JP2013238423A - Manufacturing method of watch component, watch component and watch - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、時計部品の製造方法、時計部品及び時計に関するものである。 The present invention relates to a timepiece part manufacturing method, a timepiece part, and a timepiece.
従来から、時計の輪列を構成する歯車は、この歯車を軸支する回転軸の端部に形成されているほぞが、地板や輪列受に設けられている軸受部に回転自在に支持されるように取り付けられている。
ここで、軸受としては、地板や輪列受にルビー等からなる穴石を圧入し、この穴石にほぞを回転自在に支持可能な孔を形成しているものがある。このような軸受は、地板や輪列受に穴石を圧入する際に石割れが生じるおそれがある。また、地板や輪列受と、穴石とが別体であるので、穴石に形成されている孔の位置精度を高めにくい。さらに、穴石の圧入に耐え得るだけの板厚やスペースを確保する必要があるので、地板や輪列受が大型化してしまう。
Conventionally, in a gear constituting a train wheel of a watch, a tenon formed at an end portion of a rotating shaft that supports the gear is rotatably supported by a bearing portion provided on a main plate or a train wheel bridge. It is attached so that.
Here, as a bearing, there is a bearing in which a hole made of ruby or the like is press-fitted into a main plate or a train wheel bridge, and a hole capable of rotatably supporting a tenon is formed in the hole. In such a bearing, there is a possibility that stone cracking may occur when the hole stone is press-fitted into the main plate or the train wheel bridge. Moreover, since the main plate, the train wheel bridge, and the hole stone are separate, it is difficult to increase the positional accuracy of the holes formed in the hole stone. Furthermore, since it is necessary to secure a plate thickness and a space that can withstand the press-fitting of hole stones, the base plate and the train wheel bridge are enlarged.
このため、地板や輪列受をシリコンベース材料により形成し、これら地板や輪列受に等方性エッチングや異方性エッチングを施してほぞを回転自在に支持可能な孔を形成する技術が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
これによれば、地板や輪列受と軸受とを一体に形成することができ、上述のように穴石を地板に圧入することもなくなる。また、シリコンベース材料により地板や輪列受を形成するので、これら地板や輪列受の剛性を高めることができる。このため、穴石の石割れ等を考慮する必要がなくなり、且つ地板や輪列受の剛性を高めることができる分、これら地板や輪列受の小型化を図ることが可能になる。
For this reason, a technology is disclosed in which the base plate and the train wheel bridge are formed of a silicon base material, and the base plate and the train wheel bridge are subjected to isotropic etching or anisotropic etching to form a hole capable of rotatably supporting the tenon. (For example, refer to Patent Document 1).
According to this, the main plate, the train wheel bridge and the bearing can be formed integrally, and the hole stone is not press-fitted into the main plate as described above. Moreover, since the base plate and the train wheel bridge are formed of the silicon base material, the rigidity of the base plate and the train wheel bridge can be increased. For this reason, it is not necessary to consider the cracking of hole stones and the like, and since the rigidity of the main plate and the train wheel bridge can be increased, it is possible to reduce the size of the main plate and the train wheel bridge.
ところで、軸受の孔は、オリーブ(又はオリーベ等ともいう場合がある)形状にすることが好ましい。ここで、オリーブ形状とは、この断面形状が湾曲状になっているものをいう。すなわち、例えば孔の場合、この孔の両端周縁(角)が直孔の場合と比較して、オリーブ孔の方が鋭くない形状になっている。このように構成することで、孔とほぞとの接触面積を極力小さくすることができ、ほぞの摺動摩擦抵抗を減少させることができる。 By the way, it is preferable that the bearing hole has an olive (or sometimes referred to as an olive) shape. Here, the olive shape means that the cross-sectional shape is curved. That is, for example, in the case of a hole, the olive hole has a shape that is not sharper than the case where the peripheral edges (corners) of both ends of the hole are straight holes. By comprising in this way, the contact area of a hole and a tenon can be made as small as possible, and the sliding frictional resistance of a tenon can be reduced.
しかしながら、上述の従来技術にあっては、孔をオリーブ形状とする場合、地板や輪列受に等方性エッチングを施す必要がある。等方性エッチングは、エッチング量のコントロールが難しく、孔を高精度に形成することが困難である。このため、軸受の製造歩留まりが悪化してしまうという課題がある。 However, in the above-described prior art, when the hole has an olive shape, it is necessary to perform isotropic etching on the main plate and the train wheel bridge. In isotropic etching, it is difficult to control the etching amount, and it is difficult to form holes with high accuracy. For this reason, there exists a subject that the manufacture yield of a bearing will deteriorate.
そこで、この発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって、容易、且つ高精度に軸受の孔を形成することができ、製造歩留まりのよい時計部品の製造方法、時計部品及び時計を提供するものである。 Therefore, the present invention has been made in view of the above-described circumstances, and is capable of forming a bearing hole easily and with high precision, and a timepiece component manufacturing method, a timepiece component, and a timepiece having a high manufacturing yield. It is to provide.
上記の課題を解決するために、本発明に係る時計部品の製造方法は、基体に軸の端部を回転自在に支持するための孔を形成するための時計部品の製造方法において、基体上にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、グレースケールマスクを用いて前記フォトレジスト膜を露光して現像することにより、このフォトレジスト膜に前記孔に対応する開口部が形成されると共に、この開口部の周縁に湾曲状に切除されたレジスト丸面取り部が形成されてなるレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターンをマスクとして前記基体をエッチングし、前記基体に前記孔を形成すると共に、この孔の軸方向両端の少なくとも一方に、湾曲状に切除された基体丸面取り部を形成する基体形成工程とを有することを特徴とする。
このような方法とすることで、基体に等方性エッチングを施すことなく、オリーブ形状の孔を高精度に形成することができ、製造歩留まりを向上させることができる。
In order to solve the above-described problems, a watch part manufacturing method according to the present invention includes a watch part manufacturing method for forming a hole for rotatably supporting an end of a shaft in a base. A photoresist film forming step for forming a photoresist film, and exposing and developing the photoresist film using a gray scale mask, an opening corresponding to the hole is formed in the photoresist film, and A resist pattern forming step for forming a resist pattern in which a resist round chamfered portion cut in a curved shape is formed at the periphery of the opening, the substrate is etched using the resist pattern as a mask, and the holes are formed in the substrate. And a substrate forming step for forming a rounded chamfered portion of the substrate that is cut out in a curved shape at at least one of the axial ends of the hole. And wherein the Rukoto.
By adopting such a method, an olive-shaped hole can be formed with high accuracy without subjecting the substrate to isotropic etching, and the manufacturing yield can be improved.
本発明に係る時計部品の製造方法は、前記孔の軸方向両端に、それぞれ前記基体丸面取り部を形成したことを特徴とする。
このような方法とすることで、孔の内周面と軸の端部との接触面積を最小限に抑えることができ、軸の摺動摩擦抵抗を確実に減少させることができる。
The method for manufacturing a timepiece component according to the present invention is characterized in that the round base chamfered portions are formed at both ends of the hole in the axial direction.
By adopting such a method, the contact area between the inner peripheral surface of the hole and the end of the shaft can be minimized, and the sliding frictional resistance of the shaft can be reliably reduced.
本発明に係る時計部品の製造方法は、前記レジストパターン形成工程において、前記グレースケールマスクを用いて前記フォトレジスト膜を露光して現像することにより、このフォトレジスト膜の前記開口部の周囲にレジスト凹部を形成し、前記基体形成工程において、前記基体の前記レジスト凹部に対応する部位に、潤滑油を受ける基体凹部を形成したことを特徴とする。
このような方法とすることで、オリーブ形状の凹部を高精度に形成することができる。また、凹部を形成することにより、孔に確実に潤滑油を供給することができ、さらに軸の摺動摩擦抵抗を減少させることが可能になる。
In the method of manufacturing a watch part according to the present invention, in the resist pattern forming step, the photoresist film is exposed and developed using the gray scale mask, so that a resist is formed around the opening of the photoresist film. A recess is formed, and in the substrate forming step, a substrate recess that receives lubricating oil is formed in a portion corresponding to the resist recess of the substrate.
By setting it as such a method, an olive-shaped recessed part can be formed with high precision. Further, by forming the recess, the lubricating oil can be reliably supplied to the hole, and the sliding frictional resistance of the shaft can be reduced.
本発明に係る時計部品の製造方法は、前記基体は地板及び輪列受の少なくとも何れか一方であって、これら地板及び輪列受に前記孔を形成したことを特徴とする。
このような方法とすることで、地板や輪列受を小型化することができる。
The timepiece component manufacturing method according to the present invention is characterized in that the base is at least one of a main plate and a train wheel bridge, and the hole is formed in the base plate and the train wheel bridge.
By setting it as such a method, a main plate and a train wheel bridge can be reduced in size.
本発明に係る時計部品は、時計部品の製造方法により製造されたことを特徴とする。
このように構成することで、容易、且つ高精度に軸受の孔を形成することができ、製造歩留まりのよい時計部品を提供することができる。
The timepiece component according to the present invention is manufactured by a method for manufacturing a timepiece component.
With this configuration, it is possible to easily and highly accurately form a bearing hole, and to provide a timepiece component with a high manufacturing yield.
本発明に係る時計は、上述の時計部品と、この時計部品に回転自在に支持される輪列とを有することを特徴とする。
このように構成することで、容易、且つ高精度に軸受の孔を形成することができ、製造歩留まりのよい時計を提供することができる。
A timepiece according to the present invention includes the timepiece part described above and a train wheel rotatably supported by the timepiece part.
With this configuration, it is possible to form the bearing hole easily and with high accuracy, and to provide a timepiece having a good manufacturing yield.
本発明によれば、基体に等方性エッチングを施すことなく、オリーブ形状の孔を高精度に形成することができ、製造歩留まりを向上させることができる。 According to the present invention, an olive-shaped hole can be formed with high accuracy without subjecting the substrate to isotropic etching, and the manufacturing yield can be improved.
(機械式時計)
次に、この発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1は、機械式時計の平面図、図2は、香箱からがんぎ車の部分を示す概略部分断面図、図3は、がんぎ車からてんぷの部分を示す概略部分断面図である。
図1〜図3に示すように、腕時計である機械式時計10(時計の一例)は、ムーブメント100と、このムーブメント100を収納する不図示のケーシングとにより構成され、ムーブメント100に文字板104が取り付けられている。
(Mechanical watch)
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a plan view of a mechanical timepiece, FIG. 2 is a schematic partial sectional view showing a portion of a escape wheel from a barrel, and FIG. 3 is a schematic partial sectional view showing a portion of a balance wheel from the escape wheel. .
As shown in FIGS. 1 to 3, a mechanical timepiece 10 (an example of a timepiece) that is a wristwatch includes a
(ムーブメント)
ムーブメント100は、基板を構成する地板102を有している。
ここで、地板102の両側のうち、文字板104が配される側(図2における下側)をムーブメント100の裏側と称し、文字板104が配される側の反対側をムーブメント100の表側と称する。ムーブメント100の表側に組み込まれる輪列を表輪列と称し、ムーブメント100の裏側に組み込まれる輪列を裏輪列と称する。
(Movement)
The
Here, of the two sides of the
地板102には、巻真案内穴102aが形成されており、ここに巻真110が回転自在に組み込まれている。巻真110は、おしどり190、かんぬき192、かんぬきばね194、裏押さえ196を有する切換装置により、軸方向の位置が決められている。また、巻真110の案内軸部に、きち車112が回転自在に設けられている。
A winding
このような構成のもと、巻真110が、回転軸方向に沿ってムーブメント100の内側に一番近い方の第1の巻真位置(0段目)にある状態で巻真110を回転させると、不図示のつづみ車の回転を介してきち車112が回転する。そして、きち車112が回転することにより、これと噛合う丸穴車114が回転する。さらに、丸穴車114が回転することにより、これと噛合う角穴車116が回転する。角穴車116が回転することにより、香箱車120に収容されたぜんまい122(図2参照)を巻き上げる。香箱車120は、表輪列を構成するものである。
Under such a configuration, the
香箱車120は、香箱歯車120dと、香箱真120fと、ぜんまい122とを備えている。香箱真120fは、上軸部120aと、上軸部120aとは反対側端である地板102側端(図2における下側端)に突設されたほぞ120bとを有している。
ほぞ120bは、香箱真120fよりも段差により縮径形成されている。香箱真120fは、炭素鋼などの金属で形成されている。香箱歯車120dは黄銅などの金属で形成されている。
The barrel complete 120 includes a barrel
The
ムーブメント100の表側に配置された表輪列は、香箱車120の他に二番車124、三番車126、及び四番車128により構成されている。また、ムーブメント100の表側には、表輪列の回転を制御するための脱進・調速装置40が配置されている。
The front train wheel arranged on the front side of the
二番車124は、軸部124aと、この軸部124aの地板102側に設けられたそろばん玉部124bと、軸部124aの地板102とは反対側に突設されたほぞ124cと、軸部124aのそろばん玉部124bとほぞ124cとの間に設けられたかな部124dと、ほぞ124cとかな部124dとの間に設けられた歯車部124eとを有している。そして、かな部124dが香箱歯車120dに噛み合うように構成されている。
ほぞ124cは、軸部124aよりも段差により縮径形成されている。軸部124a、そろばん玉部124b及びほぞ124cは、炭素鋼などの金属で形成されている。歯車部124eはニッケルなどの金属で形成されている。
The center wheel &
The
三番車126は、軸部126aと、軸部126aの両端に突設されたほぞ126b,126cと、軸部126aの両ほぞ126b,126cの間に設けられたかな部126d及び歯車部126eとを有している。そして、かな部126dが二番車124の歯車部124eと噛み合うように構成されている。また、ほぞ126b,126cは、軸部126aよりも段差により縮径形成されている。
The third wheel &
四番車128は、軸部128aと、軸部128aの両端に突設されたほぞ128b,128cと、軸部128aの両ほぞ128b,128cの間に設けられたかな部128d及び歯車部128eとを有している。そして、かな部128dが三番車126の歯車部126eと噛み合うように構成されている。
軸部128a及び両ほぞ128b,128cは、炭素鋼などの金属で形成されている。歯車部128eはニッケルなどの金属で形成されている。また、ほぞ128b,128cは、軸部128aよりも段差により縮径形成されている。
The fourth wheel &
The
脱進・調速装置40は、がんぎ車130と、アンクル142と、てんぷ140とを含み、二番車124の回転に基づいて、筒かな150(図2参照)が同時に回転するようになっている。筒かな150に取り付けられた分針152が「分」を表示する。筒かな150には、二番車124に対するスリップ機構が設けられている。筒かな150の回転に基づいて、日の裏車の回転を介して、筒車154が回転する。筒車154に取り付けられた時針156が「時」を表示する。
The escapement and
がんぎ車130は、軸部130aと、軸部130aの両端に突設されたほぞ130b,130cと、軸部130aの両ほぞ130b,130cの間に設けられたかな部130d及び歯車部130eとを有している。そして、かな部130dが四番車128の歯車部128eと噛み合うように構成されている。
アンクル142は、アンクル体142dと、アンクル真142fとを備えている。アンクル真142fは、この両端にそれぞれほぞ142a,142bを有している。
The escape wheel &
The
てんぷ140は、てん真140a及びひげぜんまい140cを備えている。ひげぜんまい140cは、複数の巻き数をもったうずまき状(螺旋状)の形態の薄板ばねである。
ひげぜんまい140cの内側端部は、てん真140aに固定されたひげ玉140dに固定されている。一方、ひげぜんまい140cの外側端部は、てんぷ受167に回転自在に取り付けられたひげ持受170に取り付けたひげ持170aを介してねじ締めにより固定されている。緩急針168は、てんぷ受167に回転自在に取り付けられている。
The balance with
An inner end portion of the
ここで、てんぷ140は、軸体143を中心にして回転自在に構成されている。軸体143は、軸本体部として構成されるてん真140aと、てん真140aの軸方向両端に、てん真140aよりも縮径形成されたほぞ144,145とを備えている。これらほぞ144,145は、地板102、及びてんぷ受167に設けられている軸受部180に挿通され、回転自在に支持されている。これにより、軸体143が回転自在に支持され、てんぷ140が回転自在となる。
Here, the balance with
また、香箱車120は、地板102、及び香箱受160に対して回転自在に支持されている。すなわち、香箱真120fの上軸部120aは、香箱受160に対して回転自在に支持されている一方、香箱真120fのほぞ120bは、地板102に設けられている軸受部181に回転自在に支持されている。
The barrel complete 120 is rotatably supported with respect to the
さらに、二番車124、三番車126、四番車128、がんぎ車130は、地板102、及び輪列受162に対して回転自在に支持されている。
すなわち、二番車124のほぞ124cは、輪列受162に設けられている軸受部182に、三番車126のほぞ126bは、輪列受162に設けられている軸受部183に、四番車128のほぞ128bは、輪列受162に設けられている軸受部184に、がんぎ車130のほぞ130bは、輪列受162に設けられている軸受部185に回転自在に支持されている。
Further, the
That is, the
また、二番車124の軸部124aは、地板102に設けられている軸受部186に、三番車126のほぞ126cは、地板102に設けられている軸受部187に、四番車128のほぞ128cは、地板102に設けられている軸受部188に、がんぎ車130のほぞ130cは、地板102に設けられている軸受部189に回転自在に支持されている。
さらに、アンクル142は、地板102及びアンクル受164に対して回転自在に支持されている。すなわち、アンクル142のほぞ142aは、アンクル受164に対して回転自在に支持されている一方、ほぞ142bは、地板102に対して、回転自在に支持されている。
尚、香箱受160やアンクル受164は、黄銅などの金属で形成してもよいし、ポリカーボネートなどの樹脂で形成してもよい。
The
Further, the
The
このような構成のもと、巻真110を用いて香箱車120に収容されたぜんまい122を巻き上げた後、このぜんまい122が巻き戻される際の回転力により、香箱車120が回転する。香箱車120が回転することにより、これと噛合う二番車124が回転する。
二番車124が回転すると、これに噛合う三番車126が回転する。三番車126が回転すると、これに噛合う四番車128が回転する。四番車128が回転すると、脱進・調速装置40が駆動する。脱進・調速装置40が駆動することにより、四番車128が1分間に1回転するように制御されると共に、二番車124が1時間に1回転するように制御される。
Under such a configuration, after winding the
When the center wheel &
ここで、地板102及び輪列受162は、シリコンにより形成されている。そして、少なくとも地板102及び輪列受162に設けられている軸受部181〜189の中には、それぞれ地板102及び輪列受162と一体成形されているものがある。例えば、この実施形態では、地板102に設けられている各軸受部181,186〜189のうち、少なくとも軸受部181,186〜188が、地板102に一体成形されている。また、輪列受162に設けられている軸受部182〜185のうち、少なくとも軸受部182〜184が、輪列受162に一体成形されている。
Here, the
(軸受部)
図4に基づいて、各軸受部181〜184,186〜188について詳述する。
図4は、図2のA部拡大図である。尚、各軸受部181〜184,186〜188は、何れも同一態様であるので、以下の説明(後述の「軸受部の製造方法」の説明も含む)では、二番車124を構成する軸部124aのほぞ124cを回転自在に支持する軸受部182のみについて説明し、その他の軸受部181,183,184,186〜188については説明を省略する。
(Bearing part)
Based on FIG. 4, each bearing part 181-184 and 186-188 are explained in full detail.
FIG. 4 is an enlarged view of part A in FIG. Since the bearing
図4に示すように、輪列受162には、軸部124aの端部124fに突設されているほぞ124cを挿通可能な挿通孔81が形成されており、この挿通孔81を、軸受部182としている。挿通孔81は、この内周面が軸方向略中央に向かうに従って、徐々に径方向内側に膨出するように湾曲形成された所謂オリーブ形状になっている。換言すれば、挿通孔81は、軸方向両端に向かうに従って徐々に末広がりとなるように、それぞれ丸面取り部82が形成された状態になっている。
As shown in FIG. 4, the
また、挿通孔81の内径のうち、最小となる径D1は、ほぞ124cの外径D2よりも僅かに大きく設定されており、挿通孔81とほぞ124cとの間に所望のクリアランス(ほぞガタ)C1が形成されている。このクリアランスC1に潤滑油Jを注油するようになっている。
Further, the smallest diameter D1 of the inner diameters of the insertion holes 81 is set to be slightly larger than the outer diameter D2 of the
さらに、輪列受162の軸部124aとは反対側の端面162aには、挿通孔81に対応する位置に凹部83が形成されている。凹部83は、クリアランスC1に潤滑油Jを注油するための受け皿として機能するものである。凹部83は、径方向中央に向かうに従って深さが徐々に滑らかに深くなるように形成された所謂オリーブ形状になっている。
Furthermore, a
(軸受部の製造方法)
次に、図5に基づいて、各軸受部181〜184,186〜188の製造方法について説明する。
図5は、軸受部の製造方法を示す説明図であって、(a)〜(g)は各工程を示す。
まず、図5(a)に示すように、輪列受162における軸受部182の凹部83を形成する面に第1フォトレジスト膜61を形成する(第1フォトレジスト膜形成工程)。
(Bearing part manufacturing method)
Next, a method for manufacturing the bearing
FIG. 5 is an explanatory view showing a method of manufacturing a bearing portion, and (a) to (g) show each step.
First, as shown in FIG. 5A, the
続いて、第1フォトレジスト膜61をフォトリソグラフィ技術によりパターニングするレジストパターン形成工程を行う。具体的には、輪列受162の第1フォトレジスト膜61上に第1グレースケールマスク62をセットする。
この第1グレースケールマスク62は、中心部62aから径方向外側62b、62cに向かうに従って光(例えば、紫外線等)の透過量が少なくなるように調節された(すなわち、径方向外側に向かうに従って淡くなる)濃淡のあるマスクである。より具体的には、第1グレースケールマスク62は、軸受部182の挿通孔81(図4参照)に対応する部位(図5の62a)が最も濃く、凹部83(図4参照)に対応する部位(図5の62b、62c)が、径方向外側に向かうに従って徐々に淡くなるように濃淡のあるマスクである(すなわち、図5の62bより62cの方が淡い)。
Subsequently, a resist pattern forming process for patterning the
The first
そして、第1グレースケールマスク62を介して第1フォトレジスト膜61に向けて紫外線を照射し、露光を行う。このとき、第1フォトレジスト膜61の挿通孔81に対応する部位は、紫外線が最も露光されていない状態になっている。また、第1フォトレジスト膜61の凹部83に対応する部位は、径方向外側に向かうに従って露光される紫外線量が徐々に増大している状態になっている。
Then, exposure is performed by irradiating the
ここで、第1フォトレジスト膜61は、紫外線が露光された領域が硬化する所謂ネガレジスト材を用いて形成されている。このため、図5(c)に示すように、露光後、現像液に浸漬することにより、第1フォトレジスト膜61は、露光されている紫外線量が少ない領域ほどフォトレジスト膜が除去される。そして、軸受部182の挿通孔81に対応する部位に、開口部63を有し、且つ軸受部182の凹部83に対応する部位に、オリーブ形状の凹部64を有する第1レジストパターン181aが形成される(第1レジストパターン形成工程)。
Here, the
続いて、図5(d)に示すように、第1レジストパターン181aをマスクとして輪列受162にエッチングを行い、この輪列受162に軸受部182の凹部83を形成すると共に、挿通孔81に対応する部位に開口部81aを形成する。
Subsequently, as shown in FIG. 5 (d), the
次に、図5(e)に示すように、輪列受162に第2フォトレジスト膜65を形成する(第2フォトレジスト膜形成工程)。
このとき、輪列受162の両面に第2フォトレジスト膜65を形成する。すなわち、第2フォトレジスト膜形成工程と、上述の第1フォトレジスト膜形成工程との相違点は、第2フォトレジスト膜形成工程では輪列受162の両面に第2フォトレジスト膜65を形成するが、上述の第1フォトレジスト膜形成工程では輪列受162の片面にのみに第1フォトレジスト膜61を形成する点にある。
尚、第2フォトレジスト膜65は、第1フォトレジスト膜61と同様に、所謂ネガレジスト材を用いて形成されている。
Next, as shown in FIG. 5E, a
At this time, the
The
続いて、輪列受162の第2フォトレジスト膜65上に、上述の第1グレースケールマスク62とは別の第2グレースケールマスク66をセットする。この第2グレースケールマスク66も、中心部66aから径方向外側66b、66cに向かうに従って光の透過量が少なくなるように調節された濃淡のあるマスクである。より具体的には、第2グレースケールマスク66は、輪列受162の開口部81aに対応する部位(図5の66a)が最も濃く、さらに、開口部81aの周縁に対応する部位(図5の66b、66c)が、径方向外側に向かうに従って徐々に淡くなるように濃淡のあるマスクである。
Subsequently, a second
そして、第2グレースケールマスク66を介して第2フォトレジスト膜65に向けて紫外線を照射し、露光を行う。ついで、現像液に浸漬することにより、第2フォトレジスト膜65は、露光されている紫外線量が少ない領域ほど多くのフォトレジスト膜が除去される。
Then, ultraviolet rays are irradiated toward the
これにより、図5(f)に示すように、第2レジストパターン65aが形成される(第2レジストパターン形成工程)。この第2レジストパターン65aは、輪列受162の開口部81aに対応する部位に、軸方向外側に向かうに従って末広がりとなるように開口部67が形成されている。換言すれば、開口部67は、この開口周縁に丸面取り部67aが形成された状態になっている。
Thereby, as shown in FIG. 5F, the second resist
続いて、図5(g)に示すように、第2レジストパターン65aをマスクとして輪列受162にエッチングを行う。すると、輪列受162の開口部81aが軸方向外側に向かうに従って末広がりとなるように形成され、この結果、全体として内周面が軸方向略中央に向かうに従って、徐々に径方向内側に膨出するように湾曲形成されたオリーブ形状の挿通孔81が形成される。換言すれば、開口部81aの軸方向両端の周縁に、それぞれ丸面取り部82が形成されてなる挿通孔81が形成される。これにより、軸受部182の製造が完了する(基体形成工程)。
Subsequently, as shown in FIG. 5G, the
(効果)
したがって、上述の実施形態によれば、第1グレースケールマスク62を用い、第1フォトレジスト膜61を第1レジストパターン181aに形成すると共に、第2グレースケールマスク66を用い、第2フォトレジスト膜65を第2レジストパターン65aに形成するので、輪列受162や地板102に等方性エッチングを施すことなく、オリーブ形状を有する各軸受部181〜184,186〜188を高精度に形成することができ、製造歩留まりを向上させることができる。
(effect)
Therefore, according to the above-described embodiment, the
また、地板102に設けられている各軸受部181,186〜189のうち、少なくとも軸受部181,186〜188が、地板102に一体成形されていると共に、輪列受162に設けられている軸受部182〜185のうち、少なくとも軸受部182〜184が、輪列受162に一体成形されている。このため、地板102や輪列受162に、各軸受部181〜184,186〜188をそれぞれ別途圧入する場合と比較して、地板102や輪列受162を薄肉化、小型化することができる。
Of the bearing
また、軸受部182の挿通孔81は、この内周面が軸方向略中央に向かうに従って、徐々に径方向内側に膨出するように湾曲形成された所謂オリーブ形状になっている。換言すれば、挿通孔81は、軸方向両端に向かうに従って徐々に末広がりとなるように、それぞれ丸面取り部82が形成された状態になっている。このため、挿通孔81とこの挿通孔81に挿通されるほぞ124c(図4参照)との接触面積を最小限に抑えることができ、ほぞ124cの摺動摩擦抵抗を確実に減少させることができる。
Further, the
さらに、軸受部182に凹部83を形成し、この凹部83を潤滑油Jを注油するための受け皿として機能させているので、挿通孔81に確実に潤滑油Jを供給することができ、さらに確実にほぞ124cの挿通孔81に対する摺動摩擦抵抗を減少させることができる。
Furthermore, since the
尚、本発明は上述の実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述の実施形態に種々の変更を加えたものを含む。
例えば、上述の実施形態のうち、(軸受部の製造方法)では、輪列受162の軸受部182の製造方法についてのみ説明したが、輪列受162の少なくとも軸受部182〜184について、軸受部182の製造方法と同様に、且つ同時に製造することができる。また、地板102の少なくとも軸受部181,186〜188について、輪列受162の軸受部182の製造方法と同様に、且つ同時に製造することができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and includes various modifications made to the above-described embodiment without departing from the spirit of the present invention.
For example, in the above-described embodiment, only the manufacturing method of the bearing
また、上述の実施形態では、輪列受162における軸受部182の凹部83を形成する面に、第1フォトレジスト膜61を形成し、輪列受162に凹部83と開口部81aを形成した後、輪列受162の両面に第2フォトレジスト膜65を形成し、開口部81aの軸方向両端の周縁に、それぞれ丸面取り部82を形成した場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、グレースケールマスクを用いたフォトレジスト膜の露光、現像により、最終的に、輪列受162に軸受部182が形成されればよい。
すなわち、まず最初に輪列受162の両面に第1フォトレジスト膜61を形成し、各面にそれぞれ別々のグレースケールパターンをセットして挿通孔81や凹部83を形成するようにしてもよい。
In the above-described embodiment, after the
That is, first, the
さらに、上述の実施形態では、第1フォトレジスト膜61及び第2フォトレジスト膜65は、紫外線が露光された領域が硬化する所謂ネガレジスト材を用いて形成されている場合について説明した。しかしながら、これに限ら得るものではなく、紫外線が露光されていない領域が硬化する所謂ポジレジスト材を用いて第1フォトレジスト膜61及び第2フォトレジスト膜65を形成してもよい。この場合、第1グレースケールマスク62及び第2グレースケールマスク66の濃淡を上述の実施形態とは逆にする。
Furthermore, in the above-described embodiment, the case where the
そして、上述の実施形態では、第1グレースケールマスク62及び第2グレースケールマスク66の2つのグレースケールマスク182,186を用い、輪列受162に軸受部182の挿通孔81及び凹部83を形成した場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、一度に輪列受162に挿通孔81や凹部83を形成可能なグレースケールマスクを用いることも可能である。
In the above-described embodiment, the two gray scale masks 182 and 186 of the first
また、上述の実施形態では、軸受部182に、潤滑油Jの受け皿として機能するオリーブ形状の凹部83を形成した場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、軸受部182に凹部83を形成せずに、挿通孔81のみを形成してもよい。また、このような構成は、各軸受部181〜184,186〜188とも同様の構成としてもよい。
In the above-described embodiment, the case where the olive-shaped
この場合、輪列受162に第1フォトレジスト膜61を形成する第1フォトレジスト膜形成工程(図5(a)参照)、及び第1フォトレジスト膜61を、第1グレースケールマスク62を用いて第1レジストパターン181aに形成する第1レジストパターン形成工程(図5(b)、図5(c)参照)を省けばよい。
In this case, the first photoresist film forming step (see FIG. 5A) for forming the
そして、輪列受162や地板102に各軸受部181〜184,186〜188を形成するにあたって、まず、輪列受162や地板102の両面に第2フォトレジスト膜65を形成し、この第2フォトレジスト膜65を、第2グレースケール66を用いて第2レジストパターン65aに形成した後、この第2レジストパターン65aをマスクとして輪列受162や地板102にエッチングを行えばよい。
In forming the bearing
さらに、上述の実施形態では、軸受部182の挿通孔81は、軸方向両端の周縁にそれぞれ丸面取り部82が形成されており、これによって、挿通孔81の内周面が軸方向略中央に向かうに従って、徐々に径方向内側に膨出するように湾曲形成されたオリーブ形状になっている場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、挿通孔81の軸方向両端のうち、少なくとも一方の端部の周縁に丸面取り部82が形成されていればよい。
Further, in the above-described embodiment, the insertion holes 81 of the bearing
また、上述の実施形態では、地板102や輪列受162の各軸受部181〜184,186〜188を形成するにあたって、各グレースケールマスク182,186を用いて形成した場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、さまざまな時計部品に、本実施形態の製造方法を採用することが可能である。例えば、香箱受160やアンクル受164を形成する場合にも、本実施形態の製造方法を採用することが可能である。この場合、香箱受160やアンクル受164もシリコンにより形成することが好ましい。
また、水晶時計(クオーツ時計、ISO6426−2)、アナログクオーツ時計(アナログ水晶時計、ISO6426−2)、置時計、掛時計等の時計に用いられる地板や輪列受の各軸受部等の各部品を形成する場合に適用するようにしてもよい。
Moreover, in the above-mentioned embodiment, when forming each
Also, it forms parts such as quartz clocks (quartz watches, ISO6426-2), analog quartz watches (analog quartz watches, ISO6426-2), clocks such as table clocks, wall clocks, and bearing parts of the train wheel bridge. You may make it apply when doing.
10 機械式時計(時計)
61 第1フォトレジスト膜(フォトレジスト膜)
61a 第1レジストパターン(レジストパターン)
62 第1グレースケールマスク(グレースケールマスク)
63,67 開口部
64 凹部(レジスト凹部)
65 第2フォトレジスト膜(フォトレジスト膜)
65a 第2レジストパターン(レジストパターン)
66 第2グレースケールマスク(グレースケールマスク)
67a 丸面取り部(レジスト丸面取り部)
81 挿通孔(孔)
82 丸面取り部(基体丸面取り部)
83 凹部(基体凹部)
102 地板
120 香箱車(輪列)
120a 上軸部(軸)
120b,124c,126b,126c,128b,128c ほぞ(端部)
124 二番車(輪列)
124a,126a,128a 軸部(軸)
126 三番車(輪列)
128 四番車(輪列)
162 輪列受
10 Mechanical clock (clock)
61 First photoresist film (photoresist film)
61a First resist pattern (resist pattern)
62 1st gray scale mask (gray scale mask)
63, 67
65 Second photoresist film (photoresist film)
65a Second resist pattern (resist pattern)
66 Second grayscale mask (grayscale mask)
67a Round chamfer (resist round chamfer)
81 Insertion hole (hole)
82 Round chamfer (Base round chamfer)
83 Concave part (Substrate concave part)
102
120a Upper shaft part (shaft)
120b, 124c, 126b, 126c, 128b, 128c Tenon (end)
124 Second wheel (wheel train)
124a, 126a, 128a Shaft (shaft)
126 Third wheel (wheel train)
128 Number 4 (Wheel train)
162 train wheel bridge
Claims (6)
基体上にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、
グレースケールマスクを用いて前記フォトレジスト膜を露光して現像することにより、このフォトレジスト膜に前記孔に対応する開口部が形成されると共に、この開口部の周縁に湾曲状に切除されたレジスト丸面取り部が形成されてなるレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記基体をエッチングし、前記基体に前記孔を形成すると共に、この孔の軸方向両端の少なくとも一方に、湾曲状に切除された基体丸面取り部を形成する基体形成工程とを有することを特徴とする時計部品の製造方法。 In a watch part manufacturing method for forming a hole for rotatably supporting an end of a shaft in a base,
A photoresist film forming step of forming a photoresist film on the substrate;
By exposing and developing the photoresist film using a gray scale mask, an opening corresponding to the hole is formed in the photoresist film, and a resist cut in a curved shape at the periphery of the opening is formed. A resist pattern forming step for forming a resist pattern in which a round chamfered portion is formed;
Etching the substrate using the resist pattern as a mask to form the hole in the substrate, and forming a rounded chamfered portion of the substrate in a curved shape at at least one of the axial ends of the hole; A method for manufacturing a watch part, comprising:
前記グレースケールマスクを用いて前記フォトレジスト膜を露光して現像することにより、このフォトレジスト膜の前記開口部の周囲にレジスト凹部を形成し、
前記基体形成工程において、
前記基体の前記レジスト凹部に対応する部位に、潤滑油を受ける基体凹部を形成したことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の時計部品の製造方法。 In the resist pattern forming step,
By exposing and developing the photoresist film using the gray scale mask, a resist recess is formed around the opening of the photoresist film,
In the substrate forming step,
3. A method for manufacturing a timepiece part according to claim 1, wherein a base recess for receiving lubricating oil is formed in a portion corresponding to the resist recess in the base.
この時計部品に回転自在に支持される輪列とを有することを特徴とする時計。 A timepiece part according to claim 5;
A timepiece having a train wheel rotatably supported by the timepiece component.
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-
2012
- 2012-05-11 JP JP2012109705A patent/JP2013238423A/en active Pending
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