JP2013142941A - Touch panel member and display device having touch panel member - Google Patents

Touch panel member and display device having touch panel member Download PDF

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真 薄田
Yoshihiro Kobayashi
義弘 小林
Yuji Nakatsugawa
雄二 中津川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel member with a resin base material and having an excellent gas barrier property, and a display device having the touch panel member.SOLUTION: A touch panel member 1 includes: a resin base material 2; a touch panel electrode layer having a plurality of electrode parts arranged on the resin base material; electrical wiring having a wiring part 3 arranged on the resin base material and electrically coupled to the electrode parts, and an external connection region arranged at an end portion of the wiring part; a ground layer 11 covering the touch panel electrode layer; and a gas barrier layer covering the touch panel electrode layer on the ground layer. A steam permeability in a region covered by the ground layer and the gas barrier layer is 0.1 g/m/day or less at a temperature of 37.8°C and relative humidity of 100% RH. At least one of the ground layer and the gas barrier layer covers the wiring part. The gas barrier layer includes at least one inorganic layer including an inorganic compound.

Description

本発明は、タッチパネル部材およびタッチパネル部材付き表示装置に関するものである。   The present invention relates to a touch panel member and a display device with a touch panel member.

近年、タッチパネルは、表示装置と座標検出装置を組み合わせた、入力デバイスとして注目を集めており、携帯電話、携帯音楽再生装置などのポータブルデバイス、自動販売機、パーソナルコンピュータの画面などを種々の技術分野において搭載機種が増加している。   In recent years, touch panels have been attracting attention as input devices that combine display devices and coordinate detection devices. Various technical fields include portable devices such as mobile phones and portable music playback devices, vending machines, and personal computer screens. The number of installed models is increasing.

例えば、特許文献１には、ガラス基板を用いるタッチパネルの該ガラス基板の裏側にＥＬ素子を含むＥＬ表示パネルを形成したタッチパネル一体型の有機ＥＬ表示装置の態様が開示されている（特許文献１段落［００６７］〜［００７０］、図１２）。   For example, Patent Document 1 discloses an embodiment of a touch panel integrated organic EL display device in which an EL display panel including an EL element is formed on the back side of a glass substrate using a glass substrate (Patent Document 1 paragraph). [0067] to [0070], FIG. 12).

特許文献１に開示のタッチパネルにも示されるように、タッチパネルの基材としてガラス基板は汎用されている。これに対し、デバイスの軽量化の点などから、より重量の軽い樹脂フィルムをタッチパネルの基材として使用することが望まれる場合がある。   As shown in the touch panel disclosed in Patent Document 1, a glass substrate is widely used as a base material for a touch panel. On the other hand, it may be desired to use a lighter resin film as the base material of the touch panel in view of reducing the weight of the device.

特開２００４−３４８６８６JP 2004-348686 A 特開２００９−７３０９０JP2009-73090

しかしながら、透明フィルムなどの樹脂基材は、ガラス基材と比較するとガスバリヤ性に劣り、例えば表示パネルなどの表示部材と組み合わせてタッチパネル部材付き表示装置を製造した場合に、タッチ面側から浸透する水蒸気や酸素などの気体、あるいは、微量ではあるが、タッチパネル部材内から表示装置側に浸透する水蒸気などの気体が、表示部材に望ましくない影響を与える虞があった。   However, a resin base material such as a transparent film is inferior in gas barrier properties as compared with a glass base material, and for example, when a display device with a touch panel member is manufactured in combination with a display member such as a display panel, water vapor penetrates from the touch surface side. There is a possibility that a gas such as oxygen or a gas such as water vapor that penetrates the touch panel member from the inside of the touch panel member to the display device side may adversely affect the display member.

タッチパネル部材の技術分野外ではあるが、機能性フィルムの分野においては、バリヤ機能を有するフィルムが提案されている。例えば特許文献２には、透明な樹脂基板の少なくとも一方の面に、光学膜が設けられ、さらに該光学膜上に透明導電膜が備えられた機能性フィルムが開示されており、上記光学膜は、光学機能と水蒸気に対するバリヤ機能とを備えることが記載されている（例えば、特許文献２請求項１、図１〜図３）。しかし、これらのバリヤ機能をタッチパネル部材に応用する具体的な技術は何ら開示されていない。   Although outside the technical field of touch panel members, films having a barrier function have been proposed in the field of functional films. For example, Patent Document 2 discloses a functional film in which an optical film is provided on at least one surface of a transparent resin substrate, and a transparent conductive film is further provided on the optical film. It is described that it has an optical function and a barrier function against water vapor (for example, Patent Document 2, Claim 1, FIGS. 1 to 3). However, no specific technique for applying these barrier functions to the touch panel member is disclosed.

また、樹脂基材を用いるタッチパネル部材のガスバリヤ性を向上させるために、タッチパネル用電極層上に粘着層を設け、該粘着層を介して、たとえば、特許第４３７３２７０号に開示されるごときガスバリヤフィルムをタッチパネル部材のタッチ面側に貼り付けるという手段も考えられるが、該粘着層がタッチパネル部材の光透過性を下げ、あるいは光散乱などを起こす可能性があることを考慮しなければならなかった。   In addition, in order to improve the gas barrier property of the touch panel member using the resin base material, an adhesive layer is provided on the electrode layer for the touch panel, and a gas barrier film as disclosed in, for example, Japanese Patent No. 4373270 is provided through the adhesive layer. Although a means of attaching to the touch surface side of the touch panel member is also conceivable, it has been necessary to consider that the adhesive layer may reduce the light transmittance of the touch panel member or cause light scattering.

さらに本発明者らは、タッチパネル部材に関するガスバリヤ性について鋭意検討した結果、タッチパネル部材に設けられるタッチパネル用電極層に電気的に接続される配線部に対してもガスバリヤ性が発揮されることが望ましいことがわかった。これは、配線部が、一般に微細な配線パターンで電気伝導性のある材料から形成されており、水蒸気などの浸透に影響を受け、配線部間においてイオンマイグレーションが生じ、短絡が発生する虞があるという課題を有していることがわかったのである。
即ち、タッチパネル部材は、樹脂基材を用いたときのタッチパネル部材自体のガスバリヤ性の問題と、タッチパネル部材内における配線部に対するガスバリヤ性という２つの課題を有していることがわかった。 Furthermore, as a result of intensive studies on the gas barrier property relating to the touch panel member, it is desirable that the gas barrier property be exerted also on the wiring portion electrically connected to the electrode layer for the touch panel provided on the touch panel member. I understood. This is because the wiring part is generally formed of a conductive material with a fine wiring pattern, and is affected by the penetration of water vapor and the like, ion migration may occur between the wiring parts, and a short circuit may occur. It turns out that it has the problem.
That is, it has been found that the touch panel member has two problems, that is, the gas barrier property of the touch panel member itself when the resin base material is used and the gas barrier property to the wiring portion in the touch panel member.

本発明は上記課題を鑑みなされたものであり、基材として樹脂基材を備え、且つ、上記２つのガスバリヤ性に関する課題を解決するタッチパネル部材、および上記タッチパネル部材を用いたタッチパネル部材付き表示装置を提案するものである。   The present invention has been made in view of the above problems, and includes a touch panel member that includes a resin base material as a base material and solves the above two problems related to gas barrier properties, and a display device with a touch panel member using the touch panel member. It is what we propose.

本発明は、
（１）樹脂基材と、
上記樹脂基材上に設けられた複数の電極部を備えるタッチパネル用電極層と、
上記樹脂基材上に設けられ、上記電極部に電気的に接続される配線部および該配線部の端部において設けられる外部接続領域を備える電気配線と、
少なくとも上記タッチパネル用電極層を覆う下地層と、
上記下地層上において、少なくとも上記タッチパネル用電極層を覆うガスバリヤ層と、を備え、
上記下地層および上記ガスバリヤ層により覆われる領域における水蒸気透過率が、温度３７．８℃、相対湿度１００％ＲＨにおいて０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であり、
上記下地層および上記ガスバリヤ層の少なくともいずれか一層が、上記配線部を覆っており、
上記ガスバリヤ層が、無機化合物を含む無機層を少なくとも一層備えることを特徴とするタッチパネル部材、
（２）上記ガスバリヤ層に含まれる少なくとも一層の無機層の膜密度が、２．０ｇ／ｃｍ３以上であることを特徴とする上記（１）に記載のタッチパネル部材、
（３）上記下地層が、有機化合物を含む有機層を備えることを特徴とする上記（１）または（２）に記載のタッチパネル部材、
（４）上記下地層に高屈折率材料が含有されており、該下地層の屈折率と、該下地層と上記樹脂基材との間に位置するタッチパネル用電極層の屈折率との差が、０．２以下であることを特徴とする上記（１）から（３）のいずれかに記載のタッチパネル部材、
（５）表示部材用基材上に表示媒体を備える表示部材と、
上記表示部材の視認面に設けられるタッチパネル部材と、を備え、
上記タッチパネル部材は、
樹脂基材と、
上記樹脂基材上に設けられた複数の電極部を備えるタッチパネル用電極層と、
上記樹脂基材上に設けられ、上記電極部に電気的に接続される配線部および該配線部の端部において設けられる外部接続領域を備える電気配線と、
少なくとも上記タッチパネル用電極層を覆う下地層と、
上記下地層上において、少なくとも上記タッチパネル用電極層を覆うガスバリヤ層と、を備え、
上記下地層および上記ガスバリヤ層により覆われる領域における水蒸気透過率が、温度３７．８℃、相対湿度１００％ＲＨにおいて０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であり、
上記下地層および上記ガスバリヤ層の少なくともいずれか一層が、上記配線部を覆っており、
上記ガスバリヤ層が、無機化合物を含む無機層を少なくとも一層備えることを特徴とするタッチパネル部材付き表示装置、
（６）上記タッチパネル部材が、上記表示部材の表示面に位置することを特徴とする上記（５）に記載のタッチパネル部材付き表示装置、
を要旨とするものである。 The present invention
(1) a resin base material;
An electrode layer for a touch panel comprising a plurality of electrode portions provided on the resin substrate;
An electrical wiring provided on the resin base material and provided with a wiring part electrically connected to the electrode part and an external connection region provided at an end of the wiring part;
A base layer covering at least the touch panel electrode layer;
A gas barrier layer covering at least the electrode layer for a touch panel on the base layer,
The water vapor transmission rate in the region covered with the underlayer and the gas barrier layer is 0.1 g / m 2 / day or less at a temperature of 37.8 ° C. and a relative humidity of 100% RH,
At least one of the base layer and the gas barrier layer covers the wiring portion,
The gas barrier layer comprises at least one inorganic layer containing an inorganic compound, a touch panel member,
(2) The touch panel member according to (1), wherein the film density of at least one inorganic layer included in the gas barrier layer is 2.0 g / cm 3 or more,
(3) The touch panel member according to (1) or (2), wherein the base layer includes an organic layer containing an organic compound,
(4) The base layer contains a high refractive index material, and there is a difference between the refractive index of the base layer and the refractive index of the electrode layer for the touch panel located between the base layer and the resin base material. The touch panel member according to any one of (1) to (3), wherein the touch panel member is 0.2 or less,
(5) a display member provided with a display medium on the display member base material;
A touch panel member provided on the viewing surface of the display member,
The touch panel member is
A resin substrate;
An electrode layer for a touch panel comprising a plurality of electrode portions provided on the resin substrate;
An electrical wiring provided on the resin base material and provided with a wiring part electrically connected to the electrode part and an external connection region provided at an end of the wiring part;
A base layer covering at least the touch panel electrode layer;
A gas barrier layer covering at least the electrode layer for a touch panel on the base layer,
The water vapor transmission rate in the region covered with the underlayer and the gas barrier layer is 0.1 g / m 2 / day or less at a temperature of 37.8 ° C. and a relative humidity of 100% RH,
At least one of the base layer and the gas barrier layer covers the wiring portion,
The display device with a touch panel member, wherein the gas barrier layer includes at least one inorganic layer containing an inorganic compound,
(6) The display device with a touch panel member according to (5), wherein the touch panel member is located on a display surface of the display member,
Is a summary.

本発明のタッチパネル部材は、タッチパネル用電極層を覆う下地層と、上記下地層上において、少なくとも上記タッチパネル用電極層を覆うガスバリヤ層を備えており、ガスバリヤ性に優れる。   The touch panel member of the present invention includes a base layer covering the touch panel electrode layer and a gas barrier layer covering at least the touch panel electrode layer on the base layer, and is excellent in gas barrier properties.

本発明のタッチパネル部材付き表示装置は、本発明のタッチパネル部材を備えることにより、タッチパネル部材側からのガスバリヤ性が向上し、水蒸気などの浸透による表示部材への影響を良好に抑制することができる。   The display device with a touch panel member of the present invention is provided with the touch panel member of the present invention, whereby the gas barrier property from the touch panel member side is improved and the influence on the display member due to penetration of water vapor or the like can be satisfactorily suppressed.

本発明のタッチパネル部材の一実施態様を示す上面図である。It is a top view which shows one embodiment of the touchscreen member of this invention. 図２Ａは、図１に示すタッチパネル部材の概略断面図であり、図２Ｂは、図２Ａとは下地層の形成領域が異なる例を示す概略断面図である。2A is a schematic cross-sectional view of the touch panel member shown in FIG. 1, and FIG. 2B is a schematic cross-sectional view showing an example in which the formation region of the underlayer is different from FIG. 2A. 本発明のタッチパネル部材の一実施態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one embodiment of the touchscreen member of this invention. 本発明のタッチパネル部材の一実施態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one embodiment of the touchscreen member of this invention. 本発明のタッチパネル部材付き表示装置の一実施態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one embodiment of the display apparatus with a touchscreen member of this invention. 本発明のタッチパネル部材付き表示装置の一実施態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one embodiment of the display apparatus with a touchscreen member of this invention. 本発明のタッチパネル部材付き表示装置の一実施態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one embodiment of the display apparatus with a touchscreen member of this invention. 本発明のタッチパネル部材付き表示装置の一実施態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one embodiment of the display apparatus with a touchscreen member of this invention. 本発明のタッチパネル部材付き有機ＥＬ表示装置の一実施態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one embodiment of the organic electroluminescence display with a touch panel member of this invention. 本発明のタッチパネル部材付き有機ＥＬ表示装置の一実施態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one embodiment of the organic electroluminescence display with a touch panel member of this invention. 実施例１のタッチパネル部材の一方側の面および他方側の面を示す上面図である。3 is a top view showing one side surface and the other side surface of the touch panel member of Example 1. FIG.

以下に、本発明のタッチパネル部材についてまず説明する。本発明のタッチパネル部材は、下地層およびガスバリヤ層により覆われる領域において、温度３７．８℃、相対湿度１００％ＲＨにおいて水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが特定される。以下の説明においても、本発明における水蒸気透過率は、特段の断りがない場合には、下地層およびガスバリヤ層により覆われる領域において示される値である。水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることにより、タッチパネル部材と組み合わされる表示部材などの電子デバイスに対し、充分なガスバリヤ性を発揮することができる。本発明のタッチパネル部材は、ガラス基材と比べて水蒸気が透過しやすい樹脂基材を用いるにも係らず、上記望ましい水蒸気透過率が示される。 The touch panel member of the present invention will be first described below. The touch panel member of the present invention is specified to have a water vapor transmission rate of 0.1 g / m 2 / day or less at a temperature of 37.8 ° C. and a relative humidity of 100% RH in the region covered with the base layer and the gas barrier layer. . Also in the following description, the water vapor transmission rate in the present invention is a value shown in a region covered with the base layer and the gas barrier layer unless otherwise specified. When the water vapor transmission rate is 0.1 g / m 2 / day or less, a sufficient gas barrier property can be exhibited for an electronic device such as a display member combined with a touch panel member. Although the touch panel member of the present invention uses a resin base material that allows water vapor to pass through more easily than a glass base material, the desired water vapor transmission rate is exhibited.

例えば、有機ＥＬ表示部材は、表示装置の中でも水蒸気の存在による表示機能の劣化がシビアであるが、温度３７．８℃、相対湿度１００％ＲＨにおいて水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であるタッチパネル部材を、有機ＥＬ表示部の表示面側に直接または間接に積層させたタッチパネル部材付き有機ＥＬ表示装置であれば、表示面側からの水蒸気を充分にバリヤすることができ、有機ＥＬ表示媒体の劣化を防止または抑制することが可能である。ただし本発明のタッチパネル部材は、表示部材において視認可能な面、即ち、視認面において設けられてよい。尚、視認可能とは、表示部材を用いて表示装置を構成した場合に、表示装置の露出面側に現れる面および表示装置のインセル側に存在するが、表示部材の透明性故、表示面側から視認可能な面のいずれも含む。したがって、表示部材の表示面、該表示面とは反対側の面である背面の少なくともいずれかに本発明のタッチパネル部材を設けて座標検出可能な表示装置としてよい。したがって、表示部材の厚みや構成によって、背面側に位置するタッチパネル部材により座標検出可能な表示装置を提供することも可能である。 For example, the organic EL display member is severely deteriorated in display function due to the presence of water vapor among display devices, but has a water vapor transmission rate of 0.1 g / m 2 / day at a temperature of 37.8 ° C. and a relative humidity of 100% RH. If the touch panel member is an organic EL display device with a touch panel member in which the following touch panel member is laminated directly or indirectly on the display surface side of the organic EL display unit, water vapor from the display surface side can be sufficiently blocked, and organic It is possible to prevent or suppress the deterioration of the EL display medium. However, the touch panel member of the present invention may be provided on a surface visible on the display member, that is, on the visual recognition surface. Note that, when the display device is configured using a display member, it is present on the exposed surface side of the display device and on the in-cell side of the display device, but the display member is transparent because of the transparency of the display member. Any of the surfaces that can be visually recognized is included. Therefore, the touch panel member of the present invention may be provided on at least one of the display surface of the display member and the back surface that is the surface opposite to the display surface to provide a display device capable of detecting coordinates. Therefore, it is also possible to provide a display device capable of detecting coordinates by the touch panel member located on the back side depending on the thickness and configuration of the display member.

上記ガスバリヤ層の水蒸気透過率は、試験片として、たとえば１０ｃｍ２程度であってタッチパネル用電極層を有し、下地層とガスバリヤ層とが実質的に樹脂基材全面を被覆した積層体を準備し、市販の水蒸気透過率測定装置で特定される環境下において測定することができる。水蒸気透過率測定装置としては、例えば、（株）日立ハイテクノロジーズ社製のＭＯＣＯＮ水蒸気透過率測定装置などを挙げることができる。尚、後述する他の実施態様における本発明にタッチパネル部材についても、上述する水蒸気透過率およびその測定方法については同様である。もちろん、試験片のサイズは上述に限定されるものではない。 The gas barrier layer has a water vapor permeability of, for example, about 10 cm 2 as a test piece, and has a touch panel electrode layer, and a laminate in which the base layer and the gas barrier layer substantially cover the entire surface of the resin substrate is prepared. It can be measured in an environment specified by a commercially available water vapor transmission rate measuring device. Examples of the water vapor transmission rate measuring device include a MOCON water vapor transmission rate measuring device manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. In addition, about the water-vapor-permeation rate mentioned above and its measuring method, it is the same also about the touchscreen member in this invention in the other embodiment mentioned later. Of course, the size of the test piece is not limited to the above.

尚、本発明に関し、下地層あるいはガスバリヤ層が「タッチパネル用電極層を覆う」とは、特に断りがない場合には、樹脂基材を下面側にして観察した際の位置関係を示し、下地層およびガスバリヤ層が、タッチパネル用電極層を介して樹脂基材とは反対側の位置に設けられていることを意味する。タッチパネル用電極層は、平面視上、タッチパネルの操作面、あるいは表示面を構成する層となり、少なくともタッチパネル用電極層を覆う下地層およびガスバリヤ層を備えることにより、タッチパネル部材に望ましいガスバリヤ性を示すことが可能である。
また同様に、下地層およびガスバリヤ層の少なくともいずれか一層が「配線部を覆う」とは、樹脂基材を下面側にして観察した際の位置関係を示す。 In the present invention, the term “underlying the touch panel electrode layer” means that the base layer or gas barrier layer covers the position when observed with the resin substrate facing down, unless otherwise specified. It means that the gas barrier layer is provided at a position opposite to the resin substrate via the electrode layer for the touch panel. The electrode layer for the touch panel is a layer constituting the operation surface or the display surface of the touch panel in a plan view, and has a gas barrier property desirable for the touch panel member by including at least a base layer and a gas barrier layer covering the electrode layer for the touch panel. Is possible.
Similarly, at least one of the base layer and the gas barrier layer “covers the wiring portion” indicates a positional relationship when the resin base material is observed with the lower surface side.

本発明のタッチパネル部材は、樹脂基材の一方側の面にタッチパネル用電極層と電気配線が設けられる態様Ａ、樹脂基材の両面それぞれにタッチパネル用電極層と電気配線が設けられる態様Ｂ、および、樹脂基材の両面それぞれにタッチパネル用電極層が設けられ且つ、いずれか一方の面に電気配線が集約される態様Ｃのいずれも含む。いずれの態様においても、少なくとも樹脂基材の一方側の面において、当該面において設けられるタッチパネル用電極層を覆う下地層と、該下地層上において、少なくとも上記タッチパネル用電極層を覆うガスバリヤ層と、を備えるものである。
上述する態様Ｂ、態様Ｃのように、樹脂基材の両面それぞれにタッチパネル用電極層が設けられる場合には、任意で、両面それぞれに下地層とガスバリヤ層とが設けられても良い。樹脂基材の両面に下地層とガスバリヤ層が設けられる態様が採用される本発明のタッチパネル部材においては、両面に下地層とガスバリヤ層とが設けられたタッチパネル部材より試験片を作成し、温度３７．８℃、相対湿度１００％ＲＨにおいて水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが示される。 In the touch panel member of the present invention, an aspect A in which the electrode layer for touch panel and electric wiring are provided on one surface of the resin base material, an aspect B in which the electrode layer for touch panel and electric wiring are provided on both surfaces of the resin base material, and In addition, any one of aspects C in which the electrode layer for touch panel is provided on each of both surfaces of the resin base material and the electric wiring is concentrated on any one surface is included. In any embodiment, at least on one surface of the resin base material, a base layer covering the touch panel electrode layer provided on the surface, and a gas barrier layer covering at least the touch panel electrode layer on the base layer, Is provided.
When the electrode layer for touch panels is provided on each of both surfaces of the resin base as in the above-described modes B and C, an underlayer and a gas barrier layer may be optionally provided on both surfaces. In the touch panel member of the present invention in which the base layer and the gas barrier layer are provided on both surfaces of the resin base material, a test piece is prepared from the touch panel member in which the base layer and the gas barrier layer are provided on both surfaces, and the temperature is 37. It is shown that the water vapor transmission rate is 0.1 g / m 2 / day or less at 0.8 ° C. and a relative humidity of 100% RH.

タッチパネル部材（実施態様１）：
本発明のタッチパネル部材の一態様の上面図を図１に示す。図１に示すタッチパネル部材１は、樹脂基材２の上面に、複数の配線部３、１７と配線部３、１７の端部において設けられる外部接続領域４、１８を備える電気配線が形成されている。そして、配線部３、１７の他端は複数のひし型形状の電極部８、１０が配列されるタッチパネル用の第一電極層５の端部に電気的に接続されている。尚、第一電極層の端部に配列される電極部は、ひし形形状の略２分の１で切断された形状、即ち三角形状としたが、これは配線部３、１７と電極部８、１０との接続面積を充分に確保するための任意の形状である。 Touch panel member (Embodiment 1):
A top view of one embodiment of the touch panel member of the present invention is shown in FIG. In the touch panel member 1 shown in FIG. 1, an electrical wiring including a plurality of wiring portions 3 and 17 and external connection regions 4 and 18 provided at end portions of the wiring portions 3 and 17 is formed on the upper surface of the resin base material 2. Yes. The other ends of the wiring portions 3 and 17 are electrically connected to the end portions of the first electrode layer 5 for the touch panel on which the plurality of rhombus-shaped electrode portions 8 and 10 are arranged. In addition, although the electrode part arranged in the edge part of a 1st electrode layer was made into the shape cut | disconnected by about half of the rhombus shape, ie, the triangle shape, this is the wiring parts 3 and 17 and the electrode part 8, 10 is an arbitrary shape for ensuring a sufficient connection area.

第一電極層５上には、絶縁性層６を介して、複数のブリッジ電極部７を備えるタッチパネル用の第二電極層９が設けられ、第一電極層５と第二電極層９とを含んでタッチパネル用電極が構成されている。そして、第二電極層９を覆って、少なくとも上記タッチパネル用の第一電極層５および第二電極層９を覆う下地層１１が設けられ、続いて下地層１１上に、少なくとも上記タッチパネル用電極層を覆うガスバリヤ層１２が設けられている。外部接続領域４、１８は、後工程における外部接続部材との接続を容易にするために、下地層１１およびガスバリヤ層１２の被覆を避けている。   On the first electrode layer 5, a second electrode layer 9 for a touch panel including a plurality of bridge electrode portions 7 is provided via an insulating layer 6. The first electrode layer 5 and the second electrode layer 9 are connected to each other. Including a touch panel electrode. A base layer 11 covering at least the first electrode layer 5 for the touch panel and the second electrode layer 9 is provided so as to cover the second electrode layer 9, and then at least the electrode layer for touch panel is provided on the base layer 11. A gas barrier layer 12 is provided to cover the surface. The external connection regions 4 and 18 avoid covering the base layer 11 and the gas barrier layer 12 in order to facilitate connection with an external connection member in a subsequent process.

図２（Ａ）は、図１に示すタッチパネル部材１の概略断面図である。図２（Ａ）から、タッチパネル部材１における下地層１１およびガスバリヤ層１２は、配線部３、第一電極層５を構成するひし型状の電極部１０、および、第二電極層９を構成するブリッジ電極部７のいずれも覆っていることが理解容易である。図２（Ａ）には現れないが、ひし形状の電極部８も同様に下地層１１およびガスバリヤ層１２に覆われている。尚、本明細書において本発明を説明する際の上下方向は、特に断りがない場合には、樹脂基材面を基準としこれを下側として、該樹脂基材にタッチパネル用電極層が設けられている方向を上側とする。   FIG. 2A is a schematic cross-sectional view of the touch panel member 1 shown in FIG. 2A, the base layer 11 and the gas barrier layer 12 in the touch panel member 1 constitute the wiring part 3, the rhombus-like electrode part 10 constituting the first electrode layer 5, and the second electrode layer 9. It is easy to understand that all of the bridge electrode portions 7 are covered. Although not appearing in FIG. 2A, the rhombic electrode portion 8 is also covered with the base layer 11 and the gas barrier layer 12 in the same manner. In the present specification, the vertical direction when describing the present invention is provided with a touch panel electrode layer on the resin base material with the resin base material surface as the lower side unless otherwise specified. The direction in which it is located is the upper side.

［樹脂基材］
樹脂基材２は、光透過性であって、シート、フィルム、板、膜などの概念を含む樹脂より構成される基材が採用される。従来汎用されるガラス基材ではなく、樹脂材料を含む部材を選択することによって、軽量化が促進され、またタッチパネル部材にフレキシブル性も付与可能である。樹脂基材２の例としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）などのポリエチレンフィルム、あるいはポリエーテルサルフォンフィルム（ＰＥＳフィルム）などのポリエステルフィルムの他、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、もしくはシンジオタクティック・ポリスチレン等、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、もしくはポリエーテルニトリル等、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、もしくはポリノルボルネン系樹脂等、または、ポリサルホン、ポリサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、もしくは熱可塑性ポリイミド等からなるフィルムを挙げることができるが、これに限定されない。また、ＴＡＣフィルムやＣＯＰフィルムを用いてもよい。樹脂基材２には、タッチパネル部材１の使用の目的に応じた光透過性が求められるが、透過性の度合いは、適宜設計の上、決定することができる。基材１の厚みは、特に限定されないが、一般的には、２０μｍから１５００μｍ程度である。
本発明のタッチパネル部材は、基材として樹脂フィルムなどの樹脂材料により形成され基材を用いているため、従来のガラス基材を用いるタッチパネル部材と比べて軽量化が図られる。 [Resin substrate]
The resin base material 2 is light transmissive and employs a base material made of a resin including concepts such as a sheet, a film, a plate, and a membrane. By selecting a member including a resin material instead of a conventionally used glass substrate, weight reduction is promoted, and flexibility can be imparted to the touch panel member. Examples of the resin substrate 2 include, for example, a polyethylene film such as a polyethylene terephthalate film (PET film) or a polyester film such as a polyether sulfone film (PES film), an acrylic such as polymethyl methacrylate, a polyamide, and a polyacetal. , Polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetyl cellulose, or syndiotactic polystyrene, polyphenylene sulfide, polyether ketone, polyether ether ketone, fluororesin, or polyether nitrile, polycarbonate, modified polyphenylene ether, polycyclohexene Or polynorbornene resin, or polysulfone, polysulfone, polyarylate, poly Midoimido, polyetherimide, or there may be mentioned a film made of a thermoplastic polyimide, and the like thereto. Further, a TAC film or a COP film may be used. The resin base material 2 is required to have light transmittance according to the purpose of use of the touch panel member 1, but the degree of transparency can be determined after appropriate design. Although the thickness of the base material 1 is not specifically limited, Generally, it is about 20 micrometers-about 1500 micrometers.
Since the touch panel member of the present invention is formed of a resin material such as a resin film as a base material and uses a base material, the weight can be reduced as compared with a touch panel member using a conventional glass base material.

［配線部］
図２（Ａ）に示されるように、タッチパネル部材１は、樹脂基材１の上面にまず配線部３が設けられている。図２（Ａ）においては図示されないが、同様に配線部１７も樹脂基材１の上面に設けられる。
配線部３、１７は、タッチパネル用電極層および外部回路間において電気的流通を可能とする配線部であり、通常、タッチパネル用電極層からの電流を外部に取り出すための配線部であり、従来公知のタッチパネル部材における取り出し配線、金属配線などを含む。
配線部３、１７は、一般的には、タッチパネル部材の使用者から視認されるアクティブエリアの外側に形成される。したがって、配線部３、１７を構成する材料は、導電性の材料であって、光透過性の有無は問わない。具体的には、高い導電性を有する銀や銅などの金属材料が好ましく用いられるがこれに限定されない。より具体的には、配線部３、１７を構成する金属材料としては、金属単体や、金属の複合体や、金属と金属化合物の複合体のほか、金属合金を挙げることができる。金属単体としては、銀、銅、金、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体などを例示することができる。金属の複合体としては、ＭＡＭ（Ｍｏ−Ａｌ−Ｍｏ、すなわちモリブデン・アルミニウム・モリブデンの３層構造体）などを挙げることができ、金属と金属化合物の複合体としては、酸化クロム／クロム積層体などを例示することができる。金属合金としては、銀合金や銅合金が汎用される。また、金属合金としては、ＡＰＣ（Ａｕ・Ｐｄ・Ｃｕ、すなわち銀・パラジウム・銅）などを例示することができる。なお、配線部３、１７は、上記したような金属物質に適宜樹脂組成物が混在してもよい。例えば、銀、パラジウム、銅を含むＡＰＣ材料が汎用されるが、これに限定されない。また、スクリーン印刷などの印刷方法により配線部３、１７を形成する場合には、形成材料として、溶媒中に数十ｎｍ〜数μｍの粒径の銀や銅などの金属粒子と樹脂バインダ、たとえば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレンなどの単体あるいは混合物からなる樹脂バインダが含有され、溶媒を用い適度に調整された金属粒子含有ペーストが汎用されるがこれに限定されない。
配線部３、１７の線幅寸法および樹脂基材２の面に対し略法線方向における厚みは、特に限定されないが、例えば配線部３、１７をフォトリソグラフィ手法により形成する場合には、厚みは、一般的には、１０ｎｍ〜５００ｎｍ程度、線幅寸法は、一般的には、５μｍ〜２００μｍ程度に形成することができ、スクリーン印刷などの印刷により形成する場合には、厚みは、一般的には、５μｍ〜２０μｍ程度、線幅寸法は、一般的には、２０μｍ〜３００μｍ程度に形成することができる。ただし、上述は、本発明における配線部を何ら限定するものではない。 [Wiring section]
As shown in FIG. 2A, the touch panel member 1 is provided with the wiring portion 3 on the upper surface of the resin base material 1 first. Although not shown in FIG. 2A, the wiring portion 17 is similarly provided on the upper surface of the resin base material 1.
The wiring parts 3 and 17 are wiring parts that enable electrical distribution between the touch panel electrode layer and the external circuit, and are usually wiring parts for taking out the current from the touch panel electrode layer to the outside. In the touch panel member, the extraction wiring, the metal wiring, and the like are included.
The wiring parts 3 and 17 are generally formed outside the active area visually recognized by the user of the touch panel member. Therefore, the material which comprises the wiring parts 3 and 17 is an electroconductive material, and it does not ask | require the presence or absence of a light transmittance. Specifically, a metal material such as silver or copper having high conductivity is preferably used, but is not limited thereto. More specifically, examples of the metal material constituting the wiring portions 3 and 17 include a metal simple substance, a metal composite, a metal / metal compound composite, and a metal alloy. Examples of the simple metal include silver, copper, gold, chromium, platinum, and aluminum. Examples of the metal composite include MAM (Mo-Al-Mo, that is, a three-layer structure of molybdenum, aluminum, and molybdenum), and examples of the composite of metal and metal compound include a chromium oxide / chromium laminate. Etc. can be illustrated. As the metal alloy, a silver alloy or a copper alloy is generally used. Moreover, APC (Au * Pd * Cu, ie, silver * palladium * copper) etc. can be illustrated as a metal alloy. In addition, the wiring parts 3 and 17 may mix a resin composition suitably with the above metal substances. For example, APC materials including silver, palladium, and copper are widely used, but are not limited thereto. Further, when the wiring portions 3 and 17 are formed by a printing method such as screen printing, a metal particle such as silver or copper having a particle diameter of several tens of nanometers to several μm in a solvent and a resin binder, for example, It contains a resin binder consisting of a simple substance or a mixture of acrylic resin, epoxy resin, polyester resin, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polystyrene, etc. However, it is not limited to this.
Although the line width dimension of the wiring parts 3 and 17 and the thickness in the substantially normal direction with respect to the surface of the resin base material 2 are not particularly limited, for example, when the wiring parts 3 and 17 are formed by a photolithography technique, the thickness is In general, the line width dimension can be formed to about 5 μm to 200 μm, and when formed by printing such as screen printing, the thickness is generally Can be formed to have a line width of about 20 μm to 300 μm. However, the above description does not limit the wiring part in the present invention.

配線部３、１７の、タッチパネル用電極層側とは反対側の端部には、外部接続領域４、１８がそれぞれ設けられている（図１参照）。外部接続領域４、１８の形状は、本発明において特に限定されず、配線部３、１７の延長であって、配線部３、１７と同様の線幅および同様の材料から構成されているものも含む。配線部と、フレキシブルプリント回路（ＦＰＣ）などの外部接続部材との接続を良好にするために、例えば図１に示すとおり配線部３、１７の線幅より大きい接続領域を設けることが好ましい。外部接続領域４，１８は、配線部３、１７を形成する工程とは異なる工程および異なる部材によって形成してもよいが、配線部３、１７を形成する際に同工程において、同材料を用いてパターニングにより形成することができる。   External connection regions 4 and 18 are respectively provided at the ends of the wiring portions 3 and 17 on the side opposite to the touch panel electrode layer side (see FIG. 1). The shape of the external connection regions 4 and 18 is not particularly limited in the present invention, and may be an extension of the wiring portions 3 and 17, and may be composed of the same line width and the same material as the wiring portions 3 and 17. Including. In order to improve the connection between the wiring portion and an external connection member such as a flexible printed circuit (FPC), it is preferable to provide a connection region larger than the line width of the wiring portions 3 and 17 as shown in FIG. The external connection regions 4 and 18 may be formed by a process different from the process of forming the wiring parts 3 and 17 and a different member, but the same material is used in the same process when forming the wiring parts 3 and 17. And can be formed by patterning.

［タッチパネル用電極層］
タッチパネル部材１は、タッチパネル用電極層として、第一電極層５および第二電極層９を備える。第一電極層５は、樹脂基材２上に設けられる、複数の整列するひし型形状の電極部８、１０を備えて構成されている。尚、タッチパネル部材１では、上述する配線部３、１７および第一電極層５が、樹脂基材２上に直接に設けられているが、本発明のタッチパネル部材はこれに限定されず、樹脂基材と、配線部や第一電極層との間に、任意の他の層が設けられる態様を除外するものではない。 [Electrode layer for touch panel]
The touch panel member 1 includes a first electrode layer 5 and a second electrode layer 9 as touch panel electrode layers. The first electrode layer 5 includes a plurality of aligned rhombus-shaped electrode portions 8 and 10 provided on the resin base material 2. In the touch panel member 1, the wiring parts 3 and 17 and the first electrode layer 5 described above are directly provided on the resin base material 2, but the touch panel member of the present invention is not limited to this, and the resin base It does not exclude an aspect in which any other layer is provided between the material and the wiring portion or the first electrode layer.

第一電極層５上には、絶縁性層６を介して、複数のブリッジ電極部７が整列する第二電極層９が設けられている。これによって、第一電極層５におけるひし型形状のうちｘ軸方向に整列し互いが細状部によって連続する電極部からなるｘ電極と、第一電極層５におけるひし型形状のうちｙ軸方向に独立して整列し互いがブリッジ電極部７を介して連続するｙ電極とを備えるタッチパネル用電極が構成されている。ブリッジ電極部７は、通常、絶縁性層６に設けられたホールを通じて、ひし型形状の電極部８と電気的に接続される。   On the first electrode layer 5, a second electrode layer 9 in which a plurality of bridge electrode portions 7 are arranged is provided via an insulating layer 6. Thus, the x electrode composed of electrode portions that are aligned in the x-axis direction among the rhombus shapes in the first electrode layer 5 and are continuous with each other by the narrow portion, and the y-axis direction among the rhombus shapes in the first electrode layer 5 Are arranged independently of each other, and y electrodes that are continuous with each other via the bridge electrode portion 7 are configured. The bridge electrode portion 7 is normally electrically connected to the rhombus-shaped electrode portion 8 through a hole provided in the insulating layer 6.

ただし、本発明におけるタッチパネル用電極層からなる電極は、２以上のタッチパネル用電極層が積層してなる電極に限定されず、タッチパネルの様式により、一層の電極層からなる電極を採用することもできる。一層の電極層からなる電極には、例えば、二等辺三角形状あるいは正三角形状の電極部が噛み合う向きで配列される電極のように、実質的に同一面上に２以上の電極層が設けられる態様を含み、かかる電極は、同方向に頂点を向けて一列に配列されてなる複数の二等辺三角形状の第一電極部と、隣り合う第一電極部間に噛み合うようにして一列に配列されてなる同二等辺三角形状の複数の第二電極部とを有し、第一電極部と第二電極部とが絶縁されて構成されてよい。
また、本発明においてタッチパネル電極層が積層してなる電極が採用される場合に、積層のパターンについては図１に示す例に限定されない。たとえば、ひし型形状の電極部がｘ軸方向に連続するｘ電極を備える第一電極層と、ひし型形状の電極部がｙ軸方向に連続するｙ電極を備える第二電極層とからなる積層パターンや、ストライプ状の第一電極部を備える第一電極層と、第一電極部と交差する方向に伸長するストライブ状の第二電極部を備える第二電極層とからなる積層パターンなどであってもよい。即ち、本発明のタッチパネル部材では、タッチパネル用電極として機能しうるタッチパネル用電極層のパターンを適宜選択して実施することができる。 However, the electrode composed of the electrode layer for a touch panel in the present invention is not limited to an electrode formed by laminating two or more electrode layers for a touch panel, and an electrode composed of a single electrode layer can be adopted depending on the style of the touch panel. . In an electrode composed of one electrode layer, for example, two or more electrode layers are provided on substantially the same surface, such as an electrode arranged in an orientation in which electrode portions of an isosceles triangle shape or an equilateral triangle shape are engaged with each other. The electrodes are arranged in a row so as to mesh between a plurality of isosceles first electrode portions arranged in a row with apexes facing in the same direction, and adjacent first electrode portions. A plurality of second electrode parts having the same isosceles triangle shape, and the first electrode part and the second electrode part may be insulated from each other.
Moreover, when the electrode formed by laminating touch panel electrode layers is employed in the present invention, the laminating pattern is not limited to the example shown in FIG. For example, a laminate composed of a first electrode layer having an x electrode whose rhombus-shaped electrode portion is continuous in the x-axis direction and a second electrode layer having a y electrode whose rhombus-shaped electrode portion is continuous in the y-axis direction. In a laminated pattern composed of a pattern, a first electrode layer having a striped first electrode portion, and a second electrode layer having a striped second electrode portion extending in a direction intersecting the first electrode portion, etc. There may be. That is, in the touch panel member of the present invention, a touch panel electrode layer pattern that can function as a touch panel electrode can be selected as appropriate.

第一電極層５および第二電極層９は、一般的には、タッチパネル部材の使用者から視認されるアクティブエリア内に形成される。したがって光透過性の導電材料で形成されることが一般的である。また使用者に視認される画面において、視認されない程度の小さい領域となる電極層の形成パターン部分は、光透過性のない材料から形成されてもよい。あるいは、タッチパネルセンサの使用により、若干の目視を前提として実質的に光透過性のない材料で電極部を形成する態様であってもよく、例えば、ワイヤを電極部としてこれを所望のパターンで基材上に設置して電極層を構成してもよい。第一電極層５および第二電極層９を形成するための光透過性の導電材料としては、インジウム錫オキサイド（ＩＴＯ）、酸化インジウム、インジウム亜鉛オキサイド（ＩＺＯ）などの酸化インジウム系透明電極材料、あるいは、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の透明導電膜、ポリアニリン、ポリアセチレン等の導電性酸化物等を用いることができるが、材料はこれに限定されない。また、第一電極層５および第二電極層９は、互いに同種の導電性材料から形成してもよいし、異種の導電性材料を用いて形成してもよい。 The first electrode layer 5 and the second electrode layer 9 are generally formed in an active area visually recognized by the user of the touch panel member. Therefore, it is generally formed of a light transmissive conductive material. In addition, on the screen visually recognized by the user, the formation pattern portion of the electrode layer that is a small region that is not visually recognized may be formed of a material that does not transmit light. Alternatively, the touch panel sensor may be used to form the electrode portion with a material that is substantially non-light-transmitting on the premise of some visual observation. For example, the wire portion may be used as an electrode portion based on a desired pattern. The electrode layer may be configured by being installed on a material. As the light-transmitting conductive material for forming the first electrode layer 5 and the second electrode layer 9, indium oxide-based transparent electrode materials such as indium tin oxide (ITO), indium oxide, indium zinc oxide (IZO), Alternatively, a transparent conductive film such as tin oxide (SnO 2 ) or zinc oxide (ZnO), a conductive oxide such as polyaniline or polyacetylene, or the like can be used, but the material is not limited thereto. The first electrode layer 5 and the second electrode layer 9 may be formed of the same type of conductive material or different types of conductive materials.

第一電極層５および第二電極層９の厚みは、特に限定されないが、例えばひし型状の電極部８、１０およびブリッジ電極部７の少なくともいずれか一方をフォトリソグラフィ手法により形成する場合には、一般的には、１０ｎｍ〜５００ｎｍ程度に形成することができる。ただし上述は、本発明におけるタッチパネル用電極層の形成方法を何ら限定するものではない。尚、第一電極層５および第二電極層９の厚みは、実質的に、樹脂基材２面に対して略法線方向における第一電極部８、１０、ブリッジ電極部７の厚みに相当する。   The thicknesses of the first electrode layer 5 and the second electrode layer 9 are not particularly limited. For example, when forming at least one of the diamond-shaped electrode portions 8 and 10 and the bridge electrode portion 7 by a photolithography technique, In general, it can be formed to a thickness of about 10 nm to 500 nm. However, the above description does not limit the method for forming the electrode layer for a touch panel in the present invention. The thicknesses of the first electrode layer 5 and the second electrode layer 9 substantially correspond to the thicknesses of the first electrode portions 8 and 10 and the bridge electrode portion 7 in a substantially normal direction with respect to the surface of the resin substrate 2. To do.

図２（Ａ）から理解容易であるが、第一電極層５の端に位置するひし型状の電極部１０は、配線部３の端部に乗り上げるようにして、互いに電気的接続がなされている。ただし、配線部と電極部との電気的接続方法はこれに限定されず、例えば、まず先に電極部が形成され、次いで、所定の電極部上に配線部の端部が乗り上げることによって互いが電気的に接続されてもよい。また、図２（Ａ）には図示されない配線部１７およびひし型状の電極部８についても形成順序や、互いの電気的接続については、配線部３およびひし型状の電極部１０と同様のため、詳細の説明は割愛する。   Although it is easy to understand from FIG. 2 (A), the rhombus-shaped electrode portion 10 located at the end of the first electrode layer 5 is electrically connected to each other so as to run over the end portion of the wiring portion 3. Yes. However, the electrical connection method between the wiring part and the electrode part is not limited to this. For example, the electrode part is first formed, and then the end part of the wiring part rides on the predetermined electrode part. It may be electrically connected. Further, the formation order of the wiring portion 17 and the diamond-shaped electrode portion 8 not shown in FIG. 2A and the electrical connection between them are the same as those of the wiring portion 3 and the diamond-shaped electrode portion 10. Therefore, the detailed description is omitted.

［絶縁性層］
第一電極層５および第二電極層９の間に設けられる絶縁性層６は、第一電極層５と第二電極層９との絶縁のために設けられる層である。このように、タッチパネル電極層が積層される場合の電極層間、あるいは、電極層は一層であってｘ電極とｙ電極とが隣接する場合のｘ電極とｙ電極との間には、絶縁性層が設けられることが一般的である。図１、図２に示すタッチパネル部材１では、第一電極層５上面略全面に絶縁性層６を設けた態様を示したが、絶縁性層は、積層または隣接する電極層間において適切に絶縁性が保たれる範囲において、適宜、パターニングして設けられてもよい。 [Insulating layer]
The insulating layer 6 provided between the first electrode layer 5 and the second electrode layer 9 is a layer provided for insulation between the first electrode layer 5 and the second electrode layer 9. As described above, an insulating layer is provided between the electrode layers when the touch panel electrode layer is laminated, or between the x electrode and the y electrode when the electrode layer is a single layer and the x electrode and the y electrode are adjacent to each other. Is generally provided. In the touch panel member 1 shown in FIG. 1 and FIG. 2, the embodiment in which the insulating layer 6 is provided on substantially the entire upper surface of the first electrode layer 5 is shown. However, the insulating layer is appropriately insulated between the stacked or adjacent electrode layers. As long as this is maintained, patterning may be provided as appropriate.

絶縁性層６は、タッチパネル部材１に求められる光透過性を可能とし、且つ、絶縁性を示す材料あるいは部材を適宜選択して形成することができる。例えば絶縁性層６は、透明性の紫外線硬化性樹脂、あるいは透明性の熱硬化性樹脂などを適宜選択し、これを用いて、スピンコート法などの任意の塗布方法により形成材料を基材面に塗布し、その後、フォトリソグラフィ方法により形成する方法、あるいは、スクリーン印刷などの印刷方法等により形成する方法を挙げることができるが、これに限定されない。より具体的には、光透過性のアクリル樹脂、シロキサン樹脂、特には感光性シロキサン樹脂などが絶縁性層の構成材料として好ましく選択されるが、これに限定されない。また、絶縁性を示し、適当な光透過性、且つ、光学等方性のフィルムやシートなどを絶縁性層として用い、第一電極層５上に積層させることも可能である。絶縁性層６の厚みは、特に限定されないが、一般的には、０．５μｍ以上３．０μｍ未満の厚さで形成される。   The insulating layer 6 can be formed by appropriately selecting a material or a member that enables light transmittance required for the touch panel member 1 and that exhibits insulation properties. For example, for the insulating layer 6, a transparent ultraviolet curable resin, a transparent thermosetting resin, or the like is appropriately selected, and using this, the forming material is applied to the substrate surface by an arbitrary coating method such as a spin coating method. Examples thereof include, but are not limited to, a method of forming the film by a photolithography method and a method of forming by a printing method such as screen printing. More specifically, a light-transmitting acrylic resin, siloxane resin, particularly photosensitive siloxane resin is preferably selected as a constituent material of the insulating layer, but is not limited thereto. It is also possible to laminate the first electrode layer 5 by using an insulating layer that is an appropriate light-transmitting and optically isotropic film or sheet. The thickness of the insulating layer 6 is not particularly limited, but is generally formed with a thickness of 0.5 μm or more and less than 3.0 μm.

［下地層］
本発明における下地層１１は、第二電極層９上であって、後述するガスバリヤ層１２より下側に設けられる。即ち、下地層１１は、ガスバリヤ層１２の下地層であって、直接または間接にガスバリヤ層１２の下面側に形成される。図１に示す下地層は一態様に過ぎず、たとえば、本発明のタッチパネル用電極層が一層からなる場合には、該一層のタッチパネル用電極層上であってガスバリヤ層より下に下地層が形成され、本発明のタッチパネル用電極層が積層される二層以上の電極層からなる場合には、積層される電極層の最上位に位置する電極層上に下地層が形成される。ガスバリヤ層の形成基材面を良好に平坦化するという観点では、下地層とガスバリヤ層とは直接に接するよう積層されることが好ましい。 [Underlayer]
The underlayer 11 in the present invention is provided on the second electrode layer 9 and below the gas barrier layer 12 described later. That is, the underlayer 11 is an underlayer of the gas barrier layer 12 and is formed directly or indirectly on the lower surface side of the gas barrier layer 12. The underlayer shown in FIG. 1 is only one embodiment. For example, when the touch panel electrode layer of the present invention is composed of a single layer, the underlayer is formed on the touch panel electrode layer and below the gas barrier layer. And when it consists of two or more electrode layers by which the electrode layer for touchscreens of this invention is laminated | stacked, a base layer is formed on the electrode layer located in the highest layer of the laminated | stacked electrode layer. From the viewpoint of satisfactorily flattening the surface of the base material on which the gas barrier layer is formed, it is preferable that the base layer and the gas barrier layer are laminated so as to be in direct contact with each other.

本発明における下地層の形成方法は特に限定されないが、後述する下地層構成材料を用いてバーコート法などの印刷方法などにより塗布して形成することができる。尚、下地層が基材面略全面に設けられる場合には、基材面略全面に対し、下地層構成材料を公知の印刷方法や塗工方法により塗布して膜形成を行なえばよい。一方、基材上において、所望のパターンで下地層を形成したい場合には、予め、公知のマスキング材を用いて下地層非形成領域にマスキング層を形成し、次いで、下地層を形成し、その後にマスキング材を剥離すればよい。もちろん、他のパターニング形成可能な方法に倣って下地層を形成してもよい。
後述するガスバリヤ層の形成においても、ガスバリヤ層をパターン形成したい場合には、下地層と同様に予め非ガスバリヤ層形成領域にマスキング層を設け、ガスバリヤ層形成後に該マスキング層を剥離することができる。パターニングされた下地層上に、同一パターンでガスバリヤ層を形成する場合には、まず、下地層およびガスバリヤ層非形成領域にマスキング層を形成し、次いで、下地層、ガスバリヤ層を形成し、その後にマスキング層を剥離すればよい。 Although the formation method of the foundation layer in the present invention is not particularly limited, the foundation layer can be formed by applying by a printing method such as a bar coating method using a foundation layer constituent material described later. In the case where the underlayer is provided on substantially the entire surface of the base material, a film may be formed by applying a material for constituting the underlayer to the substantially entire surface of the base material by a known printing method or coating method. On the other hand, when it is desired to form a base layer in a desired pattern on the base material, a masking layer is formed in advance in a base layer non-formation region using a known masking material, and then a base layer is formed. The masking material may be peeled off. Of course, the underlayer may be formed in accordance with other methods capable of patterning.
Also in the formation of the gas barrier layer described later, when it is desired to pattern the gas barrier layer, a masking layer can be provided in advance in the non-gas barrier layer forming region in the same manner as the underlayer, and the masking layer can be peeled off after the gas barrier layer is formed. When forming a gas barrier layer with the same pattern on the patterned underlayer, first, a masking layer is formed in the underlayer and the gas barrier layer non-formation region, and then an underlayer and a gas barrier layer are formed, and then What is necessary is just to peel a masking layer.

下地層１１は、ガスバリヤ層１２の形成基材面を平坦化するための層として機能するよう、第二電極層９を覆って、下地層１１の表面が平滑となる程度の厚みで形成されること好ましい。ガスバリヤ層１２は、薄膜として形成可能であり、このとき、薄膜であるガスバリヤ層１２の形成面が平坦化されていることによって、ガスバリヤ層１２の膜形成性が良好となるからである。また、下地層の形成方法および形成材料は特に限定されず、一般的には、絶縁性層６の形成方法および形成材料と同様であってよい。取り扱い性および形成が容易であって上面が平坦になるよう充分な厚みを得られやすいという観点から、有機化合物を含む有機層を備えることが好ましい。   The underlayer 11 covers the second electrode layer 9 so as to function as a layer for flattening the base material surface on which the gas barrier layer 12 is formed. The underlayer 11 is formed with a thickness such that the surface of the underlayer 11 is smooth. It is preferable. This is because the gas barrier layer 12 can be formed as a thin film. At this time, since the formation surface of the gas barrier layer 12 which is a thin film is flattened, the film forming property of the gas barrier layer 12 is improved. Moreover, the formation method and formation material of a base layer are not specifically limited, Generally, it may be the same as the formation method and formation material of the insulating layer 6. It is preferable to provide an organic layer containing an organic compound from the viewpoint that it is easy to handle and form and it is easy to obtain a sufficient thickness so that the upper surface is flat.

下地層１１の構成材料の具体例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、もしくはエチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）の単独、またはこれらの混合物、あるいは、これらに芳香族酸エステル、芳香族ポリアミド、金属塩等の架橋剤を添加するか、もしくは無機フィラーの添加により架橋構造を持たせたものや、ポリアミド、ＰＶＡ、もしくはＥＶＯＨ等の樹脂中に１〜１００ｎｍ程度の超微粒子である層状珪酸塩（モンモリロナイト等の粘土鉱物）を分散させたもの等も使用でき、これらからなる層はガスバリヤ性の点でも良好であり、タッチパネル部材の水蒸気透過率を好ましい値にするために好適である。したがって、後述するガスバリヤ層に含まれる有機層を構成するための材料としても好適に使用することができる。   Specific examples of the constituent material of the underlayer 11 include polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH) alone or a mixture thereof, or aromatic acid ester, aromatic polyamide, Layered silicates that are ultrafine particles of about 1 to 100 nm in a resin such as polyamide, PVA, or EVOH added with a crosslinking structure by adding a crosslinking agent such as a metal salt or by adding an inorganic filler. Those obtained by dispersing clay minerals such as montmorillonite) can also be used, and the layer made of these is also favorable in terms of gas barrier properties, and is suitable for making the water vapor permeability of the touch panel member a preferable value. Therefore, it can be suitably used as a material for constituting an organic layer contained in a gas barrier layer described later.

あるいは、下地層１１の構成材料のさらなる具体例としては、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂などを挙げることができる。
これらの樹脂は、硬化性樹脂であり、熱硬化、あるいは紫外線や電子線などの放射線を照射することにより硬化させることができる。これら硬化性の樹脂には、分子または単体構造内にアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合、あるいはエポキシ基等の重合性官能基が含まれており、それぞれ硬化反応により重合に寄与する。これらの中でも特に、アクリロイル基を含むアクリル系樹脂が硬化反応に優れ好ましい。
熱硬化により樹脂を硬化させて下地層１１を形成する場合には、一般的には下地層１１形成用に選択される樹脂を含む樹脂組成物に、硬化剤を含有させ、熱硬化により層形成することができる。特にエポキシ樹脂が熱硬化に好適に対応する。硬化剤としては、特に限定されず、公知の硬化剤を用いることができるが、例えば、アミン系、ポリアミノアミド系、酸および酸無水物、イミダゾール、メルカプタン、フェノール樹脂等の硬化剤などを用いてよい。中でも、耐溶剤性、光学特性、熱特性等の観点から、酸無水物および酸無水物構造を含むポリマーまたは脂肪族アミン類が汎用される。加えて、公知の第三アミン類やイミダゾール類等の硬化触媒を樹脂組成物に適量加えてもよい。
一方、放射線により樹脂を硬化させて下地層１１を形成する場合には、樹脂組成物に光反応開始剤などの公知の添加剤を適量含有させることが一般的である。
以上の、熱硬化性であるエポキシ系樹脂、あるいはその他の硬化性樹脂を含む樹脂組成物には、さらにポリマー分子との相互作用を強めるために、アルコキシシランの加水分解物やシランカップリング剤を含有させてもよい。上記シランカップリング剤としては、分子の一端にメトキシ基、エトキシ基、アセトキシ基等の加水分解可能な反応基を備え、他端にエポキシ基、ビニル基、アミノ基、ハロゲン基、メルカプト基を備えるものが、樹脂硬化反応へ好ましく関与する。具体的には、信越化学工業株式会社製のＫＢＭ−５０３、ＫＢＭ−８０３、日本ユニカー株式会社製のＡ−１８７などが好ましく用いられる。 Or as a further specific example of the constituent material of the base layer 11, an epoxy resin, a urethane resin, a polyester resin, a melamine resin, an acrylic resin, etc. can be mentioned.
These resins are curable resins and can be cured by thermal curing or irradiation with radiation such as ultraviolet rays or electron beams. These curable resins contain an unsaturated double bond such as an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, or a polymerizable functional group such as an epoxy group in the molecule or unit structure, and are polymerized by a curing reaction. Contribute to. Among these, an acrylic resin containing an acryloyl group is preferable because of excellent curing reaction.
When the base layer 11 is formed by curing the resin by thermosetting, generally a curing agent is contained in the resin composition containing a resin selected for forming the base layer 11 and the layer is formed by thermosetting. can do. In particular, epoxy resins are suitable for heat curing. The curing agent is not particularly limited, and a known curing agent can be used. For example, amine-based, polyaminoamide-based, acid and acid anhydride, imidazole, mercaptan, phenol resin, or the like is used. Good. Among these, from the viewpoints of solvent resistance, optical properties, thermal properties, and the like, polymers containing acid anhydrides and acid anhydride structures or aliphatic amines are widely used. In addition, a suitable amount of a curing catalyst such as a known tertiary amine or imidazole may be added to the resin composition.
On the other hand, when the base layer 11 is formed by curing the resin with radiation, it is common to add an appropriate amount of a known additive such as a photoreaction initiator to the resin composition.
The above-described resin composition containing a thermosetting epoxy resin or other curable resin may further contain an alkoxysilane hydrolyzate or a silane coupling agent in order to further enhance the interaction with the polymer molecule. You may make it contain. The silane coupling agent has a hydrolyzable reactive group such as a methoxy group, an ethoxy group, and an acetoxy group at one end of the molecule, and an epoxy group, a vinyl group, an amino group, a halogen group, and a mercapto group at the other end. Are preferably involved in the resin curing reaction. Specifically, KBE-503 and KBM-803 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., A-187 manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd. and the like are preferably used.

下地層を構成するより好ましい素材として、（１）フルオレン骨格を有するエポキシアクリレート樹脂と多塩基酸無水物との付加生成物、（２）多官能アクリレートモノマー、（３）重合開始剤、および（４）エポキシ基を１分子中に２個以上有するエポキシ樹脂を必須成分とするカルド樹脂（カルドポリマーとも言う。）を挙げることができる。カルドポリマーからなる下地層は、該下地層上に形成されるガスバリヤ層における無機層を、スパッタリング法、イオンプレーティング法、もしくは化学気相蒸着法などで形成した際に生じる、該無機層の微細なピンホール等の欠陥をカバーし、望ましい水蒸気透過率を維持する効果が期待される。上記下地層は、後述するガスバリヤ層に含まれる有機層としても好適であり、有機層の下面、あるいは上面に積層される無機層の微細なピンポールの欠陥をカバーする作用が同様に期待される。カルドポリマーとしては、ビスフェノール化合物から誘導されるフルオレン骨格を有する樹脂を含有することが好ましい。カルドポリマーの構造に関する詳細は、特開２００５−３２４４０６に開示されているため、ここでは割愛する。   As a more preferable material constituting the underlayer, (1) an addition product of an epoxy acrylate resin having a fluorene skeleton and a polybasic acid anhydride, (2) a polyfunctional acrylate monomer, (3) a polymerization initiator, and (4 ) A cardo resin (also called a cardo polymer) containing an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule as an essential component can be given. The underlayer made of a cardo polymer is a fine layer of the inorganic layer produced when the inorganic layer in the gas barrier layer formed on the underlayer is formed by sputtering, ion plating, chemical vapor deposition or the like. It is expected to cover the defects such as pinholes and maintain the desired water vapor transmission rate. The underlayer is also suitable as an organic layer contained in a gas barrier layer, which will be described later, and is expected to have the effect of covering fine pin pole defects in the inorganic layer laminated on the lower surface or the upper surface of the organic layer. The cardo polymer preferably contains a resin having a fluorene skeleton derived from a bisphenol compound. Details regarding the structure of the cardo polymer are disclosed in JP-A-2005-324406, and are therefore omitted here.

下地層１１は、一層から構成される態様を示したが、本発明おける下地層は、任意の二以上の層から構成されてもよい。したがって下地層は、例えば有機層一層であってよく、また、異なる有機層二層であってよく、有機層の任意の層との組み合わせであってよい。   Although the ground layer 11 has been shown to be composed of one layer, the ground layer in the present invention may be composed of any two or more layers. Therefore, the underlayer may be, for example, one organic layer, two different organic layers, or a combination of any organic layers.

下地層１１は、上述のとおり、平面視上、第一電極層５、第二電極層９を覆って形成される。また下地層１１は、後工程の実施容易化の観点から、外部接続領域４、１８を被覆しないことが好ましい。
図２（Ａ）では、下地層１１は、さらに配線部３も覆って形成される態様が示されるが、本発明は異なる態様として、図２（Ｂ）に示すタッチパネル部材１３のごとく下地層１１が、配線部３を被覆せず、第一電極層５、第二電極層９を覆う態様も含む。このように、下地層１１が配線部３を被覆しない場合には、少なくともガスバリヤ層１２が配線部３を被覆していればよい（図２（Ｂ）参照）。尚、図２（Ａ）には図示されない配線部１７についても下地層１１とガスバリヤ層１２の被覆の関係は、配線部３と同様である。上述のとおり、タッチパネル部材１において、配線部３および配線部１７が、下地層およびガスバリヤ層の少なくともいずれか一層に覆われる構成が採用されることにより、配線部におけるイオンマイグレーションの発生が防止可能である。 As described above, the base layer 11 is formed to cover the first electrode layer 5 and the second electrode layer 9 in plan view. Moreover, it is preferable that the base layer 11 does not cover the external connection regions 4 and 18 from the viewpoint of facilitating the implementation of the post-process.
FIG. 2A shows a mode in which the base layer 11 is formed so as to cover the wiring portion 3 as well. However, as a different mode of the present invention, the base layer 11 is like a touch panel member 13 shown in FIG. However, the aspect which does not coat | cover the wiring part 3 and covers the 1st electrode layer 5 and the 2nd electrode layer 9 is also included. As described above, when the base layer 11 does not cover the wiring portion 3, at least the gas barrier layer 12 may cover the wiring portion 3 (see FIG. 2B). 2A is the same as that of the wiring part 3 in the wiring part 17 that is not shown in FIG. As described above, in the touch panel member 1, by adopting a configuration in which the wiring part 3 and the wiring part 17 are covered with at least one of the base layer and the gas barrier layer, the occurrence of ion migration in the wiring part can be prevented. is there.

一般的に、タッチパネル部材における配線部は、微細配線パターンを含み、この傾向は、タッチパネル部材の小型化により一層顕著である。ここで、配線部は、上述のとおり導電性の材料から構成されるため、水蒸気などの存在によりイオンマイグレーションを起こし、短絡が発生する場合があった。配線部を構成する金属材料として銀などの湿度に弱い金属が含まれる場合、あるいは高湿度環境でタッチパネル部材の使用が予定される場合などにおいて、特にイオンマイグレーションの問題について留意しなければならなかった。これに対し、本発明は、下地層およびガスバリヤ層の少なくともいずれか一層で配線部を覆うことによって、上記イオンマイグレーション現象を良好に防止することを可能とした。しかも、配線部を下地層およびガスバリヤ層の少なくともいずれか一層で覆うことによれば、配線部の劣化などを防止、抑制する効果も期待されるため望ましい。上記イオンマイグレーション防止効果をより充分に発揮させるためには、下地層およびガスバリヤ層で配線部を覆う態様が好ましいが、下地層またはガスバリヤ層のいずれか一方で配線部を覆う態様であっても、良好にイオンマイグレーション防止効果は発揮されうる。   Generally, the wiring part in the touch panel member includes a fine wiring pattern, and this tendency is more remarkable due to the downsizing of the touch panel member. Here, since the wiring portion is made of a conductive material as described above, ion migration may occur due to the presence of water vapor or the like, and a short circuit may occur. When metal such as silver, which is weak in humidity, is included as the metal material that composes the wiring part, or when touch panel members are planned to be used in a high humidity environment, special attention must be paid to the problem of ion migration. . On the other hand, the present invention makes it possible to satisfactorily prevent the ion migration phenomenon by covering the wiring portion with at least one of the base layer and the gas barrier layer. In addition, it is desirable to cover the wiring portion with at least one of the base layer and the gas barrier layer because the effect of preventing and suppressing the deterioration of the wiring portion is expected. In order to exhibit the ion migration preventing effect more fully, a mode in which the wiring part is covered with the base layer and the gas barrier layer is preferable, but even in a mode in which the wiring part is covered with either the base layer or the gas barrier layer, The ion migration preventing effect can be exhibited well.

配線部におけるイオンマイグレーションの発生の度合いは、配線部の設計や配線部を構成する材料の選択により異なる。したがって、配線部のイオンマイグレーションを効果的に防止したい場合には、配線部の設計や選択される材料などの種々の条件を勘案した上、下地層のみ、あるいはガスバリヤ層のみ、あるいは下地層とガスバリヤ層の両方を配線部に被覆させるかについて決定してよい。
配線部を構成する材料に銅、銀、アルミニウム、モリブデン、タンタル、チタン、タングステンなどの湿度に影響を受け錆、変色、劣化などを生じやすい材料が含まれる場合には、イオンマイグレーションに加え、配線部を構成する金属材料の劣化など虞もあるため、配線部に対し充分なガスバリヤ性が発揮されることが望ましく、下地層およびガスバリヤ層の両方で配線部を被覆することが望ましい。 The degree of occurrence of ion migration in the wiring portion varies depending on the design of the wiring portion and the selection of the material constituting the wiring portion. Therefore, when it is desired to effectively prevent ion migration in the wiring part, the various conditions such as the design of the wiring part and the selected material are taken into consideration, and only the base layer, only the gas barrier layer, or the base layer and the gas barrier are considered. It may be decided whether to cover the wiring part with both layers.
If the materials that make up the wiring part include materials that are susceptible to rust, discoloration, deterioration, etc. due to humidity such as copper, silver, aluminum, molybdenum, tantalum, titanium, tungsten, etc., in addition to ion migration, wiring Since there is a possibility of deterioration of the metal material constituting the portion, it is desirable that sufficient gas barrier properties are exhibited with respect to the wiring portion, and it is desirable to cover the wiring portion with both the base layer and the gas barrier layer.

尚、配線部に対するガスバリヤ性を発揮させるという観点からは、例えばタッチパネル用電極層上にガスバリヤフィルムを貼り付ける態様において、同時に配線部をも覆うことでも、イオンマイグレーション防止効果は発揮可能である。ただし、一般的には、タッチパネル部材における外部接続領域に後付けでＦＰＣなどの外部接続部材を接着する必要があるため、ガスバリヤフィルムを貼り付けた際に、外部回路接続領域が露出するよう、用いるガスバリヤフィルムの形状を予め加工しておかなければならず、形成工程が増加するという問題がある。加えて、上述のとおりフィルムを貼り付けるために粘着層を設けることによって、光散乱などの問題も考慮しなければならない。   In addition, from the viewpoint of exhibiting gas barrier properties with respect to the wiring portion, for example, in a mode in which a gas barrier film is attached on the electrode layer for a touch panel, the effect of preventing ion migration can be exhibited by simultaneously covering the wiring portion. However, in general, since an external connection member such as an FPC needs to be attached to the external connection area of the touch panel member later, the gas barrier used so that the external circuit connection area is exposed when the gas barrier film is attached. There is a problem in that the shape of the film must be processed in advance and the number of forming steps increases. In addition, problems such as light scattering must be taken into account by providing an adhesive layer for attaching the film as described above.

これに対し本発明のタッチパネル部材は、下地層およびガスバリヤ層の少なくともいずれか一層でタッチパネル用電極層だけでなく配線部をも覆うため、上述のようなフィルムの予備加工の工程が不要であり、また、粘着層の存在による光散乱などの問題も有しない。   On the other hand, the touch panel member of the present invention covers not only the electrode layer for the touch panel but also the wiring portion with at least one of the base layer and the gas barrier layer, so that the preliminary processing step of the film as described above is unnecessary, Further, there is no problem such as light scattering due to the presence of the adhesive layer.

［ガスバリヤ層］
ガスバリヤ層１２は、一層の無機層からなる層であり、下地層１１上において、少なくとも第一電極層５、第二電極層９を覆っている。またタッチパネル部材１は、ガスバリヤ層１２および上記下地層１１によって、配線部３、１７が覆われている。 [Gas barrier layer]
The gas barrier layer 12 is a layer made of a single inorganic layer, and covers at least the first electrode layer 5 and the second electrode layer 9 on the base layer 11. In the touch panel member 1, the wiring portions 3 and 17 are covered with the gas barrier layer 12 and the base layer 11.

タッチパネル部材１は、ガラス基材と比べて水蒸気が透過しやすい樹脂基材２を用いるにも係らず、望ましい水蒸気透過率が示されることは上述のとおりである。この望ましい水蒸気透過率は、ガスバリヤ層１２の作用によるところが大きい。これは、ガスバリヤ層１２が、無機層であることに起因する。即ち、無機化合物を含んで形成される無機層は、有機化合物を含んで形成される有機層に比べて、緻密な層として形成することができ、この結果、優れたガスバリヤ機能が発揮されるのである。
本発明におけるガスバリヤ性は、特に水蒸気に対する優れたバリヤ性として示される。したがって本発明におけるガスバリヤ層において主として透過が低減されるガスとしては水蒸気を挙げることができる。
また、本発明のタッチパネル部材においてガスバリヤ層が設けられることにより、空気あるいは酸素などの水蒸気以外の気体に関するバリヤ性の向上も期待される。 Although the touch panel member 1 uses the resin base material 2 that allows water vapor to permeate more easily than the glass base material, a desirable water vapor transmission rate is shown as described above. This desirable water vapor transmission rate is largely due to the action of the gas barrier layer 12. This is because the gas barrier layer 12 is an inorganic layer. That is, the inorganic layer formed including the inorganic compound can be formed as a dense layer as compared with the organic layer formed including the organic compound. As a result, an excellent gas barrier function is exhibited. is there.
The gas barrier property in the present invention is particularly shown as an excellent barrier property against water vapor. Therefore, water vapor can be mentioned as a gas whose permeation is mainly reduced in the gas barrier layer in the present invention.
Further, by providing a gas barrier layer in the touch panel member of the present invention, an improvement in barrier properties relating to a gas other than water vapor such as air or oxygen is also expected.

尚、ガスバリヤ層１２は、無機層１層からなる層であるが、本発明のガスバリヤ層はこれに限定されず、少なくとも一層の無機層を備えていれば良い。したがって、本発明におけるガスバリヤ層の他の態様としては、無機層と、有機層の組み合わせ、異なる組成の無機層の組み合わせなどであってよく、積層する場合には、無機層と有機層、無機層と有機層と無機層など２層以上の任意の積層構成を採用することもできる。   The gas barrier layer 12 is a layer composed of one inorganic layer, but the gas barrier layer of the present invention is not limited to this, and it is sufficient that at least one inorganic layer is provided. Therefore, other embodiments of the gas barrier layer in the present invention may be a combination of an inorganic layer and an organic layer, a combination of inorganic layers having different compositions, and the like. It is also possible to adopt an arbitrary laminated structure of two or more layers such as an organic layer and an inorganic layer.

上記無機層に含まれる無機化合物としては、タッチパネル部材１に適する光透過性が示され、且つ、ガスバリヤ層１２として、タッチパネル部材１自体において特定される水蒸気透過率を実現可能とするものあれば特に限定はされない。無機層一層からガスバリヤ性を構成する場合には、当該無機層一層にて充分なガスバリヤ性を示す程度の無機化合物を選択すればよく、また、無機層と有機層、あるいは二層以上の無機層といった積層によりガスバリヤ層を構成する場合には、ガスバリヤ層全体として所望のガスバリヤ性が示されるよう、無機化合物、あるいは有機化合物を選択してよい。ただし有機化合物を含む有機層は、主として無機層の下地層として無機層を形成する基材面の平坦化のためにのみ作用するものを含む。   As the inorganic compound contained in the inorganic layer, light transmittance suitable for the touch panel member 1 is shown, and the gas barrier layer 12 is particularly capable of realizing the water vapor transmission rate specified in the touch panel member 1 itself. There is no limitation. When the gas barrier property is constituted by one inorganic layer, an inorganic compound having a sufficient gas barrier property in the one inorganic layer may be selected, and the inorganic layer and the organic layer, or two or more inorganic layers may be selected. In the case where the gas barrier layer is constituted by such lamination, an inorganic compound or an organic compound may be selected so that a desired gas barrier property is exhibited as the entire gas barrier layer. However, the organic layer containing an organic compound includes a layer that mainly acts only for flattening the substrate surface on which the inorganic layer is formed as the base layer of the inorganic layer.

ガスバリヤ層に含まれる無機層は、無機酸化物、無機酸化窒化物、無機窒化物、無機酸化炭化物、無機物と樹脂との混合化合物もしくは無機酸化炭化窒化物により構成することができ、水蒸気の透過を遮断したり、酸素の透過を遮断するためのガスバリヤ性を備える層である。
上記無機層に含有される無機化合物、あるいは上記無機層を構成する無機化合物は、珪素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウム、もしくはセリウムから選ばれた１種または２種以上を含有するものであることが好ましく、無機酸化物としては、例えば、珪素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物、チタン酸化物、スズ酸化物、もしくはインジウム合金酸化物が好ましく、無機酸化窒化物としては、珪素酸化窒化物が好ましく、無機窒化物としては、珪素窒化物、アルミニウム窒化物、もしくはチタン窒化物が好ましい。特に、酸化炭化珪素、酸化窒化炭化珪素などの珪素含有無機化合物は、ガスバリヤ性に加え、耐熱性、耐薬品性、および耐候性についてもタッチパネル部材に付与可能であり好ましい。また、無機層は、金属薄膜層であってもよく、具体的には、アルミニウム、銀、錫、クロム、ニッケル、もしくはチタンを含む金属薄膜層であってもよい。尚、本発明の説明に関し、「無機化合物を含む無機層」という場合には、「無機化合物と任意の化合物または任意の物質を含む無機層」および「実質的に無機化合物から形成される無機層」のいずれも含む。 The inorganic layer included in the gas barrier layer can be composed of an inorganic oxide, an inorganic oxynitride, an inorganic nitride, an inorganic oxide carbide, a mixed compound of an inorganic and a resin, or an inorganic oxycarbonitride, and transmits water vapor. It is a layer having gas barrier properties for blocking or blocking oxygen permeation.
The inorganic compound contained in the inorganic layer or the inorganic compound constituting the inorganic layer contains one or more selected from silicon, aluminum, magnesium, titanium, tin, indium, or cerium. Preferably, the inorganic oxide is, for example, silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, tin oxide, or indium alloy oxide, and the inorganic oxynitride is silicon oxide Nitride is preferable, and as the inorganic nitride, silicon nitride, aluminum nitride, or titanium nitride is preferable. In particular, silicon-containing inorganic compounds such as silicon oxycarbide and silicon oxynitride carbide are preferable because they can provide the touch panel member with heat resistance, chemical resistance, and weather resistance in addition to gas barrier properties. In addition, the inorganic layer may be a metal thin film layer, and specifically, a metal thin film layer containing aluminum, silver, tin, chromium, nickel, or titanium. In the description of the present invention, when “an inorganic layer containing an inorganic compound” is referred to, “an inorganic layer containing an inorganic compound and an arbitrary compound or an arbitrary substance” and “an inorganic layer formed substantially from an inorganic compound” "Is included.

上記無機層の形成方法は特に限定されないが、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）やプラズマ化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）、ゾルゲル法などのウェット法等により形成することができる。   The method for forming the inorganic layer is not particularly limited. For example, a physical vapor deposition method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method (Physical Vapor Deposition method) or a plasma chemical vapor deposition method (Chemical Vapor Deposition method) is used. Method), a wet method such as a sol-gel method, or the like.

より詳しくは、無機層の形成は、無機酸化物または無機窒化物、無機酸化窒化物または金属を原料として用い、これらを加熱して基材に蒸着させる真空蒸着法、これらに酸素ガスを導入することにより酸化させて、基材に蒸着させる酸化反応蒸着法、これらをターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより、基材に蒸着させるスパッタリング法、もしくはこれらにプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、基材に蒸着させるイオンプレーティング法を利用することができ、また、酸化珪素の蒸着膜を成膜させる場合には、有機珪素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法を利用することができる。   More specifically, the inorganic layer is formed by using an inorganic oxide or an inorganic nitride, an inorganic oxynitride or a metal as a raw material, and heating them to deposit them on a substrate, and introducing oxygen gas into them. Oxidation reaction vapor deposition method in which the material is oxidized and vapor-deposited on the base material, using these as target raw materials, sputtering method in which argon gas and oxygen gas are introduced and sputtered on the base material, or plasma on them It is possible to use an ion plating method in which the substrate is heated by a plasma beam generated by a gun and vapor-deposited on a base material. When a silicon oxide vapor deposition film is formed, an organic silicon compound is used as a raw material. Plasma enhanced chemical vapor deposition can be used.

具体的な例として、無機層を酸化珪素の薄膜として形成する場合には、以下に例示する有機珪素化合物を原料として、低温プラズマ化学気相成長法を利用して形成することができる。有機珪素化合物としては、例えば、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、もしくはオクタメチルシクロテトラシロキサン等、またはその他のものを使用でき、取り扱い性や蒸着膜の特性等から、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、もしくはヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を用いることが好ましい。
酸化炭化珪素を含む無機層、あるいは特に酸化炭化珪素からなる無機層は、酸化珪素および炭素を含有する材料からなり、次のような有機珪素化合物を原料として、窒素ガス、酸素ガス、アルゴンガス、もしくはヘリウムガス等の存在下で、プラズマ化学気相成長法、好ましくは低温プラズマ化学気相成長法を利用して形成することができる。有機珪素化合物としては、例えば、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、もしくはオクタメチルシクロテトラシロキサン等、またはその他のものを使用でき、取り扱い性や蒸着膜の特性等から、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、もしくはヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を用いることが好ましい。 As a specific example, when the inorganic layer is formed as a silicon oxide thin film, it can be formed by using a low temperature plasma chemical vapor deposition method using an organic silicon compound exemplified below as a raw material. Examples of the organosilicon compound include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, and phenylsilane. , Vinyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, phenyltriethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, etc., or others can be used, and tetramethoxysilane ( TMOS) or hexamethyldisiloxane (HMDSO) is preferably used.
The inorganic layer containing silicon oxycarbide, or particularly the inorganic layer made of silicon oxycarbide is made of a material containing silicon oxide and carbon, and the following organic silicon compound is used as a raw material for nitrogen gas, oxygen gas, argon gas, Alternatively, it can be formed using a plasma chemical vapor deposition method, preferably a low temperature plasma chemical vapor deposition method in the presence of helium gas or the like. Examples of the organosilicon compound include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, and phenylsilane. , Vinyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, phenyltriethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, etc., or others can be used, and tetramethoxysilane ( TMOS) or hexamethyldisiloxane (HMDSO) is preferably used.

酸化炭化珪素を含む無機層、あるいは特に酸化炭化珪素からなる無機層は、種々のアルコキシシランを用いた化学気相成長法により形成されたものであってよい。用い得るアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、もしくはヘキシルトリメトキシシラン等を挙げることができる。酸化炭化珪素を含む無機層がＣＶＤ法で形成される場合には、原材料に由来する炭素を薄膜内に含有するので、有機化合物を含む下地層との密着性がよいものと考えられる。   The inorganic layer containing silicon oxycarbide, or in particular the inorganic layer made of silicon oxycarbide may be formed by chemical vapor deposition using various alkoxysilanes. Examples of the alkoxysilane that can be used include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, Tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, Methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxide Shishiran, dimethyl-butoxy silane, methyl dimethoxy silane, methyl diethoxy silane or hexyl trimethoxysilane, and the like. In the case where an inorganic layer containing silicon oxycarbide is formed by a CVD method, carbon derived from the raw material is contained in the thin film, so that it is considered that the adhesion with the base layer containing the organic compound is good.

酸化窒化炭化珪素を含む無機層、あるいは特に酸化窒化炭化珪素からなる無機層は、オルガノシラザン等の含窒素有機珪素化合物のガスを使用し、窒素ガス、酸素ガス、アルゴンガス、もしくはヘリウムガス等の存在下でプラズマ化学気相成長法、好ましくは低温プラズマ化学気相成長法を利用して形成することができる。含窒素有機珪素化合物としては、例えば、ヘキサメチルジシラザン（（ＣＨ3Ｓｉ）2ＮＨ）、４−アミノブチルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、２−アミノエチルアミノメチルベンジロキシジメチルシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（アミノヘキシル）アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノメチルトリメチルシラン、３−アミノフェノキシジメチルビニルシラン、４−アミノフェノキシジメチルビニルシラン、３−（ｍ−アミノフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン、アミノフェニルトリメトキシシラン、３−（３−アミノプロポキシ）−３，３−ジメチル−１−プロペニルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルペンタメチルジシロキサン、１，４−ビス（３−アミノプロピルジメチルシリル）ベンゼン、ジ−ｎブチルテトラメチルジシラザン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノトリメチルシラン、（ジエチルアミノ）トリメチルシラン、（ジイソプロピルアミノ）トリメチルシラン、（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ジメチルシラン、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）トリエチルシラン、もしくは（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）トリメチルシラン等を挙げることができる。 An inorganic layer containing silicon oxynitride carbide, or in particular an inorganic layer made of silicon oxynitride carbide, uses a nitrogen-containing organosilicon compound gas such as organosilazane, and uses nitrogen gas, oxygen gas, argon gas, helium gas, etc. It can be formed using plasma chemical vapor deposition in the presence, preferably low temperature plasma chemical vapor deposition. Examples of the nitrogen-containing organosilicon compound include hexamethyldisilazane ((CH 3 Si) 2 NH), 4-aminobutyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminoisobutylmethyldimethoxysilane, 2 -Aminoethylaminomethylbenzyloxydimethylsilane, (aminoethylaminomethyl) phenethyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-amino Propyltrimethoxysilane, N- (aminohexyl) aminopropyltrimethoxysilane, aminomethyltrimethylsilane, 3-aminophenoxydimethylvinylsilane, 4-aminophenoxydimethylvinylsilane, 3- (m-aminophenoxy) propyltrimethoxysilane, Nophenyltrimethoxysilane, 3- (3-aminopropoxy) -3,3-dimethyl-1-propenyltrimethoxysilane, 3-aminopropyldiisopropylethoxysilane, 3-aminopropylmethylbis (trimethylsiloxy) silane, 3- Aminopropyldimethylethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 3-aminopropylpentamethyldisiloxane, 1,4-bis (3-aminopropyldimethylsilyl) benzene, di-nbutyltetramethyldisilazane, N, N-diethylaminotrimethylsilane, (diethylamino) trimethylsilane, (diisopropylamino) trimethylsilane, (N, N-diethylamino) dimethylsilane, (N, N-dimethylamino) triethylsilane, or (N, N-di-) Chiruamino) trimethylsilane, and the like.

また異なる無機層の形成手段として、ケイ素を含有する無機層を適切な材料を用いて湿式法により形成することもできる。上記湿式法としては、無機層形成材料が溶剤などに混合された材料を基材面に塗布などして層を形成し、必要に応じて乾燥を行ない溶剤を除去するといった手段が容易であるが、湿式法として理解されるその他の手段を適宜採用してもよい。上記湿式法では、例えば無機物と樹脂との混合化合物を用いることができ、上記混合化合物としては、ケイ素と酸素を骨格に含むポリシロキサン系化合物である無機材料および樹脂を適当な液体に混合させた混合材料を挙げることができる。上記混合材料のより具体的な例としては、ｗｏｒｌｄ ｗｉｓｅ株式会社製の「ＳＲ１４００」、「ＳＲ３０００」、「ＳＲ１０００ＨＤ」、「ＳＲ１４００ｓｕｐｅｒ」、「フロア−ＧＸ」、「Ｚ−２」などを挙げることができるが、これに限定されにない。   Further, as a means for forming different inorganic layers, an inorganic layer containing silicon can be formed by a wet method using an appropriate material. As the above-mentioned wet method, a means of forming a layer by applying a material in which an inorganic layer forming material is mixed with a solvent or the like to the surface of the substrate, etc., and performing drying as necessary to remove the solvent is easy. Other means understood as a wet method may be employed as appropriate. In the wet method, for example, a mixed compound of an inorganic substance and a resin can be used. As the mixed compound, an inorganic material and a resin that are polysiloxane compounds containing silicon and oxygen in a skeleton are mixed in a suitable liquid. Mention may be made of mixed materials. More specific examples of the mixed material include “SR1400”, “SR3000”, “SR1000HD”, “SR1400 super”, “Floor-GX”, “Z-2” and the like manufactured by world wise Co., Ltd. Yes, but not limited to this.

ガスバリヤ層の厚みは、特に限定されず、含有される無機化合物の種類や求められるガスバリヤ性によって異なる。タッチパネル部材の軽量化、薄膜化の観点では、好ましいガスバリヤ性が示される範囲内において、厚みを小さくすることが好ましく、１ｎｍ〜５０００ｎｍ程度であることが好ましく、５ｎｍ〜３０００ｎｍ程度であることがより好ましい。
ガスバリヤ層を無機層一層により構成する場合には、当該無機層の厚みを、上述するガスバリヤ層の厚みとしてよい。また、ガスバリヤ層を二層以上の無機層、あるいは無機層と有機層の積層により構成する場合には、２以上の構成層の厚みの合計を、上述するガスバリヤ層の厚みとしてよい。 The thickness of the gas barrier layer is not particularly limited and varies depending on the type of inorganic compound contained and the required gas barrier properties. From the viewpoint of reducing the weight and thickness of the touch panel member, it is preferable to reduce the thickness within a range in which preferable gas barrier properties are exhibited, preferably about 1 nm to 5000 nm, and more preferably about 5 nm to 3000 nm. .
When the gas barrier layer is composed of a single inorganic layer, the thickness of the inorganic layer may be the thickness of the gas barrier layer described above. Further, when the gas barrier layer is constituted by two or more inorganic layers, or a laminate of an inorganic layer and an organic layer, the total thickness of the two or more constituent layers may be the thickness of the gas barrier layer described above.

例えば、酸化炭化珪素もしくは酸化窒化炭化珪素を含む無機層の厚みは、１ｎｍ〜１０００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜３００ｎｍである。上記無機層の厚みが、１ｎｍ以上の好ましい厚みの範囲にあるとき、基材面に対する密着性向上効果が望ましく示される傾向にある。また、好ましい厚みの範囲よりも厚い場合には、密着性が低下する場合もあるが、一方で、ガスバリヤ性の向上をより充分にするためには、無機層の厚みを１０００ｎｍを上回ることが好ましい場合もある。そのため、無機層の厚みは、形成材料、形成方法、密着性、ガスバリヤ性、形成時のクラックの有無等の種々の要素を検討して決定してよい。   For example, the thickness of the inorganic layer containing silicon oxide carbide or silicon oxynitride carbide is preferably 1 nm to 1000 nm, more preferably 5 nm to 300 nm. When the thickness of the inorganic layer is in a preferable thickness range of 1 nm or more, the adhesion improving effect on the substrate surface tends to be desirably exhibited. Further, when the thickness is larger than the preferable thickness range, the adhesion may be lowered. On the other hand, in order to further improve the gas barrier property, the thickness of the inorganic layer is preferably more than 1000 nm. In some cases. Therefore, the thickness of the inorganic layer may be determined by considering various factors such as a forming material, a forming method, adhesion, gas barrier properties, and the presence or absence of cracks during formation.

ガスバリヤ層は、単一の無機層から構成されてもよいし、異なる内容の無機化合物を含有する異なる無機層を積層し、もしくは高分子化合物などの有機化合物を含む有機層を積層し、二層以上の積層により構成されていてもよい。積層構成のガスバリヤ層としては、無機層１、有機層、無機層３からなる三層構成、あるいは無機層１、無機層２、有機層、無機層３からなる四層構成などが挙げられるがこれに限定されない。またこのとき、無機層１から３は、それぞれ同じ無機化合物を含む層であってもよいし、異なる無機化合物を含む層であってもよい。同じ組成の無機層１、無機層２を積層させることにより、一層として適切な厚みを選択し、無機層１、無機層２をそれぞれ形成し、これによって全体として厚みを増大させることができる。   The gas barrier layer may be composed of a single inorganic layer, or a laminate of different inorganic layers containing inorganic compounds having different contents, or an organic layer containing an organic compound such as a polymer compound, and two layers. You may be comprised by the above lamination | stacking. Examples of the laminated gas barrier layer include a three-layer structure including the inorganic layer 1, the organic layer, and the inorganic layer 3, or a four-layer structure including the inorganic layer 1, the inorganic layer 2, the organic layer, and the inorganic layer 3. It is not limited to. At this time, the inorganic layers 1 to 3 may each be a layer containing the same inorganic compound or a layer containing different inorganic compounds. By laminating the inorganic layer 1 and the inorganic layer 2 having the same composition, an appropriate thickness can be selected as one layer, and the inorganic layer 1 and the inorganic layer 2 can be formed respectively, thereby increasing the thickness as a whole.

尚、本発明におけるガスバリヤ層を構成する少なくとも一層の無機層は、膜密度が２．０ｇ／ｃｍ３以上であることが好ましい。このような膜密度を示す無機層をガスバリヤ層に備えることにより、ガスバリヤ層の水蒸気透過性をより望ましくすることができ、ひいては、タッチパネル部材自体の水蒸気透過性をより望ましいものとすることが可能である。
また、本発明のタッチパネル部材は、温度３７．８℃、相対湿度１００％ＲＨにおいて水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であり、部材自体の水蒸気透過率に優れるが、加えて、ガスバリヤ層の膜密度が２．０ｇ／ｃｍ３以上である場合には、ガスバリヤ層によって被覆される電極層や配線部に対するガスバリヤ性も充分に確保される。したがって、望ましくない湿度環境における長時間の使用においても電極層や配線部の劣化を防止、抑制することができ、部材信頼性を向上することが可能である。尚、無機層の膜密度は、例えばＸ線反射率法により測定することができる。 Note that at least one inorganic layer constituting the gas barrier layer in the present invention preferably has a film density of 2.0 g / cm 3 or more. By providing the gas barrier layer with an inorganic layer having such a film density, the water vapor permeability of the gas barrier layer can be made more desirable, and as a result, the water vapor permeability of the touch panel member itself can be made more desirable. is there.
In addition, the touch panel member of the present invention has a water vapor transmission rate of 0.1 g / m 2 / day or less at a temperature of 37.8 ° C. and a relative humidity of 100% RH, and is excellent in the water vapor transmission rate of the member itself. When the film density of the gas barrier layer is 2.0 g / cm 3 or more, the gas barrier property to the electrode layer and wiring portion covered with the gas barrier layer is sufficiently ensured. Therefore, deterioration of the electrode layer and the wiring portion can be prevented and suppressed even when used for a long time in an undesired humidity environment, and the reliability of the member can be improved. The film density of the inorganic layer can be measured by, for example, the X-ray reflectivity method.

本発明におけるガスバリヤ層が、二層以上の無機層を備えて構成される場合には、少なくとも一層において、上記膜密度の範囲が示されることが好ましく、二層以上の複数の無機層において上記膜密度の範囲が示されることがより好ましい。複数の無機層において高い膜密度が示されることにより、ガスバリヤ層のガスバリヤ性がより高いものとなるからである。   When the gas barrier layer in the present invention is configured to include two or more inorganic layers, it is preferable that the range of the film density is shown in at least one layer, and the film in the plurality of inorganic layers of two or more layers. More preferably, a density range is indicated. This is because the gas barrier property of the gas barrier layer becomes higher by showing a high film density in the plurality of inorganic layers.

［下地層とガスバリヤ層とによるタッチパネル用電極層に対する不可視化性の付与について］
上述する下地層およびガスバリヤ層は、さらに互いの屈折率を調整することによって、タッチパネル部材においてタッチパネル用電極層の不可視化性を付与することが可能である。即ちタッチパネル部材は、タッチ面側から入射する光が基材面で反射し、その反射光によりタッチパネル用電極層が使用者側から視認可能な状態となるという問題点がある。これに対し、タッチパネル用電極層の屈折率を勘案した上、必要に応じて下地層およびガスバリヤ層の屈折率を互いに調整することによって、タッチパネル用電極層の不可視化が可能となることがわかった。 [Giving invisibility to the electrode layer for touch panel by the base layer and gas barrier layer]
The base layer and the gas barrier layer described above can impart invisibility to the electrode layer for a touch panel in the touch panel member by further adjusting the refractive index of each other. That is, the touch panel member has a problem that light incident from the touch surface side is reflected by the base material surface, and the touch panel electrode layer is visible from the user side by the reflected light. On the other hand, it was found that the electrode layer for the touch panel can be made invisible by adjusting the refractive indexes of the base layer and the gas barrier layer as necessary after taking into consideration the refractive index of the electrode layer for the touch panel. .

タッチパネル部材におけるタッチパネル用電極層の屈折率は、構成部材にもよるが、一般的には１．８〜１．９である。ここで、本発明者らの検討によれば、様々の態様の本発明のタッチパネル部材のうち、下地層の透過率がタッチパネル用電極層の透過率に近づくにつれ、該タッチパネル用電極層の不可視化性が増大することを見出した。より具体的には、屈折率１．８〜１．９のタッチパネル用電極層に対して、下地層の屈折率を１．６〜１．８程度にし、好ましくは両者の差異が０．２以下とすることによって、効果的にタッチパネル用電極層が不可視化可能であり、両者の屈折率が実質的に同一であることが特に好ましいことがわかった。尚、上記タッチパネル用電極層の屈折率は、該タッチパネル用電極層を構成する電極部の屈折率を測定し、これをタッチパネル用電極層の屈折率として理解することもできる。   Although the refractive index of the electrode layer for touchscreens in a touchscreen member is based also on a structural member, it is generally 1.8-1.9. Here, according to the study by the present inventors, among the touch panel members of the present invention in various modes, as the transmittance of the base layer approaches the transmittance of the electrode layer for touch panel, the electrode layer for touch panel becomes invisible. It has been found that sex increases. More specifically, with respect to the electrode layer for a touch panel having a refractive index of 1.8 to 1.9, the refractive index of the base layer is set to about 1.6 to 1.8, preferably the difference between the two is 0.2 or less. Thus, it was found that the electrode layer for a touch panel can be effectively made invisible, and it is particularly preferable that both refractive indexes are substantially the same. In addition, the refractive index of the said electrode layer for touchscreens can also understand this as a refractive index of the electrode layer for touchscreens, measuring the refractive index of the electrode part which comprises this electrode layer for touchscreens.

また上記屈折率を指標とする代わりに、上記タッチパネル用電極層と上記下地層との色差を示すΔＥ＊とに着眼すると、ΔＥ＊が大きくなるほど、タッチパネル用電極層の可視化傾向が増大し、小さくなるほど、不可視化傾向にあり、特にはΔＥ＊≦１．５の場合に、タッチパネル用電極層が好ましく不可視化されることがわかった。また、不可視化の観点では、タッチパネル用電極層に直接に下地層が形成されていることが好ましい。
尚、本発明に関し、ΔＥ＊は、下記式（１）として示されるユークリッド距離の計算式により算出される。

Figure 2013142941
Further, when focusing on ΔE * indicating the color difference between the touch panel electrode layer and the base layer instead of using the refractive index as an index, the tendency of the touch panel electrode layer to be visualized increases and decreases as ΔE * increases. It turns out that it tends to become invisible, and in particular when ΔE * ≦ 1.5, the electrode layer for touch panel is preferably made invisible. From the viewpoint of invisibility, it is preferable that a base layer is formed directly on the electrode layer for a touch panel.
In the present invention, ΔE * is calculated by the Euclidean distance calculation formula shown as the following formula (1).
Figure 2013142941

また、本発明者らの検討により、上述する下地層を用いて、効果的にタッチパネル用電極層の不可視化を図るためには、下地層上に形成されるガスバリヤ層の屈折率と該下地層の屈折率との差を０．０５以上に調整し、下地層とガスバリヤ層の屈折率を異ならしめることが望ましいという知見を得た。
即ち、下地層の厚みが相当に大きくなると、タッチパネル用電極層と下地層とが屈折率あるいは色差について好ましい関係にある場合であっても、効果的な不可視化性が得られない場合があることがわかった。この観点から、下地層の厚みは、示される屈折率などにもよるが、約５μｍ以下であることが好ましい。このとき、下地層とガスバリヤ層との屈折率が等しく、具体的には０．０５未満であると、屈折率の観点で、下地層とガスバリヤ層とが一つの層として認識され、見かけ上の下地層の厚みを増大させ、不可視化性の効果を低減させる場合がある。したがって、このような事態を防止するために、下地層とガスバリヤ層との屈折率の差を０．０５以上とすることが好ましい。 Further, in order to effectively invisibility of the electrode layer for a touch panel by using the above-described underlayer, the refractive index of the gas barrier layer formed on the underlayer and the underlayer have been examined by the inventors. It was found that it is desirable to adjust the difference between the refractive index of the base layer and the gas barrier layer by adjusting the difference from the refractive index to 0.05 or more.
That is, if the thickness of the underlayer is considerably increased, effective invisibility may not be obtained even if the electrode layer for touch panel and the underlayer have a preferable relationship with respect to refractive index or color difference. I understood. From this viewpoint, the thickness of the underlayer is preferably about 5 μm or less, although it depends on the indicated refractive index. At this time, if the refractive index of the underlayer and the gas barrier layer are equal, specifically, less than 0.05, the underlayer and the gas barrier layer are recognized as one layer from the viewpoint of the refractive index, and apparently In some cases, the thickness of the underlayer is increased to reduce the effect of invisibility. Therefore, in order to prevent such a situation, it is preferable that the difference in refractive index between the base layer and the gas barrier layer is 0.05 or more.

上述のとおり、タッチパネル用電極層の不可視化性を発揮させるために、各層の構成層の屈折率を調整する手段は特に限定されない。たとえば１つの手段としては、タッチパネル用電極層の一般的な屈折率である１．８〜１．９に、下地層の屈折率を近似させるために、高屈率折材料を下地層に含有させてよい。例えば、上述する下地層を構成可能な材料に、さらに、高屈折率材料として、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、酸化タングステン、および酸化セリウムから選ばれるいずれか１種またはこれらの２種以上を下地層に含有させることによって、下地層の屈折率を増大させることができ、具体的には下地層の屈折率を１．６〜１．８程度に調整することができる。またこのとき、ガスバリヤ層は、これを構成する部材の種類にもよるが、上述に説明するとおりにガスバリヤ層を形成することによって、屈折率１．５〜１．６程度が示されうるため、高屈折率に形成された下地層との屈折率を異ならしめることが可能である。   As described above, the means for adjusting the refractive index of the constituent layers of each layer is not particularly limited in order to exhibit the invisibility of the electrode layer for touch panel. For example, as one means, in order to approximate the refractive index of the underlayer to 1.8 to 1.9, which is the general refractive index of the electrode layer for touch panels, a high refractive index material is included in the underlayer. It's okay. For example, the above-described material that can form the underlayer, and further, any one or more selected from zirconium dioxide, titanium dioxide, tungsten oxide, and cerium oxide as the high refractive index material are used as the underlayer. By containing, the refractive index of a base layer can be increased, specifically, the refractive index of a base layer can be adjusted to about 1.6-1.8. In addition, at this time, the gas barrier layer depends on the type of members constituting the gas barrier layer, but by forming the gas barrier layer as described above, a refractive index of about 1.5 to 1.6 can be obtained. It is possible to make the refractive index different from that of the base layer formed with a high refractive index.

以上のとおり、本発明のタッチパネル部材において設けられる下地層などの屈折率、あるいは、色差を調整することによって、タッチパネル用電極層の不可視化性をも付与することが可能であり、下地層およびガスバリヤ層以外の異なる層を設けることなく、タッチパネル用電極層の不可視化が図られた優れたタッチパネル部材を提供することができる点で、有利である。   As described above, the invisibility of the electrode layer for the touch panel can be imparted by adjusting the refractive index or color difference of the base layer provided in the touch panel member of the present invention, and the base layer and the gas barrier. This is advantageous in that an excellent touch panel member in which the electrode layer for a touch panel is made invisible can be provided without providing different layers other than the layers.

上記不可視化性の付与は、本発明のタッチパネル部材において、特に、有機層である下地層と、無機層を含むガスバリヤ層という構成を採用した結果、両者の屈折率を不可視化に適切な比率に調整しやすくなったことにより実現可能となったものである。このように適切な屈折率に調整された下地層とガスバリヤ層を備える本発明のタッチパネル部材は、ガスバリヤ性と不可視化性という２つの優れた効果が発揮され、別途、ガスバリヤ性に関与しない反射防止層を設ける必要もなく、好ましい。ただし、本発明のタッチパネル部材において、下地層とガスバリヤ層により不可視化性が示されるか否かによらず、別途、不可視化層あるいは反射防止層といった、タッチパネル用電極層の不可視化を可能とする層を設けることを禁止する趣旨ではない。   The above invisibility is imparted to the touch panel member of the present invention, in particular, as a result of adopting a constitution of a base layer that is an organic layer and a gas barrier layer including an inorganic layer, so that the refractive index of both is set to a ratio suitable for invisibility. This is possible because it is easier to adjust. As described above, the touch panel member of the present invention having the base layer and the gas barrier layer adjusted to an appropriate refractive index exhibits two excellent effects of gas barrier property and invisibility, and separately prevents reflection that is not related to gas barrier property. There is no need to provide a layer, which is preferable. However, in the touch panel member of the present invention, the electrode layer for the touch panel such as the invisible layer or the antireflection layer can be made invisible independently regardless of whether the invisibility is shown by the base layer and the gas barrier layer. It is not intended to prohibit the provision of layers.

［任意層の付加について］
本発明のタッチパネル部材は、本発明において特定される樹脂基材および該樹脂基材上に設けられる各層以外に、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜任意の層、あるいは任意の構成を設けてもよい。例えば、樹脂基材上には、直接または間接に該樹脂基材上に設けられた複数の電極部を備えるタッチパネル用電極層が設けられてよい。樹脂基材上に間接にタッチパネル用電極層が設けられる場合には、例えば、樹脂基材上にアンダーコート層を設けることができ、あるいはプライマー層および該プライマー層上にアンダーコート層を設けることができ、この任意の層上にタッチパネル用電極層を設けてもよい。ただし、任意の層はこれに限定されない。 [Addition of optional layer]
The touch panel member of the present invention is provided with an arbitrary layer or an arbitrary configuration as long as it does not depart from the spirit of the present invention, in addition to the resin base material specified in the present invention and each layer provided on the resin base material. Also good. For example, an electrode layer for a touch panel including a plurality of electrode portions provided directly or indirectly on the resin substrate may be provided on the resin substrate. When the touch panel electrode layer is indirectly provided on the resin substrate, for example, an undercoat layer can be provided on the resin substrate, or an undercoat layer can be provided on the primer layer and the primer layer. The electrode layer for touch panels may be provided on this arbitrary layer. However, an arbitrary layer is not limited to this.

例えば、選択される樹脂基材の種類によっては、基材中に含まれる樹脂材料からオリゴマー成分などがブリードアウトする虞がある。このとき、樹脂基材からブリードアウトする成分がタッチパネル用電極層に何らかの作用を及ぼす虞がある場合などには、当該樹脂基材上にアンダーコート層、あるいはプライマー層およびアンダーコート層を設けることが望ましい。
上記アンダーコート層は、上述する下地層において示される構成材料および形成方法に倣って設けることができるが、一般的には、アクリル系樹脂などの樹脂材料によって容易に形成することができる。アンダーコート層の厚みは特に限定されないが、樹脂基材からブリードアウトした成分がタッチパネル用電極層に作用を及ぼすことを防止可能な程度の厚みとしては１０ｎｍ〜５０μｍ程度であることが好ましい。
上記プライマー層は、従来公知のプライマー層を構成可能な材料として知られる材料を用いて適宜形成してよいが、例えば、特開２０１１-２６５４６に開示される、数平均分子量が３０００以上１５０００未満のポリエステル樹脂（Ａ）と、イソシアネート基を２個以上有するポリイソシアネート化合物（Ｂ）とを含有し、このポリエステル樹脂（Ａ）が芳香族性のカルボキシ基を２個以上有するプライマー組成物を用いて、好適に上記プライマー層を形成することができる。尚、上記プライマー組成物の詳細については、特開２０１１−２６５４６に開示されているため、これ以上の説明は割愛する。形成方法は特に限定されないが、例えばマイクログラビア塗工の方法により容易に形成することができる。プライマー層の厚みは、特に限定されないが、一般的には、１０ｎｍ〜１０μｍ程度であってよい。 For example, depending on the type of the resin base material selected, there is a possibility that oligomer components and the like may bleed out from the resin material contained in the base material. At this time, when there is a possibility that the component that bleeds out from the resin base material may have some effect on the electrode layer for the touch panel, an undercoat layer, or a primer layer and an undercoat layer may be provided on the resin base material. desirable.
The undercoat layer can be provided following the constituent materials and the forming method shown in the underlayer described above, but can generally be easily formed from a resin material such as an acrylic resin. Although the thickness of an undercoat layer is not specifically limited, It is preferable that it is about 10 nm-50 micrometers as thickness which can prevent that the component bleeded out from the resin base material acts on the electrode layer for touchscreens.
The primer layer may be appropriately formed using a material known as a material capable of forming a conventionally known primer layer. For example, the number average molecular weight disclosed in JP 2011-26546 A is 3000 or more and less than 15000. Using a primer composition containing a polyester resin (A) and a polyisocyanate compound (B) having two or more isocyanate groups, the polyester resin (A) having two or more aromatic carboxy groups, The primer layer can be suitably formed. In addition, since the detail of the said primer composition is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-26546, the description beyond this is omitted. Although the formation method is not particularly limited, it can be easily formed by, for example, a microgravure coating method. Although the thickness of a primer layer is not specifically limited, Generally, it may be about 10 nm-10 micrometers.

タッチパネル部材（実施態様２）：
本発明のタッチパネル部材の異なる実施態様を示すために、タッチパネル部材２１の概略断面図を図３に示す。図３に示すタッチパネル部材２１は、ガスバリヤ層２２が、第一電極層５および第二電極層９を覆い、配線部３を覆わないこと以外は、図１に示すタッチパネル部材１と同様である。 Touch panel member (Embodiment 2):
In order to show different embodiments of the touch panel member of the present invention, a schematic sectional view of the touch panel member 21 is shown in FIG. The touch panel member 21 shown in FIG. 3 is the same as the touch panel member 1 shown in FIG. 1 except that the gas barrier layer 22 covers the first electrode layer 5 and the second electrode layer 9 and does not cover the wiring portion 3.

タッチパネル部材２１は、上面視上、操作領域あるいは表示領域に略相当する領域に形成されるひし型形状の電極部８、１０（ただし、ひし形形状電極部８は図３上では図示されない）により構成される第一電極層５およびブリッジ電極部７より構成される第二電極層９を、下地層１１およびガスバリヤ層２２が覆っているため、タッチパネル部材２１にガスバリヤ性を付与している。また、配線部３は、下地層１１によって覆われているため、樹脂基材２とは反対側面からの水蒸気などの浸透が防止、抑制され、配線部３におけるイオンマイグレーションの問題や配線部を構成する金属材料の高湿度による劣化などを防止することが可能である。図示しない、配線部１７についても同様である。   The touch panel member 21 is configured by rhombus-shaped electrode portions 8 and 10 (in the figure, the rhombus-shaped electrode portion 8 is not shown in FIG. 3) formed in a region substantially corresponding to the operation region or the display region when viewed from above. Since the base electrode 11 and the gas barrier layer 22 cover the second electrode layer 9 composed of the first electrode layer 5 and the bridge electrode portion 7, the gas barrier property is imparted to the touch panel member 21. Moreover, since the wiring part 3 is covered with the base layer 11, the penetration | invasion of the water vapor | steam etc. from the opposite side to the resin base material 2 is prevented and suppressed, and the problem of ion migration in the wiring part 3 and a wiring part are comprised. It is possible to prevent deterioration of the metal material to be caused by high humidity. The same applies to the wiring portion 17 (not shown).

タッチパネル部材（実施態様３）：
本発明のタッチパネル部材の異なる実施態様を示すために、タッチパネル部材２３の概略断面図を図４に示す。図４に示すタッチパネル部材２３は、ガスバリヤ層２４が、第一無機層２５、有機層２６、第二無機層２７の三層により構成されていること以外は、図１に示すタッチパネル部材１と同様である。 Touch panel member (Embodiment 3):
In order to show different embodiments of the touch panel member of the present invention, a schematic cross-sectional view of the touch panel member 23 is shown in FIG. The touch panel member 23 shown in FIG. 4 is the same as the touch panel member 1 shown in FIG. 1 except that the gas barrier layer 24 includes three layers of a first inorganic layer 25, an organic layer 26, and a second inorganic layer 27. It is.

第一無機層２５、第二無機層２７は、同じ無機化合物を含有する層であってもよいし、あるいは、異なる無機化合物を含む層であってもよい。
一方、有機層２６は、第一無機層２５表面を平坦化させ、第二無機層２７を良好に積層形成させて、充分なガスバリヤ性を発揮させるための層であるため、タッチパネル部材における所望の透過性を満たし、且つ、平坦化性を発揮する範囲において、任意の有機化合物を選択して形成することができる。例えば、上述する下地層１１の構成として説明される化合物のうちの有機化合物を適宜選択して、有機層２６を形成してもよい。 The first inorganic layer 25 and the second inorganic layer 27 may be layers containing the same inorganic compound, or may be layers containing different inorganic compounds.
On the other hand, the organic layer 26 is a layer for flattening the surface of the first inorganic layer 25 and satisfactorily forming the second inorganic layer 27 and exhibiting sufficient gas barrier properties. Any organic compound can be selected and formed as long as the transparency is satisfied and the flatness is exhibited. For example, the organic layer 26 may be formed by appropriately selecting an organic compound among the compounds described as the configuration of the base layer 11 described above.

タッチパネル部材付き表示装置：
上述する本発明のタッチパネル部材は、各種の表示パネルと組み合わせて、タッチパネル部材付き表示装置を提供することが可能である。本発明のタッチパネル部材付き表示装置は、本発明のタッチパネル部材の有利な効果が反映され、装置の軽量化に貢献することができる。また、本発明のタッチパネル部材は基材としてガラスではなく樹脂フィルムを用いることからフレキシブル性を発揮可能であるため、フレキシブルペーパー等のフレキシブル表示部材との組み合わせにも好適である。
加えて、本発明のタッチパネル部材は、上述のとおりガスバリヤ層を備え、ガスバリヤ性に優れるため、タッチパネル部材側から表示パネルに対する水蒸気がガスの浸透による劣化を防止、抑制することができる。 Display device with touch panel member:
The touch panel member of the present invention described above can be combined with various display panels to provide a display device with a touch panel member. The display device with a touch panel member of the present invention reflects the advantageous effects of the touch panel member of the present invention, and can contribute to weight reduction of the device. Moreover, since the touch panel member of the present invention uses a resin film instead of glass as a base material and can exhibit flexibility, it is suitable for combination with a flexible display member such as flexible paper.
In addition, since the touch panel member of the present invention includes the gas barrier layer as described above and has excellent gas barrier properties, the water vapor from the touch panel member side to the display panel can be prevented or suppressed from being deteriorated due to gas permeation.

本発明のタッチパネル部材付き表示装置に用いられる表示パネルは特に限定されず、有機ＥＬ表示パネル、液晶表示パネルなど、タッチパネル部材の座標検出機能と組み合わせて利用可能な表示パネルであれば、適宜選択することができる。特に、有機ＥＬ表示パネルにおける有機ＥＬ媒体は、湿度に非常にセンシティブであるため、本発明のタッチパネル部材との組み合わせによりガスバリヤ性が示されることは望ましい。   The display panel used for the display device with a touch panel member of the present invention is not particularly limited, and is appropriately selected as long as the display panel can be used in combination with the coordinate detection function of the touch panel member, such as an organic EL display panel and a liquid crystal display panel. be able to. In particular, since the organic EL medium in the organic EL display panel is very sensitive to humidity, it is desirable that gas barrier properties be exhibited by the combination with the touch panel member of the present invention.

本発明のタッチパネル部材付き表示装置は、タッチパネル部材と表示パネルの組み合わせ方法として知られる種々の手段に倣い、選択されるタッチパネル部材として本発明のタッチパネル部材を選択する。本発明のタッチパネル部材付き表示装置の実施態様について以下に図を用いて説明する。   The display device with a touch panel member of the present invention selects the touch panel member of the present invention as the selected touch panel member, following various means known as a combination method of the touch panel member and the display panel. Embodiments of the display device with a touch panel member of the present invention will be described below with reference to the drawings.

本発明のタッチパネル部材付き表示装置が、フレキシブルペーパーなどに例示される表示部材の両面側が外部環境に露出するような形態の場合には、両面側が視認面になるため、タッチパネル部材は、表示部材の表示面に位置していても、背面に位置していても、本発明のタッチパネル部材の優れた効果が、表示装置においても有利に発揮されうる。
一方、テレビや携帯など、表示部材の背面が被覆体によって被覆されることによって、該表示部材の背面が外部環境とは遮蔽可能な態様では、表示部材の表示面にタッチパネル部材が位置するよう組まれることにより、本発明のタッチパネル部材の効果が表示装置において有利に発揮されるため好ましい。 In the case where the display device with a touch panel member of the present invention is in a form in which both sides of the display member exemplified by flexible paper are exposed to the external environment, the touch panel member is a display member. Regardless of whether it is located on the display surface or on the back surface, the excellent effect of the touch panel member of the present invention can be advantageously exhibited also in the display device.
On the other hand, in a mode in which the back surface of the display member is covered with a covering body such as a television or a mobile phone and the back surface of the display member can be shielded from the external environment, the touch panel member is positioned on the display surface of the display member. Therefore, the effect of the touch panel member of the present invention is advantageously exhibited in the display device, which is preferable.

実施態様４：
図５は、基板３１、基板３２を備え、基板３１、基板３２間に表示媒体３３を備える表示パネル３４と、表示パネル３４の表示側面に本発明のタッチパネル部材１を搭載したタッチパネル部材付き表示装置３５の断面概略図である。図示省略するが、基板３１、基板３２は、それぞれ支持基材を有し、適宜、該支持基材上に表示パネル３４に適した構成が作り込まれていてもよい。
一方、タッチパネル部材１のタッチ面側となる面には、ガスバリヤ層１２上に表面保護層３６が設けられている。表面保護層３６は、本発明のタッチパネル部材において任意の層である。表面保護層３６は、タッチパネル部材１のタッチ面側を保護可能な層であればいずれのものであってもよく、例えば、樹脂製の保護フィルム、光透過性の材料を用いて積層形成された層、あるいは、ガラス部材などであってよく、またこれらに限定されない。 Embodiment 4:
5 shows a display panel 34 having a substrate 31 and a substrate 32, a display panel 34 having a display medium 33 between the substrate 31 and the substrate 32, and a display device with a touch panel member in which the touch panel member 1 of the present invention is mounted on the display side surface of the display panel 34. FIG. Although not shown, the substrate 31 and the substrate 32 each have a supporting base material, and a configuration suitable for the display panel 34 may be appropriately formed on the supporting base material.
On the other hand, a surface protective layer 36 is provided on the gas barrier layer 12 on the surface on the touch surface side of the touch panel member 1. The surface protective layer 36 is an arbitrary layer in the touch panel member of the present invention. The surface protective layer 36 may be any layer as long as it can protect the touch surface side of the touch panel member 1. For example, the surface protective layer 36 is laminated using a resin protective film or a light transmissive material. It may be a layer or a glass member, but is not limited thereto.

タッチパネル部材付き表示装置３５は、表示側の基板３２側の露出面と、タッチパネル部材１の樹脂基材２側の露出面を、直接または間接に当接させて作製することができる。当接手段は、限定されないが、例えば、粘着層などを介して両者を貼り合わせる方法が一般的である。以下において、図５に例示するように、表示パネルの基板面、タッチパネル部材を搭載してなるタッチパネル部材付き表示装置を、搭載型と呼ぶ。   The display device with a touch panel member 35 can be manufactured by directly or indirectly contacting the exposed surface of the display side substrate 32 and the exposed surface of the touch panel member 1 on the resin base material 2 side. The abutting means is not limited, but, for example, a method is generally used in which both are bonded via an adhesive layer or the like. Hereinafter, as exemplified in FIG. 5, the display device with a touch panel member on which the substrate surface of the display panel and the touch panel member are mounted is referred to as a mounting type.

また、タッチパネル部材１は、配線部３上を下地層１１とガスバリヤ層１２が覆っているため、タッチパネル部材１を装置の露出面側に位置させた場合においても、配線部３に対するガスバリヤ性も充分に発揮される。したがって、配線部３におけるイオンマイグレーションの発生が良好に防止され、配線部３を構成する金属材料の劣化なども防止される。このような配線部３におけるガスバリヤ性の発揮効果は、後述する他のタッチパネル部材付き表示装置においても同様に発揮される。   Further, since the touch panel member 1 covers the wiring portion 3 with the base layer 11 and the gas barrier layer 12, even when the touch panel member 1 is positioned on the exposed surface side of the apparatus, the gas barrier property with respect to the wiring portion 3 is sufficient. To be demonstrated. Therefore, the occurrence of ion migration in the wiring portion 3 is satisfactorily prevented, and deterioration of the metal material constituting the wiring portion 3 is also prevented. The effect of exhibiting the gas barrier property in the wiring part 3 is also exhibited in other display devices with a touch panel member described later.

タッチパネル部材付き表示装置３５は、タッチパネル部材１のガスバリヤ性により、タッチパネル部材１側から表示パネル３４に対する水蒸気やガスの浸透を良好に防止、抑制される。しかも搭載型であるため、表示パネル３４の基板３２に用いられる基材とタッチパネル部材１の樹脂基材が重ね合わされ、装置に望ましい強度を付与可能である。   Due to the gas barrier property of the touch panel member 1, the display device 35 with a touch panel member can prevent and suppress the penetration of water vapor and gas into the display panel 34 from the touch panel member 1 side. And since it is a mounting type | mold, the base material used for the board | substrate 32 of the display panel 34 and the resin base material of the touch panel member 1 are piled up, and it can provide desired intensity | strength to an apparatus.

実施態様５：
図６は、基板４１、基板４２を備え、基板４１、基板４２間に表示媒体４３を備える表示パネル４４と、タッチパネル部材１とが組み合わされてなるタッチパネル部材付き表示装置４５の断面概略図である。図示省略するが、基板４１は、支持基材を有し、適宜、該支持基材上に表示パネル４４に適した構成が作り込まれていてもよい。
一方、基板４２は、支持基材を有し、適宜、該支持基材上に表示パネル４４に適した構成が作り込まれていてよいが、当該基材が、タッチパネル部材１における樹脂基材２と兼用されている点で、図５に示すタッチパネル部材付き表示装置３５と異なっている。即ち、樹脂基材２の一方面側に、タッチパネル部材１の各構成が作り込まれており、他方面側に、表示パネル４４の基板４２に備わる各構成が作り込まれてよい。以下において、図６に例示するように、タッチパネル部材における樹脂基材を、表示部材の基材と兼用する態様が採用されるタッチパネル部材付き表示装置を、一体型と呼ぶ。 Embodiment 5:
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a display device 45 with a touch panel member in which a touch panel member 1 is combined with a display panel 44 including a substrate 41 and a substrate 42 and a display medium 43 between the substrate 41 and the substrate 42. . Although illustration is omitted, the substrate 41 has a supporting base material, and a configuration suitable for the display panel 44 may be appropriately formed on the supporting base material.
On the other hand, the substrate 42 has a supporting base material, and a structure suitable for the display panel 44 may be appropriately formed on the supporting base material. The base material is a resin base material 2 in the touch panel member 1. This is different from the display device 35 with a touch panel member shown in FIG. That is, each component of the touch panel member 1 may be formed on one surface side of the resin base material 2, and each component included in the substrate 42 of the display panel 44 may be formed on the other surface side. In the following, as illustrated in FIG. 6, a display device with a touch panel member in which the resin base material in the touch panel member is also used as the base material of the display member is referred to as an integrated type.

タッチパネル部材付き表示装置４５は、タッチパネル部材１のガスバリヤ性により、タッチパネル部材１側から表示パネル４４に対する水蒸気やガスの浸透を良好に防止、抑制される。しかも一体型であるため、表示パネル４４の一方側の基材が省略され、軽量化、薄膜化への貢献が大きい。また、搭載型のように、表示パネルとタッチパネル部材とを貼り合わせるための粘着層の形成や、貼り合わせ工程も必要ない等、形成工程上の有利な点も有する。   Due to the gas barrier property of the touch panel member 1, the display device 45 with a touch panel member can prevent and suppress the penetration of water vapor and gas into the display panel 44 from the touch panel member 1 side. Moreover, since it is an integral type, the base material on one side of the display panel 44 is omitted, and the contribution to weight reduction and thinning is great. Moreover, it has the advantage on a formation process, such as formation of the adhesion layer for bonding together a display panel and a touch panel member like a mounting type, and a bonding process is unnecessary.

実施態様６：
図７は、基板３１、基板３２を備え、基板３１、基板３２間に表示媒体３３を備える表示パネル３４と、表示パネル３４の表示側面に本発明のタッチパネル部材５１を搭載したタッチパネル部材付き表示装置５２の断面概略図である。表示パネル３４は、図５に示すものと同様である。 Embodiment 6:
7 shows a display panel 34 having a substrate 31 and a substrate 32, a display panel 34 having a display medium 33 between the substrate 31 and the substrate 32, and a touch panel member-equipped display device in which the touch panel member 51 of the present invention is mounted on the display side surface of the display panel 34. 52 is a schematic sectional view of 52. FIG. The display panel 34 is the same as that shown in FIG.

タッチパネル部材５１は、樹脂基材５３の一方面側に、第一配線部５４と第一配線部５４に電気的に接続される電極部を備えるタッチパネル用の第一電極層５５が設けられ、さらに第一配線部５４と第一電極層５５を覆う下地層５６と、ガスバリヤ層５７が順に設けられている。一方、樹脂基材５３の他方面側は、第二配線部５８と、第二配線部５８と電気的に接続される電極部を備えるタッチパネル用の第二電極層５９が設けられ、第二電極層５９を覆う保護層６０を備えて構成されている。このように本発明のタッチパネル部材は、樹脂基材の両面側にそれぞれタッチパネル用の電極層を備える態様も包含される。尚、このとき保護層６０は任意の層であり、第二電極層５９および第二配線部５８を保護可能な光透過性の層である範囲において、構成材料や形成方法は適宜決定することができる。例えば、アクリル樹脂等の光透過性の樹脂部材を塗布して、積層形成してもよい。   The touch panel member 51 is provided with a first electrode layer 55 for a touch panel including a first wiring part 54 and an electrode part electrically connected to the first wiring part 54 on one surface side of the resin base material 53. A base layer 56 covering the first wiring portion 54 and the first electrode layer 55 and a gas barrier layer 57 are provided in this order. On the other hand, the second surface of the resin base material 53 is provided with a second electrode layer 59 for a touch panel including a second wiring portion 58 and an electrode portion that is electrically connected to the second wiring portion 58. The protective layer 60 covering the layer 59 is provided. As described above, the touch panel member of the present invention includes a mode in which electrode layers for the touch panel are provided on both sides of the resin base material, respectively. At this time, the protective layer 60 is an arbitrary layer, and a constituent material and a forming method can be appropriately determined within a range that is a light-transmitting layer capable of protecting the second electrode layer 59 and the second wiring portion 58. it can. For example, a light transmissive resin member such as an acrylic resin may be applied and laminated.

タッチパネル部材５１のごとく、樹脂基材の両面側にタッチパネル用電極層が設けられる態様の本発明においては、少なくとも樹脂基材の一方面側において、タッチパネル用電極層を覆う下地層およびガスバリヤ層を有し、且つ、配線部を覆う下地層およびガスバリヤ層の少なくともいずれか一層を有していればよい。このように基材の両面にタッチパネル用電極層を備え、且つ、一方面側にのみ下地層およびガスバリヤ層が設けられる場合には、タッチパネル部材の平面視上、樹脂基材の両面側にそれぞれ備わるタッチパネル用電極層の領域と下地層およびガスバリヤ層の形成領域が重複させ、樹脂基材上の一方面側において形成されたタッチパネル用電極層を下地層およびガスバリヤ層で被覆するだけでなく、樹脂基材の他方面側に形成されたタッチパネル用電極層についても、平面視上、該樹脂基材を介して下地層およびガスバリヤ層で被覆していることが望ましい。タッチパネル用電極層は、一般的に、タッチパネルの操作面あるいは表示面を構成する面となるため、当該面と同領域を下地層とガスバリヤ層が覆うことにより、タッチパネル部材として充分なガスバリヤ性が示されうるものであり、表示装置と組み合わせた際の、表示領域に対してもガスバリヤ性を示すに充分な範囲と考えられるからである。
同様に、基材の両面に配線部が設けられ、且つ、樹脂基材の一方の面側に下地層およびガスバリヤ層が設けられる場合においても、タッチパネル部材の平面視上、下地層およびガスバリヤ層の少なくともいずれか一層が、樹脂基材の両面側にそれぞれ備わる配線部と重複する領域に設けられていることが望ましい。配線部と下地層およびガスバリヤ層の少なくともいずれか一層との位置関係において、下地層およびガスバリヤ層の少なくともいずれか一層が、最も露出面側に位置するようタッチパネル部材が使用されることによって、配線部に対するガスバリヤ性が発揮されるからである。 In the present invention in which the touch panel electrode layers are provided on both sides of the resin base material as in the touch panel member 51, at least one side of the resin base material has a base layer and a gas barrier layer covering the touch panel electrode layer. In addition, it is only necessary to have at least one of a base layer and a gas barrier layer covering the wiring portion. As described above, when the touch panel electrode layer is provided on both sides of the base material and the base layer and the gas barrier layer are provided only on one side, the touch panel member is provided on both sides of the resin base material in plan view. The electrode layer area for the touch panel overlaps with the formation area of the base layer and the gas barrier layer, and the electrode layer for the touch panel formed on one side of the resin base material is not only covered with the base layer and the gas barrier layer, The electrode layer for the touch panel formed on the other surface side of the material is also preferably covered with the base layer and the gas barrier layer through the resin base material in plan view. Since the electrode layer for a touch panel is generally a surface constituting the operation surface or display surface of the touch panel, a gas barrier property sufficient as a touch panel member is shown by covering the same area with the base layer and the gas barrier layer. This is because it is considered to be a range sufficient to show gas barrier properties for the display region when combined with a display device.
Similarly, when the wiring portion is provided on both surfaces of the base material and the base layer and the gas barrier layer are provided on one surface side of the resin base material, the base layer and the gas barrier layer of the touch panel member are planarly viewed. It is desirable that at least one of the layers is provided in a region overlapping with the wiring portions provided on both sides of the resin base material. By using the touch panel member so that at least one of the underlayer and the gas barrier layer is located on the most exposed surface side in the positional relationship between the wiring portion and at least one of the underlayer and the gas barrier layer, the wiring portion This is because the gas barrier property is exhibited.

実施態様７：
図８は、基板３１、基板３２を備え、基板３１、基板３２間に表示媒体３３を備える表示パネル３４と、表示パネル３４の表示側面に本発明のタッチパネル部材６１を搭載したタッチパネル部材付き表示装置６２の断面概略図である。表示パネル３４は、図５に示すものと同様である。 Embodiment 7:
8 shows a display panel 34 having a substrate 31 and a substrate 32, a display panel 34 having a display medium 33 between the substrate 31 and the substrate 32, and a touch panel member-equipped display device in which the touch panel member 61 of the present invention is mounted on the display side surface of the display panel 34. 62 is a schematic cross-sectional view of 62. FIG. The display panel 34 is the same as that shown in FIG.

一方、タッチパネル部材６１は、表面保護層３６を備えないこと、および樹脂基材２を覆って、ガスバリヤ補助層６３が設けられ、ガスバリヤ補助層６３上に、配線部３と第一電極層５が設けられていること以外には図５に示すタッチパネル部材１と同様である。尚、図８中、第一電極層５の構成の一部としてひし型形状の電極部１０が示されている。ガスバリヤ補助層６３は、本発明のタッチパネル部材において任意の層であるが、本発明のタッチパネル部材の使用態様や、求められるガスバリヤ性がより大きい場合には、ガスバリヤ補助層６３を設けることが望ましい。ガスバリヤ補助層６３は、本発明のタッチパネル部材において説明する下地層、またはガスバリヤ層と同様の方法および材料で形成してよく、または下地層とガスバリヤ層との積層により形成してもよい。 On the other hand, the touch panel member 61 does not include the surface protective layer 36 and covers the resin base material 2, and is provided with a gas barrier auxiliary layer 63. On the gas barrier auxiliary layer 63, the wiring portion 3 and the first electrode layer 5 are provided. The touch panel member 1 is the same as the touch panel member 1 shown in FIG. In FIG. 8, a diamond-shaped electrode portion 10 is shown as a part of the configuration of the first electrode layer 5. The gas barrier auxiliary layer 63 is an arbitrary layer in the touch panel member of the present invention, but it is desirable to provide the gas barrier auxiliary layer 63 when the usage mode of the touch panel member of the present invention and the required gas barrier property are larger. The gas barrier auxiliary layer 63 may be formed by the same method and material as the underlayer or the gas barrier layer described in the touch panel member of the present invention, or may be formed by stacking the underlayer and the gas barrier layer.

タッチパネル部材付き表示装置６２におけるタッチパネル部材６１は、表示パネル３４との組み合わせの向きが、図５に示すタッチパネル部材付き表示装置３５とは異なっている。即ち、タッチパネル部材付き表示装置６２は、タッチパネル部材６１の樹脂基材２が、露出面側に位置し、ガスバリヤ層１２側が直接に表示パネル３４と当接する向きで、互いが組み合わされている。尚、図示省略するが、ガスバリヤ層１２を覆って、さらに図５に示す保護層３６などの任意の層を設け、ガスバリヤ層１２と表示パネル３４の基板３２面とが間接に当接されてもよい。   The touch panel member 61 in the display device 62 with a touch panel member is different from the display device 35 with the touch panel member shown in FIG. That is, in the display device 62 with a touch panel member, the resin base material 2 of the touch panel member 61 is positioned on the exposed surface side, and the gas barrier layer 12 side is directly in contact with the display panel 34 and is combined with each other. Although not shown in the figure, an optional layer such as the protective layer 36 shown in FIG. 5 is provided so as to cover the gas barrier layer 12, and the gas barrier layer 12 and the surface of the substrate 32 of the display panel 34 may be in contact with each other indirectly. Good.

タッチパネル部材付き表示装置６２に例示するとおり、本発明のタッチパネル部材は、表示パネルとの組み合わせにおいて、その使用の向きを限定されない。タッチパネル部材付き表示装置６２のように、樹脂基材が露出面側に位置する場合には、特に配線部に対するガスバリヤ性が発揮されるために、ガスバリヤ補助層を設けることは好ましい。   As illustrated in the display device 62 with a touch panel member, the use direction of the touch panel member of the present invention is not limited in combination with the display panel. When the resin base material is located on the exposed surface side as in the display device 62 with a touch panel member, it is preferable to provide a gas barrier auxiliary layer in order to exhibit the gas barrier property particularly for the wiring portion.

実施態様８：
図９は、有機ＥＬ表示装置７１に本発明のタッチパネル部材１を搭載した本発明のタッチパネル部材付き有機ＥＬ表示装置８１の概略断面図である。有機ＥＬ表示装置７１は、有機ＥＬ表示パネル７２と、その周囲上部を覆う樹脂層７７および周囲下部を覆う樹脂層７８、補強基板７９を有し、有機ＥＬ表示パネル７２の封止基板７３に接続される外部回路接続部材を有して構成されている。有機ＥＬ表示パネル７２は、封止基板７３と素子基板７４とを対向させ、一定の距離を保って、シール部材７６により固定し、両基板間に有機ＥＬ発光層７５を設けて構成されている。有機ＥＬ表示装置７１は、封止基板７３および素子基板７４が表示部材用基材として理解され、また有機ＥＬ発光層７５が表示媒体として理解される。ただし、本発明のタッチパネル部材付き表示装置は、少なくとも１つの表示部材用基材と、該表示部材用基材上に直接または間接に設けられる表示媒体とが備わる範囲において、その他の任意の構成を適宜設けることができる。したがって、本発明のタッチパネル部材とともに本発明のタッチパネル部材付き表示装置を構成する有機ＥＬ表示装置についても、図９に示される態様に限定されるものではない。本発明のタッチパネル部材は、組み合わされる表示装置の種々の態様に適応可能である。
樹脂層７７の上面側にタッチパネル部材１の樹脂基材２を貼り合わされ、タッチパネル１の樹脂基材２とは反対側の面に表面保護層３６を設けることによって、搭載型のタッチパネル部材付き有機ＥＬ表示装置８１が構成されている。 Embodiment 8:
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of an organic EL display device 81 with a touch panel member of the present invention in which the touch panel member 1 of the present invention is mounted on the organic EL display device 71. The organic EL display device 71 includes an organic EL display panel 72, a resin layer 77 that covers the upper part of the periphery, a resin layer 78 that covers the lower part of the periphery, and a reinforcing substrate 79, and is connected to the sealing substrate 73 of the organic EL display panel 72. The external circuit connecting member is configured. The organic EL display panel 72 is configured such that the sealing substrate 73 and the element substrate 74 are opposed to each other, are fixed by a seal member 76 at a certain distance, and an organic EL light emitting layer 75 is provided between both the substrates. . In the organic EL display device 71, the sealing substrate 73 and the element substrate 74 are understood as a display member base material, and the organic EL light emitting layer 75 is understood as a display medium. However, the display device with a touch panel member of the present invention has any other configuration as long as it includes at least one display member base material and a display medium provided directly or indirectly on the display member base material. It can be provided as appropriate. Therefore, the organic EL display device constituting the display device with a touch panel member of the present invention together with the touch panel member of the present invention is not limited to the embodiment shown in FIG. The touch panel member of the present invention can be applied to various aspects of the combined display device.
By mounting the resin base material 2 of the touch panel member 1 on the upper surface side of the resin layer 77 and providing the surface protective layer 36 on the surface opposite to the resin base material 2 of the touch panel 1, an organic EL with a mounted touch panel member is provided. A display device 81 is configured.

本発明のタッチパネル部材付き表示装置は、本発明のタッチパネル部材を任意の表示装置に搭載するか、または本発明のタッチパネル部材に表示パネルの一方側の基板も一体型に作り込まれてよく、図９に示すタッチパネル部材付き有機ＥＬ表示装置８１のように、表示パネルを含む表示装置に搭載する態様を含む。有機ＥＬ表示パネル７２は、周囲を樹脂層７７、７８によって覆われており、有機ＥＬ発光層７５への水蒸気等の透過を防ぐ構成が採用されるが、表示装置の使用による樹脂層経時劣化が生じた場合であっても、タッチパネル部材１におけるガスバリヤ層の存在により、水蒸気等の透過が長時間防止可能となり、表示装置の信頼性を高めることができる。   In the display device with a touch panel member of the present invention, the touch panel member of the present invention is mounted on an arbitrary display device, or the substrate on one side of the display panel may be integrated into the touch panel member of the present invention. 9 includes an aspect of being mounted on a display device including a display panel, such as the organic EL display device 81 with a touch panel member shown in FIG. The organic EL display panel 72 is covered with resin layers 77 and 78 and has a configuration that prevents permeation of water vapor or the like to the organic EL light-emitting layer 75. Even if it occurs, the presence of the gas barrier layer in the touch panel member 1 makes it possible to prevent the permeation of water vapor and the like for a long time, thereby improving the reliability of the display device.

また、本発明のタッチパネル部材付き表示装置の他の実施態様としては、タッチパネル部材における樹脂基材が、表示装置の構成部材として兼用される態様が含まれる。例えば、図１０に示すタッチパネル部材付き有機ＥＬ表示装置８２は、タッチパネル部材１における樹脂基材２が有機ＥＬ表示パネル７２’における封止基板として兼用され有機ＥＬ表示装置７１’が構成された本発明のタッチパネル部材付き表示装置の態様の例である。タッチパネル部材付き有機ＥＬ表示装置８２は、樹脂基材２が、封止基板として兼用される以外は、図９に示すタッチパネル部材付き有機ＥＬ表示装置８１と同様にして構成されている。このように、本発明のタッチパネル部材付き表示装置において、タッチパネル部材における樹脂基材が、表示装置の構成部材として兼用される態様では、表示装置の構成部材の一部が実質的に省略可能となるため、装置の厚み方向の寸法を縮小可能であり、またコスト的にも有利である。
特に、図９に示される有機ＥＬ表示パネル７２における封止基板７３に相当する封止基板を図１０に示されるタッチパネル部材付き有機ＥＬ表示装置８２では省略し、水蒸気透過性がガラス基板よりも大きい樹脂基材２を封止基板として兼用可能としたのは、本発明のタッチパネル部材１が、下地層１１およびガスバリヤ層１２を備えるためである。したがって構成上は、樹脂基材２が封止基板を兼用しているが、有機ＥＬ媒体に対する封止性は、樹脂基材２を含むタッチパネル部材１全体として担保されていると理解することができる。 Moreover, as another embodiment of the display device with a touch panel member of the present invention, a mode in which the resin base material in the touch panel member is also used as a constituent member of the display device is included. For example, in the organic EL display device 82 with a touch panel member shown in FIG. 10, the organic EL display device 71 ′ is configured by using the resin base material 2 in the touch panel member 1 as a sealing substrate in the organic EL display panel 72 ′. It is an example of the aspect of a display apparatus with a touch panel member. The organic EL display device 82 with a touch panel member is configured in the same manner as the organic EL display device 81 with a touch panel member shown in FIG. 9 except that the resin base material 2 is also used as a sealing substrate. Thus, in the display device with a touch panel member of the present invention, in the aspect in which the resin base material in the touch panel member is also used as a constituent member of the display device, a part of the constituent members of the display device can be substantially omitted. Therefore, the size of the apparatus in the thickness direction can be reduced, and the cost is advantageous.
In particular, the sealing substrate corresponding to the sealing substrate 73 in the organic EL display panel 72 shown in FIG. 9 is omitted in the organic EL display device 82 with a touch panel member shown in FIG. 10, and the water vapor permeability is larger than that of the glass substrate. The reason why the resin substrate 2 can be used as a sealing substrate is that the touch panel member 1 of the present invention includes the base layer 11 and the gas barrier layer 12. Accordingly, in terms of configuration, the resin base material 2 also serves as a sealing substrate, but it can be understood that the sealing property with respect to the organic EL medium is secured as the entire touch panel member 1 including the resin base material 2. .

尚、以上に示す本発明のタッチパネル部材およびタッチパネル部材付き表示装置の説明は、本発明を限定するものではなく、また図面は、図示簡略化、図示容易化のため各構成の寸法は比率等は変更して示す場合があるが、本発明を限定するものではない。
また、本発明のタッチパネル部材およびタッチパネル部材付き表示装置は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、さらに任意の層、構成を付加する態様を含みうる。
また、図示するタッチパネル部材における配線部および電極層は、樹脂基材上に直接に設けられた態様を示したが、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、樹脂基材と、配線部および電極層の少なくもいずれか一層との間に任意の層が追加されてもよい。
また、図示省略するが、本発明のタッチパネル部材は、樹脂基材の一方面側に下地層およびガスバリヤ層を設けることが必須の構成として示されるが、樹脂基材の他方面側に任意の層を設ける態様を含みうる。例えば、樹脂基材の、下地層およびガスバリヤ層を設けられた面とは反対側の面において、さらに下地層やガスバリヤ層、あるいはガスバリヤ性を向上させるための機能層を設けてもよい。 The above description of the touch panel member and the display device with the touch panel member of the present invention is not intended to limit the present invention, and the drawings are simplified for ease of illustration. The present invention may be changed, but the present invention is not limited thereto.
In addition, the touch panel member and the display device with a touch panel member of the present invention can include a mode in which arbitrary layers and configurations are further added without departing from the gist of the present invention.
Moreover, although the wiring part and electrode layer in the touch panel member to show in figure showed the aspect provided directly on the resin base material, in the range which does not deviate from the meaning of this invention, a resin base material, a wiring part, and an electrode layer Any layer may be added between at least one of the layers.
Although not shown in the drawings, the touch panel member of the present invention is shown as an essential configuration in which a base layer and a gas barrier layer are provided on one surface side of the resin base material, but an arbitrary layer is provided on the other surface side of the resin base material. The aspect which provides can be included. For example, a base layer, a gas barrier layer, or a functional layer for improving gas barrier properties may be further provided on the surface of the resin substrate opposite to the surface on which the base layer and the gas barrier layer are provided.

［実施例１］
樹脂基材として、３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚み１００μｍのＰＥＴ基材（東レ（株）製、ルミラーＴ６０）を準備し、表面を清浄となるよう水洗処理した。 [Example 1]
A 300 mm × 400 mm, 100 μm thick PET substrate (manufactured by Toray Industries, Inc., Lumirror T60) was prepared as a resin substrate, and washed with water so that the surface was cleaned.

アンダーコート層の形成：
アクリレート化合物（４官能アクリレート）（東亞合成株式会社製、アロニックスＭ４０５）１００重量部、イルガキュア１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５重量部をイソブチルアルコールに溶解させた液（アンダーコート層形成液）を準備した。上記アンダーコート層形成液をバーコート法（松尾産業株式会社製、Ｋ３０３マルチコーター）により上記樹脂基材の一方面上に塗布して塗布膜を形成し、塗布膜に紫外線（波長３６５ｎｍ、照射エネルギー３００ｍＪ／ｍ２）を照射して、塗布膜を硬化させることにより、アンダーコート層（厚さ１μｍ）を形成した。アンダーコート層は、樹脂基材の片面側に形成された後、反対面側についても同様にして形成した。 Formation of undercoat layer:
A solution in which 100 parts by weight of an acrylate compound (tetrafunctional acrylate) (Aronix M405, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and 5 parts by weight of Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) are dissolved in isobutyl alcohol (undercoat layer forming solution) Prepared. The undercoat layer forming liquid is applied onto one surface of the resin base material by a bar coating method (manufactured by Matsuo Sangyo Co., Ltd., K303 Multicoater) to form a coating film, and ultraviolet light (wavelength 365 nm, irradiation energy) is applied to the coating film. The undercoat layer (thickness 1 μm) was formed by irradiating 300 mJ / m 2 ) to cure the coating film. After the undercoat layer was formed on one side of the resin substrate, it was formed in the same manner on the opposite side.

尚、上記樹脂基材に、タッチパネル部材が１２面取りできるよう設計して以下のとおり作成し、そのうちの任意の一面を実施例１に用いるタッチパネル部材とした。尚以下に示す実施例１におけるタッチパネル用電極層および電気配線は、図１１（Ａ）（Ｂ）に示すパターンで形成する。即ち、符号１００として示す実施例１は樹脂基材１０１の第一面１０２と第二面１０３とにおいて、複数の第一電極部１０４からなる第一電極層と、複数の第二電極部１０５からなる第二電極層を備え、且つ、第一電極部１０４の一端に電気的に接続される第一配線部１０６および第一配線部１０６の端部に設けられる第一外部接続領域１０７を第一面１０２に形成するとともに、第二電極部１０５の一端に電気的に接続される第二配線部１０８および第二配線部１０８の端部に設けられる第二外部接続領域１０９を第二面１０３に形成する。第一配線部１０６および第一外部接続領域１０７により第一金属配線が構成され、第二配線部１０８および第二外部接続領域１０９により第二金属配線が構成される。第一電極部１０４および第二電極部１０５はそれぞれ短冊状であって、上面視上、互いに略直交する方向に伸長するようパターニングする。尚、以下において説明する実施例１については、各構成の符号は省略する。   In addition, it designed so that 12 touch panel members could be chamfered on the said resin base material, and created it as follows, and made one arbitrary surface of them into the touch panel member used for Example 1. FIG. In addition, the electrode layer for touch panels and electric wiring in Example 1 shown below are formed with the pattern shown to FIG. 11 (A) (B). That is, in Example 1 indicated by reference numeral 100, the first electrode layer composed of a plurality of first electrode portions 104 and the plurality of second electrode portions 105 on the first surface 102 and the second surface 103 of the resin base material 101. A first wiring part 106 that is electrically connected to one end of the first electrode part 104 and a first external connection region 107 provided at the end part of the first wiring part 106. A second wiring portion 108 formed on the surface 102 and electrically connected to one end of the second electrode portion 105 and a second external connection region 109 provided on the end portion of the second wiring portion 108 are formed on the second surface 103. Form. The first wiring portion 106 and the first external connection region 107 constitute a first metal wiring, and the second wiring portion 108 and the second external connection region 109 constitute a second metal wiring. Each of the first electrode portion 104 and the second electrode portion 105 has a strip shape and is patterned so as to extend in a direction substantially orthogonal to each other when viewed from above. In addition, about Example 1 demonstrated below, the code | symbol of each structure is abbreviate | omitted.

タッチパネル用電極層及び電気配線の製版：
第一電極部および第二電極部を形成する材料として、ＩＴＯを準備した。上記樹脂基材の一方側を第一面とし、他方側を第二面とし、第一面および第二面略全面に、ＩＴＯを用い、スパッタにより３０ｎｍの厚みの導電性膜を製膜した。
続いて、銀・パラジウム・銅を含むＡＰＣ材料を準備し、上記第一面および第二面における導電性膜上略全面に厚み１００ｎｍの金属含有膜をスパッタにより製膜した。
その後、上記樹脂基材の両面における金属含有膜の上面略全面に、ポジ感光性材料（ＡＺマテリアルズ社製）を塗布して、１μｍの厚みの感光性膜を形成した。そして、第一面側では、第一電極層のパターンおよびこれに連続する第一配線部のパターンに対応した露光マスクを感光性膜上に配置し、一方、第二面側では、第二電極層のパターンおよびこれに連続する第二配線部のパターンに対応した露光マスクを感光性膜上に配置し、樹脂基材の両面側から露光光として紫外線（波長３６５ｎｍ、照射エネルギー１００ｍＪ／ｍ２）を照射し、第一面および第二面において同時に感光性膜をパターン露光した。その後、露光マスクを取り除き、感光性膜を現像し、第一電極層および第二電極層、並びに、第一配線部および第二配線部の形成パターンで感光性膜をパターニングし、不要な感光性膜を除去した。その後、パターニングされた感光性膜を型にして、金属含有膜を酸性溶剤でエッチングし、第一配線部および第二配線部を形成した。そして感光性膜除去後、続いて、第一電極層パターンおよび第二電極層パターン以外の領域を、再度形成する感光性膜で覆い、導電性膜をエッチングし、第一電極層パターンおよび第二電極層パターン上に残る金属含有膜を除去して、第一電極層および第二電極層を形成し、透明電極積層体を得た。尚、第一電極層および第二電極層の形成パターンは、図１１に示す第一面の上面図である（Ａ）および第二面の上面図である（Ｂ）に示される内容と同様に短冊状のパターンがＸ方向とＹ方向とに伸長し、平面視上、第一電極部と第二電極部とが略直交するパターンとした。
尚、第一電極部の屈折率をヤーマン株式会社製のＦｉｌｍＴｅｋにより測定したところ、１．８であった。 Touch panel electrode layer and electrical wiring plate making:
ITO was prepared as a material for forming the first electrode part and the second electrode part. A conductive film having a thickness of 30 nm was formed by sputtering using ITO on one side of the resin base material as the first surface, the other side as the second surface, and substantially the entire first surface and second surface.
Subsequently, an APC material containing silver, palladium, and copper was prepared, and a metal-containing film having a thickness of 100 nm was formed on the conductive film on the first surface and the second surface by sputtering.
Thereafter, a positive photosensitive material (manufactured by AZ Materials) was applied to substantially the entire upper surface of the metal-containing film on both surfaces of the resin base material to form a photosensitive film having a thickness of 1 μm. Then, on the first surface side, an exposure mask corresponding to the pattern of the first electrode layer and the pattern of the first wiring portion continuous therewith is arranged on the photosensitive film, while on the second surface side, the second electrode An exposure mask corresponding to the pattern of the layer and the pattern of the second wiring portion continuous thereto is arranged on the photosensitive film, and ultraviolet rays (wavelength 365 nm, irradiation energy 100 mJ / m 2 ) are used as exposure light from both sides of the resin substrate. The photosensitive film was pattern-exposed simultaneously on the first surface and the second surface. Thereafter, the exposure mask is removed, the photosensitive film is developed, and the photosensitive film is patterned with the formation pattern of the first electrode layer and the second electrode layer, and the first wiring part and the second wiring part. The membrane was removed. Thereafter, the patterned photosensitive film was used as a mold, and the metal-containing film was etched with an acidic solvent to form a first wiring portion and a second wiring portion. Then, after removing the photosensitive film, the region other than the first electrode layer pattern and the second electrode layer pattern is covered with the photosensitive film to be formed again, the conductive film is etched, and the first electrode layer pattern and the second electrode layer pattern are etched. The metal-containing film remaining on the electrode layer pattern was removed to form a first electrode layer and a second electrode layer, and a transparent electrode laminate was obtained. In addition, the formation pattern of a 1st electrode layer and a 2nd electrode layer is the same as the content shown to (A) which is a top view of the 1st surface shown in FIG. 11, and (B) which is a top view of the 2nd surface. A strip-shaped pattern extends in the X direction and the Y direction, and the first electrode portion and the second electrode portion are substantially orthogonal in a plan view.
In addition, it was 1.8 when the refractive index of the 1st electrode part was measured by FilmTek by Yaman Co., Ltd.

第二保護層の形成：
紫外線硬化性樹脂（住友スリーエム（株）社製のＵＶ硬化粘着剤 ＬＣ−３２００）を用い、上述で得た透明電極積層体の第二面略全面にダイコーターでコーティングし、その後、紫外線（波長３２５ｎｍ、照射エネルギー１０００ｍＪ／ｍ２）を照射して硬化させ、第二保護層（厚み５０μｍ）を形成した。 Formation of the second protective layer:
Using an ultraviolet curable resin (UV cured adhesive LC-3200 manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), the substantially entire second surface of the transparent electrode laminate obtained above was coated with a die coater. 325 nm, irradiation energy 1000 mJ / m 2 ) was irradiated and cured to form a second protective layer (thickness 50 μm).

（下地層の製膜）
上述のとおり形成された第一電極層を覆い、第一外部電極接続領域が形成された領域を除く樹脂基材略全面に、下地層を形成した。下地層は、基材面の下地層非形成領域に予めスクリーン印刷によりマスキング材を印刷し、次いで、上述するアンダーコート層形成材料にさらにチタニアを固形分比で７０重量部添加し、これを用いてバーコート法により基材面略全面に塗布して、約２μｍの厚みの膜を形成し、これを下地層とした。 (Underlayer film formation)
A base layer was formed on substantially the entire surface of the resin base material except the region where the first external electrode connection region was formed, covering the first electrode layer formed as described above. The underlayer is preliminarily printed with a masking material by screen printing on the base layer non-formation area of the base material surface, and then 70 parts by weight of titania is further added to the above-described undercoat layer forming material in a solid content ratio. Then, it was applied to substantially the entire surface of the base material by a bar coating method to form a film having a thickness of about 2 μm, which was used as an underlayer.

（ガスバリヤ層の製膜）
次に、上述のとおり製膜した下地層上略全面に二酸化ケイ素を用いてガスバリヤ層を製膜した。具体的には、スパッタ成膜装置を用いて厚さが約２００ｎｍとなるように成膜条件を設定した。成膜室には、スパッタリングターゲットとして、Ｓｉターゲットを使用し、スパッタリングを行った。成膜室には、酸素ガスとアルゴンガスを流してガスバリア膜を成膜した。スパッタリングの実施条件の詳細は下記に示す。また、ガス流量および成膜圧力を調整により膜密度が１．８となるよう設定した。
した。尚、上記マスキング材は、ガスバリヤ層形成後に剥離し、これによりパターニングされた下地層とパスバリヤ層得た。
アルゴンガス流量：３０ｓｃｃｍ
酸素ガス流量：２０ｓｃｃｍ
成膜圧力：０．２４Ｐａ (Film formation of gas barrier layer)
Next, a gas barrier layer was formed on the substantially entire surface of the underlayer formed as described above using silicon dioxide. Specifically, film forming conditions were set using a sputter film forming apparatus so that the thickness was about 200 nm. In the film formation chamber, a Si target was used as a sputtering target, and sputtering was performed. A gas barrier film was formed by flowing oxygen gas and argon gas in the film formation chamber. Details of the sputtering conditions are shown below. Further, the film density was set to 1.8 by adjusting the gas flow rate and the film forming pressure.
did. The masking material was peeled off after the gas barrier layer was formed, thereby obtaining a patterned underlayer and pass barrier layer.
Argon gas flow rate: 30sccm
Oxygen gas flow rate: 20 sccm
Deposition pressure: 0.24 Pa

第二保護層の剥離および第一保護層の形成：
続いて、第一面側に、第二保護層の形成方法と同様の方法および材料で、第一保護層を形成した。そして、樹脂基材を反転させて、第二保護層の端部を、基材面に対し略垂直方向に持ち上げて、第二保護層を剥離した。尚、第一保護層は、第一面に形成されたガスバリヤ層の後工程における損傷を防止するために形成した。 Peeling of the second protective layer and formation of the first protective layer:
Then, the 1st protective layer was formed in the 1st surface side with the method and material similar to the formation method of a 2nd protective layer. And the resin base material was reversed, the edge part of the 2nd protective layer was lifted in the substantially perpendicular direction with respect to the base-material surface, and the 2nd protective layer was peeled. The first protective layer was formed in order to prevent damage in the subsequent process of the gas barrier layer formed on the first surface.

上述のとおり形成された第一保護層を下面側にして、第二面側に、第一面と同様に下地層およびガスバリヤ層を形成した。   The base layer and the gas barrier layer were formed on the second surface side in the same manner as the first surface with the first protective layer formed as described above on the lower surface side.

第一保護層の剥離：
続いて、第一保護層の端部を、基材面に対し略垂直方向に持ち上げて、第一保護層を剥離した。 Peeling of the first protective layer:
Subsequently, the end portion of the first protective layer was lifted in a direction substantially perpendicular to the substrate surface, and the first protective layer was peeled off.

［実施例２］
ガスバリヤ層を、スパッタリングターゲットとしてＳｉＮターゲットに変更して形成したこと以外は実施例１と同様にタッチパネル部材を製造し、これを実施例２とした。スパッタリングの実施条件は実施例１と同じである。 [Example 2]
A touch panel member was produced in the same manner as in Example 1 except that the gas barrier layer was changed to a SiN target as a sputtering target, and this was used as Example 2. The conditions for sputtering are the same as in Example 1.

［実施例３］
ガスバリヤ層を以下のとおりに変更したこと以外は、実施例１と同様にタッチパネル部材を製造し、これを実施例３とした。
即ち、実施例２において形成された無機層と同様の材料および同様の方法により、厚み０．２μｍの無機層１を形成し、続いて、無機層１上に、フルオレンを骨格とするカルドポリマーを有する樹脂の溶剤溶液（新日鐵化学（株）製、Ｖ２５９ＲＥＨ）をスピンコート法にて塗布し、１６０℃１時間加熱し、厚み１μｍの有機層を形成した。続いて、上記有機層上に、無機層１と同様の方法および部材にて無機層（無機層２）を形成し、無機層１／有機層／無機層２の三層からなるガスバリヤ層を形成したこと以外は、実施例１と同様にタッチパネル部材を製造し、これを実施例３とした。 [Example 3]
A touch panel member was produced in the same manner as in Example 1 except that the gas barrier layer was changed as follows.
That is, an inorganic layer 1 having a thickness of 0.2 μm is formed by the same material and the same method as those of the inorganic layer formed in Example 2, and subsequently, a cardo polymer having fluorene as a skeleton is formed on the inorganic layer 1. A resin solvent solution (V259REH, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was applied by a spin coat method and heated at 160 ° C. for 1 hour to form an organic layer having a thickness of 1 μm. Subsequently, an inorganic layer (inorganic layer 2) is formed on the organic layer by the same method and member as the inorganic layer 1, and a gas barrier layer composed of three layers of inorganic layer 1 / organic layer / inorganic layer 2 is formed. A touch panel member was manufactured in the same manner as in Example 1 except that this was done, and this was designated as Example 3.

［実施例４］
ガスバリヤ層である無機層が外部接続領域だけでなく、配線部形成領域も覆わないよう、パターニングされたこと以外は実施例１と同様にタッチパネル部材を製造し、これを実施例４とした。 [Example 4]
A touch panel member was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the inorganic layer, which is a gas barrier layer, was patterned so as not to cover not only the external connection region but also the wiring part formation region.

［実施例５］
下地層が、外部接続領域だけでなく、配線部形成領域も覆わないよう、パターニングされたこと以外は実施例１と同様にタッチパネル部材を製造し、これを実施例５とした。 [Example 5]
A touch panel member was produced in the same manner as in Example 1 except that the base layer was patterned so as not to cover not only the external connection region but also the wiring part formation region, and this was designated as Example 5.

［比較例１］
ガスバリヤ層の膜密度が１．５となるようスパッタリングにおけるガス流量およびガス圧力を調整したこと以外は、実施例１と同様にタッチパネル部材を製造し、これを比較例１とした。 [Comparative Example 1]
A touch panel member was produced in the same manner as in Example 1 except that the gas flow rate and gas pressure in sputtering were adjusted so that the film density of the gas barrier layer was 1.5, and this was used as Comparative Example 1.

［比較例２］
下地層を有しないこと以外は実施例１と同様にタッチパネル部材を製造し、これを比較例２とした。 [Comparative Example 2]
A touch panel member was produced in the same manner as in Example 1 except that the base layer was not provided, and this was designated as Comparative Example 2.

［比較例３］
下地層とガスバリヤ層の両方が配線部を被覆していないこと以外は実施例１と同様にタッチパネル部材を製造し、これを比較例３とした。 [Comparative Example 3]
A touch panel member was produced in the same manner as in Example 1 except that both the base layer and the gas barrier layer did not cover the wiring portion, and this was designated as Comparative Example 3.

（評価１：水蒸気透過率測定）
各実施例、および各比較例について、下地層およびガスバリヤ層が積層する領域を選択して試験片を作製し、水蒸気透過率測定を測定した。測定には、ＭＯＣＯＮ（ＭＯＣＯＮ社製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ ３／３１：商品名）を用い、温度３７．８℃、湿度１００％ＲＨの条件下で、水蒸気透過率を測定した。測定値は、表１に示す。 (Evaluation 1: Measurement of water vapor transmission rate)
About each Example and each comparative example, the area | region which a base layer and a gas barrier layer laminate | stack was selected, the test piece was produced, and the water-vapor-permeation rate measurement was measured. For measurement, MOCON (manufactured by MOCON, PERMATRAN-W 3/31: trade name) was used, and the water vapor transmission rate was measured under conditions of a temperature of 37.8 ° C. and a humidity of 100% RH. The measured values are shown in Table 1.

（評価２：イオンマイグレーションの発生評価）
各実施例、および各比較例について、以下のとおりイオンマイグレーションの発生の有無を測定し、評価した。
タッチパネル部材を、楠本化成株式会社製の絶縁劣化評価システムＳＩＲ−１２に接続し、電圧を印加した状態で恒温恒湿槽（恒温恒湿試験機楠本化成（株）品ＥＴＡＣ事業部ＨＩＦＬＥＸ ＦＨ１４ＰＨ）に投入した。この際、恒温恒湿槽は、温度６０℃、相対湿度９０％ＲＨとした。タッチパネル部材には、表示面側上に形成された配線において、互いに隣接する配線片間に電位差（３．３Ｖ）が発生するように直流電流が印加された。すなわち、互いに隣接する配線片に対して、一方端位置の配線片から、それぞれ０Ｖ、３．３Ｖ、０Ｖ、３．３Ｖ・・・の順に、交互に直流電圧が印加された。この状態で、タッチパネル部材を２４０時間放置し、上記絶縁劣化評価システムで配線片間の絶縁抵抗値をモニタリングした。イオンマイグレーションが生じれば、配線片間の絶縁抵抗値が下がるため、このモニタリングにより、イオンマイグレーションの発生を確認することができる。
なお、モニタリングのパターンは、原則、毎秒１回ずつ絶縁抵抗値を測定し、絶縁抵抗値が１．０×１０６（Ω）（閾値）を下回ると、０．２秒ごとに１回ずつ絶縁抵抗値を測定するようなパターンとなっている。上述のとおりの試験において、（１）絶縁抵抗値が１．０×１０６（Ω）を下回った値として測定された場合に、イオンマイグレーションが１回発生したと判定した。また、（２）絶縁抵抗値が１．０×１０６（Ω）以下の測定が積算２００回となったときに、測定を中止した。（３）３２７μＡ以上の電流（１．０×１０４（Ω）以下）が計測され、配線部間でショートが確認された場合、測定中止した。
上記（１）、（２）および（３）のいずれもが確認されなかったものを良好と評価し、上記（１）、（２）および（３）のいずれかが確認されたものを不良と評価した。結果は、表１に示す。 (Evaluation 2: Evaluation of occurrence of ion migration)
About each Example and each comparative example, the presence or absence of generation | occurrence | production of ion migration was measured and evaluated as follows.
The touch panel member is connected to an insulation deterioration evaluation system SIR-12 manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd., and a constant temperature and humidity chamber (constant temperature and humidity testing machine ETAC Division HIFLEX FH14PH) is applied with voltage applied. I put it in. At this time, the temperature and humidity chamber was set to a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90% RH. A direct current was applied to the touch panel member so that a potential difference (3.3 V) was generated between adjacent wiring pieces in the wiring formed on the display surface side. That is, direct-current voltages were alternately applied to the wiring pieces adjacent to each other in the order of 0 V, 3.3 V, 0 V, 3.3 V,. In this state, the touch panel member was left for 240 hours, and the insulation resistance value between the wiring pieces was monitored by the insulation deterioration evaluation system. If ion migration occurs, the insulation resistance value between the wiring pieces decreases, so that the occurrence of ion migration can be confirmed by this monitoring.
In principle, the monitoring pattern is that the insulation resistance value is measured once every second. If the insulation resistance value falls below 1.0 × 10 6 (Ω) (threshold), the insulation pattern is insulated once every 0.2 seconds. The pattern is such that the resistance value is measured. In the test as described above, (1) when the insulation resistance value was measured as a value lower than 1.0 × 10 6 (Ω), it was determined that ion migration occurred once. In addition, (2) when the measurement with an insulation resistance value of 1.0 × 10 6 (Ω) or less reached 200 times in total, the measurement was stopped. (3) When a current of 327 μA or more (1.0 × 10 4 (Ω) or less) was measured and a short circuit was observed between the wiring portions, the measurement was stopped.
A case where none of the above (1), (2) and (3) was confirmed was evaluated as good, and a case where any of the above (1), (2) and (3) was confirmed as poor. evaluated. The results are shown in Table 1.

（評価３：電極層の不可視化確認試験）
各実施例および各比較例において計測された屈折率の値を用い、シミュレーションにより、タッチパネル用電極層が形成された領域の色差ΔＥ＊を算出した。そして、ΔＥ＊≦１．５の場合には、良好にタッチパネル用電極層の不可視化が図られていると評価（○）し、ΔＥ＊＞１．５の場合には、タッチパネル用電極層の可視の虞があるとして評価（×）とした。結果は、表１に示す。 (Evaluation 3: Electrode layer invisibility confirmation test)
Using the refractive index value measured in each example and each comparative example, the color difference ΔE * of the region where the electrode layer for touch panel was formed was calculated by simulation. When ΔE * ≦ 1.5, the touch panel electrode layer is evaluated to be well-invisible (◯). When ΔE * > 1.5, the touch panel electrode layer Evaluation (x) was considered that there was a possibility of being visible. The results are shown in Table 1.

Figure 2013142941
Figure 2013142941

１ タッチパネル部材
２ 樹脂基材
３、１７ 配線部
４、１８ 外部接続領域
５ 第一電極層
６ 絶縁性層
７ ブリッジ電極部
８、１０ ひし型形状の電極部
９ 第二電極層
１１ 下地層
１２ ガスバリヤ層
１３ タッチパネル部材
２０ 保護層
２１ タッチパネル部材
２２ ガスバリヤ層
２３ タッチパネル部材
２４ ガスバリヤ層
２５ 第一無機層
２６ 有機層
２７ 第二無機層
３１、３２ 基板
３３ 表示媒体
３４ 表示パネル
３５ タッチパネル部材付き表示装置
３６ 表面保護層
４１、４２ 基板
４３ 表示媒体
４４ 表示パネル
４５ タッチパネル部材付き表示装置
５１ タッチパネル部材
５２ タッチパネル部材付き表示装置
５３ 樹脂基材
５４ 第一配線部
５５ 第一電極層
５６ 下地層
５７ ガスバリヤ層
５８ 第二配線部
５９ 第二電極層
６０ 保護層
６１ タッチパネル部材
６２ タッチパネル部材付き表示装置
６３ ガスバリヤ補助層
７１、７１’ 有機ＥＬ表示装置
７２、７２’ 有機ＥＬ表示パネル
７３ 封止基板
７４ 素子基板
７５ 有機ＥＬ発光層
７６ シール部材
７７、７８ 樹脂層
７９ 補強基板
８０ 外部回路接続部材
８１ タッチパネル部材付き有機ＥＬ表示装置
８２ タッチパネル部材付き有機ＥＬ表示装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Touch panel member 2 Resin base material 3, 17 Wiring part 4, 18 External connection area 5 First electrode layer 6 Insulating layer 7 Bridge electrode part 8, 10 Diamond-shaped electrode part 9 Second electrode layer 11 Base layer 12 Gas barrier Layer 13 Touch panel member 20 Protective layer 21 Touch panel member 22 Gas barrier layer 23 Touch panel member 24 Gas barrier layer 25 First inorganic layer 26 Organic layer 27 Second inorganic layer 31, 32 Substrate 33 Display medium
34 Display panel 35 Display device with touch panel member 36 Surface protective layers 41, 42 Substrate 43 Display medium
44 Display Panel 45 Display Device with Touch Panel Member 51 Touch Panel Member 52 Display Device with Touch Panel Member 53 Resin Base Material 54 First Wiring Portion 55 First Electrode Layer 56 Underlayer 57 Gas Barrier Layer 58 Second Wiring Portion 59 Second Electrode Layer 60 Protection Layer 61 Touch panel member 62 Display device 63 with touch panel member Gas barrier auxiliary layers 71, 71 ′ Organic EL display device 72, 72 ′ Organic EL display panel 73 Sealing substrate 74 Element substrate 75 Organic EL light emitting layer 76 Seal members 77, 78 Resin layer 79 Reinforced substrate 80 External circuit connection member 81 Organic EL display device 82 with touch panel member Organic EL display device with touch panel member

Claims (6)

樹脂基材と、
上記樹脂基材上に設けられた複数の電極部を備えるタッチパネル用電極層と、
上記樹脂基材上に設けられ、上記電極部に電気的に接続される配線部および該配線部の端部において設けられる外部接続領域を備える電気配線と、
少なくとも上記タッチパネル用電極層を覆う下地層と、
上記下地層上において、少なくとも上記タッチパネル用電極層を覆うガスバリヤ層と、を備え、
上記下地層および上記ガスバリヤ層により覆われる領域における水蒸気透過率が、温度３７．８℃、相対湿度１００％ＲＨにおいて０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であり、
上記下地層および上記ガスバリヤ層の少なくともいずれか一層が、上記配線部を覆っており、
上記ガスバリヤ層が、無機化合物を含む無機層を少なくとも一層備えることを特徴とするタッチパネル部材。 A resin substrate;
An electrode layer for a touch panel comprising a plurality of electrode portions provided on the resin substrate;
An electrical wiring provided on the resin base material and provided with a wiring part electrically connected to the electrode part and an external connection region provided at an end of the wiring part;
A base layer covering at least the touch panel electrode layer;
A gas barrier layer covering at least the electrode layer for a touch panel on the base layer,
The water vapor transmission rate in the region covered with the underlayer and the gas barrier layer is 0.1 g / m 2 / day or less at a temperature of 37.8 ° C. and a relative humidity of 100% RH,
At least one of the base layer and the gas barrier layer covers the wiring portion,
The touch panel member, wherein the gas barrier layer includes at least one inorganic layer containing an inorganic compound. 上記ガスバリヤ層に含まれる少なくとも一層の無機層の膜密度が、２．０ｇ／ｃｍ３以上であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル部材。 The touch panel member according to claim 1, wherein a film density of at least one inorganic layer included in the gas barrier layer is 2.0 g / cm 3 or more. 上記下地層が、有機化合物を含む有機層を備えることを特徴とする請求項１または２に記載のタッチパネル部材。 The touch panel member according to claim 1, wherein the base layer includes an organic layer containing an organic compound. 上記下地層に高屈折率材料が含有されており、該下地層の屈折率と、該下地層と上記樹脂基材との間に位置するタッチパネル用電極層の屈折率との差が、０．２以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のタッチパネル部材。 The base layer contains a high refractive index material, and the difference between the refractive index of the base layer and the refractive index of the electrode layer for the touch panel located between the base layer and the resin substrate is 0. The touch panel member according to claim 1, wherein the touch panel member is 2 or less. 表示部材用基材上に表示媒体を備える表示部材と、
上記表示部材の視認面に設けられるタッチパネル部材と、を備え、
上記タッチパネル部材は、
樹脂基材と、
上記樹脂基材上に設けられた複数の電極部を備えるタッチパネル用電極層と、
上記樹脂基材上に設けられ、上記電極部に電気的に接続される配線部および該配線部の端部において設けられる外部接続領域を備える電気配線と、
少なくとも上記タッチパネル用電極層を覆う下地層と、
上記下地層上において、少なくとも上記タッチパネル用電極層を覆うガスバリヤ層と、を備え、
上記下地層および上記ガスバリヤ層により覆われる領域における水蒸気透過率が、温度３７．８℃、相対湿度１００％ＲＨにおいて０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であり、
上記下地層および上記ガスバリヤ層の少なくともいずれか一層が、上記配線部を覆っており、
上記ガスバリヤ層が、無機化合物を含む無機層を少なくとも一層備えることを特徴とするタッチパネル部材付き表示装置。 A display member comprising a display medium on the display member substrate;
A touch panel member provided on the viewing surface of the display member,
The touch panel member is
A resin substrate;
An electrode layer for a touch panel comprising a plurality of electrode portions provided on the resin substrate;
An electrical wiring provided on the resin base material and provided with a wiring part electrically connected to the electrode part and an external connection region provided at an end of the wiring part;
A base layer covering at least the touch panel electrode layer;
A gas barrier layer covering at least the electrode layer for a touch panel on the base layer,
The water vapor transmission rate in the region covered with the underlayer and the gas barrier layer is 0.1 g / m 2 / day or less at a temperature of 37.8 ° C. and a relative humidity of 100% RH,
At least one of the base layer and the gas barrier layer covers the wiring portion,
The display device with a touch panel member, wherein the gas barrier layer includes at least one inorganic layer containing an inorganic compound. 上記タッチパネル部材が、上記表示部材の表示面に位置することを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル部材付き表示装置。 The display device with a touch panel member according to claim 5, wherein the touch panel member is positioned on a display surface of the display member.
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