JP2013213983A - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】構造の複雑化を防止しつつ、シート状の基板に効率的に露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】マスクＤＭに形成されたパターンをシート状の基板Ｐに転写する。円筒状に形成され第１円筒面に沿ってマスクを保持して所定の軸線ＡＸ１周りに回転可能なマスク保持部１２と、円筒状に形成され第２円筒面に沿って基板を保持して所定の軸線ＡＸ２周りに回転可能な基板保持部２２と、パターンの像を基板に所定倍率で投影する投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ３と、マスク保持部及び基板保持部を一体的に回転駆動する駆動装置と、を備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、露光装置及びデバイス製造方法に関するものである。

露光装置等の基板処理装置は、例えば下記の特許文献１に記載されているように、各種デバイスの製造に利用されている。基板処理装置は、照明領域に配置されたマスクＭに形成されているパターンの像を、投影領域に配置されている基板等に投影することができる。基板処理装置に用いられるマスクＭは、平面状のもの、円筒状のもの等がある。円筒状のマスクを用いた場合には、ステージを往復運動させたり、マスクを保持する複数のステージを用いたりする必要が無く、コストを低減することができる。

また、デバイスを製造する手法の１つとして、例えば下記の特許文献２に記載されているようなロール・ツー・ロール方式が知られている。ロール・ツー・ロール方式は、送出用のロールから回収用のロールへフィルム等の基板を搬送しながら、搬送経路上において基板に各種処理を行う方式である。基板は、例えば搬送ローラーの間等において、実質的に平面である状態で処理が施されることがある。また、基板は、例えばローラーの表面上等において、湾曲している状態で処理が施されることもある。

特開２００７−２９９９１８号公報 国際公開第２００８／１２９８１９号

しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
円筒状マスクの回転と、基板を湾曲させて保持する搬送ローラーの回転とを高精度に同期させる必要があり、これを実現するためには構造が複雑になるという問題が生じる。

本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、構造の複雑化を防止しつつ、シート状の基板に効率的に露光できる露光装置及びデバイス製造方法を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様に従えば、マスクに形成されたパターンをシート状の基板に転写する露光装置であって、円筒状に形成され第１円筒面に沿ってマスクを保持して所定の軸線周りに回転可能なマスク保持部と、円筒状に形成され第２円筒面に沿って基板を保持して所定の軸線周りに回転可能な基板保持部と、パターンの像を基板に所定倍率で投影する投影光学系と、マスク保持部及び基板保持部を一体的に回転駆動する駆動装置と、を備える露光装置が提供される。

本発明の第２の態様に従えば、基板を処理してデバイスを製造するデバイス製造方法であって、本発明の第１の態様の露光装置を用いて、基板にパターンを転写することと、パターンが転写された基板をパターンに基づいて加工することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明では、構造の複雑化を防止しつつ、シート状の基板に効率的に露光処理を実施することが可能になる。

第１実施形態に係る露光装置ＥＸの概略的な構成図。 露光装置ＥＸを＋Ｙ側から視た概略的な側面図。 マスク保持部１２及び円筒マスクＤＭの展開図。 基板保持部２２の展開図。 第２実施形態に係る露光装置ＥＸの概略的な構成図。 第２実施形態に係るマスク保持部及び円筒マスクの展開図。 第２実施形態に係る基板保持部２２の展開図。 第３実施形態に係る露光装置ＥＸの概略構成図。 同露光装置を構成する投影光学系の一例を示す図。 本実施形態のデバイス製造方法を示すフローチャートである。 別の実施形態に係る露光装置ＥＸの概略構成図。

以下、本発明の露光装置及びデバイス製造方法の実施の形態を、図１ないし図１１を参照して説明する。
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの概略的な構成図であり、図２は図１に示す露光装置ＥＸを＋Ｙ側から視た概略的な側面図である。
露光装置ＥＸは、いわゆる走査露光装置であり、円筒マスク（マスク）ＤＭの回転と可撓性の基板Ｐの送りとを同期駆動させつつ、照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ３からの照明光で照明された円筒マスクＤＭに形成されているパターンの像を、正立等倍の投影光学系ＰＬ（ＰＬ１〜ＰＬ３）を介して基板Ｐに投影する。なお、図１乃至図１１において、直交座標系ＸＹＺのＹ軸を円筒状の円筒マスクＤＭの回転中心線ＡＸと平行に設定し、Ｚ軸を走査露光の方向、即ち、露光位置での基板Ｐの搬送方向に設定する。

本実施形態において、基板Ｐは、いわゆるフレキシブル基板等のような可撓性（フレキシビリティ）を有する基板である。本実施形態の露光装置ＥＸは、可撓性を有する基板Ｐによって、可撓性を有するデバイスを製造することができる。基板Ｐは、露光装置ＥＸにおいて屈曲した場合に、破断しない程度の可撓性を有するように選択される。

なお、露光処理時における基板Ｐの可撓性は、例えば、基板Ｐの材質、大きさ、厚さ等によって調整することができ、また露光処理時の湿度、温度等の環境条件等によって調整することもできる。

可撓性を有する基板Ｐは、例えば、樹脂フィルム、ステンレス鋼等の金属又は合金からなる箔（フォイル）等である。樹脂フィルムの材質は、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂のうち１又は２以上を含む。

基板Ｐは、例えば、基板Ｐに施される各種処理において受ける熱による変形量が実質的に無視できるように、熱膨張係数等の特性が設定される。熱膨張係数は、例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合することによって、プロセス温度等に応じた閾値よりも小さく設定されていてもよい。無機フィラーは、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素等でもよい。また、基板Ｐは、フロート法等で製造された厚さ１００μｍ程度の極薄ガラスの単層体であってもよいし、この極薄ガラスに上記の樹脂フィルム、箔等を貼り合わせた積層体であってもよい。

円筒マスクＤＭは、マスク保持部（第１円筒体）１２に保持される。マスク保持部１２は、その外周面で円筒マスクＤＭを円筒状に保持して、Ｙ方向に延在する第１回転軸ＡＸ１周りに回転する。円筒マスクＤＭは、例えば平坦性の良い短冊状の極薄ガラス板（例えば厚さ１００〜５００μｍ）の一方の面にクロム等の遮光層でパターンを形成した透過型の平面状シートマスクとして作成され、それをマスク保持部１２の外周面に倣って湾曲させ、この外周面に巻き付けた（貼り付けた）状態で使用される。なお、円筒マスクＤＭとしては、透明円筒母材によるマスク保持部１２の外周面に直接クロム等の遮光層によるマスクパターンを描画形成して一体化してもよい。この場合も、マスク保持部が円筒マスクＤＭの支持部材として機能する。

基板Ｐは、供給ロール（不図示）から引き出されて基板保持部（第２円筒体）２２に保持され、露光処理が施された後に、不図示の回収ロールに巻き上げられる。
基板保持部２２は、外周面の一部で基板Ｐを円筒状に保持して、Ｙ方向に延在する第２回転軸ＡＸ２周りに回転する。第２回転軸ＡＸ２は、第１回転軸ＡＸ１と同軸に、且つ結合部材（接続装置）１４により一体的に回転可能及び着脱自在に接続されている。マスク保持部１２の半径、及び基板保持部２２の半径は、マスク保持部１２に保持された円筒マスクＤＭにおけるパターン面と、基板保持部２２に保持された基板Ｐの露光面とが同一半径、すなわち同一の周速度（回転速度）となる値に設定されている。本実施形態において、マスク保持部１２及び基板保持部２２は、電動モーター等のアクチュエータを含む駆動部（不図示）から、第１、第２回転軸ＡＸ１、ＡＸ２を介して供給されるトルクによって回転する。

照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ３は、マスク保持部１２に保持された円筒マスクＤＭの一部（照明領域ＩＲ１〜ＩＲ３）をパターン領域として、図２に示すように、第１回転軸ＡＸ１周り方向に離間した位置で均一な明るさで照明する。照明光の光源としては、例えばランプ光源から射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）等である。

図３は、マスク保持部１２及び円筒マスクＤＭの展開図である。図３中の符号Ｘｓは、マスク保持部１２及びは円筒マスクＤＭの移動方向（回転方向）を示す。
図３に示すように、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ３のそれぞれはＹ方向で隣り合う台形状の照明領域の斜辺部の三角部が重なるように（オーバーラップするように）配置されている。そのため、例えば、マスク保持部１２の回転によって照明領域ＩＲ１を通過する円筒マスクＤＭ上の領域は、マスク保持部１２の回転によって照明領域ＩＲ２を通過する円筒マスクＤＭ上の領域と一部重複する。

本実施形態において、円筒マスクＤＭのパターン形成領域ＭＡは、マスク保持部１２の回転に伴って方向Ｘｓに移動し、パターン形成領域のうちのＹ軸方向の各部分領域は、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ３のいずれかを通過する。換言すると、照明領域ＩＲ１〜ＩＲ３は、パターン形成領域のＹ軸方向の全幅をカバーするように、配置されている。

各投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ３は、照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ３のそれぞれに対応し、各照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ３によって照明される照明領域ＩＲ１〜ＩＲ３における円筒マスクＤＭのパターンの像を、図４に示すように、基板Ｐ上で対応する投影領域ＰＡ１〜ＰＡ３に正立等倍で投影する。各投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ３は、円筒マスクＤＭの照明領域ＩＲ１〜ＩＲ３と対向配置された第１投影モジュールＰＬ１１〜ＰＬ１３、投影領域ＰＡ１〜ＰＡ３と対向する位置に配置された第２投影モジュールＰＬ２１〜ＰＬ２３、各投影モジュール間に配置された反射部材ＲＦ１１〜ＲＦ１３、ＲＦ２１〜ＲＦ２３を備えている。

投影領域ＰＡ１〜ＰＡ３のそれぞれは、第２回転軸ＡＸ２周りの周方向に沿ってみた場合に、第２回転軸ＡＸ２方向において隣り合う投影領域と、端部（台形の三角部分）が重なるように配置されている。そのため、例えば、基板保持部２２の回転によって投影領域ＰＡ１を通過する基板Ｐ上の領域は、基板保持部２２の回転によって投影領域ＰＡ２を通過する基板Ｐ上の領域と一部重複する。投影領域ＰＡ１と投影領域ＰＡ２は、周方向で重複する領域での露光量が、重複しない領域の露光量と実質的に同じになるように、それぞれの形状等が設定されている。

上記構成の露光装置ＥＸにおいては、駆動部により第１回転軸ＡＸ１及び第２回転軸ＡＸ２が回転駆動されることにより、マスク保持部１２及び基板保持部２２が一体的に回転する。そして、マスク保持部１２に保持された円筒マスクＤＭは、照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ３からの照明光で照明され、各照明領域ＩＲ１〜ＩＲ３における円筒マスクＤＭのパターンの像は、投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上の投影領域ＰＡ１〜ＰＡ３に正立等倍で投影される。

このとき、マスク保持部１２及び基板保持部２２は、第１回転軸ＡＸ１及び第２回転軸ＡＸ２が一体的に接続・結合されていることから、同一の角速度で回転することになる。また、円筒マスクＤＭのパターン面と基板Ｐの感光面とが同一の半径上にあることから、各面は同一の周速度で回転した状態で露光処理が行われ、基板Ｐには３つの投影領域ＰＡ１〜ＰＡ３に投影された像が合成されたパターンが形成される。

なお、本実施形態では、円筒マスクＤＭを交換する際には、結合部材１４による第１回転軸ＡＸ１と第２回転軸ＡＸ２との結合を解除した後に、第１回転軸ＡＸ１、マスク保持部１２、円筒マスクＤＭを一体的に交換すればよい。

以上説明したように、本実施形態では、第１回転軸ＡＸ１及び第２回転軸ＡＸ２が結合され、マスク保持部１２及び基板保持部２２が一体的に回転駆動されるため、マスク保持部１２及び基板保持部２２、すなわち円筒マスクＤＭ及び基板Ｐを同期させるための機構を別途設けることなく円筒マスクＤＭのパターンを連続的に基板Ｐに露光することが可能となり、構造の複雑化を防止しつつ、円筒マスクＤＭのパターンを効率的に基板Ｐに形成することができる。

また、本実施形態では、第１回転軸ＡＸ１及び第２回転軸ＡＸ２が結合部材１４により着脱自在に接続されているため、予め別のマスク保持部に保持させておいた円筒マスクＤＭに容易に交換することが可能になる。

（第２実施形態）
次に、露光装置ＥＸの第２実施形態について、図５乃至図７を参照して説明する。
この図において、図１乃至図４に示す第１実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
上記第１実施形態では、一つの円筒マスクＤＭのパターンを基板Ｐに露光する構成としたが、本実施形態では複数（ここでは２つ）の円筒マスクを用い、より大きなパターンを基板Ｐに露光する場合について説明する。

図５は、第２実施形態に係る露光装置ＥＸの概略的な構成図である。
本実施形態の露光装置ＥＸには、基板保持部２２を挟んだＹ方向の両側にマスク保持部１２Ａ、１２Ｂが配設され、マスク保持部１２Ａに対応して投影光学系ＰＬ１Ａ〜ＰＬ２Ａが設けられ、マスク保持部１２Ｂに対応して投影光学系ＰＬ１Ｂ〜ＰＬ２Ｂが設けられている。

マスク保持部１２Ａは、その外周面で円筒マスクＤＭＡを円筒状に保持して、Ｙ方向に延在する第１回転軸ＡＸ１Ａ周りに回転する。同様に、マスク保持部１２Ｂは、その外周面で円筒マスクＤＭＢを円筒状に保持して、Ｙ方向に延在する第１回転軸ＡＸ１Ｂ周りに回転する。基板Ｐは、Ｙ方向の幅が円筒マスクＤＭＡ、ＤＭＢの二倍程度（円筒マスクＤＭＡ、ＤＭＢの幅の合計幅程度）に設定されている。

第２回転軸ＡＸ２は、第１回転軸ＡＸ１Ａと同軸に、且つ結合部材（接続装置）１４Ａにより一体的に回転可能及び着脱自在に接続されるとともに、第１回転軸ＡＸ１Ｂと同軸に、且つ結合部材（接続装置）１４Ｂにより一体的に回転可能及び着脱自在に接続される。

円筒マスクＤＭＡは、図６に示すように、照明領域ＩＲ１Ａ、ＩＲ２Ａを有する照明光学系からの照明光で照明される。２つの照明領域ＩＲ１Ａ、ＩＲ２Ａは、Ｙ方向で隣り合う台形状の照明領域の斜辺部の三角部が周方向で重なるように（オーバーラップするように）、周方向で離間して配置されている。同様に、円筒マスクＤＭＢは、照明領域ＩＲ１Ｂ、ＩＲ２Ｂを有する照明光学系からの照明光で照明される。２つの照明領域ＩＲ１Ｂ、ＩＲ２Ｂは、Ｙ方向で隣り合う台形状の照明領域の斜辺部の三角部が周方向で重なるように（オーバーラップするように）、周方向で離間して配置されている。

投影光学系ＰＬ１Ａは、照明領域ＩＲ１Ａにおける円筒マスクＤＭＡのパターンの像を、図７に示すように、基板Ｐ上で対応する投影領域ＰＡ１Ａに正立等倍で投影する。投影光学系ＰＬ２Ａは、照明領域ＩＲ２Ａにおける円筒マスクＤＭＡのパターンの像を基板Ｐ上で対応する投影領域ＰＡ２Ａに正立等倍で投影する。同様に、投影光学系ＰＬ１Ｂは、照明領域ＩＲ１Ｂにおける円筒マスクＤＭＢのパターンの像を基板Ｐ上で対応する投影領域ＰＡ１Ｂに正立等倍で投影し、投影光学系ＰＬ２Ｂは、照明領域ＩＲ２Ｂにおける円筒マスクＤＭＢのパターンの像を基板Ｐ上で対応する投影領域ＰＡ２Ｂに正立等倍で投影する。

上記投影領域ＰＡ１Ａ〜ＰＡ２Ｂのそれぞれは、第２回転軸ＡＸ２周りの周方向に沿ってみた場合に、第２回転軸ＡＸ２方向において隣り合う投影領域と、端部（台形の三角部分）が重なるように配置されている。そのため、投影領域ＰＡ１Ａ〜ＰＡ２Ｂのおいては、周方向で重複する領域での露光量が、重複しない領域の露光量と実質的に同じとなっている。

従って、本実施形態では、上記第１実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、基板Ｐ上には、円筒マスクＤＭＡのパターンと円筒マスクＤＭＢのパターンとが合成されて転写されることになり、構造の複雑化を防止しつつ、より大面積のパターンを効率的に基板Ｐに形成することができる。

（第３実施形態）
次に、露光装置ＥＸの第３実施形態について、図８及び図９を参照して説明する。
これらの図において、図１乃至図７に示す第１、第２実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
上記第１、第２実施形態では、マスク保持部１２と基板保持部２２とをそれぞれ個別に設ける構成としたが、第３実施形態ではマスク保持部１２と基板保持部２２とが一つの円筒部材にて構成される例について説明する。

図８（ａ）は、露光装置ＥＸをＹ方向からみた概略図、図８（ｂ）はＺ方向からみた概略図、図９は露光装置ＥＸを構成する投影光学系の概略構成図である。
本実施形態における露光装置ＥＸにおいては、円筒マスクＤＭを保持するマスク保持部１２が基板保持部２２を構成している。

すなわち、マスク保持部１２は、−Ｘ側の円筒面（外周面）の一部領域が、巻き付けられた基板Ｐを押さえロッド１９との間で保持する基板保持部２２を構成している。マスク保持部１２の＋Ｘ側の基板Ｐが保持されていない領域には照明光学系ＩＬが対向配置され、照明光学系ＩＬの照明領域ＩＲにおける円筒マスクＤＭのパターンの像は、投影光学系ＰＬを介して、基板保持部２２に保持された基板Ｐに等倍倒立像として投影される。

投影光学系ＰＬは、照明光学系ＩＬで照明された円筒マスクＤＭのパターン像を受光する第１部分光学系ＰＰ１、円筒マスクＤＭのパターン像を基板Ｐに投影する第２部分光学系ＰＰ２、これらの間に配置された第３部分光学系ＰＰ３を備える。図９に、第１、第２部分光学系ＰＰ１、ＰＰ２の一例を示す。第１、第２部分光学系ＰＰ１、ＰＰ２は、ほぼ同様の構成を有しているため、図９では、円筒マスクＤＭからのパターン像を受光する側を第１部分光学系ＰＰ１とし、基板Ｐにパターン像を投影する側を第２部分光学系ＰＰ２とする。

第１部分光学系ＰＰ１は、円筒マスクＤＭから入射し、Ｘ方向と平行な第１光軸ＡＸ１１に沿って進む光束を第１光軸ＡＸと平行な第２光軸ＡＸ１２に折り返す凹面鏡等を有し、第３部分光学系ＰＰ３との間の像面位置ＭＩ１に第１中間像を形成する。第３部分光学系ＰＰ３は、第１部分光学系ＰＰ１を介した光束が入射し、第２部分光学系ＰＰ２との間の像面位置ＭＩ２に第２中間像を形成する。第２部分光学系ＰＰ２は、第３部分光学系ＰＰ３を介した光束が第２光軸ＡＸ１２に沿って入射し、凹面鏡等により第１光軸ＡＸ１に沿った光束に折り返し、基板Ｐにパターン像を投影する。

上記構成の露光装置ＥＸでは、照明光学系ＩＬで照明されたマスク保持部１２に保持された円筒マスクＤＭのパターン像は、投影光学系ＰＬを介して、マスク保持部１２に保持された基板Ｐに投影される。従って、本実施形態では、上記実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、基板Ｐを保持するためのドラムを別途設ける必要がなくなり、装置の小型化、低価格化に寄与することができる。

また、本実施形態では、第１部分光学系ＰＰ１及び第２部分光学系ＰＰ２における光軸ＡＸ１１は同軸であり、また第１回転軸ＡＸ１を挟んで第１部分光学系ＰＰ１及び第２部分光学系ＰＰ２が同一距離で対向配置されることにより、例えば、マスク保持部１２がＸ方向に変位した場合であっても、マスク保持部１２の変位による像面側と物体側との結像位置の変化が同一となってキャンセル（相殺）されることになり、マスク保持部１２の変位による露光精度の低下を未然に回避することが可能である。

（デバイス製造方法）
次に、デバイス製造方法について説明する。図１０は、本実施形態のデバイス製造方法を示すフローチャートである。

図１０に示すデバイス製造方法では、まず、例えば有機ＥＬ表示パネル等のデバイスの機能・性能設計を行う（ステップ２０１）。次いで、デバイスの設計に基づいて、円筒マスクＤＭを製作する（ステップ２０２）。また、デバイスの基材である透明フィルムやシート、或いは極薄の金属箔等の基板を、購入や製造等によって準備しておく（ステップ２０３）。

次いで、準備した基板をロール式、パッチ式の製造ラインに投入し、その基板上にデバイスを構成する電極や配線、絶縁膜、半導体膜等のＴＦＴバックプレーン層や、画素部となる有機ＥＬ発光層を形成する（ステップ２０４）。ステップ２０４には、典型的には、基板上の膜の上にレジストパターンを形成する工程と、このレジストパターンをマスクにして上記膜をエッチングする工程とが含まれる。レジストパターンの形成には、レジスト膜を基板表面に一様に形成する工程、上記の各実施形態に従って、円筒マスクＤＭを経由してパターン化された露光光で基板のレジスト膜を露光する工程、その露光によってマスクパターンの潜像が形成されたレジスト膜を現像する工程、が実施される。

印刷技術等を併用したフレキシブル・デバイス製造の場合は、基板表面に機能性感光層（感光性シランカップリング材等）を塗布式により形成する工程、上記の各実施形態に従って、円筒マスクＤＭを経由してパターン化された露光光を機能性感光層に照射し、機能性感光層にパターン形状に応じて親水化した部分と撥水化した部分を形成する工程、機能性感光層の親水性の高い部分にメッキ下地液等を塗工し、無電解メッキにより金属性のパターンを析出形成する工程、等が実施される。

次いで、製造するデバイスに応じて、例えば、基板をダイシング、或いはカットすることや、別工程で製造された他の基板、例えば封止機能を持ったシート状のカラーフィルターや薄いガラス基板等を貼り合せる工程が実施され、デバイスを組み立てる（ステップ２０５）。次いで、デバイスに検査等の後処理を行う（ステップ２０６）。以上のようにして、デバイスを製造することができる。

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。

例えば、上記第３実施形態では、一つの回転ドラムがマスク保持部１２及び基板保持部２２を備える構成を例示したが、これに限定されるものではなく、例えば図１１に示すように、マスク保持部１２と基板保持部２２とがＹ方向に離間して設けられ、第１回転軸ＡＸ１と第２回転軸ＡＸ２とが結合部材１４で接続される構成にも適用可能である。
この構成では、第１投影光学系ＰＬ１を形成する、第１照明領域ＩＲ１で照明された円筒マスクＤＭのパターン像が入射する第１倒立等倍投影光学系ＰＰ１１と、第１照明領域ＩＲ１で照明された円筒マスクＤＭのパターン像を基板Ｐの第１投影領域ＰＡ１に投影する第２倒立等倍投影光学系ＰＰ１２とを回転軸ＡＸ１、ＡＸ２を挟んで逆側の位置に設け、第２投影光学系ＰＬ２を形成する、第２照明領域ＩＲ２で照明された円筒マスクＤＭのパターン像が入射する第３倒立等倍投影光学系ＰＰ２１と、第２照明領域ＩＲ２で照明された円筒マスクＤＭのパターン像を基板Ｐの第２投影領域ＰＡ２に投影する第４倒立等倍投影光学系ＰＰ２２とを回転軸ＡＸ１、ＡＸ２を挟んで逆側の位置に設ければよい。

また、上記実施形態では、マスク保持部１２に保持された円筒マスクＤＭのパターンの像を、基板保持部２２に保持された基板Ｐに等倍で投影する構成としたが、これに限定されるものではなく、拡大像あるいは縮小像を投影する構成であってもよい。例えば投影光学系の投影倍率をβ、円筒マスクＤＭの半径をｒ、基板保持部２２の半径をＲとすると、
Ｒ＝β×ｒ
を満たすように、各半径を設定すればよい。

１２、１２Ａ、１２Ｂ…マスク保持部（第１円筒体）、 １４、１４Ａ、１４Ｂ結合部材（接続装置）、 ２２…基板保持部（第２円筒体）、 ＡＸ１、ＡＸ１Ａ、ＡＸ１Ｂ…第１回転軸、 ＡＸ２…第２回転軸、 ＤＭ、ＤＭＡ、ＤＭＢ…円筒マスク（マスク）、 ＥＸ…露光装置、 Ｐ…基板、 ＰＬ、ＰＬ１、ＰＬ２…投影光学系、 ＰＰ１…第１部分光学系、 ＰＰ２…第２部分光学系

Claims (10)

1. マスクに形成されたパターンをシート状の基板に転写する露光装置であって、
   円筒状に形成され第１円筒面に沿って前記マスクを保持して所定の軸線周りに回転可能なマスク保持部と、
   円筒状に形成され第２円筒面に沿って前記基板を保持して前記所定の軸線周りに回転可能な基板保持部と、
   前記パターンの像を前記基板に所定倍率で投影する投影光学系と、
   前記マスク保持部及び前記基板保持部を一体的に回転駆動する駆動装置と、
   を備える露光装置。
2. 前記マスク保持部は、第１回転軸線周りに回転可能な第１円筒体に設けられ、
   前記基板保持部は、前記第１回転軸線と同一軸線上に配置された第２回転軸線周りに回転可能、且つ前記第１円筒体に対して前記第１回転軸線方向に離間して配置された第２円筒体に設けられる請求項１に記載の露光装置。
3. 前記第１円筒面の前記第１回転軸線を中心とする半径に対する前記第２円筒面の前記第２回転軸線を中心とする半径の比は、前記所定倍率に対応する大きさである請求項２に記載の露光装置。
4. 前記第１円筒体と前記第２円筒体とを着脱自在に接続する接続装置を有する請求項２または３に記載の露光装置。
5. 前記マスク保持部は、所定の回転軸線周りに回転可能な円筒体の円筒面に設けられ、
   前記基板保持部は、前記マスク保持部が設けられた円筒面のうち、前記パターンを照明する照明領域とは異なる領域に設けられる請求項１に記載の露光装置。
6. 前記投影光学系は、
   前記パターンから発した光を受光する第１部分光学系と、
   前記第１部分光学系を介した光を前記基板に投影する第２部分光学系とを備え、
   前記第１部分光学系と前記第２部分光学系とは、前記マスク保持部及び前記基板保持部を挟んで対向配置され、
   前記第１部分光学系の光軸と前記第２部分光学系の光軸とは互いに平行に、且つ前記所定の軸線からの距離が同一に配置される請求項１から５のいずれか一項に記載の露光装置。
7. 前記マスクは、前記所定の軸線方向に沿って複数のパターン領域を有し、
   前記投影光学系は、前記複数のパターン領域毎に複数設けられる請求項１から６のいずれか一項に記載の露光装置。
8. 前記複数の投影光学系は、前記複数のパターン領域にそれぞれ位置するパターンの像を前記基板上に前記所定の軸線方向に沿ってそれぞれ投影する請求項７に記載の露光装置。
9. 前記複数の投影光学系は、前記所定の軸線周り方向で互いにずれた位置に配置される請求項７または８に記載の露光装置。
10. 基板を処理してデバイスを製造するデバイス製造方法であって、
    請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、前記基板にパターンを転写することと、
    前記パターンが転写された前記基板を該パターンに基づいて加工することと、
    を含むデバイス製造方法。

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