましく、２°以内であることが更に好ましい。透明基材１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの偏光角差が６°以内にあることにより、後に説明する通り、タッチパネル装置１０において、偏光板３の吸収軸と多層透明基材１１の遅相軸の方向とのなす角度を０°又は９０度に設置した場合のニジムラ発生を特に防止できる。複数の透明基材１１０の間に、６°を超えるような大きな配向角差が存在した場合、光の透過率が上昇し、干渉色発生の原因となるからである。
The transparent substrate 110 preferably has a difference in orientation angle in the slow axis direction of each substrate within 6 °, more preferably within 4 °, and further preferably within 2 °. . As the polarization angle difference between the
次に、透明基材１１０を形成してなる多層透明基材１１上に形成される導電層１２について説明する。導電層１２は、金属層をパターン形成し開口部の存在によって見かけ上透明に見えるものにすることによって形成することができる。この金属パターンの形成は、金属粒子とバインダー樹脂を含む導電性組成物（導電性インキ或いは、導電性ペースト）を、後述する印刷法により基材上又は透明プライマー層上に形成することで得ることができる。
Next, the
導電層１２の平面視におけるパターン形状は、メッシュ（網目乃至格子）形状が代表的なものであるが、その他、ストライプ（平行線群乃至縞模様）形状、螺旋形状等も用いられる。メッシュ形状の場合、単位格子形状は、正３角形、不等辺３角形等の３角形、正方形、長方形、台形、菱形等の４角形、６角形、８角形等の多角形、円、楕円等が用いられる。又、モアレを軽減する目的で、ランダム網目状、又は擬似ランダム網目状のパターン等も使用可能である。その線幅と線間ピッチも通常採用されている寸法であればよい。例えば、線幅は３〜５０μｍとすることができ、線間ピッチは１００〜５０００μｍとすることができる。尚、導電層１２の光線透過率と下記に詳細を説明する表面抵抗率をより高いレベルで両立させる観点からは、１０００〜５０００μｍであることが好ましい。光線透過率は、通常９０％以上である。又、所定パターンとは別に、その周辺部の全周又はその一部にそれと導通を保ちつつ隣接した全ベタ（開口部なし）等の接地パターンが設けられる場合もある。尚、線幅は、より高透明、不可視のものを得るために、より一層微細化することが求められている。この観点から、１５μｍ以下、特に８μｍ以下とすることが好ましい。
The pattern shape of the
上記パターンのピッチやバイアス角度は、適用される表示装置の画素配列等に応じてモアレを軽減するためにその都度最適化されることが好ましい。 The pitch and bias angle of the pattern are preferably optimized each time in order to reduce moire according to the pixel arrangement of the display device to be applied.
導電層１２の厚さは、導電層１２に備えさせる抵抗値によっても異なるが、導電性能と導電層１２上への他部材の接着適性との兼ね合いから、その中央部（突起パターンの頂部）での測定において、通常、０．１μｍ以上５０μｍ以下であり、好ましくは、０．５μｍ以上１０μｍ以下である。
Although the thickness of the
導電層１２のパターン形成の方法としては、パターン印刷、表面への導電箔形成後に、フォトリソグラフィー（エッチング）、転写、自己組織化等が適用可能である。コストパフォーマンスを高める観点からは、電磁波遮蔽シート１は、特にパターン印刷で形成することが好ましい。パターン印刷の手法としては、導電性組成物を所定のパターンに印刷する手法、無電解めっきの触媒機能を有する材料を所定のパターンに印刷し導電性金属を無電解めっきする手法、無電解めっきの触媒と付加体を形成する材料を印刷後、触媒を付加し無電解めっき処理を行う手法等が挙げられる。導電性組成物としては銀ペースト、銅ペースト、導電性高分子等が挙げられる。触媒機能を有する材料としてはパラジウム等の触媒粒子や、触媒粒子を表面に担持した粒子等を含むインキ等が挙げられる。触媒と付加体を形成する材料としては銀や導電性高分子等を含むインキ等が挙げられる。無電解めっき層を形成する金属としては銅やニッケル、銀等の導電性金属が挙げられる。
As a method for forming the pattern of the
パターン印刷の方法としては必要とされるパターン精度により任意の手法が適用できるが、スクリーン印刷や、凹版オフセット印刷、或いは、ＵＶ硬化プライマーにより凹版から転写させる方法等が好適に用いられる。 Although any method can be applied as the pattern printing method depending on the required pattern accuracy, screen printing, intaglio offset printing, a method of transferring from the intaglio using a UV curing primer, or the like is preferably used.
パターン印刷により、金属粒子とバインダー樹脂を含む導電性組成物によって導電層１２をパターン形成する場合、金属粒子としては、上記に例示した通り、導電性を持った金属であれば使用可能であり、導電層１２は単体の金属や合金であってもよく、金属粒子が結着材により結着されたものでもよい。バインダー樹脂としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用可能である。尚、後述の電気抵抗低減化処理を施す場合は、酸又は温水にて溶解することのない非水溶性樹脂を用いる。
When patterning the
パターン印刷に用いることができるバインダー樹脂を例示すると、熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、熱硬化性ポリエステル樹脂等の樹脂を挙げることができ、電離放射線硬化性樹脂としては、プライマーの材料として後述する物を挙げることができ、これらを１種単独で、或いは、２種以上混合して用いる。熱可塑性樹脂としては、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の樹脂を挙げることができ、これらを１種単独で、或いは、２種以上混合して用いる。尚、熱硬化性樹脂を使用する場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。紫外線（乃至可視光線）硬化型の電離放射線硬化性樹脂を用いる場合は必要に応じて光重合開始剤を添加してもよい。又、版の凹部への充填に適した流動性を得るために、これら樹脂は通常、溶剤に溶けたワニスとして使用する。導電性ペーストとして用いる溶剤の種類には特に制限はなく、一般的に印刷インキに用いられる溶剤の中から適宜選択して使用できるが、プライマー層を設ける場合には該プライマー層の安定硬化を阻害したり、硬化後のプライマー層を膨潤、白化、溶解させたりしないものが好ましい。溶剤の含有量は通常、１０〜７０質量％程度であるが、必要な流動性が得られる範囲でなるべく少ない方が好ましい。又、電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、もともと流動性があるため、必ずしも溶剤を必要としない。 Examples of binder resins that can be used for pattern printing include thermosetting resins such as melamine resins, polyester-melamine resins, epoxy-melamine resins, phenol resins, polyimide resins, thermosetting acrylic resins, thermosetting resins. Examples of the resin include polyurethane resins and thermosetting polyester resins. Examples of the ionizing radiation curable resin include those described later as the material for the primer. These may be used alone or in combination of two or more. Used by mixing. Examples of the thermoplastic resin include thermoplastic polyester resins, polyvinyl butyral resins, thermoplastic acrylic resins, thermoplastic polyurethane resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, and the like. A mixture of two or more types is used. In addition, when using a thermosetting resin, you may add a curing catalyst as needed. When an ultraviolet (or visible light) curable ionizing radiation curable resin is used, a photopolymerization initiator may be added as necessary. Further, in order to obtain fluidity suitable for filling the concave portion of the plate, these resins are usually used as a varnish dissolved in a solvent. There is no particular limitation on the type of solvent used as the conductive paste, and it can be used by appropriately selecting from the solvents generally used for printing inks. However, when a primer layer is provided, the stable hardening of the primer layer is inhibited. And those that do not swell, whiten or dissolve the cured primer layer. The content of the solvent is usually about 10 to 70% by mass, but is preferably as small as possible within a range where necessary fluidity can be obtained. In addition, when an ionizing radiation curable resin is used, it does not necessarily require a solvent because it is inherently fluid.
又、導電性組成物の流動性や安定性を改善するために、導電性や、多層透明基材１１又はプライマー層との密着性に悪影響を与えない限りにおいて適宜充填剤や増粘剤、帯電防止剤、界面活性剤、酸化防止剤、分散剤、沈降防止剤等を添加してもよい。
Also, in order to improve the fluidity and stability of the conductive composition, as long as it does not adversely affect the conductivity and adhesion with the multilayer
尚、導電層１２は、多層透明基材１１上に、透明導電性材料からなる導電膜としても形成することができる。この場合、透明導電材料としてはＩＴＯ、又、銀等の材料からなる導電性ナノワイヤ、導電性を有するカーボンナノチューブやグラフェン、導電性高分子等を用いることができる。透明導電材料を使用する場合は段落００５６に記載のパターン形状、即ち、微細パターンによる高透過率化は必ずしも必要でなく、全面に導電層が形成されたものを使用できる。
The
導電層１２は、表面抵抗率が１０５Ω／□以下であればよく、１０２Ω／□以下であることが好ましい。導電層１２の表面抵抗率を１０５Ω／□以下とすることによって、例えば、タッチパネル装置におけるタッチパネルユニット側の最表面から、タッチパネルユニットの裏面側の面にいたる各層に適宜配置することを前提とした一般的な表示装置の電磁波遮蔽シートに求められる遮蔽性能水準を十分に満たすことができる。又、導電層１２の表面抵抗率を１０２Ω／□以下とすれば、表示装置内での電磁波遮蔽シート１の汎用性及び配置の自由度が格段に高まる。具体的には、配置箇所によって遮蔽性能の調整を必要とせずに自在に配置できるようになる。又、一般に、ＬＣＤパネルユニットの（ガラス板）上に電磁波遮蔽層として別途設ける必要のあった高価なＩＴＯスパッタ層等も不要とすることができる。
The
電磁波遮蔽シート１は、多層透明基材１１を構成する材料とする透明基材１１０として、上述の通り加工適性に優れ製造条件の縛りが小さいＰＥＴを用い、又、導電層１２の材料として更に上記の導電性組成物を用いて、更に汎用的な公知の印刷法等によって導電層１２を形成することによって、表面抵抗率が１０２Ω／□以下である遮蔽シートを高い生産性で製造することができる。
As described above, the electromagnetic
電磁波遮蔽シート１においては、多層透明基材１１と導電層１２との密着性を高めるために、多層透明基材１１と導電層１２との間にプライマー層（図示せず）を設けることが好ましい。プライマー層は多層透明基材１１及び導電層１２の双方に密着性がよく、又、開口部（導電性パターン層非形成部）の光透過性確保のために透明な層である。更に、導電層１２の形成を後述の如き特定の凹版印刷法で行う場合には、プライマー層は、流動性を保持できる状態で多層透明基材１１上に設けられ、凹版印刷時の凹版に接触している間に液状から固化させる層として形成される層となり、最終的な導電層１２が形成されたときに固化している層である。
In the electromagnetic
プライマー層を構成する材料としては、本来特に限定はないが、本発明では、導電性パターン層の形成方法として後述の如き特定の凹版印刷法が推奨されるため、プライマー層も、未硬化状態において液状（流動性）の電離放射線重合性化合物を含む電離放射線硬化性組成物を塗工、硬化（固体化）してなる層が好適に用いられる。 The material constituting the primer layer is not particularly limited in nature, but in the present invention, a specific intaglio printing method as described below is recommended as a method for forming the conductive pattern layer, so that the primer layer is also in an uncured state. A layer formed by coating and curing (solidifying) an ionizing radiation curable composition containing a liquid (fluid) ionizing radiation polymerizable compound is preferably used.
尚、電磁波遮蔽シート１においては、必要に応じ適宜その他の層の形成、又は処理を施してもよい。例えば、錆びに対する耐久性が不十分な場合は、防錆層を設けるとよい。該防錆層は、従来公知の材料及び手法により設けることができる。
In addition, in the electromagnetic
尚、導電層１２の形成は、金属箔をエッチング処理によってパターン化する方法によっても形成することができる。この場合は、金属箔としては銅箔を好ましく用いることができる。具体的な製造方法としては、多層透明基材１１上、或いは、透明基材１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ上に、プライマー層を介して銅箔をドライラミネートして連続帯状の銅箔積層シートとした後、当該銅箔積層シートの銅箔に対して、フォトリソグラフィー法を利用したケミカルエッチング処理を行うことにより、導電層１２を形成することができる。特に１０μｍ未満の線幅を必要とする場合は線幅に応じた厚みを有する金属箔を用いて好ましく処理する事で達成可能であり、厚み２μｍ以下の薄い金属層を多層透明基材１１上、或いは、透明基材１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの上に蒸着やスパッタリング等により形成したものを、同様にフォトリソグラフィーによりパターニングを実施してもよい。
The
＜電磁波遮蔽シートの製造方法＞
以下、電磁波遮蔽シート１の製造方法の好ましい一実施態様について説明する。
<Method for producing electromagnetic wave shielding sheet>
Hereinafter, a preferable embodiment of the method for producing the electromagnetic
本発明の電磁波遮蔽シート１の製造方法は、基材樹脂をフィルム状に形成して透明基材１１０を形成し、更に、その透明基材１１０を積層して多層透明基材１１を得る多層透明基材形成工程と、多層透明基材１１上に、導電性組成物を所定形状に形成して導電層１２を形成する導電層形成工程を含み、当該導電層形成工程は、導電性組成物を所定のパターンに印刷する工程であることを特徴とする。
In the method for producing the electromagnetic
［多層透明基材形成工程］
この工程では、まずポリエチレンテレフタレート等の材料樹脂を溶融し、公知の押し出し法により未延伸のフィルムを形成する。そして、この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置にて、順次Ｘ，Ｙ方向にそれぞれ異なる倍率で延伸を行う。各延伸倍率については、上記において説明した範囲で適宜調整すればよい。以上の作業により、３０００ｎｍ以上のリタデーションを有する透明基材１１０を得ることができる。
[Multilayer transparent substrate forming process]
In this step, first, a material resin such as polyethylene terephthalate is melted, and an unstretched film is formed by a known extrusion method. Then, the unstretched film is stretched sequentially at different magnifications in the X and Y directions by a biaxial stretching test apparatus. About each draw ratio, what is necessary is just to adjust suitably in the range demonstrated above. By the above operation, a transparent substrate 110 having a retardation of 3000 nm or more can be obtained.
上記において得たそれぞれの透明基材１１０は透明粘着層を介して積層することにより多層透明基材１１とすることができる。尚、透明粘着層を形成するための接着剤としては従来公知の酸化防止剤を含むアクリル系の透明接着剤等を好ましく用いることができる。
Each transparent base material 110 obtained in the above can be made into the multilayer
［導電層形成工程］
この工程では、多層透明基材１１の少なくとも一方の面に金属粒子及びバインダー樹脂を含む導電性組成物（導電性ペースト）を用いて導電層１２を形成する。
[Conductive layer forming step]
In this step, the
導電層１２の有する所定パターンは、例えば、シルクスクリ−ン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷等の公知の各種印刷法によって形成することができる。
The predetermined pattern of the
又、多層透明基材１１と導電層１２との密着性を高めるために、多層透明基材１１と導電層１２との間にプライマー層を設ける場合には、上記導電部材の製造方法としては、例えば、公開されている特許文献（ＷＯ２００８／１４９９６９号パンフレット）に記載される特定のプライマーを用いた凹版印刷が推奨される。以下、この凹版印刷法の概略を述べる。
Moreover, in order to improve the adhesiveness between the multilayer
凹版印刷法は、所定のパターンで形成された版面に、導電性組成物を塗布した後、その凹部内以外に付着した導電性組成物を掻き取って該凹部内に導電性組成物を充填し、これに液状プライマー層を片面に形成済みの多層透明基材１１を、プライマー層が凹版に接する向きで圧着して、凹部内の導電性組成物とプライマー層とを空隙無く密着させ、その状態でプライマー層を液状から固体状に固化させた後、多層透明基材１１を凹版から離して離版させることで、多層透明基材１１上の固化したプライマー層上に導電性組成物を転移させて、印刷するものである。
In the intaglio printing method, after applying a conductive composition to a plate surface formed in a predetermined pattern, the conductive composition adhering to other than the inside of the concave portion is scraped to fill the concave portion with the conductive composition. Then, the multilayer
かかる凹版印刷により多層透明基材１１上に導電層１２を形成した導電部材を得ることができる。この導電部材を、更に、（ｉ）温水処理として、水分存在下、且つ比較的高温下にて処理する、及び／又は（ｉｉ）酸処理として、酸に接触させることによって、導電層１２の体積抵抗率、更には表面抵抗率が低下し、導電性能が向上する。
（ｉ）の温水処理は、水温３０〜１００℃の温水の中に導電部材を浸漬したり、温水を導電部材上に掛け流したり、或いは、気温３０〜１００℃で相対湿度６０％以上の雰囲気中に暴露する方法が好ましく、処理時間は、概ね５分〜２０秒程度である。
（ｉｉ）の酸処理において、酸としては、特に限定されず、種々の無機酸、有機酸から選択できるが、好ましくは塩酸、硫酸、クエン酸及びその水溶液であり、酸による処理時間は数分以下で十分であり、処理温度は、常温で十分である。酸で処理する方法は特に限定されないが、酸の溶液の中へ浸漬させる方法が、導電性向上効果に優れるため好ましく、酸の濃度は、好ましくは１ｍｏｌ／Ｌ以下、より好ましくは０．１ｍｏｌ／Ｌ以上である。これら電気抵抗低減化処理のうち、電気抵抗低減化効果、作業性の点から、（ｉｉ）の酸処理の後、引き続いて（ｉ）の温水処理を行うことが好ましい。
かかる電気抵抗低減化処理によって、導電性パターン層全体の表面抵抗率は処理前の８０〜３０％程度に減少する（見かけの体積抵抗率も同様に処理前の８０〜３０％程度となる）。
A conductive member in which the
The hot water treatment of (i) is performed by immersing the conductive member in hot water having a water temperature of 30 to 100 ° C., flowing hot water over the conductive member, or an atmosphere having a relative humidity of 60% or more at a temperature of 30 to 100 ° C. The exposure method is preferable, and the treatment time is about 5 minutes to 20 seconds.
In the acid treatment of (ii), the acid is not particularly limited and can be selected from various inorganic acids and organic acids, but is preferably hydrochloric acid, sulfuric acid, citric acid or an aqueous solution thereof, and the treatment time with the acid is several minutes. The following is sufficient, and the processing temperature is sufficient at room temperature. The method of treating with an acid is not particularly limited, but the method of immersing in an acid solution is preferable because of its excellent conductivity improving effect, and the acid concentration is preferably 1 mol / L or less, more preferably 0.1 mol / L. L or more. Among these electrical resistance reduction treatments, it is preferable to perform the hot water treatment (i) subsequently after the acid treatment (ii) from the viewpoint of the electrical resistance reduction effect and workability.
By this electrical resistance reduction treatment, the surface resistivity of the entire conductive pattern layer is reduced to about 80 to 30% before the treatment (the apparent volume resistivity is also about 80 to 30% before the treatment).
尚、導電層１２の形成は、金属箔をエッチング処理によってパターン化する方法によっても形成することができる。この場合は、金属箔としては銅箔を好ましく用いることができる。具体的な製造方法としては、多層透明基材１１にプライマー層を介して銅箔をドライラミネートして連続帯状の銅箔積層シートとした後、当該銅箔積層シートの銅箔に対して、フォトリソグラフィー法を利用したケミカルエッチング処理を行うことにより、導電層１２を形成することができる。特に、１０μｍ未満の線幅を必要とする場合は、線幅に応じた厚みを有する金属箔を用いて好ましく処理する事で達成可能であり、厚み２μｍ以下の薄い金属層を多層透明基材１１上に蒸着やスパッタリング等により形成したものを、同様にフォトリソグラフィーによりパターニングを実施してもよい。
The
＜タッチパネル方式の表示装置＞
次に、図２から図３を適宜参照しながら、電磁波遮蔽シート１を配置した表示装置の好ましい一実施例であるタッチパネル方式の表示装置であるタッチパネル装置１０について説明する。本発明の表示装置は、電磁波遮蔽シート１と、画像表示パネルとを必須の構成要件とするものであり、その他の構成部材は必ずしも必須ではないが、以下、電磁波遮蔽シート１と、画像表示パネルとして液晶パネルユニット４、及びその他の構成部材を備えるタッチパネル装置１０について、説明する。
<Touch panel type display device>
Next, a
図２に示すように、タッチパネル装置１０は、使用者が画像等を認識する側の面である上面側から順に、タッチパネルユニット２、電磁波遮蔽シート１、偏光板３、液晶パネルユニット４、がこの順で積層され、更に液晶パネルユニット４の下方には、バックライト５が配置されている。但し、電磁波遮蔽シート１の積層位置についてはこれに限らず、図２におけるタッチパネルユニット２の下面側から液晶パネルユニット４の上面（出光面側の面）側の任意の位置に配置することができる。
As shown in FIG. 2, the
又、タッチパネル装置１０は、電磁波遮蔽シート１の電磁波遮蔽性能、及びタッチパネル装置１０の表示機能を害さない範囲で、その他の機能を備える任意の層が単層及び／又は複層で形成された構成であってもよい。上記任意の層としては特に限定されず、例えば、ハードコート層、帯電防止層、低屈折層、高屈折率層、防眩層、防汚層、反射防止層、高誘電体層、電磁波遮蔽層、接着剤層等が挙げられる。
The
電磁波遮蔽シート１の詳細については、上述した通りであるが、図２に示す通り、偏光板３の上面（液晶パネルユニット４と対向する面とは反対側の面）に積層されていてもよいし、図３に示す通り、偏光板３の下面（液晶パネルユニット４と対向する面）に積層されていてもよい。又、図３に示す通り、電磁波遮蔽シート１は、液晶パネルユニット４の上面（出光面側の面）に積層されていてもよい。
The details of the electromagnetic
図２に示す通り、電磁波遮蔽シート１が、偏光板３の上面（液晶パネルユニット４と対向する面とは反対側の面）に積層されている場合は、電磁波の混入を防止することが必要な部材であるタッチパネルユニット２の近傍にて電磁波を遮蔽することにより、効率よく電磁波の混入を低減することができる点において、好ましい。
As shown in FIG. 2, when the electromagnetic
図３に示す通り、電磁波遮蔽シート１が、偏光板３の下面（液晶パネルユニット４と対向する面）に積層されている場合は、電磁波の発生源である液晶パネルユニット４の近傍にて、電磁波を遮蔽して、効率よく電磁波を遮蔽することができる点において、好ましい。
As shown in FIG. 3, when the electromagnetic
又、図３に示す通り、電磁波遮蔽シート１が、液晶パネルユニット４の出光面側の面に積層されている場合は、電磁波遮蔽シート１を液晶パネルユニット４に配置して色味等を管理することができ、製造工程における管理を簡略化することができる点において好ましい。又、電磁波の発生源の近傍側にて、電磁波を遮蔽して、効率よく電磁波を遮蔽することができる点においても好ましい。尚、「電磁波遮蔽シート１が、液晶パネルユニット４の出光面側の面に積層されている」とは、例えば、図３において、液晶パネルユニット４と偏光板３との間に図示されていない他の層等が配置されている場合においても、電磁波遮蔽シート１が、当該他の層を介さずに、液晶パネルユニット４の直上に積層されている構成を言うものである。
In addition, as shown in FIG. 3, when the electromagnetic
電磁波遮蔽シート１は、タッチパネル装置１０において、多層透明基材１１の遅相軸の方向と以下に詳細を説明する偏光板３の吸収軸とのなす角度が、０°±３０°又は９０°±３０°となるように配設されることが好ましく、０°±１０°又は９０°±１０°の範囲にあることがより好ましく、０°±７°又は９０°±７°の範囲にあることがより好ましく、０°±３°又は９０°±３°の範囲にあることが更に好ましく、上記角度が０°又は９０°となるように電磁波遮蔽シート１と偏光板３が配設されることが最も好ましい。多層透明基材１１の遅相軸の方向と偏光板３の吸収軸とのなす角度が上記範囲内にあることで、タッチパネル装置１０の表示画像にニジムラが生じることを極めて高度に抑制することができる。この理由は明確ではないが、以下の理由によると考えられる。
In the electromagnetic
即ち、外光や蛍光灯の光のない環境下（以下、このような環境下を「暗所」とも言う）では、透明基材１１０のリタデーションを３０００ｎｍ以上とすることによって、タッチパネル装置１０において、電磁波遮蔽シート１の多層透明基材１１の遅相軸の方向と偏光板３の吸収軸とのなす角度が、どのような角度であってもニジムラの発生を抑制できる。しかしながら、外光や蛍光灯の光のある環境下（以下、このような環境下を「明所」とも言う）においては、外光や蛍光灯の光は、連続的な幅広いスペクトルを有するものばかりではないため、更に、多層透明基材１１の遅相軸の方向と偏光板３の吸収軸とのなす角度を上述の範囲にしないと、ニジムラが生じてしまい表示品位が低下してしまう。更に、カラーフィルター４３を透過したバックライト５の光も連続的な幅広いスペクトルを有するものばかりではくなるため、多層透明基材１１の遅相軸の方向と偏光板３の吸収軸とのなす角度を上述の範囲にしないと、ニジムラが生じてしまい表示品位が低下してしまうと推測している。尚、タッチパネル装置１０において電磁波遮蔽シート１を複数枚積層して用いる場合や、更に保護膜として透明基材を最表面に積層する場合には、全ての層について上記角度範囲に入ることが好ましい。
That is, in an environment where there is no external light or fluorescent light (hereinafter, such an environment is also referred to as “dark place”), the retardation of the transparent substrate 110 is set to 3000 nm or more in the
ここで、互いの吸収軸が９０°（クロスニコル）となるように配設された２枚の偏光板を透過する光の透過率は、下記式（数２）によって表される。尚、下記数２において、Ｉ／Ｉ０は、クロスニコル状態に置かれた２枚の偏光板を透過する光の透過率を示し、Ｉは、クロスニコル状態に置かれた２枚の偏光板を透過した光の強度を、Ｉ０は、クロスニコル状態に置かれた２枚の偏光板に入射する光の強度を、それぞれ示す。
Here, the transmittance of light transmitted through two polarizing plates arranged such that the mutual absorption axes are 90 ° (crossed Nicols) is expressed by the following formula (Equation 2). In the following
（数２）
Ｉ／Ｉ０＝ｓｉｎ２２θ・ｓｉｎ２（πＲｅ／λ）
(Equation 2)
I / I0 = sin22θ · sin2 (πRe / λ)
又、クロスニコルに配置した偏光板間に対し、ある角度θで設置されたとき、該偏光板間を透過する光の透過率は下記の式（数３）で表される。数２において、Ｉはクロスニコルに配置した偏光板間を透過した光の強度を示し、Ｉ０はクロスニコルに配置した偏光板間に入射する光の強度を示す。この場合、偏光板３の吸収軸に対して、多層透明基材１１の遅相軸の方向のなす角度（θ）を４５°としたときに、光の透過率は最大となるが、透過率は、多層透明基材１１のリタデーション及び透過する光の波長によって変化するため、上記リタデーションの値に特有の干渉色（ニジムラ等）が観測される。ここで、上記角度（θ）を０°又は９０°とした場合、上記光の透過率はゼロとなるため、干渉色は観測されなくなる。
Further, the transmittance of light transmitted between the polarizing plates when the polarizing plates are arranged at a certain angle θ with respect to the polarizing plates arranged in crossed Nicols is expressed by the following formula (Equation 3). In
（数３）
Ｉ／Ｉ０＝ｓｉｎ２２θ・ｓｉｎ２（πＲｅ／λ）
(Equation 3)
I / I0 = sin22θ · sin2 (πRe / λ)
尚、上記の配向角差は、例えば、王子計測機器社製の分子配向計（ＭＯＡ；Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ Ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて測定した配向角の最大値から最小値を引いた値として求められる。又、上記の遅相軸方向は、上記分子配向計（ＭＯＡ；Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ Ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて求めた上記偏光板保護フィルムの遅相軸方向の平均配向角の方向である。 In addition, said orientation angle difference is calculated | required as a value which subtracted the minimum value from the maximum value of the orientation angle measured, for example using the molecular orientation meter (MOA; Molecular Orientation Analyzer) by Oji Scientific Instruments. Moreover, said slow axis direction is a direction of the average orientation angle | corner of the slow axis direction of the said polarizing plate protective film calculated | required using the said molecular orientation meter (MOA; Molecular Orientation Analyzer).
タッチパネルユニット２としては、ＰＥＴ等のフィルム上にｘ方向の導電パターン、又はｙ方向の導電パターンが形成されたセンサーフィルムを順次ガラス板上に積層した構成を有する公知のタッチパネルユニットを用いることができる。タッチパネルユニット２は、センサーフィルム上に任意のその他の層が単層及び／又は複層形成された構成であってもよい。上記任意の層としては特に限定されず、例えば、ハードコート層、帯電防止層、低屈折層、高屈折率層、防眩層、防汚層、反射防止層、高誘電体層、接着剤層等が挙げられる。
As the
偏光板３としては、所望の偏光特性を備えるものであれば特に限定されず、一般的に液晶表示装置の偏光板に用いられるものを用いることができる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコールフィルムが延伸されてなり、ヨウ素を含有する偏光板が好適に用いられる。
The
尚、偏光板に係る他の好ましい例として、タッチパネルユニットと偏光板を一体化した構成を挙げることができる。このような一体化構成によれば、本発明の多層透明基材１１が偏光板保護フィルムを兼ねることができ、これにより、タッチパネル装置の全体の層構成の簡略化、透過性、及び界面反射性の改善が可能である。
In addition, the other preferable example which concerns on a polarizing plate can mention the structure which integrated the touchscreen unit and the polarizing plate. According to such an integrated configuration, the multilayer
液晶パネルユニット４としては、特に限定されず、一般的に液晶表示装置の液晶パネルユニットとして公知のものを用いることができる。例えば、図１に示すように、液晶層４１の上下をガラス板４２で挟み更にその上面にカラーフィルター４３を配置した一般的な構造を有する液晶パネルユニット４、具体的には、ＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ及びＯＣＢ等の表示方式のものを用いることができる。
The liquid crystal panel unit 4 is not particularly limited, and generally known liquid crystal panel units for liquid crystal display devices can be used. For example, as shown in FIG. 1, a liquid crystal panel unit 4 having a general structure in which a
カラーフィルター４３としては、特に限定されず、例えば、一般的に液晶表示装置のカラーフィルターとして公知のものを用いることができる。このようなカラーフィルターは、通常、赤色、緑色及び青色の各色の透明着色パターンから構成され、それら各透明着色パターンは、着色剤が溶解又は分散、好ましくは顔料微粒子が分散された樹脂組成物から構成される。尚、上記カラーフィルターの形成は、所定の色に着色したインキ組成物を調整して、着色パターン毎に印刷することによって行ってもよいが、所定の色の着色剤を含有した塗料タイプの感光性樹脂組成物を用いて、フォトリソグラフィ法によって行うのがより好ましい。
The
又、液晶パネルユニット４は、更に、液晶パネルユニット４の上面と下面を、２つの偏光板で挟持した構造であってもよい。この場合、液晶パネルユニット４のカラーフィルター４３と反対側面に偏光板３と同構成の偏光板３ａが設けられることとなるが、これら２つの偏光板３、３ａは、通常、互いの吸収軸が９０°（クロスニコル）となるように配設される。
Further, the liquid crystal panel unit 4 may have a structure in which the upper and lower surfaces of the liquid crystal panel unit 4 are sandwiched between two polarizing plates. In this case, a
又、液晶パネルユニット４は電磁波の発生源でもあるため、電磁波を遮蔽するために、一般的には、上述した通りのＩＴＯスパッタ層を液晶パネルユニット４の出光面側のガラス板４２上に設ける必要があったが、タッチパネル装置１０においては、この層を、例えば金属粒子とバインダー樹脂を含む導電性組成物が所定形状に形成された電磁波遮蔽シート１で代替するか、もしくは、他の位置に導電層１２の表面抵抗率を１０２Ω／□以下とした電磁波遮蔽シート１を配置することにより、この位置に配置される遮蔽層そのものを不要とし当該遮蔽層を配置しない構成とすることもできる。
Further, since the liquid crystal panel unit 4 is also a source of electromagnetic waves, generally, an ITO sputter layer as described above is provided on the
バックライト５の一次光源は、特に限定されないが、白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ）であることが好ましい。上記白色ＬＥＤとは、蛍光体方式、即ち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることからニジムラの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、本発明における上記バックライトの一次光源として好適である。又、消費電力の小さい白色ＬＥＤを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。
The primary light source of the
タッチパネル装置１０の表示画像は、バックライト５の一次光源から照射された光がカラーフィルター４３を透過することでカラー表示される。ところが、カラーフィルター４３を透過する光が単色表示となるように制御した場合、電磁波遮蔽シートの透明基材の材料として、従来使用されている配向ポリエステルフィルムを用いると、ニジムラがより強く生じる場合がある。これに対して、タッチパネル装置１０は、上述した多層透明基材１１を有するため、このような単色表示とした場合であっても、ニジムラの発生を好適に抑制することができる。
The display image of the
上記説明した電磁波遮蔽シート１を用いたタッチパネル装置１０の他、電磁波遮蔽シート１に替えて、透明基材１１０のように３０００ｎｍ以上のリタデーションを有する単層の透明基材に導電層が積層されてなる電磁波遮蔽シートを用い、且つ、同じく３０００ｎｍ以上のリタデーションを有する単層の透明基材を含んで構成されるその他の機能層を更に備えるタッチパネル装置も本発明の範囲である。この発明は、３０００ｎｍ以上のリタデーションを有する単層の透明基材が、必ずしも多層透明基材を構成する形で、電磁波遮蔽シート内で一体化されている場合のみならず、３０００ｎｍ以上のリタデーションを有する単層の透明基材が、タッチパネル装置内において、その他の機能層の一部として、電磁波遮蔽シートとは分離して配置されている場合であっても、本願発明の効果を奏しうるという知見に基づくものある。
In addition to the
上記構成のタッチパネル装置において、上記の３０００ｎｍ以上のリタデーションを有する単層の透明基材は、遅相軸方向の配向角差が６°以内であることが好ましく、４°以内であることがより好ましく、２°以内であることが更に好ましい。上記透明基材の偏光角差が６°以内にあることにより、偏光板の吸収軸と上記透明基材の遅相軸の方向とのなす角度を０°又は９０度に設置した場合のニジムラ発生を特に防止できる。 In the touch panel device having the above configuration, the single-layer transparent substrate having a retardation of 3000 nm or more preferably has an orientation angle difference in the slow axis direction of 6 ° or less, more preferably 4 ° or less. More preferably, it is within 2 °. When the difference in polarization angle of the transparent base material is within 6 °, the occurrence of ND when the angle between the absorption axis of the polarizing plate and the direction of the slow axis of the transparent base material is set to 0 ° or 90 ° Can be prevented in particular.
上記構成のタッチパネル装置の好ましい一例として、上記のその他の機能層が、タッチパネルユニットの上面に配置されている保護フィルムである、タッチパネル装置を例示することができる。この保護フィルムが、３０００ｎｍ以上のリタデーションを有する透明基材を含んでなるものであり、且つ、電磁波遮蔽シートが３０００ｎｍ以上のリタデーションを有する単層の透明基材に導電層が積層されてなる電磁波遮蔽シートである場合にも、これらの構成要件を備えるタッチパネル装置は、タッチパネル装置１０と同様にニジムラの発生を抑止することができる。
As a preferable example of the touch panel device having the above configuration, a touch panel device in which the other functional layer is a protective film disposed on the upper surface of the touch panel unit can be exemplified. This protective film comprises a transparent substrate having a retardation of 3000 nm or more, and the electromagnetic wave shielding sheet is formed by laminating a conductive layer on a single-layer transparent substrate having a retardation of 3000 nm or more. Even in the case of a sheet, the touch panel device having these constituent requirements can suppress the occurrence of nitrile as with the
又、他の好ましい一例として、上記のその他の機能層が、タッチパネルユニットの上面に配置されている飛散防止フィルムであるタッチパネル装置を例示することができる。この飛散防止フィルムが、３０００ｎｍ以上のリタデーションを有する透明基材を含んでなるものであり、且つ、電磁波遮蔽シートが３０００ｎｍ以上のリタデーションを有する単層の透明基材に導電層が積層されてなる電磁波遮蔽シートである場合にも、これらの構成要件を備えるタッチパネル装置は、タッチパネル装置１０と同様にニジムラの発生を抑止することができる。尚、飛散防止フィルムとは、主としてタッチパネル装置の最表面に密着配置され、特に前記のＰＥＴ材料において好適であり、その機能としては画面等が破損した場合においてフィルムの密着と自身の延性による下部ガラス等の飛散による使用者、周囲の人のケガ、また、耐水、耐気封止性の喪失、画面の破損、破片の脱落による画面視認性、操作性の悪化を抑え、例えば、修理窓口に出すまでの間、当面の使用を可能にする事ができるものである。
As another preferred example, a touch panel device in which the other functional layer is a scattering prevention film disposed on the upper surface of the touch panel unit can be exemplified. The anti-scattering film comprises a transparent substrate having a retardation of 3000 nm or more, and the electromagnetic wave shielding sheet is an electromagnetic wave formed by laminating a conductive layer on a single-layer transparent substrate having a retardation of 3000 nm or more. Even in the case of a shielding sheet, a touch panel device having these constituent requirements can suppress the occurrence of nitrile as with the
上記構成のようにタッチパネル装置における透明基材の配置にフレキシビリティを持たせることにより、タッチパネル装置１０と同様のニジムラの発生を抑止する効果を保持しつつ、各層の複合機能化（例えば、保護フィルムとタッチパネル、タッチパネルと偏光板保護フィルム、その他、反射防止等）を実現し、タッチパネルセンサーフィルムの厚みをより薄くすることが可能となる。
By providing flexibility in the arrangement of the transparent base material in the touch panel device as in the above configuration, the composite function of each layer (for example, a protective film) is maintained while maintaining the same effect as the
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。尚、本明細書においては、特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited to a following example. In this specification, “part” and “%” are based on mass unless otherwise specified.
（実施例１）
＜電磁波遮蔽シート作成＞
以下の工程により、実施例１のタッチパネル装置に用いる電磁波遮蔽シートを作成した。
［多層透明基材形成］
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを形成した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、リタデーション＝３３００ｎｍ、膜厚＝３３μｍ、Δｎ＝０．０９９の透明基材を得た。
Example 1
<Making electromagnetic shielding sheet>
The electromagnetic wave shielding sheet used for the touch panel device of Example 1 was created by the following steps.
[Multilayer transparent substrate formation]
The polyethylene terephthalate material was melted at 290 ° C., extruded through a film-forming die, into a sheet form, closely contacted on a water-cooled and cooled rotary quenching drum, and cooled to form an unstretched film. This unstretched film was preheated at 120 ° C. for 1 minute with a biaxial stretching test apparatus (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.), and then stretched at 120 ° C. at a stretch ratio of 4.5 times. The film was stretched in the direction of the degree at a stretching ratio of 1.5 times to obtain a transparent substrate having retardation = 3300 nm, film thickness = 33 μm, and Δn = 0.099.
得られた上記の透明基材を３枚（３層）、透明接着剤層を介して積層し、多層透明基材を得た。透明接着剤としては、酸化防止剤を含むアクリル系の透明接着剤を用いた。 Three of the obtained transparent substrates (three layers) were laminated via a transparent adhesive layer to obtain a multilayer transparent substrate. As the transparent adhesive, an acrylic transparent adhesive containing an antioxidant was used.
［導電層形成］
上記の多層透明基材に、斜線版のグラビアリバースロールコート方式で、下記組成の紫外線硬化性樹脂組成物からなる液状のプライマーを厚み１４μｍにコーティングした。
エポキシアクリレートプレポリマー：３５質量部
ウレタンアクリレートプレポリマー：１２質量部
フェノキシエチルアクリレートからなる単官能アクリレートモノマー：４４質量部
エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレートからなる３官能アクリレートモノマー：９質量部
光重合開始剤 １−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製の商品名イルガキュア１８４）：３質量部
[Conductive layer formation]
The multilayer transparent substrate was coated with a liquid primer composed of an ultraviolet curable resin composition having the following composition to a thickness of 14 μm by the oblique gravure reverse roll coating method.
Epoxy acrylate prepolymer: 35 parts by weight Urethane acrylate prepolymer: 12 parts by weight Monofunctional acrylate monomer comprising phenoxyethyl acrylate: 44 parts by weight Trifunctional acrylate monomer comprising ethylene oxide-modified isocyanuric acid triacrylate: 9 parts by weight Photopolymerization initiator 1 -Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals): 3 parts by mass
次に、導電性組成物として、下記組成の銀ペーストインキを用意した。
（導電性組成物（銀ペースト）の組成）
金属粒子（平均粒子径１μｍの銀粒子）：９３質量部
バインダー樹脂（熱可塑性のポリエステルウレタン樹脂）：７質量部
溶剤（ブチルカルビトールアセテート）：２５質量部
Next, a silver paste ink having the following composition was prepared as a conductive composition.
(Composition of conductive composition (silver paste))
Metal particles (silver particles having an average particle diameter of 1 μm): 93 parts by mass Binder resin (thermoplastic polyester urethane resin): 7 parts by mass Solvent (butyl carbitol acetate): 25 parts by mass
凹版として、版凹部パターンの平面視形状が線幅５μｍ、ピッチ３２００μｍの正方格子で、版深２５μｍである上記凹版ロールを用いた。充填容器に満たされた銀ペーストインキをピックアップロールにより版表面にコーティングし、余剰インキをドクターブレードにより掻き取った版面と、プライマー層が形成された透明基材のプライマー層側とをニップロールで圧着し、引続き高圧水銀灯を配置してなる紫外線照射ゾーン間を走行する間に、プライマー層の紫外線硬化樹脂を硬化させた。その後、出口側のニップロールによってフィルムが凹版ロールから剥離され、プライマー層上には導電性組成物層が転移形成される。このようにして得られた転移フィルムを、１２０℃の乾燥ゾーンを通過させて銀ペーストの溶剤を蒸発させ、プライマー層上にメッシュパターンからなる導電層を形成し、電磁波遮蔽シート用の導電部材を得た。 As the intaglio, the above intaglio roll having a square lattice with a plate concave pattern having a line width of 5 μm and a pitch of 3200 μm and a plate depth of 25 μm was used. The silver paste ink filled in the filling container is coated on the plate surface with a pick-up roll, and the plate surface on which the excess ink is scraped off with a doctor blade and the primer layer side of the transparent substrate on which the primer layer is formed are pressure-bonded with a nip roll. Subsequently, the UV curable resin of the primer layer was cured while traveling between the UV irradiation zones where the high-pressure mercury lamp was arranged. Thereafter, the film is peeled from the intaglio roll by the nip roll on the outlet side, and the conductive composition layer is transferred and formed on the primer layer. The transfer film thus obtained is passed through a 120 ° C. drying zone to evaporate the solvent of the silver paste, and a conductive layer made of a mesh pattern is formed on the primer layer. Obtained.
次いで、電気抵抗低減化処理として、導電部材を、気温８０℃、相対湿度９０％の雰囲気中で４８時間放置した後、室温雰囲気（気温２３℃、相対湿度５０％）中に取り出した。印刷された導電性パターン層の厚み（メッシュ非形成部のプライマー層表面を基準にして測定）は２３μｍであり、版深と印刷厚みの比で計算した転移率は、（メッシュパターン厚み２３μｍ／版深２５μｍ）×１００＝９２％であった。印刷された導電性パターン層の厚み（メッシュ非形成部のプライマー層表面を基準にして測定）は２３μｍであり、版深と印刷厚みの比で計算した転移率は、（メッシュパターン厚み２３μｍ／版深２５μｍ）×１００＝９２％であったが、実際には銀ペーストインキの転写後の流動、溶剤乾燥による体積收縮があるため、転写直後には、ほぼ１００％に近い転移がなされていると推定される。 Next, as an electrical resistance reduction treatment, the conductive member was left for 48 hours in an atmosphere having a temperature of 80 ° C. and a relative humidity of 90%, and then taken out into a room temperature atmosphere (temperature 23 ° C., relative humidity 50%). The thickness of the printed conductive pattern layer (measured with reference to the surface of the primer layer of the non-mesh portion) is 23 μm, and the transfer rate calculated by the ratio of the plate depth to the printing thickness is (mesh pattern thickness 23 μm / plate Depth 25 μm) × 100 = 92%. The thickness of the printed conductive pattern layer (measured with reference to the surface of the primer layer of the non-mesh portion) is 23 μm, and the transfer rate calculated by the ratio of the plate depth to the printing thickness is (mesh pattern thickness 23 μm / plate The depth was 25 μm) × 100 = 92%, but in reality, there was a flow after the silver paste ink was transferred and volumetric shrinkage due to solvent drying. Presumed.
以上によって得た実施例の電磁波遮蔽シートにおけるアクティブエリア（画像表示領域）のパターン形状は、格子状のパターンが格子状に配列した形状であり、線幅は５μｍ、開口ピッチは３２００μｍであった。 The pattern shape of the active area (image display region) in the electromagnetic wave shielding sheet of the example obtained as described above was a shape in which a lattice pattern was arranged in a lattice shape, the line width was 5 μm, and the opening pitch was 3200 μm.
＜タッチパネル装置作成＞
次に、液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｊａｐａｎ社製））の観測者側の偏光板上側に、得られた電磁波遮蔽シートを配置し、タッチパネル装置を作成した。尚、電磁波遮蔽シートは、該電磁波遮蔽シートの多層透明基材の遅相軸の方向と液晶モニターの観測者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が０°となるように配置した。
<Create touch panel device>
Next, the obtained electromagnetic wave shielding sheet was arranged above the polarizing plate on the observer side of the liquid crystal monitor (FLATRON IPS226V (manufactured by LG Electronics Japan)), and a touch panel device was created. The electromagnetic wave shielding sheet was arranged so that the angle formed between the slow axis direction of the multilayer transparent substrate of the electromagnetic wave shielding sheet and the absorption axis of the polarizing plate on the observer side of the liquid crystal monitor was 0 °.
（実施例２）
電磁波遮蔽シートの多層透明基材の遅相軸の方向と、液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度を３０°とした以外は、実施例１と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
(Example 2)
The touch panel device is manufactured in the same manner as in Example 1 except that the angle formed between the slow axis direction of the multilayer transparent substrate of the electromagnetic wave shielding sheet and the absorption axis of the polarizing plate on the observer side of the liquid crystal monitor is 30 °. Was made.
（実施例３）
電磁波遮蔽シートの多層透明基材の遅相軸の方向と、液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度を６０°とした以外は、実施例１と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
(Example 3)
The touch panel device is manufactured in the same manner as in Example 1 except that the angle formed between the slow axis direction of the multilayer transparent substrate of the electromagnetic wave shielding sheet and the absorption axis of the polarizing plate on the observer side of the liquid crystal monitor is 60 °. Was made.
（実施例４）
電磁波遮蔽シートの多層透明基材の遅相軸の方向と、液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度を９０°とした以外は、実施例１と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
Example 4
The touch panel device is manufactured in the same manner as in Example 1 except that the angle formed between the slow axis direction of the multilayer transparent substrate of the electromagnetic wave shielding sheet and the absorption axis of the polarizing plate on the observer side of the liquid crystal monitor is 90 °. Was made.
（実施例５）
電磁波遮蔽シートの多層透明基材の遅相軸の方向と、液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度を４５°とした以外は、実施例１と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
(Example 5)
The touch panel device is manufactured in the same manner as in Example 1 except that the angle between the direction of the slow axis of the multilayer transparent substrate of the electromagnetic wave shielding sheet and the absorption axis of the polarizing plate on the observer side of the liquid crystal monitor is 45 °. Was made.
（実施例６）
実施例１と同様にして得られた透明基材の積層数を２枚（２層）としたこと以外は、実施例１と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
(Example 6)
A touch panel device was produced in the same manner as in Example 1 except that the number of laminated transparent substrates obtained in the same manner as in Example 1 was 2 (2 layers).
（実施例７）
実施例１と同様にして得られた透明基材の積層数を６枚（６層）としたこと以外は、実施例１と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
（実施例８）
実施例１における多層の透明基材に替えて、実施例１において得られた単層の透明基材を用いて電磁波遮蔽シートを作成し、又、タッチパネルセンサーのガラス板上に、更に実施例１において得られた単層の透明基材を保護フィルムとして積層したこと以外は、実施例１と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
(Example 7)
A touch panel device was produced in the same manner as in Example 1 except that the number of transparent substrates obtained in the same manner as in Example 1 was 6 (6 layers).
(Example 8)
In place of the multilayer transparent substrate in Example 1, an electromagnetic wave shielding sheet was prepared using the single-layer transparent substrate obtained in Example 1, and further on the glass plate of the touch panel sensor, Example 1 A touch panel device was produced in the same manner as in Example 1 except that the single-layer transparent substrate obtained in 1 was laminated as a protective film.
（比較例１）
実施例１における多層の透明基材に替えて、下記の単層の透明基材を用いた。その他については、実施例１と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。この比較例１に用いた単層の透明基材は、実施例１における透明基材の作成における延伸倍率を調整して得た、リタデーション＝２８００ｎｍ、膜厚＝１００μｍ、Δｎ＝０．０２８の透明基材である。
(Comparative Example 1)
Instead of the multilayer transparent substrate in Example 1, the following single-layer transparent substrate was used. About the others, the touchscreen apparatus was produced by the method similar to Example 1. FIG. The single-layer transparent substrate used in Comparative Example 1 was obtained by adjusting the stretching ratio in the production of the transparent substrate in Example 1, and had a retardation = 2800 nm, a film thickness = 100 μm, and Δn = 0.028. It is a substrate.
（比較例２）
実施例１における多層の透明基材に替えて、下記の単層の透明基材を用いた。その他については、実施例１と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。この比較例２に用いた単層の透明基材は、実施例１における透明基材の作成における延伸倍率を調整して得た、リタデーション＝９３０ｎｍ、膜厚＝３３μｍ、Δｎ＝０．０２８の透明基材である。
(Comparative Example 2)
Instead of the multilayer transparent substrate in Example 1, the following single-layer transparent substrate was used. About the others, the touchscreen apparatus was produced by the method similar to Example 1. FIG. The single-layer transparent substrate used in Comparative Example 2 was obtained by adjusting the stretching ratio in the production of the transparent substrate in Example 1, and had a retardation = 930 nm, a film thickness = 33 μm, and Δn = 0.028. It is a substrate.
（比較例３）
実施例１における透明基材の作成における延伸倍率を調整して、リタデーション＝２０００ｎｍ、膜厚＝３３μｍ、Δｎ＝０．０６１の透明基材を得た。この透明基材を用いたこと以外は、実施例６と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。
(Comparative Example 3)
The draw ratio in the production of the transparent substrate in Example 1 was adjusted to obtain a transparent substrate having retardation = 2000 nm, film thickness = 33 μm, and Δn = 0.061. A touch panel device was produced in the same manner as in Example 6 except that this transparent substrate was used.
（参考例）
実施例１における多層の透明基材に替えて、下記の単層の透明基材を用いた。その他については、実施例１と同様の方法でタッチパネル装置を作製した。この参考例に用いた単層の透明基材は、実施例１における透明基材の作成における延伸倍率を調整して得た、リタデーション＝９９００ｎｍ、膜厚＝１００μｍ、Δｎ＝０．０９９の透明基材である。
(Reference example)
Instead of the multilayer transparent substrate in Example 1, the following single-layer transparent substrate was used. About the others, the touchscreen apparatus was produced by the method similar to Example 1. FIG. The single-layer transparent substrate used in this reference example was obtained by adjusting the stretching ratio in the production of the transparent substrate in Example 1, and was obtained by adjusting the retardation = 9900 nm, the film thickness = 100 μm, and Δn = 0.099. It is a material.
＜ニジムラ評価＞
実施例１〜８、比較例１〜３、参考例にて作成したタッチパネル装置を、暗所及び明所（液晶モニター周辺照度４００ルクス）にて、５人の人間が、正面及び斜め方向（約５０度）から目視及び、明所においては更に偏光サングラス越しに、表示画像の観測を行い、ニジムラの有無を以下の基準に従い評価した。
Ａ：ニジムラが観測されない。
Ｂ：ニジムラが観測されるが、薄く、実使用上問題ないレベル。
Ｃ：ニジムラが観測される。
Ｄ：ニジムラが強く観測される。
<Nizimura evaluation>
The touch panel devices created in Examples 1 to 8, Comparative Examples 1 to 3 and Reference Example were used in a dark place and a bright place (LCD monitor ambient illuminance 400 lux). The display image was observed visually and in a bright place through polarized sunglasses, and the presence or absence of nidimra was evaluated according to the following criteria.
A: Nizimura is not observed.
B: Nizimura is observed, but it is thin and has no problem in practical use.
C: Nizimura is observed.
D: Nizimura is strongly observed.
表１に示したように、電磁波遮蔽シートを構成する多層透明基材がリタデーションが３０００ｎｍ以上の透明基材を複数積層したものであり、且つ、電磁波遮蔽シートの多層透明基材の遅相軸の方向と偏光板の吸収軸とが０°±３０°又は９０°±３０°の範囲にある実施例１〜４及び６〜７に係るタッチパネル装置は、明所及び暗所における目視のニジムラの評価に優れるものであった。これに対して、電磁波遮蔽シートの多層透明基材の遅相軸の方向と偏光板の吸収軸とのなす角度が４５°であった実施例５に係るタッチパネル装置は、明所での偏光サングラス越しでのニジムラ評価に劣るものではあったが、暗所でのニジムラ評価は良好であり、実用上好ましい範囲に、ニジムラを抑制できるものとなっている。又、リタデーションが３０００ｎｍ以上の透明基材を分離して、複数の層（２カ所）に配置した実施例８においても、他の実施例と同様の効果を得ることができることが分る。尚、参考例は、特段に高いリタデーション値を有する非汎用的な透明基材を単層使用で用いた場合についての例であるが、本発明の実施例はいずれも、汎用的な透明基材のみを組み合わせて使用したものでもあるにかかわらず、これと同様の効果を奏するものであることが分る。 As shown in Table 1, the multilayer transparent base material constituting the electromagnetic wave shielding sheet is obtained by laminating a plurality of transparent base materials having a retardation of 3000 nm or more, and the slow axis of the multilayer transparent base material of the electromagnetic wave shielding sheet. The touch panel devices according to Examples 1 to 4 and 6 to 7 in which the direction and the absorption axis of the polarizing plate are in the range of 0 ° ± 30 ° or 90 ° ± 30 ° are visually evaluated in the bright and dark places. It was excellent. In contrast, the touch panel device according to Example 5 in which the angle formed between the direction of the slow axis of the multilayer transparent base material of the electromagnetic wave shielding sheet and the absorption axis of the polarizing plate was 45 ° is polarized sunglasses in a bright place. Although it was inferior to the evaluation of Nizimura over the night, the evaluation of Nizimura in the dark is good, and Nizimura can be suppressed to a practically preferable range. Moreover, it turns out that the effect similar to another Example can be acquired also in Example 8 which isolate | separated the transparent base material whose retardation is 3000 nm or more, and has arrange | positioned in several layers (2 places). In addition, although a reference example is an example about the case where the non-universal transparent base material which has a particularly high retardation value is used by single layer use, all the Examples of this invention are general-purpose transparent base materials. It can be seen that the same effect can be obtained regardless of whether these are used in combination.
（変形例）
電磁波遮蔽シートの多層透明基材の遅相軸の方向と、液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度を任意の角度とし、それ以外は、実施例１と同様の方法で作成したタッチパネル装置については、暗所での使用において実用上好ましい範囲に、ニジムラを抑制できるものとなっている。
(Modification)
The angle between the direction of the slow axis of the multilayer transparent substrate of the electromagnetic wave shielding sheet and the absorption axis of the polarizing plate on the viewer side of the liquid crystal monitor is an arbitrary angle, and the other methods are the same as in Example 1. About the created touch panel apparatus, it is a thing which can suppress a nidimra to the practically preferable range in the use in a dark place.
以上、実施例より、本発明の電磁波遮蔽シート及びそれを用いたタッチパネル装置は、画面にニジムラが生じることを極めて高度に抑制でき、高品質が要求されるタッチパネル装置に適用することができることが理解できる。 As described above, from the examples, it is understood that the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention and the touch panel device using the same can be applied to a touch panel device that can extremely highly prevent the occurrence of nitrite on the screen and require high quality. it can.
＜電磁波遮蔽性能評価＞
実施例１の電磁波遮蔽シートの電磁波遮蔽性能を評価した。
即ち、先ず、テレビジョン受像装置として、ＷＯＯＯ（日立製作所社製、商品名）から既存の前面フィルタを取り外したものを用意し、その前面硝子板の表面に実施例１の電磁波遮蔽シートを貼着した。そして、周縁部に露出した電磁波遮蔽シートに接地加工を施したものを実施例１の評価用テレビジョン受像装置として各々準備した。
<Electromagnetic wave shielding performance evaluation>
The electromagnetic wave shielding performance of the electromagnetic wave shielding sheet of Example 1 was evaluated.
That is, first, as a television receiver, a device obtained by removing an existing front filter from WOOO (trade name, manufactured by Hitachi, Ltd.) is prepared, and the electromagnetic wave shielding sheet of Example 1 is attached to the surface of the front glass plate. did. Each of the electromagnetic wave shielding sheets exposed at the peripheral edge was grounded and prepared as an evaluation television receiver for Example 1.
〔電磁波遮蔽性〕
電磁波遮蔽性は、評価用テレビジョン受像装置を電磁波遮蔽材評価装置（（株）アドバンテスト製、ＴＲ１７３０１Ａ）を用いて電磁波遮蔽特性を測定した結果が、２００〜６００ＭＨｚの範囲で−３０デシベル程度以下の遮蔽特性を有するものを「良好」として評価し、−３０デシベル程度より高い遮蔽特性を有するものを「不良」として評価した。
[Electromagnetic wave shielding]
As for the electromagnetic wave shielding property, the result of measuring the electromagnetic wave shielding characteristics using an evaluation television receiver using an electromagnetic wave shielding material evaluation device (TR17301A, manufactured by Advantest Corporation) is about −30 decibels or less in the range of 200 to 600 MHz. Those having shielding properties were evaluated as “good”, and those having shielding properties higher than about −30 decibels were evaluated as “bad”.
評価結果は、「良好」であった。 The evaluation result was “good”.
以上よりの本発明の電磁波遮蔽シートは、タッチパネル方式の液晶表示装置に代表される表示装置において、優れた電磁波遮蔽性を発揮し、又、表示装置の画像等の品質向上にも大きく寄与できる物であることが分る。 The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention as described above exhibits excellent electromagnetic wave shielding properties in a display device typified by a touch panel type liquid crystal display device, and can greatly contribute to improving the quality of images of the display device. It turns out that it is.
１ 電磁波遮蔽シート
１１ 多層透明基材
１１０ 透明基材
１２ 導電層
２ タッチパネルユニット
３ 偏光板
４ 液晶パネルユニット
４１ 液晶層
４２ ガラス板
４３ カラーフィルター
５ バックライト
１０ タッチパネル装置
DESCRIPTION OF
Claims (17)
前記多層透明基材を構成する前記透明基材は、３０００ｎｍ以上のリタデーションを有するものであることを特徴とする電磁波遮蔽シート。 An electromagnetic wave shielding sheet in which a conductive layer is laminated on a multilayer transparent substrate obtained by laminating a plurality of transparent substrates,
The electromagnetic wave shielding sheet, wherein the transparent base material constituting the multilayer transparent base material has a retardation of 3000 nm or more.
画像表示パネルと、を備えた表示装置。 The electromagnetic wave shielding sheet according to any one of claims 1 to 6,
An image display panel.
前記画像表示パネルは、液晶パネルユニットである請求項７に記載の表示装置。 A polarizing plate disposed on the light exit surface side of the image display panel;
The display device according to claim 7, wherein the image display panel is a liquid crystal panel unit.
前記画像表示パネルとは反対側の最外面にタッチパネルユニットを備えるタッチパネル方式の表示装置。 The display device according to claim 7, wherein
A touch panel display device comprising a touch panel unit on the outermost surface opposite to the image display panel.
画像表示パネルと、を備えた表示装置であって、
該表示装置は、前記透明基材を含んで構成されている機能層を更に備えるものであり、
前記電磁波遮蔽シート及び機能層を構成する前記透明基材は、いずれも３０００ｎｍ以上のリタデーションを有するものであることを特徴とする表示装置。 An electromagnetic wave shielding sheet in which a conductive layer is laminated on a transparent substrate;
An image display panel, and a display device comprising:
The display device further includes a functional layer configured to include the transparent substrate,
The transparent base material that constitutes the electromagnetic wave shielding sheet and the functional layer both have a retardation of 3000 nm or more.
基材樹脂をフィルム状に形成して、透明基材及びそれらを積層してなる多層透明基材を得る多層透明基材形成工程と、
前記多層透明基材上に、導電性組成物を所定形状に形成して導電層を形成する導電層形成工程と、を備え、
前記導電層形成工程は、前記導電性組成物を所定のパターンに印刷する工程であることを特徴とする電磁波遮蔽シートの製造方法。 It is a manufacturing method of the electromagnetic wave shielding sheet according to any one of claims 1 to 6,
A multilayer transparent substrate forming step of forming a base resin into a film and obtaining a transparent substrate and a multilayer transparent substrate obtained by laminating them,
A conductive layer forming step of forming a conductive composition on the multilayer transparent substrate to form a conductive layer in a predetermined shape, and
The method for producing an electromagnetic wave shielding sheet, wherein the conductive layer forming step is a step of printing the conductive composition in a predetermined pattern.
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