JP2013036827A - Defect evaluation system and defect evaluation method - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect evaluation system and a defect evaluation method which can perform highly accurate evaluation.SOLUTION: A defect evaluation system includes: a liquid crystal device; a projection display device for projecting an image of the liquid crystal device; and a pseudo-defect window 500 capable of displaying a pseudo defect 501 at an arbitrary position on a projected projection image 301.

Description

本発明は、電気光学装置における欠点評価システム、及び欠点の評価方法に関する。   The present invention relates to a defect evaluation system and a defect evaluation method in an electro-optical device.

液晶装置は、例えば、液晶プロジェクターのライトバルブとして用いられるＴＦＴ（Thin Film Transistor）アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置がある。この液晶装置は、例えば、配向膜が設けられた一対の基板間に、シール材を介して液晶が注入封止された構造となっている。   Examples of the liquid crystal device include a TFT (Thin Film Transistor) active matrix driving type liquid crystal device used as a light valve of a liquid crystal projector. This liquid crystal device has, for example, a structure in which liquid crystal is injected and sealed between a pair of substrates provided with an alignment film via a sealing material.

このような液晶装置に発生する欠点を評価する方法として、例えば、特許文献１に記載のように、液晶装置のディスプレイをカメラによりで撮像し、撮像した画像とテンプレートとを比較して、欠点の大きさが不良か否かを判定している技術が開示されている。   As a method for evaluating the defects occurring in such a liquid crystal device, for example, as described in Patent Document 1, the display of the liquid crystal device is imaged with a camera, and the captured image and the template are compared, and A technique for determining whether or not the size is defective is disclosed.

特開平１１−１８３３２１号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-183321

しかしながら、特許文献１に記載の方法では、ディスプレイをカメラで撮像するので、例えば、欠点の階調などを評価する場合、カメラの解像度や光感度によって実際の欠点と異なってしまう恐れがある。よって、正確な欠点評価を行うことが難しいという課題があった。   However, in the method described in Patent Document 1, since the display is imaged by a camera, for example, when evaluating the gray level of a defect, there is a possibility that it differs from an actual defect depending on the resolution and light sensitivity of the camera. Therefore, there is a problem that it is difficult to perform accurate defect evaluation.

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

［適用例１］本適用例に係る欠点評価システムは、電気光学装置の画像を投射する投射部と、投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する擬似欠点表示部と、を備えることを特徴とする。   Application Example 1 A defect evaluation system according to this application example includes a projection unit that projects an image of an electro-optical device, and a pseudo display that displays a pseudo defect that is a pseudo defect at an arbitrary position in the projected image. And a defect display unit.

この構成によれば、画像及び擬似欠点を投射部によって投射し、投射画像において擬似欠点を任意の位置（欠点の近く）に移動して欠点と擬似欠点とを比較するので、例えば、カメラを用いて評価する場合と比較して、解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点の評価を行うことができる。また、擬似欠点を用いて比較するので、評価する人によってばらつきが発生したり、離れた場所で評価を行う場合にばらつき発生したりすることを抑えることができる。加えて、投射部を介して投射画像を見ながら評価を行うので、例えば、プロジェクターの光源の温度が電気光学装置に加わった状態（実使用条件）で発生する欠点の評価を行うことができる。   According to this configuration, the image and the pseudo defect are projected by the projection unit, the pseudo defect is moved to an arbitrary position (near the defect) in the projected image, and the defect and the pseudo defect are compared. As compared with the case of evaluating the defect, the defect can be evaluated without being influenced by the resolution, light sensitivity, and the like. Further, since the comparison is performed using the pseudo defect, it is possible to suppress the occurrence of variations depending on the person to be evaluated or the occurrence of variations when the evaluation is performed at a remote location. In addition, since the evaluation is performed while viewing the projection image through the projection unit, for example, it is possible to evaluate a defect that occurs when the temperature of the light source of the projector is applied to the electro-optical device (actual use condition).

［適用例２］上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることが好ましい。   Application Example 2 In the defect evaluation system according to the application example, the pseudo defect display unit includes the pseudo defect display unit according to a region of a central region in the projection image and a peripheral region that is an outer region from the central region. It is preferable to change the display of defects.

この構成によれば、中央領域と周辺領域とによって擬似欠点の表示を変えるので、例えば、中央領域と周辺領域で欠点の限度が異なるような場合など、要求に合った評価を行うことができる。   According to this configuration, since the display of the pseudo defect is changed depending on the central region and the peripheral region, for example, when the limit of the defect is different between the central region and the peripheral region, it is possible to perform evaluation that meets the requirements.

［適用例３］上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、前記投射画像の階調が変化したとき所定の階調になるように調整されることが好ましい。   Application Example 3 In the defect evaluation system according to the application example, it is preferable that the pseudo defect display unit is adjusted to have a predetermined gradation when the gradation of the projection image changes.

この構成によれば、擬似欠点表示部が所定の階調になるように調整されるので、投射画像の階調を変化させた場合であっても、基準となる擬似欠点表示部の階調が変わることなく安定した評価を行うことができる。   According to this configuration, since the pseudo defect display portion is adjusted to have a predetermined gradation, even if the gradation of the projected image is changed, the gradation of the reference pseudo defect display portion is changed. Stable evaluation can be performed without change.

［適用例４］上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を別々に表示することが好ましい。   Application Example 4 In the defect evaluation system according to the application example described above, it is preferable that the pseudo defect display unit separately displays pseudo defects corresponding to each single color in at least three types of color light.

この構成によれば、例えば、ＲＧＢそれぞれの単色に応じた擬似欠点を表示させるので、Ｒの擬似欠点、Ｇの擬似欠点、Ｂの擬似欠点など、色ごとに応じた欠点の評価を行うことができる。   According to this configuration, for example, since pseudo defects corresponding to each single color of RGB are displayed, it is possible to evaluate defects corresponding to each color, such as R pseudo defects, G pseudo defects, and B pseudo defects. it can.

［適用例５］上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも２点の擬似欠点を表示することが好ましい。   Application Example 5 In the defect evaluation system according to the application example, it is preferable that the pseudo defect display unit displays at least two pseudo defects that indicate a limit of an interval between defects.

この構成によれば、ある領域に欠点が集まった場合の間隔の限度（近接限度）を評価することができる。   According to this configuration, it is possible to evaluate an interval limit (proximity limit) when defects are collected in a certain region.

［適用例６］本適用例に係る欠点の評価方法は、電気光学装置の画像を投射する投射工程と、投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する表示工程と、前記投射画像の欠点と前記擬似欠点とを比較して前記欠点が良品であるか否かを評価する評価工程と、を有することを特徴とする。   Application Example 6 In the defect evaluation method according to this application example, a projection step of projecting an image of the electro-optical device and a pseudo defect that is a pseudo defect is displayed at an arbitrary position in the projected image. A display step; and an evaluation step of comparing the defect of the projection image with the pseudo defect to evaluate whether or not the defect is a non-defective product.

この方法によれば、画像及び擬似欠点を投射し、投射画像において擬似欠点を任意の位置（欠点の近く）に移動して欠点と擬似欠点とを比較するので、例えば、カメラを用いて評価する場合と比較して、解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点の評価を行うことができる。また、擬似欠点を用いて比較するので、評価する人によってばらつきが発生したり、離れた場所で評価を行う場合にばらつき発生したりすることを抑えることができる。加えて、投射画像を見ながら評価を行うので、例えば、プロジェクターの光源の温度が電気光学装置に加わった状態（実使用条件）で発生する欠点の評価を行うことができる。   According to this method, an image and a pseudo defect are projected, the pseudo defect is moved to an arbitrary position (near the defect) in the projected image, and the defect and the pseudo defect are compared. For example, evaluation is performed using a camera. Compared to the case, the defect can be evaluated without being affected by the resolution, light sensitivity, and the like. Further, since the comparison is performed using the pseudo defect, it is possible to suppress the occurrence of variations depending on the person to be evaluated or the occurrence of variations when the evaluation is performed at a remote location. In addition, since the evaluation is performed while viewing the projection image, for example, it is possible to evaluate a defect that occurs when the temperature of the light source of the projector is applied to the electro-optical device (actual use condition).

［適用例７］上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることが好ましい。   Application Example 7 In the defect evaluation method according to the application example, the display step includes the pseudo defect according to a region of a central region in the projection image and a peripheral region that is an outer region from the central region. It is preferable to change the display.

この方法によれば、中央領域と周辺領域とによって擬似欠点の表示を変えるので、例えば、中央領域と周辺領域で欠点の限度が異なるような場合など、要求に合った評価を行うことができる。   According to this method, since the display of the pseudo defect is changed depending on the central area and the peripheral area, for example, when the limit of the defect is different between the central area and the peripheral area, it is possible to perform evaluation that meets the requirements.

［適用例８］上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、前記投射画像の階調が変化したとき、前記擬似欠点の階調を所定の階調に調整することが好ましい。   Application Example 8 In the defect evaluation method according to the application example, it is preferable that the display step adjusts the gradation of the pseudo defect to a predetermined gradation when the gradation of the projection image changes.

この方法によれば、擬似欠点が所定の階調になるように調整するので、投射画像の階調を変化させた場合であっても、基準となる擬似欠点の階調が変わることなく安定した評価を行うことができる。   According to this method, since the pseudo defect is adjusted so as to have a predetermined gradation, even when the gradation of the projected image is changed, the gradation of the reference pseudo defect is not changed and is stable. Evaluation can be made.

［適用例９］上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を表示することが好ましい。   Application Example 9 In the defect evaluation method according to the application example, it is preferable that the display step displays a pseudo defect corresponding to each single color in at least three types of color light.

この方法によれば、例えば、ＲＧＢそれぞれの単色に応じた擬似欠点を表示させるので、Ｒの擬似欠点、Ｇの擬似欠点、Ｂの擬似欠点など、色ごとに応じた欠点の評価を行うことができる。   According to this method, for example, pseudo defects corresponding to each single color of RGB are displayed, so that it is possible to evaluate defects such as R pseudo defects, G pseudo defects, and B pseudo defects according to each color. it can.

［適用例１０］上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも２つの擬似欠点を表示することが好ましい。   Application Example 10 In the defect evaluation method according to the application example, it is preferable that the display step displays at least two pseudo defects that indicate a limit of an interval between the defects.

この方法によれば、ある領域に欠点が集まった場合の間隔の限度（近接限度）を評価することができる。   According to this method, it is possible to evaluate the limit of the interval (proximity limit) when defects are collected in a certain area.

（ａ）は液晶装置の構造を示す模式平面図、（ｂ）は（ａ）に示す液晶装置のＨ−Ｈ’線に沿う模式断面図。(A) is a schematic plan view which shows the structure of a liquid crystal device, (b) is a schematic cross section along the H-H 'line | wire of the liquid crystal device shown to (a). 液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram illustrating an electrical configuration of the liquid crystal device. 液晶装置の欠点評価システムの構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of the fault evaluation system of a liquid crystal device. 液晶装置の欠点の評価方法を示すフローチャート。5 is a flowchart showing a method for evaluating a defect of a liquid crystal device. 評価方法の一部を示す模式平面図。The schematic plan view which shows a part of evaluation method. 評価方法の一部を示す模式平面図。The schematic plan view which shows a part of evaluation method. 評価方法の一部を示す模式平面図。The schematic plan view which shows a part of evaluation method. 変形例の投射画像を示す模式平面図。The schematic plan view which shows the projection image of a modification. 変形例の投射画像を示す模式平面図。The schematic plan view which shows the projection image of a modification. 変形例の投射画像を示す模式平面図。The schematic plan view which shows the projection image of a modification.

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大又は縮小して表示している。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings to be used are appropriately enlarged or reduced so that the part to be described can be recognized.

なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、又は基板の上に他の構成物を介して配置される場合、又は基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。   In the following embodiments, for example, when “on the substrate” is described, the substrate is disposed so as to be in contact with the substrate, or is disposed on the substrate via another component, or the substrate. It is assumed that a part is arranged so as to be in contact with each other and a part is arranged via another component.

本実施形態では、薄膜トランジスター（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を画素のスイッチング素子として備えたアクティブマトリクス型の液晶装置を例に挙げて説明する。この液晶装置は、例えば、後述する投射部としての投射型表示装置（液晶プロジェクター）の光変調素子（液晶ライトバルブ）として好適に用いることができるものである。   In the present embodiment, an active matrix liquid crystal device including a thin film transistor (TFT) as a pixel switching element will be described as an example. This liquid crystal device can be suitably used, for example, as a light modulation element (liquid crystal light valve) of a projection display device (liquid crystal projector) as a projection unit described later.

＜液晶装置の構成＞
図１（ａ）は、電気光学装置としての液晶装置の構造を示す模式平面図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）に示す液晶装置のＨ−Ｈ’線に沿う模式断面図である。図２は、液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。以下、液晶装置の構造を、図１及び図２を参照しながら説明する。 <Configuration of liquid crystal device>
FIG. 1A is a schematic plan view showing a structure of a liquid crystal device as an electro-optical device. FIG. 1B is a schematic cross-sectional view taken along the line HH ′ of the liquid crystal device shown in FIG. FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing an electrical configuration of the liquid crystal device. Hereinafter, the structure of the liquid crystal device will be described with reference to FIGS.

図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、液晶装置１００は、対向配置された素子基板１０及び対向基板２０と、これら一対の基板によって挟持された液晶層５０とを有する。素子基板１０及び対向基板２０は、例えば、透明な石英などのガラス基板が用いられている。   As shown in FIGS. 1A and 1B, the liquid crystal device 100 includes an element substrate 10 and a counter substrate 20 that are arranged to face each other, and a liquid crystal layer 50 that is sandwiched between the pair of substrates. As the element substrate 10 and the counter substrate 20, for example, a glass substrate such as transparent quartz is used.

素子基板１０は、対向基板２０よりも一回り大きく形成されている。両基板１０，２０は、額縁状に配置されたシール材４０を介して接合されている。そして、その隙間に、負の誘電異方性を有する液晶が封入されて液晶層５０が構成されている。シール材４０は、例えば、熱硬化性又は紫外線硬化性のエポキシ樹脂などの接着剤が採用されている。シール材４０には、一対の基板の間隔を一定に保持するためのスペーサー（図示省略）が混入されている。   The element substrate 10 is formed to be slightly larger than the counter substrate 20. Both the boards 10 and 20 are joined via a sealing material 40 arranged in a frame shape. A liquid crystal layer 50 is configured by sealing liquid crystal having negative dielectric anisotropy in the gap. As the sealing material 40, for example, an adhesive such as a thermosetting or ultraviolet curable epoxy resin is employed. A spacer (not shown) is mixed in the sealing material 40 to keep the distance between the pair of substrates constant.

額縁状に配置されたシール材４０の内側には、同じく額縁状に額縁遮光膜２１が設けられている。額縁遮光膜２１は、例えば、遮光性の金属あるいは金属酸化物などからなり、対向基板２０側に設けられている。そして、額縁遮光膜２１の内側が画素領域Ｅとなっている。画素領域Ｅには、マトリクス状に画素Ｐが複数配置されている。なお、図１では図示省略したが、画素領域Ｅにおいても複数の画素Ｐを平面的に区分する遮光部が設けられている。   A frame light shielding film 21 is similarly provided in a frame shape inside the seal material 40 arranged in a frame shape. The frame light shielding film 21 is made of, for example, a light shielding metal or metal oxide, and is provided on the counter substrate 20 side. The inner side of the frame light shielding film 21 is a pixel region E. In the pixel region E, a plurality of pixels P are arranged in a matrix. Although not shown in FIG. 1, the pixel region E is also provided with a light-shielding portion that divides a plurality of pixels P in a plane.

素子基板１０の１辺部には、１辺部に沿ったシール材４０との間にデータ線駆動回路１０１が設けられている。また、該１辺部に対向する他の１辺部に沿ったシール材４０の内側に検査回路１０３が設けられている。更に、該１辺部と直交し互いに対向する他の２辺部に沿ったシール材４０の内側には、走査線駆動回路１０２が設けられている。   A data line driving circuit 101 is provided between one side of the element substrate 10 and the sealing material 40 along one side. Further, an inspection circuit 103 is provided inside the sealing material 40 along the other one side facing the one side. Further, a scanning line driving circuit 102 is provided inside the sealing material 40 along the other two sides that are orthogonal to the one side and face each other.

１辺部と対向する他の１辺部のシール材４０の内側には、２つの走査線駆動回路１０２を繋ぐ複数の配線１０５が設けられている。これらデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０２に繋がる配線１０５は、該１辺部に沿って配列した複数の外部接続端子１０４に接続されている。以降、１辺部に沿った方向をＸ方向とし、１辺部と直交し互いに対向する他の２辺部に沿った方向をＹ方向として説明する。   A plurality of wirings 105 that connect the two scanning line driving circuits 102 are provided inside the sealing material 40 on the other side facing the one side. Wirings 105 connected to the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 102 are connected to a plurality of external connection terminals 104 arranged along the one side. In the following description, the direction along one side is defined as the X direction, and the direction along the other two sides perpendicular to the one side and facing each other is defined as the Y direction.

図１（ｂ）に示すように、素子基板１０の液晶層５０側の表面には、画素Ｐごとに設けられた光透過性を有する画素電極１５及びスイッチング素子としてのＴＦＴ３０と、信号配線と、これらを覆う第１配向膜１８とが形成されている。また、素子基板１０の表面には、ＴＦＴ３０における半導体層に光が入射して光リーク電流が流れ、不適切なスイッチング動作となることを防ぐ遮光構造が採用されている。   As shown in FIG. 1B, on the surface of the element substrate 10 on the liquid crystal layer 50 side, a light-transmitting pixel electrode 15 provided for each pixel P, a TFT 30 as a switching element, a signal wiring, A first alignment film 18 covering these is formed. Further, a light shielding structure is employed on the surface of the element substrate 10 to prevent light from entering the semiconductor layer of the TFT 30 and causing a light leakage current to flow, resulting in an inappropriate switching operation.

対向基板２０の液晶層５０側の表面には、額縁遮光膜２１と、これを覆うように成膜された層間膜２２と、層間膜２２を覆うように設けられた光透過性を有する共通電極２３と、共通電極２３を覆う第２配向膜２４とが設けられている。   On the surface of the counter substrate 20 on the liquid crystal layer 50 side, a frame light shielding film 21, an interlayer film 22 formed so as to cover the frame light shielding film 21, and a light-transmitting common electrode provided so as to cover the interlayer film 22 23 and a second alignment film 24 covering the common electrode 23.

額縁遮光膜２１は、図１（ａ）に示すように、平面的にデータ線駆動回路１０１や走査線駆動回路１０２、検査回路１０３と重なる位置において額縁状に設けられている。これにより、対向基板２０側から入射する光を遮蔽して、これらの駆動回路を含む周辺回路の光による誤動作を防止する役目を果たしている。また、不必要な迷光が画素領域Ｅに入射しないように遮蔽して、画素領域Ｅの表示における高いコントラストを確保している。   As shown in FIG. 1A, the frame light-shielding film 21 is provided in a frame shape at a position overlapping the data line driving circuit 101, the scanning line driving circuit 102, and the inspection circuit 103 in plan view. Accordingly, the light incident from the counter substrate 20 side is shielded, and the malfunction of the peripheral circuits including these drive circuits due to the light is prevented. Further, unnecessary stray light is shielded from entering the pixel region E to ensure high contrast in the display of the pixel region E.

層間膜２２は、例えば、酸化シリコンなどの無機材料からなり、光透過性を有して額縁遮光膜２１を覆うように設けられている。このような層間膜２２の形成方法としては、例えば、プラズマＣＶＤ法などを用いて成膜する方法が挙げられる。   The interlayer film 22 is made of, for example, an inorganic material such as silicon oxide, and is provided so as to cover the frame light-shielding film 21 with optical transparency. Examples of a method for forming such an interlayer film 22 include a method of forming a film using a plasma CVD method or the like.

共通電極２３は、例えば、ＩＴＯなどの透明導電膜からなり、層間膜２２を覆うと共に、図１（ａ）に示すように、対向基板２０の四隅に設けられた上下導通部１０６により素子基板１０側の配線１０５に電気的に接続されている。   The common electrode 23 is made of, for example, a transparent conductive film such as ITO, and covers the interlayer film 22 and, as shown in FIG. 1A, the element substrate 10 by the vertical conduction portions 106 provided at the four corners of the counter substrate 20. It is electrically connected to the wiring 105 on the side.

画素電極１５を覆う第１配向膜１８及び共通電極２３を覆う第２配向膜２４は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ₂）などからなる無機配向膜によって構成されている。本実施形態では、負の誘電異方性を有する液晶分子が配向膜面に対してプレチルトを与えられて垂直配向するように、所定の方向に配向処理が施されたものである。 The first alignment film 18 that covers the pixel electrode 15 and the second alignment film 24 that covers the common electrode 23 are composed of, for example, an inorganic alignment film made of silicon oxide (SiO ₂ ) or the like. In the present embodiment, alignment treatment is performed in a predetermined direction so that liquid crystal molecules having negative dielectric anisotropy are pre-tilted with respect to the alignment film surface and vertically aligned.

また、本実施形態では、画素領域Ｅは実効的な表示がなされる表示領域と、表示領域を囲む周辺領域とを含むものである。周辺領域に配置された画素Ｐはダミー画素として扱われている。   In the present embodiment, the pixel area E includes a display area where effective display is performed and a peripheral area surrounding the display area. Pixels P arranged in the peripheral area are treated as dummy pixels.

図２に示すように、液晶装置１００は、少なくとも画素領域Ｅにおいて互いに絶縁されて直交する複数の走査線３ａ及び複数のデータ線６ａと、データ線６ａに対して一定の間隔をおいて平行するように配置された容量線３ｂとを有する。なお、走査線３ａが延在する方向がＸ方向であり、データ線６ａが延在する方向がＹ方向である。   As shown in FIG. 2, the liquid crystal device 100 is parallel to the data lines 6a with a plurality of scanning lines 3a and a plurality of data lines 6a that are insulated and orthogonal to each other at least in the pixel region E. The capacitor line 3b is arranged as described above. The direction in which the scanning line 3a extends is the X direction, and the direction in which the data line 6a extends is the Y direction.

走査線３ａとデータ線６ａならびに容量線３ｂと、これらの信号線類により区分された領域に、画素電極１５と、ＴＦＴ３０と、保持容量１６とが設けられ、これらが画素Ｐの画素回路を構成している。   A pixel electrode 15, a TFT 30, and a storage capacitor 16 are provided in a region divided by the scanning line 3a, the data line 6a, the capacitor line 3b, and these signal lines, and these constitute a pixel circuit of the pixel P. doing.

ＴＦＴ３０のゲートは走査線３ａに電気的に接続され、ＴＦＴ３０のソースはデータ線６ａに電気的に接続されている。画素電極１５は、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されている。   The gate of the TFT 30 is electrically connected to the scanning line 3a, and the source of the TFT 30 is electrically connected to the data line 6a. The pixel electrode 15 is electrically connected to the drain of the TFT 30.

データ線６ａは、データ線駆動回路１０１（図１参照）に接続されており、データ線駆動回路１０１から供給される画像信号Ｄ１，Ｄ２，…，Ｄｎを画素Ｐに供給する。走査線３ａは、走査線駆動回路１０２（図１参照）に接続されており、走査線駆動回路１０２から供給される走査信号ＳＣ１，ＳＣ２，…，ＳＣｍを各画素Ｐに供給する。   The data line 6a is connected to the data line driving circuit 101 (see FIG. 1), and supplies image signals D1, D2,..., Dn supplied from the data line driving circuit 101 to the pixels P. The scanning line 3a is connected to the scanning line driving circuit 102 (see FIG. 1), and supplies the scanning signals SC1, SC2,..., SCm supplied from the scanning line driving circuit 102 to each pixel P.

データ線駆動回路１０１からデータ線６ａに供給される画像信号Ｄ１〜Ｄｎは、この順に線順次で供給してもよく、互いに隣接する複数のデータ線６ａ同士に対してグループごとに供給してもよい。走査線駆動回路１０２は、走査線３ａに対して、走査信号ＳＣ１〜ＳＣｍを所定のタイミングで、互いに重複しないパルス信号として順次供給する。   The image signals D1 to Dn supplied from the data line driving circuit 101 to the data lines 6a may be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied for each of a plurality of adjacent data lines 6a for each group. Good. The scanning line driving circuit 102 sequentially supplies the scanning signals SC1 to SCm to the scanning line 3a as pulse signals that do not overlap each other at a predetermined timing.

液晶装置１００は、スイッチング素子であるＴＦＴ３０が走査信号ＳＣ１〜ＳＣｍの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線６ａから供給される画像信号Ｄ１〜Ｄｎが所定のタイミングで画素電極１５に書き込まれる構成となっている。そして、画素電極１５を介して液晶層５０に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｄ１〜Ｄｎは、画素電極１５と液晶層５０を介して対向配置された共通電極２３との間で一定期間保持される。   In the liquid crystal device 100, the TFT 30 that is a switching element is turned on for a certain period by the input of the scanning signals SC1 to SCm, so that the image signals D1 to Dn supplied from the data line 6a are supplied to the pixel electrode 15 at a predetermined timing. It is the structure written in. The predetermined level of image signals D1 to Dn written to the liquid crystal layer 50 via the pixel electrode 15 is held for a certain period between the pixel electrode 15 and the common electrode 23 arranged to face each other via the liquid crystal layer 50. The

保持された画像信号Ｄ１〜Ｄｎがリークするのを防止するため、画素電極１５と共通電極２３との間に形成される液晶容量と並列に保持容量１６が接続されている。保持容量１６は、ＴＦＴ３０のドレインと容量線３ｂとの間に設けられている。   In order to prevent the held image signals D1 to Dn from leaking, the holding capacitor 16 is connected in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 15 and the common electrode 23. The storage capacitor 16 is provided between the drain of the TFT 30 and the capacitor line 3b.

なお、図１（ａ）に示した検査回路１０３には、データ線６ａが接続されており、液晶装置１００の製造過程において、上記画像信号を検出することで液晶装置１００の動作欠陥などを確認できる構成となっているが、図２の等価回路では省略している。また、検査回路１０３は、上記画像信号をサンプリングしてデータ線６ａに供給するサンプリング回路、データ線６ａに所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して供給するプリチャージ回路を含むものとしてもよい。   Note that a data line 6a is connected to the inspection circuit 103 shown in FIG. 1A, and an operation defect or the like of the liquid crystal device 100 is confirmed by detecting the image signal in the manufacturing process of the liquid crystal device 100. Although it can be configured, it is omitted in the equivalent circuit of FIG. The inspection circuit 103 includes a sampling circuit that samples the image signal and supplies it to the data line 6a, and a precharge circuit that supplies a precharge signal of a predetermined voltage level to the data line 6a prior to the image signal. Also good.

このような液晶装置１００は、例えば透過型であって、画素Ｐが非駆動時に明表示となるノーマリーホワイトモードや、非駆動時に暗表示となるノーマリーブラックモードの光学設計が採用される。光の入射側と射出側とにそれぞれ偏光素子が上記光学設計に応じて配置されて用いられる。   Such a liquid crystal device 100 is, for example, a transmissive type, and adopts an optical design of a normally white mode in which the pixel P is brightly displayed when not driven and a normally black mode in which the pixel P is darkly displayed when not driven. Polarizing elements are arranged and used according to the optical design on the light incident side and the light exit side, respectively.

＜欠点評価システムの構成＞
図３は、上記した液晶装置の欠点評価システムの構成を示す模式図である。以下、欠点評価システムの構成について、図３を参照しながら説明する。 <Configuration of defect evaluation system>
FIG. 3 is a schematic diagram showing a configuration of the defect evaluation system for the liquid crystal device described above. Hereinafter, the configuration of the defect evaluation system will be described with reference to FIG.

図３に示すように、本実施形態の欠点評価システム２００は、液晶装置１００を備えた投射型表示装置１０００と、チェッカー２１０と、投射画像３０１を表示するスクリーン１３００とを備えている。まず、液晶装置１００が備えられる投射型表示装置１０００の構成について説明する。   As shown in FIG. 3, the defect evaluation system 200 of this embodiment includes a projection display device 1000 including a liquid crystal device 100, a checker 210, and a screen 1300 that displays a projection image 301. First, the configuration of the projection display device 1000 provided with the liquid crystal device 100 will be described.

投射型表示装置１０００は、システム光軸Ｌに沿って配置された偏光照明装置１１００と、光分離素子としての２つのダイクロイックミラー１１０４，１１０５と、３つの反射ミラー１１０６，１１０７，１１０８と、５つのリレーレンズ１２０１，１２０２，１２０３，１２０４，１２０５と、３つの光変調手段としての透過型の液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０と、光合成素子としてのクロスダイクロイックプリズム１２０６と、投射レンズ１２０７とを備えている。   The projection display apparatus 1000 includes a polarization illumination apparatus 1100 arranged along the system optical axis L, two dichroic mirrors 1104 and 1105 as light separation elements, three reflection mirrors 1106, 1107, and 1108, and five Relay lenses 1201, 1202, 1203, 1204, 1205, transmissive liquid crystal light valves 1210, 1220, 1230 as three light modulation means, a cross dichroic prism 1206 as a light combining element, and a projection lens 1207. Yes.

偏光照明装置１１００は、超高圧水銀灯やハロゲンランプなどの白色光源からなる光源としてのランプユニット１１０１と、インテグレーターレンズ１１０２と、偏光変換素子１１０３とから概略構成されている。   The polarized light illumination device 1100 is generally configured by a lamp unit 1101 as a light source composed of a white light source such as an ultra-high pressure mercury lamp or a halogen lamp, an integrator lens 1102, and a polarization conversion element 1103.

ダイクロイックミラー１１０４は、偏光照明装置１１００から射出された偏光光束のうち、赤色光（Ｒ）を反射させ、緑色光（Ｇ）と青色光（Ｂ）とを透過させる。もう１つのダイクロイックミラー１１０５は、ダイクロイックミラー１１０４を透過した緑色光（Ｇ）を反射させ、青色光（Ｂ）を透過させる。   The dichroic mirror 1104 reflects red light (R) and transmits green light (G) and blue light (B) among the polarized light beams emitted from the polarization illumination device 1100. Another dichroic mirror 1105 reflects the green light (G) transmitted through the dichroic mirror 1104 and transmits the blue light (B).

ダイクロイックミラー１１０４で反射した赤色光（Ｒ）は、反射ミラー１１０６で反射した後にリレーレンズ１２０５を経由して液晶ライトバルブ１２１０に入射する。ダイクロイックミラー１１０５で反射した緑色光（Ｇ）は、リレーレンズ１２０４を経由して液晶ライトバルブ１２２０に入射する。ダイクロイックミラー１１０５を透過した青色光（Ｂ）は、３つのリレーレンズ１２０１，１２０２，１２０３と２つの反射ミラー１１０７，１１０８とからなる導光系を経由して液晶ライトバルブ１２３０に入射する。   The red light (R) reflected by the dichroic mirror 1104 is reflected by the reflection mirror 1106 and then enters the liquid crystal light valve 1210 via the relay lens 1205. Green light (G) reflected by the dichroic mirror 1105 enters the liquid crystal light valve 1220 via the relay lens 1204. The blue light (B) transmitted through the dichroic mirror 1105 enters the liquid crystal light valve 1230 via a light guide system including three relay lenses 1201, 1202, 1203 and two reflection mirrors 1107, 1108.

液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０は、クロスダイクロイックプリズム１２０６の色光ごとの入射面に対してそれぞれ対向配置されている。液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０に入射した色光は、映像情報（映像信号）に基づいて変調されクロスダイクロイックプリズム１２０６に向けて射出される。このプリズムは、４つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって３つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が合成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ１２０７によってスクリーン１３００上に投射され、画像が拡大されて表示される。   The liquid crystal light valves 1210, 1220, and 1230 are disposed to face the incident surfaces of the cross dichroic prism 1206 for each color light. The color light incident on the liquid crystal light valves 1210, 1220, and 1230 is modulated based on video information (video signal) and emitted toward the cross dichroic prism 1206. In this prism, four right-angle prisms are bonded together, and a dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are formed in a cross shape on the inner surface thereof. The three color lights are synthesized by these dielectric multilayer films, and the light representing the color image is synthesized. The synthesized light is projected on the screen 1300 by the projection lens 1207 which is a projection optical system, and the image is enlarged and displayed.

液晶ライトバルブ１２１０は、上述した液晶装置１００が適用されたものである。液晶装置１００は、色光の入射側と射出側とにおいてクロスニコルに配置された一対の偏光素子の間に隙間を置いて配置されている。他の液晶ライトバルブ１２２０，１２３０も同様である。   The liquid crystal light valve 1210 is the one to which the liquid crystal device 100 described above is applied. The liquid crystal device 100 is arranged with a gap between a pair of polarizing elements arranged in crossed Nicols on the incident side and the emission side of colored light. The same applies to the other liquid crystal light valves 1220 and 1230.

チェッカー２１０は、液晶装置１００に電源を供給する。また、チェッカー２１０は、投射された投射画像における任意の位置に、擬似欠点表示部としての擬似欠点ウインド５００を表示させる制御部を備える。   The checker 210 supplies power to the liquid crystal device 100. The checker 210 includes a control unit that displays a pseudo defect window 500 as a pseudo defect display unit at an arbitrary position in the projected image.

上記したような投射型表示装置１０００を備えた欠点評価システム２００の評価方法としては、例えば、評価したい液晶装置１００（液晶パネル）（例えば、Ｇ用の液晶装置１００）を液晶ライトバルブ１２２０に配置する。この液晶装置１００は、チェッカー２１０に電気的に接続されており、電源が供給される。次に、偏光照明装置１１００から射出された偏光光束のうち、緑色光（Ｇ）を透過させる。つまり、本実施形態では、各色ごと単色で液晶装置１００の評価を行う。   As an evaluation method of the defect evaluation system 200 including the projection display device 1000 as described above, for example, a liquid crystal device 100 (liquid crystal panel) to be evaluated (for example, a liquid crystal device 100 for G) is disposed in the liquid crystal light valve 1220. To do. The liquid crystal device 100 is electrically connected to a checker 210 and supplied with power. Next, green light (G) is transmitted among the polarized light beams emitted from the polarization illumination device 1100. That is, in the present embodiment, the liquid crystal device 100 is evaluated with a single color for each color.

その後、液晶装置１００を通過した緑色の光は、クロスダイクロイックプリズム１２０６を通って、投射レンズ１２０７からスクリーン１３００に投射される。そして、スクリーン１３００に投射された投射画像における欠点の合否の評価を行う。   Thereafter, the green light that has passed through the liquid crystal device 100 passes through the cross dichroic prism 1206 and is projected from the projection lens 1207 onto the screen 1300. Then, the acceptance / rejection of defects in the projected image projected on the screen 1300 is evaluated.

なお、Ｒ用の液晶装置１００（Ｒ）、Ｂ用の液晶装置１００（Ｂ）も同様に、評価したい液晶装置１００にチェッカー２１０を電気的に接続し、それぞれスクリーン１３００に画像を投射して欠点を評価する。次に、欠点の評価方法について、具体的に説明する。   Similarly, the liquid crystal device 100 (R) for R and the liquid crystal device 100 (B) for B are also connected to the liquid crystal device 100 to be evaluated by electrically connecting the checker 210 and projecting an image on the screen 1300 respectively. To evaluate. Next, the defect evaluation method will be specifically described.

＜欠点の評価方法＞
図４は、液晶装置の欠点を評価する欠点の評価方法を示すフローチャートである。図５〜図７は、評価方法の一部を示す模式平面図である。以下、欠点の評価方法を、図４〜図７を参照しながら説明する。まず、図３に示す投射型表示装置のライトバルブに、評価したい液晶装置を配置する。 <Defect evaluation method>
FIG. 4 is a flowchart showing a defect evaluation method for evaluating the defects of the liquid crystal device. 5 to 7 are schematic plan views showing a part of the evaluation method. Hereinafter, the defect evaluation method will be described with reference to FIGS. First, the liquid crystal device to be evaluated is placed on the light valve of the projection display device shown in FIG.

次に、図４に示すように、ステップＳ１１（投射工程）では、評価する液晶装置１００とチェッカー２１０とを電気的に接続し、液晶装置１００を介した画像を投射画像３０１としてスクリーン１３００に投射する（図５参照）。   Next, as shown in FIG. 4, in step S <b> 11 (projection process), the liquid crystal device 100 to be evaluated and the checker 210 are electrically connected, and an image via the liquid crystal device 100 is projected as a projection image 301 onto the screen 1300. (See FIG. 5).

次に、ステップＳ１２では、欠点４００を確認する。具体的には、投射された投射画像３０１を目視で確認し、欠点４００があるか否かを確認する。欠点４００としては、例えば、大きさや階調などである。なお、ＴＦＴ３０が動作していない点欠陥や、所定の輝度が得られない点欠陥なども含む。また、階調には、輝点やシミなどが含まれる。   Next, in step S12, the defect 400 is confirmed. Specifically, the projected image 301 projected is visually confirmed to check whether there is a defect 400 or not. The defect 400 includes, for example, size and gradation. Note that a point defect in which the TFT 30 is not operating and a point defect in which a predetermined luminance cannot be obtained are also included. The gradation includes bright spots and spots.

次に、ステップＳ１３（表示工程）では、投射画像３０１に擬似欠点表示部としての擬似欠点ウインド５００を表示させる。具体的には、図５に示すように、例えば、パソコンのファンクションキーを用いて、登録してある限度見本（擬似的な欠点）となる擬似欠点５０１を投射画像３０１の第１ポジション４１０に表示させる。なお、擬似欠点ウインド５００の機能は、例えば、上記したチェッカー２１０に備えられている。   Next, in step S13 (display step), a pseudo defect window 500 as a pseudo defect display unit is displayed on the projection image 301. Specifically, as shown in FIG. 5, for example, a pseudo defect 501 that is a registered limit sample (pseudo defect) is displayed at the first position 410 of the projection image 301 by using a function key of a personal computer. Let The function of the pseudo defect window 500 is provided in the checker 210 described above, for example.

次に、ステップＳ１４では、擬似欠点ウインド５００を、投射画像３０１の欠点４００に近づける。具体的には、図５に示すように、第１ポジション４１０に表示された擬似欠点ウインド５００を、欠点４００の近くである第２ポジション４２０に移動させる。擬似欠点ウインド５００を移動させる方法としては、例えば、パソコンの方向キーやマウスなどを用いて欠点４００の近くに移動させることができる。   Next, in step S <b> 14, the pseudo defect window 500 is brought close to the defect 400 of the projection image 301. Specifically, as shown in FIG. 5, the pseudo defect window 500 displayed at the first position 410 is moved to the second position 420 near the defect 400. As a method of moving the pseudo defect window 500, for example, it can be moved near the defect 400 using a direction key of a personal computer or a mouse.

次に、ステップＳ１５（評価工程）では、判断基準となる擬似欠点５０１と欠点４００とを比較して、欠点４００が良品であるか否かを評価する。擬似欠点５０１は、例えば、中間調で表示される。また、擬似欠点ウインド５００の領域全体を中間調にするようにしてもよい。また、中間調であることに限定されず、例えば、製品に応じて変更するようにしてもよい。   Next, in step S15 (evaluation step), the pseudo defect 501 and the defect 400, which are judgment criteria, are compared to evaluate whether or not the defect 400 is a non-defective product. The pseudo defect 501 is displayed in a halftone, for example. Further, the entire area of the pseudo defect window 500 may be made halftone. Moreover, it is not limited to a halftone, and may be changed according to the product, for example.

比較（評価）する項目としては、例えば、欠点４００の大きさ、欠点４００の階調などである。なお、欠点４００の大きさを比較する方法として、図５に示すように、欠点４００の近くに擬似欠点ウインド５００を近づけて比較する方法や、図６に示すように、欠点４００に擬似欠点ウインド５００を重ねて比較するようにしてもよい。   Items to be compared (evaluated) include, for example, the size of the defect 400, the gradation of the defect 400, and the like. As a method of comparing the size of the defect 400, as shown in FIG. 5, the method of comparing the pseudo defect window 500 close to the defect 400, or the method of comparing the defect 400 with the defect 400 as shown in FIG. You may make it compare by overlapping 500. FIG.

また、階調を比較する場合においても、欠点４００に擬似欠点ウインド５００を近づけて比較するようにしてもよいし、欠点４００の一部と擬似欠点５０１の一部とを重ねて表示することにより比較するようにしてもよい。   Also, in the case of comparing gradations, the pseudo defect window 500 may be compared with the defect 400, or a part of the defect 400 and a part of the pseudo defect 501 are displayed in an overlapping manner. You may make it compare.

また、欠点４００の大きさや階調などを、別々の擬似欠点ウインドに表示させるようにしてもよいし、１つの擬似欠点ウインドの中に含めて表示させるようにしてもよい。   Further, the size and gradation of the defect 400 may be displayed in separate pseudo defect windows, or may be displayed in one pseudo defect window.

このように、実際に使用する状態（投射型表示装置１０００（プロジェクター）によってスクリーン１３００に画像を投射して見る状態）で欠点４００を評価するので、例えば、ＣＣＤカメラを用いて液晶装置１００の欠点４００を撮像し、撮像した画像と擬似欠点の画像とを比較する方法と比較して、ＣＣＤカメラの解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点４００の評価を行うことができる。   As described above, since the defect 400 is evaluated in a state of actual use (a state in which an image is projected onto the screen 1300 by the projection display device 1000 (projector)), for example, the defect of the liquid crystal device 100 using a CCD camera is evaluated. The defect 400 can be evaluated without being affected by the resolution, light sensitivity, etc. of the CCD camera as compared with the method of capturing the image 400 and comparing the captured image and the pseudo defect image.

次に、図７を参照しながら、擬似欠点ウインド５００の表示を、投射された投射画像３０１の中央領域４５０と、中央領域４５０より外側の周辺領域４６０とによって切り替える機能について説明する。   Next, a function of switching the display of the pseudo defect window 500 between the central region 450 of the projected image 301 and the peripheral region 460 outside the central region 450 will be described with reference to FIG.

図７（ａ）に示すように、欠点４００が周辺領域４６０にある場合を説明する。この場合、上記したように、ファンクションキーを押して、登録された限度見本となる擬似欠点ウインド５００を表示させる。   As shown in FIG. 7A, a case where the defect 400 is in the peripheral region 460 will be described. In this case, as described above, the function key is pressed to display the pseudo defect window 500 serving as the registered limit sample.

次に、擬似欠点ウインド５００を第１ポジション４１０から周辺領域４６０の第２ポジション４２０に移動させる。ここで、擬似欠点ウインド５００を欠点４００に近づけて比較したり、欠点４００に重ねたりして比較する。   Next, the pseudo defect window 500 is moved from the first position 410 to the second position 420 in the peripheral region 460. Here, the pseudo defect window 500 is compared with the defect 400 or compared with the defect 400 for comparison.

この後、図７（ｂ）に示すように、中央領域４５０にある欠点４０１の評価を行う。まず、擬似欠点ウインド５００を周辺領域４６０から中央領域４５０に移動する。このとき、周辺領域用の擬似欠点ウインド５００から中央領域用の擬似欠点ウインド５００ａに表示を切り替える。   Thereafter, as shown in FIG. 7B, the defect 401 in the central region 450 is evaluated. First, the pseudo defect window 500 is moved from the peripheral area 460 to the central area 450. At this time, the display is switched from the pseudo defect window 500 for the peripheral area to the pseudo defect window 500a for the central area.

具体的には、例えば、中央領域４５０にある欠点４０１が周辺領域４６０にある欠点４００と比較して、欠点が目立つことによる限度が厳しい場合、擬似欠点ウインド５００を中央領域４５０に移動した際、擬似欠点５０２の大きさが小さくなる。また、擬似欠点５０２の階調が変わるようにしてもよい。なお、中央領域４５０と周辺領域４６０とは、ＸとＹとの座標で区分けされるようになっている。   Specifically, for example, when the limit due to the conspicuousness of the defect is severe compared to the defect 400 in the peripheral region 460, the defect 401 in the central region 450 is moved to the central region 450, The size of the pseudo defect 502 is reduced. Further, the gradation of the pseudo defect 502 may be changed. Note that the central region 450 and the peripheral region 460 are divided by the coordinates of X and Y.

このように、周辺領域４６０と中央領域４５０とにおいて、それぞれ別々に擬似欠点ウインド５００，５００ａを登録しておくことにより、欠点４００，４０１のある領域に擬似欠点ウインド５００が差し掛かると、その領域にあった限度規格の擬似欠点５０１，５０２に変更される。よって、煩わしい操作を必要とすることなく、欠点４００，４０１の評価を行うことができる。   In this way, by registering the pseudo defect window 500, 500a separately in the peripheral area 460 and the central area 450, respectively, when the pseudo defect window 500 reaches the area where the defect 400, 401 exists, that area The pseudo-defects 501 and 502 of the limit standard conforming to the above are changed. Therefore, the defects 400 and 401 can be evaluated without requiring a troublesome operation.

以上詳述したように、本実施形態の欠点評価システム２００、及び欠点４００，４０１の評価方法によれば、以下に示す効果が得られる。   As described above in detail, according to the defect evaluation system 200 of this embodiment and the evaluation method of the defects 400 and 401, the following effects can be obtained.

（１）本実施形態の欠点評価システム２００及び欠点４００，４０１の評価方法によれば、投射型表示装置１０００によって画像をスクリーン１３００に投射し、スクリーン１３００上で擬似欠点ウインド５００を任意の位置（欠点４００，４０１の近く）に移動表示して欠点４００，４０１と擬似欠点５０１とを比較するので、例えば、従来のようにカメラを用いて評価する場合と比較して、解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点４００，４０１の評価を行うことができる。また、擬似欠点５０１を用いて比較するので、評価する人によってばらつきが発生したり、離れた場所で評価を行う場合にばらつき発生したりすることを抑えることができる。加えて、スクリーン１３００に投射した投射画像３０１を見ながら評価を行うので、例えば、投射型表示装置１０００（プロジェクター）の光源（ランプユニット１１０１）の温度が液晶装置１００に加わった状態（実使用条件）で発生する欠点４００，４０１の評価を行うことができる。   (1) According to the defect evaluation system 200 and the evaluation methods of the defects 400 and 401 of the present embodiment, an image is projected onto the screen 1300 by the projection display device 1000, and the pseudo defect window 500 is placed on the screen 1300 at an arbitrary position ( Since the defect 400, 401 and the pseudo defect 501 are compared with each other by moving and displaying near the defect 400, 401, for example, in comparison with the case where the evaluation is performed using the camera as in the conventional case, the resolution, the light sensitivity, etc. The defects 400 and 401 can be evaluated without being affected. Further, since the comparison is performed using the pseudo defect 501, it is possible to suppress the occurrence of variation depending on the person to be evaluated or the occurrence of variation when performing evaluation at a remote location. In addition, since the evaluation is performed while viewing the projected image 301 projected on the screen 1300, for example, a state where the temperature of the light source (lamp unit 1101) of the projection display device 1000 (projector) is applied to the liquid crystal device 100 (actual use conditions) ) Can be evaluated.

（２）本実施形態の欠点評価システム２００及び欠点４００，４０１の評価方法によれば、中央領域４５０と周辺領域４６０とによって擬似欠点５０１の表示を変えるので、例えば、中央領域４５０と周辺領域４６０で欠点４００，４０１の限度が異なるような場合など、要望に合った評価を行うことができる。   (2) According to the defect evaluation system 200 and the evaluation method of the defects 400 and 401 according to the present embodiment, the display of the pseudo defect 501 is changed depending on the central area 450 and the peripheral area 460. For example, the central area 450 and the peripheral area 460 are displayed. Thus, it is possible to perform an evaluation that meets the demand, such as when the limits of the defects 400 and 401 are different.

なお、本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、本発明の技術範囲に含まれるものである。また、以下のような形態で実施することもできる。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately changed without departing from the spirit or concept of the invention that can be read from the claims and the entire specification, and is included in the technical scope of the present invention. Is. Moreover, it can also implement with the following forms.

（変形例１）
上記したように、評価する欠点４００，４０１の具体例として、欠点４００，４０１の大きさや階調などを評価することに加えて、図８に示すような、欠点４０１が集まっている（近接する）場合の評価を行うようにしてもよい。図８は、変形例の投射画像を示す模式平面図である。図８に示す投射画像３１１は、第１欠点４０１ａと第２欠点４０１ｂとの間の距離Ｗ１の評価を行っている。 (Modification 1)
As described above, as specific examples of the defects 400 and 401 to be evaluated, in addition to evaluating the sizes and gradations of the defects 400 and 401, the defects 401 as illustrated in FIG. ) You may make it evaluate the case. FIG. 8 is a schematic plan view showing a projection image of a modification. The projection image 311 shown in FIG. 8 evaluates the distance W1 between the first defect 401a and the second defect 401b.

例えば、投射画像３１１の第１欠点４０１ａと第２欠点４０１ｂとの間の距離Ｗ１と、擬似欠点ウインド５１０の第１擬似欠点５０１ａと第２擬似欠点５０１ｂとの間の距離Ｗ２とを比較して、欠点４０１ａ，４０１ｂの距離Ｗ１の間隔が広ければ良品と判断し、距離Ｗ１の間隔が狭ければ、欠点４０１ａ，４０１ｂが目立つため不良品と判断する。これによれば、欠点４０１ａ，４０１ｂが複数集まっている場合の評価を行うことができる。   For example, the distance W1 between the first defect 401a and the second defect 401b in the projected image 311 is compared with the distance W2 between the first pseudo defect 501a and the second pseudo defect 501b in the pseudo defect window 510. If the distance W1 between the defects 401a and 401b is wide, it is determined as a non-defective product. If the distance W1 is small, the defects 401a and 401b are conspicuous and thus determined as a defective product. According to this, it is possible to perform evaluation when a plurality of defects 401a and 401b are gathered.

（変形例２）
上記したように、評価する欠点４００，４０１の具体例として、欠点４００，４０１の大きさや階調などを評価することに加えて、図９に示すような、各色ごと単色で評価を行うように擬似欠点を各色ごと登録しておくようにしてもよい。図９は、変形例の投射画像を示す模式平面図である。図９に示す投射画像３１２は、Ｒ用の擬似欠点ウインド５２０、Ｇ用の擬似欠点ウインド５３０、Ｂ用の擬似欠点ウインド５４０を表示している。このように、各色ごと別々に擬似欠点ウインド５２０，５３０，５４０を登録しておくことにより、色ごとの規格に対して欠点の評価を行うことができる。 (Modification 2)
As described above, as specific examples of the defects 400 and 401 to be evaluated, in addition to evaluating the size and gradation of the defects 400 and 401, the evaluation is performed for each color as a single color as shown in FIG. Pseudo defects may be registered for each color. FIG. 9 is a schematic plan view showing a projection image of a modified example. The projection image 312 shown in FIG. 9 displays a pseudo defect window 520 for R, a pseudo defect window 530 for G, and a pseudo defect window 540 for B. In this way, by registering the pseudo defect window 520, 530, 540 for each color separately, it is possible to evaluate the defect with respect to the standard for each color.

（変形例３）
上記したように、擬似欠点ウインド５００を欠点４００，４０１に近づけたり重ね合わせたりして評価することに限定されず、例えば、図１０に示すようにして評価するようにしてもよい。図１０は、変形例の投射画像を示す模式平面図である。図１０に示す投射画像３１３は、擬似欠点ウインド５００を回転させて、向きが変わった擬似欠点５０１と欠点４００とを比較している。これによれば、特に、欠点４００が対称性のない形状だった場合、欠点４００と擬似欠点５０１の形状が揃うように、擬似欠点ウインド５００を回転させることにより、欠点４００の評価をより精度高く行うことができる。 (Modification 3)
As described above, the evaluation is not limited to evaluating the pseudo defect window 500 close to or overlapping the defects 400 and 401. For example, the evaluation may be performed as shown in FIG. FIG. 10 is a schematic plan view showing a projection image of a modification. A projection image 313 shown in FIG. 10 compares the pseudo defect 501 and the defect 400 whose directions are changed by rotating the pseudo defect window 500. According to this, particularly when the defect 400 has a non-symmetric shape, the defect 400 is evaluated with higher accuracy by rotating the pseudo defect window 500 so that the shapes of the defect 400 and the pseudo defect 501 are aligned. It can be carried out.

（変形例４）
上記したように、擬似欠点５０１の階調は、投射画像３０１の階調が変化した場合でも、所定の階調である中間調になるように補正するようにしてもよい。なお、補正する補正動作機能は、例えば、上記したチェッカー２１０に備えられている。これによれば、基準となる擬似欠点５０１の階調が変わることがないので、ラスター画面にして擬似欠点５０１の階調が振られた場合でも、安定した評価を行うことができる。また、擬似欠点５０１が中間調であることに限定されず、投射画像３０１によって階調を変えるようにしてもよい。 (Modification 4)
As described above, the gradation of the pseudo defect 501 may be corrected so as to be a halftone that is a predetermined gradation even when the gradation of the projection image 301 is changed. The correction operation function for correction is provided in the checker 210 described above, for example. According to this, since the gradation of the pseudo defect 501 as a reference does not change, stable evaluation can be performed even when the gradation of the pseudo defect 501 is changed on a raster screen. Further, the pseudo defect 501 is not limited to the halftone, and the gradation may be changed depending on the projection image 301.

（変形例５）
上記したように、電気光学装置は、液晶装置１００に限定されず、例えば、有機ＥＬ装置、プラズマ装置、シリコン基板を用いた半導体装置などに適用するようにしてもよい。 (Modification 5)
As described above, the electro-optical device is not limited to the liquid crystal device 100, and may be applied to, for example, an organic EL device, a plasma device, a semiconductor device using a silicon substrate, and the like.

３ａ…走査線、３ｂ…容量線、６ａ…データ線、１０…素子基板、１５…画素電極、１６…保持容量、１８…第１配向膜、２０…対向基板、２１…額縁遮光膜、２２…層間膜、２３…共通電極、２４…第２配向膜、３０…ＴＦＴ、４０…シール材、５０…液晶層、１００…電気光学装置としての液晶装置、１０１…データ線駆動回路、１０２…走査線駆動回路、１０３…検査回路、１０４…外部接続端子、１０５…配線、１０６…上下導通部、２００…欠点評価システム、２１０…チェッカー、３０１，３１１，３１２，３１３…投射画像、４００，４０１…欠点、４０１ａ…第１欠点、４０１ｂ…第２欠点、４１０…第１ポジション、４２０…第２ポジション、４５０…中央領域、４６０…周辺領域、５００，５００ａ，５１０，５２０，５３０，５４０…擬似欠点表示部としての擬似欠点ウインド、５０１，５０２…擬似欠点、５０１ａ…第１擬似欠点、５０１ｂ…第２擬似欠点、１０００…投射部としての投射型表示装置、１１００…偏光照明装置、１１０１…ランプユニット、１１０２…インテグレーターレンズ、１１０３…偏光変換素子、１１０４，１１０５…ダイクロイックミラー、１１０６，１１０７，１１０８…反射ミラー、１２０１，１２０２，１２０３，１２０４，１２０５…リレーレンズ、１２０６…クロスダイクロイックプリズム、１２０７…投射レンズ、１２１０，１２２０，１２３０…液晶ライトバルブ、１３００…スクリーン。   3a ... scanning line, 3b ... capacitance line, 6a ... data line, 10 ... element substrate, 15 ... pixel electrode, 16 ... retention capacitor, 18 ... first alignment film, 20 ... counter substrate, 21 ... frame light shielding film, 22 ... Interlayer film, 23 ... common electrode, 24 ... second alignment film, 30 ... TFT, 40 ... sealing material, 50 ... liquid crystal layer, 100 ... liquid crystal device as an electro-optical device, 101 ... data line driving circuit, 102 ... scanning line Drive circuit, 103 ... inspection circuit, 104 ... external connection terminal, 105 ... wiring, 106 ... vertical conduction part, 200 ... defect evaluation system, 210 ... checker, 301, 311, 312, 313 ... projection image, 400, 401 ... defect , 401a, first defect, 401b, second defect, 410, first position, 420, second position, 450, central region, 460, peripheral region, 500, 500a, 510, 520,. 30, 540... Pseudo defect window as a pseudo defect display unit, 501, 502... Pseudo defect, 501 a... First pseudo defect, 501 b. Device 1101 ... Lamp unit 1102 ... Integrator lens 1103 ... Polarization conversion element 1104 1105 ... Dichroic mirror 1106 1107 1108 Reflection mirror 1201 1202 1203 1204 1205 Relay lens 1206 Cross Dichroic prism, 1207 ... projection lens, 1210, 1220, 1230 ... liquid crystal light valve, 1300 ... screen.

Claims (10)

電気光学装置の画像を投射する投射部と、
投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する擬似欠点表示部と、
を備えることを特徴とする欠点評価システム。 A projection unit for projecting an image of the electro-optical device;
A pseudo defect display section that displays a pseudo defect that is a pseudo defect at an arbitrary position in the projected image;
A defect evaluation system comprising: 請求項１に記載の欠点評価システムであって、
前記擬似欠点表示部は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることを特徴とする欠点評価システム。 The defect evaluation system according to claim 1,
The defect evaluation system, wherein the pseudo defect display unit changes the display of the pseudo defect according to an area of a central area in the projection image and a peripheral area that is an area outside the central area. 請求項１又は請求項２に記載の欠点評価システムであって、
前記擬似欠点表示部は、前記投射画像の階調が変化したとき所定の階調になるように調整されることを特徴とする欠点評価システム。 A defect evaluation system according to claim 1 or claim 2,
The defect evaluation system, wherein the pseudo defect display unit is adjusted to have a predetermined gradation when the gradation of the projection image changes. 請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の欠点評価システムであって、
前記擬似欠点表示部は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を別々に表示することを特徴とする欠点評価システム。 A defect evaluation system according to any one of claims 1 to 3,
The said fault defect display part displays the fault defect according to each single color separately in at least three types of color lights separately, The fault evaluation system characterized by the above-mentioned. 請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の欠点評価システムであって、
前記擬似欠点表示部は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも２点の擬似欠点を表示することを特徴とする欠点評価システム。 The defect evaluation system according to any one of claims 1 to 4,
The defect evaluation system, wherein the pseudo defect display unit displays at least two pseudo defects indicating a limit of an interval between defects. 電気光学装置の画像を投射する投射工程と、
投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する表示工程と、
前記投射画像の欠点と前記擬似欠点とを比較して前記欠点が良品であるか否かを評価する評価工程と、
を有することを特徴とする欠点の評価方法。 A projection process for projecting an image of the electro-optical device;
A display step of displaying a pseudo defect, which is a pseudo defect, at an arbitrary position in the projected image,
An evaluation process for evaluating whether the defect is a non-defective product by comparing the defect of the projection image with the pseudo defect,
A defect evaluation method characterized by comprising: 請求項６に記載の欠点の評価方法であって、
前記表示工程は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることを特徴とする欠点の評価方法。 A method for evaluating a defect according to claim 6, comprising:
The defect evaluation method, wherein the display step changes the display of the pseudo defect according to a region of a central region in the projection image and a peripheral region which is a region outside the central region. 請求項６又は請求項７に記載の欠点の評価方法であって、
前記表示工程は、前記投射画像の階調が変化したとき、前記擬似欠点の階調を所定の階調に調整することを特徴とする欠点の評価方法。 A method for evaluating a defect according to claim 6 or claim 7,
In the display step, when the gradation of the projection image changes, the gradation of the pseudo defect is adjusted to a predetermined gradation. 請求項６乃至請求項８のいずれか一項に記載の欠点の評価方法であって、
前記表示工程は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を表示することを特徴とする欠点の評価方法。 A method for evaluating a defect according to any one of claims 6 to 8, comprising:
The said evaluation process displays the pseudo fault according to each single color in at least 3 types of color lights, The evaluation method of the fault characterized by the above-mentioned. 請求項６乃至請求項９のいずれか一項に記載の欠点の評価方法であって、
前記表示工程は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも２つの擬似欠点を表示することを特徴とする欠点の評価方法。 A method for evaluating a defect according to any one of claims 6 to 9,
The display method includes displaying at least two pseudo defects indicating a limit of an interval between defects.

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