JP2013123656A - 水質制御装置及び水質制御方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】被処理水中にプラズマを発生させることで水質制御を行う水質制御装置において、気泡密度が高い位置にプラズマ発生電極を設けることにより、活性種の生成効率を向上するとともに、被処理水に含まれる有機物やバクテリア等と活性種の反応効率を向上する。
【解決手段】被処理水を流通させる流通路1と、前記流通路1に設けられ、スロート部2を有するノズル部3と、前記スロート部2内にプラズマ発生部位41が設けられた一対のプラズマ発生電極4と、前記プラズマ発生電極4よりも上流側に設けられ、前記流通路1内の被処理水に気体を導入する気体導入口51を有する気体導入部5とを備える。
【選択図】図1
【解決手段】被処理水を流通させる流通路1と、前記流通路1に設けられ、スロート部2を有するノズル部3と、前記スロート部2内にプラズマ発生部位41が設けられた一対のプラズマ発生電極4と、前記プラズマ発生電極4よりも上流側に設けられ、前記流通路1内の被処理水に気体を導入する気体導入口51を有する気体導入部5とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、被処理水中にプラズマを発生させることで水質制御を行う水質制御装置及び水質制御方法に関するものである。
従来、被処理水が流通する流通路内にノズルを設けて気泡を発生させ、その気泡中にプラズマ放電を起こし、イオンやラジカルといった活性種を生成することにより水質を制御する技術がある。
例えば特許文献1に示すように、流通路にオリフィス形状を有したノズル部と、前記ノズル部の下流側に高圧側電極と接地側電極が間隔を持って配置された一対のプラズマ発生電極とを有する水質制御装置がある。
しかしながら、ノズル部の流路断面積に対して、流路断面積が大きい下流側に一対のプラズマ発生電極が設けられているため、プラズマ発生電極間の空間を通過する気泡密度が低くなってしまう。そうすると、プラズマ発生電極間にプラズマが発生しにくくなって、被処理水に含まれる気泡により発生するイオンやラジカル等の活性種の生成効率が悪くなるだけでなく、被処理水に含まれる有機物やバクテリア等とプラズマ及び活性種との接触効率も悪くなる。その結果、高い水質制御性能が得られないという問題がある。
そこで本発明は、上記問題点を一挙に解決すべくなされたものであり、被処理水中にプラズマを発生させることで水質制御を行う水質制御装置において、気泡密度が高く且つ流路断面積の小さい流路領域にプラズマ発生電極を設けることにより、活性種の生成効率を向上するとともに、被処理水に含まれる有機物やバクテリア等とプラズマ及び活性種との反応効率を向上することを所期課題とするものである。
すなわち本発明に係る水質制御装置は、被処理水を流通させる流通路と、前記流通路に設けられ、流路断面積が最小である最小流路又は当該最小流路と当該最小流路に対して4倍以下の流路断面積である流路とからなるスロート部を有するノズル部と、前記スロート部内にプラズマ発生部位が設けられた一対のプラズマ発生電極と、前記プラズマ発生電極よりも上流側に設けられ、前記流通路内の被処理水に気体を導入する気体導入口を有する気体導入部とを備えることを特徴とする。
このようなものであれば、流路断面積が最小である最小流路又は当該最小流路と当該最小流路に対して4倍以下の流路断面積である流路とからなるスロート部内に前記プラズマ発生電極を設けることにより、気泡密度が高く且つ流路断面積の小さい流路領域にプラズマ発生電極を設けることができる。これにより、プラズマ発生電極でのプラズマを発生し易くすることができるとともに、被処理水に含まれる気泡により発生するイオンやラジカル等の活性種の生成効率を向上させ、且つ被処理水に含まれる有機物やバクテリア等とプラズマ及び活性種との反応効率を向上させることができる。
スロート部の構成を簡単化するとともに、気泡密度の高い領域に電極を設置するとともに、断面積の小さい領域に電極を設置するためには、前記スロート部が等断面流路とされていることが望ましい。
イオンやラジカル等の活性種の生成効率をより一層向上させるためには、前記プラズマ発生電極が、前記スロート部に少なくとも2組以上設けられていることが望ましい。特に、前記複数組のプラズマ発生電極が、前記スロート部により形成される流路の中心軸方向に沿って設けられていることが望ましい。これならば、上流側に配置された一対のプラズマ発生電極により生成された活性種が下流側の一対のプラズマ発生電極まで流れることにより、その下流側の一対のプラズマ発生電極により新たに生成される活性種とともに被処理水に含まれる有機物やバクテリア等と反応するため、1組のプラズマ発生電極を設けた場合に比べて格段に有機物やバクテリア等との反応効率を向上させることができる。
前記気体導入口が、前記スロート部の内側周面に設けられていることが望ましい。これならば、気体導入口により導入された気泡を効率良く一対のプラズマ発生電極に到達させることができる。
前記スロート部における前記プラズマ発生電極の設置スペースを広げ、前記スロート部により多くの前記プラズマ発生電極を配置するためには、前記気体導入口が、前記スロート部よりも上流の前記流通路内に設けられていることが望ましい。
気泡を効率よく被処理水内に発生させるためには、前記気体導入口が、1つの前記スロート部に対して2つ以上設けられていることが望ましい。
前記プラズマ発生電極が、前記スロート部により形成される流路の中心軸に対して直交する方向に対向して配置されていることが望ましい。これならばプラズマ発生電極の対向距離を可及的に小さくすることで、スロート部の流路断面積を小さくすることができ、気泡密度が高く且つ流路断面積の小さい流路領域にプラズマ発生電極を配置できるだけでなく、流路断面積に対するプラズマ発生領域の面積割合を高めることができる。
スロート部により形成される流路における気泡の分布は、例えば気体導入口の位置などによって異なる。したがって、前記スロート部の中心軸付近に気泡が多い場合は、前記プラズマ発生部位が前記スロート部により形成される流路の中心軸に対して対称位置に配置されていることが望ましい。また、前記スロート部の内側周面付近に気泡が多い場合は、前記プラズマ発生部位が前記スロート部により形成される流路の中心軸から偏心した軸に対して対称位置に配置されていることが望ましい。
被処理水とプラズマの接触効率を低下させずに、多くの被処理水を同時に処理するためには、前記流通路が2以上に分岐しており、その各分岐路に前記プラズマ発生部位が配置された前記ノズル部が設けられていることが望ましい。
互いに隣接する分岐路のノズル部に設けられた一対のプラズマ発生電極のうち高圧電極又は接地側電極が一体とされていることで、部品点数の削減及び省スペース化が実現できる。
水中でのプラズマ放電において、電極損傷量が小さく低い電圧でプラズマを発生させることができる電極としては、前記プラズマ発生電極が、電極表面積が小さく電界集中が発生しやすい針電極であることが望ましい。
プラズマ領域を拡大し、被処理水とプラズマの接触効率を高めるには、前記一対のプラズマ発生電極が、各電極の対応する箇所にそれぞれ流体流通孔が設けられ、前記流体流通孔が前記スロート部により形成される流路の中心軸方向と同一方向で貫通しており、前記流体流通孔の開口端部がプラズマ発生部位であるものでも良い。さらに、前記流体流通孔の開口断面が、前記スロート部の流路断面と同形であることで、前記スロート部の側壁面付近に気泡が多い場合に、気泡内の空気とプラズマとの反応効率を高めることができる。
このように構成した本発明によれば、被処理水中にプラズマを発生させることで水質制御を行う水質制御装置において、気泡密度が高く且つ流路断面積の小さい流路領域にプラズマ発生電極を設けることにより、活性種の生成効率を向上するとともに、被処理水に含まれる有機物やバクテリア等と活性種の反応効率を向上することができる。
以下に本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
<第1実施形態>
第1実施形態における水質制御装置100は、図1に示すように、被処理水を流通させる流通路1と、当該流通路1に設けられ、スロート部2が等断面流路とされたノズル部3と、スロート部2により形成される流路内にプラズマ発生部位41が設けられた一対のプラズマ発生電極4と、当該プラズマ発生電極4よりも上流側に設けられ、前記流通路1内の被処理水に気体を導入する気体導入口51を有する気体導入部5と、前記一対のプラズマ発生電極4に電圧を印加する高電圧電源6とを備えたものである。さらに、流通路1を形成する装置本体の一端部と他端部には外部配管(不図示)が接続されている。
第1実施形態における水質制御装置100は、図1に示すように、被処理水を流通させる流通路1と、当該流通路1に設けられ、スロート部2が等断面流路とされたノズル部3と、スロート部2により形成される流路内にプラズマ発生部位41が設けられた一対のプラズマ発生電極4と、当該プラズマ発生電極4よりも上流側に設けられ、前記流通路1内の被処理水に気体を導入する気体導入口51を有する気体導入部5と、前記一対のプラズマ発生電極4に電圧を印加する高電圧電源6とを備えたものである。さらに、流通路1を形成する装置本体の一端部と他端部には外部配管(不図示)が接続されている。
ノズル部3は、上流側から下流側に行くに従って断面積が徐々に小さくなるコンバージェント部31と、上流側から下流側に行くに従って断面積が徐々に大きくなるダイバージェント部32と、それらの間に形成された最も流路断面積が小さいスロート部2とを有する。
スロート部2は、等断面流路であり所定の長さを有する。また、スロート部2には、上流から順に、2つの気体導入部5と、プラズマ発生部位41が設けられた一対のプラズマ発生電極4が3組設けられている。
2つの気体導入部5は、流通路1の側壁に形成された貫通孔により構成される。この2つの気体導入部は、スロート部2により形成される流路の中心軸方向に対して直交する方向において、互いに対向して設けられている。そして、気体導入部5のスロート部2の内側周面における開口が気体導入口51となる。つまり、2つの気体導入口51は、スロート部2の内側周面において対向配置されている。また、これらの気体導入口51は、最も上流側にあるプラズマ発生電極4よりも上流側に位置している。このように構成された気体導入部5を通り気体導入口51からスロート部2の内部に吸入された外部空気が、被処理水中で気泡となる。
各組のプラズマ発生電極4は、先端がプラズマ発生部位41となる針電極により構成されている。また、各組のプラズマ発生電極4は、スロート部2により形成される流路の中心軸方向に対して直交する方向に対向して配置されている。また、各組のプラズマ発生電極4における3つのプラズマ発生部位41は、スロート部2により形成される流路の中心軸Cに対して対称位置に配置されている。本実施形態では、各組のプラズマ発生電極4の対向方向は、互いに同じとしてあるがこれに限られない。
次に、水質制御装置100の水質制御方法について説明する。
流通路1に被処理水を流すと、被処理水はノズル部3のコンバージェント部31によって流速を増しながらスロート部2に流入する。そしてスロート部2に流入した被処理水は、流速が大きくなったことで圧力が低下する。したがって、気体導入部5に対して外部空気とスロート部2内との間で圧力差が生じ、外部空気が気体導入部5を通って気体導入口51からスロート部2の内部に吸入され、被処理水中に気泡が発生する。
気泡を含んだ被処理水は、下流のプラズマ発生電極4に流れる。そして、対向する2つのプラズマ発生部位41の間において、気泡内にプラズマ放電が生じ、気泡内にイオンやラジカル等の活性種が生成される。この活性種により、被処理水中の有機物やバクテリアが分解される。
次に、プラズマ発生電極4を1組設けた場合、2組設けた場合及び3組設けた場合の水質制御装置における有機物分解性能の実験結果について図2に示す。プラズマ発生電極4を1組用いた場合、インジゴカルミン(Indigo carmine)を含ませた被処理液を30分間、水質制御装置に通過させた場合には、当該インジゴカルミンの分解率が25%であった。これに対して、プラズマ発生電極4を2組用いた場合には、インジゴカルミンの分解率が70%に向上した。このように1組のものに比べて2組のものが倍以上の分解性能を発揮することが分かった。これは、1組目のプラズマ発生電極4により生じた活性種が2組目のプラズマ発生電極4まで到達し、当該2組目で生じた活性種とともに被処理水中のインジゴカルミンと反応するためと考えられる。さらに、プラズマ発生電極4を3組用いた場合には、インジゴカルミンの分解率が85%に向上した。このように、1組のものに比べて3組のものが3倍以上の分解性能を発揮することが分かった。
このように構成した水質制御装置100によれば、等断面流路であるスロート部2内にプラズマ発生電極4を設けることで、気泡密度が高く且つ流路断面積の小さい流路領域にプラズマ発生電極4を設けることができる。これにより、スロート部2の流路断面積に対するプラズマ領域の面積割合を大きくすることができ、被処理水に含まれる気泡とプラズマとの接触効率を向上することができる。したがって、プラズマ発生電極4でのプラズマを発生し易くすることができるとともに、被処理水に含まれる気泡により発生するイオンやラジカル等の活性種の生成効率を向上させ、被処理水に含まれる有機物やバクテリア等とプラズマ及び活性種との反応効率を向上させることができる。
<第2実施形態>
次に、第2実施形態について図3を参照して説明する。なお、第2実施形態において前記第1実施形態と同一又は対応する部材には同一の符号を用いている。
次に、第2実施形態について図3を参照して説明する。なお、第2実施形態において前記第1実施形態と同一又は対応する部材には同一の符号を用いている。
第2実施形態における水質制御装置100は、前記第1実施形態とはプラズマ発生電極4の配置が異なる。本実施形態におけるプラズマ発生電極4のプラズマ発生部位41は、図3に示すように、スロート部2の中心軸Cから偏心した軸に対して対称位置となるように配置されている。また、本実施形態のプラズマ発生部位41は、上下方向に互い違いとなるように千鳥状に配置されている。より具体的には、各組のプラズマ発生電極4のプラズマ発生部位41がスロート部2の内側周面の近傍に位置するように配置されている。
次に、プラズマ発生部位41が、スロート部2により形成される流路の中心軸Cに対して対向配置した場合と、中心軸Cから偏心して対向配置した場合との効果について図4を参照して説明する。中心軸Cに対して対向配置した場合には、インジゴカルミンの分解率が85%であるが、偏心して対向配置した場合には、インジゴカルミンの分解率が100%となった。本実施形態の構成では、気泡がスロート部2の内側周面付近に多く発生するので、プラズマ発生部位41を偏心配置した場合の方が、中心配置した場合よりも高い分解率が得られたと考えられる。
このように構成した第2実施形態に係る水質制御装置100によれば、気体導入口51がスロート部2の内側周面に設けられており、気泡がスロート部2の内側周面付近に多く発生している場合に、プラズマ発生部位41をスロート部2の中心軸Cから偏心した軸に対して対称位置に配置することで、スロート部2内の気泡の多い部分にプラズマを発生させることができる。これにより、プラズマ発生電極4でのプラズマを発生し易くすることができるとともに、被処理水に含まれる気泡により発生するイオンやラジカル等の活性種の生成効率を向上させ、被処理水に含まれる有機物やバクテリア等と活性種の反応効率を向上させることができる。
<第3実施形態>
次に、第3実施形態について図5を参照して説明する。なお、第3実施形態において前記第1、2実施形態と同一又は対応する部材には同一の符号を用いている。
次に、第3実施形態について図5を参照して説明する。なお、第3実施形態において前記第1、2実施形態と同一又は対応する部材には同一の符号を用いている。
第3実施形態における水質制御装置100は、図5に示すように、気体導入部5の開口端部が被処理水の流れ方向と同一方向に設けられている。具体的に気体導入部5の開口端部は、スロート部2の上流側において、流通路1の中心軸Cと同軸上に設けられている。つまり気体導入口51は、流通路1の中心軸Cと同軸上において、被処理水の流れ方向と同一方向を向いて開口することになる。
このように構成した第3実施形態に係る水質制御装置100によれば、気体導入口51が、スロート部2の上流側において、流通路1の中心軸Cと同軸上において被処理水の流れ方向と同一方向を向いて開口しているので、スロート部2の中心軸C付近に気泡が多く発生する。そして、3組のプラズマ発生電極4における各々のプラズマ発生部位41が全てスロート部2の中心軸Cに対して対称配置されているので、スロート部2の内部において気泡の多い部分にプラズマを発生させることができる。これにより、プラズマ発生電極4でのプラズマを発生し易くすることができるとともに、被処理水に含まれる気泡により発生するイオンやラジカル等の活性種の生成効率を向上させ、被処理水に含まれる有機物やバクテリア等と活性種の反応効率を向上させることができる。
<第4実施形態>
次に、第4実施形態について図6を参照して説明する。なお、第4実施形態において前記各実施形態と同一又は対応する部材には同一の符号を用いている。
次に、第4実施形態について図6を参照して説明する。なお、第4実施形態において前記各実施形態と同一又は対応する部材には同一の符号を用いている。
第4実施形態における水質制御装置100は、図6に示すように、流通路1が2つに分岐しており、その各分岐路1A、1Bにそれぞれノズル部3が設けられている。さらに、各分岐路1A、1Bにおけるノズル部3のスロート部2にプラズマ発生電極4が設けられている。各スロート部2に設けられたプラズマ発生電極4は、互いに同一位置となるように設けられている。そして、各分岐路1A、1Bのスロート部2に設けられた一対のプラズマ発生電極4のうち、一方の電極(高圧電極又は接地側電極)が一体とされている。具体的には、一方の分岐路1Aのスロート部2に設けられた一対のプラズマ発生電極4のうち、他方の分岐路1B側にある電極と、他方の分岐路1Bのスロート部2に設けられた一対のプラズマ発生電極4のうち、一方の分岐路1A側にある電極とが共通の電極とされている。
次に、流通路を分岐させずに1つのノズル部とした場合と、流通路を分岐して2つのノズル部を設けた場合との効果について図7を参照して説明する。分岐させない場合には、インジゴカルミンの分解率が25%であるが、分岐させた場合には、インジゴカルミンの分解率が100%となった。このように、同じ量の被処理水を水質制御する場合には、流通路1を分岐させることによって、各分岐路のスロート部の流路断面積を小さくしスロート部の流路断面積に対するプラズマ領域の面積比率を大きくすることができるので、高い分解率が得られると考えられる。
このように構成した第4実施形態に係る水質制御装置100によれば、流通路1が2つ分岐しており、その各分岐路1A、1Bにノズル部3を設けているので、各分岐路のスロート部の流路断面積を小さくしスロート部の流路断面積に対するプラズマ領域の面積比率を大きくしても、同じ量の被処理水を水質制御することができる。これにより、プラズマ発生電極4でのプラズマを発生し易くすることができるとともに、被処理水に含まれる気泡により発生するイオンやラジカル等の活性種の生成効率を向上させ、被処理水に含まれる有機物やバクテリア等とプラズマ及び活性種との反応効率を向上させることができる。また、各分岐路に設けられた一対のプラズマ発生電極のうち高圧側電極又は接地側電極を1つの電極で共通化しているので、部品点数を削減することができ、また水質制御装置100を小型化することができる。
<第5実施形態>
次に、第5実施形態について図8を参照して説明する。なお、第5実施形態において前記各実施形態と同一又は対応する部材には同一の符号を用いている。
次に、第5実施形態について図8を参照して説明する。なお、第5実施形態において前記各実施形態と同一又は対応する部材には同一の符号を用いている。
第5実施形態における水質制御装置100は、前記各実施形態とはプラズマ発生電極4の構成が異なる。本実施形態のプラズマ発生電極4は、図8に示すように、各電極4の対応する箇所にそれぞれ流体流通孔42を有し、その流体流通孔42がスロート部2により形成される流路の中心軸方向と同一方向で貫通するようにスロート部2に配置されている。そして、流体流通孔42の開口端部が、プラズマ発生部位41となる。この流体流通孔42の開口断面は、スロート部2の流路断面と同形であり、一対のプラズマ発生電極4は、流体流通孔42の開口端部がスロート部2の内側周面と面一となるように配置されている。この水質制御装置100においては、各電極4の流体流通孔42の開口端部において全周に亘ってプラズマが発生することになり、プラズマ領域を大きくすることができる。
このように構成した第5実施形態に係る水質制御装置100によれば、スロート部2の内側周面において全周に亘ってプラズマを発生させることができ、被処理水に含まれる有機物やバクテリア等とプラズマ及び活性種との反応効率をさらに向上させることができる。
<その他の変形実施形態>
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
例えば、図9に示すように、1つのスロート部2に対してプラズマ発生電極4を1組だけ配置したものであっても良いし、1つのスロート部に対して2組又は4組以上配置したものであっても良い。
また、1つの流通路において上流側から下流側に沿って複数のノズル部を設け、それらノズル部毎に1又は複数組のプラズマ発生電極を配置しても良い。
さらに、気体導入口51が、コンバージェント部31の側壁面に設けられている構造でも構わない。
その上、気体導入部5が気泡発生器を有し、当該気泡発生器により発生された気泡を被処理水に導入するものであっても良い。
前記実施形態では、スロート部2が流路断面積が最小である最小流路のみからなる等断面流路であったが、図10に示すように、スロート部2が最小流路21及び当該最小流路21に対して4倍以下の流路断面積である流路22を有するものであっても良い。つまり、最小流路21の断面積をAminとした場合、流路22のとり得る最大断面積は4Aminであり、プラズマ発生電極4が設けられる流路の断面積A電極は、Amin≦A電極≦4Aminとなる。
図10においては、最小流路21がスロート部2の上流側に形成されており、当該最小流路21の下流側の流路22にプラズマ発生電極4を設けている。なお、最小流路21には、気体導入部5の気体導入口51が設けられている。また、図10においては、流路22が等断面流路として示してあるが、等断面流路に限られない。
図10においては、最小流路21がスロート部2の上流側に形成されており、当該最小流路21の下流側の流路22にプラズマ発生電極4を設けている。なお、最小流路21には、気体導入部5の気体導入口51が設けられている。また、図10においては、流路22が等断面流路として示してあるが、等断面流路に限られない。
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
100・・・水質制御装置
1 ・・・流通路
2 ・・・スロート部
3 ・・・ノズル部
4 ・・・プラズマ発生電極
41 ・・・プラズマ発生部位
5 ・・・気体導入部
51 ・・・気体導入口
6 ・・・高電圧電源
1 ・・・流通路
2 ・・・スロート部
3 ・・・ノズル部
4 ・・・プラズマ発生電極
41 ・・・プラズマ発生部位
5 ・・・気体導入部
51 ・・・気体導入口
6 ・・・高電圧電源
Claims (16)
- 被処理水を流通させる流通路と、
前記流通路に設けられ、流路断面積が最小である最小流路又は当該最小流路と当該最小流路に対して4倍以下の流路断面積である流路とからなるスロート部を有するノズル部と、
前記スロート部内にプラズマ発生部位が設けられた一対のプラズマ発生電極と、
前記プラズマ発生電極よりも上流側に設けられ、前記流通路内の被処理水に気体を導入する気体導入口を有する気体導入部とを備える水質制御装置。 - 前記スロート部が等断面流路とされている請求項1記載の水質制御装置。
- 前記一対のプラズマ発生電極が、前記スロート部に少なくとも2組以上設けられている請求項1又は2記載の水質制御装置。
- 前記複数組のプラズマ発生電極が、前記スロート部により形成される流路の中心軸方向に沿って設けられている請求項3記載の水質制御装置。
- 前記気体導入口が、前記スロート部の内側周面に設けられている請求項1、2、3又は4記載の水質制御装置。
- 前記気体導入口が、前記スロート部よりも上流の前記流通路内に設けられている請求項1、2、3又は4記載の水質制御装置。
- 前記気体導入口が、1つのスロート部に対して2つ以上設けられている請求項1、2、3、4、5又は6記載の水質制御装置。
- 前記一対のプラズマ発生電極が、前記スロート部により形成される流路の中心軸方向に対して直交する方向に対向して配置されている請求項1、2、3、4、5、6又は7記載の水質制御装置。
- 前記一対のプラズマ発生部位が、前記スロート部により形成される流路の中心軸に対して対称位置に配置されている請求項1、2、3、4、5、6、7又は8記載の水質制御装置。
- 前記プラズマ発生部位が前記スロート部により形成される流路の中心軸から偏心した軸に対して対称位置に配置されている請求項1、2、3、4、5、6、7又は8記載の水質制御装置。
- 前記流通路が2以上に分岐しており、その各分岐路に前記ノズル部が設けられており、
前記各ノズル部に前記一対のプラズマ発生電極が設けられている請求項1、2、3、4、5、6、7、8、9又は10記載の水質制御装置。 - 互いに隣接する分岐路のノズル部に設けられた一対のプラズマ発生電極のうち高圧電極又は接地側電極が一体とされている請求項11記載の水質制御装置。
- 前記一対のプラズマ発生電極が、針電極である請求項1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11又は12記載の水質制御装置。
- 前記一対のプラズマ発生電極が、各電極の対応する箇所にそれぞれ流体流通孔が設けられて、それら前記流体流通孔が前記スロート部により形成される流路の中心軸方向と同一方向で貫通しており、前記流体流通孔の開口端部がプラズマ発生部位となるものである請求項1、2、3、4、5、6、10又は11記載の水質制御装置。
- 前記流体流通孔の開口断面が、前記スロート部の流路断面と同形である請求項14記載の水質制御装置。
- 請求項1乃至15の何れかに記載の水質制御装置を用いて被処理水の水質を制御する水質制御方法。
Priority Applications (1)
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