JP2013248551A - 塗布装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】反りやうねりのある基板上に、コート液を容易に且つ精度よく均一に塗布することを目的とする。
【解決手段】基板103上に供給されたコート液104をバー109で引伸ばす際に、基板103を押圧する手段116を設け、引伸ばす領域の基板103の形状を制御することにより、反りや凹凸のある大型基板103上に、コート液104を容易に且つ精度よく均一塗布することができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、基板上にコート液を塗布する塗布装置に関する。
半導体ウエハやディスプレーデバイスなど電子機器に用いる基板上にコート液を精度よく均一に塗布するための方法としては、従来からバーコートによる方法やダイコート法やロールコート法などがあった。
バーコートによる方法は基板上に塗布した塗布液をバーコータにて所定膜厚に引き伸ばす方法である。ダイコート法は一定量のコート液を塗出するダイノズル先端部と塗布する基板との間で塗布膜厚を確保する方法である。ロールコート法はロール面に所定の塗布膜層を形成して基板に転写する方法である。いずれの方法もバーコータやダイノズルやロールと基板を密着させるか一定のギャップを維持することで塗布膜厚精度を確保している。反りやうねりのある基板に対して塗布膜厚精度を確保するためには、基板を基板裏面に設置された変形の少ない石定盤等の剛体に吸着させたり、基板上面から基板を剛体に押し付けたりする方法が用いられていた。
基板上にコート液を精度よく均一に塗布する方法として、特許文献1に示されたバーコータを備えた塗布装置や特許文献2に示すようなダイノズルを用いたダイコート法が提案されている。
図7は従来のバーコータを備える塗布装置を示す斜視図であり、特許文献1に示すバーコータを備えた塗布装置を示す。図7において301は両端を支持アーム302にて支持されて基板303に近づく方向と離れる方向に移動可能となっているバーコータである。304は旋回アーム305に取り付けられアーム部材水平部306を介してアーム部材垂直部307からバーコータ301に垂直荷重をかける重りである。
バーコータ301を介して基板303に重り304で所定の荷重を掛けながら、基板303を矢印A方向に移動させることによりコート液308を基板303の全体引伸ばして塗布する。308はバーコータ301によって基板303の幅方向全体に塗布されたコート液である。このように、重り304でバーコータ301に垂直荷重をかけることで、基板303の反りやうねりを緩和しながらコート液を引伸ばすことにより、塗布膜厚精度を確保している。
図8は従来のダイコート法による塗布装置を示す断面図であり、特許文献2に示すダイコート法による塗布装置を示す。401は内部の液溜まり402からスリット403を通じて基板404に対向する先端部405から基板404にコート液を液供給するダイノズルであり、先端部405と基板404とのギャップで塗布膜厚を確保している。また、407は基板404に均一膜厚で塗布された塗布膜である。
反りやうねりが大きい基板に対しては基板404の裏面に変形の少ない石定盤等の剛性体406を設置し、裏面の吸着パッド408から真空吸着等の手段で基板404を剛性体406に吸着することで先端部405と基板404とのギャップで塗布膜厚を確保している。409はコート液のタンク、410はタンクからダイ内部の液溜りにコート液を供給するポンプである。
実開昭62−183586号公報 特開平8−243476号公報
しかしながら、特許文献1のバーコータを備えた塗布装置で、反りや凹凸が大きい基板303上にコート液308を塗布する際、両端でしか保持されていないバーコータ301では基板303を搬送した場合にバーコータ301が振動しコート液308を精度よく均一に塗布することができなかった。
また、特許文献2のダイコート法では基板404を裏面の剛性体406に沿わせるための吸着用パッド408と吸着パッド408と真空ポンプ412をつなぐ排気孔411が必要となり、複雑な構造の装置になりコストアップの要因になっていた。
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、反りやうねりのある基板上に、コート液を容易に且つ精度よく均一に塗布することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記基板上にコート液を供給する供給部と、前記基板の外縁両部を前記ステージに押圧する一対のローラと、前記基板上を一定方向に移動すると共に、前記一定方向に相前後して設けられる前記一対のローラの間に設けられて前記コート液を引伸ばすバーとを有することを特徴とする。
また、前記ステージと前記基板との間で前記バーの下部を前記バーの相対移動に応じて移動する受圧部をさらに備えても良い。
また、基板を載置するステージと、前記基板上にコート液を供給する供給部と、前記基板上を一定方向に移動して前記コート液を引伸ばすバーと、前記基板の前記移動方向の一方の端部を前記ステージに押圧する第1の押圧バーと、前記基板の他方の端部を前記ステージに押圧する第2の押圧バーと、前記ステージ上で前記基板の下部に配置される前記第1の押圧バーと平行な棒状の固定受圧部とから構成されることを特徴とする。
また、前記固定受圧部が始端受圧部と終端受圧部とからなることが好ましい。
また、前記始端受圧部が前記基板の一方の端部から前記基板の移動方向の長さの15%以上25%以内の位置に設けられ、前記終端受圧部が前記基板の他方の端部から前記基板の移動方向の長さの15%以上25%以内の位置に設けられることが好ましい。
また、前記始端受圧部および前記終端受圧部の前記ステージからの最大高さが前記基板の移動方向の長さの0.8%以上1.2%以内であることが好ましい。
また、前記固定受圧部として、前記始端受圧部と前記終端受圧部との間に、前記始端受圧部および前記終端受圧部より前記ステージからの最大高さが高い1または複数の中央受圧部をさらに有しても良い。
また、前記固定受圧部が、前記第1の押圧バーおよび前記第2の押圧バーの間で前記ステージ上に設けられる1つの中央受圧部であっても良い。
以上のように、基板上に供給されたコート液をバーで引伸ばす際に、基板を押圧する手段を設けることで、反りや凹凸のある大型基板上に、コート液を容易に且つ精度よく均一塗布することができる。
実施の形態1における塗布装置を示す斜視図 実施の形態1における塗布装置を示す断面図 実施の形態1における基板の一部を曲面にしながらコート液を引伸ばす塗布装置の構成を示す要部拡大図 実施の形態2における塗布装置を示す斜視図 実施の形態2における塗布装置を示す断面図 実施の形態2における受圧部の構成例を示す図 従来のバーコータを備える塗布装置を示す斜視図 従来のダイコート法による塗布装置を示す断面図
本発明は、太陽電池やディスプレーデバイスなどのガラス基板や半導体用Si基板にフィルム基板などコート液の塗布を行う塗布装置である。本発明の塗布装置は、コート液を基板上に供給する供給部と、供給されたコート液を基板上に引伸ばすバーと、基板の少なくともバーが接する部分とその近傍の形状を所定の形状に変形させる変形部とからなる。変形部は、バーの接する部分とその周辺の基板の形状を平坦にしたり、基板全体あるいはバーの接する部分とその周辺の基板の形状を所定の曲面形状に変形させたりするものである。この状態で、バーによりコート液を引伸ばす。このように基板の形状を制御しながらコート液を引伸ばすことにより、反りや凹凸のある大型基板上に、コート液を容易に且つ精度よく均一に安価で塗布することができる。
以下本発明の実施の形態の例について、図面を参照しながら説明する。
(実施の形態1)
まず、実施の形態1における塗布装置について、図1〜図3を用いて説明する。
図1は実施の形態1における塗布装置を示す斜視図、図2は実施の形態1における塗布装置を示す断面図である。
図1,図2において、102は基板103を保持,搬送するステージである。101はテージ102に設置された基板103上にコート液104を基板103の幅方向に必要な量だけ供給する供給部である。本実施の形態1では、供給部101としてシリンジ105の先端に供給針106を取付けたディスペンサーを用いる例を示す。
コート液104の供給部101はボールネジ108に連結されており、基板103の幅方向に移動させることによりコート液104を余すことなく基板103上に塗布できる。ボールネジ108は上下動することができる支持部材107に両端が保持されている。109は基板103上の幅方向のコート液104を所定の膜厚で基板103の始端110から終端111に引伸ばすバーであり、複数のチャック112で保持されている。
複数のチャック112は、昇降手段であるバーヘッド113に保持されており、基板103の表面に対して垂直方向の動作が可能である。また、それぞれのチャック112に独立して設けられた加圧手段により、バー109を基板103側に加圧することができる構造である。本実施の形態1では40mmのピッチで設けられた10個のチャック112で幅400mmのバー109を保持している。加圧手段としては、例えば、圧縮バネ(図示せず)を用いることができる。バーヘッド113の上下動作手段としてエアシリンダ114を取り付けている。116はブラケット117に支持されており、バー109の移動方向の前後で且つ基板103の幅方向に供給されたコート液104の外側115を押圧するローラである。ローラ116が変形部として機能する。このローラ116により、凹凸のある基板103をバー109の前後の領域においてステージ102に沿わせることができる。
実施の形態1における塗布動作は、まず、ステージ102上に基板103をセットする。次に、基板103と供給部101とを相対的に一定方向に搬送しながら、基板103にコート液104を供給部101であるディスペンサーで基板103の幅方向に塗布する。次に、バー109の前後の基板103をローラ116で押圧しながら、バー109でコート液104を引伸ばす。このように、基板103上に塗布されたコート液104の外側で且つバー109の前後の基板103上面をローラ116でステージ102側に押圧することにより、凹凸のある基板103をステージ102に沿わせ、バー109を基板103に隙間なく押圧して接触させることができるので、反りや凹凸が大きく且つ大型の基板103上に、容易にコート液104を精度よく塗布できる。
図2は図1のA−A’断面を示す図で、図2(a)は始端110付近における塗布動作を示している。始端110付近において、基板103はバー109の前後をローラ116でステージ102に押圧されることにより、ステージ102側に沿っている。このため、バー109を基板103に隙間なく押圧して接触させた状態で、供給部101であるディスペンサーの先端に設けられた供給針106から、間欠動作で基板103の幅方向に塗布されたコート液104を、精度よく基板103上に所定の膜厚の塗布膜119として拡げることができている。バー109とローラ116と供給手段101であるディスペンサーは相対的に同じ位置関係を保ちながら、基板103上を中央部118付近を通って終端111まで相対的に移動する。
図2(b)は中央部118付近における塗布動作を示している。中央部118付近においても基板103のバー109の前後をローラ116でステージ102に押圧して基板103をステージ側に沿わせている。このため、バー109を基板103に隙間なく押圧して接触させた状態で、コート液104を精度よく基板103上に拡げることができている。終端111まで同様に基板103のバー109の前後をローラ116でステージ102に押圧して基板103をステージ102側に沿わせることで、基板103全体に渡ってコート液を精度よく塗布できる。
以上の説明では、基板のバーが接する部分およびその周辺を平坦にすることにより、膜厚を高精度に調整しているが、平坦に限らず、基板のバーが接する部分およびその周辺の面が所定の曲率の面となるように制御しても良い。図3を用いて説明する。
図3は実施の形態1における基板の一部を曲面にしながらコート液を引伸ばす塗布装置の構成を示す要部拡大図であり、図3(a)は要部断面図、図3(b)は要部平面図である。
図3に示すように、図2に示した構成と異なる点は、バー109の下部でステージ102上に受圧部120を設ける点である。受圧部120を設けることにより、バー109の下部では基板103が受圧部120の上に載置され、バー109の周辺部分ではローラ116により基板103がステージ102に押圧される。このことにより、基板103がバー109と接する部分で突出する曲面に変形され、基板103の反りや凹凸が吸収される。この状態で、バー109によりコート液104が引伸ばされるので、容易に膜厚が精度良く均一に調整された薄膜を形成することができる。なお、受圧部120はブラケット117に接続され、ローラ116と共に、バー109の移動に従って移動する。受圧部120は断面形状が円形や矩形等任意の形状の棒状である。受圧部120の断面直径等のステージ102からの高さは、基板103に形成する曲面の曲率に応じて設定する。また、曲率は、基板103の反りや凹凸に応じて決定する。
本発明の実施の形態1では供給部としてのディスペンサーとバーを用いたが、スリットコータやロールコータを用いても、スリットコータやロールコータの前後の基板をローラで押圧しながら、スリットコータやロールコータを基板と相対移動させることにより、同様の効果が得られる。
(実施の形態2)
次に、実施の形態2における塗布装置について、図4〜図6を用いて説明する。
図4は実施の形態2における塗布装置を示す斜視図、図5は実施の形態2における塗布装置を示す断面図である。また、図6は実施の形態2における受圧部の構成例を示す図である。
図4,図5において、201は、搬送する手段であるステージ202に設置された基板203上に、コート液204を基板203の幅方向に必要な量だけ供給する供給部である。本実施の形態2では、供給部201としてシリンジ205の先端に供給針206を取付けたディスペンサーを用いている。
コート液204の供給部201はボールネジ208に連結されており、基板203の幅方向に移動させることによりコート液204を余すことなく基板203上に塗布できる。ボールネジ208は上下動することができる支持部材207に両端が保持されている。209は基板203上の幅方向のコート液204を所定の膜厚で基板203の始端210から終端211に引伸ばすバーであり、複数のチャック212で保持されている。複数のチャック212は昇降手段であるバーヘッド213により垂直方向の動作が可能になるように保持される。また、それぞれのチャック212に独立して設けられた加圧手段により、バー209を基板203側に加圧することができる構造である。
本実施の形態2では、40mmのピッチで設けられた10個のチャック212で幅400mmのバー209を保持している。加圧手段としては、例えば、圧縮バネ(図示せず)を用いることができる。バーヘッド213の上下動作手段としてエアシリンダ214を取り付けており、常にバー209を基板203に押しつけてコート液204を基板203上に引伸ばしている。215は基板203上に均一な厚みで引伸ばされたコート液である。
216は、基板203の始端部において、引伸ばしたコート液215の外側部で基板203をステージ202側に押圧する始端押圧バーである。始端押圧バー216は始端押圧ブラケット217に支持されて基板203を押圧している。218は、基板203の終端211の外側部において、基板203をステージ202側に押圧する終端押圧バーであり、終端押圧ブラケット219に支持されて基板203を押圧している。
220は基板始端から基板長さLの15%以上25%以内の位置のステージ202上に配置される、直径あるいはステージ202からの基板203表面に垂直方向の高さが基板長さLの0.8%以上1.2%以内の始端受圧部である。221は基板終端から基板長さLの15%以上25%以内の位置のステージ202上に配置される、直径あるいは基板203表面に垂直方向の高さが基板長さLの0.8%以上1.2%以内の終端受圧部である。始端受圧部220および終端受圧部221は、1本の、あるいは複数本に分割された棒状の受圧部で、断面形状は円形や矩形等任意である。
本発明の実施の形態2では、長さが800mmで厚みが3mmのガラス基板を用いて、基板203長さLの20%の位置である始端から160mmの位置に基板203の長さLの1%である8mmの高さの始端受圧部220を、終端から160mmの位置に基板203の長さLの1%である8mmの高さの終端受圧部221を配置している。基板203始端を始端押圧バー216で基板203終端を終端押圧バー218で押圧することにより、基板203をステージ202側に押圧し、始端受圧部220と終端受圧部221により、ステージ202側から基板203を押圧することにより、始端受圧部220から終端受圧部221の間で基板203に一定のモーメントをかけて凸形状を持った円弧状曲面に基板203を変形させることができる。
上記構成例により、始端受圧部220と終端受圧部221間で半径Rが30mの円弧に変形させている。このことにより、基板203の幅方向の反りが解消される。基板203上で幅方向に塗布されたコート液204を、バー209をエアシリンダ214で基板203の制御された円弧形状に沿って上下させることにより、始端から終端まで均一に引伸ばすことができ、不規則な反りや凹凸にバー209を沿わせる場合に比べて、容易に精度良く均一に薄膜を形成することができる。始端受圧部220と終端受圧部221の位置が基板203長さLの15%より小さい場合は始端受圧部220から終端受圧部221の間で基板203にかけるモーメントが小さくなり円弧の半径が大きくなる。
このため基板の幅方向の反りが解消できない。また、始端受圧部220と終端受圧部221の位置が基板長さLの25%より大きくなった場合、始端受圧部220から終端受圧部221の間の距離が基板長さLの半分以下となり、始端受圧部220から始端までの間、及び終端受圧部221から終端までの間で円弧の半径が大きくなりこの間での基板203の幅方向の反りが解消できない。
実施の形態2における塗布動作は、まず、ステージ202上で始端を始端押圧バー216で終端を終端押圧バー218で押圧すると共に、始端受圧部220と終端受圧部221間で凸形状を持った円弧状の曲面に基板203を変形させて幅方向の反りを解消する。この状態で、基板203上にコート液204を供給部201の一例としてのディスペンサーで基板203の幅方向に塗布し、バー209をエアシリンダ214で基板203の円弧に沿って上下させる。このように、基板203の反りを解消して円弧状にしながら、コート液204をバー209で引伸ばすことで、バー209を基板203に隙間なく押圧して接触させることができ、反りや凹凸が大きく且つ大型の基板203上にコート液204を精度よく塗布できる。
図5は図4のB−B’断面を示す図で、図5(a)は始端210付近における塗布動作を示している。塗布動作の前に基板203をステージ202上に設置された始端受圧部220と終端受圧部221上にセットし、始端210上面を始端押圧バー216で、終端211上面を終端押圧バー218でステージ202側に押圧することにより、始端受圧部220と終端受圧部221間で凸形状を持った円弧形状の曲面に基板203を変形させる。バーヘッド213を基板203の円弧に沿って上下動させることで、バー209を始端210付近から終端211付近まで常に基板203に接触することが可能となる。図5(b)はバー209を始端210付近から終端211に向けて基板203の円弧に沿って移動させた図で、供給部201の一例としてのディスペンサー先端の供給針206から間欠動作で基板203の幅方向(図面の奥行き方向)に塗布されたコート液204を精度よく基板203上に所定の膜厚のコート液215からなる塗布膜として拡げることができる。
さらに、終端211付近までバー209を始端210付近から終端211に向けて基板203の円弧に沿って移動させることで、基板203全体にわたり所定の膜厚の塗布膜を形成することが可能となる。
以上の説明では、受圧部として始端受圧部および終端受圧部の2つを用いる場合を例に説明したが、受圧部の数は1以上で任意である。基板の曲率あるいは基板の弾性に応じて最適な数、大きさ、あるいは断面形状の受圧部を設けることができる。
図6(a)に示すように、1つの受圧部222を基板203の中央付近に配置することもできる。また、図6(b)に示すように、始端受圧部220,終端受圧部221に加えて、1つの受圧部222を基板203の中央付近に設けることもできる。この時、受圧部222のステージ202からの高さを始端受圧部220,終端受圧部221の高さより高くする。さらに、図6(c)に示すように、始端受圧部220,終端受圧部221に加えて、複数の受圧部222を始端受圧部220と終端受圧部221との間に設けることもできる。この時、受圧部222のステージ202からの高さを始端受圧部220,終端受圧部221の高さより高くする。
本発明の実施の形態2では供給部としてのディスペンサーとバーを用いたが、スリットコータやロールコータを用いても同様の効果が得られる。
本発明は、反りや凹凸のある大型基板上に、コート液を容易に且つ精度よく均一に塗布することができ、基板上にコート液を塗布する塗布装置等に有用である。
101 供給部
102 ステージ
103 基板
104 コート液
105 シリンジ
106 供給針
107 指示部材
108 ボールネジ
109 バー
110 始端
111 終端
112 チャック
113 バーヘッド
114 エアシリンダ
115 外側
116 ローラ
117 ブラケット
118 中央部
119 塗布膜
120 受圧部
201 供給部
202 ステージ
203 基板
204 コート液
205 シリンジ
206 供給針
207 指示部材
208 ボールネジ
209 バー
210 始端
211 終端
212 チャック
213 バーヘッド
214 エアシリンダ
215 コート液
216 始端押圧バー
217 始端押圧ブラケット
218 終端押圧バー
219 終端押圧ブラケット
220 始端受圧部
221 終端受圧部
222 受圧部

Claims (8)

  1. 基板を載置するステージと、
    前記基板上にコート液を供給する供給部と、
    前記基板の外縁両部を前記ステージに押圧する一対のローラと、
    前記基板上を一定方向に移動すると共に、前記一定方向に相前後して設けられる前記一対のローラの間に設けられて前記コート液を引伸ばすバーと
    を有することを特徴とする塗布装置。
  2. 前記ステージと前記基板との間で前記バーの下部を前記バーの相対移動に応じて移動する受圧部をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の塗布装置。
  3. 基板を載置するステージと、
    前記基板上にコート液を供給する供給部と、
    前記基板上を一定方向に移動して前記コート液を引伸ばすバーと、
    前記基板の前記移動方向の一方の端部を前記ステージに押圧する第1の押圧バーと、
    前記基板の他方の端部を前記ステージに押圧する第2の押圧バーと、
    前記ステージ上で前記基板の下部に配置される前記第1の押圧バーと平行な棒状の固定受圧部と
    から構成されることを特徴とする塗布装置。
  4. 前記固定受圧部が始端受圧部と終端受圧部とからなることを特徴とする請求項3記載の塗布装置。
  5. 前記始端受圧部が前記基板の一方の端部から前記基板の移動方向の長さの15%以上25%以内の位置に設けられ、前記終端受圧部が前記基板の他方の端部から前記基板の移動方向の長さの15%以上25%以内の位置に設けられることを特徴とする請求項4記載の塗布装置。
  6. 前記始端受圧部および前記終端受圧部の前記ステージからの最大高さが前記基板の移動方向の長さの0.8%以上1.2%以内であることを特徴とする請求項5記載の塗布装置。
  7. 前記固定受圧部として、前記始端受圧部と前記終端受圧部との間に、前記始端受圧部および前記終端受圧部より前記ステージからの最大高さが高い1または複数の中央受圧部をさらに有することを特徴とする請求項6記載の塗布装置。
  8. 前記固定受圧部が、前記第1の押圧バーおよび前記第2の押圧バーの間で前記ステージ上に設けられる1つの中央受圧部であることを特徴とする請求項3記載の塗布装置。
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