JP2013059740A - Catalyst for cleaning exhaust gas - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、内燃機関から排出される排ガスを浄化する排ガス浄化用触媒に関する。 The present invention relates to an exhaust gas purifying catalyst for purifying exhaust gas discharged from an internal combustion engine.
従来から、自動車エンジン等の内燃機関から排出される排ガスを浄化するために、Ｐｔ（白金）、Ｐｄ（パラジウム）、およびＲｈ（ロジウム）の貴金属のうち少なくとも一種を含む三元触媒がよく用いられている（特許文献１〜４）。かかる三元触媒の一つの典型的な構成では、高耐熱性セラミックス基材の表面にアルミナからなる触媒コート層を形成し、この触媒コート層にＰｔ、Ｐｄ、およびＲｈの貴金属のうち少なくとも一種を担持させている。これらの貴金属のうちＰｄ及びＰｔは主として一酸化炭素（ＣＯ）及び炭化水素（ＨＣ）の浄化性能（酸化浄化能）に寄与し、Ｒｈは主としてＮＯｘの浄化性能（還元浄化能）に寄与する。したがって、Ｐｄ又はＰｔと、Ｒｈとを併用することによって、排ガス中の有害成分を一度に効率よく浄化することができる。
Conventionally, a three-way catalyst containing at least one of Pt (platinum), Pd (palladium), and Rh (rhodium) noble metals is often used to purify exhaust gas discharged from an internal combustion engine such as an automobile engine. (
近年、上記排ガス浄化用触媒の性能をさらに向上させるために、触媒コート層を二層構造とし、Ｐｄ又はＰｔとＲｈとを分離担持させた排ガス浄化用触媒が提案されている。貴金属触媒の全てを一つの担体層に担持させるのではなく、触媒コート層を上下二層の積層構造に形成し、一方の層にＰｄ又はＰｔを、他方の層にＲｈをそれぞれ分離して担持させることにより、ＲｈがＰｄ又はＰｔと合金化することによる触媒活性の低下を抑制するという効果が得られる。 In recent years, in order to further improve the performance of the exhaust gas purification catalyst, an exhaust gas purification catalyst in which the catalyst coat layer has a two-layer structure and Pd or Pt and Rh are separately supported has been proposed. Rather than having all the precious metal catalyst supported on one carrier layer, the catalyst coat layer is formed in a two-layered structure, with Pd or Pt separated on one layer and Rh separated on the other layer. By making it, the effect that the fall of the catalyst activity by Rh alloying with Pd or Pt is suppressed is acquired.
ところで、三元触媒には、排ガス中に硫黄（Ｓ）成分が含まれていると、いわゆるＳ被毒が発生し、浄化性能が低下するという課題がある。すなわち、排ガス中にＳＯｘなどの硫黄成分が含まれていると、ＳＯｘが貴金属粒子の表面に吸着し、貴金属粒子の表面に被膜を形成することで、他の化学種の表面吸着を阻害する。その結果、触媒の浄化性能が低下してしまう。特にＰｄはＳ被毒の影響を強く受け、浄化率が悪化しやすい。したがって、排ガス浄化用の三元触媒として、Ｓ被毒が発生しにくいものが好ましい。 By the way, when the sulfur (S) component is contained in the exhaust gas, the three-way catalyst has a problem that so-called S poisoning occurs and the purification performance is lowered. That is, when sulfur components such as SOx are contained in the exhaust gas, SOx is adsorbed on the surface of the noble metal particles and forms a film on the surface of the noble metal particles, thereby inhibiting the surface adsorption of other chemical species. As a result, the purification performance of the catalyst is degraded. In particular, Pd is strongly affected by S poisoning, and the purification rate tends to deteriorate. Accordingly, a three-way catalyst for purifying exhaust gas that does not easily cause S poisoning is preferable.
従来から、Ｓ被毒を抑制するための技術が提案されている。例えば、上記触媒コート層を上下二層構造とした排ガス浄化用触媒において、Ｓ被毒に弱いＰｄ触媒をガスが拡散し難い下層に配置し、Ｓ被毒に強いＲｈ触媒を上層に配置することは、Ｐｄ触媒のＳ被毒を抑制して排ガス中のＣＯやＨＣを良好に酸化浄化するための有効な技術となり得る。 Conventionally, techniques for suppressing S poisoning have been proposed. For example, in the exhaust gas purifying catalyst having the upper and lower catalyst coat layers, the Pd catalyst that is vulnerable to S poisoning is disposed in the lower layer where gas is difficult to diffuse, and the Rh catalyst that is resistant to S poisoning is disposed in the upper layer. Can be an effective technique for satisfactorily oxidizing and purifying CO and HC in exhaust gas by suppressing S poisoning of the Pd catalyst.
しかしながら、Ｐｄ触媒を下層に配置し、Ｒｈ触媒を上層に配置する構成は、Ｐｄ触媒のＳ被毒を抑制して排ガス中のＣＯやＨＣを良好に酸化浄化するのに有利である一方で、上層に配置したＲｈ触媒が多少なりともＳ被毒の影響を受けるため、ＮＯｘの還元浄化能が低下するという問題があった。特に、近年では高価で貴重なＲｈの使用量を大幅に低減してきたため、排ガス中に含まれる硫黄成分による被毒の影響が相対的に顕著となってきた（図７参照）。このため、上層においてＲｈ触媒のＳ被毒による触媒活性の低下を好適に防止できる排ガス浄化用触媒の開発が望まれている。 However, the configuration in which the Pd catalyst is arranged in the lower layer and the Rh catalyst is arranged in the upper layer is advantageous for suppressing the S poisoning of the Pd catalyst and favorably oxidizing and purifying CO and HC in the exhaust gas, Since the Rh catalyst arranged in the upper layer is affected by S poisoning to some extent, there is a problem that the reduction and purification ability of NOx is lowered. In particular, since the amount of expensive and precious Rh used in recent years has been greatly reduced, the influence of poisoning due to sulfur components contained in the exhaust gas has become relatively significant (see FIG. 7). For this reason, it is desired to develop an exhaust gas purifying catalyst that can suitably prevent a decrease in catalytic activity due to S poisoning of the Rh catalyst in the upper layer.
本発明は、かかる事案に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、積層構造タイプの触媒コート層を備えた排ガス浄化用触媒において、Ｓ被毒耐性がより高められた排ガス浄化用触媒を提供することである。 The present invention has been made in view of such a case, and a main object of the present invention is to provide an exhaust gas purification catalyst with a higher S poisoning resistance in an exhaust gas purification catalyst having a laminated structure type catalyst coat layer. Is to provide.
本発明に係る排ガス浄化用触媒は、基材と、該基材の表面に形成された多孔質担体からなる触媒コート層と、該触媒コート層の多孔質担体に担持された貴金属触媒とを備える。前記触媒コート層は、前記基材表面に近い方を下層とし相対的に遠い方を上層とする上下層を有する積層構造に形成されている。前記上層は貴金属触媒としてＲｈ粒子を備えており、前記下層は貴金属触媒としてＰｄ粒子を備えている。前記上層は、前記Ｒｈ粒子が担持された多孔質担体として少なくともジルコニアを含む粒状担体と、前記Ｒｈ粒子が担持されていないシリカ粒子とを備えている。そして、前記上層において、前記Ｒｈ粒子と前記粒状担体と前記シリカ粒子との合計を１００質量％としたときの前記シリカ粒子の含有率が、少なくとも５０質量％（典型的には５０質量％〜９０質量％）であることを特徴とする。 An exhaust gas purifying catalyst according to the present invention includes a base material, a catalyst coat layer made of a porous carrier formed on the surface of the base material, and a noble metal catalyst supported on the porous carrier of the catalyst coat layer. . The catalyst coat layer is formed in a laminated structure having upper and lower layers having a layer closer to the substrate surface as a lower layer and a relatively far side as an upper layer. The upper layer includes Rh particles as a noble metal catalyst, and the lower layer includes Pd particles as a noble metal catalyst. The upper layer includes a granular carrier containing at least zirconia as a porous carrier on which the Rh particles are supported, and silica particles on which the Rh particles are not supported. And in the said upper layer, the content rate of the said silica particle when the sum total of the said Rh particle | grains, the said granular support | carrier, and the said silica particle is 100 mass% is at least 50 mass% (typically 50 mass%-90 mass%). Mass%).
かかる構成の排ガス浄化用触媒では、触媒コート層の上層であるＲｈ触媒層に、貴金属触媒であるＲｈ粒子と、Ｒｈ粒子が担持されたジルコニア粒状担体と、Ｒｈ粒子が担持されていないシリカ粒子とを含んでいる。Ｒｈ粒子は、シリカ粒子に担持されておらず、ジルコニア粒状担体に選択的に担持されている。また、ジルコニア粒状担体とシリカ粒子とは相互に固溶（複合化）しておらず、それぞれ独立した粒子として存在し、且つ両者が密接して混在・共存する状態で配置されている。
このようにジルコニア粒状担体とシリカ粒子とがそれぞれ独立した粒子として存在し且つ両者が密接して混在・共存する状態で配置されることにより、ジルコニア粒状担体に担持されたＲｈ粒子のＳ被毒が効果的に抑制される。そのため、触媒耐久後においてもＲｈ粒子の高い触媒活性が発現し、排ガス中のＮＯｘを良好に還元浄化することができる。さらに、上記シリカ粒子の作用によりＳ被毒耐性が向上したＲｈ触媒層を上層に配置し、Ｓ被毒に比較的弱いＰｄ触媒層を下層に配置することにより、排ガス中のＳＯｘ等の硫黄成分が下層側のＰｄ触媒層内を拡散し難くなる。そのため、Ｐｄ触媒層においてもＰｄ粒子のＳ被毒が有効に抑制され、触媒耐久後においてもＰｄ粒子の高い触媒活性が発現し、排ガス中のＣＯやＨＣを良好に酸化浄化することができる。したがって、本発明によると、従来に比して、上下二層のＳ被毒耐性がバランスよく向上し、浄化性能に優れた最適な排ガス浄化用触媒を提供することができる。
In the exhaust gas purifying catalyst having such a configuration, the Rh catalyst layer, which is the upper layer of the catalyst coat layer, has the Rh particles as the noble metal catalyst, the zirconia granular carrier on which the Rh particles are supported, and the silica particles on which the Rh particles are not supported. Is included. Rh particles are not supported on silica particles, but are selectively supported on zirconia granular carriers. Further, the zirconia granular carrier and the silica particles are not solid-solved (complexed) with each other, exist as independent particles, and are arranged in a state where both are closely mixed and coexist.
As described above, the zirconia granular carrier and the silica particles exist as independent particles, and are arranged in a state where both are closely mixed and coexist, whereby S poisoning of the Rh particles carried on the zirconia granular carrier is reduced. Effectively suppressed. Therefore, even after the endurance of the catalyst, high catalytic activity of Rh particles is exhibited, and NOx in the exhaust gas can be reduced and purified well. Furthermore, a sulfur component such as SOx in the exhaust gas is provided by disposing an Rh catalyst layer having improved S poisoning resistance by the action of the silica particles in the upper layer and a Pd catalyst layer relatively weak to S poisoning in the lower layer. Becomes difficult to diffuse in the lower Pd catalyst layer. Therefore, S poisoning of Pd particles is also effectively suppressed in the Pd catalyst layer, and high catalytic activity of the Pd particles is exhibited even after the endurance of the catalyst, so that CO and HC in the exhaust gas can be oxidized and purified satisfactorily. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide an optimal exhaust gas purifying catalyst that improves the S poison resistance of the upper and lower two layers in a well-balanced manner and has an excellent purifying performance as compared with the prior art.
前記上層（Ｒｈ触媒層）において、前記Ｒｈ粒子と前記ジルコニア粒状担体と前記シリカ粒子との合計を１００質量％としたときの前記シリカ粒子の含有率は、概ね５０質量％以上（例えば５０質量％〜９０質量％、好ましくは５０質量％〜７５質量％、より好ましくは６０質量％〜７５質量％）である。かかる構成によると、Ｒｈ触媒層においてジルコニア粒状担体とシリカ粒子との比率が適切なバランスにあるので、シリカ粒子の作用によるＳ被毒耐性向上効果を適切に発揮しつつ、ジルコニア粒状担体に適量のＲｈ粒子を担持させることができる。シリカ粒子の含有率が少なすぎると、上述したＳ被毒耐性向上効果が十分に得られないことがあり、一方、シリカ粒子の含有率が多すぎると、ジルコニア粒状担体の含有率が相対的に低下して担持可能なＲｈ粒子の量が減るため、Ｒｈ粒子により得られる触媒活性が不十分となり、排ガス浄化用触媒の浄化性能が低下傾向になることがある。 In the upper layer (Rh catalyst layer), the content of the silica particles when the total of the Rh particles, the zirconia granular carrier, and the silica particles is 100% by mass is approximately 50% by mass or more (for example, 50% by mass). -90 mass%, preferably 50 mass% -75 mass%, more preferably 60 mass% -75 mass%). According to such a configuration, since the ratio of the zirconia granular carrier and the silica particles is in an appropriate balance in the Rh catalyst layer, an appropriate amount of the zirconia granular carrier can be obtained while appropriately exhibiting the effect of improving the S poisoning resistance by the action of the silica particles. Rh particles can be supported. If the content of the silica particles is too small, the above-described effect of improving the S poisoning resistance may not be sufficiently obtained. On the other hand, if the content of the silica particles is too large, the content of the zirconia granular carrier is relatively high. Since the amount of Rh particles that can be lowered and reduced is reduced, the catalytic activity obtained by the Rh particles may be insufficient, and the purification performance of the exhaust gas purification catalyst may tend to be reduced.
ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい一態様では、前記下層は、前記Ｐｄ粒子が担持された多孔質担体として少なくともジルコニアを含むジルコニア粒状担体と、前記Ｐｄ粒子が担持されていないシリカ粒子とを備えている。このような下層（Ｐｄ触媒層）を上記のようなＲｈ触媒層と組み合わせて設けることにより、Ｐｄ粒子のＳ被毒をさらに効果的に抑制することができる。したがって、上述した作用効果と相俟って、より高い浄化性能（特に酸化浄化能）を確実に発揮することができる。 In a preferred aspect of the exhaust gas purifying catalyst disclosed herein, the lower layer includes a zirconia granular carrier containing at least zirconia as a porous carrier on which the Pd particles are supported, and silica particles on which the Pd particles are not supported. It has. By providing such a lower layer (Pd catalyst layer) in combination with the Rh catalyst layer as described above, S poisoning of Pd particles can be more effectively suppressed. Therefore, in combination with the above-described effects, higher purification performance (particularly oxidation purification capability) can be reliably exhibited.
好ましくは、前記下層（Ｐｄ触媒層）において、前記Ｐｄ粒子と前記ジルコニア粒状担体と前記シリカ粒子との合計を１００質量％としたときの前記シリカ粒子の含有率が、概ね５質量％以上５０質量％未満であり、好ましくは２５質量％以上５０質量％未満である。かかる構成によると、Ｐｄ触媒層においてジルコニア粒子とシリカ粒子との比率が適切なバランスにあるので、シリカ粒子の作用によるＳ被毒耐性向上効果を適切に発揮しつつ、ジルコニア粒状担体に適量のＰｄ粒子を担持させることができる。シリカ粒子の含有率が少なすぎると、上述したＳ被毒耐性向上効果が十分に得られないことがあり、一方、シリカ粒子の含有率が多すぎると、ジルコニア粒状担体の含有率が相対的に低下して担持可能なＰｄ粒子の量が減るため、Ｐｄ粒子により得られる触媒活性が不十分となり、排ガス浄化用触媒の浄化性能が低下傾向になることがある。 Preferably, in the lower layer (Pd catalyst layer), the content of the silica particles when the total of the Pd particles, the zirconia granular carrier, and the silica particles is 100% by mass is approximately 5% by mass to 50% by mass. %, Preferably 25% by mass or more and less than 50% by mass. According to such a configuration, since the ratio of zirconia particles to silica particles is in an appropriate balance in the Pd catalyst layer, an appropriate amount of Pd is added to the zirconia granular carrier while appropriately exhibiting the effect of improving S poisoning resistance by the action of the silica particles. Particles can be supported. If the content of the silica particles is too small, the above-described effect of improving the S poisoning resistance may not be sufficiently obtained. On the other hand, if the content of the silica particles is too large, the content of the zirconia granular carrier is relatively high. Since the amount of Pd particles that can be supported is reduced, the catalytic activity obtained by the Pd particles becomes insufficient, and the purification performance of the exhaust gas purification catalyst tends to be lowered.
ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい一態様では、前記上層において前記ジルコニア粒状担体と前記シリカ粒子とが別体として設けられ、かつ走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）観察により把握される前記上層中のシリカ粒子の５０個数％以上が、前記ジルコニア粒状担体と接触した状態で配置されている。ジルコニア粒状担体とシリカ粒子とを固溶（複合化）させると、ジルコニア粒状担体とＲｈ粒子との相互作用が弱まるため、高温に晒されたときにＲｈのシンタリング（粒成長）が発生する虞がある。これに対し、上記構成によれば、ジルコニア粒状担体とシリカ粒子とが別体として配置されているので、高温に晒されてもＲｈのシンタリングを抑制して高分散を維持することができる。また、シリカ粒子の５０個数％以上がジルコニア粒状担体と接触した状態で配置されていることにより、シリカ粒子とジルコニア粒状担体との接触界面において硫黄成分がジルコニア粒状担体に吸着されにくくなる。このことにより、接触界面に存在するＲｈ粒子のＳ被毒が効果的に防止され、触媒耐久後においてもＲｈ粒子の高い触媒活性を保つことができる。 In a preferred aspect of the exhaust gas purifying catalyst disclosed herein, the zirconia granular carrier and the silica particles are provided separately in the upper layer, and are grasped by observation with a scanning electron microscope (SEM). More than 50% by number of the silica particles in the upper layer are arranged in contact with the zirconia granular carrier. When the zirconia granular carrier and the silica particles are dissolved (composited), the interaction between the zirconia granular carrier and the Rh particles is weakened, so that Rh sintering may occur when exposed to high temperatures. There is. On the other hand, according to the said structure, since a zirconia granular support | carrier and a silica particle are arrange | positioned as a different body, even if it exposes to high temperature, the sintering of Rh can be suppressed and high dispersion | distribution can be maintained. Further, when 50% by number or more of the silica particles are arranged in contact with the zirconia granular carrier, the sulfur component is hardly adsorbed on the zirconia granular carrier at the contact interface between the silica particles and the zirconia granular carrier. This effectively prevents S poisoning of the Rh particles present at the contact interface, and the high catalytic activity of the Rh particles can be maintained even after the endurance of the catalyst.
好ましくは、前記シリカ粒子のレーザ散乱法に基づく平均粒子径が、前記ジルコニア粒状担体のレーザ散乱法に基づく平均粒子径よりも小さい。かかる構成によると、シリカ粒子とジルコニア粒状担体とを物理的に混合した際に、粒径の大きなジルコニア粒状担体の周囲が粒径の小さなシリカ粒子によって囲まれる。その結果、ジルコニア粒状担体とシリカ粒子との接触点数（配位数）が増大し、硫黄成分がジルコニア粒状担体により吸着されにくくなるため、Ｒｈ粒子のＳ被毒がさらに効果的に防止される。したがって、より良好な浄化性能を確実に発揮することができる。 Preferably, the average particle diameter based on the laser scattering method of the silica particles is smaller than the average particle diameter based on the laser scattering method of the zirconia granular carrier. According to such a configuration, when the silica particles and the zirconia granular carrier are physically mixed, the periphery of the zirconia granular carrier having a large particle diameter is surrounded by the silica particles having a small particle diameter. As a result, the number of contact points (coordination number) between the zirconia granular carrier and the silica particles increases, and the sulfur component becomes difficult to be adsorbed by the zirconia granular carrier, so that S poisoning of Rh particles can be more effectively prevented. Therefore, it is possible to reliably exhibit better purification performance.
ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい一態様では、前記上層において前記Ｒｈ粒子と前記ジルコニア粒状担体と前記シリカ粒子との合計を１００質量％としたときの前記Ｒｈ粒子の含有率が、０．１質量％〜３質量％である。Ｒｈ粒子の含有率が上記範囲であると、Ｒｈ粒子による十分な触媒効果が得られるとともに、コスト面で過度な負担がないため望ましい。 In a preferred embodiment of the exhaust gas purifying catalyst disclosed herein, the content of the Rh particles when the total of the Rh particles, the zirconia granular carrier and the silica particles in the upper layer is 100% by mass is 0. .1% by mass to 3% by mass. It is desirable for the content of Rh particles to be in the above range because a sufficient catalytic effect can be obtained with Rh particles and there is no excessive burden in terms of cost.
以下、本発明の好適な実施形態を図面に基づいて説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本発明の実施に必要な事柄（例えば排ガス浄化用触媒の自動車における配置に関するような一般的事項）は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. Note that matters other than the matters specifically mentioned in the present specification and necessary for the implementation of the present invention (for example, general matters relating to the arrangement of the exhaust gas purifying catalyst in an automobile) are the prior art in this field. It can be grasped as a design matter of those skilled in the art based on the above. The present invention can be carried out based on the contents disclosed in this specification and common technical knowledge in the field.
ここで開示される排ガス浄化用触媒は、基材と、該基材の表面に形成された多孔質担体からなる触媒コート層と、該触媒コート層の多孔質担体に担持された貴金属触媒とからなり、上記触媒コート層は積層構造に形成されている。 The exhaust gas-purifying catalyst disclosed herein includes a base material, a catalyst coat layer formed of a porous support formed on the surface of the base material, and a noble metal catalyst supported on the porous support of the catalyst coat layer. Thus, the catalyst coat layer is formed in a laminated structure.
ここで開示される排ガス浄化用触媒を構成する上記基材としては、従来のこの種の用途に用いられる種々の素材及び形態のものが使用可能である。例えば、コージェライト、炭化ケイ素（ＳｉＣ）等のセラミックスまたは合金（ステンレス等）から形成されたハニカム構造を備えるハニカム基材などを好適に採用することができる。一例として外形が円筒形状であるハニカム基材であって、その筒軸方向に排ガス通路としての貫通孔（セル）が設けられ、各セルを仕切る隔壁（リブ壁）に排ガスが接触可能となっているものが挙げられる。基材の形状はハニカム形状の他にフォーム形状、ペレット形状などとすることができる。また基材全体の外形については、円筒形に代えて、楕円筒形、多角筒形を採用してもよい。 As the base material constituting the exhaust gas purifying catalyst disclosed herein, various materials and forms used for this kind of conventional applications can be used. For example, a honeycomb substrate having a honeycomb structure formed of a cordierite, ceramics such as silicon carbide (SiC), or an alloy (such as stainless steel) can be suitably used. As an example, a honeycomb base material having a cylindrical outer shape is provided with through holes (cells) as exhaust gas passages in the cylinder axis direction so that exhaust gas can contact partition walls (rib walls) that partition each cell. The thing that is. The shape of the substrate may be a foam shape, a pellet shape, etc. in addition to the honeycomb shape. Moreover, about the external shape of the whole base material, it may replace with a cylindrical shape and may employ | adopt an elliptical cylindrical shape and a polygonal cylindrical shape.
図１は排ガス浄化用触媒の一典型例の模式図である。本実施形態に係る排ガス浄化用触媒１００は、複数の規則的に配列されたセル１２と、該セル１２を構成するリブ壁１４を有するハニカム基材１０を備える。
FIG. 1 is a schematic view of a typical example of an exhaust gas purifying catalyst. The exhaust
図２は、図１のハニカム基材１０におけるリブ壁１４の表面部分の構成を模式的に示す図である。リブ壁１４は、基材２０と、その表面に形成された二層構造の触媒コート層３０を備えている。二層構造の触媒コート層３０は、基材２０側に近い方であって貴金属触媒としてＰｄ粒子が担持されている下層５０（以下、「Ｐｄ触媒層５０」ともいう。）と、基材２０から遠い方であって貴金属触媒としてＲｈ粒子が担持されている上層４０（以下、「Ｒｈ触媒層４０」ともいう。）とから構成されている。
FIG. 2 is a diagram schematically showing the configuration of the surface portion of the
＜Ｒｈ触媒層＞
上記触媒コート層の上層であるＲｈ触媒層４０は、図３に示すように、貴金属触媒としてＲｈ粒子４２と、Ｒｈ粒子４２が担持されたジルコニア粒状担体４４と、Ｒｈ粒子４２が担持されていないシリカ粒子４６とを含んでいる。ここに開示される技術では、Ｒｈ粒子４２は、シリカ粒子４６に担持されておらず、ジルコニア粒状担体４４に選択的に担持されている。また、ジルコニア粒状担体４４とシリカ粒子４６とは相互に固溶（複合化）しておらず、それぞれ独立した粒子として存在し、且つ両者が密接して混在・共存する状態で配置されている。
<Rh catalyst layer>
As shown in FIG. 3, the
このようにジルコニア粒状担体４４とシリカ粒子４６とがそれぞれ独立した粒子として存在し且つ両者が密接して混在・共存する状態で配置されることにより、ジルコニア粒状担体４４に担持されたＲｈ粒子４２のＳ被毒が効果的に抑制される。そのため、触媒耐久後においてもＲｈ粒子の高い触媒活性が発現し、排ガス中のＮＯｘを良好に還元浄化することができる。さらに、上記シリカ粒子の存在によりＳ被毒耐性が向上したＲｈ触媒層を上層に配置し、Ｓ被毒に比較的弱いＰｄ触媒層を下層に配置することにより、排ガス中のＳＯｘ等の硫黄成分が下層側のＰｄ触媒層内を拡散し難くなる。そのため、Ｐｄ触媒層においてもＰｄ粒子のＳ被毒が有効に抑制され、触媒耐久後においてもＰｄ粒子の高い触媒活性が発現し、排ガス中のＣＯやＨＣを良好に酸化浄化することができる。したがって、本構成によると、従来に比して、上下二層のＳ被毒耐性がバランスよく向上し、浄化性能に優れた最適な排ガス浄化用触媒を提供することができる。
In this way, the zirconia
＜シリカ粒子の含有率＞
Ｒｈ触媒層４０において、Ｒｈ粒子とジルコニア粒状担体とシリカ粒子との合計を１００質量％としたときのシリカ粒子の含有率は、概ね５０質量％以上が適当であり、好ましくは６０質量％以上であり、特に好ましくは７０質量％以上である。シリカ粒子の含有率が少なすぎると、上述したＳ被毒耐性向上効果が十分に得られないことがある。その一方、上記シリカ粒子の含有率が多すぎるＲｈ触媒層は、ジルコニア粒状担体の含有率が相対的に低下して担持可能なＲｈ粒子の量が減るため、Ｒｈ粒子により得られる触媒活性が不十分となり、排ガス浄化用触媒の浄化性能が低下傾向になることがある。ジルコニア粒状担体に適量のＲｈ粒子を担持させる観点からは、シリカ粒子の含有率は９０質量％以下にすることが好ましい。例えば、シリカ粒子の含有率が５０質量％以上９０質量％以下（好ましくは５０質量％以上８０質量％以下、さらに好ましくは６０質量％以上７５質量％以下）のＲｈ触媒層が、Ｓ被毒耐性向上効果と高い触媒活性とを両立するという観点から適当である。
<Content of silica particles>
In the
なお、本発明を実施する上で、ここに開示される排ガス浄化用触媒１００において、ジルコニア粒状担体４４とシリカ粒子４６とを密接して混在・共存する状態で配置することにより、Ｒｈ粒子４２のＳ被毒が抑制される機構について解明する必要はないが、以下のようなことが考えられる。すなわち、シリカ粒子４６は酸性酸化物であり、ジルコニア粒状担体４４に比べて硫黄成分を吸着しにくい性質がある。かかるシリカ粒子４６とジルコニア粒状担体４４とを密接して混在・共存する状態で配置する（典型的にはシリカ粒子の５０個数％以上がジルコニア粒状担体と接触している状態で配置する）ことにより、シリカ粒子４６とジルコニア粒状担体４４との接触界面において硫黄成分がジルコニア粒状担体４４に吸着されにくくなる。その結果、ジルコニア粒状担体４４に担持されているＲｈ粒子４２と硫黄成分とが接触する機会が減少し、Ｒｈ粒子４２へのＳ被毒が抑制されるものと考えられる。
In carrying out the present invention, in the exhaust
なお、ジルコニア粒状担体４４にＲｈ粒子４２を担持させた排ガス浄化用触媒１００においてＲｈ粒子４２のＳ被毒を抑制する他の手法として、ジルコニア粒状担体にシリカを固溶（複合化）させたり、ジルコニア粒状担体の表面をシリカで被覆したりすることも考えられる。しかし、かかる技術では、多孔質担体としてジルコニア粒状担体を用いることの利点（例えばシンタリング抑制効果）が損なわれやすくなることに加えて、ジルコニア粒状担体にシリカを固溶させる（あるいはジルコニア粒状担体の表面をシリカで被覆する）必要があるため、製造プロセスが煩雑になる。これに対し、本実施形態では、ジルコニア粒状担体とシリカとを固溶（複合化）することなく両者を別体として配置しているので、多孔質担体としてジルコニア粒状担体を用いることの利点（例えばシンタリング抑制効果）をよりよく活かしつつＳ被毒耐性を高めることができ、技術的価値が高い。しかも、ジルコニア粒状担体とシリカ粒子とを物理的に混合するだけでよく、排ガス浄化用触媒の調製が容易であり、品質の安定化に有利である。
As another method for suppressing S poisoning of the
＜ジルコニア粒状担体＞
ここで開示される排ガス浄化用触媒１００の上層を構成するＲｈ触媒層４０の担体は、少なくともジルコニアを含むジルコニア粒状担体により構成されている。かかるジルコニア粒状担体は、ジルコニア（ＺｒＯ２）またはジルコニアを主成分とするものであればよく、例えばジルコニアの含有量が担体全体に対して５０質量％以上である限りにおいて、ジルコニア以外の成分を含み得る。例えば、機械強度の増加、耐久性（熱安定性）の向上、触媒のシンタリング抑制、又は触媒の被毒防止などを目的として、アルカリ土類金属元素（又は、アルカリ土類金属酸化物）、希土類元素（又は、希土類酸化物）、チタニア、セリアなどから選択される一種又は複数の元素または酸化物を含み得る。アルカリ土類金属元素としては、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、等が例示される。希土類金属元素としては、ランタン（Ｌａ）、スカンジウム（Ｓｃ）、イットリウム（Ｙ）、セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム（Ｐｒ）、ネオジム（Ｎｄ）、サマリウム（Ｓｍ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、等が例示される。これらの二種以上を併用してもよい。中でもセリアを含有する（典型的にはセリア−ジルコニア複合酸化物からなるジルコニア粒状担体）か、実質的にジルコニア成分のみからなるジルコニア粒状担体の使用が好ましい。このようなジルコニア粒状担体は、シリカ等の酸性担体に比べて、Ｒｈ粒子を高分散に担持できる点で好ましい。また、高温に晒されたときにＲｈ粒子のシンタリング（粒成長）を適切に抑制できる点で好ましい。
<Zirconia granular carrier>
The carrier of the
＜ジルコニア粒状担体の粒径＞
上記ジルコニア粒状担体の形状（外形）は特に制限されないが、より大きい比表面積を確保できるという観点から、粉末状のものが好ましく用いられる。例えば、ジルコニア粒状担体の平均粒子径（レーザ回折・散乱法により測定される平均粒子径、もしくはＳＥＭまたはＴＥＭ観察に基づく平均粒子径。以下同じ。）は、８μｍ以下（例えば４μｍ〜７μｍ）が好ましい。上記ジルコニア粒状担体の平均粒径が大きすぎる場合は、該ジルコニア粒状担体に担持されたロジウムの分散性が低下する傾向があり、触媒の浄化性能が低下するため好ましくない。一方、ジルコニア粒状担体の平均粒径が小さすぎると、該ジルコニア粒状担体からなる担体自体の耐熱性が低下するため、触媒の耐熱特性が低下し、好ましくない。したがって、通常は平均粒子径が凡そ３μｍ以上（例えば４μｍ以上）のジルコニア粒状担体を用いることが好ましい。上記ジルコニア粒状担体の比表面積（ＢＥＴ法により測定される比表面積。以下同じ。）は２０ｍ２／ｇ〜１５０ｍ２／ｇが好ましく、４０ｍ２／ｇ〜１００ｍ２／ｇがより好ましい。かかるジルコニア粒状担体は、例えば、従来公知の共沈法、ゾルゲル法、水熱合成法などにより調製される粒状物質を使用することができる。
<Particle size of zirconia granular carrier>
The shape (outer shape) of the zirconia granular carrier is not particularly limited, but a powdery one is preferably used from the viewpoint of securing a larger specific surface area. For example, the average particle size of the zirconia granular carrier (average particle size measured by laser diffraction / scattering method, or average particle size based on SEM or TEM observation; the same applies hereinafter) is preferably 8 μm or less (for example, 4 μm to 7 μm). . When the average particle size of the zirconia granular carrier is too large, the dispersibility of rhodium supported on the zirconia granular carrier tends to be lowered, and the purification performance of the catalyst is lowered. On the other hand, if the average particle size of the zirconia granular carrier is too small, the heat resistance of the carrier itself composed of the zirconia granular carrier is lowered, which is not preferable because the heat resistance characteristics of the catalyst are lowered. Therefore, it is usually preferable to use a zirconia granular carrier having an average particle diameter of about 3 μm or more (for example, 4 μm or more). The specific surface area of the zirconia particulate support (specific surface area as measured by BET method. Hereinafter the same.) Is preferably 20m 2 / g~150m 2 / g,
＜Ｒｈ粒子の担持率＞
Ｒｈ粒子とジルコニア粒状担体とシリカ粒子との合計を１００質量％としたときのＲｈ粒子の含有率は、通常は０．１質量％〜３質量％であることが適当であり、例えば０．１質量％〜１．５質量％であることが好ましい。上記Ｒｈ粒子の担持量が少なすぎると、Ｒｈ粒子により得られる触媒活性が不十分となり、他方、Ｒｈ粒子の担持量が多すぎると、Ｒｈ粒子が粒成長を起こしやすくなると同時にコスト面でも不利である。
<Rh particle loading>
The content of the Rh particles when the total of the Rh particles, the zirconia granular carrier, and the silica particles is 100% by mass is usually 0.1% by mass to 3% by mass. It is preferable that it is mass%-1.5 mass%. If the loading amount of the Rh particles is too small, the catalytic activity obtained by the Rh particles becomes insufficient. On the other hand, if the loading amount of the Rh particles is too large, the Rh particles are liable to cause grain growth and at the same time are disadvantageous in terms of cost. is there.
上記ジルコニア粒状担体にＲｈ粒子を担持させる方法としては特に制限されない。例えばロジウム塩（例えば硝酸塩）やロジウム錯体（例えば、テトラアンミン錯体）を含有する水溶液（Ｒｈ薬液）に上記Ｚｒ担体を含浸させた後、乾燥させ、焼成することにより調製することができる。 The method for supporting Rh particles on the zirconia granular carrier is not particularly limited. For example, it can be prepared by impregnating the Zr carrier with an aqueous solution (Rh chemical solution) containing a rhodium salt (for example, nitrate) or a rhodium complex (for example, a tetraammine complex), followed by drying and baking.
＜シリカ粒子＞
ここで開示されるＲｈ触媒層４０には、上述したＲｈ粒子４２が担持されたジルコニア粒状担体４４のほか、シリカ粒子４６が含有される。シリカ粒子４６としては、非結晶性シリカであるか、あるいは結晶性が高い結晶性シリカを包含しているかを問わずに使用することができる。かかるシリカ粒子４６とジルコニア粒状担体４４との混合は、例えば、自動乳鉢等で物理的に混合することにより行うとよい。これにより、図３に示すように、ジルコニア粒状担体４４とシリカ粒子４６とがそれぞれ相互に独立した粒子として存在し且つ両者が密接して混在・共存する状態で配置され得る。以下、この状態を〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕ＳｉＯ２と表示する。
<Silica particles>
The
＜シリカ粒子の粒径＞
上記シリカ粒子４６のレーザ散乱法に基づく平均粒子径は、ジルコニア粒状担体４４のレーザ散乱法に基づく平均粒子径より小さいことが好ましい。例えば、平均粒子径が凡そ６μｍ以下（例えば３μｍ〜５μｍ）のシリカ粒子の使用が好ましく、より好ましくは凡そ４μｍ以下である。かかる構成によると、ジルコニア粒状担体とシリカ粒子とを物理的混合した際に、粒径の大きなジルコニア粒状担体４４の周囲が粒径の小さなシリカ粒子４６によって囲まれる。その結果、ジルコニア粒状担体４４とシリカ粒子４６との接触点数（シリカ粒子４６の配位数）が増大し、硫黄成分がジルコニア粒状担体４４により吸着されにくくなる。このことにより、上記接触界面に存在するＲｈ粒子のＳ被毒が効果的に防止され、触媒耐久後においてもＲｈ粒子の高い触媒活性を保つことができる。かかるシリカ粒子は、例えば、従来公知の共沈法、ゾルゲル法、水熱合成法などにより調製される粒状物質を使用することができる。
<Silica particle size>
The average particle diameter of the
＜Ｐｄ触媒層＞
次に、ここで開示される排ガス浄化用触媒１００の下層を構成するＰｄ触媒層５０について説明する。
<Pd catalyst layer>
Next, the
Ｐｄ触媒層５０の担体としては、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、セリア（ＣｅＯ２）、ジルコニア（ＺｒＯ２）、これらの固溶体または複合酸化物など、従来この種の担体として用いられている物質を含有することができる。好ましい一態様では、Ｐｄ触媒層５０の担体は、前記排ガス浄化用触媒の上層を構成するＲｈ触媒層４０と同様のものから構成されている。即ち、Ｐｄ触媒層５０は、Ｐｄ粒子が担持された多孔質担体として少なくともジルコニアを含むジルコニア粒状担体を含み得る。ジルコニア粒状担体は、シリカ等の酸性担体に比べて、Ｐｄ粒子を高分散に担持できる点で好ましい。また、高温に晒されたときにＰｄ粒子のシンタリング（粒成長）を適切に抑制できる点で好ましい。本実施形態で利用可能なジルコニア粒状担体のうち、特に好適なものについては、前記Ｒｈ触媒層と同等であるため、その詳細な説明は省略する。
As the support of the
また、ここに開示される好ましい技術では、Ｐｄ触媒層５０は、上述したＰｄ粒子が担持されたジルコニア粒状担体のほか、シリカ粒子を含み得る。すなわち、好ましい一態様では、Ｐｄ触媒層５０は、貴金属触媒としてのＰｄ粒子と、Ｐｄ粒子が担持されたジルコニア粒状担体と、Ｐｄ粒子が担持されていないシリカ粒子とを含んでいる。シリカ粒子は、前記排ガス浄化用触媒の上層を構成するＲｈ触媒層４０と同様のものから構成するとよい。下層のＰｄ触媒層５０にもシリカ粒子を含有させることにより、Ｐｄ粒子のＳ被毒をさらに効果的に抑制することができ、上述した効果と相俟って、より高い浄化性能を確実に発揮することができる。好ましくは、Ｐｄ粒子は、シリカ粒子に担持されておらず、ジルコニア粒状担体に選択的に担持されている。また、好ましくは、ジルコニア粒状担体とシリカ粒子とは相互に固溶（複合化）しておらず、それぞれ独立した粒子として存在し、且つ両者が密接して混在・共存する状態で配置されている。
In the preferred technique disclosed herein, the
ここで開示される排ガス浄化用触媒１００の下層を構成するＰｄ触媒層５０において、Ｐｄ粒子とジルコニア粒状担体とシリカ粒子との合計を１００質量％としたときのシリカ粒子の含有率は、概ね５質量％以上であり、好ましくは２５質量％以上である。シリカ粒子の含有率が少なすぎると、上述したＳ被毒耐性向上効果が十分に得られないことがある。その一方、上記シリカ粒子の含有率が多すぎるＰｄ触媒層は、ジルコニア粒状担体の含有率が相対的に低下して担持可能なＰｄ粒子の量が減るため、Ｐｄ粒子により得られる触媒活性が不十分となり、排ガス浄化用触媒の浄化性能が低下傾向になることがある。ジルコニア粒状担体に適量のＰｄ粒子を担持させる観点からは、シリカ粒子の含有率は５０質量％未満にすることが好ましい。例えば、シリカ粒子の含有率が５質量％以上５０質量％未満（好ましくは１０質量％以上５０質量％未満、さらに好ましくは２５質量％以上５０質量％未満）のＰｄ触媒層が、Ｓ被毒耐性向上効果と高い触媒活性とを両立するという観点から適当である。
In the
ここに開示される排ガス浄化用触媒の好ましい一態様では、上層（Ｒｈ触媒層）４０の厚さ（平均厚さをいい、より好ましくは上層全体の８０％以上（特には９０％以上）が当該範囲内にあることをいう。以下同じ。）が、１０μｍ以上６０μｍ以下、好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。また、下層（Ｐｄ触媒層）５０の厚さが、１０μｍ以上８０μｍ以下、好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。 In a preferred embodiment of the exhaust gas-purifying catalyst disclosed herein, the thickness (mean thickness) of the upper layer (Rh catalyst layer) 40 is more preferably 80% or more (particularly 90% or more) of the entire upper layer. It is within the range. The same shall apply hereinafter.) Is from 10 μm to 60 μm, preferably from 30 μm to 60 μm. Further, the thickness of the lower layer (Pd catalyst layer) 50 is 10 μm or more and 80 μm or less, preferably 30 μm or more and 60 μm or less.
次に、本実施形態に係る触媒コート層３０の形成方法について説明する。
Next, a method for forming the
触媒コート層３０は、ジルコニア粒状担体にＰｄ粒子を担持してなる粉末とシリカ粉末とを含むスラリーを基材２０の表面にウォッシュコートすることによりＰｄ触媒層（下層）５０を形成し、さらにジルコニア粒状担体にＲｈ粒子を担持してなる粉末とシリカ粉末とを含むスラリーをＰｄ触媒層５０の表面にウォッシュコートすることによりＲｈ触媒層（上層）４０を形成するとよい。
The
触媒コート層３０をウォッシュコートにより形成するプロセスにおいて、基材２０の表面、あるいは下層のＰｄ触媒層５０の表面にスラリーを適当に密着させるため、スラリーにはバインダーを含有させることが好ましい。バインダーとしては、例えばアルミナゾル、シリカゾル等の使用が好ましい。スラリーの粘度は、該スラリーが基材（例えばハニカム基材１０）のセル１２内へ容易に流入し得るように適宜調整するとよい。また、上記スラリーには、担体の熱安定性を高めるため、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を添加することができる。このとき、Ａｌ２Ｏ３はスラリーの体積１Ｌ当たり１５ｇ〜５０ｇとすることが好ましい。
In the process of forming the
基材２０の表面にウォッシュコートされたスラリーの乾燥条件は基材または担体の形状及び寸法により左右されるが、典型的には８０〜１２０℃程度（例えば１００〜１１０℃）で１〜１０時間程度であり、焼成条件は、約４００〜１０００℃程度（例えば５００〜７００℃）で約２〜４時間程度である。
The drying condition of the slurry coated on the surface of the
触媒コート層３０の成形量は特に制限されないが、例えば、Ｒｈ触媒層４０とＰｄ触媒層５０との合計量がハニカム基材の体積１Ｌ当たり５〜５００ｇ程度であることが好ましい。ハニカム基材の体積１Ｌ当たりの触媒コート層３０の量が５ｇよりも少なすぎる場合は、触媒コート層としての機能が弱く、担持されている貴金属粒子の粒成長を招く虞がある。また、触媒コート層３０の量が５００ｇを超えると、ハニカム基材１０のセル１２内を排気ガスが通過する際の圧力損失の上昇を招く。
The molding amount of the
なお、触媒コート層３０の積層構造は、上層として上述したようなＲｈ触媒層４０があり、下層として上述したようなＰｄ触媒層５０があればよく、当該二つの層に加えて他の層（例えば基材に近接した別の層）を有する３層以上の積層構造であってもよい。
In addition, the laminated structure of the
以下、本発明に関する試験例を説明するが、本発明を以下の試験例に示すものに限定することを意図したものではない。 Hereinafter, although the test example regarding this invention is demonstrated, it is not intending to limit this invention to what is shown to the following test examples.
≪試験例１：Ｒｈ触媒層（上層）の性能評価≫
以下の試験例では、本発明によって提供される排ガス浄化用触媒が備えるＲｈ触媒層（上層）の性能評価を主な目的とするため、Ｐｄ触媒層（下層）を具備しないＲｈ触媒層のみから構成された供試体を作製し、その性能評価を行った。ここでは下記原料を種々に組み合わせて、例１〜８の供試体（触媒サンプル）を以下の手順および条件により作製した。
<< Test Example 1: Performance evaluation of Rh catalyst layer (upper layer) >>
In the following test examples, since the main purpose is to evaluate the performance of the Rh catalyst layer (upper layer) provided in the exhaust gas purifying catalyst provided by the present invention, it is composed only of the Rh catalyst layer not including the Pd catalyst layer (lower layer). The prepared specimen was prepared and its performance was evaluated. Here, the specimens (catalyst samples) of Examples 1 to 8 were produced by the following procedures and conditions in various combinations of the following raw materials.
＜使用原料＞
原料１：ＳｉＯ２粉末 「ナノテックＳｉＯ２」（シーアイ化成製）
原料２：ＺｒＯ２粉末 「ＲＣ１００」（第１稀元素製）
原料３：ＳｉＺｒＯ４粉末 「珪酸ジルコニウム」（ナカライテスク製）
なお、使用したＳｉＯ２粉末の平均粒子径は４μｍ、ＺｒＯ２粉末の平均粒子径は６μｍ、ＳｉＺｒＯ４粉末の平均粒子径は６μｍである。上記原料粉末の粒径は、ミリング処理により調整した。
<Raw materials>
Raw material 1: SiO 2 powder “Nanotech SiO 2 ” (Ci Kasei)
Raw material 2: ZrO 2 powder “RC100” (manufactured by 1st rare element)
Raw material 3: SiZrO 4 powder “Zirconium silicate” (manufactured by Nacalai Tesque)
The SiO 2 powder used has an average particle size of 4 μm, the ZrO 2 powder has an average particle size of 6 μm, and the SiZrO 4 powder has an average particle size of 6 μm. The particle size of the raw material powder was adjusted by milling treatment.
＜例１＞：５０ｗｔ％〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕＋５０ｗｔ％ＺｒＯ２
蒸発乾固法により、ロジウム含有量２．７５質量％の硝酸ロジウム水溶液（キャタラー製）から原料２（ＺｒＯ２粉末）へＲｈを担持した。すなわち、原料２（ＺｒＯ２粉末）を上記硝酸ロジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５時間の焼成を行い、Ｒｈ／ＺｒＯ２を得た。得られたＲｈ／ＺｒＯ２粉末１５ｇに対して、原料２（ＺｒＯ２粉末）１５ｇを混合し、自動乳鉢で１時間混合した。なお、Ｒｈの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例１の触媒サンプルとした。
<Example 1>: 50 wt% [Rh / ZrO 2 ] +50 wt% ZrO 2
By evaporation to dryness, Rh was supported on the raw material 2 (ZrO 2 powder) from a rhodium nitrate aqueous solution (manufactured by Cataler) having a rhodium content of 2.75% by mass. That is, the raw material 2 (ZrO 2 powder) was impregnated with the above rhodium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired in an electric furnace at 600 ° C. for 5 hours to obtain Rh / ZrO 2 . 15 g of raw material 2 (ZrO 2 powder) was mixed with 15 g of the obtained Rh / ZrO 2 powder and mixed for 1 hour in an automatic mortar. The loading amount of Rh was adjusted to 0.5% by mass with respect to the whole powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder with CIP to form a pellet of about 1 mm square to obtain a catalyst sample of Example 1.
＜例２＞：９５ｗｔ％〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕＋５ｗｔ％ＳｉＯ２
蒸発乾固法により、ロジウム含有量２．７５質量％の硝酸ロジウム水溶液（キャタラー製）から原料２（ＺｒＯ２粉末）へＲｈを担持した。すなわち、原料２（ＺｒＯ２粉末）を上記硝酸ロジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５時間の焼成を行い、Ｒｈ／ＺｒＯ２を得た。得られたＲｈ／ＺｒＯ２粉末９５ｇに対して、原料１（ＳｉＯ２粉末）５ｇを混合し、自動乳鉢で１時間混合した。なお、Ｒｈの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例２の触媒サンプルとした。
<Example 2>: 95 wt% [Rh / ZrO 2 ] +5 wt% SiO 2
By evaporation to dryness, Rh was supported on the raw material 2 (ZrO 2 powder) from a rhodium nitrate aqueous solution (manufactured by Cataler) having a rhodium content of 2.75% by mass. That is, the raw material 2 (ZrO 2 powder) was impregnated with the above rhodium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired in an electric furnace at 600 ° C. for 5 hours to obtain Rh / ZrO 2 . 5 g of raw material 1 (SiO 2 powder) was mixed with 95 g of the obtained Rh / ZrO 2 powder and mixed for 1 hour in an automatic mortar. The loading amount of Rh was adjusted to 0.5% by mass with respect to the whole powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder with CIP to form a pellet of about 1 mm square to obtain a catalyst sample of Example 2.
＜例３＞：７５ｗｔ％〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕＋２５ｗｔ％ＳｉＯ２
蒸発乾固法により、ロジウム含有量２．７５質量％の硝酸ロジウム水溶液（キャタラー製）から原料２（ＺｒＯ２粉末）へＲｈを担持した。すなわち、原料２（ＺｒＯ２粉末）を上記硝酸ロジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５時間の焼成を行い、Ｒｈ／ＺｒＯ２を得た。得られたＲｈ／ＺｒＯ２粉末７５ｇに対して、原料１（ＳｉＯ２粉末）２５ｇを混合し、自動乳鉢で１ｈ混合した。なお、Ｒｈの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例３の触媒サンプルとした。
<Example 3>: 75 wt% [Rh / ZrO 2 ] +25 wt% SiO 2
By evaporation to dryness, Rh was supported on the raw material 2 (ZrO 2 powder) from a rhodium nitrate aqueous solution (manufactured by Cataler) having a rhodium content of 2.75% by mass. That is, the raw material 2 (ZrO 2 powder) was impregnated with the above rhodium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired in an electric furnace at 600 ° C. for 5 hours to obtain Rh / ZrO 2 . 25 g of raw material 1 (SiO 2 powder) was mixed with 75 g of the obtained Rh / ZrO 2 powder, and mixed for 1 h in an automatic mortar. The loading amount of Rh was adjusted to 0.5% by mass with respect to the whole powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder by CIP to form a pellet of about 1 mm square to obtain a catalyst sample of Example 3.
＜例４＞：５０ｗｔ％〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕＋５０ｗｔ％ＳｉＯ２
蒸発乾固法により、ロジウム含有量２．７５質量％の硝酸ロジウム水溶液（キャタラー製）から原料２（ＺｒＯ２粉末）へＲｈを担持した。すなわち、原料２（ＺｒＯ２粉末）を上記硝酸ロジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５ｈの焼成を行い、Ｒｈ／ＺｒＯ２を得た。得られたＲｈ／ＺｒＯ２粉末５０ｇに対して、原料１（ＳｉＯ２粉末）５０ｇを混合し、自動乳鉢で１ｈ混合した。なお、Ｒｈの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例４の触媒サンプルとした。
<Example 4>: 50 wt% [Rh / ZrO 2 ] +50 wt% SiO 2
By evaporation to dryness, Rh was supported on the raw material 2 (ZrO 2 powder) from a rhodium nitrate aqueous solution (manufactured by Cataler) having a rhodium content of 2.75% by mass. That is, the raw material 2 (ZrO 2 powder) was impregnated with the above rhodium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired at 600 ° C. × 5 h in an electric furnace to obtain Rh / ZrO 2 . 50 g of raw material 1 (SiO 2 powder) was mixed with 50 g of the obtained Rh / ZrO 2 powder and mixed for 1 h in an automatic mortar. The loading amount of Rh was adjusted to 0.5% by mass with respect to the whole powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder by CIP to form a pellet of about 1 mm square, and a catalyst sample of Example 4 was obtained.
＜例５＞：２５ｗｔ％〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕＋７５ｗｔ％ＳｉＯ２
蒸発乾固法により、ロジウム含有量２．７５質量％の硝酸ロジウム水溶液（キャタラー製）から原料２（ＺｒＯ２粉末）へＲｈを担持した。すなわち、原料２（ＺｒＯ２粉末）を上記硝酸ロジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５ｈの焼成を行い、Ｒｈ／ＺｒＯ２を得た。得られたＲｈ／ＺｒＯ２粉末２５ｇに対して、原料１（ＳｉＯ２粉末）７５ｇを混合し、自動乳鉢で１ｈ混合した。なお、Ｒｈの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末に、ＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例５の触媒サンプルとした。
<Example 5>: 25 wt% [Rh / ZrO 2 ] +75 wt% SiO 2
By evaporation to dryness, Rh was supported on the raw material 2 (ZrO 2 powder) from a rhodium nitrate aqueous solution (manufactured by Cataler) having a rhodium content of 2.75% by mass. That is, the raw material 2 (ZrO 2 powder) was impregnated with the above rhodium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired at 600 ° C. × 5 h in an electric furnace to obtain Rh / ZrO 2 . 75 g of raw material 1 (SiO 2 powder) was mixed with 25 g of the obtained Rh / ZrO 2 powder and mixed for 1 h in an automatic mortar. The loading amount of Rh was adjusted to 0.5% by mass with respect to the whole powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder by CIP to form a pellet of about 1 mm square, and a catalyst sample of Example 5 was obtained.
＜例６＞：５０ｗｔ％〔Ｒｈ／ＳｉＯ２〕＋５０ｗｔ％ＳｉＯ２
蒸発乾固法により、ロジウム含有量２．７５質量％の硝酸ロジウム水溶液（キャタラー製）から原料１（ＳｉＯ２粉末）へＲｈを担持した。すなわち、原料１（ＳｉＯ２粉末）を上記硝酸ロジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５ｈの焼成を行い、Ｒｈ／ＳｉＯ２を得た。得られたＲｈ／ＳｉＯ２粉末５０ｇに対して、原料１（ＳｉＯ２粉末）５０ｇを混合し、自動乳鉢で１ｈ混合した。なお、Ｒｈの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例６の触媒サンプルとした。
<Example 6>: 50 wt% [Rh / SiO 2 ] +50 wt% SiO 2
By evaporation to dryness, Rh was supported on the raw material 1 (SiO 2 powder) from a rhodium nitrate aqueous solution (produced by Cataler) having a rhodium content of 2.75% by mass. That is, the raw material 1 (SiO 2 powder) was impregnated with the above rhodium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired at 600 ° C. × 5 h in an electric furnace to obtain Rh / SiO 2 . 50 g of raw material 1 (SiO 2 powder) was mixed with 50 g of the obtained Rh / SiO 2 powder, and mixed for 1 h in an automatic mortar. The loading amount of Rh was adjusted to 0.5% by mass with respect to the whole powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder by CIP to form a pellet of about 1 mm square to obtain a catalyst sample of Example 6.
＜例７＞：５０ｗｔ％〔Ｒｈ／ＳｉＯ２〕＋５０ｗｔ％ＺｒＯ２
蒸発乾固法により、ロジウム含有量２．７５質量％の硝酸ロジウム水溶液（キャタラー製）から原料１（ＳｉＯ２粉末）へＲｈを担持した。すなわち、原料１（ＳｉＯ２粉末）を上記硝酸ロジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５ｈの焼成を行い、Ｒｈ／ＳｉＯ２を得た。得られたＲｈ／ＳｉＯ２粉末５０ｇに対して、原料２（ＺｒＯ２粉末）５０ｇを混合し、自動乳鉢で１ｈ混合した。なお、Ｒｈの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例７の触媒サンプルとした。
<Example 7>: 50 wt% [Rh / SiO 2 ] +50 wt% ZrO 2
By evaporation to dryness, Rh was supported on the raw material 1 (SiO 2 powder) from a rhodium nitrate aqueous solution (manufactured by Cataler) having a rhodium content of 2.75% by mass. That is, the raw material 1 (SiO 2 powder) was impregnated with the above rhodium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired at 600 ° C. × 5 h in an electric furnace to obtain Rh / SiO 2 . 50 g of raw material 2 (ZrO 2 powder) was mixed with 50 g of the obtained Rh / SiO 2 powder, and mixed for 1 h in an automatic mortar. The loading amount of Rh was adjusted to 0.5% by mass with respect to the whole powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder with CIP to form a pellet of about 1 mm square to obtain a catalyst sample of Example 7.
＜例８＞：〔Ｒｈ／ＳｉＺｒＯ４〕
蒸発乾固法により、ロジウム含有量２．７５質量％の硝酸ロジウム水溶液（キャタラー製）から原料３（ＳｉＺｒＯ４粉末）へＲｈを担持した。すなわち、原料３（ＳｉＺｒＯ４粉末）を上記硝酸ロジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５ｈの焼成を行い、Ｒｈ／ＳｉＺｒＯ４を得た。得られたＲｈ／ＳｉＯ２粉末を自動乳鉢で１ｈ混合した。なお、Ｒｈの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例８の触媒サンプルとした。
<Example 8>: [Rh / SiZrO 4 ]
By evaporation to dryness, Rh was supported on the raw material 3 (SiZrO 4 powder) from a rhodium nitrate aqueous solution (manufactured by Cataler) having a rhodium content of 2.75% by mass. That is, the raw material 3 (SiZrO 4 powder) was impregnated in the above rhodium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired at 600 ° C. × 5 h in an electric furnace to obtain Rh / SiZrO 4 . The obtained Rh / SiO 2 powder was mixed for 1 h in an automatic mortar. The loading amount of Rh was adjusted to 0.5% by mass with respect to the whole powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained powder by CIP to form a pellet of about 1 mm square, and a catalyst sample of Example 8 was obtained.
＜触媒活性評価＞
上記得られた例１〜８に係る触媒サンプルについて、Ｓ被毒の処理前、処理中、処理後に、それぞれ触媒活性を評価した。
（１）Ｓ被毒処理なし
調整した触媒サンプルのそれぞれについて、固定床本能装置を用いて、以下の条件でガスを触媒ペレットに流通させ、ＮＯｘ浄化率（触媒活性）を測定した。
触媒ペレット：３．０ｇ
床温度：４００℃
ガス流量：１５Ｌ／ｍｉｎ
ガス組成：０．１５％ＮＯ＋０．７％Ｏ２＋０．６５％ＣＯ＋０．１％Ｃ３Ｈ６＋１０％ＣＯ２＋３％Ｈ２Ｏ
すなわち、アンダーフロアー触媒の代表的な使用温度域である４００℃でのストイキ条件にて行った。
（２）Ｓ被毒処理中
上記（１）の評価条件にＳＯ２ガス５０ｐｐｍを導入し、ＳＯ２を含む反応ガスに触媒サンプルを１．５時間晒した時点の浄化率（触媒活性）を測定した。
（３）Ｓ被毒処理後
上記（２）の処理後、ＳＯ２ガスの導入を停止し、１０分後の浄化率（触媒活性）を測定した。ＳＯ２ガスの導入を停止したこと以外の条件は不変とした。
<Catalyst activity evaluation>
For the catalyst samples according to Examples 1 to 8 obtained above, the catalytic activity was evaluated before, during and after the treatment of S poisoning.
(1) No S poisoning treatment For each of the adjusted catalyst samples, using a fixed bed instinct apparatus, gas was passed through the catalyst pellets under the following conditions, and the NOx purification rate (catalytic activity) was measured.
Catalyst pellets: 3.0g
Floor temperature: 400 ° C
Gas flow rate: 15L / min
Gas composition: 0.15% NO + 0.7% O 2 + 0.65% CO + 0.1% C 3 H 6 + 10% CO 2 + 3% H 2 O
That is, it was carried out under stoichiometric conditions at 400 ° C., which is a typical operating temperature range of the underfloor catalyst.
(2) During S poisoning treatment Measurement of the purification rate (catalytic activity) at the time when 50 ppm of SO 2 gas was introduced into the evaluation condition of (1) above and the catalyst sample was exposed to a reaction gas containing SO 2 for 1.5 hours. did.
(3) After S poisoning treatment After the treatment of (2) above, the introduction of SO 2 gas was stopped, and the purification rate (catalytic activity) after 10 minutes was measured. The conditions other than stopping the introduction of SO 2 gas were unchanged.
表１に、各サンプル中のＳｉＯ２含有量と、Ｓ被毒処理なし、処理中、処理後それぞれの触媒活性の評価を示す。また、図２〜図４に、各サンプル中のＳｉＯ２含有量に対するＳ被毒処理なし、処理中、処理後の触媒活性の評価をそれぞれ示す。なお、図中では、ＳｉＯ２を「Ｓｉ」、ＺｒＯ２を「Ｚｒ」と略記した。 Table 1 shows the SiO 2 content in each sample and the evaluation of the catalytic activity of each without S poisoning treatment, during treatment, and after treatment. Moreover, in FIGS. 2-4 , the evaluation of the catalyst activity without S poisoning process with respect to SiO2 content in each sample, during a process, and a process after a process is shown, respectively. In the figure, SiO 2 is abbreviated as “Si” and ZrO 2 is abbreviated as “Zr”.
Ｓ被毒処理なしの場合、表１及び図２に示すように、ＲｈをＺｒＯ２に担持した例１〜５に係る触媒サンプルは、９８％以上という極めて高い触媒活性を発揮した。これに対し、ＲｈをＳｉＺｒＯ４（ジルコニアとシリカとの固溶体）に担持させた例８は、９３％とかなり劣った。この結果から、ＺｒＯ２（例１〜５）は、ジルコニアとシリカとを固溶させたＳｉＺｒＯ４（例８）に比べてＲｈをより高分散に担持し得ることが確認された。また、Ｓ被毒処理なしの触媒活性向上の観点からは、Ｓｉ含有率が５質量％〜７５質量％（例２〜例５）、さらには５０±１０質量％の範囲が好ましい（例４）。 In the case of no S poisoning treatment, as shown in Table 1 and FIG. 2, the catalyst samples according to Examples 1 to 5 in which Rh was supported on ZrO 2 exhibited extremely high catalytic activity of 98% or more. In contrast, Example 8 in which Rh was supported on SiZrO 4 (solid solution of zirconia and silica) was considerably inferior at 93%. From this result, it was confirmed that ZrO 2 (Examples 1 to 5) can carry Rh with higher dispersion than SiZrO 4 (Example 8) in which zirconia and silica are dissolved. Further, from the viewpoint of improving the catalytic activity without S poisoning treatment, the Si content is preferably 5% by mass to 75% by mass (Examples 2 to 5), and more preferably 50 ± 10% by mass (Example 4). .
Ｓ被毒処理中の場合、表１及び図３に示すように、〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕にＳｉＯ２を混合した例２〜５に係る触媒サンプルは、９３％以上という高い触媒活性を発揮した。特にＳｉ含有率を５０質量％以上とした例４，５では、９５％以上という極めて高い触媒活性を達成できた。これに対し、〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕にＺｒＯ２を混合した例１は、９０％とかなり劣った。また、ＲｈをＳｉＯ２に担持した例６，７についても９２％以下とかなり劣った。この結果から、Ｓ被毒処理中の触媒活性の低下は、〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕にＳｉＯ２を共存させることで大幅に改善されることが確認された（例２〜５）。かかる効果は、〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕にＺｒＯ２を共存させても得られない。また、ＲｈをＳｉＯ２に担持させても得られない。Ｓ被毒処理中の触媒活性向上の観点からは、Ｓｉ含有率が５０質量％〜７５質量％（例４，例５）、さらには６０質量％〜７５質量％の範囲が好ましい（例５）。 In the case of S poisoning treatment, as shown in Table 1 and FIG. 3, the catalyst samples according to Examples 2 to 5 in which SiO 2 was mixed with [Rh / ZrO 2 ] exhibited a high catalytic activity of 93% or more. . Particularly in Examples 4 and 5 in which the Si content was 50% by mass or more, an extremely high catalytic activity of 95% or more could be achieved. On the other hand, Example 1 in which ZrO 2 was mixed with [Rh / ZrO 2 ] was considerably inferior at 90%. In addition, Examples 6 and 7 in which Rh was supported on SiO 2 were also inferior to 92% or less. From this result, it was confirmed that the decrease in the catalytic activity during the S poisoning treatment was significantly improved by allowing SiO 2 to coexist with [Rh / ZrO 2 ] (Examples 2 to 5). Such an effect cannot be obtained even when ZrO 2 coexists in [Rh / ZrO 2 ]. Further, even if Rh is supported on SiO 2 , it cannot be obtained. From the viewpoint of improving the catalytic activity during the S poisoning treatment, the Si content is preferably 50 to 75% by mass (Examples 4 and 5), and more preferably 60 to 75% by mass (Example 5). .
Ｓ被毒処理後の場合、表１及び図４に示すように、〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕にＳｉＯ２を混合した例２〜５に係る触媒サンプルは、９５％以上という高い触媒活性を発揮した。特にＳｉ含有率を５０質量％以上とした例４，５では、９７％以上という極めて高い触媒活性を達成できた。これに対し、〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕にＺｒＯ２を混合した例１は、触媒活性が９３％とかなり劣った。また、ＲｈをＳｉＯ２に担持した例６，７についても９３％以下とかなり劣った。この結果から、Ｓ被毒処理後の触媒活性の低下は、ＳｉＯ２を共存させることで大幅に改善されることが確認された（例２〜５）。かかる効果は、〔Ｒｈ／ＺｒＯ２〕にＺｒＯ２を共存させても得られない。また、ＲｈをＳｉＯ２に担持させても得られない。Ｓ被毒処理後の触媒活性向上の観点からは、Ｓｉ含有率が５０質量％〜７５質量％（例４，例５）、さらには６０質量％〜７５質量％の範囲が好ましい（例５）。 In the case of S poisoning treatment, as shown in Table 1 and FIG. 4, the catalyst samples according to Examples 2 to 5 in which SiO 2 was mixed with [Rh / ZrO 2 ] exhibited high catalytic activity of 95% or more. . Particularly in Examples 4 and 5 in which the Si content was 50% by mass or more, an extremely high catalytic activity of 97% or more could be achieved. On the other hand, Example 1 in which ZrO 2 was mixed with [Rh / ZrO 2 ] had a considerably poor catalytic activity of 93%. In addition, Examples 6 and 7 in which Rh was supported on SiO 2 were also inferior at 93% or less. From this result, it was confirmed that the decrease in the catalytic activity after the S poisoning treatment was significantly improved by the coexistence of SiO 2 (Examples 2 to 5). Such an effect cannot be obtained even when ZrO 2 coexists in [Rh / ZrO 2 ]. Further, even if Rh is supported on SiO 2 , it cannot be obtained. From the viewpoint of improving the catalytic activity after the S poisoning treatment, the Si content is preferably 50% by mass to 75% by mass (Examples 4 and 5), and more preferably 60% by mass to 75% by mass (Example 5). .
≪試験例２：Ｐｄ触媒層（下層）の性能評価≫
以下の試験例では、本発明によって提供される排ガス浄化用触媒が備えるＰｄ触媒層（下層）の性能評価を主な目的とするため、Ｒｈ触媒層（上層）を具備しないＰｄ触媒層のみから構成された供試体を作製し、その性能評価を行った。ここでは下記原料を種々に組み合わせて、例１１〜１８の供試体（触媒サンプル）を以下の手順および条件により作製した。
<< Test Example 2: Performance evaluation of Pd catalyst layer (lower layer) >>
In the following test examples, the main purpose is to evaluate the performance of the Pd catalyst layer (lower layer) provided in the exhaust gas purifying catalyst provided by the present invention. Therefore, the test example includes only the Pd catalyst layer that does not include the Rh catalyst layer (upper layer). The prepared specimen was prepared and its performance was evaluated. Here, specimens (catalyst samples) of Examples 11 to 18 were prepared according to the following procedures and conditions by variously combining the following raw materials.
＜使用原料＞
原料１１：ＳｉＯ２粉末 「ナノテックＳｉＯ２」（シーアイ化成製）
原料１２：ＺｒＯ２粉末 「ＲＣ１００」（第１稀元素製）
原料１３：ＳｉＺｒＯ４粉末 「珪酸ジルコニウム」（ナカライテスク製）
<Raw materials>
Raw material 11: SiO 2 powder “Nanotech SiO 2 ” (Ci Kasei)
Raw material 12: ZrO 2 powder “RC100” (1st rare element)
Raw material 13: SiZrO 4 powder “zirconium silicate” (manufactured by Nacalai Tesque)
＜例１１＞：５０ｗｔ％〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕＋５０ｗｔ％ＺｒＯ２
蒸発乾固法により、パラジウム含有量８．２質量％の硝酸パラジウム水溶液（キャタラー製）から原料１２（ＺｒＯ２粉末）へＰｄを担持した。すなわち、原料１２（ＺｒＯ２粉末）を上記硝酸パラジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５時間の焼成を行い、Ｐｄ／ＺｒＯ２を得た。得られたＰｄ／ＺｒＯ２粉末１５ｇに対して、原料１２（ＺｒＯ２粉末）１５ｇを混合し、自動乳鉢で１時間混合した。なお、Ｐｄの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例１１の触媒サンプルとした。
<Example 11>: 50 wt% [Pd / ZrO 2 ] +50 wt% ZrO 2
By evaporation to dryness, Pd was supported on the raw material 12 (ZrO 2 powder) from a palladium nitrate aqueous solution (Cataler) having a palladium content of 8.2% by mass. That is, the raw material 12 (ZrO 2 powder) was impregnated with the above palladium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired in an electric furnace at 600 ° C. for 5 hours to obtain Pd / ZrO 2 . 15 g of raw material 12 (ZrO 2 powder) was mixed with 15 g of the obtained Pd / ZrO 2 powder and mixed for 1 hour in an automatic mortar. The amount of Pd supported was adjusted to 0.5% by mass with respect to the total powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder with CIP to form a pellet of about 1 mm square to obtain a catalyst sample of Example 11.
＜例１２＞：９５ｗｔ％〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕＋５ｗｔ％ＳｉＯ２
蒸発乾固法により、パラジウム含有量８．２質量％の硝酸パラジウム水溶液（キャタラー製）から原料１２（ＺｒＯ２粉末）へＰｄを担持した。すなわち、原料１２（ＺｒＯ２粉末）を上記硝酸パラジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５時間の焼成を行い、Ｐｄ／ＺｒＯ２を得た。得られたＰｄ／ＺｒＯ２粉末９５ｇに対して、原料１１（ＳｉＯ２粉末）５ｇを混合し、自動乳鉢で１時間混合した。なお、Ｐｄの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例１２の触媒サンプルとした。
<Example 12>: 95 wt% [Pd / ZrO 2 ] +5 wt% SiO 2
By evaporation to dryness, Pd was supported on the raw material 12 (ZrO 2 powder) from a palladium nitrate aqueous solution (Cataler) having a palladium content of 8.2% by mass. That is, the raw material 12 (ZrO 2 powder) was impregnated with the above palladium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired in an electric furnace at 600 ° C. for 5 hours to obtain Pd / ZrO 2 . 5 g of raw material 11 (SiO 2 powder) was mixed with 95 g of the obtained Pd / ZrO 2 powder and mixed for 1 hour in an automatic mortar. The amount of Pd supported was adjusted to 0.5% by mass with respect to the total powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder with CIP to form a pellet of about 1 mm square to obtain a catalyst sample of Example 12.
＜例１３＞：７５ｗｔ％〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕＋２５ｗｔ％ＳｉＯ２
蒸発乾固法により、パラジウム含有量８．２質量％の硝酸パラジウム水溶液（キャタラー製）から原料１２（ＺｒＯ２粉末）へＰｄを担持した。すなわち、原料１２（ＺｒＯ２粉末）を上記硝酸パラジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５時間の焼成を行い、Ｐｄ／ＺｒＯ２を得た。得られたＰｄ／ＺｒＯ２粉末７５ｇに対して、原料１１（ＳｉＯ２粉末）２５ｇを混合し、自動乳鉢で１ｈ混合した。なお、Ｐｄの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例１３の触媒サンプルとした。
<Example 13>: 75 wt% [Pd / ZrO 2 ] +25 wt% SiO 2
By evaporation to dryness, Pd was supported on the raw material 12 (ZrO 2 powder) from a palladium nitrate aqueous solution (Cataler) having a palladium content of 8.2% by mass. That is, the raw material 12 (ZrO 2 powder) was impregnated with the above palladium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired in an electric furnace at 600 ° C. for 5 hours to obtain Pd / ZrO 2 . 25 g of raw material 11 (SiO 2 powder) was mixed with 75 g of the obtained Pd / ZrO 2 powder and mixed for 1 h in an automatic mortar. The amount of Pd supported was adjusted to 0.5% by mass with respect to the total powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder with CIP to form a pellet of about 1 mm square to obtain a catalyst sample of Example 13.
＜例１４＞：５０ｗｔ％〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕＋５０ｗｔ％ＳｉＯ２
蒸発乾固法により、パラジウム含有量８．２質量％の硝酸パラジウム水溶液（キャタラー製）から原料１２（ＺｒＯ２粉末）へＰｄを担持した。すなわち、原料１２（ＺｒＯ２粉末）を上記硝酸パラジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５ｈの焼成を行い、Ｐｄ／ＺｒＯ２を得た。得られたＰｄ／ＺｒＯ２粉末５０ｇに対して、原料１１（ＳｉＯ２粉末）５０ｇを混合し、自動乳鉢で１ｈ混合した。なお、Ｐｄの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例１４の触媒サンプルとした。
<Example 14>: 50 wt% [Pd / ZrO 2 ] +50 wt% SiO 2
By evaporation to dryness, Pd was supported on the raw material 12 (ZrO 2 powder) from a palladium nitrate aqueous solution (Cataler) having a palladium content of 8.2% by mass. That is, the raw material 12 (ZrO 2 powder) was impregnated in the above palladium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired at 600 ° C. × 5 h in an electric furnace to obtain Pd / ZrO 2 . 50 g of raw material 11 (SiO 2 powder) was mixed with 50 g of the obtained Pd / ZrO 2 powder and mixed for 1 h in an automatic mortar. The amount of Pd supported was adjusted to 0.5% by mass with respect to the total powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder with CIP to form a pellet of about 1 mm square to obtain a catalyst sample of Example 14.
＜例１５＞：２５ｗｔ％〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕＋７５ｗｔ％ＳｉＯ２
蒸発乾固法により、パラジウム含有量８．２質量％の硝酸パラジウム水溶液（キャタラー製）から原料１２（ＺｒＯ２粉末）へＰｄを担持した。すなわち、原料１２（ＺｒＯ２粉末）を上記硝酸パラジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５ｈの焼成を行い、Ｐｄ／ＺｒＯ２を得た。得られたＰｄ／ＺｒＯ２粉末２５ｇに対して、原料１１（ＳｉＯ２粉末）７５ｇを混合し、自動乳鉢で１ｈ混合した。なお、Ｐｄの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末に、ＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例１５の触媒サンプルとした。
<Example 15>: 25 wt% [Pd / ZrO 2 ] +75 wt% SiO 2
By evaporation to dryness, Pd was supported on the raw material 12 (ZrO 2 powder) from a palladium nitrate aqueous solution (Cataler) having a palladium content of 8.2% by mass. That is, the raw material 12 (ZrO 2 powder) was impregnated in the above palladium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired at 600 ° C. × 5 h in an electric furnace to obtain Pd / ZrO 2 . 75 g of raw material 11 (SiO 2 powder) was mixed with 25 g of the obtained Pd / ZrO 2 powder and mixed for 1 h in an automatic mortar. The amount of Pd supported was adjusted to 0.5% by mass with respect to the total powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder with CIP to form a pellet of about 1 mm square to obtain a catalyst sample of Example 15.
＜例１６＞：５０ｗｔ％〔Ｐｄ／ＳｉＯ２〕＋５０ｗｔ％ＳｉＯ２
蒸発乾固法により、パラジウム含有量８．２質量％の硝酸パラジウム水溶液（キャタラー製）から原料１１（ＳｉＯ２粉末）へＰｄを担持した。すなわち、原料１１（ＳｉＯ２粉末）を上記硝酸パラジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５ｈの焼成を行い、Ｐｄ／ＳｉＯ２を得た。得られたＰｄ／ＳｉＯ２粉末５０ｇに対して、原料１１（ＳｉＯ２粉末）５０ｇを混合し、自動乳鉢で１ｈ混合した。なお、Ｐｄの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例１６の触媒サンプルとした。
<Example 16>: 50 wt% [Pd / SiO 2 ] +50 wt% SiO 2
By evaporation to dryness, Pd was supported on the raw material 11 (SiO 2 powder) from an aqueous palladium nitrate solution (Cataler) having a palladium content of 8.2% by mass. That is, the raw material 11 (SiO 2 powder) was impregnated with the palladium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired at 600 ° C. for 5 hours in an electric furnace to obtain Pd / SiO 2 . 50 g of raw material 11 (SiO 2 powder) was mixed with 50 g of the obtained Pd / SiO 2 powder, and mixed for 1 h in an automatic mortar. The amount of Pd supported was adjusted to 0.5% by mass with respect to the total powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder with CIP to form a pellet of about 1 mm square, and a catalyst sample of Example 16 was obtained.
＜例１７＞：５０ｗｔ％〔Ｐｄ／ＳｉＯ２〕＋５０ｗｔ％ＺｒＯ２
蒸発乾固法により、パラジウム含有量８．２質量％の硝酸パラジウム水溶液（キャタラー製）から原料１１（ＳｉＯ２粉末）へＰｄを担持した。すなわち、原料１１（ＳｉＯ２粉末）を上記硝酸パラジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５ｈの焼成を行い、Ｐｄ／ＳｉＯ２を得た。得られたＰｄ／ＳｉＯ２粉末５０ｇに対して、原料１２（ＺｒＯ２粉末）５０ｇを混合し、自動乳鉢で１ｈ混合した。なお、Ｐｄの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた混合粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例１７の触媒サンプルとした。
<Example 17>: 50 wt% [Pd / SiO 2 ] +50 wt% ZrO 2
By evaporation to dryness, Pd was supported on the raw material 11 (SiO 2 powder) from an aqueous palladium nitrate solution (Cataler) having a palladium content of 8.2% by mass. That is, the raw material 11 (SiO 2 powder) was impregnated with the palladium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired at 600 ° C. for 5 hours in an electric furnace to obtain Pd / SiO 2 . 50 g of raw material 12 (ZrO 2 powder) was mixed with 50 g of the obtained Pd / SiO 2 powder, and mixed for 1 h in an automatic mortar. The amount of Pd supported was adjusted to 0.5% by mass with respect to the total powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained mixed powder by CIP to form a pellet of about 1 mm square, and a catalyst sample of Example 17 was obtained.
＜例１８＞：〔Ｐｄ／ＳｉＺｒＯ４〕
蒸発乾固法により、パラジウム含有量８．２質量％の硝酸パラジウム水溶液（キャタラー製）から原料１３（ＳｉＺｒＯ４粉末）へＰｄを担持した。すなわち、原料１３（ＳｉＺｒＯ４粉末）を上記硝酸パラジウム水溶液に含浸させ、１２０℃で１２時間乾燥した後、電気炉で６００℃×５ｈの焼成を行い、Ｐｄ／ＳｉＺｒＯ４を得た。得られたＰｄ／ＳｉＯ２粉末を自動乳鉢で１ｈ混合した。なお、Ｐｄの担持量は、全体の粉末に対して０．５質量％となるように調整した。その後、得られた粉末にＣＩＰで約１トンの圧力を加え、約１ｍｍ角のペレットを成形して、例１８の触媒サンプルとした。
<Example 18>: [Pd / SiZrO 4 ]
By evaporation to dryness, Pd was supported on the raw material 13 (SiZrO 4 powder) from a palladium nitrate aqueous solution (produced by Cataler) having a palladium content of 8.2% by mass. That is, the raw material 13 (SiZrO 4 powder) was impregnated with the palladium nitrate aqueous solution, dried at 120 ° C. for 12 hours, and then fired at 600 ° C. for 5 hours in an electric furnace to obtain Pd / SiZrO 4 . The obtained Pd / SiO 2 powder was mixed for 1 h in an automatic mortar. The amount of Pd supported was adjusted to 0.5% by mass with respect to the total powder. Thereafter, a pressure of about 1 ton was applied to the obtained powder by CIP to form a pellet of about 1 mm square, and a catalyst sample of Example 18 was obtained.
＜触媒活性評価＞
上記得られた例１１〜１８に係る触媒サンプルについて、Ｓ被毒の処理前、処理中、処理後に、それぞれ触媒活性を評価した。
（１）Ｓ被毒処理なし
調整した触媒サンプルのそれぞれについて、固定床本能装置を用いて、以下の条件でガスを触媒ペレットに流通させ、ＮＯｘ浄化率（触媒活性）を測定した。
触媒ペレット：３．０ｇ
床温度：４００℃
ガス流量：１５Ｌ／ｍｉｎ
ガス組成：０．１５％ＮＯ＋０．７％Ｏ２＋０．６５％ＣＯ＋０．１％Ｃ３Ｈ６＋１０％ＣＯ２＋３％Ｈ２Ｏ
すなわち、アンダーフロアー触媒の代表的な使用温度域である４００℃でのストイキ条件にて行った。
（２）Ｓ被毒処理中
上記（１）の評価条件にＳＯ２ガス５０ｐｐｍを導入し、ＳＯ２を含む反応ガスに触媒サンプルを１．５時間晒した時点の浄化率（触媒活性）を測定した。
（３）Ｓ被毒処理後
上記（２）の処理後、ＳＯ２ガスの導入を停止し、１０分後の浄化率（触媒活性）を測定した。ＳＯ２ガスの導入を停止したこと以外の条件は不変とした。
<Catalyst activity evaluation>
With respect to the catalyst samples according to Examples 11 to 18 obtained above, the catalytic activity was evaluated before, during and after the treatment of S poisoning.
(1) No S poisoning treatment For each of the adjusted catalyst samples, using a fixed bed instinct apparatus, gas was passed through the catalyst pellets under the following conditions, and the NOx purification rate (catalytic activity) was measured.
Catalyst pellets: 3.0g
Floor temperature: 400 ° C
Gas flow rate: 15L / min
Gas composition: 0.15% NO + 0.7% O 2 + 0.65% CO + 0.1% C 3 H 6 + 10% CO 2 + 3% H 2 O
That is, it was carried out under stoichiometric conditions at 400 ° C., which is a typical operating temperature range of the underfloor catalyst.
(2) During S poisoning treatment Measurement of the purification rate (catalytic activity) at the time when 50 ppm of SO 2 gas was introduced into the evaluation condition of (1) above and the catalyst sample was exposed to a reaction gas containing SO 2 for 1.5 hours. did.
(3) After S poisoning treatment After the treatment of (2) above, the introduction of SO 2 gas was stopped, and the purification rate (catalytic activity) after 10 minutes was measured. The conditions other than stopping the introduction of SO 2 gas were unchanged.
表２に、各サンプル中のＳｉＯ２含有量と、Ｓ被毒処理なし、処理中、処理後それぞれの触媒活性の評価を示す。なお、ここではＳｉＯ２を「Ｓｉ」、ＺｒＯ２を「Ｚｒ」と略記した。 Table 2 shows the SiO 2 content in each sample and the evaluation of the catalytic activity of each without S poisoning treatment, during treatment, and after treatment. Here, SiO 2 is abbreviated as “Si” and ZrO 2 is abbreviated as “Zr”.
Ｓ被毒処理なしの場合、表２に示すように、ＰｄをＺｒＯ２に担持した例１１〜１５に係る触媒サンプルは、９５〜９７％という極めて高い触媒活性を発揮した。これに対し、ＰｄをＳｉＯ２に担持した例１６，１７は、９２％と若干劣り、さらにＰｄをＳｉＺｒＯ４（ジルコニアとシリカとの固溶体）に担持させた例１８は、７９％とかなり劣った。この結果から、ＺｒＯ２（例１１〜１５）は、ＳｉＯ２（例１６、例１７）およびＳｉＺｒＯ４（例１８）に比べてＰｄをより高分散に担持し得ることが確認された。 In the case of no S poisoning treatment, as shown in Table 2, the catalyst samples according to Examples 11 to 15 in which Pd was supported on ZrO 2 exhibited extremely high catalytic activity of 95 to 97%. On the other hand, Examples 16 and 17 in which Pd was supported on SiO 2 were slightly inferior to 92%, and Example 18 in which Pd was supported on SiZrO 4 (solid solution of zirconia and silica) was considerably inferior to 79%. . From this result, it was confirmed that ZrO 2 (Examples 11 to 15) can carry Pd with higher dispersion than SiO 2 (Examples 16 and 17) and SiZrO 4 (Example 18).
Ｓ被毒処理中の場合、表２に示すように、〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕にＳｉＯ２を混合した例１２〜１５に係る触媒サンプルは、４８％以上という高い触媒活性を発揮した。特にＳｉ含有率を５０質量％以下とした例１２〜１４では、４９％以上という極めて高い触媒活性を達成できた。これに対し、〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕にＺｒＯ２を混合した例１１は、４４％とかなり劣った。この結果から、Ｓ被毒処理中の触媒活性の低下は、〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕にＳｉＯ２を共存させることで大幅に改善されることが確認された（例１２〜１５）。かかる効果は、〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕にＺｒＯ２を共存させても得られない。Ｓ被毒処理中の触媒活性向上の観点からは、Ｓｉ含有率が５質量％以上５０質量％以下（例えば５質量％以上５０質量％未満）の範囲が好ましい（例１２〜例１４）。 In the case of S poisoning treatment, as shown in Table 2, the catalyst samples according to Examples 12 to 15 in which SiO 2 was mixed with [Pd / ZrO 2 ] exhibited a high catalytic activity of 48% or more. Particularly in Examples 12 to 14 in which the Si content was 50% by mass or less, an extremely high catalytic activity of 49% or more was achieved. On the other hand, Example 11 in which ZrO 2 was mixed with [Pd / ZrO 2 ] was considerably inferior at 44%. From this result, it was confirmed that the decrease in the catalytic activity during the S poisoning treatment was significantly improved by allowing SiO 2 to coexist with [Pd / ZrO 2 ] (Examples 12 to 15). Such an effect cannot be obtained even when ZrO 2 coexists in [Pd / ZrO 2 ]. From the viewpoint of improving the catalytic activity during the S poisoning treatment, the Si content is preferably in the range of 5% by mass to 50% by mass (eg, 5% by mass to less than 50% by mass) (Examples 12 to 14).
Ｓ被毒処理後の場合、表２に示すように、〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕にＳｉＯ２を混合した例１２〜１５に係る触媒サンプルは、７６％以上という高い触媒活性を発揮した。特にＳｉ含有率を５０質量％以下とした例１２〜１４では、８１％以上という極めて高い触媒活性を達成できた。これに対し、〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕にＺｒＯ２を混合した例１１は、触媒活性が７１％とかなり劣った。この結果から、Ｓ被毒処理後の触媒活性の低下は、ＳｉＯ２を共存させることで大幅に改善されることが確認された（例１２〜１５）。かかる効果は、〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕にＺｒＯ２を共存させても得られない。Ｓ被毒処理後の触媒活性向上の観点からは、Ｓｉ含有率が５質量％〜５０質量％（例えば５質量％以上５０質量％未満）の範囲が好ましい（例１２〜例１４）。 In the case of S poisoning treatment, as shown in Table 2, the catalyst samples according to Examples 12 to 15 in which SiO 2 was mixed with [Pd / ZrO 2 ] exhibited a high catalytic activity of 76% or more. Particularly in Examples 12 to 14 in which the Si content was 50% by mass or less, an extremely high catalytic activity of 81% or more could be achieved. On the other hand, Example 11 in which ZrO 2 was mixed with [Pd / ZrO 2 ] had a considerably poor catalytic activity of 71%. From this result, it was confirmed that the decrease in the catalytic activity after the S poisoning treatment was significantly improved by the coexistence of SiO 2 (Examples 12 to 15). Such an effect cannot be obtained even when ZrO 2 coexists in [Pd / ZrO 2 ]. From the viewpoint of improving the catalytic activity after the S poisoning treatment, the Si content is preferably in the range of 5% by mass to 50% by mass (for example, 5% by mass or more and less than 50% by mass) (Examples 12 to 14).
以上、試験例１：Ｒｈ触媒層（上層）の性能評価の結果から、Ｓ被毒耐性向上の観点からはＲｈ触媒層のシリカ含有率は５０質量％以上７５質量％以下であることが好ましい。また、試験例２：Ｐｄ触媒層（下層）の性能評価の結果から、Ｓ被毒耐性向上の観点からはＰｄ触媒層のシリカ含有率は５質量％以上５０質量％未満であることが好ましい。したがって、本発明によって提供される排ガス浄化用触媒において、上層のシリカ含有率が５０質量％以上７５質量％以下であり、かつ下層のシリカ含有率が５質量％以上５０質量％未満であることが、上下二層の積層構造タイプの触媒コート層を備えた排ガス浄化用触媒において好適であることが確認された。 As described above, from the result of the performance evaluation of Test Example 1: Rh catalyst layer (upper layer), the silica content of the Rh catalyst layer is preferably 50% by mass or more and 75% by mass or less from the viewpoint of improving the S poison resistance. Test Example 2: From the results of performance evaluation of the Pd catalyst layer (lower layer), the silica content of the Pd catalyst layer is preferably 5% by mass or more and less than 50% by mass from the viewpoint of improving S poisoning resistance. Therefore, in the exhaust gas purifying catalyst provided by the present invention, the silica content of the upper layer is 50% by mass or more and 75% by mass or less, and the silica content of the lower layer is 5% by mass or more and less than 50% by mass. It was confirmed that the catalyst is suitable for an exhaust gas purifying catalyst provided with a catalyst coat layer of a laminated structure type of upper and lower layers.
なお、本発明によると、上述したように、シリカ粒子の作用によりＳ被毒耐性が向上したＲｈ触媒層を上層に配置することにより、排ガス中のＳＯｘ等の硫黄成分が下層側のＰｄ触媒層内を拡散し難くなり、Ｐｄ触媒層においてもＰｄ粒子のＳ被毒が有効に抑制され得る。したがって、本発明によると、例１２〜１５に示した〔Ｐｄ／ＺｒＯ２〕ＳｉＯ２の担持形態に限らず、例１１，１６〜１８に示した担持形態を有するＰｄ触媒層を用いても構わない。ただし、上述した実施形態の如く、Ｐｄ触媒層にもシリカ粒子を含有させる構成が、Ｐｄ粒子のＳ被毒耐性のさらなる向上の観点からは好ましい。 According to the present invention, as described above, by arranging the Rh catalyst layer having improved S poisoning resistance by the action of silica particles in the upper layer, the sulfur component such as SOx in the exhaust gas is on the lower Pd catalyst layer. It becomes difficult to diffuse inside, and S poisoning of Pd particles can be effectively suppressed even in the Pd catalyst layer. Therefore, according to the present invention, not only the [Pd / ZrO 2 ] SiO 2 support form shown in Examples 12 to 15 but also Pd catalyst layers having the support forms shown in Examples 11 and 16 to 18 may be used. Absent. However, the configuration in which silica particles are also contained in the Pd catalyst layer as in the above-described embodiment is preferable from the viewpoint of further improving the S poisoning resistance of the Pd particles.
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、請求の範囲を限定するものではない。請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。 As mentioned above, although the specific example of this invention was demonstrated in detail, these are only illustrations and do not limit a claim. The technology described in the claims includes various modifications and changes of the specific examples illustrated above.
１０ ハニカム基材
１２ セル
１４ リブ壁
２０ 基材
３０ 触媒コート層
４０ 上層（Ｒｈ触媒層）
４２ Ｒｈ粒子
４４ ジルコニア粒状担体
４６ シリカ粒子
５０ 下層（Ｐｄ触媒層）
１００ 排ガス浄化用触媒
10
42
100 Exhaust gas purification catalyst
Claims (7)
前記触媒コート層は、前記基材表面に近い方を下層とし相対的に遠い方を上層とする上下層を有する積層構造に形成されており、
前記上層は貴金属触媒としてＲｈ粒子を備えており、前記下層は貴金属触媒としてＰｄ粒子を備えており、
前記上層は、前記Ｒｈ粒子が担持された多孔質担体として少なくともジルコニアを含むジルコニア粒状担体と、前記Ｒｈ粒子が担持されていないシリカ粒子とを備えており、
前記上層において、前記Ｒｈ粒子と前記ジルコニア粒状担体と前記シリカ粒子との合計を１００質量％としたときの前記シリカ粒子の含有率が、５０質量％以上である、排ガス浄化用触媒。 An exhaust gas purifying catalyst comprising: a base material; a catalyst coat layer made of a porous carrier formed on the surface of the base material; and a noble metal catalyst supported on the porous carrier of the catalyst coat layer,
The catalyst coat layer is formed in a laminated structure having upper and lower layers having a layer closer to the substrate surface as a lower layer and a relatively far side as an upper layer,
The upper layer includes Rh particles as a noble metal catalyst, and the lower layer includes Pd particles as a noble metal catalyst,
The upper layer includes a zirconia granular carrier containing at least zirconia as a porous carrier on which the Rh particles are supported, and silica particles on which the Rh particles are not supported.
The exhaust gas purifying catalyst, wherein in the upper layer, the content of the silica particles is 50% by mass or more when the total of the Rh particles, the zirconia particulate carrier, and the silica particles is 100% by mass.
前記上層中のシリカ粒子の５０個数％以上が、前記ジルコニア粒状担体と接触した状態で配置されている、請求項１〜４の何れか一つに記載の排ガス浄化用触媒。 The zirconia granular carrier and the silica particles are provided separately, and 50% by number or more of the silica particles in the upper layer are arranged in contact with the zirconia granular carrier. The exhaust gas purifying catalyst according to any one of the above.
The content of the Rh particles in the upper layer is 0.1% by mass to 3% by mass when the total of the Rh particles, the zirconia granular carrier, and the silica particles is 100% by mass. The catalyst for exhaust gas purification as described in any one of -6.
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