JP2013195328A

JP2013195328A - Microparticle measuring apparatus, light irradiation device, and optical member for microparticle measuring apparatus

Info

Publication number: JP2013195328A
Application number: JP2012065089A
Authority: JP
Inventors: Katsuhiro Seo; 勝弘瀬尾
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2012-03-22
Filing date: 2012-03-22
Publication date: 2013-09-30

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microparticle measuring apparatus which can suppress positional deviation of a plurality of irradiation spots on a sample flow.SOLUTION: The microparticle measuring apparatus comprises: a light source 1 emitting beams of two or more different wavelengths; and an optical member 4 which receives the beams from the light source 1 and reflects the beams toward a sample flow S including microparticles P. The optical member 4 includes a plurality of reflection films 41a, 41b having wavelength selectivity of selecting any of the beams of the two or more different wavelengths, with the reflection films 41a, 41b at angles with each other.

Description

本技術は、微小粒子測定装置及び光照射装置並びに微小粒子測定装置用の光学部材に関する。より詳しくは、細胞やマイクロビーズ等の微小粒子の特性を光学的に分析する微小粒子測定装置等に関する。 The present technology relates to a microparticle measurement device, a light irradiation device, and an optical member for the microparticle measurement device. More specifically, the present invention relates to a microparticle measuring apparatus that optically analyzes the characteristics of microparticles such as cells and microbeads.

従来、フローセル内やマイクロチップ上に形成された流路内を通流する微小粒子に光（レーザ）を照射し、微小粒子からの散乱光や、微小粒子そのものあるいは微小粒子に標識された蛍光物質から発生する蛍光を検出して、微小粒子の光学特性を測定する微小粒子測定装置が用いられている。
この微小粒子測定装置では、光学特性の測定の結果、所定の条件を満たすと判定されたポピュレーション（群）を、微小粒子中から分別回収することも行われている。このうち、特に微小粒子として細胞の光学特性を測定したり、所定の条件を満たす細胞群を分別回収したりする装置は、フローサイトメータあるいはセルソータ等と呼ばれている。 Conventionally, light (laser) is irradiated to microparticles that flow in the flow cell or in the flow channel formed on the microchip, and the scattered light from the microparticles, the microparticles themselves, or fluorescent substances labeled on the microparticles 2. Description of the Related Art A microparticle measuring apparatus that detects fluorescence generated from a liquid and measures optical characteristics of the microparticles is used.
In this microparticle measuring apparatus, the population (group) determined to satisfy a predetermined condition as a result of the measurement of the optical characteristics is also separately collected from the microparticles. Among these, an apparatus that measures the optical characteristics of cells, particularly as fine particles, or that separates and collects a group of cells that satisfy a predetermined condition is called a flow cytometer or a cell sorter.

例えば、特許文献１には、「互いに異なる波長を有する複数の励起光を、所定の周期および互いに異なる位相で照射する複数の光源と、複数の励起光を同一の入射光路上に導光し、染色された粒子に集光する導光部材とを備えたフローサイトメータ」が開示されている。このフローサイトメータは、互いに異なる波長を有する複数の励起光を照射する複数の光源と、前記複数の励起光を同一の入射光路上に導光し、染色された粒子に集光する導光部材と、前記複数の励起光のそれぞれが前記粒子を励起して生じた蛍光を検出し、蛍光信号を出力する複数の蛍光検出器と、を備えるものである（当該文献請求項１・３、図１・３参照）。 For example, in Patent Document 1, “a plurality of light sources that irradiate a plurality of excitation lights having different wavelengths with a predetermined period and a different phase, and a plurality of excitation lights are guided onto the same incident optical path, A flow cytometer provided with a light guide member that condenses the dyed particles is disclosed. The flow cytometer includes a plurality of light sources that irradiate a plurality of excitation lights having different wavelengths, and a light guide member that guides the plurality of excitation lights on the same incident light path and collects them into stained particles. And a plurality of fluorescence detectors for detecting fluorescence generated by exciting the particles with each of the plurality of excitation lights and outputting a fluorescence signal. 1 and 3).

従来の微小粒子測定装置では、図５に示すように、流路を通流するサンプル流Ｓに対して、波長の異なる複数の光源１１１から出射される励起光を集光レンズ１１５にて集光させ、サンプル流Ｓ上に複数の照射スポットを形成させるものがある。そして、サンプル流Ｓ中の微小粒子Ｐからの蛍光等を検出系、光検出器１１７にて検出する構成がとられている（例えば、特許文献２の図１５参照）。 In the conventional fine particle measuring apparatus, as shown in FIG. 5, the excitation light emitted from the plurality of light sources 111 having different wavelengths is condensed by the condenser lens 115 with respect to the sample flow S flowing through the flow path. And a plurality of irradiation spots are formed on the sample flow S. And the structure which detects the fluorescence etc. from the microparticle P in the sample flow S with the detection system and the photodetector 117 is taken (for example, refer FIG. 15 of patent document 2).

特開２００７−０４６９４７号公報JP 2007-046947 A 特開２００９−２７０９９０号公報JP 2009-270990 A

一方、微小粒子測定装置を構成する光源やレンズ等は、装置に加わる振動や温度変化等の影響で相対的に微小なずれが生じることがあり、それによって、サンプル流上の照射スポットも微小な位置ずれが生じることがある。照射スポットに位置ずれが生じた場合、ユーザーが各光照射系を高精度に調整し、各照射スポットのアライメントが必要となる。特に、図６に示すように、流路（サンプル流Ｓ）に直交する方向の照射スポットｓの位置ずれは、検出強度のばらつきの原因となり、測定誤差が生じ、大きな問題となる。 On the other hand, the light source, lens, etc. constituting the microparticle measuring device may be relatively slightly displaced due to the influence of vibration or temperature change applied to the device, thereby causing the irradiation spot on the sample flow to be minute. Misalignment may occur. When a position shift occurs in the irradiation spot, the user needs to adjust each light irradiation system with high accuracy and to align each irradiation spot. In particular, as shown in FIG. 6, the displacement of the irradiation spot s in the direction orthogonal to the flow path (sample flow S) causes variations in detection intensity, resulting in a measurement error and a major problem.

そこで、本技術は、サンプル流上の複数の照射スポットの位置ずれを抑制でき、微小粒子に対して高精度に光を照射することが可能な光照射系を備えた微小粒子測定装置を提供することを主な目的とする。 In view of this, the present technology provides a microparticle measuring apparatus including a light irradiation system capable of suppressing the positional deviation of a plurality of irradiation spots on a sample flow and capable of irradiating light to the microparticles with high accuracy. The main purpose.

すなわち、本技術は、２以上の異なる波長の光を出射する光源と、該光源からの光が入射されて、微小粒子が通流するサンプル流へ向かって前記光を反射する光学部材と、を備え、前記光学部材は、前記２以上の異なる波長の光のいずれかに対して波長選択性を有する反射膜が複数層設けられ、前記反射膜が互いに傾きを有して構成されている微小粒子測定装置を提供する。
この微小粒子測定装置では、光学部材の波長選択性を有する反射膜により、光源から出射される２以上の異なる波長の光をその波長又は波長帯域に応じて透過又は反射させることが可能となる。そして、光学部材の各反射膜が互いに傾きを有することで、各反射膜により反射されて前記サンプル流に照射される前記異なる波長の光の照射スポットが分離される。 That is, the present technology includes a light source that emits light of two or more different wavelengths, and an optical member that receives the light from the light source and reflects the light toward a sample flow through which microparticles flow. The optical member is provided with a plurality of reflective films having wavelength selectivity with respect to any one of the two or more different wavelengths of light, and the reflective films are configured to be inclined with respect to each other. Provide a measuring device.
In this microparticle measuring apparatus, it is possible to transmit or reflect light of two or more different wavelengths emitted from the light source according to the wavelength or wavelength band by the reflective film having wavelength selectivity of the optical member. And since each reflective film of an optical member has an inclination mutually, the irradiation spot of the light of the said different wavelength reflected by each reflective film and irradiated to the said sample flow is isolate | separated.

この微小粒子測定装置において、前記光学部材は、第１表面と第２表面とが互いに傾きを有して対向する板状基材と、前記板状基材の第１表面に形成された第１反射膜と、前記板状基材の第２表面に形成された第２反射膜と、を備えて構成されているものとすることができる。
また、前記光学部材は、対向する反射膜間に前記傾きを形成するスペーサが設けられて構成されてもよい。
また、本技術では、２以上の異なる波長の光を出射する光源と、該光源からの光が入射され、照射対象物へ向かって前記光を反射する光学部材と、を備え、前記光学部材は、前記２以上の異なる波長の光のいずれかに対して波長選択性を有する反射膜が複数層設けられ、前記反射膜が互いに傾きを有して構成されている光照射装置を提供する。
さらに、本技術では、２以上の異なる波長の光のいずれかに対して波長選択性を有する反射膜が複数層設けられ、前記反射膜が互いに傾きを有して構成されている、微小粒子測定装置用の光学部材を提供する。 In this fine particle measuring apparatus, the optical member includes a plate-like base material in which the first surface and the second surface face each other with an inclination, and a first surface formed on the first surface of the plate-like base material. A reflection film and a second reflection film formed on the second surface of the plate-like substrate may be provided.
The optical member may be configured by providing a spacer that forms the inclination between the reflective films facing each other.
Further, the present technology includes a light source that emits light of two or more different wavelengths, and an optical member that receives light from the light source and reflects the light toward an irradiation target, and the optical member includes There is provided a light irradiation apparatus in which a plurality of reflective films having wavelength selectivity with respect to any one of the two or more different wavelengths of light are provided, and the reflective films are configured to be inclined with respect to each other.
Furthermore, in the present technology, a plurality of reflective films having wavelength selectivity with respect to any of two or more different wavelengths of light are provided, and the reflective films are configured to have an inclination to each other. An optical member for an apparatus is provided.

本技術において、「微小粒子」には、細胞や微生物、リポソームなどの生体関連微小粒子、あるいはラテックス粒子やゲル粒子、工業用粒子などの合成粒子などが広く含まれるものとする。
生体関連微小粒子には、各種細胞を構成する染色体、リポソーム、ミトコンドリア、オルガネラ(細胞小器官)などが含まれる。対象とする細胞には、動物細胞(血球系細胞など)および植物細胞が含まれる。微生物には、大腸菌などの細菌類、タバコモザイクウイルスなどのウイルス類、イースト菌などの菌類などが含まれる。さらに、生体関連微小粒子には、核酸やタンパク質、これらの複合体などの生体関連高分子も包含され得るものとする。
また、工業用粒子は、例えば有機もしくは無機高分子材料、金属などであってもよい。有機高分子材料には、ポリスチレン、スチレン・ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレートなどが含まれる。無機高分子材料には、ガラス、シリカ、磁性体材料などが含まれる。金属には、金コロイド、アルミなどが含まれる。これら微小粒子の形状は、一般には球形であるのが普通であるが、非球形であってもよく、また大きさや質量なども特に限定されない。 In the present technology, “microparticles” widely include living body-related microparticles such as cells, microorganisms, and liposomes, or synthetic particles such as latex particles, gel particles, and industrial particles.
Biologically relevant microparticles include chromosomes, liposomes, mitochondria, organelles (organelles) that constitute various cells. The cells of interest include animal cells (such as blood cells) and plant cells. Microorganisms include bacteria such as Escherichia coli, viruses such as tobacco mosaic virus, and fungi such as yeast. Furthermore, biologically relevant microparticles may include biologically relevant polymers such as nucleic acids, proteins, and complexes thereof.
The industrial particles may be, for example, an organic or inorganic polymer material, a metal, or the like. Organic polymer materials include polystyrene, styrene / divinylbenzene, polymethyl methacrylate, and the like. Inorganic polymer materials include glass, silica, magnetic materials, and the like. Metals include gold colloid, aluminum and the like. The shape of these fine particles is generally spherical, but may be non-spherical, and the size and mass are not particularly limited.

本技術において、光学部材における反射膜が「２以上の異なる波長の光のいずれかに対して波長選択性を有する」とは、光源から出射される２以上の異なる波長の光のうち、特定波長（又は特定波長帯域）の光は反射し、その特定波長（又は特定波長帯域）以外の波長の光は透過する性質を有することをいう。 In the present technology, the reflection film in the optical member “has wavelength selectivity with respect to any of two or more different wavelengths of light” means that a specific wavelength of two or more different wavelengths of light emitted from the light source (Or a specific wavelength band) reflects light and transmits light having a wavelength other than the specific wavelength (or specific wavelength band).

本技術により、サンプル流上の複数の照射スポットの位置ずれを抑制でき、微小粒子に対して高精度に光を照射することが可能な光照射系を備えた微小粒子測定装置が提供される。 According to the present technology, there is provided a microparticle measuring apparatus including a light irradiation system that can suppress a positional shift of a plurality of irradiation spots on a sample flow and can irradiate light to the microparticles with high accuracy.

本技術に係る微小粒子測定装置の概略構成を説明する模式図である。It is a mimetic diagram explaining a schematic structure of a minute particle measuring device concerning this art. 本技術の第１実施形態に係る微小粒子測定装置の光照射系の構成を説明する模式図である。It is a mimetic diagram explaining composition of a light irradiation system of a minute particle measuring device concerning a 1st embodiment of this art. 本技術の第２実施形態に係る微小粒子測定装置の光照射系の構成を説明する模式図である。It is a mimetic diagram explaining composition of a light irradiation system of a minute particle measuring device concerning a 2nd embodiment of this art. 本技術の第３実施形態に係る微小粒子測定装置の光照射系の構成を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the structure of the light irradiation system of the microparticle measuring apparatus which concerns on 3rd Embodiment of this technique. 従来の微小粒子測定装置の光照射系の一構成例を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining one structural example of the light irradiation system of the conventional fine particle measuring apparatus. 従来の微小粒子測定装置における複数照射スポットの位置ずれを説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the position shift of the multiple irradiation spot in the conventional fine particle measuring apparatus.

以下、本技術を実施するための好適な形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下に説明する実施形態は、本技術の代表的な実施形態の一例を示したものであり、これにより本技術の範囲が狭く解釈されることはない。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１実施形態に係る微小粒子測定装置
２．第２実施形態に係る微小粒子測定装置
３．第３実施形態に係る微小粒子測定装置 Hereinafter, preferred embodiments for carrying out the present technology will be described with reference to the drawings. In addition, embodiment described below shows an example of typical embodiment of this technique, and, thereby, the scope of this technique is not interpreted narrowly. The description will be given in the following order.
1. 1. Fine particle measuring apparatus according to the first embodiment 2. Microparticle measurement apparatus according to the second embodiment Fine particle measuring apparatus according to the third embodiment

１．第１実施形態に係る微小粒子測定装置
図１に、本技術の第１実施形態に係る微小粒子測定装置の概略構成を示す。図２は、本実施形態の微小粒子測定装置における光照射系を主に図示した概略構成である。 1. 1 shows a schematic configuration of a microparticle measurement apparatus according to a first embodiment of the present technology. FIG. 2 is a schematic configuration mainly illustrating a light irradiation system in the fine particle measuring apparatus of the present embodiment.

本技術の微小粒子測定装置は、図１に示すように、光源１、光学部材４等から構成される光照射系、微小粒子Ｐ、サンプル流Ｓ及びシース流等が送流される、フローセルやマイクロチップ等の流路系を備えている。また、このフローセル内やマイクロチップ上に形成された流路内を通過する微小粒子Ｐからの複数の蛍光・後方散乱光、前方散乱光等の光成分を検出する光検出系等を備えていてもよい。なお、図示しないが、当該微小粒子測定装置は、必要に応じて測定後の微小粒子Ｐを回収や分離するソート系を備えていてもよい。 As shown in FIG. 1, the microparticle measurement apparatus of the present technology includes a light cell, a microfluidic P, a sample flow S, a sheath flow, and the like that are sent from a light source 1 and an optical member 4. A flow path system such as a chip is provided. In addition, a light detection system for detecting light components such as a plurality of fluorescent / backscattered light and forward scattered light from the microparticles P passing through the flow cell or the flow path formed on the microchip is provided. Also good. Although not shown, the microparticle measurement apparatus may include a sort system that collects and separates the microparticles P after measurement as necessary.

光源１からの光（励起光）は、光ファイバー２、コリメータレンズ３、光学部材４及び集光レンズ５等から構成される光照射系によって、フローセルやマイクロチップ上に形成された流路内を通流するサンプル流Ｓ中の微小粒子Ｐに照射される。図中、矢印Ｆは、フローセル等内におけるサンプル流Ｓの送流方向を示す。 Light (excitation light) from the light source 1 passes through a flow path formed on a flow cell or microchip by a light irradiation system including an optical fiber 2, a collimator lens 3, an optical member 4, a condenser lens 5, and the like. The fine particles P in the flowing sample stream S are irradiated. In the figure, an arrow F indicates the flow direction of the sample flow S in the flow cell or the like.

サンプル流Ｓに集光され照射された光によって、微小粒子Ｐあるいは微小粒子Ｐに標識された蛍光物質から発生する散乱光や蛍光は、光検出系によって検出される。図１では、前方散乱光は、ＦＳ光学フィルタ６を経てＦＳ検出器７にて検出され、蛍光・後方散乱光は、集光レンズ５、ミラー８、ＦＬ・ＢＳ光学フィルタ９、ＦＬ・ＢＳ集光レンズ１０、及び光ファイバー１１を経てＦＬ・ＢＳ検出器１２にて検出される構成を例示している。なお、光照射系や光検出系の構成は、従来公知の微小粒子測定装置と同様の構成とできる。 Scattered light and fluorescence generated from the fine particles P or the fluorescent material labeled on the fine particles P by the light condensed and irradiated on the sample flow S are detected by a light detection system. In FIG. 1, the forward scattered light is detected by the FS detector 7 via the FS optical filter 6, and the fluorescence / backscattered light is collected by the condenser lens 5, mirror 8, FL / BS optical filter 9, FL / BS collector. The structure detected by the FL / BS detector 12 through the optical lens 10 and the optical fiber 11 is illustrated. The light irradiation system and the light detection system can be configured in the same manner as a conventionally known fine particle measuring apparatus.

次に、図２を参照しながら、本技術の微小粒子測定装置の光照射系について詳述する。なお、図２では、図１に示した、光ファイバー２、コリメータレンズ３、及びミラー８等の図示を省略している。 Next, the light irradiation system of the microparticle measurement device of the present technology will be described in detail with reference to FIG. In FIG. 2, the optical fiber 2, the collimator lens 3, the mirror 8 and the like shown in FIG. 1 are not shown.

本実施形態の微小粒子測定装置は、光照射系として、光源１と光学部材４とを少なくとも備える。光源１から出射された光は光学部材４に入射され、光学部材４は、入射された光を微小粒子Ｐが通流するサンプル流Ｓに向かって反射する。 The microparticle measurement apparatus of this embodiment includes at least a light source 1 and an optical member 4 as a light irradiation system. The light emitted from the light source 1 is incident on the optical member 4, and the optical member 4 reflects the incident light toward the sample flow S through which the microparticles P flow.

光源１は、少なくとも２以上の異なる波長の光を出射することが可能なものであり、レーザー光源が好適である。１つのレーザー光源にそれぞれ波長の異なる複数のレーザーが内蔵された、いわゆるマルチレーザーを用いてもよいし、それぞれ波長の異なる複数の光源（レーザー）を配置して用いてもよい。マルチレーザーは、波長の異なる複数のレーザービームを同一直線上、または平行光線として、サンプル流Ｓに同時に照射することができるため、好適である。 The light source 1 can emit light having at least two or more different wavelengths, and a laser light source is preferable. A so-called multilaser in which a plurality of lasers having different wavelengths are incorporated in one laser light source may be used, or a plurality of light sources (lasers) having different wavelengths may be arranged and used. The multi-laser is preferable because it can simultaneously irradiate the sample stream S with a plurality of laser beams having different wavelengths on the same straight line or as parallel rays.

光学部材４は、光源１から出射される２以上の異なる波長の光に対して波長選択性を有する反射膜が複数層設けられているものである。本実施形態では、光学部材４は２層の反射膜４１ａ、４１ｂを有している。そして、その複数層の反射膜４１ａ、４１ｂは、各反射膜４１ａ、４１ｂが互いに傾きを有して構成される。各反射膜４１ａ、４１ｂは、それぞれ異なる波長選択性を有しているのが好適である。 The optical member 4 is provided with a plurality of reflective films having wavelength selectivity with respect to light of two or more different wavelengths emitted from the light source 1. In the present embodiment, the optical member 4 has two layers of reflective films 41a and 41b. The plurality of reflective films 41a and 41b are configured such that the reflective films 41a and 41b are inclined with respect to each other. Each of the reflection films 41a and 41b preferably has different wavelength selectivity.

光学部材４は、石英ガラス、合成石英ガラス等からなる透明な板状基材４１の表面に反射膜４１ａ、４１ｂを形成したものを用いることができる。板状基材４１の平面視形状は特に限定されず、例えば、円形状、楕円形状、三角形状、四角形状、多角形状等とすることができる。
反射膜４１ａ、４１ｂとしては、金属薄膜又は誘電体多層膜からなる、いわゆる光学薄膜を用いることができる。板状基材４１の表面に反射膜４１ａ、４１ｂを形成する方法としては、公知の手法を用いることができ、例えば、真空蒸着が挙げられる。 The optical member 4 can be formed by forming reflective films 41a and 41b on the surface of a transparent plate-like substrate 41 made of quartz glass, synthetic quartz glass or the like. The planar view shape of the plate-like substrate 41 is not particularly limited, and can be, for example, a circular shape, an elliptical shape, a triangular shape, a quadrangular shape, a polygonal shape, or the like.
As the reflective films 41a and 41b, so-called optical thin films made of metal thin films or dielectric multilayer films can be used. As a method of forming the reflection films 41a and 41b on the surface of the plate-like substrate 41, a known method can be used, and examples thereof include vacuum deposition.

波長選択性を有する反射膜４１ａ、４１ｂは、例えば、短波長側の光を反射させて長波長側の光を透過するもの（いわゆるロングパスフィルタ）、短波長側の光を透過させて長波長側の光を反射するもの（いわゆるショートパスフィルタ）、特定波長又は特定波長帯域の光を透過させ、それより短波長側及び長波長側の光を反射させるもの（いわゆるバンドパスフィルタ）等のように構成することができる。 The reflective films 41a and 41b having wavelength selectivity are, for example, films that reflect light on the short wavelength side and transmit light on the long wavelength side (so-called long pass filters), and transmit light on the short wavelength side and transmit on the long wavelength side Such as those that reflect light (so-called short-pass filters), those that transmit light of a specific wavelength or specific wavelength band, and reflect light of shorter wavelengths and longer wavelengths (so-called band-pass filters), etc. Can be configured.

本実施形態では、光学部材４は、第１表面４１ａと第２表面４１ｂとが互いに傾きを有して対向する板状基材４１と、その板状基材４１の第１表面に形成された第１反射膜４１ａと、第２表面に形成された第２反射膜４１ｂと、を備えて構成されている。すなわち、板状基材４１の対向する第１表面と第２表面とが非平行で互いに傾きを有することで、それら表面に形成された対向する第１反射膜４１ａと第２反射膜４１ｂとが互いに傾きを有するように構成されている。
具体的には、光学部材４における板状基材４１の第２表面４１ｂは、第１表面４１ａに対して角度φをもって傾いていることにより、第２反射膜４１ｂは、第１反射膜４１ａに対して角度φをもって傾いている。 In this embodiment, the optical member 4 is formed on the first surface of the plate-like base material 41 and the plate-like base material 41 in which the first surface 41a and the second surface 41b face each other with an inclination. The first reflective film 41a and the second reflective film 41b formed on the second surface are provided. That is, the opposing first and second surfaces of the plate-like substrate 41 are non-parallel and have an inclination so that the opposing first reflective film 41a and second reflective film 41b formed on these surfaces are formed. It is comprised so that it may mutually incline.
Specifically, the second surface 41b of the plate-like substrate 41 in the optical member 4 is inclined at an angle φ with respect to the first surface 41a, so that the second reflective film 41b becomes the first reflective film 41a. It is inclined with respect to the angle φ.

本実施形態における光源１は、少なくとも波長λ１と波長λ２の２種波長の光Ｌ１、Ｌ２を出射することが可能である。
光源１から出射される波長λ１の光Ｌ１（例えば、青色の光）は、光学部材４の第１反射膜４１ａによってサンプル流Ｓへ向かって反射され、集光レンズ５を経てサンプル流Ｓに照射される（図２の照射スポットｓ１参照）。
また、光源１から出射される波長λ２の光Ｌ２（例えば、赤色の光）は、光学部材４の第１反射膜４１ａを透過し、第１反射膜４１ａと傾きを有して対向する第２反射膜４１ｂによって反射され、集光レンズ５を経てサンプル流Ｓに照射される（図２の照射スポットｓ２参照）。
このように、各反射膜４１ａ、４１ｂが互いに傾きを有する光学部材４を光源１の光路中に配置することにより、異なる波長（λ１、λ２）の各光Ｌ１、Ｌ２のサンプル流Ｓへの照射スポットｓ１、ｓ２をそれぞれ分離させることができる。 The light source 1 in the present embodiment is capable of emitting light L1 and L2 having at least two wavelengths of wavelength λ1 and wavelength λ2.
Light L1 (for example, blue light) having a wavelength λ1 emitted from the light source 1 is reflected toward the sample flow S by the first reflective film 41a of the optical member 4, and irradiates the sample flow S through the condenser lens 5. (See irradiation spot s1 in FIG. 2).
The light L2 (for example, red light) having a wavelength λ2 emitted from the light source 1 is transmitted through the first reflective film 41a of the optical member 4, and is opposed to the first reflective film 41a with an inclination. It is reflected by the reflective film 41b, and is irradiated to the sample flow S through the condenser lens 5 (see the irradiation spot s2 in FIG. 2).
In this way, by arranging the optical member 4 in which the reflection films 41a and 41b are inclined with respect to each other in the optical path of the light source 1, irradiation of the light beams L1 and L2 having different wavelengths (λ1 and λ2) onto the sample flow S is performed. The spots s1 and s2 can be separated from each other.

上述の通り、第１反射膜４１ａと第２反射膜４１ｂとは、角度φの傾きを有している。この角度φにより、各反射膜４１ａ、４１ｂは、各反射膜４１ａ、４１ｂで反射されてサンプル流Ｓに照射される波長λ１及び波長λ２の光Ｌ１、Ｌ２の各照射スポットｓ１、ｓ２が、それぞれ分離するような角度の傾きを有しているといえる。 As described above, the first reflective film 41a and the second reflective film 41b have an inclination of the angle φ. Due to this angle φ, each of the reflection films 41a and 41b is reflected by the reflection films 41a and 41b, and the irradiation spots s1 and s2 of the light beams L1 and L2 having the wavelength λ1 and the wavelength λ2 irradiated on the sample flow S are respectively obtained. It can be said that it has an inclination of an angle to separate.

第１反射膜４１ａと第２反射膜４１ｂとの角度φは、波長λ１と波長λ２の各光Ｌ１、Ｌ２の照射スポットｓ１、ｓ２間の距離をｄ、焦点距離（集光レンズ５からサンプル流Ｓまでの距離）をｆとした場合、φ＝ｄ／２ｆと表される。本技術の微小粒子測定装置では、照射スポット間距離ｄは、例えば、１００〜２００μｍ程度（例えば、１５０μｍ）、焦点距離ｆは、例えば、１ｍｍ〜１０ｍｍ程度（例えば、４ｍｍ）として構成することができる。
図２では、サンプル流Ｓ、及び光Ｌ１、Ｌ２が、図２の平面内にあり、角度φが図２の平面に垂直な方向の軸回りの角度の場合を示しているが、この場合に限定されず、例えば、光Ｌ１、Ｌ２が図２の平面に垂直な方向で光学部材４に入射されるように配置されてもよい。 The angle φ between the first reflection film 41a and the second reflection film 41b is defined as the distance between the irradiation spots s1 and s2 of the light beams L1 and L2 having the wavelengths λ1 and λ2, d, and the focal length (from the condenser lens 5 to the sample flow). When the distance to S) is f, φ = d / 2f. In the fine particle measuring apparatus of the present technology, the distance d between the irradiation spots can be configured to be, for example, about 100 to 200 μm (for example, 150 μm), and the focal length f can be configured to be, for example, about 1 mm to 10 mm (for example, 4 mm). .
FIG. 2 shows the case where the sample flow S and the lights L1 and L2 are in the plane of FIG. 2 and the angle φ is an angle around an axis in a direction perpendicular to the plane of FIG. For example, the light L1 and L2 may be arranged so as to be incident on the optical member 4 in a direction perpendicular to the plane of FIG.

なお、例えば、青色の光を発する波長λ１は波長４５０〜４９５ｎｍ帯域（例えば、波長４８８ｎｍ）、赤色の光を発する波長λ２は波長６２０〜７５０ｎｍ帯域（例えば、波長６３８ｎｍ）が選択され得る。 For example, the wavelength λ1 for emitting blue light may be selected from the wavelength range of 450 to 495 nm (for example, wavelength 488 nm), and the wavelength λ2 for emitting red light may be selected from the wavelength range of 620 to 750 nm (for example, wavelength 638 nm).

第１実施形態に係る微小粒子測定装置では、光源１から出射される２以上の波長（本実施形態では２つの波長λ１、λ２）の光Ｌ１、Ｌ２を１つの光学部材４にて、各照射スポットｓ１、ｓ２を分離するようにしているため、各波長の光Ｌ１、Ｌ２の照射スポットｓ１、ｓ２が、サンプル流Ｓに対して、それぞれ別々に位置ずれすることを抑制することができる。よって、サンプル流Ｓ中の微小粒子Ｐに対して高精度に光を照射することが可能となる。 In the microparticle measurement apparatus according to the first embodiment, the light L1 and L2 having two or more wavelengths (in this embodiment, two wavelengths λ1 and λ2) emitted from the light source 1 are irradiated by the single optical member 4. Since the spots s1 and s2 are separated, it is possible to prevent the irradiation spots s1 and s2 of the light beams L1 and L2 having the respective wavelengths from being individually displaced with respect to the sample flow S. Therefore, it becomes possible to irradiate the fine particles P in the sample flow S with high accuracy.

一般に、２以上の異なる波長の光（複数の光源）のそれぞれに対して、光照射系を設計することが行われており、その光照射系におけるミラーマウントの高精度な管理・調整が必要である。そして、複数光源の各照射スポットが位置ずれした際には、各光源の光照射系を高精度に調整し直す必要が生じる。これに対して、本技術では、上述の通り、１つの光学部材４にて、サンプル流Ｓへの照射スポット（ｓ１、ｓ２）を分離するようにしているため、光照射系の管理（調整）が容易化されるとともに、照射スポットの位置ずれを抑制することができる。 In general, a light irradiation system is designed for each of two or more different wavelengths of light (a plurality of light sources), and high-precision management and adjustment of the mirror mount in the light irradiation system is required. is there. And when each irradiation spot of a plurality of light sources is displaced, it is necessary to readjust the light irradiation system of each light source with high accuracy. On the other hand, in the present technology, as described above, the irradiation spot (s1, s2) on the sample flow S is separated by one optical member 4, so that the light irradiation system is managed (adjusted). Can be facilitated, and displacement of the irradiation spot can be suppressed.

２．第２実施形態に係る微小粒子測定装置
図３に、本技術の第２実施形態に係る微小粒子測定装置の光照射系の構成を示す。図３についても図２と同様、コリメータレンズやミラー等の図示を省略している。
また、本実施形態の微小粒子測定装置における光照射系以外の構成については、例えば、第１実施形態（図１参照）で述べた構成と同様にすることができるため、説明を省略する。
本実施形態に係る微小粒子測定装置は、第１実施形態の微小粒子測定装置と比べて、光学部材の構成が異なる。 2. Microparticle Measurement Device According to Second Embodiment FIG. 3 shows a configuration of a light irradiation system of a microparticle measurement device according to a second embodiment of the present technology. Also in FIG. 3, the illustration of a collimator lens, a mirror, and the like is omitted as in FIG.
In addition, since the configuration other than the light irradiation system in the microparticle measurement apparatus of the present embodiment can be the same as the configuration described in the first embodiment (see FIG. 1), for example, the description is omitted.
The microparticle measurement apparatus according to this embodiment is different in the configuration of the optical member from the microparticle measurement apparatus according to the first embodiment.

本実施形態における光学部材４２は、光源１から出射される２以上の異なる波長の光に対して波長選択性を有する反射膜が複数層設けられている。そして、対向する２つ反射膜の間にスペーサが設けられ、そのスペーサにより反射膜が互いに傾きを有する構成を備えている。以下、光学部材４２の構成を具体的に述べる。 The optical member 42 in the present embodiment is provided with a plurality of reflective films having wavelength selectivity with respect to light of two or more different wavelengths emitted from the light source 1. A spacer is provided between the two reflective films facing each other, and the reflective film is inclined by the spacer. Hereinafter, the configuration of the optical member 42 will be specifically described.

光学部材４２は、平行平板状の板状基材（第１板状基材）４３と、対向する表面が互いに傾きを有する板状基材（第２板状基材）４４との間にスペーサ４５が設けられている。スペーサ４５は、光が通る部分（光学有効エリア）に穴が開いた形状とされている。
第１板状基材４３の対向する第１表面４３ａと第２表面４３ｂとは互いに平行であり、第２表面のみに反射膜（第１反射膜）４３ｂが形成されている。
第２板状基材４４の対向する第１表面４４ａ及び第２表面４４ｂには、ともに反射膜（第２反射膜４４ａ、第３反射膜４４ｂ）が形成されている。第２板状基材４４の第１表面と第２表面とは互いに傾きを有していることから、第２反射膜４４ａと第３反射膜４４ｂとが互いに傾きを有している。
そして、光学部材４２において、対向する第１板状基材４３の第２表面（第１反射膜）４３ｂと、第２板状基材４４の第１表面（第２反射膜）４４ａとは、第１板状基材４３と第２板状基材４４との間に設けられたスペーサ４５により、傾きを有して構成されている。
なお、スペーサ４５の材質は特に限定されず、例えば、各種樹脂材料、各種ゴム材料、各種金属材料等を用いることができる。 The optical member 42 is a spacer between a parallel plate-like plate-like substrate (first plate-like substrate) 43 and a plate-like substrate (second plate-like substrate) 44 whose opposing surfaces are inclined with respect to each other. 45 is provided. The spacer 45 has a shape in which a hole is formed in a portion (optical effective area) through which light passes.
The first surface 43a and the second surface 43b facing each other of the first plate-like substrate 43 are parallel to each other, and a reflective film (first reflective film) 43b is formed only on the second surface.
Reflective films (second reflective film 44a and third reflective film 44b) are formed on the first surface 44a and the second surface 44b facing each other of the second plate-shaped substrate 44. Since the first surface and the second surface of the second plate-shaped substrate 44 have an inclination, the second reflection film 44a and the third reflection film 44b have an inclination.
In the optical member 42, the second surface (first reflective film) 43b of the first plate-like base material 43 and the first surface (second reflective film) 44a of the second plate-like base material 44 are: The spacer 45 provided between the first plate-like base material 43 and the second plate-like base material 44 is configured with an inclination.
In addition, the material of the spacer 45 is not specifically limited, For example, various resin materials, various rubber materials, various metal materials, etc. can be used.

本実施形態では、光学部材４２が３層の反射膜４３ｂ、４４ａ、４４ｂを備えており、光源１から出射される３波長の光Ｌ３〜Ｌ５に対応することが可能となる。以下、具体的に述べる。 In the present embodiment, the optical member 42 includes three layers of reflective films 43b, 44a, and 44b, and can correspond to the three wavelengths of light L3 to L5 emitted from the light source 1. The details will be described below.

本実施形態では、光源１から少なくとも３波長（λ３、λ４、λ５）の光Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５が出射され、光学部材４２における第１板状基材４３の第１表面４３ａに入射される。
波長λ３の光Ｌ３（例えば、青色の光）は、光学部材４２の第１板状基材４３の第１表面４３ａを透過し、第２表面に形成された第１反射膜４３ｂによって反射され、集光レンズ５を経てサンプル流Ｓ上に照射される（図３の照射スポットｓ３参照）。
波長λ４の光Ｌ４（例えば、緑色の光）は、第１板状基材４３の第１表面４３ａ及び第２表面（第１反射膜）４３ｂを透過し、両板状基材４３、４４間にある空気層Ａを経て、第２板状基材４４の第１表面に形成された第２反射膜４３ａによって反射され、集光レンズ５を経て、サンプル流Ｓ上に照射される（図３の照射スポットｓ４参照）。
波長λ５の光Ｌ５（例えば、赤色の光）は、第１板状基材４３の第１表面４３ａ、第２表面（第１反射膜）４３ｂ、及び第２板状基材４４の第１表面（第２反射膜）４４ａを透過し、第２板状基材４４の第２表面に形成された第３反射膜４４ｂによって反射され、集光レンズ５を経て、サンプル流Ｓ上に照射される（図３の照射スポットｓ５参照）。 In the present embodiment, light L3, L4, and L5 having at least three wavelengths (λ3, λ4, and λ5) are emitted from the light source 1 and are incident on the first surface 43a of the first plate-like substrate 43 in the optical member.
The light L3 (for example, blue light) having the wavelength λ3 is transmitted through the first surface 43a of the first plate-like base material 43 of the optical member 42, and is reflected by the first reflective film 43b formed on the second surface, Irradiation onto the sample stream S through the condenser lens 5 (see irradiation spot s3 in FIG. 3).
Light L4 having a wavelength λ4 (for example, green light) is transmitted through the first surface 43a and the second surface (first reflective film) 43b of the first plate-like substrate 43, and between the plate-like substrates 43 and 44. Is reflected by the second reflective film 43a formed on the first surface of the second plate-like substrate 44, passes through the condenser lens 5, and is irradiated onto the sample flow S (FIG. 3). (See irradiation spot s4).
The light L5 (for example, red light) having a wavelength λ5 is a first surface 43a of the first plate-like substrate 43, a second surface (first reflective film) 43b, and a first surface of the second plate-like substrate 44. (Second reflection film) 44 a is transmitted, reflected by the third reflection film 44 b formed on the second surface of the second plate-like substrate 44, and irradiated on the sample flow S through the condenser lens 5. (See irradiation spot s5 in FIG. 3).

このように、光学部材４２において、各反射膜４３ｂ、４４ａ、４４ｂが、それぞれ互いに傾きを有することにより、光源１から出射される異なる波長（λ３、λ４、λ５）の光（Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５）のサンプル流Ｓ上への照射スポット（ｓ３、ｓ４、ｓ５）をそれぞれ分離させることができる。 As described above, in the optical member 42, the reflection films 43b, 44a, and 44b are inclined with respect to each other, so that lights (L3, L4, and L5) of different wavelengths (λ3, λ4, and λ5) emitted from the light source 1 are obtained. ) Can be separated from the irradiation spots (s3, s4, s5) on the sample flow S.

なお、例示した各色の各波長について、波長λ３は波長４５０〜４９５ｎｍ帯域（例えば、波長４８８ｎｍ）、波長λ４は波長４９５〜５７０ｎｍ帯域（例えば、波長５６１ｎｍ）、波長λ５は波長６２０〜７５０ｎｍ帯域（例えば、波長６３８ｎｍ）が選択され得る。 For each wavelength of the exemplified colors, the wavelength λ3 is a wavelength 450 to 495 nm band (for example, wavelength 488 nm), the wavelength λ4 is a wavelength 495 to 570 nm band (for example, wavelength 561 nm), and the wavelength λ5 is a wavelength 620 to 750 nm band (for example, , Wavelength 638 nm) can be selected.

第２実施形態に係る微小粒子測定装置では、光源１から出射される２以上の波長（本実施形態では３つの波長λ３〜λ５）の光Ｌ３〜Ｌ５を１つの光学部材４２にて、各照射スポット（ｓ３〜ｓ５）を分離するようにしているため、各波長λ３〜λ５の光Ｌ３〜Ｌ５の照射スポットｓ３〜ｓ５が、サンプル流Ｓに対して、それぞれ別々に位置ずれするのを抑制することができる。よって、サンプル流Ｓ中の微小粒子Ｐに対して高精度に光を照射することが可能となる。 In the microparticle measurement apparatus according to the second embodiment, the light L3 to L5 having two or more wavelengths (three wavelengths λ3 to λ5 in the present embodiment) emitted from the light source 1 is irradiated on each optical member 42. Since the spots (s3 to s5) are separated, the irradiation spots s3 to s5 of the light beams L3 to L5 having the wavelengths λ3 to λ5 are prevented from being individually displaced with respect to the sample flow S. be able to. Therefore, it becomes possible to irradiate the fine particles P in the sample flow S with high accuracy.

３．第３実施形態に係る微小粒子測定装置
図４に、本技術の第３実施形態に係る微小粒子測定装置の光照射系の構成を示す。図４についても図２と同様、コリメータレンズやミラー等の図示を省略している。
また、本実施形態の微小粒子測定装置における光照射系以外の構成についても、例えば、第１実施形態（図１参照）で述べた構成と同様にすることができるため、説明を省略する。
本実施形態に係る微小粒子測定装置についても、第１実施形態の微小粒子測定装置と比べて、光学部材の構成が異なる。 3. FIG. 4 shows a configuration of a light irradiation system of a microparticle measurement apparatus according to a third embodiment of the present technology. Also in FIG. 4, the illustration of a collimator lens, a mirror, and the like is omitted as in FIG.
In addition, since the configuration other than the light irradiation system in the microparticle measurement apparatus of the present embodiment can be the same as the configuration described in the first embodiment (see FIG. 1), for example, the description is omitted.
The configuration of the optical member of the microparticle measurement device according to this embodiment is also different from that of the microparticle measurement device of the first embodiment.

本実施形態における光学部材４６は、光源１から出射される２以上の異なる波長の光に対して波長選択性を有する反射膜が複数層（本実施形態では４層）設けられている。そして、光学部材４６は、各反射膜が傾きを有するように構成されている。以下、光学部材４６の構成を具体的に述べる。 The optical member 46 in the present embodiment is provided with a plurality of layers (four layers in this embodiment) of reflective films having wavelength selectivity with respect to light of two or more different wavelengths emitted from the light source 1. The optical member 46 is configured such that each reflective film has an inclination. Hereinafter, the configuration of the optical member 46 will be specifically described.

光学部材４６は、２つの板状基材（第１板状基材４７及び第２板状基材４８）を備え、両板状基材４７、４８が透明な接着剤４９により接着されて構成されている。接着剤４９の材質は特に限定されず、例えば、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、ウレタン樹脂系等の接着剤を用いることができる。接着剤４９は、第１板状基材４７の第２表面４７ｂと第２板状基材４８の第１表面４８ａの面全体に設けてもよく、第１板状基材４７の第２表面４７ｂと第２板状基材４８の第１表面４８ａの周辺部のみに設けてもよい。 The optical member 46 includes two plate-like base materials (a first plate-like base material 47 and a second plate-like base material 48), and both the plate-like base materials 47 and 48 are bonded by a transparent adhesive 49. Has been. The material of the adhesive 49 is not specifically limited, For example, adhesives, such as an acrylic resin type, an epoxy resin type, a urethane resin type, can be used. The adhesive 49 may be provided on the entire surface of the second surface 47 b of the first plate-like substrate 47 and the first surface 48 a of the second plate-like substrate 48, and the second surface of the first plate-like substrate 47. 47b and the second plate-like substrate 48 may be provided only on the periphery of the first surface 48a.

第１板状基材４７は、対向する第１表面４７ａと第２表面４７ｂとが互いに非平行で傾きを有している。第２板状基材４８も、対向する第１表面４８ａと第２表面４８ｂとが互いに非平行で傾きを有している。また、光学部材４６は、第１板状基材４７の第２表面４７ｂと、第２板状基材４８の第１表面４８ａとが、互いに非平行で傾きを有して構成されている。
第１板状基材４７の第１表面及び第２表面には、それぞれ第１反射膜４７ａ及び第２反射膜４７ｂが形成されている。また、第２板状基材４８の第１表面及び第２表面にも、それぞれ第３反射膜４８ａ及び第４反射膜４８ｂが形成されている。そのため、光学部材４６において、各反射膜４７ａ、４７ｂ、４８ａ、４８ｂは、いずれも傾きを有して構成されている。 In the first plate-like base material 47, the first surface 47a and the second surface 47b facing each other are not parallel to each other and have an inclination. Also in the second plate-like substrate 48, the first surface 48a and the second surface 48b facing each other are not parallel to each other and have an inclination. The optical member 46 is configured such that the second surface 47b of the first plate-like base material 47 and the first surface 48a of the second plate-like base material 48 are not parallel to each other and have an inclination.
A first reflective film 47a and a second reflective film 47b are formed on the first surface and the second surface of the first plate-like substrate 47, respectively. A third reflective film 48a and a fourth reflective film 48b are also formed on the first surface and the second surface of the second plate-shaped substrate 48, respectively. Therefore, in the optical member 46, each of the reflection films 47a, 47b, 48a, 48b is configured with an inclination.

本実施形態では、光学部材４６が４層の反射膜４７ａ、４７ｂ、４８ａ、４８ｂを備えており、光源１から出射される４波長の光Ｌ６〜Ｌ９に対応することが可能となる。以下、具体的に述べる。 In the present embodiment, the optical member 46 includes four layers of reflective films 47 a, 47 b, 48 a, and 48 b, and can correspond to the four wavelengths of light L 6 to L 9 emitted from the light source 1. The details will be described below.

本実施形態では、光源１から少なくとも４波長（λ６、λ７、λ８、λ９）の光（Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９）が出射され、光学部材４６における第１板状基材４７の第１表面（第１反射膜）４７ａに入射される。
波長λ６の光Ｌ６（例えば、紫色の光）は、光学部材４６の第１板状基材４７の第１表面に形成された第１反射膜４７ａによって反射され、集光レンズ５を経てサンプル流Ｓ上に照射される（図４の照射スポットｓ６参照）。
波長λ７の光Ｌ７（例えば、青色の光）は、第１板状基材４７の第１表面（第１反射膜）４７ａを透過し、第１板状基材４７の第２表面に形成された第２反射膜４７ｂによって反射され、集光レンズ５を経て、サンプル流Ｓ上に照射される（図４の照射スポットｓ７参照）。
波長λ８の光Ｌ８（例えば、緑色の光）は、第１板状基材４７の第１表面（第１反射膜）４７ａ及び第２表面（第２反射膜）４７ｂを透過し、接着剤４９の層を経て、第２板状基材４８の第１表面に形成された第３反射膜４８ａによって反射され、集光レンズ５を経て、サンプル流Ｓ上に照射される（図４の照射スポットｓ８参照）。
波長λ９の光Ｌ９（例えば、赤色の光）は、第１板状基材４７の第１表面（第１反射膜）４７ａ及び第２表面（第２反射膜）４７ｂを透過し、接着剤４９の層を経て、さらに第２板状基材４８の第１表面（第３反射膜）４８ａをも透過し、第２板状基材４８の第２表面に形成された第４反射膜４８ｂによって反射される。そして、第４反射膜４８ｂによって反射された波長λ９の光Ｌ９は、集光レンズ５を経て、サンプル流Ｓ上に照射される（図４の照射スポットｓ９参照）。 In the present embodiment, light (L6, L7, L8, L9) of at least four wavelengths (λ6, λ7, λ8, λ9) is emitted from the light source 1, and the first surface of the first plate-like substrate 47 in the optical member 46 is emitted. The light enters the first reflective film 47a.
Light L6 having a wavelength λ6 (for example, purple light) is reflected by the first reflecting film 47a formed on the first surface of the first plate-like substrate 47 of the optical member 46, passes through the condenser lens 5, and flows through the sample. The light is irradiated onto S (see irradiation spot s6 in FIG. 4).
Light L7 having a wavelength λ7 (for example, blue light) is transmitted through the first surface (first reflective film) 47a of the first plate-like substrate 47 and formed on the second surface of the first plate-like substrate 47. Then, the light is reflected by the second reflective film 47b, passes through the condenser lens 5, and is irradiated onto the sample flow S (see the irradiation spot s7 in FIG. 4).
The light L8 (for example, green light) having the wavelength λ8 is transmitted through the first surface (first reflective film) 47a and the second surface (second reflective film) 47b of the first plate-like substrate 47, and the adhesive 49 4 is reflected by the third reflecting film 48a formed on the first surface of the second plate-like substrate 48, and is irradiated onto the sample flow S through the condenser lens 5 (irradiation spot in FIG. 4). see s8).
The light L9 (for example, red light) having the wavelength λ9 is transmitted through the first surface (first reflective film) 47a and the second surface (second reflective film) 47b of the first plate-like substrate 47, and the adhesive 49 Through this layer, the first surface (third reflective film) 48a of the second plate-like base material 48 is further transmitted, and the fourth reflective film 48b formed on the second surface of the second plate-like base material 48 is used. Reflected. Then, the light L9 having the wavelength λ9 reflected by the fourth reflective film 48b is irradiated onto the sample stream S through the condenser lens 5 (see the irradiation spot s9 in FIG. 4).

このように、光学部材４６において、各反射膜（第１反射膜４７ａ、第２反射膜４７ｂ、第３反射膜４８ａ、及び第４反射膜４８ｂ）が、それぞれ傾きを有することにより、光源１から出射される異なる波長（λ６〜λ９）の光（Ｌ６〜Ｌ９）のサンプル流Ｓ上への照射スポット（ｓ６〜ｓ９）をそれぞれ分離させることができる。 Thus, in the optical member 46, each reflective film (the 1st reflective film 47a, the 2nd reflective film 47b, the 3rd reflective film 48a, and the 4th reflective film 48b) has each inclination, and is from the light source 1. Irradiation spots (s6 to s9) onto the sample flow S of the emitted light (L6 to L9) having different wavelengths (λ6 to λ9) can be separated from each other.

なお、例示した各色の各波長については、波長λ６は波長３８０〜４５０ｎｍ帯域（例えば、波長４０５ｎｍ）、波長λ７は波長４５０〜４９５ｎｍ帯域（例えば、波長４８８ｎｍ）、波長λ８は波長４９５〜５７０ｎｍ帯域（例えば、波長５６１ｎｍ）、波長λ９は波長６２０〜７５０ｎｍ帯域（例えば、波長６３８ｎｍ）が選択され得る。 For each wavelength of the exemplified colors, the wavelength λ6 is a wavelength band of 380 to 450 nm (for example, a wavelength of 405 nm), the wavelength λ7 is a wavelength of 450 to 495 nm (for example, a wavelength of 488 nm), and the wavelength λ8 is a wavelength of 495 to 570 nm ( For example, the wavelength of 561 nm) and the wavelength λ9 may be selected from the wavelength band of 620 to 750 nm (for example, wavelength of 638 nm).

第３実施形態に係る微小粒子測定装置では、光源１から出射される２以上の波長（本実施形態では４つの波長λ６〜λ９）の光（Ｌ６〜Ｌ９）を１つの光学部材４６にて、各照射スポット（ｓ６〜ｓ９）を分離するようにしているため、各波長（λ６〜λ９）の光（Ｌ６〜Ｌ９）の照射スポット（ｓ６〜ｓ９）が、サンプル流Ｓに対して、それぞれ別々に位置ずれするのを抑制することができる。よって、サンプル流Ｓ中の微小粒子Ｐに対して高精度に光を照射することが可能となる。 In the microparticle measurement apparatus according to the third embodiment, the light (L6 to L9) having two or more wavelengths (four wavelengths λ6 to λ9 in the present embodiment) emitted from the light source 1 is emitted from one optical member 46. Since the irradiation spots (s6 to s9) are separated, the irradiation spots (s6 to s9) of the light (L6 to L9) of the respective wavelengths (λ6 to λ9) are separated from the sample stream S, respectively. Can be prevented from being displaced. Therefore, it becomes possible to irradiate the fine particles P in the sample flow S with high accuracy.

４．各実施形態における共通事項
最後に、上述した以外に各実施形態に係る微小粒子測定装置が有する共通事項を述べる。 4). Common Items in Each Embodiment Finally, common items of the microparticle measurement apparatus according to each embodiment other than those described above will be described.

本技術の微小粒子測定装置では、２以上の波長の光を１つの光学部材にて、各照射スポットを分離するようにしているため、各波長の光の照射スポットが各々で位置ずれすることを防止できる。また、１つの光学部材で複数の照射スポットを一括して調整することができるため、アライメントが容易となる。 In the fine particle measuring apparatus according to the present technology, each irradiation spot is separated by using a single optical member for light having two or more wavelengths. Can be prevented. In addition, since a plurality of irradiation spots can be collectively adjusted with one optical member, alignment becomes easy.

本技術の微小粒子測定装置における光源から照射される光の波長は、上述の各実施形態で述べた波長又は波長帯域に限定されず、ユーザーが適宜自由に選ぶことができる。その場合、光学部材における反射膜が有する波長選択性は、適宜設定することができる。
また、場合によっては、使用する光源又は使用する光源における光の波長に応じて、光学部材自体をユーザーが適宜交換することも可能である。 The wavelength of light emitted from the light source in the microparticle measurement device of the present technology is not limited to the wavelength or wavelength band described in each of the above-described embodiments, and can be freely selected by the user as appropriate. In that case, the wavelength selectivity of the reflective film in the optical member can be set as appropriate.
In some cases, the optical member itself can be appropriately replaced by the user according to the light source to be used or the wavelength of light in the light source to be used.

上記各実施形態では、短波長側の光から順に、光学部材の反射膜で反射されるように構成されている光照射系を例示したが、反射される光（波長）の順序は特に限定されない。例えば、長波長側の光から順に、光学部材の反射膜で反射されるように構成されていてもよい。 In each of the above embodiments, the light irradiation system configured to be reflected by the reflective film of the optical member in order from the light on the short wavelength side is exemplified, but the order of the reflected light (wavelength) is not particularly limited. . For example, you may be comprised so that it may reflect in the reflective film of an optical member in order from the light of a long wavelength side.

第１実施形態では２層の反射膜、第２実施形態では３層の反射膜、第３実施形態では４層の反射膜が形成されている構成を例示したが、各実施形態における光学部材４、４２、４６について、反射膜をさらに増やして構成してもよい。また、反射膜は５層以上とすることも可能である。 In the first embodiment, a configuration in which a two-layer reflective film is formed, in the second embodiment a three-layer reflective film is formed, and in the third embodiment, a four-layer reflective film is formed, but the optical member 4 in each embodiment is illustrated. , 42, 46 may be configured by further increasing the reflective film. Further, the reflective film may be five layers or more.

なお、本技術は以下のような構成も取ることができる。
（１）２以上の異なる波長の光を出射する光源と、該光源からの光が入射されて、微小粒子が通流するサンプル流へ向かって前記光を反射する光学部材と、を備え、
前記光学部材は、前記２以上の異なる波長の光のいずれかに対して波長選択性を有する反射膜が複数層設けられ、前記反射膜が互いに傾きを有して構成されている、微小粒子測定装置。
（２）前記反射膜は、各反射膜により反射されて前記サンプル流に照射される前記異なる波長の光の照射スポットが分離するような角度の傾きを有している、前記（１）に記載の微小粒子測定装置。
（３）前記光学部材は、第１表面と第２表面とが互いに傾きを有して対向する板状基材と、前記板状基材の第１表面に形成された第１反射膜と、前記板状基材の第２表面に形成された第２反射膜と、を備えて構成されている、前記（１）又は（２）に記載の微小粒子測定装置。
（４）前記光学部材は、対向する反射膜間に前記傾きを形成するスペーサが設けられて構成されている、前記（１）〜（３）のいずれか１つに記載の微小粒子測定装置。
（５）２以上の異なる波長の光を出射する光源と、該光源からの光が入射され、照射対象物へ向かって前記光を反射する光学部材と、を備え、
前記光学部材は、前記２以上の異なる波長の光のいずれかに対して波長選択性を有する反射膜が複数層設けられ、前記反射膜が互いに傾きを有して構成されている光照射装置。
（６）２以上の異なる波長の光のいずれかに対して波長選択性を有する反射膜が複数層設けられ、前記反射膜が互いに傾きを有して構成されている、微小粒子測定装置用の光学部材。 In addition, this technique can also take the following structures.
(1) a light source that emits light of two or more different wavelengths, and an optical member that receives the light from the light source and reflects the light toward a sample flow through which microparticles flow,
The optical member is provided with a plurality of reflective films having wavelength selectivity with respect to any one of the two or more different wavelengths of light, and the reflective films are configured to be inclined with respect to each other. apparatus.
(2) The reflective film has an inclination of an angle such that irradiation spots of the light of different wavelengths that are reflected by the respective reflective films and irradiated on the sample stream are separated. Fine particle measuring device.
(3) The optical member includes a plate-like base material in which the first surface and the second surface face each other with an inclination, and a first reflective film formed on the first surface of the plate-like base material, The fine particle measuring apparatus according to (1) or (2), comprising: a second reflective film formed on the second surface of the plate-like substrate.
(4) The microparticle measurement apparatus according to any one of (1) to (3), wherein the optical member is configured by providing a spacer that forms the inclination between opposing reflective films.
(5) a light source that emits light of two or more different wavelengths, and an optical member that receives light from the light source and reflects the light toward the irradiation target,
The optical member is a light irradiation apparatus in which a plurality of reflective films having wavelength selectivity with respect to any of the two or more different wavelengths of light are provided, and the reflective films are inclined with respect to each other.
(6) A plurality of reflective films having wavelength selectivity with respect to any of two or more different wavelengths of light are provided, and the reflective films are configured to have an inclination to each other. Optical member.

本技術に係る微小粒子測定装置は、サンプル流上の複数の照射スポットの位置ずれを抑制でき、微小粒子に対して高精度に光を照射することが可能である。従って、本技術は、フローサイトメータあるいはセルソータ等の微小粒子測定装置として好適に実施され得る。 The microparticle measurement apparatus according to the present technology can suppress positional deviation of a plurality of irradiation spots on the sample flow, and can irradiate the microparticles with high accuracy. Therefore, the present technology can be suitably implemented as a microparticle measuring apparatus such as a flow cytometer or a cell sorter.

１光源
４光学部材
４１板状基材
４１ａ第１反射膜（板状基材の第１表面）
４１ｂ第２反射膜（板状基材の第２表面）
４２光学部材
４３第１板状基材
４３ａ第１板状基材の第１表面
４３ｂ第１反射膜（第１板状基材の第２表面）
４４第２板状基材
４４ａ第２反射膜（第２板状基材の第１表面）
４４ｂ第３反射膜（第２板状基材の第２表面）
４５スペーサ
４６光学部材
４７第１板状基材
４７ａ第１反射膜（第１板状基材の第１表面）
４７ｂ第２反射膜（第１板状基材の第２表面）
４８第２板状基材
４８ａ第３反射膜（第２板状基材の第１表面）
４８ｂ第４反射膜（第２板状基材の第２表面）
４９接着剤
Ｓサンプル流
Ｐ微小粒子
Ｌ１〜Ｌ９光
ｓ１〜ｓ９照射スポット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light source 4 Optical member 41 Plate-shaped base material 41a 1st reflecting film (1st surface of a plate-shaped base material)
41b Second reflective film (second surface of plate-like substrate)
42 optical member 43 first plate-like substrate 43a first surface of first plate-like substrate 43b first reflection film (second surface of first plate-like substrate)
44 2nd plate-shaped base material 44a 2nd reflective film (1st surface of 2nd plate-shaped base material)
44b 3rd reflective film (2nd surface of 2nd plate-shaped base material)
45 Spacer 46 Optical member 47 First plate-like substrate 47a First reflective film (first surface of the first plate-like substrate)
47b Second reflective film (second surface of first plate-like substrate)
48 2nd plate-shaped base material 48a 3rd reflective film (1st surface of 2nd plate-shaped base material)
48b Fourth reflective film (second surface of second plate-like substrate)
49 Adhesive S Sample flow P Fine particles L1 to L9 Light s1 to s9 Irradiation spot

Claims

２以上の異なる波長の光を出射する光源と、
該光源からの光が入射されて、微小粒子が通流するサンプル流へ向かって前記光を反射する光学部材と、
を備え、
前記光学部材は、
前記２以上の異なる波長の光のいずれかに対して波長選択性を有する反射膜が複数層設けられ、前記反射膜が互いに傾きを有して構成されている微小粒子測定装置。 A light source that emits light of two or more different wavelengths;
An optical member that receives light from the light source and reflects the light toward a sample stream through which microparticles flow;
With
The optical member is
A fine particle measuring apparatus in which a plurality of reflection films having wavelength selectivity with respect to any one of the two or more different wavelengths of light are provided, and the reflection films are inclined with respect to each other.

前記反射膜は、各反射膜により反射されて前記サンプル流に照射される前記異なる波長の光の照射スポットが分離するような角度の傾きを有している請求項１記載の微小粒子測定装置。 The fine particle measuring apparatus according to claim 1, wherein the reflection film has an inclination of an angle such that irradiation spots of the light having different wavelengths that are reflected by the respective reflection films and irradiated on the sample flow are separated.

前記光学部材は、
第１表面と第２表面とが互いに傾きを有して対向する板状基材と、
前記板状基材の第１表面に形成された第１反射膜と、
前記板状基材の第２表面に形成された第２反射膜と、
を備えて構成されている請求項１記載の微小粒子測定装置。 The optical member is
A plate-like substrate in which the first surface and the second surface face each other with an inclination;
A first reflective film formed on the first surface of the plate-like substrate;
A second reflective film formed on the second surface of the plate-like substrate;
The fine particle measuring apparatus according to claim 1, comprising:

前記光学部材は、
対向する反射膜間に前記傾きを形成するスペーサが設けられて構成されている請求項１記載の微小粒子測定装置。 The optical member is
The fine particle measuring apparatus according to claim 1, wherein a spacer for forming the inclination is provided between the opposing reflecting films.

２以上の異なる波長の光を出射する光源と、
該光源からの光が入射され、照射対象物へ向かって前記光を反射する光学部材と、
を備え、
前記光学部材は、
前記２以上の異なる波長の光のいずれかに対して波長選択性を有する反射膜が複数層設けられ、前記反射膜が互いに傾きを有して構成されている光照射装置。 A light source that emits light of two or more different wavelengths;
An optical member that receives light from the light source and reflects the light toward an irradiation target;
With
The optical member is
A light irradiation apparatus in which a plurality of reflection films having wavelength selectivity with respect to any of the two or more different wavelengths of light are provided, and the reflection films are inclined with respect to each other.

２以上の異なる波長の光のいずれかに対して波長選択性を有する反射膜が複数層設けられ、前記反射膜が互いに傾きを有して構成されている微小粒子測定装置用の光学部材。 An optical member for a microparticle measuring apparatus, wherein a plurality of reflective films having wavelength selectivity with respect to any one of two or more different wavelengths of light are provided, and the reflective films are configured to have an inclination.