JP2013095619A - Glass optical element - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 82
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 64
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 85
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 85
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 21
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract description 8
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 70
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 27
- 239000010408 film Substances 0.000 description 26
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 8
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 8
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 7
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 7
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 5
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 5
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 5
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 5
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 241000239290 Araneae Species 0.000 description 1
- 241000511976 Hoya Species 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 1
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
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Abstract
Description
本発明は、ガラス製光学素子に関する。 The present invention relates to a glass optical element.
例えば、ガラス基板・光学レンズ・光学フィルター等のガラス製光学素子には、光学ガラスが使用される。光学ガラスは、屈折率、アッベ数のような光学特性を所望の値とするために、種々の酸化物やフッ化物から構成されている。
ガラス製光学素子を製造に際して、素子表面を清浄にするためのクリーニング工程が欠かせない。一般にこれらガラス製光学素子の洗浄方法として、多槽式浸漬型のレンズ洗浄装置が用いられており、除去する汚れに応じて適切な洗浄液を選定する。特に研磨材や、ガラススラッジ等の微粒子を除去するためには、水系の洗浄液が適している。
ところが、光学ガラスは、その元素構成によっては、水や水系洗浄液により潜傷やヤケが生じることがある。
例えば、特許文献1には、光学部品の洗浄において、洗浄剤のビルダーとして水ガラスを添加することによって、潜傷やヤケを抑制しつつ汚れを除去する光学部品用洗浄剤が記載されている。また特許文献1には、この光学部品用洗浄剤が、B2O3−アルカリ土類金属系硝材に対して有効であることを示すテスト結果が開示されている。
For example, optical glass is used for glass optical elements such as glass substrates, optical lenses, and optical filters. Optical glass is composed of various oxides and fluorides in order to obtain optical properties such as refractive index and Abbe number as desired values.
In manufacturing a glass optical element, a cleaning process for cleaning the element surface is indispensable. In general, a multi-tank immersion type lens cleaning device is used as a cleaning method for these glass optical elements, and an appropriate cleaning solution is selected according to the dirt to be removed. In particular, an aqueous cleaning solution is suitable for removing fine particles such as abrasives and glass sludge.
However, depending on the elemental configuration of the optical glass, latent scratches or burns may occur due to water or an aqueous cleaning solution.
For example, Patent Document 1 describes a cleaning agent for optical components that removes dirt while suppressing latent scratches and burns by adding water glass as a cleaning agent builder in cleaning optical components. Further, Patent Document 1 discloses a test result indicating that this optical component cleaning agent is effective for B 2 O 3 -alkaline earth metal based glass material.
しかし、例えば、特許文献1に記載されたように、潜傷やヤケを抑制する洗浄剤を用いた洗浄方法を用いる場合でも、フッ素、リンなどを含む光学ガラスを加工したガラス製光学素子では、洗浄後に、例えば反射防止膜などのコートを施すと、コートの密着性不良やコート反射率の不良などが生じるという問題があった。
発明者がこれらの不良品の表面を観察したところ、ガラス製光学素子の表面は荒れており、これにより、屈折率や機械強度が低下していたことがわかった。フッ素、リンを含む光学ガラスは、水や水系洗浄液への溶出性が高く、ガラス成分の溶出したあとの表面に微細構造が生じ、表面の荒れが形成されていると考えられる。
このような洗浄による表面の劣化を防ぐため、フッ素、リンなどを含む光学ガラスを用いたガラス製光学素子の実際の生産では、自動洗浄機を使用せず、有機溶剤で洗浄してから1枚ずつ手作業により拭きあげている。このような洗浄作業は、リンなどを含む光学ガラスを用いたガラス製光学素子の製造コストを上げる要因となっていた。
However, for example, as described in Patent Document 1, even when using a cleaning method using a cleaning agent that suppresses latent scratches and burns, in a glass optical element processed optical glass containing fluorine, phosphorus, etc., For example, when a coating such as an antireflection film is applied after the cleaning, there is a problem that poor adhesion of the coating or poor coating reflectivity occurs.
When the inventor observed the surface of these defective products, it was found that the surface of the glass optical element was rough, and the refractive index and mechanical strength were thereby reduced. The optical glass containing fluorine and phosphorus is highly soluble in water and aqueous cleaning solutions, and it is considered that a fine structure is formed on the surface after the glass components are eluted, and the surface is roughened.
In order to prevent such surface deterioration due to cleaning, in actual production of glass optical elements using optical glass containing fluorine, phosphorous, etc., one sheet after cleaning with an organic solvent without using an automatic cleaning machine We wipe up by hand one by one. Such a cleaning operation has been a factor in increasing the manufacturing cost of a glass optical element using optical glass containing phosphorus or the like.
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、表面の薄膜を形成する場合に薄膜密着性および薄膜の反射率特性に優れ、効率よく製造することができるガラス製光学素子を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and is a glass optical element that is excellent in thin film adhesion and thin film reflectivity characteristics and can be efficiently manufactured when forming a thin film on the surface. The purpose is to provide.
上記の課題を解決するために、本発明のガラス製光学素子は、フッ素およびリンを含有するガラス材料を加工した素子本体を有し、前記素子本体は、前記ガラス材料の組成と同じ組成を有する基体部と、該基体部の少なくとも一部の表面に層状に形成され、フッ素元素の含有率が前記基体部の組成におけるフッ素元素の含有比率を下回ることなく変化して最外面で最大となる勾配を有するフッ素濃度勾配層部と、を備える構成とする。 In order to solve the above problems, the glass optical element of the present invention has an element body processed from a glass material containing fluorine and phosphorus, and the element body has the same composition as the composition of the glass material. A base portion and a gradient that is formed in a layered manner on at least a part of the surface of the base portion, and the content of the fluorine element changes without being less than the content ratio of the fluorine element in the composition of the base portion and becomes the maximum at the outermost surface And a fluorine concentration gradient layer part.
また、本発明のガラス製光学素子では、前記フッ素濃度勾配層部のフッ素元素の含有比率は、 前記基体部のフッ素元素の含有比率の1倍より大きく、1.3倍以下であることが可能である。 Further, in the glass optical element of the present invention, the fluorine element content ratio in the fluorine concentration gradient layer portion may be greater than 1 time and less than 1.3 times the fluorine element content ratio in the base portion. It is.
また、本発明のガラス製光学素子では、前記フッ素濃度勾配層部の前記基体部と反対側の表面に、光学薄膜が形成されていることが可能である。 In the glass optical element of the present invention, an optical thin film can be formed on the surface of the fluorine concentration gradient layer portion opposite to the base portion.
本発明のガラス製光学素子によれば、フッ素およびリンを含有するガラス材料の組成と同じ組成を有する基体部の表面にフッ素濃度勾配層部を備える構成とするため、表面の薄膜を形成する場合に薄膜密着性および薄膜の反射率特性に優れ、効率よく製造することができるという効果を奏する。 According to the glass optical element of the present invention, a thin film on the surface is formed because the surface of the base portion having the same composition as that of the glass material containing fluorine and phosphorus is provided with the fluorine concentration gradient layer portion. In addition, it has excellent thin film adhesion and thin film reflectivity characteristics, and can be manufactured efficiently.
以下では、本発明の実施形態のガラス光学素子について添付図面を参照して説明する。
図1(a)は、本発明の実施形態のガラス製光学素子の一例を示す光軸方向に沿う断面図である。図1(b)は、図1(a)におけるA部詳細図である。
Below, the glass optical element of embodiment of this invention is demonstrated with reference to an accompanying drawing.
Fig.1 (a) is sectional drawing which follows an optical axis direction which shows an example of the glass-made optical element of embodiment of this invention. FIG. 1B is a detailed view of part A in FIG.
図1(a)に示すのは、本実施形態のガラス製光学素子の一例であるレンズ1である。
レンズ1は、フッ素およびリンを含有するガラス材料を加工したレンズ本体1c(素子本体)を有する両凸レンズである。このため、レンズ本体1cの表面は、それぞれ凸球面からなるレンズ面1a、1bと、これらの光軸を中心とする円筒面状のレンズ側面1dとが、形成されている。
レンズ面1a、1b上のレンズ有効面には、それぞれ、設計波長の光を良好に透過させ表面反射を抑制するための光学薄膜2a、2bが成膜されている。
光学薄膜2a、2bは、例えば、屈折率の異なる薄膜を複数積層させた多層薄膜を採用することができる。光学薄膜2a、2bの膜構成や膜厚は、必要な光学特性に応じて適宜設定することができる。以下では、光学薄膜2aの膜厚をhCa(図1(b)参照)で表し、光学薄膜2bの膜厚をhCb(図示略)で表す。
FIG. 1A shows a lens 1 that is an example of a glass optical element of the present embodiment.
The lens 1 is a biconvex lens having a
Optical
As the optical
レンズ本体1cは、図1(b)に示すように、基体部1Bと、フッ素濃度勾配層部1Fとを備える。
As shown in FIG. 1B, the
基体部1Bは、レンズ本体1cを加工したガラス材料の組成と同じ組成を有するレンズ本体1cの部位であり、レンズ本体1cと略同様の形状を有する。
The
フッ素濃度勾配層部1Fは、基体部1Bの表面に層状に形成されたレンズ本体1cの部位である。本実施形態では、レンズ面1a、1bとレンズ側面1dの一部に形成されているが、フッ素濃度勾配層部1Fは少なくともレンズ面1a、1bのレンズ有効径内に形成されていればよい。例えば、レンズ側面1dには、フッ素濃度勾配層部1Fが形成されなくてもよいため、フッ素濃度勾配層部1Fの形成時にレンズ本体1cの保持部に利用することが可能である。
フッ素濃度勾配層部1Fの層厚hFは、レンズ本体1cの厚さに比べて非常に小さく、例えば、5nm〜30nmである。
また、フッ素濃度勾配層部1Fにおけるフッ素元素の含有率DFは、基体部1Bの組成におけるフッ素元素の含有比率DBを下回ることなく変化して最外面で最大となる勾配を有している。
フッ素元素の含有率DFの勾配は、一定でもよいが、層厚方向に変化することが可能である。勾配が膜厚方向に変化する場合、勾配を表す関数形は、特に限定されない。ただし、基体部1Bとの境界位置から最外面まで、広義単調に増加する(ただし、まったく増加しない一定値の場合は除く)に増加することが好ましい。この場合、広義単調かどうかの判定は、含有率や位置測定の測定誤差によって測定値の逆転が発生することがない程度に、層厚方向の測定間隔をあけた測定により行うものとする。
The fluorine concentration
The layer thickness h F of the fluorine concentration
The content D F of fluorine element in the fluorine concentration
The gradient of the fluorine element content DF may be constant, but can change in the layer thickness direction. When the gradient changes in the film thickness direction, the function form representing the gradient is not particularly limited. However, it is preferable to increase from the boundary position with the
また、フッ素濃度勾配層部1Fにおけるフッ素元素の含有率DFの最大値はフッ素元素の含有比率DBの1.3倍以下であることが好ましい。すなわち、フッ素元素の含有率DFは、1<DF/DB≦1.3の関係を満足することが好ましい。
DF/DBが1.3より大きくなると、後述する本実施形態の製造方法では、フッ素
濃度勾配層1Fの厚みが増大することで、薄膜の反射率特性に影響し、設計性能から外れる。
Further, it is preferable that the maximum value of the content D F of fluorine element in the fluorine concentration
When D F / D B is larger than 1.3, the manufacturing method of this embodiment described below, that the thickness of the fluorine
このような構成のレンズ1は、種々の部材と組み合わせて種々の光学製品に用いることが可能である。光学製品の種類は、特に限定されないが、例えば、単体または他のレンズとともにレンズ鏡筒に組み込んだレンズユニット、スチルカメラ、ビデオカメラ等の撮像装置、プロジェクタ等の投影装置、スキャナ等の画像読取装置、撮像機能を有する内視鏡、顕微鏡等の例を挙げることができる。 The lens 1 having such a configuration can be used in various optical products in combination with various members. The type of optical product is not particularly limited. For example, a lens unit incorporated in a lens barrel together with a single lens or other lens, an imaging device such as a still camera or a video camera, a projection device such as a projector, or an image reading device such as a scanner Examples of endoscopes and microscopes having an imaging function can be given.
次に、本実施形態のレンズ1の製造方法について説明する。
図2(a)、(b)、(c)、(d)は、本発明の実施形態のガラス製光学素子の製造方法を示す模式的な工程説明図である。
Next, the manufacturing method of the lens 1 of this embodiment is demonstrated.
2 (a), (b), (c), and (d) are schematic process explanatory views showing a method for manufacturing a glass optical element according to an embodiment of the present invention.
本実施形態の光学素子製造方法では、素子本体部材形成工程、フッ素濃度勾配層部形成工程、および光学薄膜形成工程をこの順に行うことによりレンズ1を製造する。 In the optical element manufacturing method of this embodiment, the lens 1 is manufactured by performing the element body member forming step, the fluorine concentration gradient layer portion forming step, and the optical thin film forming step in this order.
素子本体部材形成工程は、フッ素およびリンを含有するガラス材料を加工して、レンズ本体1cの外形を形成する工程である。
本工程では、まず、フッ素およびリンを含有するガラス材料を加工して、図2(a)に示すように、レンズ1のレンズ本体1cを光軸方向にわずかに厚くした形状を有する被加工体10を作製する。
すなわち、被加工体10は、レンズ側面1dと、レンズ面1a、1bと略同じ曲率半径を有する凸球面10a、10bとを備え、凸球面10a、10bの間の中心軸上の面間距離が、レンズ1のレンズ面1a、1bの光軸上の面間距離よりわずかに大きくなっているものである。
被加工体10は、ガラス母材から切削して形成してもよいし、プレス成形によって形成してもよい。
The element body member forming step is a step of processing the glass material containing fluorine and phosphorus to form the outer shape of the
In this step, first, a glass material containing fluorine and phosphorus is processed, and as shown in FIG. 2A, a workpiece having a shape in which the
That is, the
The
フッ素およびリンを含有するガラス材料としては、例えば、FCD1、FCD10(以上、HOYA製)、S−FPL51、53(以上、オハラ製)、K−CaFK95、K−PFK80、K−PFK85(以上、住田光学ガラス製)などのフツリン酸塩ガラス等を挙げることができる。 Examples of the glass material containing fluorine and phosphorus include FCD1, FCD10 (above, manufactured by HOYA), S-FPL51, 53 (above, manufactured by OHARA), K-CaFK95, K-PFK80, K-PFK85 (above, Sumida) Fluorophosphate glass such as optical glass).
次に、図2(b)に示すように、レンズ側面1dを基準として、その中心軸上に球心位置を有するレンズ面1a、1bをそれぞれ形成する。
すなわち、凸球面10a、10bに対して、例えば、切削、粗研削、精研削などを順次行って、良好な研磨加工が可能となる面精度まで段階的に面精度を高め、最終的に適宜の研磨代を残した面間距離となるように加工する。そして、この被加工体10を不図示の研磨装置に保持して、研磨加工を行い、レンズ面1a、1bを形成する。
これにより、レンズ本体1cと同じ外形を有する素子本体部材10Aが形成される。
以上で、素子本体部材形成工程が終了する。
Next, as shown in FIG. 2B, lens surfaces 1a and 1b each having a spherical center position on the central axis are formed on the basis of the
That is, for example, cutting, rough grinding, and precise grinding are sequentially performed on the convex
Thereby, the
This completes the element body member forming step.
次に、フッ素濃度勾配層部形成工程を行う。本工程は、素子本体部材10Aの表面にフッ素濃度勾配層部1Fを形成する工程である。
本工程は、図2(c)に示すように、水系洗浄液6が満たされ超音波振動子7が設けられた洗浄槽5に素子本体部材10Aを浸漬して、一定時間をかけて超音波洗浄することにより行う。
水系洗浄液6による洗浄が終了したら、純水が満たされ超音波振動子が設けられた図示略の純水リンス槽に一定時間浸漬して、リンス洗浄を行う。
Next, a fluorine concentration gradient layer part forming step is performed. This step is a step of forming the fluorine concentration
In this step, as shown in FIG. 2 (c), the
When the cleaning with the aqueous cleaning liquid 6 is completed, rinsing is performed by immersing in a pure water rinsing tank (not shown) filled with pure water and provided with an ultrasonic vibrator for a certain period of time.
水系洗浄液6としては、素子本体部材形成工程による汚れを落とす界面活性剤などの洗剤成分が含有され、水による潜傷やヤケを抑制するとともに、ガラス材料内のフッ素を含む成分の溶出を抑制できる溶質が添加された水溶液であれば、適宜の洗浄剤を採用することができる。
水系洗浄液6の具体例としては、高級アルコールエトキシレートなどの非イオン系界面活性剤をベースに、グリコールエーテル、アルコールなど水溶性溶剤、及び/又は、リン酸水素ナトリウム等のリン酸塩を含有した洗浄剤を、純水で希釈して用いることができる。
希釈後の洗浄液中のリン酸塩の好適濃度範囲としては、P元素の重量として2ppm〜30ppmである。
これら水系洗浄液6において、各溶質の組成比および濃度の好適値は、素子本体部材10Aの組成などによっても異なるため、ガラス材料ごとに予め実験を行うなどして好適な値を求めておく。
また、洗浄時間の条件についても、ガラス材料ごとに予め実験を行うなどして好適な値を求めておく。
The aqueous cleaning liquid 6 contains a detergent component such as a surfactant that removes dirt from the element body member forming step, and can suppress latent scratches and burns caused by water and also suppress elution of components containing fluorine in the glass material. As long as it is an aqueous solution to which a solute is added, an appropriate cleaning agent can be employed.
Specific examples of the aqueous cleaning liquid 6 include a nonionic surfactant such as a higher alcohol ethoxylate, a water-soluble solvent such as glycol ether and alcohol, and / or a phosphate such as sodium hydrogen phosphate. The cleaning agent can be used after diluted with pure water.
A preferable concentration range of the phosphate in the cleaning liquid after dilution is 2 ppm to 30 ppm as the weight of the P element.
In these aqueous cleaning liquids 6, the preferred values of the composition ratio and concentration of each solute vary depending on the composition of the
Moreover, also about the conditions of washing | cleaning time, a suitable value is calculated | required by conducting an experiment beforehand for every glass material.
このような洗浄を行うと、素子本体部材10Aの表面から、ガラス成分が溶出していくが、水系洗浄液6を用いた場合には、フッ素元素と、これと強固に結合したカルシウム(Ca)元素、ストロンチウム(Sr)元素等のアルカリ土類元素とを含む構造部分の溶出が選択的に抑制される。このため、ガラス成分の溶出の激しい素子本体部材10Aの表面において、フッ素元素の含有率が高まり、これにより表面にフッ素濃度勾配層部1Fを有するレンズ本体1cが形成される(図2(d)参照)。
以上で、フッ素濃度勾配層部形成工程が終了する。
When such cleaning is performed, the glass component elutes from the surface of the
The fluorine concentration gradient layer part forming process is thus completed.
ここで、水系洗浄液6によりフッ素濃度勾配層部1Fが形成される理由について説明する。
図3は、従来技術に係るガラス製光学素子の素子本体の表面の深さ方向の組成分布を示すグラフである。グラフの横軸は、深さ方向の組成分布を測定するために行ったエッチング時間(sec)である。縦軸は元素含有率(atm%)である。また凡例中のアルファベットは元素記号である。
Here, the reason why the fluorine concentration
FIG. 3 is a graph showing the composition distribution in the depth direction of the surface of the element body of the glass optical element according to the prior art. The horizontal axis of the graph represents the etching time (sec) performed for measuring the composition distribution in the depth direction. The vertical axis represents the element content (atm%). The alphabet in the legend is an element symbol.
フッ素およびリンを含有するガラスは、水や水系洗浄液に浸漬されたときにガラスが溶解する。本発明者が、ガラスを浸漬した後の洗浄液中の金属元素の量を測定したところ、ガラスが溶解する際の元素ごとの溶出比率は、洗浄液の種類によって必ずしも同じではないことがわかった。また、その溶出比率によって、ガラス表面の荒れ(微細な凹凸)の生じ方も変化していることが分かった。
荒れは微細な凹凸のサイズオーダーにより、傷やクモリなどの不具合との関連が高くなる比較的大きなサイズの荒れと、コート反射率や密着性を悪い方向に変化させている極小さなサイズオーダーの荒れがあった。
Glass containing fluorine and phosphorus dissolves when immersed in water or an aqueous cleaning solution. When this inventor measured the quantity of the metallic element in the washing | cleaning liquid after immersing glass, it turned out that the elution ratio for every element at the time of glass melt | dissolving is not necessarily the same with the kind of washing | cleaning liquid. It was also found that how the roughness (fine irregularities) of the glass surface changes depending on the elution ratio.
Roughness is a relatively large size roughness that is highly related to defects such as scratches and spiders due to the size order of fine irregularities, and an extremely small size roughness that changes the coat reflectivity and adhesion in a bad direction was there.
本発明では、特に後者を対策することを狙い、このような極小さなサイズオーダーの荒れのある表面を詳細に分析した。図3のグラフは、このような極小さなサイズオーダーの荒れのある従来技術によるレンズの表面を、X線光電子分光(XPS)を用いて表面深さ方向の組成分布を測定した結果を示す。すなわち、最表面の組成分布測定を行った後、Ar+による10秒間のエッチングと、このエッチングにより形成された表面の組成分布測定とを行うことを繰返して、レンズの最表面から、順次深さ方向に組成分布測定を行なった。このため、横軸のエッチング時間は、0secがレンズの表面の測定結果を表し、エッチング時間が増大するほど、レンズの表面から深い位置での組成を表している。
図3において、折れ線100で示されるように、極小さなサイズオーダーの荒れの箇所では、フッ素元素(F)の含有比率が、ガラス表面の近傍で大きく減少していることがわかった。また、折れ線101、102で示されるようにCaやSrもガラス表面の近傍で大きく減少している。
これは、フツリン酸塩ガラス中でフッ素元素は、カルシウムやストロンチウムなどアルカリ土類元素と結合しており、これらが選択的に溶出していると考えることができる。このような選択的な溶出が進むと、ガラス表面には、アルミニウム(Al)元素(折れ線103参照)など酸素(O)元素(折れ線104参照)と強固な結合を有する構造部分が残り、これにより、極小さなサイズオーダーの荒れ(=多孔質状の変質層)を生じていると考えられた。
水系洗浄液への溶出をゼロにすることは、不可能である。そこで溶出しても多孔質状の変質層をつくらないような表面構成を検討したところ、ガラス表面に向かってフッ素の含有比率が増加するように変化した場合には、問題となる多孔質状の変質層を形成しないことがわかり、本発明に到った。
In the present invention, the rough surface of such an extremely small size order was analyzed in detail with the aim of taking measures against the latter in particular. The graph of FIG. 3 shows the result of measuring the composition distribution in the surface depth direction using the X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of the surface of the lens according to the prior art having such an extremely small size order roughness. That is, after measuring the composition distribution on the outermost surface, etching is repeated for 10 seconds with Ar + and the composition distribution measurement on the surface formed by this etching is repeated, and the depth is sequentially increased from the outermost surface of the lens. The composition distribution was measured in the direction. For this reason, as for the etching time on the horizontal axis, 0 sec represents the measurement result of the lens surface, and as the etching time increases, the composition at a deeper position from the lens surface is represented.
In FIG. 3, as indicated by the
This can be considered that the fluorine element is combined with alkaline earth elements such as calcium and strontium in the fluorophosphate glass and these are selectively eluted. When such selective elution proceeds, a structural portion having a strong bond with an oxygen (O) element (see the broken line 104) such as an aluminum (Al) element (see the broken line 103) remains on the glass surface. It was considered that a very small size-order roughness (= porous alteration layer) was generated.
It is impossible to make the elution into the aqueous cleaning solution zero. Therefore, we investigated a surface structure that does not create a porous alteration layer even if it elutes.If the content of fluorine increases toward the glass surface, It was found that the altered layer was not formed, and the present invention was reached.
次に、光学薄膜形成工程を行う。本工程は、レンズ本体1cのレンズ面1a、1bにそれぞれ光学薄膜2a、2bを形成する工程である。
成膜を行う装置としては、光学薄膜2a、2bの膜構成などに応じて、適宜の成膜装置、例えば、真空蒸着装置などを採用することができる。
光学薄膜2a、2bは、レンズ有効径内では、フッ素濃度勾配層部1Fの最外面上に成膜されていく。
このようにして、図1(a)に示すようなレンズ1を製造することができる。
Next, an optical thin film forming step is performed. This step is a step of forming the optical
As a film forming apparatus, an appropriate film forming apparatus such as a vacuum vapor deposition apparatus can be employed according to the film configuration of the optical
The optical
In this way, the lens 1 as shown in FIG. 1A can be manufactured.
本実施形態のレンズ1は、光学薄膜2a、2bがフッ素濃度勾配層部1F上に成膜されている。フッ素濃度勾配層部1Fは、上記の多孔質状の変質層を形成しないため、レンズ面1a、1bに多孔質状の変質層が形成されている場合に比べて、光学薄膜2a、2bの薄膜密着性(耐久性)や反射率特性を向上することができる。
フッ素およびリンを含むガラス材料を用いたレンズでは、良好な薄膜密着性や反射率特性を得ようとすれば、水系洗浄液による洗浄によらず、有機溶剤による洗浄の後、手拭き仕上げを行っていたため、手拭きの作業時間が膨大となり、製造コストを増大させていた。
これに対して、本実施形態のレンズ1の製造方法では、水系洗浄液6を用いて、フッ素濃度勾配層部1Fを形成しつつ、素子本体部材10Aの洗浄も行い、手拭き仕上げの必要がなくなるため、フッ素およびリンを含むガラス材料を用いたレンズであっても、効率よく製造することができ、製造コストを低減することができる。
In the lens 1 of this embodiment, optical
In lenses using glass materials containing fluorine and phosphorus, if we wanted to obtain good thin film adhesion and reflectivity characteristics, we performed hand wiping after washing with an organic solvent instead of washing with an aqueous cleaning solution. The time required for hand wiping has been enormous, increasing the manufacturing cost.
On the other hand, in the manufacturing method of the lens 1 of the present embodiment, the
なお、上記の説明では、ガラス製光学素子が、両凸レンズの場合の例で説明したが、これは一例である。ガラス製光学素子の種類は、特に限定されない。例えば、ガラス基板、光学レンズ、光学フィルター、反射ミラー、プリズム等の例を挙げることができる。これらの光学素子は、いずれも光を透過させたり反射させたりする光学面が研磨加工によって高精度に形成され、光学面の表面には光学薄膜が成膜されている。光学面の面形状は、例えば、平面、球面、非球面、自由曲面など適宜の形状を採用することができる。また、光学薄膜の種類としては、例えば、表面保護膜コート、反射防止膜コート、波長フィルター膜コート、反射膜コート、偏光分離膜コートなどの種々の機能を有する光学薄膜を挙げることができる。なお、光学薄膜とは、光学的機能を備える薄膜をいう。 In the above description, an example in which the glass optical element is a biconvex lens is described, but this is an example. The kind of glass optical element is not particularly limited. For example, examples such as a glass substrate, an optical lens, an optical filter, a reflection mirror, and a prism can be given. In any of these optical elements, an optical surface that transmits and reflects light is formed with high precision by polishing, and an optical thin film is formed on the surface of the optical surface. As the surface shape of the optical surface, for example, an appropriate shape such as a flat surface, a spherical surface, an aspherical surface, or a free-form surface can be adopted. Examples of the optical thin film include optical thin films having various functions such as surface protective film coating, antireflection film coating, wavelength filter film coating, reflection film coating, and polarization separation film coating. In addition, an optical thin film means a thin film provided with an optical function.
また、上記の説明では、レンズ1は、光学薄膜2a、2bが形成されている場合の例で説明したが、レンズ本体1cは、レンズ面1a、1bが形成されており、レンズとして機能するガラス製光学素子を構成している。このため、例えば、光学薄膜を表面に形成しなくても、必要な性能が得られる場合には、光学薄膜2a、2bを削除して、レンズ本体1cのみを用いることも可能である。
In the above description, the lens 1 has been described as an example in which the optical
また、上記の実施形態で説明した構成要素は、本発明の技術的思想の範囲で適宜組み合わせたり、削除したりして実施することができる。 In addition, the components described in the above embodiments can be implemented by being appropriately combined or deleted within the scope of the technical idea of the present invention.
次に、上記実施形態の具体的な実施例1〜7について、比較例1〜3とともに説明する。
図4は、実施例1のガラス製光学素子の素子本体の表面の深さ方向の組成分布を示すグラフである。図5は、比較例1のガラス製光学素子の素子本体の表面の深さ方向の組成分布を示すグラフである。図4、5とも、グラフの横軸は、深さ方向の組成分布を測定するために行ったエッチング時間(sec)である。縦軸は元素含有率(atm%)である。また凡例中のアルファベットは元素記号である。
Next, specific examples 1 to 7 of the above embodiment will be described together with comparative examples 1 to 3.
FIG. 4 is a graph showing the composition distribution in the depth direction of the surface of the element body of the glass optical element of Example 1. FIG. 5 is a graph showing the composition distribution in the depth direction of the surface of the element body of the glass optical element of Comparative Example 1. 4 and 5, the horizontal axis of the graph represents the etching time (sec) performed for measuring the composition distribution in the depth direction. The vertical axis represents the element content (atm%). The alphabet in the legend is an element symbol.
[実施例1]
実施例1の条件および評価結果を、比較例1とともに下記表1にまとめて示す。
[Example 1]
The conditions and evaluation results of Example 1 are shown together with Comparative Example 1 in Table 1 below.
実施例1では、まず、硝材として、屈折率が1.439、アッベ数が95であるフツリン酸ガラス(S−FPL53(商品名;オハラ製))を研磨し、各レンズ面の曲率半径が46mmである直径13mmの素子本体部材10Aを上記実施形態の素子本体部材形成工程により作製した。
この素子本体部材10Aを、高級アルコールエトキシレート、グリコールエーテル、アルコールを含有する洗浄液Aを純水で5%に希釈したものを水系洗浄液6として入れた洗浄槽と、純水リンス槽とを備える超音波洗浄槽で、それぞれ80秒ずつ洗浄した(フッ素濃度勾配層部形成工程)。
このレンズの1面に真空蒸着機で屈折率の異なる金属酸化物を積層した反射防止膜を形成し(光学薄膜形成工程)、コート面の反射率測定、スクラッチテストを実施した。
また、同様にして作製した別のレンズのコートを付与していない面について、XPSを用いて表面深さ方向の組成分布を測定した。
すなわち、最表面の組成分布測定を行った後、Ar+による10秒間のエッチングと、このエッチングにより形成された表面の組成分布測定とを行うことを繰返して、レンズの最表面から、順次深さ方向に組成分布測定を行なった。
この10秒間のエッチングによるエッチング深さは、平均4.2nmであった。
この測定結果のグラフを図4に示す。
In Example 1, first, as a glass material, a fluorophosphate glass (S-FPL53 (trade name; manufactured by OHARA)) having a refractive index of 1.439 and an Abbe number of 95 is polished, and the curvature radius of each lens surface is 46 mm. An
This
An antireflection film was formed by laminating metal oxides having different refractive indexes on one surface of this lens using a vacuum vapor deposition machine (optical thin film forming process), and the reflectance of the coated surface was measured and a scratch test was performed.
Moreover, the composition distribution of the surface depth direction was measured using XPS about the surface which did not provide the coat | court of another lens produced similarly.
That is, after measuring the composition distribution on the outermost surface, etching is repeated for 10 seconds with Ar + and the composition distribution measurement on the surface formed by this etching is repeated, and the depth is sequentially increased from the outermost surface of the lens. The composition distribution was measured in the direction.
The average etching depth by this 10-second etching was 4.2 nm.
A graph of this measurement result is shown in FIG.
[比較例1]
比較例1として、実施例1と同じガラス材料により、同形状のレンズを作製し、高級アルコールエトキシレート、トリエタノールアミン(TEA)を含有する洗浄液Bを純水で5%に希釈した水系洗浄液を入れた洗浄槽と、純水リンス槽とを備える超音波洗浄槽で、それぞれ80秒ずつ洗浄した。
このレンズの1面に、実施例1と同様にして反射防止膜を形成し、実施例1と同様にして、コート面の反射率測定、スクラッチテストを実施した。また、同様にして作製した別のレンズのコートを付与していない面について、実施例1と同様にして表面深さ方向の組成分布を測定した。
この測定結果のグラフを図5に示す。
[Comparative Example 1]
As Comparative Example 1, a lens having the same shape is made of the same glass material as in Example 1, and an aqueous cleaning solution obtained by diluting cleaning solution B containing higher alcohol ethoxylate and triethanolamine (TEA) to 5% with pure water is used. Each was cleaned for 80 seconds in an ultrasonic cleaning tank equipped with a cleaning tank and a pure water rinse tank.
An antireflection film was formed on one surface of the lens in the same manner as in Example 1, and the reflectance of the coated surface was measured and a scratch test was performed in the same manner as in Example 1. Further, the composition distribution in the surface depth direction was measured in the same manner as in Example 1 on the surface of the other lens which was prepared in the same manner and was not coated.
A graph of this measurement result is shown in FIG.
[評価]
評価は、表1に示すように、「コート反射率」、「膜破壊」について行った。
「コート反射率」の評価は、反射防止膜が形成されたレンズ面の分光反射率を測定して行った。具体的には、波長500nmの反射率を求めて、規格値0.7%と比較した。表1の判定欄の「○」は、反射率が0.7%以下で合格であったことを示し、「×」は、反射率が0.7%より大きく不合格であったことを示す。
「膜破壊」の評価は、スクラッチテストを行って、膜破壊荷重を測定し、規格値125mNと比較した。表1の判定欄の「○」は、膜破壊荷重が125mN以上で合格であったことを示し、「×」は、膜破壊荷重が125mN未満で不合格であったことを示す。
また、図4、5のグラフから、フッ素元素の含有比率が変化する位置を読み取って、フッ素元素の変化層の層厚を算出し、表1に「層厚」として記載した。
また、フッ素元素の変化開始位置の含有比率に対する変化層の最外面の含有比率の比(上記実施形態に記載のDF/DBに対応する)を算出し、表1に「変化層/基板部」として記載した。以下、簡単のため、実施例、比較例を問わず「変化層/基板部」欄の数値を単にDF/DBと称する。
[Evaluation]
As shown in Table 1, the evaluation was performed for “coat reflectance” and “film destruction”.
The “coat reflectance” was evaluated by measuring the spectral reflectance of the lens surface on which the antireflection film was formed. Specifically, the reflectance at a wavelength of 500 nm was obtained and compared with a standard value of 0.7%. “◯” in the judgment column of Table 1 indicates that the reflectivity was 0.7% or less and passed, and “X” indicates that the reflectivity was greater than 0.7% and failed. .
For the evaluation of “film breakage”, a scratch test was performed, the film breakage load was measured, and compared with a standard value of 125 mN. “◯” in the judgment column of Table 1 indicates that the film breakage load was 125 mN or more, and “x” represents that the film breakage load was less than 125 mN and was not acceptable.
Also, from the graphs of FIGS. 4 and 5, the position where the content ratio of the fluorine element changes was read, and the layer thickness of the changed layer of the fluorine element was calculated.
Moreover, to calculate the ratio of the outermost surface of the content ratio of the change layer to the content ratio of the change in the starting position of elemental fluorine (corresponding to D F / D B according to the above embodiment), in Table 1, "change layer / substrate Part ". Hereinafter, for the sake of simplicity, the numerical value in the “changed layer / substrate portion” column is simply referred to as D F / D B regardless of the example or the comparative example.
実施例1では、図4に折れ線200で示されるように、フッ素元素の含有比率が最外面で最大約56%の最大値を示し、層厚15nm(表1参照)の範囲で、内部から最外面に向かって、広義単調に増大し、約45%で安定している。このため、層厚15nmのフッ素濃度勾配層部1Fが表面に形成されていることが分かる。
また、DF/DBは、表1に示すように1.13であった。
また、同様な層厚の範囲で、Caの含有比率(折れ線201参照)は内部から最外面に向かってわずかに上昇しており、Srの含有比率(折れ線202参照)は略横這いであり表面のみで減少している。
また、Alの含有比率(折れ線203参照)およびOの含有比率(折れ線204参照)は内部から最外面に向かっていずれも減少している。
In Example 1, as indicated by the
Further, D F / D B was 1.13 as shown in Table 1.
In the same range of the layer thickness, the Ca content ratio (see the broken line 201) slightly increases from the inside toward the outermost surface, and the Sr content ratio (see the broken line 202) is substantially horizontal and only the surface. It is decreasing in.
Further, the Al content ratio (see the broken line 203) and the O content ratio (see the broken line 204) both decrease from the inside toward the outermost surface.
これに対して、比較例1では、図5に折れ線300で示されるように、フッ素元素の含有比率が最外面で約35%の最小値を示し、層厚17.9nm(表1参照)の範囲で内部から最外面に向かって減少し、約45%で安定している。したがって、層厚17.9nmのフッ素濃度の変化層が形成されているものの、最外面に向かってフッ素元素の含有比率が減少しているため、フッ素濃度勾配層部1Fは形成されておらず、多孔質状の変質層が形成されていることが分かる。
このため、DF/DBは、表1に示すように0.76であった。
また、同様な層厚の範囲で、Ca、Srの含有比率(折れ線301、302参照)は、いずれも内部から最外面に向かって大きく減少している。
また、Al、Oの含有比率(折れ線303、304参照)は、いずれも内部から最外面に向かって大きく増大している。
On the other hand, in Comparative Example 1, as indicated by the
Therefore, D F / D B was 0.76 as shown in Table 1.
Further, within the same layer thickness range, the Ca and Sr content ratios (see the
Further, the content ratios of Al and O (see the broken lines 303 and 304) both greatly increase from the inside toward the outermost surface.
実施例1では、表1に示すように、反射率が0.5%、膜破壊荷重が132mNであり、いずれもの評価も「○」であった。
これに対して、比較例1では、反射率が1.4%、膜破壊荷重が12mNであり、いずれもの評価も「×」であった。
それぞれの数値を比較しても、実施例1は、比較例1に対して格段に良好な数値を示していることがわかる。
この相違は、実施例1が表面にフッ素濃度勾配層部1Fを有するのに対して、比較例1では表面に多孔質状の変質層が形成されているためであると考えられる。
In Example 1, as shown in Table 1, the reflectance was 0.5%, the film breaking load was 132 mN, and all evaluations were “◯”.
On the other hand, in Comparative Example 1, the reflectance was 1.4%, the film breaking load was 12 mN, and all evaluations were “x”.
Comparing each numerical value, it can be seen that Example 1 shows much better numerical values than Comparative Example 1.
This difference is considered because Example 1 has a fluorine concentration
[実施例2〜5]
実施例1の条件および評価結果を下記表2にまとめて示す。
[Examples 2 to 5]
The conditions and evaluation results of Example 1 are summarized in Table 2 below.
実施例2〜5では、素子本体部材形成工程において、上記実施例1と同じフツリン酸ガラスを研磨し、各レンズ面の曲率半径が52mmである直径15mmのレンズを作製した。
また、フッ素濃度勾配層部形成工程では、表2に示すように、水系洗浄液6として、高級アルコールエトキシレート、アルコール、リン酸水素ナトリウムを含有する洗浄液C1を純水で3%に希釈したものを用いて洗浄を行った。希釈後の洗浄液中のリン酸塩の濃度は、P元素の重量として10ppmであった。
ただし、実施例2〜5では、洗浄槽による洗浄時間を、それぞれ60秒、120秒、180秒、240秒に設定した。
また、光学薄膜形成工程および評価は、上記実施例1と同様にして行った。
In Examples 2 to 5, in the element body member forming step, the same fluorophosphate glass as in Example 1 was polished to produce a lens having a diameter of 15 mm and a radius of curvature of each lens surface of 52 mm.
Moreover, in the fluorine concentration gradient layer forming step, as shown in Table 2, as the aqueous cleaning liquid 6, a cleaning liquid C1 containing higher alcohol ethoxylate, alcohol, and sodium hydrogen phosphate is diluted to 3% with pure water. Was used for washing. The concentration of phosphate in the cleaning solution after dilution was 10 ppm as the weight of element P.
However, in Examples 2 to 5, the cleaning time in the cleaning tank was set to 60 seconds, 120 seconds, 180 seconds, and 240 seconds, respectively.
Moreover, the optical thin film formation process and evaluation were performed like the said Example 1. FIG.
実施例2〜5では、上記実施例1と同様な組成分布測定を行った結果、いずれも、フッ素濃度勾配層部1Fが形成されていることが確認された。
実施例2〜5のフッ素濃度勾配層部1Fの層厚は、表2に示すように、それぞれ、12.5nm、40nm、55nm、90nmであり、洗浄時間が長くなるほど、層厚が厚くなっていた。
また、実施例2〜5のDF/DBは、それぞれ、1.2、1.25、1.2、1.28であり、洗浄時間と関係なく、略一定になった。
また、実施例2〜5の反射率は、それぞれ、0.48%、0.51%、0.49%、0.53%であり、洗浄時間と関係なく、略一定になった。また、いずれの評価も「○」であった。
また、実施例2〜5の膜破壊荷重は、それぞれ、131mN、129mN、132mN、127mNであり、洗浄時間と関係なく、略一定になった。また、いずれの評価も「○」であった。
したがって、洗浄液C1によって形成されたフッ素濃度勾配層部1Fは、層厚12.5nmから90nmの範囲で、反射率、膜破壊荷重とも良好な結果を示した。
In Examples 2 to 5, the same composition distribution measurement as in Example 1 was performed, and as a result, it was confirmed that the fluorine concentration
As shown in Table 2, the thicknesses of the fluorine concentration
Further, D F / D B of Examples 2-5 are each a 1.2,1.25,1.2,1.28, regardless of the cleaning time, became substantially constant.
In addition, the reflectances of Examples 2 to 5 were 0.48%, 0.51%, 0.49%, and 0.53%, respectively, and were substantially constant regardless of the cleaning time. Moreover, all evaluation was "(circle)".
In addition, the film breaking loads in Examples 2 to 5 were 131 mN, 129 mN, 132 mN, and 127 mN, respectively, and were substantially constant regardless of the cleaning time. Moreover, all evaluation was "(circle)".
Therefore, the fluorine concentration
[実施例6、7]
実施例6、7の条件および評価結果を、比較例2、3とともに下記表3にまとめて示す。
[Examples 6 and 7]
The conditions and evaluation results of Examples 6 and 7 are shown in Table 3 below together with Comparative Examples 2 and 3.
実施例6、7では、素子本体部材形成工程において、上記実施例1と同じフツリン酸ガラスを研磨し、各レンズ面の曲率半径が80mmである直径24mmのレンズを作製した。
また、フッ素濃度勾配層部形成工程では、表3に示すように、水系洗浄液6として、高級アルコールエトキシレート、アルコール、リン酸塩を含有する洗浄液C2を純水で3%に希釈したものを用いて洗浄を行った。希釈後の洗浄液中のリン酸塩の濃度は、P元素の重量として5ppmであった。
ただし、実施例6、7では、洗浄槽による洗浄時間を、それぞれ、120秒、240秒に設定した。
また、光学薄膜形成工程および評価は、上記実施例1と同様にして行った。
In Examples 6 and 7, in the element body member forming step, the same fluorophosphate glass as in Example 1 was polished to produce a lens having a diameter of 24 mm and a radius of curvature of each lens surface of 80 mm.
Moreover, in the fluorine concentration gradient layer forming step, as shown in Table 3, as the aqueous cleaning liquid 6, a cleaning liquid C2 containing higher alcohol ethoxylate, alcohol and phosphate diluted to 3% with pure water is used. And washed. The concentration of phosphate in the cleaning solution after dilution was 5 ppm as the weight of element P.
However, in Examples 6 and 7, the cleaning time in the cleaning tank was set to 120 seconds and 240 seconds, respectively.
Moreover, the optical thin film formation process and evaluation were performed like the said Example 1. FIG.
実施例6、7では、上記実施例1と同様な組成分布測定を行った結果、いずれも、フッ素濃度勾配層部1Fが形成されていることが確認された。
実施例6、7のフッ素濃度勾配層部1Fの層厚は、表3に示すように、それぞれ、17.9nm、22.1nmであり、洗浄時間が長い方が層厚が厚くなっていた。
また、実施例6、7のDF/DBは、それぞれ、1.08、1.04であり、略同等であった。
また、実施例6、7の反射率は、それぞれ、0.51%、0.51%であった。また、いずれの評価も「○」であった。
また、実施例6、7の膜破壊荷重は、それぞれ、127mN、129mNであり、洗浄時間と関係なく略同じ値になった。また、いずれの評価も「○」であった。
したがって、洗浄液C2によって形成されたフッ素濃度勾配層部1Fは、反射率、膜破壊荷重とも良好な結果を示した。
In Examples 6 and 7, the same composition distribution measurement as in Example 1 was performed. As a result, it was confirmed that the fluorine concentration
As shown in Table 3, the layer thicknesses of the fluorine concentration
Further, D F / D B of Example 6 and 7, respectively, are 1.08,1.04, were substantially equal.
Moreover, the reflectances of Examples 6 and 7 were 0.51% and 0.51%, respectively. Moreover, all evaluation was "(circle)".
Further, the film breaking loads of Examples 6 and 7 were 127 mN and 129 mN, respectively, and were substantially the same value regardless of the cleaning time. Moreover, all evaluation was "(circle)".
Therefore, the fluorine concentration
[比較例2、3]
比較例2、3は、上記実施例7の条件で用いた洗浄液C2と、洗浄液中のリン酸塩の濃度が異なる洗浄液C3、C4を用いた点が異なり、他の洗浄条件は同一とした。
洗浄液C3は、洗浄液C2の8倍量含有し、純水希釈後の洗浄液中のリン酸塩濃度で40ppmとした。
洗浄液C4は、洗浄液C2の16倍量含有し、純水希釈後の洗浄液中のリン酸塩濃度で80ppmとした。
[Comparative Examples 2 and 3]
Comparative Examples 2 and 3 differed in that the cleaning liquid C2 used in the conditions of Example 7 and the cleaning liquids C3 and C4 having different phosphate concentrations in the cleaning liquid were used, and the other cleaning conditions were the same.
Cleaning liquid C3 contained 8 times the amount of cleaning liquid C2, and the phosphate concentration in the cleaning liquid after dilution with pure water was 40 ppm.
The cleaning liquid C4 contained 16 times the cleaning liquid C2, and the phosphate concentration in the cleaning liquid after dilution with pure water was 80 ppm.
比較例2、3では、上記実施例1と同様な組成分布測定を行った結果、いずれも、フッ素濃度勾配層部1Fが形成されていないことが確認された。
比較例2、3のフッ素濃度変化層の層厚は、表3に示すように、それぞれ、20nm、63nmであった。
また、比較例2、3のDF/DBは、それぞれ、0.61、0.62であった。
また、比較例2、3の反射率は、それぞれ、1.41%、1.55%であり、いずれの評価も「×」であった。
また、比較例2、3の膜破壊荷重は、それぞれ、37mN、18mNであり、いずれの評価も「×」であった。
したがって、洗浄液C3、C4では、フッ素濃度勾配層部1Fが形成されず、反射率、膜破壊荷重とも規格値外となり、実施例7と比べて格段に劣る結果となった。
In Comparative Examples 2 and 3, the same composition distribution measurement as in Example 1 was performed. As a result, it was confirmed that no fluorine concentration
As shown in Table 3, the thicknesses of the fluorine concentration changing layers of Comparative Examples 2 and 3 were 20 nm and 63 nm, respectively.
Further, D F / D B of Comparative Examples 2 and 3, respectively, were 0.61,0.62.
Moreover, the reflectances of Comparative Examples 2 and 3 were 1.41% and 1.55%, respectively, and both evaluations were “x”.
Moreover, the film breaking load of Comparative Examples 2 and 3 was 37 mN and 18 mN, respectively, and both evaluations were “x”.
Therefore, in the cleaning liquids C3 and C4, the fluorine concentration
1 レンズ(ガラス製光学素子)
1B 基体部
1F フッ素濃度勾配層部
1a レンズ面
1c レンズ本体(素子本体)
2a、2b 光学薄膜
6 水系洗浄液
1 Lens (glass optical element)
2a, 2b Optical thin film 6 Aqueous cleaning solution
Claims (3)
前記素子本体は、
前記ガラス材料の組成と同じ組成を有する基体部と、
該基体部の少なくとも一部の表面に層状に形成され、フッ素元素の含有率が前記基体部の組成におけるフッ素元素の含有比率を下回ることなく変化して最外面で最大となる勾配を有するフッ素濃度勾配層部と、を備える
ことを特徴とする、ガラス製光学素子。 It has an element body processed from a glass material containing fluorine and phosphorus,
The element body is
A base portion having the same composition as that of the glass material;
Fluorine concentration formed in a layered manner on at least a part of the surface of the base portion, and having a gradient in which the content of fluorine element changes without falling below the content ratio of the fluorine element in the composition of the base portion and maximizes at the outermost surface A glass optical element comprising a gradient layer portion.
前記基体部のフッ素元素の含有比率の1倍より大きく、1.3倍以下である
ことを特徴とする、請求項1に記載のガラス製光学素子。 The content ratio of the fluorine element in the fluorine concentration gradient layer portion is:
2. The glass optical element according to claim 1, wherein the glass optical element is greater than 1 time and less than or equal to 1.3 times the fluorine element content ratio of the base portion.
ことを特徴とする、請求項1または2に記載のガラス製光学素子。 The glass optical element according to claim 1, wherein an optical thin film is formed on a surface of the fluorine concentration gradient layer portion opposite to the base portion.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011237683A JP5769585B2 (en) | 2011-10-28 | 2011-10-28 | Manufacturing method of glass optical element |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2013095619A true JP2013095619A (en) | 2013-05-20 |
JP5769585B2 JP5769585B2 (en) | 2015-08-26 |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5769585B2 (en) |
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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