JP2013058761A - 保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターンが形成される基板を保持する保持面を有する保持部材と、電圧の印加に応じて、基板を保持面に吸着するための静電力を発生させる複数の第1電極部材と、印加する電圧を調整可能な電源装置と、を備え、パターンの形成動作が進行中の基板上の第1ショット領域に対応する一つの第1電極部材に第1電圧を印加し、パターンの形成動作が終了した基板上の第1ショット領域に対応する一つの第1電極部材に、第1電圧よりも低い電圧を印加し、基板上の第1ショット領域とは異なる領域にパターンの形成動作を進行している間、基板上の第1ショット領域に対応する第1電極部材を第1電圧よりも低い電圧に維持する保持装置。
【選択図】図2
Description
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る露光装置EXを示す概略構成図である。図1において、露光装置EXは、所定のパターンが形成されたマスクMを保持しながら移動可能なマスクステージ1と、パターンが形成される基板Pを保持しながら移動可能な基板ステージ2と、各ステージの位置情報を計測する干渉計システム16と、マスクステージ1に保持されているマスクMを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターンの像を基板Pに投影する投影光学系PLと、少なくとも露光光ELが通過する所定空間を真空状態に調整する真空システムを有するチャンバ装置(真空チャンバ)6と、露光装置EX全体の動作を制御する制御装置5とを備えている。チャンバ装置6内は、真空システムによって真空雰囲気に維持される。制御装置5には、露光に関する各種信号、情報を入力可能な入力装置7、及び露光に関する各種情報を記憶した記憶装置8が接続されている。入力装置7は、例えばキーボード、タッチパネル、マウス等を含む。基板Pは、半導体ウエハ等の基材の一方の面に感光材(レジスト)等の膜が形成されたものを含む。マスクMは、基板Pに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。
極端紫外光は、例えば波長5〜50nm程度の軟X線領域の電磁波である。以下の説明において、極端紫外光を適宜、EUV光、と称する。
保持部材20の少なくとも一部は、静電チャック機構の誘電体として機能する。電極部材3は、保持部材20の内部に配置されている。保持面19は、上述の低膨張セラミックスを含む絶縁材料で形成されている。
そして、複数の正極31のうち、第2正極31Bから+Y方向に順次、第3、第4、…、第8正極31C、31D、…、31H、と称し、保持面19の+Y側のエッジに最も近い正極31を適宜、第9正極31I、と称する。
第1、第2支持部材41A、41Bが移動可能な開口42A、42Bは、保持面19の中心に対して+Y側(第9電極パターン3I側)に配置されている。
これにより、保持部材20の保持面19が基板Pを保持可能な状態になるとともに、基板Pに対する支持部材41A〜41Cの支持が解除される。
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
電源装置22は、例えば電圧調整器26を用いて、第1電極パターン3Aの電極部材3に印加する電圧値を第2の電圧値にする。また、本実施形態においては、電源装置22は、パターンが形成される前、及びパターンの形成動作が進行中の基板P上の第2〜第9ショット領域群S2〜S9のショット領域Sに対応する第2〜第9電極パターン3B〜3Iに電源装置22によって印加される電圧値を第1の電圧値に維持する。
次に、第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第4実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第5実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
本実施形態においては、第1、第2電極パターン3A、3Bが、第1ショット領域群S1に対応するように配置されており、第3、第4電極パターン3C、3Dが、第2ショット領域群S2に対応するように配置されている。同様に、第5、第6電極パターン3E、3Fが、第3ショット領域群S3に対応するように配置され、第7、第8電極パターン3G、3Hが、第4ショット領域群S4に対応するように配置され、第9、第10電極パターン3I、3Jが、第5ショット領域群S5に対応するように配置され、第11、第12電極パターン3K、3Lが、第6ショット領域群S6に対応するように配置され、第13、第14電極パターン3M、3Nが、第7ショット領域群S7に対応するように配置され、第15、第16電極パターン3O、3Pが、第8ショット領域群S8に対応するように配置され、第17、第18電極パターン3Q、3Rが、第9ショット領域群S9に対応するように配置されている。
次に、第6実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第7実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
第1、第2突出部52A、52Bに対応する第1、第2凹部55A、55Bは、保持面19の中心に対して+Y側(第9電極パターン3I側)に配置されている。
これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
Claims (15)
- パターンが形成される基板を保持する保持面を有する保持部材と、
前記保持部材に設けられるとともに、前記パターンに関するパターン情報に応じて配置され、電圧の印加に応じて、前記基板を前記保持面に吸着するための静電力を発生させる複数の第1電極部材と、
前記複数の第1電極部材に印加する前記電圧を調整可能な電源装置と、を備え、
前記電源装置は、前記パターンの形成動作が進行中の前記基板上の第1ショット領域に対応する少なくとも一つの前記第1電極部材に第1電圧を印加し、前記パターンの形成動作が終了した前記基板上の第1ショット領域に対応する少なくとも一つの前記第1電極部材に、前記第1電圧よりも低い電圧を印加し、
前記基板上の第1ショット領域とは異なる第2ショット領域に前記パターンの形成動作を進行している間、前記基板上の第1ショット領域に対応する少なくとも一つの前記第1電極部材を前記第1電圧よりも低い電圧に維持する保持装置。 - 前記電源装置は、前記パターン情報に応じて、前記複数の第1電極部材の中から選択された少なくとも1つの第1電極部材に所定の電圧を印加する請求項1に記載の保持装置。
- 前記電源装置は、電圧の印加と印加の停止とを切り替えるスイッチを含む請求項1又は2記載の保持装置。
- 前記電源装置は、前記パターンの形成動作が進行中の前記基板上の第1ショット領域に対応する前記第1電極部材に第1電圧を印加し、前記第1電圧が印加された前記第1電極部材とは異なる第1電極部材のうちの少なくとも一つの第1電極部材に前記第1電圧よりも低い電圧を印加する請求項1〜3のいずれか一項記載の保持装置。
- 前記電源装置は、前記パターンが形成される前の前記基板上の第2ショット領域に対応する前記第1電極部材に第1電圧を印加する請求項1〜4のいずれか一項記載の保持装置。
- 基板を保持する保持面を有する保持部材と、
前記保持部材に設けられ、電圧の印加に応じて、前記基板を前記保持面に吸着するための静電力を発生させる複数の第1電極部材と、
前記複数の第1電極部材のうち少なくとも一つの第1電極部材と、前記複数の第1電極部材のうち少なくとも一つの第1電極部材とは異なる第1電極部材とに、異なる電圧を印加する電源装置と、を備え、
前記電源装置は、
前記少なくとも一つの第1電極部材に第1電圧を印加するとともに、前記少なくとも一つの第1電極部材とは異なる前記第1電極部材に第1電圧とは異なる電圧を印加し、
前記基板にパターンの形成動作が進行中又は進行前の少なくとも一方の前記基板上のショット領域に対応する前記少なくとも一つの第1電極部材に印加する前記第1電圧を、前記少なくとも一つの第1電極部材とは異なる前記第1電極部材に印加する電圧よりも高く設定し、
前記少なくとも一つの第1電極部材に印加する前記第1電圧が、前記少なくとも一つの第1電極部材とは異なる前記第1電極部材に印加する電圧よりも高く設定されている間、前記少なくとも一つの第1電極部材とは異なる前記第1電極部材を、前記第1電圧よりも低い電圧に維持する保持装置。 - 前記第1電圧よりも低い電圧は、オフ電圧である請求項1〜6のいずれか一項記載の保持装置。
- パターンからの露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が照射される基板を保持するために、請求項1〜7のいずれか一項記載の保持装置を備える露光装置。 - 前記露光光が通過する空間を真空雰囲気に維持する真空システムをさらに備える請求項8記載の露光装置。
- 請求項8又は9記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - パターンからの露光光で基板を露光する露光方法であって、
複数の第1電極部材が設けられた保持部材の保持面に前記基板を載せることと、
前記基板を前記保持面に静電力で吸着するために、前記第1電極部材に電圧を印加することと、
前記パターンからの前記露光光を前記基板に照射することと、を含み、
前記第1電極部材に電圧を印加することは、
前記パターンの形成動作が進行中の前記基板上の第1ショット領域に対応する少なくとも一つの前記第1電極部材に第1電圧を印加し、前記パターンの形成動作が終了した前記基板上の第1ショット領域に対応する少なくとも一つの前記第1電極部材に、前記第1電圧よりも低い電圧を印加し、
前記基板上の第1ショット領域とは異なる第2ショット領域に前記パターンの形成動作を進行している間、前記基板上の第1ショット領域に対応する少なくとも一つの前記第1電極部材を前記第1電圧よりも低い電圧に維持する露光方法。 - 前記第1電極部材に前記第1電圧よりも低い電圧が印加される前記基板上の第1ショット領域は、前記露光光の照射が終了した領域である請求項11に記載の露光方法。
- パターンからの露光光で基板を露光する露光方法であって、
複数の第1電極部材が設けられた保持部材の保持面に前記基板を載せることと、
前記基板を前記保持面に静電力で吸着するために、前記第1電極部材に電圧を印加することと、
前記パターンからの前記露光光を、前記基板上の複数のショット領域に順次に照射することと、を含み、
前記第1電極部材に電圧を印加することは、
前記露光光の照射前又は前記露光光の照射が進行中の少なくとも一方の前記基板上のショット領域に対応する前記第1電極部材に印加する第1電圧が、前記第1電圧が印加された前記第1電極部材とは異なる第1電極部材に印加する電圧よりも大きく設定し、
前記第1電極部材に印加する第1電圧が、前記第1電圧が印加された前記第1電極部材とは異なる第1電極部材に印加する電圧よりも大きく設定されている間、前記第1電圧が印加された前記第1電極部材とは異なる前記第1電極部材を前記第1電圧よりも低い電圧に維持する露光方法。 - 前記第1電圧よりも低い電圧は、オフ電圧である請求項11〜13のいずれか一項記載の露光方法。
- 請求項11〜14のいずれか一項記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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