JP2014006149A - 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、および形状測定プログラム - Google Patents
形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、および形状測定プログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014006149A JP2014006149A JP2012141934A JP2012141934A JP2014006149A JP 2014006149 A JP2014006149 A JP 2014006149A JP 2012141934 A JP2012141934 A JP 2012141934A JP 2012141934 A JP2012141934 A JP 2012141934A JP 2014006149 A JP2014006149 A JP 2014006149A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measurement
- coherency
- shape
- unit
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
【課題】形状測定の精度が低下する程度を低減する。
【解決手段】形状測定装置は、ある強度分布を有する光束を測定対象に投光する投光部と、入力される情報に基づいて、光束のコヒーレンシーを制御する制御部と、光束が投光された測定対象の表面を撮像した撮像画像を生成する撮像部と、撮像部で生成された撮像画像に含まれる光束の位置に基づいて、表面の形状を測定する測定部とを備える。
【選択図】図1
【解決手段】形状測定装置は、ある強度分布を有する光束を測定対象に投光する投光部と、入力される情報に基づいて、光束のコヒーレンシーを制御する制御部と、光束が投光された測定対象の表面を撮像した撮像画像を生成する撮像部と、撮像部で生成された撮像画像に含まれる光束の位置に基づいて、表面の形状を測定する測定部とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、および形状測定プログラムに関する。
近年、例えば、レーザー光源からの光を測定対象に投光し、投光した方向とは異なる方向からライン光の像を撮影した場合にライン光の像の位置を検出することにより、測定対象の形状を測定する形状測定装置が知られている(例えば、特許文献1を参照)。
しかしながら、上記のような形状測定装置は、測定対象の表面状態によっては、ライン光の像に不均一な強度分布が生じてしまい、ライン光の像の位置を正確に求めることができず、形状測定の精度が低下してしまうという問題があった。
本発明は、上記問題を解決すべくなされたもので、その目的は、形状測定の精度が低下する程度を低減することができる形状測定装置を提供することにある。
本発明の一実施形態は、ある強度分布を有する光束を測定対象に投光する投光部と、前記光束が投光された測定対象の表面を撮像した撮像画像を生成する撮像部と、前記撮像部で生成された前記撮像画像に含まれる前記光束の位置に基づいて、前記表面の形状を測定する測定部とを有し、前記投光部から投光される光束のコヒーレンシーを制御する制御部を備えることを特徴とする形状測定装置である。
また、本発明の一実施形態は、構造物の形状に関する構造物設計情報を作製する設計装置と、前記構造物設計情報に基づいて前記構造物を作製する成形装置と、作成された前記構造物の形状を、撮像画像に基づいて測定する上記の形状測定装置と、前記測定によって得られた形状情報と、前記構造物設計情報とを比較する検査装置と、を含む構造物製造システムである。
また、本発明の一実施形態は、ある強度分布を有する光束を測定対象に投光する光学系と、前記光束が投光された前記測定対象の表面を撮像した撮像画像を生成する撮像部と、前記撮像部が生成した前記撮像画像に含まれる前記光束の位置に基づいて、前記表面の形状を測定する測定部と、前記コヒーレンシーを制御する制御部とを備える形状測定装置が、入力される情報に基づいて、前記コヒーレンシーを制御する制御ステップを有することを特徴とする形状測定方法である。
また、本発明の一実施形態は、構造物の形状に関する構造物設計情報を作製することと、前記構造物設計情報に基づいて前記構造物を作製することと、作成された前記構造物の形状を、上記の形状測定方法を用いて生成した撮像画像に基づいて測定することと、前記測定によって得られた形状情報と、前記構造物設計情報とを比較することと、を含む構造物製造方法である。
また、本発明の一実施形態は、ある強度分布を有する光束を測定対象に投光する光学系と、前記光束が投光された測定対象の表面を撮像した撮像画像を生成する撮像部と、前記撮像部が生成した前記撮像画像に含まれる前記光束の位置に基づいて、前記表面の形状を測定する測定部と、前記コヒーレンシーを制御する制御部とを備える形状測定装置のコンピュータに、入力される情報に基づいて、前記コヒーレンシーを制御する制御ステップを実行させる形状測定プログラムである。
この発明によれば、形状測定の精度が低下する程度を低減することができる。
[第1の実施形態]
以下、図面を参照して、本発明の第1の実施形態を説明する。
図1は、本実施形態の第1の実施形態に係る形状測定装置100の概略構成の一例を示す構成図である。形状測定装置100は、測定機本体1と制御ユニット50とを備えている。以下、各図の説明においてはXYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。測定機本体1の鉛直上方向(図1における紙面下から上方向)をZ軸の正の方向とし、当該Z軸方向に垂直な平面上の直交方向をそれぞれX軸方向及びY軸方向とする。ここではX軸の正の方向は、図1における紙面の左から右方向とし、Y軸の正の方向は、図1における紙面に垂直な奥から手前方向とする。
以下、図面を参照して、本発明の第1の実施形態を説明する。
図1は、本実施形態の第1の実施形態に係る形状測定装置100の概略構成の一例を示す構成図である。形状測定装置100は、測定機本体1と制御ユニット50とを備えている。以下、各図の説明においてはXYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。測定機本体1の鉛直上方向(図1における紙面下から上方向)をZ軸の正の方向とし、当該Z軸方向に垂直な平面上の直交方向をそれぞれX軸方向及びY軸方向とする。ここではX軸の正の方向は、図1における紙面の左から右方向とし、Y軸の正の方向は、図1における紙面に垂直な奥から手前方向とする。
測定機本体1は、図1に示すように、X−Y平面上の水平な上面(基準面)を備えている基台5と、この基台5上に設けられ、測定ヘッド7を支持して移動させる移動部6と、基台5上に設けられ測定対象OBJを載置する支持装置8とを備えている。また、基台5には、Y方向に延びるガイドレール(不図示)が設けられている。
移動部6は、そのガイドレール上をY方向に移動自在に設けられ、支柱6aと、支柱6aと対をなす支柱6bとの間で水平に延びるように架け渡された水平フレーム6cとを備え、門型の構造体を形成している。また、移動部6は、水平フレーム6cにおいて、X方向に移動自在に設けられたキャリッジ(不図示)を備えており、そのキャリッジに対してZ方向に移動自在に設けられた測定ヘッド7を備えている。
測定ヘッド7の下部には、測定対象OBJの表面の形状を検出する測定プローブ3が設けられている。この測定プローブ3は、測定プローブ3の下方に配置される測定対象OBJとの距離を検出するように、測定ヘッド7に支持されている。測定ヘッド7の位置を制御することにより、測定プローブ3の位置を移動させることができる。また、測定プローブ3とキャリッジとの間には、Z軸方向と平行な軸に対して測定プローブ3を回転させるヘッド回転機構7aを有している。
また、移動部6の内部には、入力される駆動信号に基づき測定ヘッド7を3方向(X、Y、Zの各軸方向)に電動で移動させるヘッド駆動部42a(図2を参照)と、測定ヘッド7の座標を検出し測定ヘッド7の座標値を示す信号を出力するヘッド位置検出部41a(図2を参照)とが設けられている。
基台5上には、支持装置8が設けられている。支持装置8は、ステージ8aと、支持テーブル8bとを備えている。
ステージ8aは、測定対象OBJを載置して把持する。
支持テーブル8bは、直交する2方向の回転軸周りにステージ8aを回転可能に支持することによりステージ8aを基準面に対して傾斜または水平回転させる。具体的には、支持テーブル8bは、例えば、垂直(Z軸方向)に延びる回転軸θを中心として水平面内で図1に示すA方向に回転可能、かつ、水平(X軸方向)に延びる回転軸φを中心として図1に示すB方向に回転可能にステージ8aを支持している。
ステージ8aは、測定対象OBJを載置して把持する。
支持テーブル8bは、直交する2方向の回転軸周りにステージ8aを回転可能に支持することによりステージ8aを基準面に対して傾斜または水平回転させる。具体的には、支持テーブル8bは、例えば、垂直(Z軸方向)に延びる回転軸θを中心として水平面内で図1に示すA方向に回転可能、かつ、水平(X軸方向)に延びる回転軸φを中心として図1に示すB方向に回転可能にステージ8aを支持している。
また、支持装置8には、入力される駆動信号に基づきステージ8aを回転軸θ及び回転軸φ回りに電動でそれぞれ回転駆動させるステージ駆動部42b(図2を参照)と、ステージ8aの座標を検出し、ステージ座標値を示す信号を出力するステージ位置検出部41b(図2を参照)とが設けられている。
制御ユニット50は、制御装置60と、モニタ70と、入力装置80とを備える。その詳細は後述する。
続いて、図2を参照し、測定機本体1の構成について説明する。
図2は、本実施形態における形状測定装置100の構成の一例を示す構成図である。測定機本体1は、上述したように、測定プローブ3と、検出部41と、駆動部42とを備えている。この駆動部42は、上述したように、ヘッド駆動部42aと、ステージ駆動部42bとを備えている。
図2は、本実施形態における形状測定装置100の構成の一例を示す構成図である。測定機本体1は、上述したように、測定プローブ3と、検出部41と、駆動部42とを備えている。この駆動部42は、上述したように、ヘッド駆動部42aと、ステージ駆動部42bとを備えている。
ヘッド駆動部42aは、支柱6a及び支柱6bをY方向に駆動するY軸用モータ、キャリッジをX方向に駆動するX軸用モータ、測定ヘッド7をZ方向に駆動するZ軸用モータ及び測定プローブ3をZ軸方向と平行な軸に回転するヘッド回転用モータを備えている。ヘッド駆動部42aは、後述する駆動制御部66から供給される駆動信号に基づいて、測定ヘッド7を3方向(X、Y、Z方向)に電動で移動させる。
ステージ駆動部42bは、ステージ8aを回転軸θ回りに回転駆動するロータリ軸用モータ及び回転軸φ回りに回転駆動するチルト軸用モータを備えている。また、ステージ駆動部42bは、後述する駆動制御部66から供給される駆動信号に基づいて、ステージ8aを回転軸θ及び回転軸φ回りに、電動でそれぞれ回転させる。
検出部41は、上述したように、ヘッド位置検出部41aと、ステージ位置検出部41bとを備えている。
ヘッド位置検出部41aは、測定ヘッド7のX軸、Y軸、及びZ軸方向の位置及びヘッドの設置角度をそれぞれ検出するX軸用エンコーダ、Y軸用エンコーダ、Z軸用エンコーダ、及びヘッド回転用エンコーダを備えている。また、ヘッド位置検出部41aは、それらのエンコーダによって測定ヘッド7の座標を検出し、測定ヘッド7の座標値を示す信号を後述の座標検出部63に供給する。
ステージ位置検出部41bは、ステージ8aの回転軸θ及び回転軸φ回りの回転位置をそれぞれ検出するロータリ軸用エンコーダ及びチルト軸用エンコーダを備えている。また、ステージ位置検出部41bは、それらのエンコーダを用いて、ステージ8aの回転軸θ及び回転軸φ回りの回転位置を検出し、検出した回転位置を表す信号を座標検出部63へ供給する。
測定プローブ3は、光源10と、光学系20と、撮像部30とを備えており、光源10から光学系20を介して測定対象OBJにライン光の光束(以下、単にライン光ともいう。)を照射するとともに、撮像部30によってライン光が照射された測定対象OBJを撮像して、照射光切断方式により測定対象OBJの表面形状を検出する。この測定プローブ3の構成について、図3を参照して説明する。
図3は、本実施形態の測定プローブ3の概略構成の一例を示す構成図である。
測定プローブ3は、光源10及び光学系20からなる投光部と撮像部30との間の相対的な位置が変化しないように、投光部及び撮像部30を保持している。
測定プローブ3は、光源10及び光学系20からなる投光部と撮像部30との間の相対的な位置が変化しないように、投光部及び撮像部30を保持している。
投光部を構成する光源10は、光源制御部61から供給される光の照射を制御する制御信号に基づいて、所定の光量分布を有する光を射出する。また、光源10は、射出する光のコヒーレンシーが可変である。具体的には、光源10は、半導体レーザー発光部を備えている。この半導体レーザー発光部は、レーザーの発振開始電流値以上の電流値の電流が供給された場合には、レーザー発振することによりレーザー光を射出する。また、半導体レーザー発光部は、レーザーの発振開始電流値より小さな電流値の電流が供給された場合には、レーザー発振せずにエレクトロルミネセンス効果により発光する光(エレクトロルミネセンス光)を射出する。ここで、レーザー光とは、エレクトロルミネセンス光に比してコヒーレンシーが高い光である。つまり、レーザー光とは、コヒーレンシーが相対的に高い光である。また、エレクトロルミネセンス光とは、レーザー光に比してコヒーレンシーが低い光である。つまり、エレクトロルミネセンス光は、コヒーレンシーが相対的に低い光である。すなわち、光源10は、光源制御部61から供給される電流値に基づいて、コヒーレンシーが相対的に高い光と、コヒーレンシーが相対的に低い光とを射出する。なお、光源10は、ニオブ酸リチウム(LiNbO3)やタンタル酸リチウム(LiTaO3)などの非線形光学材料を用いた変調素子を備えていてもよい。これらの変調素子によっても、光源10は、射出する光のコヒーレンシーを可変にすることができる。なお、光のコヒーレンシーには、時間的コヒーレンシーと、空間的コヒーレンシーとが含まれる。
投光部を構成する光学系20は、光源10が射出する光をライン光にして投光する。具体的には、光学系20は、コリーメーターレンズ21と、レンズ22と、シリンドリカルレンズ23とを備えている。光学系20は、光源10から射出された光を、コリーメーターレンズ21によって平行光に変換するとともに、平行光に変換した光をレンズ22、シリンドリカルレンズ23によってライン光に変換する。また、光学系20は、変換したライン光を、ステージ8a上に載置された測定対象OBJに投光する。光学系20から投光されたライン光は、測定対象OBJの表面において、ライン状に形成される光量分布を有する測定ラインMLを形成する。
撮像部30は、ライン光が投光された測定対象OBJの表面を撮像した撮像画像を生成する。具体的には、撮像部30は、CCD(Charge Coupled Device)やCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)などを利用したイメージングセンサを備えており、ライン光が投光された測定対象OBJの表面において、ライン状に形成される光量分布を有する測定ラインMLを撮像する。また、撮像部30は、撮像した測定ラインMLの像を含む測定対象OBJの表面の撮像画像を生成し、生成した撮像画像を後述する間隔調整部64に出力する。
再び、図2を参照して、制御ユニット50の構成について説明する。上述したように、制御ユニット50は、制御装置60と、モニタ70と、入力装置80とを備える。
入力装置80は、ユーザが各種指示情報を入力するキーボードを備えており、キーボードに入力される指示情報を受け付け、受け付けた指示情報を後述する測定記憶部68に書き込む。
入力装置80は、ユーザが各種指示情報を入力するキーボードを備えており、キーボードに入力される指示情報を受け付け、受け付けた指示情報を後述する測定記憶部68に書き込む。
モニタ70は、後述するデータ出力部69から供給されたデータに基づいて、計測画面、指示画面、計測結果等を表示する。
制御装置60は、光源制御部61(制御部)と、測定部62とを備えており、測定機本体1を制御する。
光源制御部61は、ユーザが入力装置80から入力するコヒーレンシーを設定する情報に基づいて、光源10が射出する光のコヒーレンシーを制御する。つまり、光源制御部61は、入力される情報に基づいて、光源10が射出する光のコヒーレンシーを制御する。
光源制御部61は、ユーザが入力装置80から入力するコヒーレンシーを設定する情報に基づいて、光源10が射出する光のコヒーレンシーを制御する。つまり、光源制御部61は、入力される情報に基づいて、光源10が射出する光のコヒーレンシーを制御する。
測定部62は、座標検出部63と、間隔調整部64と、座標算出部65と、駆動制御部66と、移動指令部67と、測定記憶部68と、データ出力部69とを備えており、撮像部30で生成された撮像画像に含まれるライン光の位置に基づいて、表面の形状を測定する。
測定記憶部68には、測定対象OBJの測定開始位置(最初の測定ポイント)の座標値と測定終了位置(最後の測定ポイント)の座標値、撮像部30が撮像を行うサンプリング周波数を指定するデータ、及び各測定ポイントの距離間隔が、測定対象OBJの種類に関連付けられて予め記憶されている。また、測定記憶部68には、後述する座標算出部65が算出した三次元座標値の点群データが測定データとして記憶される。また、測定記憶部68には、後述する座標検出部63が検出した各測定ポイントの座標情報が記憶される。また、測定記憶部68には、測定対象OBJの設計情報(CADデータ)が予め記憶されている。
移動指令部67は、入力装置80が受け付けた指示情報を測定記憶部68から読み出す。具体的には、移動指令部67は、指示情報に含まれる、測定対象OBJの種類に関連付けられた測定対象OBJの測定範囲を示す測定ポイントの座標値、測定対象OBJの測定開始位置(最初の測定ポイント)の座標値、測定終了位置(最後の測定ポイント)の座標値、測定ポイントの移動方向、及び各測定ポイントの距離間隔(例えば、一定距離間隔の測定ピッチ)を示すデータを測定記憶部68から読み出す。また、移動指令部67は、読み出したデータに基づいて、測定対象OBJに対する測定プローブ3の移動経路を算出するとともに、算出した移動経路及び読み出した各測定ポイントの距離間隔(例えば、測定ピッチ)に従って、測定ヘッド7およびステージ8aを駆動させるための指令信号を生成する。そして、移動指令部67は、生成した指令信号を駆動制御部66に供給する。
駆動制御部66は、移動指令部67からの指令信号に基づいて、ヘッド駆動部42aおよびステージ駆動部42bに駆動信号を出力することによって、測定ヘッド7およびステージ8aの駆動制御を行う。
データ出力部69は、測定記憶部68から測定データ(全測定ポイントの座標値)を読み出し、読み出した測定データをモニタ70に出力する。また、データ出力部69は、測定データをプリンタやCADシステムなど設計システム(不図示)へ出力する。
座標検出部63は、ヘッド位置検出部41aから出力される座標信号により、測定プローブ3の位置および、測定プローブ3が備える撮像部30の撮像方向を検知する。また、座標検出部63は、ステージ位置検出部41bから出力される回転位置を示す信号により、ステージ8aの回転軸θ及び回転軸φ回りの回転位置を検知する。座標検出部63は、それぞれ検知された測定プローブの位置および撮像方向とステージ位置検出部41bから出力される回転位置を示す情報(ステージ8aの回転位置情報)とから、座標情報を検出する。そして、座標検出部63は、検出した座標情報を座標算出部65へ供給する。また、座標検出部63は、測定プローブ3の位置および撮像方向とステージ8aの回転位置情報とに基づいて、測定プローブ3とステージ8aとの相対的な移動経路、移動速度、移動が停止しているか否かなどの情報を検出し、検出した情報を移動指令部67へ供給する。
間隔調整部64は、座標検出部63による座標計測が開始される前に、測定記憶部68から撮像部30が撮像を行うサンプリング周波数を指定するデータを読み出す。また、間隔調整部64は、読み出したサンプリング周波数によって、撮像部30が生成した撮像画像を取得する。また、間隔調整部64は、取得した撮像画像から測定対象OBJの表面の形状データの算出に使用する画像情報を生成する。より具体的には、間隔調整部64は、撮像部30が上記のサンプリング周波数によって生成した撮像画像のすべてのフレームのうちから、フレームを間引いた画像情報を生成して、生成した画像情報を座標算出部65に供給する。
座標算出部65は、測定プローブ3により検出された測定対象OBJの表面の形状に基づいて、測定対象OBJの表面の形状データ、すなわち三次元形状データを算出する。具体的には、座標算出部65は、撮像部30が生成した撮像画像を間隔調整部64を介して取得する。また、座標算出部65は、座標検出部63から測定プローブ3の位置および撮像方向とステージ8aの回転位置情報とを示す座標情報を取得する。そして、座標算出部65は、取得した撮像画像と、座標情報とに基づいて、測定対象OBJの各測定ポイントの座標値(三次元座標値)を示す点群データを算出する。このようにして、座標算出部65は、取得した撮像画像に含まれる測定ラインMLの像の位置に基づいて、表面の形状を測定する。この座標算出部65による表面の形状測定についてのより具体的な構成を、図4を参照して説明する。
図4は、本実施形態の光学系20が射出するライン光によって測定対象OBJの表面に形成される測定ラインMLの一例を示す模式図である。
同図に示すように、光学系20は、光源10が射出する光をライン光にして、同図に示す線分L1の方向に投光する。ここで、測定対象OBJは、ステージ8a付近に設定されるライン光の射出目標座標である座標Fと、測定対象OBJの測定基準位置とを一致させた状態にして、ステージ8a上に載置される。このようにして、光学系20がライン光を線分L1の方向に投光することにより、測定対象OBJの表面には、測定ラインMLが形成される。次に、図5を参照して、光学系20によるライン光の射出方向と撮像部30の撮像方向との関係を説明する。
同図に示すように、光学系20は、光源10が射出する光をライン光にして、同図に示す線分L1の方向に投光する。ここで、測定対象OBJは、ステージ8a付近に設定されるライン光の射出目標座標である座標Fと、測定対象OBJの測定基準位置とを一致させた状態にして、ステージ8a上に載置される。このようにして、光学系20がライン光を線分L1の方向に投光することにより、測定対象OBJの表面には、測定ラインMLが形成される。次に、図5を参照して、光学系20によるライン光の射出方向と撮像部30の撮像方向との関係を説明する。
図5は、本実施形態の光学系20によるライン光の射出方向と撮像部30の撮像方向との関係を示す模式図である。
座標算出部65は、座標検出部63から取得した座標情報に基づいて、測定プローブ3の光学系20の座標およびライン光の射出方向と、撮像部30の座標および撮像方向を算出する。上述したように、光学系20および撮像部30は測定プローブ3に固定されているので、光学系20の座標およびライン光の射出方向(図5に示す線分L1の方向)は、測定プローブ3に対して固定である。また、撮像部30も測定プローブ3に固定されているので、撮像部30の座標および撮像方向(図5に示す線分L2の方向)は、測定プローブ3に対して固定である。つまり、測定プローブ3は、光学系20および撮像部30を固定して、ライン光の射出方向と撮像方向とのなす角を固定する。
座標算出部65は、座標検出部63から取得した座標情報に基づいて、測定プローブ3の光学系20の座標およびライン光の射出方向と、撮像部30の座標および撮像方向を算出する。上述したように、光学系20および撮像部30は測定プローブ3に固定されているので、光学系20の座標およびライン光の射出方向(図5に示す線分L1の方向)は、測定プローブ3に対して固定である。また、撮像部30も測定プローブ3に固定されているので、撮像部30の座標および撮像方向(図5に示す線分L2の方向)は、測定プローブ3に対して固定である。つまり、測定プローブ3は、光学系20および撮像部30を固定して、ライン光の射出方向と撮像方向とのなす角を固定する。
また、座標算出部65は、光学系20から射出されたライン光が測定対象OBJの表面に当たった点の座標、つまり測定ラインMLの座標を、撮像画像の画素ごとに、三角測量を用いて算出する。ここで、線分L1と線分L2とのなす角及び、座標Fは既知であることから、座標算出部65は、座標Fを基準にして、ライン光が測定対象OBJの表面に当たった点の座標を算出することができる。つまり、光学系20から射出されたライン光が測定対象OBJの表面に当たった点の座標は、図5に示すように、光学系20の座標からライン光の射出方向に引いた線分L1と、撮像部30の座標から撮像方向に引いた線分L2との交点、つまり座標Fを基準にして定められる。このようにして、座標算出部65は、撮像部30が撮像した撮像画像に含まれる測定ラインMLの位置に基づいて、表面の形状を測定する。また、撮像部30の撮像面と測定ラインMLとはシャインプルーフの条件を満たしており、撮像部30は、鮮鋭な測定ラインMLの像を撮像する。
次に、図6に示すフローチャートを用いて、形状測定装置100が測定対象OBJの形状測定を実行する処理について説明する。
図6は、本実施形態における形状測定装置100の動作の一例を示すフローチャートである。
図6は、本実施形態における形状測定装置100の動作の一例を示すフローチャートである。
最初に、ユーザは、測定対象OBJの測定開始位置(最初の測定ポイント)及び測定終了位置(最後の測定ポイント)を入力装置80から入力する。入力装置80は、入力された測定開始位置(最初の測定ポイント)及び測定終了位置(最後の測定ポイント)を測定記憶部68に記憶させる(ステップS1)。
また、ユーザは、測定対象OBJの測定ポイントの距離間隔を入力装置80から入力する。入力装置80は、入力された測定ポイントの距離間隔を測定記憶部68に記憶させる(ステップS2)。
次に、ユーザは、測定対象OBJの測定ポイントにおける設計情報を基に、測定光の投影方向及び撮像方向を設定する(ステップS3)。移動指令部67は、設定された測定開始位置(最初の測定ポイント)と測定終了位置(最後の測定ポイント)との座標値、及び各測定ポイントの距離間隔(例えば、一定距離間隔の測定ピッチ)を示すデータや、予め設定された測定範囲を示す測定ポイントの座標値、及び測定ポイントの移動方向を測定記憶部68から読み出す。移動指令部67は、上記読み出したデータに基づいて、測定対象OBJに対する測定プローブ3の移動経路を算出する。
次に、移動指令部67は、算出した移動経路に基づいて、測定ヘッド7及びステージ8aを駆動させるための指令信号を駆動制御部66に供給する。駆動制御部66は、移動指令部67から供給された指令信号に基づいて、ヘッド駆動部42aとステージ駆動部42bとに測定ヘッド7及びステージ8aを駆動する。これにより、測定ヘッド7及びステージ8aが駆動され、測定ヘッド7は、測定対象OBJの測定開始位置(最初の測定ポイント)に移動する(ステップS4)。
次に、間隔調整部64は、撮像部30が生成する測定対象OBJを撮像した撮像画像を取得するとともに、取得した座標算出部65に供給する。一方、座標検出部63は、ヘッド位置検出部41aが検出する測定プローブの座標情報と、ステージ位置検出部41bが検出するステージ8aの回転位置情報とを取得し、取得したこれらの情報を座標算出部65に供給する(ステップS6)。
座標算出部65は、間隔調整部64から取得した撮像画像と、座標検出部63から取得した測定プローブ3の座標情報およびステージ8aの回転位置情報とに基づき、測定ポイントの座標値(三次元座標値)の点群データを算出する(ステップS7)。また、座標算出部65は、算出した点群データを測定記憶部68に記憶させる。
次に、移動指令部67は、直前に測定した測定ポイントが測定終了位置(最後の測定ポイント)であるか否かを判定する(ステップS8)。
移動指令部67は、ステップS8において、直前に測定した測定ポイントが測定終了位置(最後の測定ポイント)でない(測定終了位置以外の測定ポイントである)と判定した場合(ステップS8:NO)には、次の測定ポイントに測定プローブ3を移動させる(ステップS9)。具体的には、移動指令部67は、移動経路に従って次の測定ポイントへ移動させるために、測定ヘッド7およびステージ8aを駆動させるための指令信号を駆動制御部66に出力する。駆動制御部66は、移動指令部67から取得した指令信号に基づいて、ヘッド駆動部42aを介して測定ヘッド7を駆動するとともに、ステージ駆動部42bを介してステージ8aを駆動する。そして、移動指令部67は、ステップS6に制御を戻す。一方、移動指令部67は、ステップS8において、直前に測定した測定ポイントが測定終了位置(最後の測定ポイント)であると判定した場合(ステップS8:YES)には、処理をステップS10に進める。
座標算出部65は、各測定ポイントにおいて算出した測定ポイント毎の座標値(三次元座標値)の点群データに基づいて、測定対象OBJの表面形状データを生成する(ステップS10)。
以上説明したように、本実施形態の形状測定装置100は、光源10と、光学系20と、光源制御部61と、撮像部30と、測定部62とを備えている。この光源10は、射出する光のコヒーレンシーが可変である。また、光学系20は、光源10が射出する光をライン光にして投光する。また、光源制御部61は、入力される情報に基づいて、コヒーレンシーを制御する。また、撮像部30は、ライン光が投光された測定対象OBJの表面を撮像した撮像画像を生成する。また、測定部62は、撮像部30で生成された撮像画像に含まれるライン光の位置に基づいて、表面の形状を測定する。
ここで、形状測定装置100において、コヒーレンシーが相対的に高い光を測定対象OBJに投光すると、測定対象OBJの表面を撮像した撮像画像の全部または一部にスペックルノイズが生じることがある。ここで、スペックルノイズとは、測定対象OBJの表面において散乱された散乱光どうしが干渉することによって生じる微細なノイズである。また、コヒーレンシーが相対的に低い光が投光されて生じた散乱光に比して、コヒーレンシーが相対的に高い光が投光されて生じた散乱光のほうが、互いに干渉を生じやすい。つまり、測定対象OBJにコヒーレンシーが相対的に高い光が投光された場合には、測定対象OBJを撮像した画像にスペックルノイズが生じやすい。スペックルノイズが生じると、撮像画像に含まれる測定ラインMLの像の鮮鋭度が低下するため、測定ラインMLの位置の検出精度が低下する。つまり、スペックルノイズが生じると、表面の形状の測定精度が低下する。上述したように形状測定装置100は、入力される情報に基づいて、光源10が射出する光のコヒーレンシーを制御する光源制御部61を備えている。これにより、形状測定装置100は、撮像画像のうちの、スペックルノイズが生じる部分については、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に低くして、測定対象OBJの撮像をすることができる。このような構成を備える形状測定装置100は、撮像画像のうちのスペックルノイズが生じる部分については光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に低く設定した情報をユーザが入力することによって、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に低くして、測定対象OBJの撮像をすることができる。このようにして、形状測定装置100は、撮像画像に含まれるスペックルノイズを低減することができる。つまり、形状測定装置100は、形状測定の精度が低下する程度を低減することができる。
また、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に低くした場合には、光のコヒーレンシーを相対的に高くした場合に比して光束が空間的に拡散する度合いが大きくなる。このため、光源10から射出される光からライン光を生成する際にスリットなどのフィルタを用いることがある。このようにフィルタを用いる場合には、ライン光の光量が減少する。ライン光の光量が相対的に少ない場合、形状測定装置100は、撮像部30が測定対象OBJを撮像する際の露光時間を相対的に長く設定することによって、形状測定の精度が低下する程度を低減する。一方、光のコヒーレンシーが相対的に高い光は、光束が空間的に拡散する度合いが相対的に小さいため、スリットなどのフィルタを用いることなくライン光を生成することができる。このため、形状測定装置100は、撮像部30が測定対象OBJを撮像する際の露光時間を相対的に短く設定しても、高精度に形状測定することができる。
このように、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に低くした場合には、高コヒーレンシー光を用いた場合に比べて撮像時間が長くなり、形状測定に要する時間が長くなる。したがって、形状測定に要する時間を短くするためには、形状測定装置100は、高コヒーレンシー光を用いて測定する。一方、上述したように、形状測定装置100は、高コヒーレンシー光を用いて測定した場合には、スペックルノイズが生じやすくなる。上述したように、スペックルノイズが生じると、表面の形状の測定精度が低下する。そこで、形状測定装置100は、射出する光のコヒーレンシーを制御することによって、測定対象OBJの表面のうちの、スペックルノイズが生じにくい部分には、高コヒーレンシー光を投光して形状測定に要する時間を相対的に短縮するとともに、スペックルノイズが生じやすい部分には、低コヒーレンシー光を投光して表面の形状の測定精度が低下する程度を軽減する。つまり、形状測定装置100は、形状測定に要する時間を短縮しつつ、表面の形状の測定精度が低下する程度を軽減することができる。
[第2の実施形態]
以下、図面を参照して、本発明の第2の実施形態を説明する。なお、上述した第1の実施形態と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
以下、図面を参照して、本発明の第2の実施形態を説明する。なお、上述した第1の実施形態と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
図7は、本発明の第2の実施形態に係る形状測定装置100aの構成の一例を示す構成図である。
形状測定装置100aは、制御ユニット50aを備えている。この制御ユニット50aは、光源制御部61a(制御部)と、測定記憶部68a(記憶部)とを備えている。
形状測定装置100aは、制御ユニット50aを備えている。この制御ユニット50aは、光源制御部61a(制御部)と、測定記憶部68a(記憶部)とを備えている。
測定記憶部68aには、ライン光が投光される測定対象OBJの表面の状態を示す情報が記憶されている。具体的には、測定記憶部68aには、測定対象OBJの設計情報として測定対象OBJの表面の表面粗さを示す情報と、測定対象OBJの表面の公差を示す情報と、測定対象OBJの表面の材質を示す情報とが記憶されている。光源制御部61aは、測定記憶部68aから測定対象OBJの設計情報を読み出すとともに、読み出した設計情報(つまり、入力される情報)に基づいて、光源10が射出する光のコヒーレンシーを制御する。
より具体的には、測定記憶部68aには、次に示すような実験結果に基づいた情報が設計情報として予め記憶されている。測定対象OBJの表面が金属である場合に、例えば切削や研削による表面加工がなされて表面粗さが5〜50マイクロメートルである部分については、スペックルノイズが発生しやすい。また、測定対象OBJの表面が金属である場合に、研磨による表面加工がなされて表面粗さが5マイクロメートル未満であると、スペックルノイズが発生しにくい。また、測定対象OBJの表面が金属である場合に、鋳造後の鋳肌のように表面粗さが50マイクロメートル以上であると、スペックルノイズが発生しにくい。また、測定対象OBJの表面がプラスチックまたはセラミックである場合に、例えば研磨、切削または研削による表面加工がなされて表面粗さが50マイクロメートル未満である部分については、スペックルノイズが発生しやすい。また、測定対象OBJの表面がプラスチックまたはセラミックである場合に、鋳造後の鋳肌のように表面粗さが50マイクロメートル以上であると、スペックルノイズが発生しにくい。測定記憶部68aには、このような実験結果に基づいた、測定対象OBJの表面の加工状態(表面粗さ及び表面の公差)を示す情報と、測定対象OBJの表面の材質を示す情報と、実験結果に基づいたスペックルノイズの発生難易度を示す情報と、測定対象OBJの種類とが関連付けられて記憶されている。
形状測定装置100aの光源制御部61aは、測定記憶部68aに記憶されている測定対象OBJの設計情報に基づいて、スペックルノイズの発生の難易を判定する。具体的には、光源制御部61aは、測定対象OBJの設計情報に含まれる測定対象OBJの表面の表面粗さを示す情報と、測定対象OBJの表面の公差を示す情報と、測定対象OBJの表面の材質を示す情報と、実験結果に基づいたスペックルノイズの発生難易度を示す情報とに基づいて、スペックルノイズの発生の難易を判定する。そして、光源制御部61aは、スペックルノイズが発生しにくいと判定した場合には、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に高く制御する。一方、形状測定装置100aは、スペックルノイズが発生しやすいと判定した場合には、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に低く制御する。つまり、光源制御部61aは、スペックルノイズの発生の難易を判定した結果に基づいて、光源10が射出する光のコヒーレンシーを制御する。
以上説明したように、本実施形態の形状測定装置100aの光源制御部61aは、ライン光が投光される表面の状態に基づいて、光源10が射出する光のコヒーレンシーを制御する。これにより、形状測定装置100aは、光源10が射出する光のコヒーレンシーを、測定対象OBJの表面に応じて設定することができるため、スペックルノイズの発生を低減することができる。つまり、形状測定装置100aは、形状測定の精度が低下する程度を低減することができる。
また、形状測定装置100aは、ライン光が投光される測定対象OBJの表面の状態を示す情報を測定記憶部68aに記憶させている。これにより、形状測定装置100aは、スペックルノイズの発生の難易の判定を自動化することができる。
また、形状測定装置100aの光源制御部61aに入力される情報は、測定対象OBJの設計情報であり、光源制御部61aは、測定対象OBJの設計情報によって示される表面の状態に基づいて、コヒーレンシーを制御する。これにより、形状測定装置100aは、測定対象OBJの表面うちの、スペックルノイズの発生しやすい部分を正確に判定することができるため、形状測定の精度が低下する程度をさらに低減することができる。
また、形状測定装置100aの光源制御部61aに入力される設計情報には、表面の表面粗さを示す情報が含まれており、光源制御部61aは、表面粗さを示す情報に基づいて、コヒーレンシーを制御する。これにより、形状測定装置100aは、予め実験によって求められている測定対象OBJの表面の表面粗さと、スペックルノイズの発生の難易との関係に基づいて、コヒーレンシーを制御することができる。つまり、形状測定装置100aは、測定対象OBJの表面うちの、スペックルノイズの発生しやすい部分を正確に判定することができるため、形状測定の精度が低下する程度をさらに低減することができる。
また、形状測定装置100aの光源制御部61aに入力される設計情報には、表面の公差を示す情報が含まれており、光源制御部61aは、公差を示す情報に基づいて、コヒーレンシーを制御する。これにより、形状測定装置100aは、予め実験によって求められている測定対象OBJの表面の公差と、スペックルノイズの発生の難易との関係に基づいて、コヒーレンシーを制御することができる。つまり、形状測定装置100aは、測定対象OBJの表面うちの、スペックルノイズの発生しやすい部分を正確に判定することができるため、形状測定の精度が低下する程度をさらに低減することができる。
[第3の実施形態]
以下、図面を参照して、本発明の第3の実施形態を説明する。なお、上述した各実施形態と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
以下、図面を参照して、本発明の第3の実施形態を説明する。なお、上述した各実施形態と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
図8は、本発明の第3の実施形態に係る形状測定装置100bの構成の一例を示す構成図である。
形状測定装置100bは、測定機本体1bと、制御ユニット50bとを備えている。
測定機本体1bは、測定プローブ3bを備えている。この測定プローブ3bは、光源10bと、光学系20bとを備えている。次に、図9を参照して、光源10b及び光学系20bの構成について説明する。
形状測定装置100bは、測定機本体1bと、制御ユニット50bとを備えている。
測定機本体1bは、測定プローブ3bを備えている。この測定プローブ3bは、光源10bと、光学系20bとを備えている。次に、図9を参照して、光源10b及び光学系20bの構成について説明する。
図9は、本実施形態の光源10b及び光学系20bの構成の一例を示す構成図である。
光源10bは、第1の光源10b−1と、第2の光源10b−2とを備えている。
光源10bは、第1の光源10b−1と、第2の光源10b−2とを備えている。
第1の光源10b−1は、コヒーレンシーが相対的に高い光を射出する。具体的には、第1の光源10b−1は、半導体レーザー発光部を備えている。この半導体レーザー発光部は、レーザーの発振開始電流値以上の電流値の電流が供給されて、レーザー発振することによりレーザー光を射出する。
第2の光源10b−2は、コヒーレンシーが相対的に低い光を射出する。具体的には、第2の光源10b−2は、ハロゲン光源を備えており、ハロゲン光を射出する。なお、第2の光源10b−2は、メタルハライド光源などの可干渉性の低い光源を備えていてもよい。また、第2の光源10b−2は、不図示のスリットを備えており、このスリットによって射出するライン光の幅を設定する。
光学系20bは、第1の光源10b−1に対応するコリーメーターレンズ21b−1と、第2の光源10b−2に対応するコリーメーターレンズ21b−2と、ハーフミラー24を備えている。
第1の光源10b−1と、第2の光源10b−2とは互いに直交する方向に配置されている。ハーフミラー24は、第1の光源10b−1から射出されるレーザー光を透過するとともに、第2の光源10b−2から射出されるハロゲン光を反射して、ハロゲン光の射出方向を45度回転させる。つまり、ハーフミラー24は、第1の光源10b−1から射出されるレーザー光の射出方向と、第2の光源10b−2から射出されるハロゲン光の射出方向とが同じ射出方向になるようにして、光の射出方向を設定する。これにより、第1の光源10b−1から射出されるレーザー光は、コリーメーターレンズ21b−1によって平行光にされ、ハーフミラー24を透過してレンズ22に入射する。一方、第2の光源10b−2から射出されるハロゲン光は、コリーメーターレンズ21b−2によって平行光にされ、ハーフミラー24によって反射されてレンズ22に入射する。光学系20bは、レンズ22に入射する平行光をレンズ22とシリンドリカルレンズ23とによってライン光に変換する。また、光学系20bは、変換したライン光を、ステージ8a上に載置された測定対象OBJに投光する。光学系20bから投光されたライン光は、測定対象OBJの表面において、ライン状に形成される光量分布を有する測定ラインMLを形成する。
再び図8を参照して制御ユニット50bについて説明する。制御ユニット50bは、制御装置60bを備えている。この制御装置60bは、光源制御部61b(制御部)を備えている。
光源制御部61bは、第1の光源10b−1または第2の光源10b−2をライン光の光源として選択することによってライン光のコヒーレンシーを制御する。具体的には、光源制御部61bは、ユーザが入力装置80から入力するコヒーレンシーを設定する情報に基づいて、光源10bのうちの第1の光源10b−1又は第2の光源10b−2のいずれかをライン光の光源として選択して、選択した光源に電流を供給する。
以上説明したように、本実施形態の形状測定装置100bは、コヒーレンシーが相対的に高い光を射出する第1の光源10b−1及びコヒーレンシーが相対的に低い光を射出する第2の光源10b−2を備えている。また、形状測定装置100bは、第1の光源10b−1または第2の光源10b−2をライン光の光源として選択してコヒーレンシーを制御する光源制御部61bを備えている。これにより、形状測定装置100bは、半導体レーザー発光部のコヒーレンシーが固定であっても、ライン光のコヒーレンシーを可変にすることができる。このように、第1の光源10b−1は、コヒーレンシーが固定の高コヒーレンシー発光部及び低コヒーレンシー発光部を備えることにより、コヒーレンシーが可変の半導体レーザー発光部に比して安定したライン光を射出することができる。つまり、形状測定装置100bは、安定したライン光によって測定することができるため、形状測定の精度が低下する程度をさらに低減することができる。
また、コヒーレンシーには空間的コヒーレンシーと時間的コヒーレンシーとがある。例えば、空間的コヒーレンシーを制御するような場合は、光源10bの発光エリアのうち、測定対象OBJに投影されるライン光に用いられる発光エリアを可変することで、空間的コヒーレンシーを制御できる。時間的コヒーレンシーについては、上述のようにレーザーとハロゲンランプのように光源自体を変える方法や、ライン光を構成する波長スペクトルの分布をフィルタなどを挿脱するなどして制御することにより行える。同様に非線形光学素子の自己位相変調作用を利用して、時間的コヒーレンシーを制御することも可能である。また、拡散板などを用いて、時間的コヒーレンシーと空間的コヒーレンシーとの両方を制御することも可能である。
また、コヒーレンシーには空間的コヒーレンシーと時間的コヒーレンシーとがある。例えば、空間的コヒーレンシーを制御するような場合は、光源10bの発光エリアのうち、測定対象OBJに投影されるライン光に用いられる発光エリアを可変することで、空間的コヒーレンシーを制御できる。時間的コヒーレンシーについては、上述のようにレーザーとハロゲンランプのように光源自体を変える方法や、ライン光を構成する波長スペクトルの分布をフィルタなどを挿脱するなどして制御することにより行える。同様に非線形光学素子の自己位相変調作用を利用して、時間的コヒーレンシーを制御することも可能である。また、拡散板などを用いて、時間的コヒーレンシーと空間的コヒーレンシーとの両方を制御することも可能である。
[第4の実施形態]
以下、図面を参照して、本発明の第4の実施形態を説明する。なお、上述した各実施形態と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
以下、図面を参照して、本発明の第4の実施形態を説明する。なお、上述した各実施形態と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
図10は、本発明の第4の実施形態に係る形状測定装置100cの構成の一例を示す構成図である。
形状測定装置100cは、制御ユニット50cを備えている。制御ユニット50cは、制御装置60cを備えている。この制御装置60cは、光源制御部61c(制御部)と、測定部62cとを備えている。測定部62cは、測定記憶部68cを備えている。
形状測定装置100cは、制御ユニット50cを備えている。制御ユニット50cは、制御装置60cを備えている。この制御装置60cは、光源制御部61c(制御部)と、測定部62cとを備えている。測定部62cは、測定記憶部68cを備えている。
測定記憶部68cには、撮像部30によって生成される撮像画像が記憶されている。具体的には、形状測定装置100cは、測定対象OBJの形状を予備測定と本測定との2回に分けて測定する。光源制御部61cは、この予備測定において撮像部30が生成した測定対象OBJの撮像画像を測定記憶部68cに記憶させる。つまり、測定記憶部68cには、予備測定において測定対象OBJが撮像された予備測定画像が記憶されている。
光源制御部61cは、撮像部30によって生成される撮像画像に基づいて、本測定において光源10が射出する光のコヒーレンシーを制御する。具体的には、本測定において、光源制御部61cは、予備測定画像を測定記憶部68cから読み出すとともに、読み出した予備測定画像に基づいて、測定対象OBJの表面におけるスペックルノイズの発生の難易を判定する。そして、光源制御部61cは、スペックルノイズが発生しにくいと判定した場合には、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に高く制御する。一方、光源制御部61cは、スペックルノイズが発生しやすいと判定した場合には、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に低く制御する。このようにして、光源制御部61cは、スペックルノイズの発生の難易を判定した結果に基づいて、光源10が射出する光のコヒーレンシーを制御する。
以上説明したように、形状測定装置100cの光源制御部61cは、撮像部30によって生成される撮像画像に基づいて、コヒーレンシーを制御する。これにより、形状測定装置100cは、予め測定対象OBJを撮像した予備測定画像に基づいてコヒーレンシーを制御することができるため、予備測定画像に基づかない場合に比して、高精度にコヒーレンシーを制御することができる。つまり、形状測定装置100cは、形状測定の精度が低下する程度をさらに低減することができる。
なお、光源制御部61cは、撮像部30によって生成された撮像画像に含まれるスペックルノイズの量に基づいて、コヒーレンシーを制御してもよい。具体的には、光源制御部61cは、予め撮像されているスペックルノイズの画像と予備測定画像とを既知のパターンマッチング法により比較して、予備測定画像に含まれるスペックルノイズが発生している領域を抽出する。次に、光源制御部61cは、抽出した予備測定画像に含まれるスペックルノイズが発生している領域の面積に基づいて、撮像画像に含まれるスペックルノイズの量を算出する。次に、光源制御部61cは、算出したスペックルノイズの量が相対的に多いと判定した場合には、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に低く制御する。一方、光源制御部61cは、算出したスペックルノイズの量が相対的に少ないと判定した場合には、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に高く制御する。これにより、形状測定装置100cは、予め測定対象OBJを撮像した予備測定画像に含まれるスペックルノイズの量に基づいてコヒーレンシーを制御することができるため、予備測定画像に基づかない場合に比して、高精度にコヒーレンシーを制御することができる。つまり、形状測定装置100cは、形状測定の精度が低下する程度をさらに低減することができる。
なお、光源制御部61cは、撮像部30によって生成された撮像画像のうちの、スペックルノイズの量が相対的に少ない領域についてはコヒーレンシーを相対的に高くして、スペックルノイズの量が相対的に多い領域についてはコヒーレンシーを相対的に低くしてコヒーレンシーを制御してもよい。この構成によっても、形状測定装置100cは、予め測定対象OBJを撮像した予備測定画像に含まれるスペックルノイズの量に基づいてコヒーレンシーを制御することができるため、予備測定画像に基づかない場合に比して、高精度にコヒーレンシーを制御することができる。つまり、形状測定装置100cは、形状測定の精度が低下する程度をさらに低減することができる。
[第5の実施形態]
以下、図面を参照して、本発明の第5の実施形態を説明する。なお、上述した各実施形態と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
以下、図面を参照して、本発明の第5の実施形態を説明する。なお、上述した各実施形態と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
図11は、本発明の第5の実施形態に係る形状測定装置100dの構成の一例を示す構成図である。
形状測定装置100dは、制御ユニット50dを備えている。制御ユニット50dは、制御装置60dを備えている。この制御装置60dは、光源制御部61d(制御部)と、測定部62dとを備えている。測定部62dは、測定記憶部68dを備えている。
形状測定装置100dは、制御ユニット50dを備えている。制御ユニット50dは、制御装置60dを備えている。この制御装置60dは、光源制御部61d(制御部)と、測定部62dとを備えている。測定部62dは、測定記憶部68dを備えている。
測定記憶部68dには、撮像部30によって生成される第1の予備測定画像(第1の撮像画像)と、第2の予備測定画像(第2の撮像画像)とが記憶されている。具体的には、形状測定装置100dは、測定対象OBJの形状を第1の予備測定、第2の予備測定及び本測定との3回に分けて測定する。第1の予備測定において、光源制御部61dは、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に高く制御する。撮像部30は、コヒーレンシーが相対的に高いライン光が投光された測定対象OBJを撮像して、撮像した画像を第1の撮像画像として生成する。光源制御部61dは、撮像部30が生成した第1の撮像画像を測定記憶部68dに記憶させる。また、第2の予備測定において、光源制御部61dは、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に低く制御する。撮像部30は、コヒーレンシーが相対的に低いライン光が投光された測定対象OBJを撮像して、撮像した画像を第2の撮像画像として生成する。光源制御部61dは、撮像部30が生成した第2の撮像画像を測定記憶部68dに記憶させる。つまり、測定記憶部68dには、第1の予備測定において測定対象OBJが撮像された第1の予備測定画像と、第2の予備測定画像とが記憶されている。ここで、第1の予備測定画像とは、第1の予備測定において、コヒーレンシーが相対的に高いライン光が測定対象OBJに投光された状態によって撮像部30が撮像した画像である。また、第2の予備測定画像とは、第2の予備測定において、コヒーレンシーが相対的に低いライン光が測定対象OBJに投光された状態によって撮像部30が撮像した画像である。
光源制御部61dは、第1の予備測定画像(第1の撮像画像)が示すライン光の像の明るさの分布と第2の予備測定画像(第2の撮像画像)が示すライン光の像の明るさの分布との差分に基づいて、光源10が射出する光のコヒーレンシーを制御する。具体的には、本測定において、光源制御部61dは、第1の予備測定画像及び第2の予備測定画像を測定記憶部68dから読み出す。次に、光源制御部61dは、読み出した第1の予備測定画像に含まれるライン光の像の明るさの分布(第1の強度分布)を既知の構成によって算出する。同様に、光源制御部61dは、読み出した第2の予備測定画像に含まれるライン光の光束の像の明るさの分布(第2の強度分布)を算出する。次に、光源制御部61dは、算出した第1の明るさの分布と第2の明るさの分布との差分を算出し、算出した差分に基づいて、測定対象OBJの表面におけるスペックルノイズの発生の難易を判定する。そして、光源制御部61dは、スペックルノイズが発生しにくいと判定した場合には、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に高く制御する。一方、光源制御部61dは、スペックルノイズが発生しやすいと判定した場合には、光源10が射出する光のコヒーレンシーを相対的に低く制御する。このようにして、光源制御部61dは、スペックルノイズの発生の難易を判定した結果に基づいて、光源10が射出する光のコヒーレンシーを制御する。
以上説明したように、形状測定装置100dの撮像部30は、コヒーレンシーが相対的に高いライン光が測定対象OBJに投光された状態によって撮像する第1の予備測定画像と、コヒーレンシーが相対的に低いライン光が測定対象OBJに投光された状態によって撮像する第2の予備測定画像とを生成する。また、光源制御部61dは、第1の予備測定画像が示すライン光の像の明るさの分布と第2の予備測定画像が示すライン光の像の明るさの分布との差分に基づいて、コヒーレンシーを制御する。これにより、形状測定装置100dは、予め測定対象OBJを撮像した予備測定画像に基づいてコヒーレンシーを制御することができるため、予備測定画像に基づかない場合に比して、高精度にコヒーレンシーを制御することができる。さらに、形状測定装置100dは、投光するライン光のコヒーレンシーが互いに異なる複数の予備測定画像に基づいてコヒーレンシーを制御することができる。このため、形状測定装置100dは、単一の予備測定画像に基づいて制御する場合に比しても、高精度にコヒーレンシーを制御することができる。つまり、形状測定装置100dは、形状測定の精度が低下する程度をさらに低減することができる。
なお、各画像が示す明るさの分布は、各画像の画像データから明度や輝度情報から求めることができる。
なお、各画像が示す明るさの分布は、各画像の画像データから明度や輝度情報から求めることができる。
[第6の実施形態]
次に、本発明の第6の実施形態として、上述した各実施形態のいずれかの形状測定装置(形状測定装置100、100a〜100d)を備えた構造物製造システムについて説明する。
図12は、本発明の第6の実施形態に係る構造物製造システム200のブロック構成図である。構造物製造システム200は、上述した形状測定装置(形状測定装置100、100a〜100d)と、設計装置110と、成形装置120と、リペア装置140と、制御装置150(検査装置)とを備える。
次に、本発明の第6の実施形態として、上述した各実施形態のいずれかの形状測定装置(形状測定装置100、100a〜100d)を備えた構造物製造システムについて説明する。
図12は、本発明の第6の実施形態に係る構造物製造システム200のブロック構成図である。構造物製造システム200は、上述した形状測定装置(形状測定装置100、100a〜100d)と、設計装置110と、成形装置120と、リペア装置140と、制御装置150(検査装置)とを備える。
設計装置110は、構造物(例えば、測定対象OBJ)の形状に関する設計情報を作製し、作成した設計情報を成形装置120に送信する。また、設計装置110は、作成した設計情報を制御装置150の後述する座標記憶部151に記憶させる。ここで、設計情報とは、構造物の各位置の座標を示す情報である。
成形装置120は、設計装置110から入力された設計情報に基づいて上記構造物を作製する。成形装置120の成形工程には、鋳造、鍛造、または切削等が含まれる。
形状測定装置(形状測定装置100、100a〜100d)は、作製された構造物の座標を測定し、測定した座標を示す情報(形状情報)を制御装置150へ送信する。
形状測定装置(形状測定装置100、100a〜100d)は、作製された構造物の座標を測定し、測定した座標を示す情報(形状情報)を制御装置150へ送信する。
制御装置150は、座標記憶部151と、検査部152とを備える。座標記憶部151には、前述の通り、設計装置110により設計情報が記憶される。検査部152は、座標記憶部151から設計情報を読み出す。検査部152は、形状測定装置(形状測定装置100、100a〜100d)から受信した座標を示す情報(形状情報)と座標記憶部151から読み出した設計情報とを比較する。
検査部152は、比較結果に基づき、構造物が設計情報通りに成形されたか否かを判定する。換言すれば、検査部152は、作成された構造物が良品であるか否かを判定する。
検査部152は、構造物が設計情報通りに成形されていない場合、修復可能であるか否か判定する。修復できる場合、検査部152は、比較結果に基づき、不良部位と修復量を算出し、リペア装置140に不良部位を示す情報と修復量を示す情報とを送信する。
検査部152は、構造物が設計情報通りに成形されていない場合、修復可能であるか否か判定する。修復できる場合、検査部152は、比較結果に基づき、不良部位と修復量を算出し、リペア装置140に不良部位を示す情報と修復量を示す情報とを送信する。
リペア装置140は、制御装置150から受信した不良部位を示す情報と修復量を示す情報とに基づき、構造物の不良部位を加工する。
図13は、構造物製造システム200による処理の流れを示したフローチャートである。
まず、設計装置110が、構造物の形状に関する設計情報を作製する(ステップS201)。次に、成形装置120は、設計情報に基づいて上記構造物を作製する(ステップS202)。次に、形状測定装置(形状測定装置100、100a〜100d)は、作製された上記構造物の形状を測定する(ステップS203)。次に、制御装置150の検査部152は、形状測定装置(形状測定装置100、100a〜100d)で得られた形状情報と、上記設計情報とを比較することにより、構造物が誠設計情報通りに作成されたか否か検査する(ステップS204)。
まず、設計装置110が、構造物の形状に関する設計情報を作製する(ステップS201)。次に、成形装置120は、設計情報に基づいて上記構造物を作製する(ステップS202)。次に、形状測定装置(形状測定装置100、100a〜100d)は、作製された上記構造物の形状を測定する(ステップS203)。次に、制御装置150の検査部152は、形状測定装置(形状測定装置100、100a〜100d)で得られた形状情報と、上記設計情報とを比較することにより、構造物が誠設計情報通りに作成されたか否か検査する(ステップS204)。
次に、制御装置150の検査部152は、作成された構造物が良品であるか否かを判定する(ステップS205)。作成された構造物が良品である場合(ステップS205:YES)、構造物製造システム200はその処理を終了する。一方、作成された構造物が良品でない場合(ステップS205:NO)、制御装置150の検査部152は、作成された構造物が修復できるか否か判定する(ステップS206)。
作成された構造物が修復できると検査部152が判断した場合(ステップS206:YES)、リペア装置140は、構造物の再加工を実施し(ステップS207)、ステップS103の処理に戻る。一方、作成された構造物が修復できないと検査部152が判断した場合(ステップS206:NO)、構造物製造システム200はその処理を終了する。以上で、本フローチャートの処理を終了する。
以上により、上記の実施形態における形状測定装置(形状測定装置100、100a〜100d)が構造物の座標(3次元形状)を正確に測定することができるので、構造物製造システム200は、作成された構造物が良品であるか否か判定することができる。また、構造物製造システム200は、構造物が良品でない場合、構造物の再加工を実施し、修復することができる。
以上、本発明の実施形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
なお、上記の実施形態における検出部41、駆動部42、上記のいずれかの実施形態における制御ユニット(制御ユニット50、50a、50b、50c及び50d)、(以下、これらを総称して制御部CONTと記載する)又はこの制御部CONTが備える各部は、専用のハードウェアにより実現されるものであってもよく、また、メモリおよびマイクロプロセッサにより実現させるものであってもよい。
なお、この制御部CONTが備える各部は、メモリおよびCPU(中央演算装置)により構成され、制御部CONTが備える各部の機能を実現するためのプログラムをメモリにロードして実行することによりその機能を実現させるものであってもよい。
また、制御部CONTが備える各部の機能を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することにより、制御部CONTが備える各部による処理を行ってもよい。なお、ここでいう「コンピュータシステム」とは、OSや周辺機器等のハードウェアを含むものとする。
また、「コンピュータシステム」は、WWWシステムを利用している場合であれば、ホームページ提供環境(あるいは表示環境)も含むものとする。
また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ROM、CD−ROM等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムを送信する場合の通信線のように、短時間の間、動的にプログラムを保持するもの、その場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリのように、一定時間プログラムを保持しているものも含むものとする。また上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであってもよく、さらに前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるものであってもよい。
また、測定対象に投光する光束の強度分布は、ライン状の強度分布のものに限られず、スポット状の強度分布や円環状の強度分布などでもかまわない。
また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ROM、CD−ROM等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムを送信する場合の通信線のように、短時間の間、動的にプログラムを保持するもの、その場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリのように、一定時間プログラムを保持しているものも含むものとする。また上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであってもよく、さらに前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるものであってもよい。
また、測定対象に投光する光束の強度分布は、ライン状の強度分布のものに限られず、スポット状の強度分布や円環状の強度分布などでもかまわない。
100、100a、100b、100c、100d…形状測定装置、10、10b…光源、10b−1…第1の光源、10b−2…第2の光源、20、20b…光学系、30…撮像部、61、61a、61b、61c、61d…光源制御部(制御部)、110…設計装置、120…成形装置、150…制御装置(検査装置)、200…構造物製造システム
Claims (15)
- ある強度分布を有する光束を測定対象に投光する投光部と、
入力される情報に基づいて、前記光束のコヒーレンシーを制御する制御部と、
前記光束が投光された測定対象の表面を撮像した撮像画像を生成する撮像部と、
前記撮像部で生成された前記撮像画像に含まれる前記光束の位置に基づいて、前記表面の形状を測定する測定部と、
を備えることを特徴とする形状測定装置。 - 前記制御部は、
前記光束が投光される前記表面の状態に基づいて、前記コヒーレンシーを制御する
ことを特徴とする請求項1に記載の形状測定装置。 - 前記情報は、
前記測定対象の設計情報であり、
前記表面の状態は、
前記測定対象の設計情報によって示される
ことを特徴とする請求項2に記載の形状測定装置。 - 前記設計情報には、
前記表面の表面粗さを示す情報が含まれ、
前記制御部は、
前記表面粗さを示す情報に基づいて、前記コヒーレンシーを制御する
ことを特徴とする請求項3に記載の形状測定装置。 - 前記設計情報には、
前記表面の公差を示す情報が含まれ、
前記制御部は、
前記公差を示す情報に基づいて、前記コヒーレンシーを制御する
ことを特徴とする請求項3または請求項4に記載の形状測定装置。 - 前記投光部は、
前記コヒーレンシーが相対的に高い光を射出する第1の光源と、
前記コヒーレンシーが相対的に低い光を射出する第2の光源と
を備え、
前記コヒーレンシーを制御することには、
前記第1の光源または前記第2の光源を前記光束の光源として選択することが含まれる
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の形状測定装置。 - 前記制御部は、
前記撮像部によって予め撮像される前記撮像画像に基づいて、前記コヒーレンシーを制御する
ことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の形状測定装置。 - 前記撮像部は、
前記コヒーレンシーが相対的に高い前記光束が前記測定対象に投光された状態によって撮像されたときの第1の撮像画像と、前記コヒーレンシーが相対的に低い前記光束が前記測定対象に投光された状態によって撮像されたときの第2の撮像画像とを生成し、
前記制御部は、
前記第1の撮像画像が示す前記光束の像の明るさの分布と前記第2の撮像画像が示す前記光束の明るさの分布との差分に基づいて、前記コヒーレンシーを制御する
ことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の形状測定装置。 - 前記光束の強度分布は、ライン状の分布を有することを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の形状測定装置。
- 前記制御部は、
前記撮像部によって生成された前記撮像画像に含まれるスペックルノイズの量に基づいて、前記コヒーレンシーを制御する
ことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の形状測定装置。 - 前記制御部は、
前記撮像部によって生成された前記撮像画像のうちの、スペックルノイズの量が相対的に少ない領域については前記コヒーレンシーを相対的に高くして、スペックルノイズの量が相対的に多い領域については前記コヒーレンシーを相対的に低くして前記コヒーレンシーを制御する
ことを特徴とする請求項10に記載の形状測定装置。 - 構造物の形状に関する構造物設計情報を作製する設計装置と、
前記構造物設計情報に基づいて前記構造物を作製する成形装置と、
作成された前記構造物の形状を、撮像画像に基づいて測定する請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の形状測定装置と、
前記測定によって得られた形状情報と、前記構造物設計情報とを比較する検査装置と、
を含む構造物製造システム。 - ある強度分布を有する光束を測定対象に投光する光学系と、前記光束が投光された前記測定対象の表面を撮像した撮像画像を生成する撮像部と、前記撮像部が生成した前記撮像画像に含まれる前記光束の位置に基づいて、前記測定対象の表面の形状を測定する測定部と、前記光束のコヒーレンシーを制御する制御部とを備える形状測定装置が、入力される情報に基づいて、前記コヒーレンシーを制御する制御ステップ
を有することを特徴とする形状測定方法。 - 構造物の形状に関する構造物設計情報を作製することと、
前記構造物設計情報に基づいて前記構造物を作製することと、
作成された前記構造物の形状を、請求項13に記載の形状測定方法を用いて生成した撮像画像に基づいて測定することと、
前記測定によって得られた形状情報と、前記構造物設計情報とを比較することと、
を含む構造物製造方法。 - ある強度分布を有する光束を測定対象に投光する光学系と、前記光束が投光された測定対象の表面を撮像した撮像画像を生成する撮像部と、前記撮像部が生成した前記撮像画像に含まれる前記光束の位置に基づいて、前記測定対象の表面の形状を測定する測定部と、前記光束のコヒーレンシーを制御する制御部とを備える形状測定装置のコンピュータに、
入力される情報に基づいて、前記コヒーレンシーを制御する制御ステップ
を実行させる形状測定プログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012141934A JP2014006149A (ja) | 2012-06-25 | 2012-06-25 | 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、および形状測定プログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012141934A JP2014006149A (ja) | 2012-06-25 | 2012-06-25 | 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、および形状測定プログラム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014006149A true JP2014006149A (ja) | 2014-01-16 |
Family
ID=50104003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012141934A Pending JP2014006149A (ja) | 2012-06-25 | 2012-06-25 | 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、および形状測定プログラム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014006149A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5621529A (en) * | 1995-04-05 | 1997-04-15 | Intelligent Automation Systems, Inc. | Apparatus and method for projecting laser pattern with reduced speckle noise |
JP2004061254A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン欠陥検査装置、及び、パターン欠陥検査方法 |
JP2006514739A (ja) * | 2002-12-31 | 2006-05-11 | ディースリーディー,エル.ピー. | 歯科用レーザデジタイザシステム |
JP2009098044A (ja) * | 2007-10-18 | 2009-05-07 | Nikon Corp | 形状測定装置 |
WO2012057283A1 (ja) * | 2010-10-27 | 2012-05-03 | 株式会社ニコン | 形状測定装置、形状測定方法、構造物の製造方法およびプログラム |
-
2012
- 2012-06-25 JP JP2012141934A patent/JP2014006149A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5621529A (en) * | 1995-04-05 | 1997-04-15 | Intelligent Automation Systems, Inc. | Apparatus and method for projecting laser pattern with reduced speckle noise |
JP2004061254A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン欠陥検査装置、及び、パターン欠陥検査方法 |
JP2006514739A (ja) * | 2002-12-31 | 2006-05-11 | ディースリーディー,エル.ピー. | 歯科用レーザデジタイザシステム |
JP2009098044A (ja) * | 2007-10-18 | 2009-05-07 | Nikon Corp | 形状測定装置 |
WO2012057283A1 (ja) * | 2010-10-27 | 2012-05-03 | 株式会社ニコン | 形状測定装置、形状測定方法、構造物の製造方法およびプログラム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6194996B2 (ja) | 形状測定装置、形状測定方法、構造物の製造方法、及び形状測定プログラム | |
JP6044705B2 (ja) | 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、及び形状測定プログラム | |
US10371507B2 (en) | Shape measurement device, structural object production system, shape measurement method, structural object production method, shape measurement program, and recording medium | |
KR102106389B1 (ko) | 형상 측정 장치 | |
JP5648692B2 (ja) | 形状測定装置、形状測定方法、構造物の製造方法およびプログラム | |
US10571254B2 (en) | Three-dimensional shape data and texture information generating system, imaging control program, and three-dimensional shape data and texture information generating method | |
TWI623724B (zh) | Shape measuring device, structure manufacturing system, stage system, shape measuring method, structure manufacturing method, shape measuring program, and computer readable recording medium | |
JP2007333582A (ja) | 三次元形状測定システム | |
JP2015072197A (ja) | 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、及び形状測定プログラム | |
JP2014126381A (ja) | 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、及び形状測定プログラム | |
JP6205727B2 (ja) | 形状測定方法、構造物製造方法、形状測定プログラム、光学式形状測定装置、及び構造物製造システム | |
JP6248510B2 (ja) | 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、形状測定プログラム、及び記録媒体 | |
WO2020240918A1 (ja) | 作業支援システム、作業支援方法およびプログラム | |
JP2018109540A (ja) | 光走査高さ測定装置 | |
JP2013234854A (ja) | 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、及びそのプログラム | |
JP2020067428A (ja) | バネ形状測定器 | |
JP2014006149A (ja) | 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、および形状測定プログラム | |
JP7336927B2 (ja) | 3次元測量装置、3次元測量方法および3次元測量プログラム | |
JP2014102243A (ja) | 形状測定装置、構造物製造システム、形状測定方法、構造物製造方法、及びそのプログラム | |
JP2012242085A (ja) | 曲率半径測定機の被測定体保持位置補正方法および曲率半径測定機 | |
JP2011220752A (ja) | 三次元形状計測装置および三次元形状計測装置のキャリブレーション方法 | |
JP2005009897A (ja) | 表面状態計測装置の位置決め装置 | |
JP2018109541A (ja) | 光走査高さ測定装置 | |
JP2014055922A (ja) | 欠陥抽出装置 | |
JP2010107413A (ja) | 形状測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150529 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160418 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160426 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20161108 |