JP2013050709A - マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マイクロレンズアレイ1は、ガラス板11の上面及び下面に、夫々単位マイクロレンズアレイが積層され、上板10及び下板13により各単位マイクロレンズアレイが保持されている。各単位マイクロレンズアレイと、ガラス板11には、位置合わせ用のマークが形成されていて、単位マイクロレンズアレイとガラス板11とは、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されている。
【選択図】図1
Description
ガラス板と、
このガラス板の上面及び下面に積層され複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されて構成され相互に積層された複数枚の単位マイクロレンズアレイと、
を有し、
前記単位マイクロレンズアレイは、複数個のマイクロレンズが第1方向に配列されて構成されたマイクロレンズ列が前記第1方向に直交する第2方向に複数列配置されて構成されており、所定数のマイクロレンズ列によりマイクロレンズ列群が構成され、各マイクロレンズ列群においては、複数列の前記マイクロレンズ列が前記第1方向に一定距離ずつ偏倚して配置されており、このマイクロレンズ列群が前記第2方向に複数個配置されて構成されたものであり、
各前記単位マイクロレンズアレイと、前記ガラス板には、位置合わせ用のマークが形成されていて、前記単位マイクロレンズアレイと前記ガラス板とは、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されていることを特徴とする。
前記マイクロレンズアレイは、
ガラス板と、
このガラス板の上面及び下面に積層され複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されて構成された複数枚の単位マイクロレンズアレイと、
を有し、
前記単位マイクロレンズアレイは、複数個のマイクロレンズが前記移動方向に直交する方向の第1方向に配列されて構成されたマイクロレンズ列が前記移動方向である第2方向に複数列配置されて構成されており、所定数のマイクロレンズ列によりマイクロレンズ列群が構成され、各マイクロレンズ列群においては、複数列の前記マイクロレンズ列が前記第1方向に一定距離ずつ偏倚して配置されており、このマイクロレンズ列群が前記第2方向に複数個配置されて構成されたものであり、
各前記単位マイクロレンズアレイと、前記ガラス板には、位置合わせ用のマークが形成されていて、前記単位マイクロレンズアレイと前記ガラス板は、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されていることを特徴とする。
Claims (6)
- 露光光を出射する光源と共に移動され、前記光源からの露光光をマスクのパターンに透過させ、このマスクの透過光により前記マスクに形成されたパターンの正立等倍像を結像させるマイクロレンズアレイにおいて、
ガラス板と、
このガラス板の上面及び下面に積層され複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されて構成され相互に積層された複数枚の単位マイクロレンズアレイと、
を有し、
前記単位マイクロレンズアレイは、複数個のマイクロレンズが第1方向に配列されて構成されたマイクロレンズ列が前記第1方向に直交する第2方向に複数列配置されて構成されており、所定数のマイクロレンズ列によりマイクロレンズ列群が構成され、各マイクロレンズ列群においては、複数列の前記マイクロレンズ列が前記第1方向に一定距離ずつ偏倚して配置されており、このマイクロレンズ列群が前記第2方向に複数個配置されて構成されたものであり、
各前記単位マイクロレンズアレイと、前記ガラス板には、位置合わせ用のマークが形成されていて、前記単位マイクロレンズアレイと前記ガラス板とは、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されていることを特徴とするマイクロレンズアレイ。 - 前記各単位マイクロレンズアレイの前記第1方向における端縁は、前記第2方向に隣接するマイクロレンズ列同士で、前記マイクロレンズ列が前記第1方向に前記一定距離偏倚しているのに対応して、前記第2方向に対して傾斜していることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズアレイ。
- 前記単位マイクロレンズアレイ及び前記ガラス板によりマイクロレンズアレイチップが構成され、複数個の前記マイクロレンズアレイチップが前記第1方向に配列されており、前記第1方向に隣接するマイクロレンズアレイチップ同士は、そのマイクロレンズ列が前記第2方向に1列又は複数列ずれており、このずれにより、マイクロレンズアレイチップの相互間に隙間が形成されていることを特徴とする請求項2に記載のマイクロレンズアレイ。
- 前記単位マイクロレンズアレイ間の反転結像位置には、多角形の開口を有する多角視野絞りが配置され、前記単位マイクロレンズアレイ間の露光光の最大拡大部には、その少なくとも一部に、円形の開口を有し各マイクロレンズの開口数を制限する開口絞りが配置されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のマイクロレンズアレイ。
- 更に、前記単位マイクロレンズアレイを保持するホルダを有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のマイクロレンズアレイ。
- 露光光を出射する光源と、
前記光源からの露光光が入射され、基板に露光すべきパターンが形成されたマスクと、
前記マスクの透過光が入射され前記パターンの正立等倍像を基板に結像させるマイクロレンズアレイと、
前記光源及びマイクロレンズアレイを前記マスク及び基板に対して相対的に移動させる移動装置と、
を有し、
前記マイクロレンズアレイは、
ガラス板と、
このガラス板の上面及び下面に積層され複数個のマイクロレンズが2次元的に配置されて構成された複数枚の単位マイクロレンズアレイと、
を有し、
前記単位マイクロレンズアレイは、複数個のマイクロレンズが前記移動方向に直交する方向の第1方向に配列されて構成されたマイクロレンズ列が前記移動方向である第2方向に複数列配置されて構成されており、所定数のマイクロレンズ列によりマイクロレンズ列群が構成され、各マイクロレンズ列群においては、複数列の前記マイクロレンズ列が前記第1方向に一定距離ずつ偏倚して配置されており、このマイクロレンズ列群が前記第2方向に複数個配置されて構成されたものであり、
各前記単位マイクロレンズアレイと、前記ガラス板には、位置合わせ用のマークが形成されていて、前記単位マイクロレンズアレイと前記ガラス板は、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されていることを特徴とするマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012163127A JP6023952B2 (ja) | 2011-07-29 | 2012-07-23 | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011167819 | 2011-07-29 | ||
JP2011167819 | 2011-07-29 | ||
JP2012163127A JP6023952B2 (ja) | 2011-07-29 | 2012-07-23 | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013050709A true JP2013050709A (ja) | 2013-03-14 |
JP6023952B2 JP6023952B2 (ja) | 2016-11-09 |
Family
ID=47629099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012163127A Active JP6023952B2 (ja) | 2011-07-29 | 2012-07-23 | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9001425B2 (ja) |
JP (1) | JP6023952B2 (ja) |
KR (1) | KR101931402B1 (ja) |
CN (1) | CN103718066B (ja) |
TW (1) | TWI544284B (ja) |
WO (1) | WO2013018572A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103718066B (zh) * | 2011-07-29 | 2016-04-27 | 株式会社V技术 | 微透镜阵列及使用微透镜阵列的扫描曝光装置 |
JP5760250B2 (ja) * | 2011-08-03 | 2015-08-05 | 株式会社ブイ・テクノロジー | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 |
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JP2008039867A (ja) | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Hitachi Metals Ltd | マイクロミラー、マイクロミラーアレイおよびそれを用いた光スイッチ |
CN103323893B (zh) * | 2008-04-28 | 2015-07-29 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 晶圆透镜聚合体的制造方法及晶圆透镜聚合体 |
JP5376379B2 (ja) * | 2010-08-30 | 2013-12-25 | 株式会社ブイ・テクノロジー | マイクロレンズアレイを使用した露光装置及び光学部材 |
-
2012
- 2012-07-23 CN CN201280037832.XA patent/CN103718066B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-07-23 JP JP2012163127A patent/JP6023952B2/ja active Active
- 2012-07-23 KR KR1020147004602A patent/KR101931402B1/ko active IP Right Grant
- 2012-07-23 US US14/232,733 patent/US9001425B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-07-23 WO PCT/JP2012/068624 patent/WO2013018572A1/ja active Application Filing
- 2012-07-26 TW TW101126994A patent/TWI544284B/zh not_active IP Right Cessation
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JP2011118155A (ja) * | 2009-12-03 | 2011-06-16 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
JP2011134768A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | V Technology Co Ltd | フォトマスク |
WO2013018572A1 (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 株式会社ブイ・テクノロジー | マイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9001425B2 (en) | 2015-04-07 |
KR20140058572A (ko) | 2014-05-14 |
KR101931402B1 (ko) | 2018-12-20 |
CN103718066B (zh) | 2016-04-27 |
JP6023952B2 (ja) | 2016-11-09 |
US20140152968A1 (en) | 2014-06-05 |
WO2013018572A1 (ja) | 2013-02-07 |
TWI544284B (zh) | 2016-08-01 |
CN103718066A (zh) | 2014-04-09 |
TW201305744A (zh) | 2013-02-01 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150529 |
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A977 | Report on retrieval |
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