JP2013036827A - Defect evaluation system and defect evaluation method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電気光学装置における欠点評価システム、及び欠点の評価方法に関する。 The present invention relates to a defect evaluation system and a defect evaluation method in an electro-optical device.
液晶装置は、例えば、液晶プロジェクターのライトバルブとして用いられるTFT(Thin Film Transistor)アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置がある。この液晶装置は、例えば、配向膜が設けられた一対の基板間に、シール材を介して液晶が注入封止された構造となっている。 Examples of the liquid crystal device include a TFT (Thin Film Transistor) active matrix driving type liquid crystal device used as a light valve of a liquid crystal projector. This liquid crystal device has, for example, a structure in which liquid crystal is injected and sealed between a pair of substrates provided with an alignment film via a sealing material.
このような液晶装置に発生する欠点を評価する方法として、例えば、特許文献1に記載のように、液晶装置のディスプレイをカメラによりで撮像し、撮像した画像とテンプレートとを比較して、欠点の大きさが不良か否かを判定している技術が開示されている。
As a method for evaluating the defects occurring in such a liquid crystal device, for example, as described in
しかしながら、特許文献1に記載の方法では、ディスプレイをカメラで撮像するので、例えば、欠点の階調などを評価する場合、カメラの解像度や光感度によって実際の欠点と異なってしまう恐れがある。よって、正確な欠点評価を行うことが難しいという課題があった。
However, in the method described in
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。 SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.
[適用例1]本適用例に係る欠点評価システムは、電気光学装置の画像を投射する投射部と、投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する擬似欠点表示部と、を備えることを特徴とする。 Application Example 1 A defect evaluation system according to this application example includes a projection unit that projects an image of an electro-optical device, and a pseudo display that displays a pseudo defect that is a pseudo defect at an arbitrary position in the projected image. And a defect display unit.
この構成によれば、画像及び擬似欠点を投射部によって投射し、投射画像において擬似欠点を任意の位置(欠点の近く)に移動して欠点と擬似欠点とを比較するので、例えば、カメラを用いて評価する場合と比較して、解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点の評価を行うことができる。また、擬似欠点を用いて比較するので、評価する人によってばらつきが発生したり、離れた場所で評価を行う場合にばらつき発生したりすることを抑えることができる。加えて、投射部を介して投射画像を見ながら評価を行うので、例えば、プロジェクターの光源の温度が電気光学装置に加わった状態(実使用条件)で発生する欠点の評価を行うことができる。 According to this configuration, the image and the pseudo defect are projected by the projection unit, the pseudo defect is moved to an arbitrary position (near the defect) in the projected image, and the defect and the pseudo defect are compared. As compared with the case of evaluating the defect, the defect can be evaluated without being influenced by the resolution, light sensitivity, and the like. Further, since the comparison is performed using the pseudo defect, it is possible to suppress the occurrence of variations depending on the person to be evaluated or the occurrence of variations when the evaluation is performed at a remote location. In addition, since the evaluation is performed while viewing the projection image through the projection unit, for example, it is possible to evaluate a defect that occurs when the temperature of the light source of the projector is applied to the electro-optical device (actual use condition).
[適用例2]上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることが好ましい。 Application Example 2 In the defect evaluation system according to the application example, the pseudo defect display unit includes the pseudo defect display unit according to a region of a central region in the projection image and a peripheral region that is an outer region from the central region. It is preferable to change the display of defects.
この構成によれば、中央領域と周辺領域とによって擬似欠点の表示を変えるので、例えば、中央領域と周辺領域で欠点の限度が異なるような場合など、要求に合った評価を行うことができる。 According to this configuration, since the display of the pseudo defect is changed depending on the central region and the peripheral region, for example, when the limit of the defect is different between the central region and the peripheral region, it is possible to perform evaluation that meets the requirements.
[適用例3]上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、前記投射画像の階調が変化したとき所定の階調になるように調整されることが好ましい。 Application Example 3 In the defect evaluation system according to the application example, it is preferable that the pseudo defect display unit is adjusted to have a predetermined gradation when the gradation of the projection image changes.
この構成によれば、擬似欠点表示部が所定の階調になるように調整されるので、投射画像の階調を変化させた場合であっても、基準となる擬似欠点表示部の階調が変わることなく安定した評価を行うことができる。 According to this configuration, since the pseudo defect display portion is adjusted to have a predetermined gradation, even if the gradation of the projected image is changed, the gradation of the reference pseudo defect display portion is changed. Stable evaluation can be performed without change.
[適用例4]上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を別々に表示することが好ましい。 Application Example 4 In the defect evaluation system according to the application example described above, it is preferable that the pseudo defect display unit separately displays pseudo defects corresponding to each single color in at least three types of color light.
この構成によれば、例えば、RGBそれぞれの単色に応じた擬似欠点を表示させるので、Rの擬似欠点、Gの擬似欠点、Bの擬似欠点など、色ごとに応じた欠点の評価を行うことができる。 According to this configuration, for example, since pseudo defects corresponding to each single color of RGB are displayed, it is possible to evaluate defects corresponding to each color, such as R pseudo defects, G pseudo defects, and B pseudo defects. it can.
[適用例5]上記適用例に係る欠点評価システムにおいて、前記擬似欠点表示部は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも2点の擬似欠点を表示することが好ましい。 Application Example 5 In the defect evaluation system according to the application example, it is preferable that the pseudo defect display unit displays at least two pseudo defects that indicate a limit of an interval between defects.
この構成によれば、ある領域に欠点が集まった場合の間隔の限度(近接限度)を評価することができる。 According to this configuration, it is possible to evaluate an interval limit (proximity limit) when defects are collected in a certain region.
[適用例6]本適用例に係る欠点の評価方法は、電気光学装置の画像を投射する投射工程と、投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する表示工程と、前記投射画像の欠点と前記擬似欠点とを比較して前記欠点が良品であるか否かを評価する評価工程と、を有することを特徴とする。 Application Example 6 In the defect evaluation method according to this application example, a projection step of projecting an image of the electro-optical device and a pseudo defect that is a pseudo defect is displayed at an arbitrary position in the projected image. A display step; and an evaluation step of comparing the defect of the projection image with the pseudo defect to evaluate whether or not the defect is a non-defective product.
この方法によれば、画像及び擬似欠点を投射し、投射画像において擬似欠点を任意の位置(欠点の近く)に移動して欠点と擬似欠点とを比較するので、例えば、カメラを用いて評価する場合と比較して、解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点の評価を行うことができる。また、擬似欠点を用いて比較するので、評価する人によってばらつきが発生したり、離れた場所で評価を行う場合にばらつき発生したりすることを抑えることができる。加えて、投射画像を見ながら評価を行うので、例えば、プロジェクターの光源の温度が電気光学装置に加わった状態(実使用条件)で発生する欠点の評価を行うことができる。 According to this method, an image and a pseudo defect are projected, the pseudo defect is moved to an arbitrary position (near the defect) in the projected image, and the defect and the pseudo defect are compared. For example, evaluation is performed using a camera. Compared to the case, the defect can be evaluated without being affected by the resolution, light sensitivity, and the like. Further, since the comparison is performed using the pseudo defect, it is possible to suppress the occurrence of variations depending on the person to be evaluated or the occurrence of variations when the evaluation is performed at a remote location. In addition, since the evaluation is performed while viewing the projection image, for example, it is possible to evaluate a defect that occurs when the temperature of the light source of the projector is applied to the electro-optical device (actual use condition).
[適用例7]上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることが好ましい。 Application Example 7 In the defect evaluation method according to the application example, the display step includes the pseudo defect according to a region of a central region in the projection image and a peripheral region that is an outer region from the central region. It is preferable to change the display.
この方法によれば、中央領域と周辺領域とによって擬似欠点の表示を変えるので、例えば、中央領域と周辺領域で欠点の限度が異なるような場合など、要求に合った評価を行うことができる。 According to this method, since the display of the pseudo defect is changed depending on the central area and the peripheral area, for example, when the limit of the defect is different between the central area and the peripheral area, it is possible to perform evaluation that meets the requirements.
[適用例8]上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、前記投射画像の階調が変化したとき、前記擬似欠点の階調を所定の階調に調整することが好ましい。 Application Example 8 In the defect evaluation method according to the application example, it is preferable that the display step adjusts the gradation of the pseudo defect to a predetermined gradation when the gradation of the projection image changes.
この方法によれば、擬似欠点が所定の階調になるように調整するので、投射画像の階調を変化させた場合であっても、基準となる擬似欠点の階調が変わることなく安定した評価を行うことができる。 According to this method, since the pseudo defect is adjusted so as to have a predetermined gradation, even when the gradation of the projected image is changed, the gradation of the reference pseudo defect is not changed and is stable. Evaluation can be made.
[適用例9]上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を表示することが好ましい。 Application Example 9 In the defect evaluation method according to the application example, it is preferable that the display step displays a pseudo defect corresponding to each single color in at least three types of color light.
この方法によれば、例えば、RGBそれぞれの単色に応じた擬似欠点を表示させるので、Rの擬似欠点、Gの擬似欠点、Bの擬似欠点など、色ごとに応じた欠点の評価を行うことができる。 According to this method, for example, pseudo defects corresponding to each single color of RGB are displayed, so that it is possible to evaluate defects such as R pseudo defects, G pseudo defects, and B pseudo defects according to each color. it can.
[適用例10]上記適用例に係る欠点の評価方法において、前記表示工程は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも2つの擬似欠点を表示することが好ましい。 Application Example 10 In the defect evaluation method according to the application example, it is preferable that the display step displays at least two pseudo defects that indicate a limit of an interval between the defects.
この方法によれば、ある領域に欠点が集まった場合の間隔の限度(近接限度)を評価することができる。 According to this method, it is possible to evaluate the limit of the interval (proximity limit) when defects are collected in a certain area.
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大又は縮小して表示している。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings to be used are appropriately enlarged or reduced so that the part to be described can be recognized.
なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、又は基板の上に他の構成物を介して配置される場合、又は基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。 In the following embodiments, for example, when “on the substrate” is described, the substrate is disposed so as to be in contact with the substrate, or is disposed on the substrate via another component, or the substrate. It is assumed that a part is arranged so as to be in contact with each other and a part is arranged via another component.
本実施形態では、薄膜トランジスター(Thin Film Transistor:TFT)を画素のスイッチング素子として備えたアクティブマトリクス型の液晶装置を例に挙げて説明する。この液晶装置は、例えば、後述する投射部としての投射型表示装置(液晶プロジェクター)の光変調素子(液晶ライトバルブ)として好適に用いることができるものである。 In the present embodiment, an active matrix liquid crystal device including a thin film transistor (TFT) as a pixel switching element will be described as an example. This liquid crystal device can be suitably used, for example, as a light modulation element (liquid crystal light valve) of a projection display device (liquid crystal projector) as a projection unit described later.
<液晶装置の構成>
図1(a)は、電気光学装置としての液晶装置の構造を示す模式平面図である。図1(b)は、図1(a)に示す液晶装置のH−H’線に沿う模式断面図である。図2は、液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。以下、液晶装置の構造を、図1及び図2を参照しながら説明する。
<Configuration of liquid crystal device>
FIG. 1A is a schematic plan view showing a structure of a liquid crystal device as an electro-optical device. FIG. 1B is a schematic cross-sectional view taken along the line HH ′ of the liquid crystal device shown in FIG. FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing an electrical configuration of the liquid crystal device. Hereinafter, the structure of the liquid crystal device will be described with reference to FIGS.
図1(a)及び(b)に示すように、液晶装置100は、対向配置された素子基板10及び対向基板20と、これら一対の基板によって挟持された液晶層50とを有する。素子基板10及び対向基板20は、例えば、透明な石英などのガラス基板が用いられている。
As shown in FIGS. 1A and 1B, the
素子基板10は、対向基板20よりも一回り大きく形成されている。両基板10,20は、額縁状に配置されたシール材40を介して接合されている。そして、その隙間に、負の誘電異方性を有する液晶が封入されて液晶層50が構成されている。シール材40は、例えば、熱硬化性又は紫外線硬化性のエポキシ樹脂などの接着剤が採用されている。シール材40には、一対の基板の間隔を一定に保持するためのスペーサー(図示省略)が混入されている。
The
額縁状に配置されたシール材40の内側には、同じく額縁状に額縁遮光膜21が設けられている。額縁遮光膜21は、例えば、遮光性の金属あるいは金属酸化物などからなり、対向基板20側に設けられている。そして、額縁遮光膜21の内側が画素領域Eとなっている。画素領域Eには、マトリクス状に画素Pが複数配置されている。なお、図1では図示省略したが、画素領域Eにおいても複数の画素Pを平面的に区分する遮光部が設けられている。
A frame
素子基板10の1辺部には、1辺部に沿ったシール材40との間にデータ線駆動回路101が設けられている。また、該1辺部に対向する他の1辺部に沿ったシール材40の内側に検査回路103が設けられている。更に、該1辺部と直交し互いに対向する他の2辺部に沿ったシール材40の内側には、走査線駆動回路102が設けられている。
A data
1辺部と対向する他の1辺部のシール材40の内側には、2つの走査線駆動回路102を繋ぐ複数の配線105が設けられている。これらデータ線駆動回路101、走査線駆動回路102に繋がる配線105は、該1辺部に沿って配列した複数の外部接続端子104に接続されている。以降、1辺部に沿った方向をX方向とし、1辺部と直交し互いに対向する他の2辺部に沿った方向をY方向として説明する。
A plurality of
図1(b)に示すように、素子基板10の液晶層50側の表面には、画素Pごとに設けられた光透過性を有する画素電極15及びスイッチング素子としてのTFT30と、信号配線と、これらを覆う第1配向膜18とが形成されている。また、素子基板10の表面には、TFT30における半導体層に光が入射して光リーク電流が流れ、不適切なスイッチング動作となることを防ぐ遮光構造が採用されている。
As shown in FIG. 1B, on the surface of the
対向基板20の液晶層50側の表面には、額縁遮光膜21と、これを覆うように成膜された層間膜22と、層間膜22を覆うように設けられた光透過性を有する共通電極23と、共通電極23を覆う第2配向膜24とが設けられている。
On the surface of the
額縁遮光膜21は、図1(a)に示すように、平面的にデータ線駆動回路101や走査線駆動回路102、検査回路103と重なる位置において額縁状に設けられている。これにより、対向基板20側から入射する光を遮蔽して、これらの駆動回路を含む周辺回路の光による誤動作を防止する役目を果たしている。また、不必要な迷光が画素領域Eに入射しないように遮蔽して、画素領域Eの表示における高いコントラストを確保している。
As shown in FIG. 1A, the frame light-shielding
層間膜22は、例えば、酸化シリコンなどの無機材料からなり、光透過性を有して額縁遮光膜21を覆うように設けられている。このような層間膜22の形成方法としては、例えば、プラズマCVD法などを用いて成膜する方法が挙げられる。
The
共通電極23は、例えば、ITOなどの透明導電膜からなり、層間膜22を覆うと共に、図1(a)に示すように、対向基板20の四隅に設けられた上下導通部106により素子基板10側の配線105に電気的に接続されている。
The
画素電極15を覆う第1配向膜18及び共通電極23を覆う第2配向膜24は、例えば、酸化シリコン(SiO2)などからなる無機配向膜によって構成されている。本実施形態では、負の誘電異方性を有する液晶分子が配向膜面に対してプレチルトを与えられて垂直配向するように、所定の方向に配向処理が施されたものである。
The
また、本実施形態では、画素領域Eは実効的な表示がなされる表示領域と、表示領域を囲む周辺領域とを含むものである。周辺領域に配置された画素Pはダミー画素として扱われている。 In the present embodiment, the pixel area E includes a display area where effective display is performed and a peripheral area surrounding the display area. Pixels P arranged in the peripheral area are treated as dummy pixels.
図2に示すように、液晶装置100は、少なくとも画素領域Eにおいて互いに絶縁されて直交する複数の走査線3a及び複数のデータ線6aと、データ線6aに対して一定の間隔をおいて平行するように配置された容量線3bとを有する。なお、走査線3aが延在する方向がX方向であり、データ線6aが延在する方向がY方向である。
As shown in FIG. 2, the
走査線3aとデータ線6aならびに容量線3bと、これらの信号線類により区分された領域に、画素電極15と、TFT30と、保持容量16とが設けられ、これらが画素Pの画素回路を構成している。
A
TFT30のゲートは走査線3aに電気的に接続され、TFT30のソースはデータ線6aに電気的に接続されている。画素電極15は、TFT30のドレインに電気的に接続されている。
The gate of the
データ線6aは、データ線駆動回路101(図1参照)に接続されており、データ線駆動回路101から供給される画像信号D1,D2,…,Dnを画素Pに供給する。走査線3aは、走査線駆動回路102(図1参照)に接続されており、走査線駆動回路102から供給される走査信号SC1,SC2,…,SCmを各画素Pに供給する。
The
データ線駆動回路101からデータ線6aに供給される画像信号D1〜Dnは、この順に線順次で供給してもよく、互いに隣接する複数のデータ線6a同士に対してグループごとに供給してもよい。走査線駆動回路102は、走査線3aに対して、走査信号SC1〜SCmを所定のタイミングで、互いに重複しないパルス信号として順次供給する。
The image signals D1 to Dn supplied from the data line driving
液晶装置100は、スイッチング素子であるTFT30が走査信号SC1〜SCmの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線6aから供給される画像信号D1〜Dnが所定のタイミングで画素電極15に書き込まれる構成となっている。そして、画素電極15を介して液晶層50に書き込まれた所定レベルの画像信号D1〜Dnは、画素電極15と液晶層50を介して対向配置された共通電極23との間で一定期間保持される。
In the
保持された画像信号D1〜Dnがリークするのを防止するため、画素電極15と共通電極23との間に形成される液晶容量と並列に保持容量16が接続されている。保持容量16は、TFT30のドレインと容量線3bとの間に設けられている。
In order to prevent the held image signals D1 to Dn from leaking, the holding
なお、図1(a)に示した検査回路103には、データ線6aが接続されており、液晶装置100の製造過程において、上記画像信号を検出することで液晶装置100の動作欠陥などを確認できる構成となっているが、図2の等価回路では省略している。また、検査回路103は、上記画像信号をサンプリングしてデータ線6aに供給するサンプリング回路、データ線6aに所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して供給するプリチャージ回路を含むものとしてもよい。
Note that a
このような液晶装置100は、例えば透過型であって、画素Pが非駆動時に明表示となるノーマリーホワイトモードや、非駆動時に暗表示となるノーマリーブラックモードの光学設計が採用される。光の入射側と射出側とにそれぞれ偏光素子が上記光学設計に応じて配置されて用いられる。
Such a
<欠点評価システムの構成>
図3は、上記した液晶装置の欠点評価システムの構成を示す模式図である。以下、欠点評価システムの構成について、図3を参照しながら説明する。
<Configuration of defect evaluation system>
FIG. 3 is a schematic diagram showing a configuration of the defect evaluation system for the liquid crystal device described above. Hereinafter, the configuration of the defect evaluation system will be described with reference to FIG.
図3に示すように、本実施形態の欠点評価システム200は、液晶装置100を備えた投射型表示装置1000と、チェッカー210と、投射画像301を表示するスクリーン1300とを備えている。まず、液晶装置100が備えられる投射型表示装置1000の構成について説明する。
As shown in FIG. 3, the
投射型表示装置1000は、システム光軸Lに沿って配置された偏光照明装置1100と、光分離素子としての2つのダイクロイックミラー1104,1105と、3つの反射ミラー1106,1107,1108と、5つのリレーレンズ1201,1202,1203,1204,1205と、3つの光変調手段としての透過型の液晶ライトバルブ1210,1220,1230と、光合成素子としてのクロスダイクロイックプリズム1206と、投射レンズ1207とを備えている。
The projection display apparatus 1000 includes a
偏光照明装置1100は、超高圧水銀灯やハロゲンランプなどの白色光源からなる光源としてのランプユニット1101と、インテグレーターレンズ1102と、偏光変換素子1103とから概略構成されている。
The polarized
ダイクロイックミラー1104は、偏光照明装置1100から射出された偏光光束のうち、赤色光(R)を反射させ、緑色光(G)と青色光(B)とを透過させる。もう1つのダイクロイックミラー1105は、ダイクロイックミラー1104を透過した緑色光(G)を反射させ、青色光(B)を透過させる。
The
ダイクロイックミラー1104で反射した赤色光(R)は、反射ミラー1106で反射した後にリレーレンズ1205を経由して液晶ライトバルブ1210に入射する。ダイクロイックミラー1105で反射した緑色光(G)は、リレーレンズ1204を経由して液晶ライトバルブ1220に入射する。ダイクロイックミラー1105を透過した青色光(B)は、3つのリレーレンズ1201,1202,1203と2つの反射ミラー1107,1108とからなる導光系を経由して液晶ライトバルブ1230に入射する。
The red light (R) reflected by the
液晶ライトバルブ1210,1220,1230は、クロスダイクロイックプリズム1206の色光ごとの入射面に対してそれぞれ対向配置されている。液晶ライトバルブ1210,1220,1230に入射した色光は、映像情報(映像信号)に基づいて変調されクロスダイクロイックプリズム1206に向けて射出される。このプリズムは、4つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が合成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ1207によってスクリーン1300上に投射され、画像が拡大されて表示される。
The liquid
液晶ライトバルブ1210は、上述した液晶装置100が適用されたものである。液晶装置100は、色光の入射側と射出側とにおいてクロスニコルに配置された一対の偏光素子の間に隙間を置いて配置されている。他の液晶ライトバルブ1220,1230も同様である。
The liquid
チェッカー210は、液晶装置100に電源を供給する。また、チェッカー210は、投射された投射画像における任意の位置に、擬似欠点表示部としての擬似欠点ウインド500を表示させる制御部を備える。
The
上記したような投射型表示装置1000を備えた欠点評価システム200の評価方法としては、例えば、評価したい液晶装置100(液晶パネル)(例えば、G用の液晶装置100)を液晶ライトバルブ1220に配置する。この液晶装置100は、チェッカー210に電気的に接続されており、電源が供給される。次に、偏光照明装置1100から射出された偏光光束のうち、緑色光(G)を透過させる。つまり、本実施形態では、各色ごと単色で液晶装置100の評価を行う。
As an evaluation method of the
その後、液晶装置100を通過した緑色の光は、クロスダイクロイックプリズム1206を通って、投射レンズ1207からスクリーン1300に投射される。そして、スクリーン1300に投射された投射画像における欠点の合否の評価を行う。
Thereafter, the green light that has passed through the
なお、R用の液晶装置100(R)、B用の液晶装置100(B)も同様に、評価したい液晶装置100にチェッカー210を電気的に接続し、それぞれスクリーン1300に画像を投射して欠点を評価する。次に、欠点の評価方法について、具体的に説明する。
Similarly, the liquid crystal device 100 (R) for R and the liquid crystal device 100 (B) for B are also connected to the
<欠点の評価方法>
図4は、液晶装置の欠点を評価する欠点の評価方法を示すフローチャートである。図5〜図7は、評価方法の一部を示す模式平面図である。以下、欠点の評価方法を、図4〜図7を参照しながら説明する。まず、図3に示す投射型表示装置のライトバルブに、評価したい液晶装置を配置する。
<Defect evaluation method>
FIG. 4 is a flowchart showing a defect evaluation method for evaluating the defects of the liquid crystal device. 5 to 7 are schematic plan views showing a part of the evaluation method. Hereinafter, the defect evaluation method will be described with reference to FIGS. First, the liquid crystal device to be evaluated is placed on the light valve of the projection display device shown in FIG.
次に、図4に示すように、ステップS11(投射工程)では、評価する液晶装置100とチェッカー210とを電気的に接続し、液晶装置100を介した画像を投射画像301としてスクリーン1300に投射する(図5参照)。
Next, as shown in FIG. 4, in step S <b> 11 (projection process), the
次に、ステップS12では、欠点400を確認する。具体的には、投射された投射画像301を目視で確認し、欠点400があるか否かを確認する。欠点400としては、例えば、大きさや階調などである。なお、TFT30が動作していない点欠陥や、所定の輝度が得られない点欠陥なども含む。また、階調には、輝点やシミなどが含まれる。
Next, in step S12, the
次に、ステップS13(表示工程)では、投射画像301に擬似欠点表示部としての擬似欠点ウインド500を表示させる。具体的には、図5に示すように、例えば、パソコンのファンクションキーを用いて、登録してある限度見本(擬似的な欠点)となる擬似欠点501を投射画像301の第1ポジション410に表示させる。なお、擬似欠点ウインド500の機能は、例えば、上記したチェッカー210に備えられている。
Next, in step S13 (display step), a
次に、ステップS14では、擬似欠点ウインド500を、投射画像301の欠点400に近づける。具体的には、図5に示すように、第1ポジション410に表示された擬似欠点ウインド500を、欠点400の近くである第2ポジション420に移動させる。擬似欠点ウインド500を移動させる方法としては、例えば、パソコンの方向キーやマウスなどを用いて欠点400の近くに移動させることができる。
Next, in step S <b> 14, the
次に、ステップS15(評価工程)では、判断基準となる擬似欠点501と欠点400とを比較して、欠点400が良品であるか否かを評価する。擬似欠点501は、例えば、中間調で表示される。また、擬似欠点ウインド500の領域全体を中間調にするようにしてもよい。また、中間調であることに限定されず、例えば、製品に応じて変更するようにしてもよい。
Next, in step S15 (evaluation step), the
比較(評価)する項目としては、例えば、欠点400の大きさ、欠点400の階調などである。なお、欠点400の大きさを比較する方法として、図5に示すように、欠点400の近くに擬似欠点ウインド500を近づけて比較する方法や、図6に示すように、欠点400に擬似欠点ウインド500を重ねて比較するようにしてもよい。
Items to be compared (evaluated) include, for example, the size of the
また、階調を比較する場合においても、欠点400に擬似欠点ウインド500を近づけて比較するようにしてもよいし、欠点400の一部と擬似欠点501の一部とを重ねて表示することにより比較するようにしてもよい。
Also, in the case of comparing gradations, the
また、欠点400の大きさや階調などを、別々の擬似欠点ウインドに表示させるようにしてもよいし、1つの擬似欠点ウインドの中に含めて表示させるようにしてもよい。
Further, the size and gradation of the
このように、実際に使用する状態(投射型表示装置1000(プロジェクター)によってスクリーン1300に画像を投射して見る状態)で欠点400を評価するので、例えば、CCDカメラを用いて液晶装置100の欠点400を撮像し、撮像した画像と擬似欠点の画像とを比較する方法と比較して、CCDカメラの解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点400の評価を行うことができる。
As described above, since the
次に、図7を参照しながら、擬似欠点ウインド500の表示を、投射された投射画像301の中央領域450と、中央領域450より外側の周辺領域460とによって切り替える機能について説明する。
Next, a function of switching the display of the
図7(a)に示すように、欠点400が周辺領域460にある場合を説明する。この場合、上記したように、ファンクションキーを押して、登録された限度見本となる擬似欠点ウインド500を表示させる。
As shown in FIG. 7A, a case where the
次に、擬似欠点ウインド500を第1ポジション410から周辺領域460の第2ポジション420に移動させる。ここで、擬似欠点ウインド500を欠点400に近づけて比較したり、欠点400に重ねたりして比較する。
Next, the
この後、図7(b)に示すように、中央領域450にある欠点401の評価を行う。まず、擬似欠点ウインド500を周辺領域460から中央領域450に移動する。このとき、周辺領域用の擬似欠点ウインド500から中央領域用の擬似欠点ウインド500aに表示を切り替える。
Thereafter, as shown in FIG. 7B, the
具体的には、例えば、中央領域450にある欠点401が周辺領域460にある欠点400と比較して、欠点が目立つことによる限度が厳しい場合、擬似欠点ウインド500を中央領域450に移動した際、擬似欠点502の大きさが小さくなる。また、擬似欠点502の階調が変わるようにしてもよい。なお、中央領域450と周辺領域460とは、XとYとの座標で区分けされるようになっている。
Specifically, for example, when the limit due to the conspicuousness of the defect is severe compared to the
このように、周辺領域460と中央領域450とにおいて、それぞれ別々に擬似欠点ウインド500,500aを登録しておくことにより、欠点400,401のある領域に擬似欠点ウインド500が差し掛かると、その領域にあった限度規格の擬似欠点501,502に変更される。よって、煩わしい操作を必要とすることなく、欠点400,401の評価を行うことができる。
In this way, by registering the
以上詳述したように、本実施形態の欠点評価システム200、及び欠点400,401の評価方法によれば、以下に示す効果が得られる。
As described above in detail, according to the
(1)本実施形態の欠点評価システム200及び欠点400,401の評価方法によれば、投射型表示装置1000によって画像をスクリーン1300に投射し、スクリーン1300上で擬似欠点ウインド500を任意の位置(欠点400,401の近く)に移動表示して欠点400,401と擬似欠点501とを比較するので、例えば、従来のようにカメラを用いて評価する場合と比較して、解像度や光感度などに影響を受けることなく、欠点400,401の評価を行うことができる。また、擬似欠点501を用いて比較するので、評価する人によってばらつきが発生したり、離れた場所で評価を行う場合にばらつき発生したりすることを抑えることができる。加えて、スクリーン1300に投射した投射画像301を見ながら評価を行うので、例えば、投射型表示装置1000(プロジェクター)の光源(ランプユニット1101)の温度が液晶装置100に加わった状態(実使用条件)で発生する欠点400,401の評価を行うことができる。
(1) According to the
(2)本実施形態の欠点評価システム200及び欠点400,401の評価方法によれば、中央領域450と周辺領域460とによって擬似欠点501の表示を変えるので、例えば、中央領域450と周辺領域460で欠点400,401の限度が異なるような場合など、要望に合った評価を行うことができる。
(2) According to the
なお、本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、本発明の技術範囲に含まれるものである。また、以下のような形態で実施することもできる。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately changed without departing from the spirit or concept of the invention that can be read from the claims and the entire specification, and is included in the technical scope of the present invention. Is. Moreover, it can also implement with the following forms.
(変形例1)
上記したように、評価する欠点400,401の具体例として、欠点400,401の大きさや階調などを評価することに加えて、図8に示すような、欠点401が集まっている(近接する)場合の評価を行うようにしてもよい。図8は、変形例の投射画像を示す模式平面図である。図8に示す投射画像311は、第1欠点401aと第2欠点401bとの間の距離W1の評価を行っている。
(Modification 1)
As described above, as specific examples of the
例えば、投射画像311の第1欠点401aと第2欠点401bとの間の距離W1と、擬似欠点ウインド510の第1擬似欠点501aと第2擬似欠点501bとの間の距離W2とを比較して、欠点401a,401bの距離W1の間隔が広ければ良品と判断し、距離W1の間隔が狭ければ、欠点401a,401bが目立つため不良品と判断する。これによれば、欠点401a,401bが複数集まっている場合の評価を行うことができる。
For example, the distance W1 between the
(変形例2)
上記したように、評価する欠点400,401の具体例として、欠点400,401の大きさや階調などを評価することに加えて、図9に示すような、各色ごと単色で評価を行うように擬似欠点を各色ごと登録しておくようにしてもよい。図9は、変形例の投射画像を示す模式平面図である。図9に示す投射画像312は、R用の擬似欠点ウインド520、G用の擬似欠点ウインド530、B用の擬似欠点ウインド540を表示している。このように、各色ごと別々に擬似欠点ウインド520,530,540を登録しておくことにより、色ごとの規格に対して欠点の評価を行うことができる。
(Modification 2)
As described above, as specific examples of the
(変形例3)
上記したように、擬似欠点ウインド500を欠点400,401に近づけたり重ね合わせたりして評価することに限定されず、例えば、図10に示すようにして評価するようにしてもよい。図10は、変形例の投射画像を示す模式平面図である。図10に示す投射画像313は、擬似欠点ウインド500を回転させて、向きが変わった擬似欠点501と欠点400とを比較している。これによれば、特に、欠点400が対称性のない形状だった場合、欠点400と擬似欠点501の形状が揃うように、擬似欠点ウインド500を回転させることにより、欠点400の評価をより精度高く行うことができる。
(Modification 3)
As described above, the evaluation is not limited to evaluating the
(変形例4)
上記したように、擬似欠点501の階調は、投射画像301の階調が変化した場合でも、所定の階調である中間調になるように補正するようにしてもよい。なお、補正する補正動作機能は、例えば、上記したチェッカー210に備えられている。これによれば、基準となる擬似欠点501の階調が変わることがないので、ラスター画面にして擬似欠点501の階調が振られた場合でも、安定した評価を行うことができる。また、擬似欠点501が中間調であることに限定されず、投射画像301によって階調を変えるようにしてもよい。
(Modification 4)
As described above, the gradation of the
(変形例5)
上記したように、電気光学装置は、液晶装置100に限定されず、例えば、有機EL装置、プラズマ装置、シリコン基板を用いた半導体装置などに適用するようにしてもよい。
(Modification 5)
As described above, the electro-optical device is not limited to the
3a…走査線、3b…容量線、6a…データ線、10…素子基板、15…画素電極、16…保持容量、18…第1配向膜、20…対向基板、21…額縁遮光膜、22…層間膜、23…共通電極、24…第2配向膜、30…TFT、40…シール材、50…液晶層、100…電気光学装置としての液晶装置、101…データ線駆動回路、102…走査線駆動回路、103…検査回路、104…外部接続端子、105…配線、106…上下導通部、200…欠点評価システム、210…チェッカー、301,311,312,313…投射画像、400,401…欠点、401a…第1欠点、401b…第2欠点、410…第1ポジション、420…第2ポジション、450…中央領域、460…周辺領域、500,500a,510,520,530,540…擬似欠点表示部としての擬似欠点ウインド、501,502…擬似欠点、501a…第1擬似欠点、501b…第2擬似欠点、1000…投射部としての投射型表示装置、1100…偏光照明装置、1101…ランプユニット、1102…インテグレーターレンズ、1103…偏光変換素子、1104,1105…ダイクロイックミラー、1106,1107,1108…反射ミラー、1201,1202,1203,1204,1205…リレーレンズ、1206…クロスダイクロイックプリズム、1207…投射レンズ、1210,1220,1230…液晶ライトバルブ、1300…スクリーン。
3a ... scanning line, 3b ... capacitance line, 6a ... data line, 10 ... element substrate, 15 ... pixel electrode, 16 ... retention capacitor, 18 ... first alignment film, 20 ... counter substrate, 21 ... frame light shielding film, 22 ... Interlayer film, 23 ... common electrode, 24 ... second alignment film, 30 ... TFT, 40 ... sealing material, 50 ... liquid crystal layer, 100 ... liquid crystal device as an electro-optical device, 101 ... data line driving circuit, 102 ... scanning line Drive circuit, 103 ... inspection circuit, 104 ... external connection terminal, 105 ... wiring, 106 ... vertical conduction part, 200 ... defect evaluation system, 210 ... checker, 301, 311, 312, 313 ... projection image, 400, 401 ... defect , 401a, first defect, 401b, second defect, 410, first position, 420, second position, 450, central region, 460, peripheral region, 500, 500a, 510, 520,. 30, 540... Pseudo defect window as a pseudo defect display unit, 501, 502... Pseudo defect, 501 a... First pseudo defect, 501 b.
Claims (10)
投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する擬似欠点表示部と、
を備えることを特徴とする欠点評価システム。 A projection unit for projecting an image of the electro-optical device;
A pseudo defect display section that displays a pseudo defect that is a pseudo defect at an arbitrary position in the projected image;
A defect evaluation system comprising:
前記擬似欠点表示部は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることを特徴とする欠点評価システム。 The defect evaluation system according to claim 1,
The defect evaluation system, wherein the pseudo defect display unit changes the display of the pseudo defect according to an area of a central area in the projection image and a peripheral area that is an area outside the central area.
前記擬似欠点表示部は、前記投射画像の階調が変化したとき所定の階調になるように調整されることを特徴とする欠点評価システム。 A defect evaluation system according to claim 1 or claim 2,
The defect evaluation system, wherein the pseudo defect display unit is adjusted to have a predetermined gradation when the gradation of the projection image changes.
前記擬似欠点表示部は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を別々に表示することを特徴とする欠点評価システム。 A defect evaluation system according to any one of claims 1 to 3,
The said fault defect display part displays the fault defect according to each single color separately in at least three types of color lights separately, The fault evaluation system characterized by the above-mentioned.
前記擬似欠点表示部は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも2点の擬似欠点を表示することを特徴とする欠点評価システム。 The defect evaluation system according to any one of claims 1 to 4,
The defect evaluation system, wherein the pseudo defect display unit displays at least two pseudo defects indicating a limit of an interval between defects.
投射された投射画像における任意の位置に、擬似的な欠点である擬似欠点を表示する表示工程と、
前記投射画像の欠点と前記擬似欠点とを比較して前記欠点が良品であるか否かを評価する評価工程と、
を有することを特徴とする欠点の評価方法。 A projection process for projecting an image of the electro-optical device;
A display step of displaying a pseudo defect, which is a pseudo defect, at an arbitrary position in the projected image,
An evaluation process for evaluating whether the defect is a non-defective product by comparing the defect of the projection image with the pseudo defect,
A defect evaluation method characterized by comprising:
前記表示工程は、前記投射画像における中央領域と、前記中央領域より外側の領域である周辺領域と、の領域に応じて前記擬似欠点の表示を変えることを特徴とする欠点の評価方法。 A method for evaluating a defect according to claim 6, comprising:
The defect evaluation method, wherein the display step changes the display of the pseudo defect according to a region of a central region in the projection image and a peripheral region which is a region outside the central region.
前記表示工程は、前記投射画像の階調が変化したとき、前記擬似欠点の階調を所定の階調に調整することを特徴とする欠点の評価方法。 A method for evaluating a defect according to claim 6 or claim 7,
In the display step, when the gradation of the projection image changes, the gradation of the pseudo defect is adjusted to a predetermined gradation.
前記表示工程は、少なくとも三種類の色光において各単色に応じた擬似欠点を表示することを特徴とする欠点の評価方法。 A method for evaluating a defect according to any one of claims 6 to 8, comprising:
The said evaluation process displays the pseudo fault according to each single color in at least 3 types of color lights, The evaluation method of the fault characterized by the above-mentioned.
前記表示工程は、欠点間の間隔の限度を示す少なくとも2つの擬似欠点を表示することを特徴とする欠点の評価方法。 A method for evaluating a defect according to any one of claims 6 to 9,
The display method includes displaying at least two pseudo defects indicating a limit of an interval between defects.
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