JP2014006364A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】フィルムが、2個のパターンとは異なるパターンで露光される。
【解決手段】露光装置は、フィルムを保持するフィルム保持部と、第1パターン、および、前記第1パターンから離間した第2パターンが形成されたマスクと、前記マスクに光束を照射して、前記第1パターンまたは前記第2パターンを通過した光束により前記フィルムを露光する露光部とを備え、前記露光部は、前記第1パターンを照射する第1光束を出力する第1光出力部と、前記第1光出力部から出力される前記第1光束の主光線と交差する主光線を有し、前記第2パターンを照射する第2光束を出力する第2光出力部とを有し、前記フィルム保持部は、前記第1光束と前記第2光束とが交差する位置よりも前記マスクに近い位置で前記フィルムを保持する。
【選択図】図5

Description

本発明は、露光装置及び露光方法に関する。
2個の異なるパターンによって、フィルムを露光する露光装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
[特許文献1] 米国特許出願公開第2011/0217638号明細書
上述の露光装置では、一方のパターンの一端と他方のパターンの一端とが略同じ位置に形成されているので、一方のパターンを透過した光と他方のパターンを透過した光とが、フィルムの前で交差するクロストークが生じていた。この結果、フィルムが、2個のパターンとは異なるパターンで露光されるという課題がある。
本発明の第1の態様においては、フィルムを保持するフィルム保持部と、第1パターン、および、前記第1パターンから離間した第2パターンが形成されたマスクと、前記マスクに光束を照射して、前記第1パターンまたは前記第2パターンを通過した光束により前記フィルムを露光する露光部とを備え、前記露光部は、前記第1パターンを照射する第1光束を出力する第1光出力部と、前記第1光出力部から出力される前記第1光束の主光線と交差する主光線を有し、前記第2パターンを照射する第2光束を出力する第2光出力部とを有し、前記フィルム保持部は、前記第1光束と前記第2光束とが交差する位置よりも前記マスクに近い位置で前記フィルムを保持する露光装置を提供する。
本発明の第2の態様においては、フィルムを保持するフィルム保持段階と、第1パターン、および、前記第1パターンから離間した第2パターンが形成されたマスクに光束を照射して、前記第1パターンまたは前記第2パターンを通過した光束により前記フィルムを露光する露光段階とを備え、前記露光段階では、前記第1パターンを照射する第1光束を出力するとともに、前記第1光束の主光線と交差する主光線を有し、前記第2パターンを照射する第2光束を出力して、前記フィルム保持段階では、前記第1光束と前記第2光束とが交差する位置よりも前記マスクに近い位置に前記フィルムを配置する露光方法を提供する。
なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。
本実施形態により製造される光学フィルム100の全体平面図である。 図1のII−II線に沿った縦断面図である。 光学フィルム100が設けられた立体画像表示装置の分解斜視図である。 本実施形態による露光装置10の全体構成図である。 露光部18の拡大図である。 マスク38の底面図である。 図6のVII−VII線に沿ったマスク38の縦断面図である。 変更したマスク238を説明する図である。 変更したマスク338を説明する図である。 変更した偏光光源434を説明する図である。 変更した偏光光源534を説明する図である。
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
図1は、本実施形態により製造される光学フィルム100の全体平面図である。光学フィルム100は、後述する露光装置によって製造される。光学フィルム100は、立体画像表示装置の画像生成部の画像の出力側に設けられ、右目用画像及び左目用画像を出力する。
光学フィルム100は、一辺が数cm〜数mの長方形状に形成されている。図1に示すように、光学フィルム100は、樹脂基材102と、第1偏光変調部104と、第2偏光変調部106とを有する。
樹脂基材102は、後述する樹脂製の長尺状のフィルムが一定の長さに切断されて形成される。樹脂基材102は、光を透過する。樹脂基材102の厚みの一例は、50μm〜100μmである。樹脂基材102は、第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106を支持する。樹脂基材102は、シクロオレフィン系のフィルムによって構成することができる。シクロオレフィン系フィルムとして、熱膨張率が70×10−6/℃のシクロオレフィンポリマー(=COP)、より好ましくは、シクロオレフィンポリマーの共重合体であるシクロオレフィンコポリマー(=COC)を使用することができる。COPフィルムとして、日本ゼオン社製のゼオノアフィルムZF14を挙げることができる。また、樹脂基材102は、熱膨張率が54×10−6/℃のトリアセチルセルロース(=TAC)を含む材料によって構成してもよい。TACフィルムは、富士写真フィルム社製のフジタックT80SZ及びTD80UL等を挙げることができる。尚、シクロオレフィン系フィルムを使用する場合は、脆弱性の観点から高靭性タイプのフィルムを使用することが好ましい。
第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106は、平面視において、同じ形状に形成されている。第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106は、樹脂基材102の長辺方向に沿って延びる長方形状である。ここでいう樹脂基材102の長辺方向は、立体画像表示に組み込まれた光学フィルム100においては、水平方向となる。従って、樹脂基材102の短辺方向は、立体画像表示に組み込まれた光学フィルム100においては、鉛直方向となる。第1偏光変調部104と第2偏光変調部106は、互いに一辺を接触させた状態で、鉛直方向に沿って交互に配置されている。尚、第1偏光変調部104と第2偏光変調部106は、水平方向に沿って交互に配置してもよい。
第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106は、透過する偏光の偏光状態を変調させる。第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106は、例えば、1/4波長板の位相差機能を有する。尚、第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106は、1/2波長板の位相差機能を有してもよい。第1偏光変調部104は、例えば、図1の第1偏光変調部104の右端に記載の矢印110と平行な方向に配向された光学軸を有する。これにより、第1偏光変調部104は、例えば、矢印110から45°回転した偏光方向を有する直線偏光が入力すると、その偏光を隣の矢印112に示す右回りの偏光方向を有する円偏光に変調して出力する。第2偏光変調部106は、例えば、図1の第2偏光変調部106の右端に記載の矢印114と平行な方向に配向された光学軸であって、第1偏光変調部104の光学軸と直交する光学軸を有する。これにより、第2偏光変調部106は、例えば、矢印110から45°回転した偏光方向を有する直線偏光が入力すると、その偏光を隣の矢印116に示す左回りの偏光方向を有する円偏光に変調して出力する。尚、光学軸の一例は、進相軸または遅相軸である。ここで、第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106の光学軸の配向角のバラツキは、±0.5°以下、より好ましくは±0.2°以下である。配向角のバラツキとは、設定値を0°として、そこからのバラツキである。
この結果、同じ偏光方向を有する直線偏光が、第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106に入力しても、第2偏光変調部106が出力する偏光の偏光方向と、第1偏光変調部104が出力する偏光の偏光方向とは、異なる。例えば、第2偏光変調部106が出力する偏光の偏光方向は、第1偏光変調部104が出力する偏光の偏光方向の逆回りの円偏光である。
図2は、図1のII−II線に沿った縦断面図である。図2に示すように、各第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106は、配向膜120と、液晶膜122とを有する。
配向膜120は、樹脂基材102の面上に形成されている。配向膜120は、公知の光配向性化合物を適用できる。光配向性化合物は、紫外線等の直線偏光が照射されると、その直線偏光の偏光方向に分子が規則的に配向される材料である。更に、光配向性化合物は、自己の上に形成された液晶膜122の分子を自己の配向に沿って並ばせる機能を有する。光配向性化合物の例として、光分解型、光二量化型、光異性化型等の化合物をあげることができる。配向膜120は、複数の第1配向領域124と、複数の第2配向領域126とを有する。複数の第1配向領域124と複数の第2配向領域126は、配列方向に沿って交互に配列されている。ここでいう配列方向は、鉛直方向と平行である。第1配向領域124と隣接する全ての第2配向領域126は、互いに接している。第1配向領域124は、第1偏光変調部104の一部を構成する。第1配向領域124は、第1偏光変調部104の光学軸に対応した方向に配向している。第2配向領域126は、第2偏光変調部106の一部を構成する。第2配向領域126は、第1配向領域124の配向方向と直交する方向であって、第2偏光変調部106の光学軸に対応した方向に配向している。
液晶膜122は、配向膜120上に形成される。液晶膜122は、紫外線または加熱等によって硬化可能な液晶ポリマーによって構成することができる。液晶膜122は、第1液晶領域128と、第2液晶領域130とを有する。第1液晶領域128は、第1偏光変調部104の一部を構成する。第1液晶領域128は、第1配向領域124上に形成される。第1液晶領域128の分子は、第1配向領域124の配向に沿って、配向される。第2液晶領域130は、第2偏光変調部106の一部を構成する。第2液晶領域130は、第2配向領域126上に形成される。第2液晶領域130の分子は、第2配向領域126の配向に沿って、配向される。
図3は、光学フィルム100が設けられた立体画像表示装置の分解斜視図である。図3の矢印で示すように、ユーザが位置する方向であって、画像を出力する方向を立体画像表示装置の前方とする。図3に示すように、立体画像表示装置150は、光源152と、画像出力部154と、光学フィルム100と、光学機能膜158とを備えている。
光源152は、面内において略均一な強度で、白色の無偏光を照射する。光源152は、ユーザから見て、立体画像表示装置150の最後方に配置される。光源152には、拡散板と冷陰極管(CCFL:Cold Cathode Fluorescent Lamp)とを組み合わせた光源、プリズムレンズと発光ダイオード(LED:Light Emitting Diode)とを組み合わせた光源、有機EL(Electro-Luminescence)を含む面光源等を適用できる。
画像出力部154は、光源152の前方に配置されている。画像出力部154は、光源152からの光によって、画像を出力する。画像出力部154は、偏光板164と、保持基板166と、画像生成部168と、保持基板170と、偏光板174とを備える。
偏光板164は、光源152と、保持基板166との間に配置される。偏光板164を構成する材料の一例は、PVA(ポリビニルアルコール)を含む樹脂である。偏光板164は、水平方向から45°傾斜した透過軸と、透過軸と直交する吸収軸とを有する。これにより、光源152から出力されて、偏光板164に入射した無偏光のうち、振動方向が偏光板164の透過軸と平行な成分は透過するとともに、吸収軸と平行な成分は吸収されて遮断される。このため偏光板164から出力される光は、偏光板164の透過軸を偏光方向とする直線偏光となる。
保持基板166は、偏光板164と画像生成部168との間に配置されている。保持基板166は、透明なガラス板を適用できる。尚、保持基板166は、ガラス板以外に透明な樹脂とガラスクロスとを含む透明な複合材料を用いた透明複合シートを適用することができる。これにより、立体画像表示装置150の軽量化かつ柔軟性を達成することができる。保持基板166の後面は、接着剤を介して、偏光板164を保持する。
画像生成部168は、保持基板166と保持基板170との間に配置されて保持されている。画像生成部168は、画像を生成する複数の画素(=ピクセル)を有する。複数の画素は、鉛直方向及び水平方向に一定のピッチで二次元に配列されている。画素は画像を扱うときの単位をいい、色調及び階調の色情報を出力する。各画素は、3個の副画素(=サブピクセル)を有する。各副画素は、液晶部と、液晶部の前後面に形成された透明電極とを有する。透明電極は液晶部に電圧を印加する。電圧が印加された副画素の液晶部は直線偏光の偏光方向を90°回転させる。各画素に含まれる3個の副画素は、それぞれ赤色のカラーフィルターと、緑色のカラーフィルターと、青色のカラーフィルターとを有する。副画素の透明電極の電圧印加を制御することにより、副画素から出力される赤色、緑色、青色の光を強めてまたは弱めて、画像を形成する。
画像生成部168は、図3に「R」及び「L」で示すように、右目用の画像を生成する右目用画像生成部178と、左目用の画像を生成する左目用画像生成部180とを有する。右目用画像生成部178及び左目用画像生成部180は、水平方向に延びる矩形状に形成されている。右目用画像生成部178及び左目用画像生成部180は、鉛直方向に沿って交互に配置されている。
保持基板170は、画像生成部168と偏光板174との間に配置されている。保持基板166及び保持基板170は、画像生成部168を挟持する。保持基板170は、保持基板166と同じ材料によって構成されている。保持基板170の前面は、接着剤を介して、偏光板174を保持する。
偏光板174は、保持基板170と、光学フィルム100との間に配置されている。偏光板174は、保持基板170における画像生成部168が保持される側の反対側に接着剤により貼り付けられている。偏光板174は、PVA(ポリビニルアルコール)を含む樹脂によって構成されている。偏光板174の厚みは、薄い方が好ましい。偏光板174の厚みは、例えば、100μm〜200μmである。偏光板174は、透過軸と、透過軸と直交する吸収軸とを有する。偏光板174の透過軸は、偏光板164の透過軸と直交する。これにより、画像生成部168によって偏光方向が、90°回転された直線偏光は、偏光板174を透過して画像光となり画像を形成する。一方、画像生成部168によって偏光方向が回転されなかった直線偏光は、偏光板174によって遮蔽される。これにより、画像出力部154は、偏光板174の透過軸と平行な偏光方向の偏光からなる画像光を出力する。
光学フィルム100は、接着剤によって画像出力部154の偏光板174の前方に貼り付けられている。光学フィルム100の厚みは、光学フィルム100の寸法変化を抑制するために、薄い方が好ましい。例えば、光学フィルム100の厚みは、50μm〜200μmであることが好ましい。
光学フィルム100の第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106は、樹脂基材102の後面上に配されている。第1偏光変調部104は、画像生成部168の右目用画像生成部178と略同形状である。第1偏光変調部104は、右目用画像生成部178の前方に配置されている。これにより、第1偏光変調部104には、右目用画像生成部178から出力されて、偏光板174を透過した直線偏光からなる右目用の画像光が入射する。第1偏光変調部104は、入射した右目用の画像光を右回りの円偏光に変調して出力する。第2偏光変調部106は、画像生成部168の左目用画像生成部180と略同形状である。第2偏光変調部106は、左目用画像生成部180の前方に配置されている。これにより、第2偏光変調部106には、左目用画像生成部180から出力されて、偏光板174を透過した直線偏光からなる左目用の画像光が入射する。第2偏光変調部106は、入射した左目用の画像光を左回りの円偏光に変調して出力する。従って、第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106は、右目用画像及び左目用画像を構成する同じ偏光方向の直線偏光を、偏光方向が互いに異なる円偏光へと変換して出力する。
光学機能膜158は、光学フィルム100の前面に配置されている。光学機能膜158の一例は、外部の照明等から出力された光の反射を低減または抑制する反射低減膜または反射防止膜である。これにより、光学機能膜158は、外部の光の混入の少ない画像をユーザに提供する。光学機能膜158の他の例は、眩しさを抑制する防眩膜、表面の傷を防止するハードコート膜等である。尚、光学機能膜158は、省略してもよい。
ユーザが立体画像を見る場合に使用する偏光眼鏡190は、右目用変調部192と左目用変調部194とを有する。右目用変調部192は、右回りの円偏光のみを透過する。左目用変調部194は、左回りの円偏光のみを透過する。これにより、ユーザの右目は、第1偏光変調部104から出力された右目用の画像のみを視認して、ユーザの左目は、第2偏光変調部106から出力された左目用の画像のみを視認する。この結果、ユーザは、立体画像を見ることができる。
図4は、本実施形態による露光装置10の全体構成図である。図5は、露光部18の拡大図である。図4に矢印で示す上下を露光装置10の上下方向とする。また、上流及び下流は、搬送方向における上流及び下流とする。尚、搬送方向は、長尺状のフィルム90の長手方向と同方向であって、配列方向及び幅方向と直交する。
図4及び図5に示すように、露光装置10は、送り出しロール12と、洗浄部13と、配向膜塗布部14と、配向膜乾燥部16と、露光部18と、液晶膜塗布部20と、液晶膜配向部22と、液晶膜硬化部24と、セパレートフィルム供給部26と、巻き取りロール28と、マスク38と、保持ロール48とを備える。
送り出しロール12は、フィルム90の搬送経路の最も上流側に配置されている。送り出しロール12の外周には、供給用のフィルム90が巻かれている。送り出しロール12は、回転可能に支持されている。これにより、送り出しロール12は、フィルム90を送り出し可能に保持できる。送り出しロール12は、モータ等の駆動機構によって回転可能に構成してもよく、巻き取りロール28の回転に伴って、従動可能に構成してもよい。あるいは、搬送経路の途中にフィルム90を駆動させる機構を設けてもよい。
洗浄部13は、送り出しロール12と、配向膜塗布部14との間に配置されている。洗浄部13は、送り出しロール12から送り出されて、配向膜120が塗布される前のフィルム90を洗浄する。
配向膜塗布部14は、送り出しロール12の下流側であって、露光部18の上流側に配置されている。配向膜塗布部14は、搬送されるフィルム90の搬送経路の上方に配置されている。配向膜塗布部14は、フィルム90の上面に、露光材料の一例である液状の配向膜120を供給して塗布する。
配向膜乾燥部16は、配向膜塗布部14の下流側に配置されている。配向膜乾燥部16は、加熱、光照射、または送風等によって、内部を通過するフィルム90上に塗布された配向膜120を乾燥させる。
露光部18は、マスク38に光束を照射して、搬送されているフィルム90を露光する。露光部18により露光されているフィルム90上の領域を露光領域とする。露光部18は、配向膜乾燥部16の下流側に配置されている。露光部18は、偏光光源34と、マスク38を保持するマスク保持部40と、一対の上流側張力ロール44及び下流側張力ロール46とを有する。露光部18は、偏光光源34から出力された偏光を、マスク38を介して、フィルム90上に塗布された配向膜120に照射する。これにより、露光部18は、配向膜120を配向させて、パターンを形成する。偏光光源34から出力される偏光の一例は、280nmから340nmの波長の紫外線である。
偏光光源34は、フィルム90の搬送経路の上方に配置されている。偏光光源34は、第1偏光出力部50と、第2偏光出力部52とを有する。第1偏光出力部50及び第2偏光出力部52は、上流側張力ロール44と下流側張力ロール46との間に配置されている。第2偏光出力部52は、第1偏光出力部50の下流側に配置されている。
第1偏光出力部50は、第1配向領域124の配向に対応した偏光方向を有する第1偏光の光束である第1光束70を出力する。第2偏光出力部52は、第2配向領域126の配向に対応した偏光方向を有する第2偏光の光束である第2光束72を出力する。第1偏光及び第2偏光はともに直線偏光である。第2偏光出力部52が出力する第2偏光の偏光方向は、第1偏光出力部50が出力する第1偏光の偏光方向と直交する。尚、第2偏光出力部52が出力する第2偏光の偏光方向と、第1偏光出力部50が出力する第1偏光の偏光方向は、任意の角度で交差させてもよい。
第1偏光出力部50は、第1偏光の第1光束70を下流側且つ下方へと出力する。第2偏光出力部52は、第2偏光の第2光束72を上流側且つ下方へと出力する。従って、第1光束70の第1主光線74と、第2光束72の第2主光線76は、互いに近づき交差する。尚、主光線とは、光束の中心を通る光線のことである。
第1偏光出力部50は、第1光束70をフィルム90が保持ロール48と密着している領域に向けて出力する。第2偏光出力部52は、第2光束72をフィルム90が保持ロール48と密着している領域に向けて出力する。
第1偏光出力部50は、第1光束70がフィルム90に対して垂直に入射するように出力する。また、第2偏光出力部52は、第2光束72がフィルム90に対して垂直に入射するように出力する。尚、第1偏光出力部50及び第2偏光出力部52は、第1光束70及び第2光束72がフィルム90に対して傾斜して入射するようにしてもよい。これにより、第1光束70及び第2光束72が、フィルム90及び保持ロール48によって反射された後、周辺設備等によって反射された場合であっても、フィルム90に塗布された配向膜120に戻ることを抑制できる。この結果、反射された第1光束70及び第2光束72が、フィルム90上の予定しない個所に照射されて、配向が乱れることを抑制できる。
第1偏光出力部50から出力される第1偏光の照度と、第2偏光出力部52から出力される第2偏光の照度は、等しい。ここでいう、照度とは、出力される偏光の単位面積当たりのエネルギーのことをいい、単位は、mW/cmである。出力される偏光が、280nmから340nmの波長の紫外線の場合、照度はUV照度となる。第1偏光及び第2偏光の照度の一例は、20mW/cm以上である。尚、露光の方法は適宜変更してよい。例えば、偏光光源34の第1偏光及び第2偏光を上下方向に沿って照射してもよい。ここでいう上下方向は、図4の矢印で示す上下方向である。
第1偏光出力部50と第2偏光出力部52との間には、マスク38まで鉛直方向に延びる遮光壁を設けることが好ましい。これにより、遮光壁が、互いの偏光を遮光する。この場合、遮光壁は、第1偏光及び第2偏光の反射を抑制するために黒色が好ましい。
マスク保持部40は、マスク38を保持する。マスク保持部40は、フィルム90に対して、搬送方向と直交する幅方向に相対移動可能に保持されている。これにより、マスク38は、モータまたはアクチュエータ等によってマスク保持部40とともに移動されて、幅方向の位置が調整される。
上流側張力ロール44は、配向膜乾燥部16の下流側であって、保持ロール48、偏光光源34及びマスク38の上流側に配置されている。上流側張力ロール44は、フィルム90の搬送経路の上方に配置されている。上流側張力ロール44は、搬送中のフィルム90を下方へと押圧する。
下流側張力ロール46は、液晶膜塗布部20の上流側であって、保持ロール48、偏光光源34及びマスク38の下流側に配置されている。下流側張力ロール46は、フィルム90の搬送経路の上方に配置されている。また、下流側張力ロール46は、搬送中のフィルム90を下方へと押圧する。
上流側張力ロール44及び下流側張力ロール46は、回転可能に支持されている。上流側張力ロール44及び下流側張力ロール46は、下方を搬送されるフィルム90に合わせて回転する。尚、上流側張力ロール44及び下流側張力ロール46は、駆動モータ等によって自転可能に構成してもよく、巻き取りロール28等の駆動力によって従動可能に構成してもよい。
液晶膜塗布部20は、露光部18の下流側に配置されている。液晶膜塗布部20は、フィルム90の搬送経路の上方に配置されている。液晶膜塗布部20は、フィルム90に形成された配向膜120上に液晶膜122を供給して、塗布する。
液晶膜配向部22は、液晶膜塗布部20の下流側に配置されている。液晶膜配向部22は、加熱、光照射、または、送風等によって、内部を通過する配向膜120上に形成された液晶膜122を、配向膜120の配向方向に沿って配向させつつ、乾燥させる。
液晶膜硬化部24は、液晶膜配向部22の下流側に配置されている。液晶膜硬化部24は、紫外線を照射することにより、液晶膜122を硬化させる。これにより、配向膜120の配向に沿って配向された液晶膜122の分子の配向が、固定される。
セパレートフィルム供給部26は、液晶膜硬化部24と巻き取りロール28との間に配置されている。セパレートフィルム供給部26は、フィルム90の液晶膜122上にセパレートフィルム92を供給して、貼り合わせる。セパレートフィルム92は、巻き取られたフィルム90間の離脱を容易にする。尚、セパレートフィルム供給部26は、省略してもよい。
巻き取りロール28は、搬送部の一例である。巻き取りロール28は、液晶膜硬化部24の下流側であって、搬送経路の最も下流側に配置されている。巻き取りロール28は、回転駆動可能に支持されている。巻き取りロール28は、配向膜120及び液晶膜122が形成されてパターニングされたフィルム90を巻き取る。これにより、巻き取りロール28は、長尺状のフィルム90を搬送方向に搬送する。
マスク38は、マスク保持部40によって保持されて、偏光光源34とフィルム90及び保持ロール48との間に配置される。一例として、マスク38は、フィルム90の数百μm上方に配置される。マスク38は、後述するマスク基材56及び遮光層58を有する。
保持ロール48は、フィルム保持部の一例である。保持ロール48は、ロール形状に形成されている。保持ロール48の直径の一例は、600mmから800mmである。保持ロール48の幅は、フィルム90の幅よりも大きい。保持ロール48は、回動可能に支持されている。これにより、保持ロール48は、フィルム90の搬送に伴って回動する。保持ロール48の表面は、偏光光源34からの光の反射を抑制するために、黒色に塗布されていることが好ましい。
保持ロール48は、偏光光源34と対向する位置に配置されている。保持ロール48は、フィルム90の搬送経路を挟み、偏光光源34と反対側に配置されている。保持ロール48は、フィルム90の搬送経路の下方に配置されている。保持ロール48は、上流側張力ロール44と下流側張力ロール46との間の上方に配置されている。これにより、保持ロール48の上面は、上流側張力ロール44及び下流側張力ロール46によって下方へと押圧されているフィルム90に密着して保持するので、フィルム90に生じるシワが抑制される。ここでいう、フィルム90のシワは、概ね搬送方向に延び、幅方向に波打つ形状のことである。ここで、露光部18は、保持ロール48が密着している領域のフィルム90を露光する。保持ロール48の上面は、第1光束70と第2光束72とが交差する位置よりもマスク38側に配置されている。これにより、保持ロール48は、第1光束70と第2光束72とが交差する位置よりもマスク38に近い位置でフィルム90を保持する。
図6は、マスク38の底面図である。図7は、図6のVII−VII線に沿ったマスク38の縦断面図である。図6及び図7に示すように、マスク38は、マスク基材56と、遮光層58とを有する。
マスク基材56は、矩形の板状に形成されている。マスク基材56は、熱膨張係数が5.6×10−7/℃の石英ガラスからなる。マスク基材56を、熱膨張係数が85×10−7/℃のソーダライムガラスによって構成してもよい。マスク基材56の搬送方向の長さは、約200mmである。マスク基材56の幅方向の長さは、フィルム90の幅に合わせて適宜設定される。
遮光層58は、マスク基材56の下面に形成されている。遮光層58は、クロム等の光を遮蔽可能な材料からなる。遮光層58には、第1透過領域62として機能する複数の開口と、第2透過領域64として機能する複数の開口とが形成されている。第1透過領域62が形成されている領域が第1パターン領域80であって、第2透過領域64が形成されている領域が第2パターン領域82である。第1パターン領域80と第2パターン領域82との間には、遮光領域81が形成されている。第1透過領域62は、搬送方向において、第2透過領域64と異なる位置に形成されている。即ち、第1パターン領域80及び第2パターン領域82の両方は、同じマスク基材56上に、互いに離間した位置に形成されている。
また、第1透過領域62は、搬送方向と直交する幅方向において、第2透過領域64と異なる位置に形成されている。第1透過領域62の搬送方向に沿った一辺の延長線は、いずれかの第2透過領域64の搬送方向に沿った一辺と一致する。
第1透過領域62は、第1偏光出力部50から出力される第1偏光の出力方向に配置されている。従って、第1パターン領域80には、露光部18の第1偏光出力部50から出力された第1偏光の第1光束70が照射される。これにより、第1パターン領域80を通過した第1偏光の第1光束70によりフィルム90は露光される。第2透過領域64は、第2偏光出力部52から出力される第2偏光の出力方向に配置されている。従って、第2パターン領域82には、露光部18の第2偏光出力部52から出力された第2偏光の第2光束72が照射される。これにより、第2パターン領域82を通過した第2偏光の第2光束72によりフィルム90は露光される。一方、第1透過領域62及び第2透過領域64以外の領域に達した偏光は、遮光領域81を含む遮光層58によって遮蔽される。この結果、フィルム90の配向膜120は、第1偏光及び第2偏光のいずれかによって露光されて、第1透過領域62による第1パターン領域80及び第2透過領域64による第2パターン領域82を重ねたパターンに露光される。
第1透過領域62及び第2透過領域64の幅方向の長さの一例は、0.2mmである。隣接する第1透過領域62どうし、及び、隣接する第2透過領域64どうしの幅方向の間隔の一例は、0.2mmである。第1透過領域62及び第2透過領域64の搬送方向の長さの一例は、約30mmである。第1パターン領域80と第2パターン領域82との間の搬送方向の距離、即ち、搬送方向における遮光領域81の長さの上限は、搬送した際の蛇行によるズレを考慮して、決定することが好ましい。ここで、光学フィルムを500mm搬送した際に、光学フィルムの幅方向における蛇行量が20μm以下であり、幅方向における第1パターン領域80と第2パターン領域82の重なり幅が5μm以下であるという条件を設定する。この条件を満たすとともに、マスク38における第1透過領域62と第2透過領域64の配置スペースの効率化を考える。これらの点を考慮すると、第1パターン領域80と第2パターン領域82との間の搬送方向の距離、即ち、搬送方向における遮光領域81の長さの上限は、100mmが好ましい。上限の一例は、30mmである。
一方、第1パターン領域80と第2パターン領域82との間の搬送方向の距離の下限Dには、第1偏光出力部50及び第2偏光出力部52から出射される第1光束70及び第2光束72のコリメーション角度θ、露光部18の偏光の出力口とマスク38との距離Hが効いてくるので、角度θ、距離Hなどからアプローチすることが好ましい。下限Dの一例は、以下の式によって算出される。
D=H×tanθ
第1偏光出力部50の偏光出力口から出射された第1偏光は、少なくとも上記数式から距離の下限Dだけ搬送方向にずれたところまで照射される。よって、距離の下限Dだけ第1パターン領域80と第2パターン領域82とを離す必要がある。コリメーション角度θが2度、第1偏光出力部50及び第2偏光出力部52からマスク38までの距離Hが30mmの場合、下限Dの一例は、1mmである。これにより、第1偏光及び第2偏光が、フィルム90上で重ならないようにできる。これらの上限及び下限を考慮すると、第1パターン領域80と第2パターン領域82との間の搬送方向の距離は、10mmが好ましい。尚、第1透過領域62、第2透過領域64、第1パターン領域80、遮光領域81及び第2パターン領域82の各数値は、適宜変更してよい。
次に、光学フィルム100の製造方法について説明する。まず、送り出しロール12に巻かれた長尺状のフィルム90を準備する。ここで、フィルム90の全長の一例は、約1000mである。フィルム90の幅の一例は、約500mmである。この後、保持段階において、フィルム90の一端を巻き取りロール28に固定する。この状態で、フィルム90は、上流側張力ロール44及び下流側張力ロール46の下面を通されるとともに、保持ロール48の上面で保持された状態で配置されている。
次に、巻き取りロール28の回転駆動が開始する。この結果、フィルム90が送り出しロール12から送り出されて、フィルム90が、搬送方向に沿って搬送される搬送段階となる。フィルム90の搬送速度の一例は、2m/分〜10m/分である。フィルム90の搬送開始に伴って、上流側張力ロール44、下流側張力ロール46及び保持ロール48が回動する。
送り出されたフィルム90は、洗浄部13によって洗浄された後、配向膜塗布部14の下方を通過する。これにより、フィルム90の上面には、配向膜塗布部14によって、幅方向の略全域にわたって配向膜120が塗布される。配向膜120の塗布は、フィルム90の搬送中、連続して実行される。従って、フィルム90の上面には、両端の一部を除いて、搬送方向における全長にわたって連続して配向膜120が塗布される。
配向膜120が塗布されたフィルム90は、搬送されて、配向膜乾燥部16の内部を通過する。これにより、フィルム90の上面に塗布された配向膜120が、乾燥される。この後、フィルム90は、上流側張力ロール44の下面を通過する。
この後、露光段階において、配向膜120が塗布された領域のフィルム90が第1透過領域62の下方を通過することにより第1配向段階となる。第1配向段階では、フィルム90の搬送が継続した状態で、第1透過領域62の下方を通過する領域の配向膜120が、第1偏光出力部50から出力されてマスク38の第1透過領域62を透過した第1偏光の第1光束70によって、露光される。ここで、フィルム90は、巻き取りロール28によって連続して一定の速度で搬送が継続されつつ、露光される。従って、第1透過領域62の下方を通過する配向膜120は、搬送方向に沿って、連続して、第1偏光出力部50から出力される第1偏光によって露光される。これにより、第1透過領域62の下方を通過した領域の配向膜120は、第1透過領域62と同じ幅であって搬送方向に延びる帯状に露光される。また、当該領域の配向膜120は、第1偏光によって露光されるので、当該領域の配向膜120は、露光される第1偏光に対応して配向される。これにより、複数の第1配向領域124が、配向膜120に形成される。
この後、配向膜120が塗布された領域のフィルム90は搬送されて、第2透過領域64の下方を通過することにより第2配向段階となる。第2配向段階では、搬送段階が継続した状態で、第2偏光出力部52から出力された第2偏光の第2光束72が、マスク38の第2透過領域64を透過して、第2透過領域64の下方を通過する領域に形成されたフィルム90の配向膜120に照射される。フィルム90の搬送は継続されているので、当該領域の配向膜120は第2透過領域64と同じ幅の搬送方向に延びる帯状に露光される。また、当該領域の配向膜120は、第2偏光によって露光されるので、当該領域の配向膜120は、露光される第2偏光に対応して配向される。これにより、複数の第2配向領域126が、配向膜120に形成される。
ここで、第2透過領域64は、幅方向において、第1透過領域62と異なる位置に形成されている。これにより、第2偏光が、第1透過領域62によって照射された領域と異なる領域の配向膜120に照射される。これにより、第1偏光によって配向された第1配向領域124と隣接する第1配向領域124との間に、第2偏光が照射されて、幅方向において、配向膜120の全ての領域が、第1偏光または第2偏光によって配向される。
第2偏光出力部52から出力される第2偏光の偏光方向は、第1偏光出力部50から出力される第1偏光の偏光方向と直交する。これにより、第1偏光によって配向される領域の配向方向と、第2偏光によって配向される領域の配向方向は、互いに直交する。この結果、第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106に対応する異なる配向を含む2つの領域が交互に配列されたパターンが配向膜120に形成される。
露光領域のフィルム90は、上流側張力ロール44及び下流側張力ロール46によって、下方へと押圧された状態で、保持ロール48によって密着して保持されている。これにより、フィルム90には、上流側張力ロール44及び下流側張力ロール46の間で、搬送方向の張力が保持ロール48から付与されるので、フィルム90のシワが低減される。第1偏光出力部50及び第2偏光出力部52は、保持ロール48によって密着して、シワの少ない領域のフィルム90に第1偏光の第1光束70及び第2偏光の第2光束72を出力して露光する。
第1偏光出力部50及び第2偏光出力部52は、互いに近づく方向に第1光束70及び第2光束72を出力する。しかしながら、保持ロール48は、第1光束70及び第2光束72が交差する位置よりも、マスク38側でフィルム90を保持している。これにより、フィルム90は、互いに重なっていない第1光束70及び第2光束72によって露光される。更に、第1光束70によって露光されるフィルム90上の領域と第2光束72によって露光されるフィルム90上の領域との距離は、マスク38に第1パターン領域80と第2パターン領域82との間の距離より短くなる。
この後、配向膜120が露光されたフィルム90は、下流側張力ロール46の下方を通過して、液晶膜塗布部20の下方へと達する。これにより、液晶膜122が、配向膜120の上面に塗布される。液晶膜122は搬送中のフィルム90の配向膜120の上面に連続して塗布されるので、液晶膜122はフィルム90の搬送方向の全長にわたって、塗布されることになる。この後、液晶膜122が塗布されたフィルム90は、搬送されて、液晶膜配向部22を通過する。これにより、液晶膜122が液晶膜配向部22により加熱されて、液晶膜122の分子が、下面に形成された配向膜120の配向に沿って配向されつつ、乾燥される。
次に、塗布された液晶膜122が配向されたフィルム90は、液晶膜硬化部24を通過する。これにより、紫外線が液晶膜122に照射されて、液晶膜122が配向された状態で硬化する。この結果、第1配向領域124、及び、第2配向領域126のそれぞれに対応して、液晶膜122の分子が配向されて、第1液晶領域128及び第2液晶領域130が形成される。図1及び図2に示すように、配向膜120及び液晶膜122によって形成される第1偏光変調部104及び第2偏光変調部106が、フィルム90の幅方向に交互に形成される。次に、液晶膜122の上面にセパレートフィルム92が上面に供給されて貼りあわされる。そして、セパレートフィルム92が上面に貼られたフィルム90が、巻き取りロール28によって巻き取られる。
この後、送り出しロール12に巻かれたフィルム90の供給が終了するまで、巻き取りロール28によってフィルム90が搬送されつつ、フィルム90の露光が継続される。そして、送り出しロール12に巻かれたフィルム90が全て供給される露光工程が終了する。尚、終了したフィルム90の後端に、次の新たなフィルム90の前端を繋いで、連続してフィルム90を露光してもよい。最後に、フィルム90は、規定の長さに切断されて、図1及び図2に示す光学フィルム100となって完成する。
上述したように、露光装置10では、マスク38の第1パターン領域80と第2パターン領域82とを離間させることによって、第1パターン領域80及び第2パターン領域82を透過した第1光束70及び第2光束72が、重なるクロストークを抑制できる。これにより、露光装置10は、第1パターン領域80及び第2パターン領域82のパターンによって、正確に配向膜120を露光することができる。
露光装置10では、第1光束70及び第2光束72を互いに交差する方向、即ち、互いに近づく方向に照射している。更に、保持ロール48は、第1光束70及び第2光束72が交差する位置よりもマスク38に近い位置にフィルム90を保持している。これにより、第1光束70及び第2光束72によって露光されるフィルム90上の露光領域を互いに接近させつつ、クロストークを防ぐことができる。このように露光領域を接近させることによって、第1光束70による露光領域と、第2光束72による露光領域との間でフィルム90が蛇行しても、蛇行の影響を低減できるので、パターンの乱れ及び配向方向の乱れを低減できる。
露光装置10では、第1パターン領域80及び第2パターン領域82が、同じマスク基材56上に形成されている。これにより、第1パターン領域80及び第2パターン領域82の互いの位置合わせの工程を省略できる。
露光装置10では、保持ロール48が密着してフィルム90を保持するので、フィルム90のシワを抑制できる。更に、露光部18が、当該密着している領域のフィルム90を露光するので、シワによる影響を低減できる。
露光装置10では、保持ロール48がフィルム90の搬送に伴って、回転するので、搬送時のフィルム90への抵抗を低減できる。
露光装置10では、第1パターン領域80及び第2パターン領域82により露光される領域が重ならない。従って、一方のパターンが幅方向に連続したベタ形状で、露光される領域の一部が重なる場合と異なり、第1光束70及び第2光束72の両方を最大照度にすることができるとともに、配向膜120を配向可能な下限の露光エネルギーによって露光することができる。これにより、フィルム90の搬送速度を上げても、配向膜120を配向させることができるので、光学フィルム100の生産効率を向上させることができる。
次に上述した実施形態の一部を変更した実施形態について説明する。
図8は、変更したマスク238を説明する図である。図8に示すように、マスク238は、マスク基材256と、マスク基材256の下面に形成された遮光層258とを有する。遮光層258には、上述した第1パターン領域80及び第2パターン領域82が形成されている。
マスク238のフィルム90側の面である下面は、側面視において、円弧状に形成されている。また、マスク238のフィルム90と反対側の面であって、第1偏光出力部50及び第2偏光出力部52側の上面は、側面視において、円弧状に形成されている。マスク238の上面及び下面の円弧状の面の中心は、ロール形状の保持ロール48の中心260と同じ位置である。従って、マスク238の上面と保持ロール48に保持されているフィルム90との距離は、搬送方向において、一定である。同様に、マスク238の下面と保持ロール48に保持されているフィルム90との距離は、搬送方向において、一定である。これにより、マスク238の第1パターン領域80を透過した第1光束70は、搬送方向のいずれの位置においても、同じ距離でフィルム90に達する。この結果、第1パターン領域80のパターンが正確に配向膜120に転写される。また、第2パターン領域82を透過した第2光束72においても、パターンを正確に転写できる。
また、マスク238の上面と下面との距離、即ち、厚みは、搬送方向において、一定である。これにより、第1光束70及び第2光束72は、全ての領域において、同じ距離だけマスク238を透過するので、マスク238による影響を同じだけ受ける。この結果、フィルム90に達した第1光束70及び第2光束72の強度のムラ等を抑制できる。
図9は、変更したマスク338を説明する図である。図9に示すように、マスク338は、マスク基材356と、マスク基材356の下面に形成された遮光層358とを有する。遮光層358には、上述した第1パターン領域80及び第2パターン領域82が形成されている。
マスク338の下面は、側面視において、円弧状に形成されている。マスク338の下面の円弧の中心は、保持ロール48の中心260と同じ位置である。従って、マスク338の第1パターン領域80及び第2パターン領域82を透過した第1光束70及び第2光束72は、同じ距離でフィルム90に達するので、上述した効果を奏することができる。
図10は、変更した偏光光源434を説明する図である。偏光光源434は、第1偏光出力部450と、第2偏光出力部452とを有する。第1偏光出力部450は、第1偏光子451を有する。第1偏光子451は、第1偏光出力部450の出力口の近傍の内部に設けられている。第1偏光子451は、第1偏光子451の透過軸と同じ振動方向の光を透過する。これにより、第1偏光出力部450は、第1偏光を出力する。第2偏光出力部452は、第2偏光子453を有する。第2偏光子453は、第2偏光出力部452の出力口の近傍の内部に設けられている。第2偏光子453は、第2偏光子453の透過軸と同じ振動方向の光を透過する。これにより、第2偏光出力部452は、第2偏光を出力する。
図11は、変更した偏光光源534を説明する図である。図11に示すように、偏光光源534は、第1光源部550と、第2光源部552と、偏光部材555とを有する。第1光源部550及び第2光源部552は、一体化されており、無偏光の光を出力する。偏光部材555は、第1光源部550及び第2光源部552と、マスク38との間に配置されている。偏光部材555は、第1偏光子551と、遮光部557と、第2偏光子553とを有する。
第1偏光子551、遮光部557及び第2偏光子553は、一体的に構成されている。第1偏光子551は、偏光部材555の最も上流側に配置されている。第1偏光子551は、マスク38の第1パターン領域80と、フィルム90との間に配置されている。第1偏光子551は、第1偏光の偏光方向と同じ振動方向の光を透過する。
遮光部557は、第1偏光子551及び第2偏光子553との間に配置されている。換言すれば、平面視において、遮光部557は、マスク38の第1パターン領域80と第2パターン領域82との間に配置されている。遮光部557は、第1光源部550及び第2光源部552から出力された光を反射することなく吸収して遮光する。
第2偏光子553は、偏光部材555の最も下流側に配置されている。第2偏光子553は、マスク38の第2パターン領域82と、フィルム90との間に配置されている。第2偏光子553は、第2偏光の偏光方向と同じ振動方向の光を透過する。
これにより、第1光源部550及び第2光源部552から出力された無偏光のうち、上流側の光束は第1偏光子551によって第1偏光に変換された後、第1パターン領域80を透過して、フィルム90を露光する。また、当該無偏光のうち、下流側の光束は、第2偏光子553によって第2偏光に変換された後、第2パターン領域82を透過して、フィルム90を露光する。更に、当該無偏光のうち、遮光部557に達した光は遮光されて、フィルム90を露光しない。本実施形態においては、第1光源部550及び第1偏光子551が第1光出力部の一例であり、第2光源部552及び第2偏光子553が第2光出力部の一例である。
上述した実施形態の各構成の配置、形状、個数等は適宜変更してよい。また、上述した各実施形態を組み合わせてもよい。
例えば、上述した実施形態では、長尺状のフィルム90を露光する例を示したが、光学フィルム100と同じ大きさのフィルムを露光してもよい。
また、上述した実施形態では、搬送されている状態のフィルム90を露光したが、露光と搬送とを交互に繰り返し、露光中はフィルム90を停止してもよい。
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
特許請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。特許請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。
10 露光装置、 12 送り出しロール、 13 洗浄部、 14 配向膜塗布部、 16 配向膜乾燥部、 18 露光部、 20 液晶膜塗布部、 22 液晶膜配向部、 24 液晶膜硬化部、 26 セパレートフィルム供給部、 28 巻き取りロール、 34 偏光光源、 38 マスク、 40 マスク保持部、 44 上流側張力ロール、 46 下流側張力ロール、 48 保持ロール、 50 第1偏光出力部、 52 第2偏光出力部、 56 マスク基材、 58 遮光層、 62 第1透過領域、 64 第2透過領域、 70 第1光束、 72 第2光束、 74 第1主光線、 76 第2主光線、 80 第1パターン領域、 81 遮光領域、 82 第2パターン領域、 90 フィルム、 92 セパレートフィルム、 100 光学フィルム、 102 樹脂基材、 104 第1偏光変調部、 106 第2偏光変調部、 110 矢印、 112 矢印、 114 矢印、 116 矢印、 120 配向膜、 122 液晶膜、 124 第1配向領域、 126 第2配向領域、 128 第1液晶領域、 130 第2液晶領域、 150 立体画像表示装置、 152 光源、 154 画像出力部、 158 光学機能膜、 164 偏光板、 166 保持基板、 168 画像生成部、 170 保持基板、 174 偏光板、 178 右目用画像生成部、 180 左目用画像生成部、 190 偏光眼鏡、 192 右目用変調部、 194 左目用変調部、 238 マスク、 256 マスク基材、 258 遮光層、 260 中心、 338 マスク、 356 マスク基材、 358 遮光層、 434 偏光光源、 450 第1偏光出力部、 451 第1偏光子、 452 第2偏光出力部、 453 第2偏光子、 534 偏光光源、 551 第1偏光子、 550 第1光源部、 553 第2偏光子、 552 第2光源部、 555 偏光部材、 557 遮光部

Claims (10)

  1. フィルムを保持するフィルム保持部と、
    第1パターン、および、前記第1パターンから離間した第2パターンが形成されたマスクと、
    前記マスクに光束を照射して、前記第1パターンまたは前記第2パターンを通過した光束により前記フィルムを露光する露光部と
    を備え、
    前記露光部は、前記第1パターンを照射する第1光束を出力する第1光出力部と、前記第1光出力部から出力される前記第1光束の主光線と交差する主光線を有し、前記第2パターンを照射する第2光束を出力する第2光出力部とを有し、
    前記フィルム保持部は、前記第1光束と前記第2光束とが交差する位置よりも前記マスクに近い位置で前記フィルムを保持する露光装置。
  2. 前記マスクは、第1パターン及び第2パターンの両方が形成されたマスク基材を有する
    請求項1に記載の露光装置。
  3. 前記フィルムを搬送する搬送部を更に備え、
    前記フィルムは、長尺状であって、
    前記露光部は、搬送されている前記フィルムを露光する
    請求項1または2に記載の露光装置。
  4. 前記フィルム保持部は、表面で前記フィルムを保持するロール形状であって、
    前記露光部は、ロール形状の前記フィルム保持部に密着している領域の前記フィルムを露光する
    請求項3に記載の露光装置。
  5. 前記フィルム保持部は、前記フィルムの搬送に伴って回転する
    請求項4に記載の露光装置。
  6. 前記マスクの前記フィルム側の面は、円弧状に形成されている
    請求項4または5に記載の露光装置。
  7. 前記マスクの前記フィルム側の円弧状の面の中心は、ロール形状の前記フィルム保持部の中心と同じ位置である請求項6に記載の露光装置。
  8. 前記マスクの前記フィルムと反対側の面は、円弧状に形成されている
    請求項4から7のいずれか1項に記載の露光装置。
  9. 前記マスクの前記フィルムと反対側の円弧状の面の中心は、ロール形状の前記フィルム保持部の中心と同じ位置である請求項8に記載の露光装置。
  10. フィルムを保持するフィルム保持段階と、
    第1パターン、および、前記第1パターンから離間した第2パターンが形成されたマスクに光束を照射して、前記第1パターンまたは前記第2パターンを通過した光束により前記フィルムを露光する露光段階と
    を備え、
    前記露光段階では、前記第1パターンを照射する第1光束を出力するとともに、前記第1光束の主光線と交差する主光線を有し、前記第2パターンを照射する第2光束を出力して、
    前記フィルム保持段階では、前記第1光束と前記第2光束とが交差する位置よりも前記マスクに近い位置に前記フィルムを配置する露光方法。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007102200A (ja) * 2005-09-08 2007-04-19 Fujifilm Corp パターン露光方法及び装置
JP2009528561A (ja) * 2006-02-28 2009-08-06 マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット 基材を処理し、解析する、プラットフォーム、装置、システム、及び方法
JP2013080215A (ja) * 2011-09-30 2013-05-02 Gunko Kagi (Shenzhen) Yugenkoshi 光配向装置、および配向層の形成方法、および液晶ディスプレイの形成方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007102200A (ja) * 2005-09-08 2007-04-19 Fujifilm Corp パターン露光方法及び装置
JP2009528561A (ja) * 2006-02-28 2009-08-06 マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット 基材を処理し、解析する、プラットフォーム、装置、システム、及び方法
JP2013080215A (ja) * 2011-09-30 2013-05-02 Gunko Kagi (Shenzhen) Yugenkoshi 光配向装置、および配向層の形成方法、および液晶ディスプレイの形成方法

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