JP2013529258A - 側面放出型線状蒸発源、その製造方法及び線状蒸発器 - Google Patents

側面放出型線状蒸発源、その製造方法及び線状蒸発器 Download PDF

Info

Publication number
JP2013529258A
JP2013529258A JP2013514091A JP2013514091A JP2013529258A JP 2013529258 A JP2013529258 A JP 2013529258A JP 2013514091 A JP2013514091 A JP 2013514091A JP 2013514091 A JP2013514091 A JP 2013514091A JP 2013529258 A JP2013529258 A JP 2013529258A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pbn
heat generating
evaporation source
crucible
linear evaporation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013514091A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5732531B2 (ja
Inventor
ドクハ ウ
ソンホ キム
ソク イ
ヨンミン ジョン
ミンチョル パク
ヨンウ ジョン
シングン キム
ジェフン キム
ヨンテ ビョン
Original Assignee
コリア・インスティテュート・オブ・サイエンス・アンド・テクノロジー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by コリア・インスティテュート・オブ・サイエンス・アンド・テクノロジー filed Critical コリア・インスティテュート・オブ・サイエンス・アンド・テクノロジー
Publication of JP2013529258A publication Critical patent/JP2013529258A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5732531B2 publication Critical patent/JP5732531B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12Organic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/26Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本発明は側面放出型線状蒸発源、その製造及び線状蒸発器に関している。真空の中で坩堝を加熱して坩堝から放出される材料を基板に蒸着する方法を用いる蒸発システムで坩堝と発熱部から構成され、蒸発源の側面に形成された放出口を有する線状蒸発源、その線状蒸発源の製造方法及び線状蒸発器に関している。本発明では蒸発装置用PBN放出部と、上記放出部の外部表面に蒸着されて加熱に合うようにパターニングされた発熱部と、上記放出部の側面に形成された多数個の放出口を含む線状蒸発源、その製造方法及び線状蒸発器が提示される。
【選択図】 図3

Description

本発明は、真空中から坩堝を加熱して坩堝から放出される材料を基板に蒸着する方法を用いる有機発光ダイオード(OLED、organic light emitting diode)蒸着装置のような、蒸発システムで坩堝と発熱部で構成された側面放出型線状蒸発源(Linear effusion cell with side orifice array)、その線状蒸発源の製造方法(the method of manufacturing linear effusion cell with side orifice array)及び線状蒸発器(evaporator)に関する。
更に詳しくは、放出部の外部表面に発熱物質を蒸着してこれを加熱に合うようにパターニングして発熱部を有し、上記放出部の側面に多数個の放出口を有して、上記発熱部に電流を注入することで発熱部に直接に接している放出部の側面に形成された多数個の放出口を通じて、坩堝の側面へ原料物質が放出される線状蒸発源、その製造方法及び線状蒸発器に関する。
基板に薄膜を形成する一般的な方法には、真空蒸着(evaporation)法、イオンプレーティング(ion plating)法、及びスパッタリング(sputtering)法のような物理気相蒸着(PVD)法と、ガス反応による化学気相蒸着(CVD)法等がある。有機発光ダイオード薄膜成長装置は、有機発光ダイオードを構成する有機物を真空蒸着法によって基板に蒸着することで薄膜を成長する。
また、有機発光ダイオードで電極形成のためにアルミニウムのような金属は真空蒸着法を利用して蒸着する。
このように、真空蒸着法を利用して有機膜及び金属膜を蒸着する一般的な蒸着装置で、蒸着チャンバの上部には基板が装着され、蒸着チャンバの下部には蒸発源が配置される。上記蒸発源は、蒸着物質を含む坩堝と、坩堝の外側に設置されて蒸着物質を蒸発させるための熱源で作用する発熱部を含む。上記された蒸発源の発熱部に電源を加えると、坩堝及び坩堝内部の材料物質が加熱され、蒸発された材料物質が坩堝の上部開口部に放出されてチャンバの内側上部に装着された基板に蒸着され、上記基板に有機膜や金属膜等が形成される。
上記蒸発源に関して、本出願人が特許出願した韓国出願番号第10−2009−114068号の“発熱部一体型真空薄膜蒸着用分子線蒸発源、その製造方法及び蒸発器”の発明がある。上記特許出願の発明は、真空で試料に有機物等の材料を蒸着するための蒸着システムに使われる上記材料を入れるためにPBNで製作された坩堝と、上記PBN坩堝の外部表面に発熱部を直接蒸着して加熱することにより、伝導により坩堝を加熱することで熱効率を高めて、構造を単純にする発熱部一体型蒸発源に関する。
しかし、有機発光ダイオード基板の大きさが大型化されながら基板を上部に装着すると、曲げがひどくて蒸着物質の均一度が下がって扱いにくくなる問題点がある。従って、大形基板を垂直から約20度以下の角度で傾けて(以下垂直で約20度以下の角度に傾いたものも垂直と称する)装着するか、下部に装着すれば曲げがなくて扱うのが容易である。上記蒸発源は、上部の開口部を通じて材料物質が放出されるから垂直や下部に装着された基板に材料物質を蒸着することができない問題点がある。
従って、垂直に装着されるか、下部に装着された基板に原料物質を効率的に供給することができる側面放出型線状蒸発源の開発が要求されている。
本発明は、上記従来技術の問題点を解決するためになされたものであって、本発明の目的は、基板を垂直に装着して、インラインで薄膜を蒸着するシステムで使用できる側面へ材料を放出するための線状蒸発源、その線状蒸発源の製造方法及び線状蒸発器を提供することである。
上記本発明の目的を果たすための技術的解決手段として、本発明の第1観点は、真空で試料に有機物や金属等の材料を蒸着するための蒸着システムに使われる上記材料を入れるためのPBNで製作された坩堝と、上記PBN坩堝の外部表面に加熱に合うようにパターニングされて蒸着されたPGから構成される第1発熱部と、上記PBN坩堝と上記PG第1発熱部を貫通して坩堝の側面に形成された多数個の放出口を含む側面放出型線状蒸発源が提示される。
本発明の第2観点は、真空で試料に有機物等の材料を蒸着するための蒸着システムに用いられる上記材料を入れるためのPBNで製作された坩堝と、上記PBN坩堝の外部表面に加熱に合うようにパターニングされて蒸着されたPGから構成される第1発熱部と、上記PBN坩堝の内部表面に蒸着されてアルミニウムのようなPBNによく癒着される試料から坩堝を保護するために蒸着されたPGから構成される第1保護膜と、上記第1発熱部と上記第1保護膜を電気的に絶縁するための絶縁部と、上記PBN坩堝、上記PG第1発熱部及び上記第1保護膜を貫通して坩堝の側面に形成された多数個の放出口を含む側面放出型線状蒸発源が提示される。アルミニウムのような、一部材料等は冷却の時に液体状態から固体状態へ変わりながらPBN坩堝とよく付くようになり、坩堝の冷却の時に試料と坩堝の熱膨脹係数差によって坩堝の破損される問題点がある。このような試料等は、PGとはよく付かないので、坩堝の内部にPGからなった保護膜を形成することで坩堝破損の問題点を解決することができる。
本発明の第3観点は、本発明の上記第1観点の発明で、上記PBN坩堝の開口部を覆うためのPBN蓋体と、上記PBN蓋体の外部表面に加熱に合うようにパターニングされて蒸着されたPGから構成される第2発熱部を含む側面放出型線状蒸発源が提示される。
本発明の第4観点は、本発明の上記第2観点の発明で、上記PBN坩堝の開口部を覆うためのPBN蓋体と、上記PBN蓋体の外部表面に加熱に合うようにパターニングされて蒸着されたPGから構成される第2発熱部と、上記PBN蓋体の内部表面に蒸着されてアルミニウムのようなPBNによく癒着される試料から坩堝を保護するためのPGから構成される第2保護膜と、上記第2発熱部と上記第2保護膜を電気的に絶縁するための絶縁部を含む側面放出型線状蒸発源が提示される。
本発明の第5観点は、PBNで製作された坩堝と、上記PBN坩堝の外部表面に加熱に合うようにパターニングされて蒸着されたPGから構成される第1発熱部を含む蒸発部と、PBNで製作された放出部と、上記PBN放出部の外部表面に加熱に合うようにパターニングされて蒸着されたPGから構成される第2発熱部と、上記PBN放出部と上記PG第2発熱部を貫通して放出部の側面に形成された多数個の放出口を含む放出部で構成される側面放出型線状蒸発源が提示される。
本発明の第6観点は、上記本発明の第5観点の発明で、上記PBN坩堝と上記PBN放出部の内部表面に蒸着されてアルミニウムのようなPBNによく癒着される試料から坩堝を保護するためのPGから構成される保護膜を含む側面放出型線状蒸発源が提示される。
本発明の第7観点は、上記本発明の第1ないし第6観点の側面放出型線状蒸発源を製造する方法が提示される。
本発明の第8観点は、上記側面放出型線状蒸発源を真空フランジに装着する時に電源供給用電極を支持台で活用する線状蒸発器が提示される。
本発明の第9観点は、上記側面放出型線状蒸発源を真空フランジに装着する時に線状蒸発源が力を受けて動く又は破損されることを防止するために接触面積が最小化されるように設計された間隔維持装置(スペーサ)を更に含む線状蒸発器が提示される。
本発明の第10観点は、上記側面放出型線状蒸発源を真空フランジに装着する時、線状蒸発源と電極の固定時に力を分散しながら、電流も分散して発熱部に均一な電流を供給するための分散器(スプレッダー、spreader)を更に含む線状蒸発器が提示される。
本発明の側面放出型線状蒸発源によると、基板を垂直に装着してインラインで真空蒸着するシステムで側面方向へ材料物質を効率的に放出することにより、大型基板にも均一に材料物質を容易に蒸着することができる効果がある。
本発明の側面放出型線状蒸発源の第1実施例に関する概略的な構成図である。 本発明の側面放出型線状蒸発源の第2実施例に関する概略的な構成図である。 本発明の側面放出型線状蒸発源の第3実施例に関する概略的な構成図である。 本発明の側面放出型線状蒸発源の第4実施例に関する概略的な構成図である。 従来の蒸発器に関する構成図である。 本発明の側面放出型線状蒸発源を利用した線状蒸発器の実施例に関する概略的な構成図である。 真空フランジを上部に位置するようにしながら、本発明の側面放出型線状蒸発源を利用した線状蒸発器の実施例に関する概略的な構成図である。 本発明の側面放出型線状蒸発源の製造方法の第1実施例を説明する図である。 本発明の側面放出型線状蒸発源の製造方法の第2実施例を説明する図である。 本発明の側面放出型線状蒸発源の製造方法の第3実施例を説明する図である。 本発明の側面放出型線状蒸発源の製造方法の第4実施例を説明する図である。
以下本発明の実施例に関する発明の構成を添付された図面を参照して詳しく説明する。
参照で図5は、既存の一般的な蒸発器の概略的な構成図である。
図5に示されたように、従来の蒸発源は坩堝1、熱遮断膜2、坩堝1と熱遮断膜2の間に設置されるヒーター3、熱電対4、下部熱遮断膜5、真空フランジ6、電源供給用電極7及び電源接続子8を含む構成である。既存の一般的な蒸発源の発熱部は、坩堝と隔離された状態で坩堝の側面を取り囲んでいるから、坩堝の側面に放出口を形成することができず、上部の開口部を通じて材料物質が放出される。
図1は、本発明の側面放出型線状蒸発源の第1実施例に関する概略的な構成図である。
図1Aに示されたように、真空で試料に有機物、金属等の材料を蒸着するための蒸着システムにおいて、上記材料30を入れるためのPBN(Pyrolytic Boron Nitride:熱分解窒化ホウ素)で製作された坩堝10と、上記PBN坩堝10の外部表面に加熱に合うようにパターニングされ蒸着されたPG(Pyrolytic Graphite:熱分解黒鉛)で構成される第1発熱部20と、上記PBN坩堝10と上記PBN坩堝10の外部表面に蒸着されたPG20を貫通して側面に形成された多数個の放出口40と、上記PBN坩堝10の開口部を覆うPBNで構成された蓋体50と、上記PBN蓋体50の外部表面に加熱に合うようにパターニング(例えば、対称形パターン)になって蒸着されたPGから構成される第2発熱部60を含む構成である。
上記第1発熱部20及び第2発熱部60に電圧が認可された時、上記PBN蓋体50の温度が上記PBN坩堝10の温度より高くするか同じに維持されるように、上記PBN蓋体50に蒸着された第2発熱部60のPGの厚さと上記PBN坩堝10に蒸着された第1発熱部20のPGの厚さの比や、上記第1及び第2発熱部のパターンを調節することが好ましい。
図1Bは、図1AのA−A’の断面の概略図である。
上記第1発熱部の形態の一例は、上記A−A’断面の概略図に示されたように、坩堝の側面の中、放出口と直角な方向で側面底から側面上端部に至る幅約0.5mm以下のPGから構成された発熱部の一部を除去することにより形成できる。このような構造では、放出口近所の抵抗が大きくなり、それによって他の部分に比べて放出口近所の温度が最も高い温度分布が得られるので、単純な対称形パターンで好ましい温度分布が容易に得られる。
上記本発明の第1実施例のように、上記PBN坩堝10の外部表面にPGを直接蒸着することで、第1発熱部20と上記PBN坩堝10が付いている一体型線状蒸発源を具現することができ、上記線状蒸発源の側面に上記多数個の放出口40が容易に形成できる。
坩堝の上部に行くほど圧力が低くなるので、上部側放出口の間隔をより狭くするか上部側放出口の穴を大きくすることで、基板に蒸着される物質の厚さを均一にすることができる。
インラインに蒸着される対面的基板の全面的に対して蒸着が成るほど放出口が形成された部分の高さは基板の高さより少し高いことが好ましい。
図2は、本発明の側面放出型線状蒸発源の第2実施例に関する概略的な構成図である。
図2に示されたように、本発明の第2実施例は、上記第1実施例における上記PBN坩堝10及びPBN蓋体50の内部表面及び上記放出口40の表面に上記PGを蒸着して保護膜が構成されている。本発明の第2実施例は、アルミニウムのようなPBNによく癒着される試料からPBN坩堝10を保護するために、上記PBN坩堝10の内部表面及び上記放出口40の表面に蒸着されたPGから構成された第1保護膜70と、上記放出口40の周辺で、上記第1発熱部20と上記第1保護膜70を電気的に絶縁するために、PGが除去された第1絶縁部80と、上記PBN坩堝10の上端部で、上記第1発熱部20と上記第1保護膜70を電気的に絶縁するためにPGが除去された第2絶縁部100を含み、上記PBN蓋体50の内部表面に蒸着されたPGから構成された第2保護膜90と、上記第2発熱部60と上記第2保護膜90を電気的に絶縁するためにPGが除去された第3絶縁部110を含む構成である。
上記第1絶縁部80及び第2絶縁部100の形成は、例えば、上記PBN坩堝10に側面放出口40を形成した後、上記PBN坩堝10の内外部にPGを蒸着して、上記第1発熱部20と第1保護膜70が電気的に絶縁されるように、蒸着されたPGの一部を除去することで第1絶縁部80及び第2絶縁部100が形成できる。
また、他の例は、第1実施例のように発熱部を形成した後、電極接触部を除いた部分をPBNにすべて蒸着した後、坩堝の内部表面及び上記放出口にPG保護膜を形成することもできる。
上記第3絶縁部110の形成は、例えば、上記PBN蓋体50の内外部にPGを蒸着して、上記第2発熱部60と上記第2保護膜90が電気的に絶縁されるように、蒸着されたPGの一部を除去することで形成できる。
上記本発明の第2実施例によって、アルミニウムのようなPBNに癒着される材料30を冷却する時に、熱膨脹係数の差によってPBN坩堝10が破損されることを阻むことができるので、材料を速かに冷凍させることができる。例えば、500cc以上の坩堝で保護膜がない場合に、アルミニウムの融点である摂氏660度より高い温度で摂氏100度まで冷却するためには8時間以上がかかるが、保護膜がある場合には1時間以下の短い時間で冷却ができる。
図3は、本発明の側面放出型線状蒸発源の第3実施例に関する概略的な構成図である。
図3に示されたように、真空で試料に有機物、金属等の材料を蒸着するための蒸着システムにおいて、上記材料30を入れるためのPBN(Pyrolytic Boron Nitride:熱分解窒化ホウ素)で製作された坩堝10と、上記PBN坩堝10の外部表面に加熱に合うようにパターニングされ蒸着されたPG(Pyrolytic Graphite:熱分解黒鉛)で構成される第1発熱部20と、上記PBN坩堝10の開口部を覆うPBNで構成された放出部200と、上記PBN放出部200の外部表面に加熱に合うようにパターニング(例えば、対称形パターン)されて蒸着されたPGから構成される第2発熱部220と、上記PBN放出部200と上記PBN放出部200の外部表面に蒸着された、PG220を貫通して側面に形成された多数個の放出口240を含む構成である。
上記第1発熱部20及び第2発熱部220に電圧が認可された時、上記PBN放出部200の温度が上記PBN坩堝10の温度より高いか同じに維持されるように、上記PBN放出部200に蒸着された第2発熱部220PGの厚さと上記PBN坩堝10に蒸着された第1発熱部20PGの厚さの比、及び上記第1及び第2発熱部のパターンを調節するのが好ましい。
放出部の上部に行くほど圧力が低くなるので、上部側放出口の間隔をより狭くするか上部側放出口の穴を大きくすることで、基板に蒸着される物質の厚さを均一にすることができる。
インラインに蒸着される対面的基板の全面的に対して蒸着ができるように、放出口が形成された部分の高さは、基板の高さより少し高いことが好ましい。
図4は、本発明の側面放出型線状蒸発源の第4実施例に関する概略的な構成図である。
図4に示されたように、本発明の第4実施例は、上記第3実施例における上記PBN坩堝10及びPBN放出部200の内部表面及び上記放出口240の表面に、上記第2実施例のような方法で、上記PGを蒸着して保護膜70、270が構成されている。
図6は、上記本発明の第4実施例に開示された側面放出型線状蒸発源を用いた線状蒸発器の第5実施例に関する概略的な構成図である。
図6Aに示されたように、本発明の側面放出型線状蒸発源を電源供給用電極600と熱電対(Thermocouple、T/C)用電極300が装着された真空フランジ400に装着することができる。この時に、電源供給用電極600は、上記第1発熱部20と第2発熱部220に電源が供給できるように連結され、熱電対用電極300は、線状蒸発源の温度を測定できるように連結される。
上記電源供給用電極600を支持台で用いられることにより構造を単純化することができる。上記電源供給用電極600が側面放出口240に支障にならないように、2つの電極から側面放出口240が遠い所に位置するように電極が配置されている。
上記線状蒸発器は、本発明の側面放出型線状蒸発源の下側及び上側に設置されるスペーサ500a・500bと、上記線状蒸発源の底面第1発熱部20に接触されるように設置される熱電対(Thermocouple、T/C)用電極300と、上記線状蒸発源の下側から所定距離(通り)離隔されて設置される真空フランジ400と、上記線状蒸発源の放出口240を間に置いて上記スペーサ500a・500bを貫通して上記第1発熱部20及び第2発熱部220に接触されるように設置される1対以上の電源供給用電極600と、第1発熱部20の電極接触部下部に位置する分散器700aと、第2発熱部220の電極接触部上部に位置する分散器700bと、を含んでいる。
図6Bは、図6Aのスペーサの概略図である。
上記スペーサ500a・500bは、線状蒸発源が動かないように線状蒸発源を固定する役目をし、熱損室を最小化するために線状蒸発源との接触を最小化する構造の接触部520と、電源供給用電極600が通過する貫通ホール511−514を含んでいる。
図6Cは、図6Aの分散器の概略図である。
上記分散器700a・700bは、線状蒸発源の重さが電極接触部に集中することを防止して力を分散する役目をする。また電流が1個所で集中されることを防止して発熱部から熱が均一に発熱されるように行う役目をする。上記分散器700a・700bは、図6Cに示されたように、電源供給用電極600が貫通する貫通ホール711−714を含んでいる。
上記分散器は、グラファイトで製作することが好ましい。然し、高温特性が優れたモリブデン等の金属で製作することもできる。
図7は、上記本発明の実施例4に掲示された側面放出型線状蒸発源を使った線状蒸発器の第6実施例に関する概略的な構成図である。
図7Aに示されたように、第5実施例と異なって、真空フランジを線状蒸発源の上部に装着する線状蒸発器の構成である。従って、図7Bのように、熱電対(Thermocouple、T/C)用電極300が貫通できる貫通ホール530と、両側の電源供給用電極600が貫通できる貫通ホール511−514及び接触部520を含んでいる。
図7Cは、図6Cのような趣旨の分散器700a・700bに関する概略的な構成図である。上記分散器700a・700bは、図7Cに図示されたように熱電対(Thermocouple、T/C)用電極300が貫通できる貫通ホール730と、両側の電源供給用電極600が貫通できる貫通ホール711−714を含んでいる。
図8は、本発明の側面放出型線状蒸発源製造方法に関する第1実施例を説明する図である。
図8に示されたように、本発明の側面放出型線状蒸発源製造方法は、真空蒸着システムの線状蒸発源製造において、PBN坩堝を準備する段階(S100)と、上記PBN坩堝の外部表面にPGを蒸着して第1発熱層を形成する段階(S110)と、上記PBN坩堝の側面に所定大きさの放出口を上記PBN坩堝の長さ方向に多数個を形成する段階(S120)と、上記PBN坩堝外部表面に形成された第1発熱層に加熱に適合するパターン(例えば、対称形パターン)を形成する段階(S130)と、を含む。
又、本発明の上記側面放出型線状蒸発源製造方法は、上記PBN坩堝の上側開口部を覆うためのPBN蓋体を準備する段階(S140)と、上記PBN蓋体の外部表面にPGを蒸着して第2発熱層を形成する段階(S150)と、上記PBN蓋体の外部表面に形成された第2発熱層に加熱に適合するパターン(例えば、対称形パターン)を形成する段階(S160)をさらに含むことができる。上記第2発熱層は、好ましくは厚さ1000ミクロメーター以下のPGで蒸着されることが好ましい。
図9は、本発明の側面放出型線状蒸発源製造方法に関する第2実施例を説明する図である。
図9に示されたように、本発明の側面放出型線状蒸発源製造に関する第2実施例は、上記第1実施例で、上記PBN坩堝の内部表面及び上記PBN蓋体の下部表面にPGを蒸着して保護膜を更に形成することを特徴とする。
本発明の側面放出型線状蒸発源製造方法に関する第2実施例は、真空蒸着システムの線状蒸発源製造において、PBN坩堝を準備する段階(S200)と、上記PBN坩堝の側面に所定大きさの放出口を上記PBN坩堝の長さ方向に多数個を形成する段階(S210)と、上記PBN坩堝の内部及び外部表面にPGを蒸着して上記PBN坩堝の外部表面に第1発熱層と内部表面に第1保護膜を形成する段階(S220)と、上記PBN坩堝外部表面に形成された第1発熱層に加熱に適合するなパターン(例えば、対称形パターン)を形成する段階(S230)と、上記第1発熱層と第1保護膜を電気的に絶縁させる絶縁部を形成する段階(S240)と、を含む。
又、本発明の上記側面放出型線状蒸発源製造方法は、上記PBN坩堝を覆って蒸発のための放出口が形成されたPBN蓋体を準備する段階(S250)と、上記PBN蓋体の内部及び外部表面にPGを蒸着して、上記PBN蓋体の外部表面に第2発熱層と内部表面に第2保護膜を形成する段階(S260)と、上記PBN蓋体の外部表面に形成された上記第2発熱層に加熱に適合するパターン(例えば、対称形パターン)を形成する段階(S270)と、上記第2発熱層と上記第2保護膜を電気的に絶縁させるための絶縁部を形成する段階(S280)と、を含む。
図10は、本発明の側面放出型線状蒸発源製造方法に関する第3実施例を説明する図である。
図10に示されたように、本発明の側面放出型線状蒸発源製造方法に関する第3実施例は、PBN坩堝を準備する段階(S300)と、上記PBN坩堝の外部表面にPGを蒸着して第1発熱層を形成する段階(S310)と、上記PBN坩堝外部表面に形成された上記第1発熱層に加熱に適合するパターンを形成する段階(S320)と、PBN放出部を準備する段階(S330)と、上記PBN放出部の外部表面にPGを蒸着して第2発熱層を形成する段階(S340)と、上記PBN放出部外部表面に形成された上記第2発熱層に加熱に適合するパターンを形成する段階(S350)と、上記PBN放出部の側面に所定大きさの多数個の放出口を形成する段階(S360)と、を含む。
図11は、本発明の側面放出型線状蒸発源製造方法に関する第4実施例を説明する図である。
図11に示されたように、本発明の側面放出型線状蒸発源製造方法に関する第4実施例は、PBN坩堝を準備する段階(S400)と、上記PBN坩堝の内外部表面にPGを蒸着して第1発熱層及び第1保護膜を形成する段階(S410)と、上記PBN坩堝外部表面に形成された上記第1発熱層に加熱に適合するパターンを形成する段階(S420)と、上記第1発熱層と上記第1保護膜の間に電気的に絶縁させるための絶縁部を形成する段階(S430)と、上記PBN坩堝を覆うPBN放出部を準備する段階(S440)と、上記PBN放出部の側面に放出口を形成する段階(S450)と、上記PBN放出部の内部及び外部表面にPGを蒸着して、上記PBN放出部の外部表面に第2発熱層と内部表面に第2保護膜を形成する段階(S460)と、上記PBN放出部の外部表面に形成された上記第2発熱層に加熱に適合するパターンを形成する段階(S470)と、上記第2発熱層と上記第2保護膜を電気的に絶縁させるための絶縁部を形成する段階(S480)と、を含む。
以上で説明された、本発明の側面放出型線状蒸発源及びその製造方法に関する発明の技術的範囲は、上述された実施例等に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に含まれる予測可能な多様な実施例を当然に含んでいる。例えば、上述された本発明の実施例に適用された発熱部を保護するために、第1発熱部及び第2発熱部の外部にPBNを追加に蒸着することができる。この時には電源供給用電極との連結のための部分にはPBNが蒸着されないように行う。また発熱部に用いられるPGの代りに、高温発熱が可能なタングステン(W)、モリブデン(Mo)、チタン(Ti)等の物質を用いることができる。また、上記の線状蒸発器で真空システムに熱を放出することを最小化するために線状蒸発器の外部に熱遮断膜を装着することができる。
10・・・PBN坩堝、20・・・第1発熱部、30・・・材料(試料)、40、240・・・放出口、50・・・PBN蓋体、60、220・・・第2発熱部、70・・・第1保護膜、90、270・・・第2保護膜、80、100、110・・・絶縁部、300・・・熱電対用電極、500a、500b・・・スペーサ、600・・・電源供給用電極、700a、700b・・・スプレッダー。

Claims (20)

  1. 真空蒸着システムで用いられる線状蒸発源において、
    材料を入れるための上側が開口されたPBN(pyrolytic boron nitride、熱分解窒化ホウ素)坩堝と、
    上記PBN坩堝の外部表面に蒸着され、加熱に適合なパターンが形成された第1発熱部と、
    上記PBN坩堝の側面と上記第1発熱部を貫通して形成された多数個の側面放出口を含む側面放出型線状蒸発源。
  2. 請求項1において、
    上記PBN坩堝の内部表面及び上記放出口の表面に形成された第1保護膜と、
    上記第1発熱部と上記第1保護膜を電気的に絶縁させるための絶縁部を更に含む側面放出型線状蒸発源。
  3. 請求項1において、
    上記PBN坩堝の開口部を覆うPBN蓋体と、
    上記PBN蓋体の外部表面に蒸着され、加熱に適合なパターンが形成された第2発熱部を更に含む側面放出型線状蒸発源。
  4. 請求項3において、
    上記PBN坩堝及び上記放出口の内部表面に蒸着され、上記第1発熱部と電気的に絶縁されている第1保護膜と、
    上記PBN蓋体の下側表面に蒸着され、上記第2発熱部と電気的に絶縁されている第2保護膜を更に含む側面放出型線状蒸発源。
  5. 真空蒸着システムで用いられる線状蒸発源において、
    材料を入れるためのPBN(pyrolytic boron nitride、熱分解窒化ホウ素)坩堝と、
    上記PBN坩堝の外部表面に蒸着され、加熱に適合なパターンが形成された第1発熱部と、
    PBNで構成された放出部と、
    上記PBN放出部の外部表面に蒸着され、加熱に適合なパターンが形成された第2発熱部と、
    上記PBN放出部の側面と上記第2発熱部を貫通して形成された側面放出口を含む側面放出型線状蒸発源。
  6. 請求項5において、
    上記PBN坩堝の内部表面に蒸着され、上記第1発熱部と電気的に絶縁されている第1保護膜と、
    上記PBN放出部の内部表面及び上記放出口の表面に蒸着され、上記第2発熱部と電気的に絶縁されている第2保護膜を更に含む側面放出型線状蒸発源。
  7. 請求項3ないし請求項6中の何れか一項において、
    上記第1及び第2発熱部に電流を認可する時に上記第2発熱部の温度が上記第1発熱部の温度より高く維持されるように構成されることを特徴とする側面放出型線状蒸発源。
  8. 請求項1ないし請求項6のうち何れか1項において、
    上記発熱部及び保護膜は厚さ1000ミクロメーター以下の熱分解黒鉛(PG、Pyrolytic Graphite)からなることを特徴とする側面放出型線状蒸発源。
  9. 請求項1ないし請求項6のうち何れか1項において、
    上記発熱部のパターンは対称形であることを特徴とする側面放出型線状蒸発源。
  10. 請求項1または請求項5において、
    上部と下部の蒸着速度を同じく維持するために上部放出口の間隔が下部放出口の間隔より狭いことを特徴とする側面放出型線状蒸発源。
  11. 請求項1または請求項5において、
    上部と下部の蒸着速度を同じく維持するために上部と下部の放出口の間隔を一定に維持しながら、上部放出口の大きさが下部放出口の大きさより大きいことを特徴とする側面放出型線状蒸発源。
  12. 真空蒸着システムの線状蒸発源製造方法において、
    PBN坩堝を準備する段階と、
    上記PBN坩堝の外部表面にPGを蒸着して第1発熱層を形成する段階と、
    上記PBN坩堝の側面に所定大きさの多数個の放出口を形成する段階と、
    上記PBN坩堝の外部表面に形成された上記第1発熱層に加熱に適合なパターンを形成する段階を含む側面放出型線状蒸発源製造方法。
  13. 請求項12において、
    上記PBN坩堝の上側開口部を覆うためのPBN蓋体を準備する段階と、
    上記PBN蓋体の外部表面にPGを蒸着して第2発熱層を形成する段階と、
    上記PBN蓋体の外部表面に形成された第2発熱層に加熱に適合なパターンを形成する段階を更に含む側面放出型線状蒸発源製造方法。
  14. 真空蒸着システムの線状蒸発源製造方法において、
    PBN坩堝を準備する段階と、
    上記PBN坩堝の側面に所定大きさの多数個の放出口を形成する段階と、
    上記PBN坩堝の内部及び外部表面にPGを蒸着して上記PBN坩堝の外部表面に第1発熱層と内部表面に第1保護膜を形成する段階と、
    上記PBN坩堝外部表面に形成された第1発熱層に加熱に適合なパターンを形成する段階と、
    上記第1発熱層と第1保護膜を電気的に絶縁させる絶縁部を形成する段階を含む側面放出型線状蒸発源製造方法。
  15. 請求項14において、
    上記PBN坩堝を覆い、蒸発のための放出口が形成されたPBN蓋体を準備する段階と、
    上記PBN蓋体の内部及び外部表面にPGを蒸着して上記PBN蓋体の外部表面に第2発熱層と内部表面に第2保護膜を形成する段階と、
    上記PBN蓋体の外部表面に形成された上記第2発熱層に加熱に適合なパターンを形成する段階と、
    上記第2発熱層と上記第2保護膜を電気的に絶縁させるための絶縁部を形成する段階を更に含む側面放出型線状蒸発源製造方法。
  16. 真空蒸着システムの線状蒸発源製造方法において、
    PBN坩堝を準備する段階と、
    上記PBN坩堝の外部表面にPGを蒸着して第1発熱層を形成する段階と、
    上記PBN坩堝の外部表面に形成された上記第1発熱層に加熱に適合なパターンを形成する段階と、
    PBN放出部を準備する段階と、
    上記PBN放出部の外部表面にPGを蒸着して第2発熱層を形成する段階と、
    上記PBN放出部の外部表面に形成された上記第2発熱層に加熱に適合なパターンを形成する段階と、
    上記PBN放出部の側面に所定大きさの放出口を形成する段階を含む側面放出型線状蒸発源製造方法。
  17. 請求項16において、
    上記PBN放出部の内部及び外部表面にPGを蒸着して上記PBN放出部の外部表面に第2発熱層と内部表面に第2保護膜を形成する段階と、
    上記PBN放出部の外部表面に形成された上記第2発熱層に加熱に適合なパターンを形成する段階と、
    上記第2発熱層と上記第2保護膜を電気的に絶縁させるための絶縁部を形成する段階を更に含む側面放出型線状蒸発源製造方法。
  18. 請求項1ないし請求項11記載の側面放出型線状蒸発源の中何れか1つを含む線状蒸発器。
  19. 請求項18において、
    上記線状蒸発器は、真空フランジ及び電源供給用電極を含み、上記電源供給用電極を支持台にして、上記線状蒸発源が上記真空フランジに装着されることを特徴とする線状蒸発器。
  20. 請求項19において、
    上記電源供給用電極は、上記PBN坩堝に形成された側面放出口から所定距離離れた位置に配置されることを特徴とする線状蒸発器。
JP2013514091A 2010-06-10 2010-07-30 側面放出型線状蒸発源、その製造方法及び線状蒸発器 Expired - Fee Related JP5732531B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2010-0054881 2010-06-10
KR1020100054881A KR101265067B1 (ko) 2010-06-10 2010-06-10 측면 방출형 선형증발원, 그 제작 방법 및 선형증발기
PCT/KR2010/005031 WO2011155661A1 (en) 2010-06-10 2010-07-30 Linear effusion cell, method of manufacturing the same and evaporator using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013529258A true JP2013529258A (ja) 2013-07-18
JP5732531B2 JP5732531B2 (ja) 2015-06-10

Family

ID=45098249

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013514091A Expired - Fee Related JP5732531B2 (ja) 2010-06-10 2010-07-30 側面放出型線状蒸発源、その製造方法及び線状蒸発器

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5732531B2 (ja)
KR (1) KR101265067B1 (ja)
WO (1) WO2011155661A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018513910A (ja) * 2015-07-13 2018-05-31 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 蒸発源
JP2018109240A (ja) * 2018-02-26 2018-07-12 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 蒸発源

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101327732B1 (ko) 2011-12-15 2013-11-11 현대자동차주식회사 차량용 열전 발전기
KR102285421B1 (ko) 2015-01-26 2021-08-04 주식회사 만도 코일조립체

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1053868A (ja) * 1996-08-07 1998-02-24 Kao Corp 薄膜形成装置
JP2004197116A (ja) * 2002-12-16 2004-07-15 Ge Speciality Materials Japan Kk 電子ビーム蒸着用ハースライナー
JP2006152441A (ja) * 2004-12-01 2006-06-15 Samsung Sdi Co Ltd 蒸着ソースおよびそれを備えた蒸着装置
KR20060084042A (ko) * 2005-01-17 2006-07-21 삼성에스디아이 주식회사 증발원, 증착장치 및 이를 이용한 증착방법
JP2008001587A (ja) * 2006-06-20 2008-01-10 Momentive Performance Materials Inc 複数片のセラミックスるつぼおよびその製造方法
WO2010019200A1 (en) * 2008-08-12 2010-02-18 Momentive Performance Materials Inc. Evaporator

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0585888A (ja) * 1991-09-24 1993-04-06 Nec Corp 分子線発生装置
KR100889758B1 (ko) * 2002-09-03 2009-03-20 삼성모바일디스플레이주식회사 유기박막 형성장치의 가열용기
DE10256038A1 (de) * 2002-11-30 2004-06-17 Applied Films Gmbh & Co. Kg Bedampfungsvorrichtung
EP1752555A1 (de) * 2005-07-28 2007-02-14 Applied Materials GmbH & Co. KG Verdampfervorrichtung

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1053868A (ja) * 1996-08-07 1998-02-24 Kao Corp 薄膜形成装置
JP2004197116A (ja) * 2002-12-16 2004-07-15 Ge Speciality Materials Japan Kk 電子ビーム蒸着用ハースライナー
JP2006152441A (ja) * 2004-12-01 2006-06-15 Samsung Sdi Co Ltd 蒸着ソースおよびそれを備えた蒸着装置
KR20060084042A (ko) * 2005-01-17 2006-07-21 삼성에스디아이 주식회사 증발원, 증착장치 및 이를 이용한 증착방법
JP2008001587A (ja) * 2006-06-20 2008-01-10 Momentive Performance Materials Inc 複数片のセラミックスるつぼおよびその製造方法
WO2010019200A1 (en) * 2008-08-12 2010-02-18 Momentive Performance Materials Inc. Evaporator

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018513910A (ja) * 2015-07-13 2018-05-31 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 蒸発源
TWI686490B (zh) * 2015-07-13 2020-03-01 美商應用材料股份有限公司 蒸發源、具有蒸發源之一蒸發源陣列、操作蒸發源陣列之方法、及操作蒸發源之方法
JP2018109240A (ja) * 2018-02-26 2018-07-12 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 蒸発源

Also Published As

Publication number Publication date
KR101265067B1 (ko) 2013-05-16
WO2011155661A1 (en) 2011-12-15
JP5732531B2 (ja) 2015-06-10
KR20110135138A (ko) 2011-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101263005B1 (ko) 증착 장치 및 방법
KR100805531B1 (ko) 증발원
KR100823508B1 (ko) 증발원 및 이를 구비한 증착 장치
KR100951493B1 (ko) 진공 박막 증착용 분자빔 에피탁시 발사셀과 방법
KR101671489B1 (ko) 유기물 증발원 및 그를 포함하는 증착 장치
US20060169211A1 (en) Vapor deposition source and vapor deposition apparatus having the same
JP5732531B2 (ja) 側面放出型線状蒸発源、その製造方法及び線状蒸発器
KR20060109561A (ko) 증발원 및 이를 채용한 증착장치
KR20040110718A (ko) 유기 발광소자 박막 제작을 위한 선형 노즐 증발원
KR101084333B1 (ko) 유기전계발광 디스플레이 패널 제조용 증발원 및 이를 포함하는 증착장치
TW200532037A (en) Vapor deposition source with minimized condensation effects
TW200846483A (en) Evaporation tube evaporation apparatus with adapted evaporation characteristic
TW201033400A (en) Vacuum deposition sources having heated effusion orifices
TW201317374A (zh) 真空蒸鍍裝置
KR101153934B1 (ko) 발열부 일체형 진공 박막 증착용 분자빔 증발원, 그 제작 방법 및 증발기
KR20090015324A (ko) 금속성 박막 증착용 선형 하향식 고온 증발원
KR100830302B1 (ko) 증발원
CN114182208B (zh) 蒸镀源及蒸镀设备
KR101772621B1 (ko) 하향식 증발기 및 하향식 증발 증착 장치
KR20090047630A (ko) 증발원
KR101128474B1 (ko) 측면 방출형 분자빔 증발원, 그 제작 방법 및 증발기
JP2014181387A (ja) 蒸発源及びその蒸発源を用いた真空蒸着装置
JP2013067845A (ja) 蒸着材料加熱装置、蒸着装置、蒸着方法、基板
KR101225318B1 (ko) 하이브리드 가열방식 증발원
KR101632303B1 (ko) 하향식 증발 증착 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131205

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140128

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20140421

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20140428

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20140527

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20140603

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20140626

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20140703

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140728

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140826

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20141225

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20150223

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150317

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150413

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5732531

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees