JP2013022843A - Transparent conductive film, and touch panel - Google Patents
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Description
本発明は、フィルム基材上に透明導電層が設けられた透明導電性フィルム、および当該透明導電性フィルムを用いたタッチパネルに関する。 The present invention relates to a transparent conductive film in which a transparent conductive layer is provided on a film substrate, and a touch panel using the transparent conductive film.
タッチパネルには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などがある。このうち、抵抗膜方式はその構造が単純であるため、コストパフォーマンスに優れており、例えば銀行の現金自動受払機（ＡＴＭ）や交通機関の切符販売機等の表示板等に広く用いられている。 The touch panel includes an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, a resistance film method, and the like depending on a position detection method. Of these, the resistance film type has a simple structure and is excellent in cost performance. For example, it is widely used for display boards of automatic teller machines (ATMs) for banks and ticket machines for transportation. .
抵抗膜方式のタッチパネルは、例えば２枚の透明導電性フィルム（上電極および下電極）の透明導電層同士がスペーサーを介して対向配置された構造を有している。透明導電性フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に透明導電層としてインジウム・スズ酸化物膜を形成したものが一般に用いられている。このような抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電性フィルムの透明導電層に電流を流して、透明導電層付ガラスに於ける電圧を計測するような構造となっている。透明導電性フィルムを指やペン等による押圧操作を介して透明導電層付きガラスに接触させると、その接触部分が通電することにより、接触部分の位置が検知される。 A resistive film type touch panel has a structure in which, for example, transparent conductive layers of two transparent conductive films (upper electrode and lower electrode) are arranged to face each other via a spacer. As the transparent conductive film, for example, a film obtained by forming an indium tin oxide film as a transparent conductive layer on a polyethylene terephthalate (PET) film is generally used. Such a resistive film type touch panel has a structure in which a current is passed through the transparent conductive layer of the transparent conductive film to measure a voltage in the glass with the transparent conductive layer. When the transparent conductive film is brought into contact with the glass with the transparent conductive layer through a pressing operation with a finger, a pen, or the like, the contact portion is energized to detect the position of the contact portion.
抵抗膜方式のタッチパネルでは、指またはペンにてタッチパネルを押圧する際に、ペンまたは指の周辺に干渉による虹模様、いわゆるニュートンリングが発生し、ディスプレイの視認性が低下するといった問題がある。押圧時のニュートンリングの解決方法として、透明導電層の表面に、所定の表面形状を示すように微細凹凸を形成することが提案されている（例えば特許文献１〜４）
In the resistive film type touch panel, when the touch panel is pressed with a finger or a pen, there is a problem that a rainbow pattern due to interference, a so-called Newton ring, is generated around the pen or the finger and the visibility of the display is lowered. As a solution for Newton's ring during pressing, it has been proposed to form fine irregularities on the surface of the transparent conductive layer so as to exhibit a predetermined surface shape (for example,
上記のように透明導電層表面に凹凸を形成することにより、押圧時のニュートンリングの発生は抑制される。その一方で、凹凸高さが大きいと、凹凸に起因して光が散乱され画面がぎらついて見え、画像の鮮明性が損なわれるという課題がある。特に、表示装置が高精細化されると、ぎらつきによる画像の鮮明性の低下が顕著となる傾向がある。 By forming irregularities on the surface of the transparent conductive layer as described above, generation of Newton rings during pressing is suppressed. On the other hand, if the height of the unevenness is large, there is a problem that light is scattered due to the unevenness and the screen looks glaring, and the sharpness of the image is impaired. In particular, when the display device has a higher definition, there is a tendency that the sharpness of an image is significantly reduced due to glare.
また、抵抗膜方式のタッチパネルは、スペーサーを介して対向させた一対の透明導電層同士が、一方のパネル板（上電極）側からの押圧打点で強く接触するものである。そのため、透明導電性フィルムの透明導電層は、これに抗し得る良好な耐久性、つまり打点特性、特にペン入力耐久性を有していることが望まれる。しかしながら、押圧時のニュートンリングを解消するために一方の透明導電層表面に凹凸を形成すると、ペン入力による押圧や摺動によって、他方の透明導電層表面の膜破壊が生じ易く、タッチパネルの寿命が短くなるという問題があった。 In addition, in the resistive film type touch panel, a pair of transparent conductive layers opposed to each other via a spacer come into strong contact at a pressing point from one panel plate (upper electrode) side. Therefore, it is desired that the transparent conductive layer of the transparent conductive film has good durability that can resist this, that is, has a hit point characteristic, particularly pen input durability. However, if unevenness is formed on the surface of one transparent conductive layer in order to eliminate Newton's ring during pressing, the surface of the other transparent conductive layer is likely to be destroyed by pressing or sliding due to pen input, and the life of the touch panel is shortened. There was a problem of shortening.
上記観点に鑑み、本願発明は、タッチパネルを形成した際に、押圧時のニュートンリングの発生と画面のギラツキの両者が抑制され、かつ高いペン入力耐久性を有する透明導電性フィルムを提供することを目的とする。 In view of the above viewpoint, the present invention is to provide a transparent conductive film having both high pen input durability, in which both the generation of Newton rings during pressing and screen glare are suppressed when a touch panel is formed. Objective.
本願発明者等は、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、透明導電層の表面を所定形状とすることにより、ニュートンリングの発生が抑制され、かつ、タッチパネル形成時の視認性およびペン入力耐久性にも優れることを見出し、本発明にいたった。本発明は、透明高分子基材の一方の主面にハードコート層および透明導電層をこの順に有する透明導電性フィルムに関する。本発明の透明導電性フィルムのヘイズは０〜１０％であることが好ましい。また、前記ハードコート層は硬化性樹脂および微粒子を含有することが好ましい。本発明の透明導電性フィルムは、透明導電層表面の任意の長さ４ｍｍにおいて測定した表面粗さプロファイルにおいて、下記（１）および（２）を同時に満たすことが好ましい。
（１）粗さ平均線に平行で０．２μｍの高さにある第１基準線を超える凸状部の数が１０個〜７０個
（２）粗さ平均線に平行で１μｍの高さにある第２基準線を超える凸状部を有していない
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present application have suppressed the generation of Newton rings by making the surface of the transparent conductive layer a predetermined shape, and the visibility and pen input durability during touch panel formation. As a result, the present invention was found. The present invention relates to a transparent conductive film having a hard coat layer and a transparent conductive layer in this order on one main surface of a transparent polymer substrate. The haze of the transparent conductive film of the present invention is preferably 0 to 10%. The hard coat layer preferably contains a curable resin and fine particles. The transparent conductive film of the present invention preferably satisfies the following (1) and (2) simultaneously in the surface roughness profile measured at an arbitrary length of 4 mm on the surface of the transparent conductive layer.
(1) The number of convex portions exceeding the first reference line that is parallel to the roughness average line and having a height of 0.2 μm is 10 to 70. (2) The height is 1 μm parallel to the roughness average line. Does not have a convex part that exceeds a second reference line
本発明の透明導電性フィルムにおいて、ハードコート層の厚みは、２μｍ〜１５μｍであることが好ましい。また、ハードコート層中の微粒子は、平均粒径が、１μｍ〜１０μｍであり、かつ、微粒子の平均粒径がハードコート層の厚みよりも小さいことが好ましい。一実施形態において、ハードコート層中の微粒子は、単一の粒径分布を有することが好ましい。 In the transparent conductive film of the present invention, the thickness of the hard coat layer is preferably 2 μm to 15 μm. The fine particles in the hard coat layer preferably have an average particle size of 1 μm to 10 μm, and the average particle size of the fine particles is smaller than the thickness of the hard coat layer. In one embodiment, the fine particles in the hard coat layer preferably have a single particle size distribution.
本発明の透明導電性フィルムにおいて、タッチパネル形成時の画面のギラツキを抑制する観点において、ハードコート層中の微粒子の屈折率ｎ２２と、硬化性樹脂の屈折率ｎ２１との差ｎ２２−ｎ２１が、−０．１〜−０．００２であることが好ましい。 The transparent conductive film of the present invention, in viewpoint of suppressing glare of the screen when the touch panel formation, the refractive index n 22 of the fine particles in the hard coat layer, the difference n 22 -n of the refractive index n 21 of the curable resin 21 is preferably -0.1 to -0.002.
本発明の透明導電性フィルムの一実施形態において、ハードコート層中の硬化性樹脂は、下記のＡ成分、Ｂ成分およびＣ成分を含有する。
Ａ成分：ウレタン（メタ）アクリレート
Ｂ成分：ポリオール（メタ）アクリレート
Ｃ成分：水酸基およびアクリロイル基の少なくとも一方の基を有するアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート
In one embodiment of the transparent conductive film of the present invention, the curable resin in the hard coat layer contains the following A component, B component, and C component.
Component A: Urethane (meth) acrylate Component B: Polyol (meth) acrylate Component C: Alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having at least one of a hydroxyl group and an acryloyl group
本発明の透明導電性フィルムの一実施形態において、ハードコート層と透明導電層との間には誘電体薄膜を有していてもよい。また、誘電体薄膜は、平均粒径１ｎｍ〜５００ｎｍのナノ微粒子を、薄膜中に０．１重量％〜９０重量％含有することができる。 In one embodiment of the transparent conductive film of the present invention, a dielectric thin film may be provided between the hard coat layer and the transparent conductive layer. The dielectric thin film can contain 0.1 to 90% by weight of nanoparticles having an average particle diameter of 1 nm to 500 nm in the thin film.
さらに、本発明は、前記透明導電性フィルムを用いた抵抗膜方式タッチパネルに関する。 Furthermore, this invention relates to the resistive film type touch panel using the said transparent conductive film.
本発明の透明導電性フィルムは、透明導電層表面に所定の凹凸が形成されているために、タッチパネルを形成した際には、押圧時のニュートンリングの発生と画面のギラツキの両者が抑制され、かつ高いペン入力耐久性を有する。そのため、本発明の透明導電性フィルムを用いた抵抗膜方式のタッチパネルは、ペン入力耐久性に優れるとともに、視認性にも優れる。 Since the transparent conductive film of the present invention has predetermined irregularities formed on the surface of the transparent conductive layer, when a touch panel is formed, both generation of Newton's ring during pressing and screen glare are suppressed, And it has high pen input durability. Therefore, the resistance film type touch panel using the transparent conductive film of the present invention is excellent in pen input durability and also in visibility.
本発明の実施の形態について、図を参照しながら以下に説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの一例を示す断面模式図である。透明導電性フィルム１００は、透明高分子基材１の一方の面に、ハードコート層２、および透明導電層４をこの順に有する。ハードコート層２は、硬化性樹脂バインダー２１および微粒子２２を含有する層であり、透明導電層４形成面側に凹凸を有する。なお、図１に示すように、ハードコート層２と透明導電層４との間には、誘電体薄膜３が形成されていてもよい。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention. The transparent
本発明の透明導電性フィルム１００は、透明導電層４の表面粗さプロファイル（測定長４ｍｍ）が、下記（１）および（２）を同時に満たすことが好ましい。
（１）粗さ平均線に平行で０．２μｍの高さにある第１基準線を超える凸状部の数が１０個〜７０個
（２）粗さ平均線に平行で１μｍの高さにある第２基準線を超える凸状部を有していない
As for the transparent
(1) The number of convex portions exceeding the first reference line that is parallel to the roughness average line and having a height of 0.2 μm is 10 to 70. (2) The height is 1 μm parallel to the roughness average line. Does not have a convex part that exceeds a second reference line
透明導電層表面が上記の表面形状を有することによって、透明導電性フィルムをタッチパネルに組み込んだ際に、押圧時のニュートンリングの発生が抑制され、さらには、視認性の低下や、ペン入力耐久性の低下も抑制される。透明導電層４の表面が平滑であり、第１基準線を超える凸状部の数が少ないと、タッチパネルの押圧時にニュートンリングが発生し易くなる。逆に第１基準線を超える凸状部の数が多すぎると、ニュートンリングの発生は抑制される傾向にあるものの、凹凸に起因して光が散乱され画面がぎらついて見え易くなる傾向がある。特に、タッチパネルが組み込まれる表示装置が、高精細のものである場合に、ぎらつきによる画像の鮮明性の低下が顕著となる傾向がある。そのため、透明導電層表面において、第１基準線を超える凸状部の数は、測定長さ４ｍｍあたり、１０個〜７０個であることがより好ましく、２０個〜５０個であることがさらに好ましい。また、透明導電性フィルム表面において、第２基準線を超える凸状部が存在すると、画面のぎらつきによる視認性の低下傾向に加えて、タッチパネル形成時のペン入力耐久性、特に摺動耐久性が低下する傾向がある。
When the transparent conductive layer surface has the above-mentioned surface shape, when a transparent conductive film is incorporated in a touch panel, the generation of Newton rings during pressing is suppressed, and further, the visibility is lowered and the pen input durability is reduced. Is also suppressed. If the surface of the transparent
本発明の透明導電性フィルムのヘイズは、１０％以下であることが好ましく、７％以下であることがより好ましく、５％以下であることが好ましい。透明導電性フィルムのヘイズが高くなると、光の散乱により画像の鮮明性が低下し、表示画面の文字ボケ等を生じ易くなる傾向がある。なお、ヘイズは、ＪＩＳＫ ７１３６（２０００年版）に準じて測定される。透明導電性フィルムのヘイズの下限は０％であるが、本発明においては、ハードコート層２が樹脂バインダー２１に加えて微粒子２２を含有しているために、ヘイズは一般的に１％以上となることが多い。
The haze of the transparent conductive film of the present invention is preferably 10% or less, more preferably 7% or less, and preferably 5% or less. When the haze of the transparent conductive film is increased, the sharpness of the image is lowered due to light scattering, and there is a tendency that character blur on the display screen is likely to occur. The haze is measured according to JISK 7136 (2000 version). Although the lower limit of the haze of the transparent conductive film is 0%, in the present invention, since the
透明導電層の表面形状、および透明導電性フィルムのヘイズを前記の好ましい範囲とするためには、透明導電層の下地層となるハードコート層２に微粒子を含有させることによってハードコート層２の表面に凹凸を形成することが好ましい。本発明においては、ハードコート層２の表面凹凸の大きさ（高さ）に比して、透明導電層４、および誘電体薄膜３の膜厚が小さいため、透明導電層４の表面においても、ハードコート層２の表面形状が、ほぼ維持される。
以下、本発明の好ましい形態について、説明する。
In order to make the surface shape of the transparent conductive layer and the haze of the transparent conductive film within the above-mentioned preferable ranges, the surface of the
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.
＜透明高分子基材＞
透明高分子基材１としては、特に制限されないが、透明性を有する各種のプラスチックフィルムが用いられる。たとえば、その材料として、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等があげられる。この中で特に好ましいのは、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂である。
<Transparent polymer substrate>
Although it does not restrict | limit especially as the transparent
透明高分子基材の厚みは、２〜２００μｍの範囲内であることが好ましく、２〜１００μｍの範囲内であることがより好ましい。透明高分子基材の厚みが２μｍ未満であると、透明高分子基材１の機械的強度が不足し、フィルム基材をロール状にして透明導電層４を連続的に形成する操作が困難になる場合がある。一方、厚みが２００μｍを超えると、透明導電層４の耐擦傷性やタッチパネル用としての打点特性の向上が図れない場合がある。
The thickness of the transparent polymer substrate is preferably in the range of 2 to 200 μm, and more preferably in the range of 2 to 100 μm. When the thickness of the transparent polymer base material is less than 2 μm, the mechanical strength of the transparent
透明高分子基材は、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を施して、この上に設けられるハードコート層２の透明高分子基材１に対する密着性を向上させるようにしてもよい。また、ハードコート層を設ける前に、必要に応じて、透明高分子基材表面を溶剤洗浄や超音波洗浄などにより除塵、清浄化してもよい。
The surface of the transparent polymer substrate is subjected to an etching process such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, oxidation, or undercoating treatment on the surface in advance. You may make it improve the adhesiveness with respect to the
＜ハードコート層＞
透明高分子基材１上には、ハードコート層２が形成される。ハードコート層は、硬化性樹脂バインダー２１および微粒子２２を含有し、透明導電層４側表面に凹凸を有する層である。本発明において、ハードコート層２の透明導電層４側表面の任意の長さ４ｍｍにおいて測定した表面粗さプロファイルは、下記（１）および（２）を同時に満たすことが好ましい。
（１）ハードコート層表面の粗さ平均線に平行で０．２μｍの高さにある第１基準線を超える凸状部の数が１０個〜７０個
（２）ハードコート層表面の粗さ平均線に平行で１μｍの高さにある第２基準線を超える凸状部を有していない
<Hard coat layer>
A
(1) The number of convex portions that are parallel to the roughness average line on the surface of the hard coat layer and exceed the first reference line at a height of 0.2 μm is 10 to 70 (2) The roughness of the surface of the hard coat layer Does not have a convex part that exceeds the second reference line at a height of 1 μm parallel to the average line
前述のように、透明導電層４の表面においても、ハードコート層２の表面形状が、ほぼ維持される。そのため、ハードコート層２の透明導電層４側表面が平滑であり、前記第１基準線を超える凸状部の数が少ないと、タッチパネルの押圧時にニュートンリングが発生し易くなる。逆に前記第１基準線を超える凸状部の数が多すぎると、ニュートンリングの発生は抑制される傾向にあるものの、凹凸に起因して光が散乱され画面がぎらついて見え易くなる傾向がある。そのため、第１基準線を超える凸状部の数は、測定長さ４ｍｍあたり、１０個〜７０個であることがより好ましく、２０個〜５０個であることがさらに好ましい。また、第２基準線を超える凸状部が存在すると、画面がぎらついて視認性が低下する傾向があることに加えて、タッチパネル形成時のペン入力耐久性、特に摺動耐久性が低下する傾向がある。
As described above, the surface shape of the
ハードコート層のヘイズは、１０％以下であることが好ましく、７％以下であることがより好ましく、５％以下であることがさらに好ましい。ハードコート層のヘイズが高くなると、光の散乱により画像の鮮明性が低下し、表示画面の文字ボケ等を生じ易くなる傾向がある。 The haze of the hard coat layer is preferably 10% or less, more preferably 7% or less, and further preferably 5% or less. When the haze of the hard coat layer is increased, the sharpness of the image is lowered due to light scattering, and there is a tendency that character blur on the display screen is likely to occur.
ハードコート層の表面形状やヘイズの値は、ハードコート層２を形成する硬化性樹脂バインダー２１と微粒子２２の組合せや、ハードコート層の厚みを適宜に調整することによって、上記範囲内に調整することができる。以下、ハードコート層２を形成する硬化性樹脂バインダー２１および微粒子２２のそれぞれの好ましい態様について説明する。
The surface shape and haze value of the hard coat layer are adjusted within the above ranges by appropriately adjusting the combination of the
（硬化性樹脂バインダー）
硬化性樹脂バインダーとしては、電離放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。加工速度の早さや透明高分子基材１への熱ダメージを抑制する観点からは、電離放射線硬化型樹脂を用いることが特に好ましい。
(Curable resin binder)
As the curable resin binder, an ionizing radiation curable resin, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or the like is used. From the viewpoint of suppressing the rapid processing speed and thermal damage to the
このような電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、多価アルコールのアクリル酸やメタクリル酸エステル等の多官能性のアクリレート樹脂、ジイソシアネート、多価アルコールおよびアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル等から合成されるような多官能性のウレタンアクリレート樹脂などを挙げることができる。さらにアクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も必要に応じて好適に使用することができる。また、メラニン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、シリコーン系樹脂等も好ましく用いられる。 Examples of such ionizing radiation curable resins are synthesized from polyfunctional acrylate resins such as polyhydric alcohols such as acrylic acid and methacrylic acid esters, diisocyanates, polyhydric alcohols, and hydroxyalkyl esters of acrylic acid or methacrylic acid. Such polyfunctional urethane acrylate resins can be mentioned. Furthermore, polyether resins having an acrylate functional group, polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins and the like can be suitably used as necessary. In addition, melanin resins, urethane resins, alkyd resins, silicone resins and the like are also preferably used.
本発明の一実施形態において、ハードコート層を形成する硬化性樹脂バインダーとして、下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分を含む硬化性樹脂組成物が好適に用いられる。
（Ａ）成分：ウレタン（メタ）アクリレート
（Ｂ）成分：ポリオール（メタ）アクリレート
（Ｃ）成分：水酸基及びアクリロイル基の少なくとも一方の基を有するアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート
In one Embodiment of this invention, the curable resin composition containing the following (A) component, (B) component, and (C) component is used suitably as curable resin binder which forms a hard-coat layer.
(A) Component: Urethane (meth) acrylate (B) Component: Polyol (meth) acrylate (C) Component: Alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having at least one of a hydroxyl group and an acryloyl group
前記（Ａ）成分であるウレタン（メタ）アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、ポリオール、ジイソシアネートを構成成分として含有するものが用いられる。例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも一方のモノマーと、ポリオールとを用いて、水酸基を１個以上有するヒドロキシ（メタ）アクリレートを作製し、これをジイソシアネートと反応させることによりウレタン（メタ）アクリレートを製造することができる。前記（Ａ）成分において、ウレタン（メタ）アクリレートは、一種類を単独で使用でもよく、二種類以上を併用してもよい。 As urethane (meth) acrylate which is the said (A) component, what contains (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester, a polyol, and diisocyanate as a structural component is used. For example, by using at least one monomer of (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester and a polyol, a hydroxy (meth) acrylate having one or more hydroxyl groups is prepared, and this is reacted with diisocyanate. Urethane (meth) acrylate can be produced. In the component (A), one type of urethane (meth) acrylate may be used alone, or two or more types may be used in combination.
（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アルキルアクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Examples of (meth) acrylic acid esters include (meth) alkyl acrylates such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate; cyclohexane such as cyclohexyl (meth) acrylate and the like. Examples include alkyl (meth) acrylate.
ポリオールは、水酸基を少なくとも２つ有する化合物であり、例えば、エチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、トリシクロデカンジメチロール、１，４−シクロヘキサンジオール、スピログリコール、トリシクロデカンジメチロール、水添ビスフェノールＡ、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グルコース類等が挙げられる。 The polyol is a compound having at least two hydroxyl groups. For example, ethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, 1,3-butanediol, , 4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 3-methyl-1,5- Pentanediol, hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester, tricyclodecane dimethylol, 1,4-cyclohexanediol, spiroglycol, tricyclodecane dimethylol, hydrogenated bisphenol A, ethylene oxide-added bisphenol A, propylene oxide De addition bisphenol A, trimethylolethane, trimethylolpropane, glycerin, 3-methylpentane-1,3,5-triol, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, glucose, etc. can be mentioned.
ジイソシアネートとしては、例えば、芳香族、脂肪族又は脂環族の各種のジイソシアネート類を使用することができ、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３−ジメチル−４，４−ジフェニルジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート等、さらにはこれらの水添物等が挙げられる。 As the diisocyanate, for example, various aromatic, aliphatic or alicyclic diisocyanates can be used. For example, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 4, 4-diphenyl diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 3,3-dimethyl-4,4-diphenyl diisocyanate, xylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, and hydrogenated products thereof. Can be mentioned.
ハードコート層中の前記（Ａ）成分の配合割合は、特に制限されない。前記（Ａ）成分の使用により、ハードコート層の柔軟性及び透明高分子基材に対する密着性を向上させることができる。これらの点及びハードコート層の硬度の観点等から、前記（Ａ）成分の配合割合は、ハードコート層を形成する硬化性樹脂バインダー成分全体に対し、例えば、１５〜５５重量％の範囲であり、好ましくは、２５〜４５重量％の範囲である。ハードコート層を形成する硬化性樹脂バインダー成分全体とは、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の合計量、若しくは、その他の樹脂成分や、後述するようなナノ微粒子成分を用いる場合は、前記三成分の合計量と樹脂成分およびナノ微粒子の合計量とを合わせた量を意味し、以下、同様である。 The blending ratio of the component (A) in the hard coat layer is not particularly limited. By using the component (A), the flexibility of the hard coat layer and the adhesion to the transparent polymer substrate can be improved. From the viewpoint of these points and the hardness of the hard coat layer, the blending ratio of the component (A) is, for example, in the range of 15 to 55% by weight with respect to the entire curable resin binder component forming the hard coat layer. Preferably, it is in the range of 25 to 45% by weight. The total amount of the curable resin binder component forming the hard coat layer is the total amount of the component (A), the component (B) and the component (C), or other resin components and nanoparticle components as described later. In the case, the total amount of the three components and the total amount of the resin component and the nano fine particles are combined, and the same applies hereinafter.
前記（Ｂ）成分としてのポリオール（メタ）アクリレートとしては、例えばペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、ペンタエリスリトールトリアクリレート及びペンタエリスリトールテトラアクリレートの少なくとも一方を含むことが好ましい。かかる化合物によって、十分な硬度及び可撓性を維持しつつ、かつカールの発生をより効果的に防止できる。中でも、ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートとの重合物からなるモノマー成分及びペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートとを含む混合成分を用いることが好ましい。 Examples of the polyol (meth) acrylate as the component (B) include pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1 , 6-hexanediol (meth) acrylate and the like. Among these, it is preferable that at least one of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate is included. With such a compound, curling can be more effectively prevented while maintaining sufficient hardness and flexibility. Among these, it is preferable to use a monomer component made of a polymer of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate and a mixed component containing pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate.
（Ｂ）成分の配合割合は、特に制限されない。例えば、（Ｂ）成分の配合割合は、前記（Ａ）成分に対し７０〜１８０重量％の範囲であることが好ましく、より好ましくは１００〜１５０重量％の範囲である。（Ｂ）成分の配合割合が（Ａ）成分に対し１８０重量％以下であると、形成されるハードコート層の硬化収縮を有効に防止でき、その結果、ハードコート層２が形成された透明高分子基材１のカールを防止でき、透明導電性フィルムの屈曲性の低下を防止できる。また、（Ｂ）成分の配合割合が（Ａ）成分の７０重量％以上であれば、形成されるハードコート層の硬度をより向上させることができる。
The blending ratio of component (B) is not particularly limited. For example, the blending ratio of the component (B) is preferably in the range of 70 to 180% by weight, more preferably in the range of 100 to 150% by weight with respect to the component (A). When the blending ratio of the component (B) is 180% by weight or less with respect to the component (A), curing shrinkage of the formed hard coat layer can be effectively prevented. Curling of the
前記（Ｃ）成分としては、下記一般式（１）の繰り返し単位を含むポリマー、コポリマー、若しくはこれらの混合物が挙げられる。 As said (C) component, the polymer, copolymer, or mixture thereof containing the repeating unit of following General formula (1) is mentioned.
前記式（１）において、Ｒ１は水素、若しくはメチル基であり、Ｒ２は、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＸ、若しくは下記一般式（２）で表される基であり、Ｘは、水素、若しくは下記一般式（３）で表されるアクリロイル基である。また、一般式（２）において、２つのＸは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。 In the formula (1), R 1 is hydrogen or a methyl group, R 2 is —CH 2 CH 2 OX, or a group represented by the following general formula (2), and X is hydrogen or It is an acryloyl group represented by the following general formula (3). Moreover, in General formula (2), two X may be the same and may differ.
上記一般式（１）に該当するアルキル（メタ）アクリレートとしては、例えば、２，３−ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２，３−ジアクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシ−３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。ハードコート層が（Ｃ）成分を有することで、透明導電性フィルムのカールの発生をより効果的に防止することができる。 Examples of the alkyl (meth) acrylate corresponding to the general formula (1) include 2,3-dihydroxypropyl (meth) acrylate, 2,3-diacryloyloxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxy-3-acryloyl. Examples thereof include oxypropyl (meth) acrylate and 2-acryloyloxy-3-hydroxypropyl (meth) acrylate. When the hard coat layer has the component (C), the occurrence of curling of the transparent conductive film can be more effectively prevented.
（Ｃ）成分の配合割合は、特に制限されない。例えば、（Ｃ）成分の配合割合は、前記（Ａ）成分に対し、２５〜１１０重量％の範囲が好ましく、より好ましくは４５〜８５重量％の範囲である。（Ｃ）成分の配合割合が１１０重量％以下であれば、ハードコート層形成材料の塗工性が優れるようになる。（Ｃ）成分の配合割合が２５重量％以上であれば、形成されるハードコート層の硬化収縮を防止でき、その結果、ハードコート層が形成された透明高分子基材におけるカールの発生を抑制することができる。 The blending ratio of component (C) is not particularly limited. For example, the blending ratio of the component (C) is preferably in the range of 25 to 110% by weight, more preferably in the range of 45 to 85% by weight with respect to the component (A). When the blending ratio of the component (C) is 110% by weight or less, the coatability of the hard coat layer forming material becomes excellent. If the blending ratio of the component (C) is 25% by weight or more, curing shrinkage of the formed hard coat layer can be prevented, and as a result, curling in the transparent polymer substrate on which the hard coat layer is formed is suppressed. can do.
ハードコート層を形成する硬化性樹脂バインダーに用いられる電離放射線硬化型樹脂として、上記各成分に加えて反応性希釈剤を有していてもよい。反応性希釈剤としては、比較的低粘度である１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の２官能以上のモノマーおよびオリゴマー並びに単官能モノマー、例えばＮ−ビニルピロリドン、エチルアクリレート、プロピルアクリレート等のアクリル酸エステル類、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、イソオクチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ノニルフェニルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、そのカプロラクトン変成物などの誘導体、スチレン、ｑ−メチルスチレン、アクリル酸等、またはそれらの混合物などを使用することができる。 In addition to the above components, the ionizing radiation curable resin used for the curable resin binder forming the hard coat layer may have a reactive diluent. Reactive diluents include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, and pentaerythritol, which have a relatively low viscosity. Bi- or higher functional monomers and oligomers such as tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and monofunctional monomers such as N-vinyl Acrylic esters such as pyrrolidone, ethyl acrylate, propyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, butyl methacrylate, hexyl Methacrylic acid esters such as tacrylate, isooctyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, nonylphenyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, derivatives thereof such as caprolactone modifications thereof, styrene, q-methylstyrene, acrylic acid, etc., or A mixture thereof can be used.
また、硬化性樹脂バインダーは、電離放射線硬化型樹脂等の樹脂成分に加えて、無機酸化物ナノ微粒子と重合性不飽和基を含む有機化合物とを結合させてなるナノ微粒子を含有するものであってもよい。このようなナノ微粒子を形成する無機酸化物としては、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム等の微粒子があげられる。これらの中でも、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。 Further, the curable resin binder contains nanoparticles formed by bonding inorganic oxide nanoparticles and an organic compound containing a polymerizable unsaturated group in addition to a resin component such as an ionizing radiation curable resin. May be. Examples of the inorganic oxide forming such nano-particles include fine particles such as silicon oxide (silica), titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, and zirconium oxide. Among these, fine particles of silicon oxide (silica), titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, and zirconium oxide are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
硬化性樹脂バインダーとして用いられるナノ微粒子は、ハードコート層の着色防止および透明性の点等から、重量平均粒径が１ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましく、５ｎｍ〜３００ｎｍの範囲であることがより好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。このように、ナノ微粒子の平均粒径が小さければ、可視光の散乱が生じ難く、硬化性樹脂バインダー中の樹脂成分とナノ微粒子の屈折率が異なる場合であっても、ハードコート層のヘイズが大幅に増大することが抑制される。 The nanoparticles used as the curable resin binder preferably have a weight average particle diameter of 1 nm to 500 nm, more preferably in the range of 5 nm to 300 nm, from the viewpoint of coloring prevention and transparency of the hard coat layer. More preferably, it is 10 nm-100 nm. Thus, if the average particle size of the nanoparticles is small, visible light scattering hardly occurs, and even if the resin component in the curable resin binder and the refractive index of the nanoparticles are different, the haze of the hard coat layer is small. A significant increase is suppressed.
無機酸化物ナノ微粒子は、重合性不飽和基を含む有機化合物と結合（表面修飾）されている。この不飽和基が、硬化性樹脂バインダー中の樹脂成分と反応硬化することで、ハードコート層の硬度を向上させる。無機酸化物ナノ微粒子を表面修飾する有機化合物中の重合性不飽和基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基、アクリルアミド基が好ましい。また、前記重合性不飽和基を含む有機化合物は、分子内にシラノール基を有する化合物あるいは加水分解によってシラノール基を生成する化合物であってもよい。また、重合性不飽和基を含む有機化合物は、光感応性基を有するものであることも好ましい。 The inorganic oxide nanoparticles are bonded (surface modified) with an organic compound containing a polymerizable unsaturated group. The unsaturated group improves the hardness of the hard coat layer by reacting with the resin component in the curable resin binder. Examples of the polymerizable unsaturated group in the organic compound for modifying the surface of the inorganic oxide nanoparticles include (meth) acryloyl group, vinyl group, propenyl group, butadienyl group, styryl group, ethynyl group, cinnamoyl group, maleate group, Acrylamide groups are preferred. The organic compound containing a polymerizable unsaturated group may be a compound having a silanol group in the molecule or a compound that generates a silanol group by hydrolysis. Moreover, it is also preferable that the organic compound containing a polymerizable unsaturated group has a photosensitive group.
硬化性樹脂バインダー中に無機酸化物ナノ微粒子を用いる場合、その配合量は、電離放射線硬化型樹脂等の樹脂固形分１００重量部に対し、０．１重量部〜９０重量部の範囲であることが好ましく、１０重量部〜８０重量部の範囲であることがより好ましい。硬化性樹脂バインダーが無機酸化物ナノ微粒子を含有することで、透明高分子基材上にハードコート層が形成されたフィルムのカールや折れの発生を効果的に防止でき、その含有量が９０重量部以下であれば、ハードコート層の硬度を高めることができる。また、硬化性樹脂バインダー中のナノ微粒子の配合量を調整することで、例えば、ハードコート層の屈折率を調整することが可能である。 When inorganic oxide nanoparticles are used in the curable resin binder, the blending amount thereof is in the range of 0.1 to 90 parts by weight with respect to 100 parts by weight of resin solids such as ionizing radiation curable resin. Is preferable, and the range of 10 to 80 parts by weight is more preferable. When the curable resin binder contains inorganic oxide nanoparticles, it is possible to effectively prevent the curling and folding of the film in which the hard coat layer is formed on the transparent polymer substrate, and the content is 90 wt. The hardness of the hard coat layer can be increased if the content is less than or equal to a part. Moreover, it is possible to adjust the refractive index of a hard-coat layer by adjusting the compounding quantity of the nanoparticle in a curable resin binder, for example.
なお、上記のナノ微粒子は、粒径が小さいために、ハードコート層２の表面凹凸の形成に直接的に寄与するものではなく、硬化性樹脂バインダーの組成物として作用する。そのため、ハードコート層２におけるナノ微粒子は、後述する微粒子２２には含まれない。
In addition, since said nano fine particle has a small particle size, it does not contribute directly to formation of the surface unevenness | corrugation of the hard-
（微粒子）
ハードコート層２に用いられる微粒子２２としては、各種金属酸化物、ガラス、プラスチックなどの透明性を有するものを特に制限なく使用することができる。例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム等の無機系微粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル系樹脂、アクリル−スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子やシリコーン系微粒子などがあげられる。前記微粒子は、１種または２種以上を適宜に選択して用いることができる。
(Fine particles)
As the fine particles 22 used in the
ハードコート層２の表面形状は、ハードコート層中の微粒子２２の平均粒径および微粒子の含有量等によって調整し得る。第２基準線を超える凸状部が存在しないようにするためには、ハードコート層中の微粒子の平均粒径は、ハードコート層の厚みよりも小さいことが好ましい。微粒子の平均粒径は、ハードコート層の厚みの４５％〜８０％であることが好ましく、５０％〜７０％であることがさらに好ましい。
The surface shape of the
微粒子の平均粒径は、１μｍ〜１０μｍの範囲であることが好ましく、２μｍ〜８μｍであることがより好ましく、３μｍ〜７μｍであることがさらに好ましい。ハードコート層の微粒子の重量平均粒径が前記範囲より大きくなると、透明導電性フィルム表面の凹凸が大きくなるために、第２基準線を超える凸状部が形成され、タッチパネル形成時の画面の視認性が低下したり、ペン入力耐久性が低下する傾向がある。一方、微粒子の粒径が前記範囲より小さいと、十分な防眩性が得られず、ギラツキも大きくなるという問題が生じやすくなる。 The average particle size of the fine particles is preferably in the range of 1 μm to 10 μm, more preferably 2 μm to 8 μm, and even more preferably 3 μm to 7 μm. When the weight average particle size of the fine particles of the hard coat layer is larger than the above range, the unevenness on the surface of the transparent conductive film is increased, so that convex portions exceeding the second reference line are formed, and the screen is visually recognized when the touch panel is formed. Tend to decrease, and pen input durability tends to decrease. On the other hand, if the particle size of the fine particles is smaller than the above range, sufficient antiglare property cannot be obtained, and the problem that glare is likely to increase is likely to occur.
なお、本明細書において、平均粒径とは、重量平均粒径を表す。微粒子の重量平均粒径は、例えば、コールターカウント法により測定できる。コールターカウント法による測定は、例えば、細孔電気抵抗法を利用した粒度分布測定装置（商品名：コールターマルチサイザー、ベックマン・コールター社製）を用い、微粒子が前記細孔を通過する際の微粒子の体積に相当する電解液の電気抵抗を測定することにより、前記微粒子の数と体積を測定し、重量平均粒径を算出する。 In addition, in this specification, an average particle diameter represents a weight average particle diameter. The weight average particle diameter of the fine particles can be measured by, for example, a Coulter count method. The measurement by the Coulter counting method uses, for example, a particle size distribution measuring device (trade name: Coulter Multisizer, manufactured by Beckman Coulter, Inc.) using a pore electrical resistance method, and the fine particles when the fine particles pass through the pores. By measuring the electric resistance of the electrolytic solution corresponding to the volume, the number and volume of the fine particles are measured, and the weight average particle diameter is calculated.
微粒子２２の形状は特に制限されず、例えば、ビーズ状の略球形であってもよく、粉末等の不定形のものであってもよいが、略球形のものが好ましく、より好ましくは、アスペクト比が１．５以下の略球形の微粒子であり、最も好ましくは球形の微粒子である。アスペクト比が１．５を超える微粒子や多角形の微粒子を用いた場合、透明導電層表面に第２基準線を超える凸状部が形成され易くなり、ペン入力耐久性の向上が図れなくなる場合がある。 The shape of the fine particles 22 is not particularly limited, and may be, for example, a bead-like substantially spherical shape or an irregular shape such as a powder, but is preferably substantially spherical, more preferably an aspect ratio. Is substantially spherical fine particles having a particle size of 1.5 or less, and most preferably spherical fine particles. When fine particles having an aspect ratio exceeding 1.5 or polygonal fine particles are used, convex portions exceeding the second reference line are easily formed on the surface of the transparent conductive layer, and the pen input durability may not be improved. is there.
また、本発明においては、微粒子２２が、単一の粒径分布を有することが好ましい。微粒子の粒径分布を単一とする観点においては、微粒子を１種類のみ用いることが好ましい。微粒子が単一の粒径分布を有することによって、透明導電層の表面形状を所定形状となるように制御することが容易となる。 In the present invention, the fine particles 22 preferably have a single particle size distribution. From the viewpoint of having a single particle size distribution, it is preferable to use only one type of fine particle. When the fine particles have a single particle size distribution, it becomes easy to control the surface shape of the transparent conductive layer to be a predetermined shape.
ハードコート層２中の微粒子２２の配合割合は、硬化性樹脂バインダー１００重量部に対して、１重量部〜６０重量部であることが好ましく、２重量部〜５５重量部であることがより好ましい。微粒子の配合割合が過度に少ないと、透明導電層表面において第１基準線を超える凸状部の数が小さくなり、ニュートンリングの十分な抑制が困難になる傾向がある。一方、微粒子の配合割合が過度に多いと、透明導電層表面において第１基準線を超える凸状部の数が過大となり、透過率の低下や鮮明性の低下を招来する傾向がある。
The mixing ratio of the fine particles 22 in the
微粒子２２の屈折率ｎ２２は、硬化性樹脂バインダー２１の屈折率ｎ２１よりも小さいことが好ましく、次の式（１）の関係を満たすことが好ましい。
−０．１≦ｎ２２−ｎ２１≦−０．０２ （１）
The refractive index n 22 of the fine particles 22 is preferably smaller than the refractive index n 21 of the
−0.1 ≦ n 22 −n 21 ≦ −0.02 (1)
ｎ２２−ｎ２１が負の場合（微粒子の屈折率の方が硬化性樹脂バインダーの屈折率よりも大きい場合）は、ｎ２２−ｎ２１が正の場合（微粒子の屈折率の方が硬化性樹脂バインダーの屈折率よりも小さい場合）に比して、良好なギラツキ防止性が得られる傾向がある。特に両者の屈折率差を０．０２よりも大きくすれば、少量の微粒子の添加で、ギラツキの防止を図ることができる。一方、屈折率差が０．１を超えると、ハードコート層２による光の散乱が強くなりヘイズが上昇するために、文字ボケを生じ易くなる場合がある。
When n 22 -n 21 is negative (when the refractive index of the fine particles is larger than the refractive index of the curable resin binder), when n 22 -n 21 is positive (the refractive index of the fine particles is more curable). As compared with a case where the refractive index is smaller than the refractive index of the resin binder, the antiglare property tends to be obtained. In particular, if the difference in refractive index between the two is greater than 0.02, glare can be prevented by adding a small amount of fine particles. On the other hand, if the refractive index difference exceeds 0.1, light scattering by the
（添加剤）
ハードコート層２の形成材料には、硬化性樹脂バインダーおよび微粒子に加えて、さらに各種の添加剤を加えることもできる。添加剤としては、例えば硬化性樹脂バインダーを硬化してハードコート層を形成するための重合開始剤や、レベリング剤、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤等を使用することができる。
(Additive)
In addition to the curable resin binder and the fine particles, various additives may be added to the material for forming the
重合開始剤としては、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。例えば２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、その他、チオキサント系化合物等が使用できる。 A conventionally well-known photoinitiator can be used as a polymerization initiator. For example, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, acetophenone, benzophenone, xanthone, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, benzoin propyl ether, benzyldimethyl ketal, N, N, N, N-tetramethyl-4,4′-diaminobenzophenone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, and other thioxanthate compounds can be used.
レベリング剤としては、フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤を適宜使用することができるが、より好ましくはシリコーン系のレベリング剤であり。シリコーン系レベリング剤としては、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン等が挙げられる。フッ素系またはシリコーン系のレベリング剤の添加量は、硬化性樹脂バインダー１００重量部に対し０．０１〜５重量部の範囲内で添加することが好ましい。 As the leveling agent, a fluorine-based or silicone-based leveling agent can be used as appropriate, and a silicone-based leveling agent is more preferable. Examples of the silicone leveling agent include polydimethylsiloxane, polyether-modified polydimethylsiloxane, and polymethylalkylsiloxane. The addition amount of the fluorine-based or silicone-based leveling agent is preferably added within a range of 0.01 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin binder.
微粒子２２を分散させる溶媒としては、分散状態に影響を与えず、硬化性樹脂バインダー成分が溶解するものであれば特に制限はない。具体的には、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類やトルエン等が挙げられる。これらの溶媒は単独でも、又任意の割合で混合して用いても良い。 The solvent for dispersing the fine particles 22 is not particularly limited as long as it does not affect the dispersion state and dissolves the curable resin binder component. Specific examples include alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; and toluene. These solvents may be used alone or in admixture at any ratio.
ハードコート層２の形成には、硬化性樹脂バインダー２１中に微粒子２２を添加して透明高分子基材１上に塗工し、乾燥、硬化処理を行うことで添加した微粒子２２による凹凸を形成する方法等、適宜な方法を使用することができる。塗工方法としては特に限定されず、例えば、公知のファンテンコート、ダイコート、スピンコート、スプレーコート、グラビアコート、ロールコート、バーコート等が例示できる。
The
硬化処理としては、例えば、エネルギー線の照射による方法等が例示できる。エネルギー線源としては、例えば、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、窒素レーザー、電子線加速装置、放射性元素などの線源が使用される。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜５０００ｍＷ／ｃｍ２が好ましい。照射量が５０ｍＷ／ｃｍ２未満の場合は、硬化が不十分となるため、ハードコート層２の硬度が低下する。また、５０００ｍＷ／ｃｍ２を超えると、ハードコート層２が着色して透明性が低下する。
As a hardening process, the method by irradiation of an energy ray etc. can be illustrated, for example. As the energy beam source, for example, a beam source such as a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a nitrogen laser, an electron beam accelerator, or a radioactive element is used. The irradiation amount of the energy ray source is preferably 50 to 5000 mW / cm 2 as an integrated exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm. When the irradiation amount is less than 50 mW / cm 2 , curing becomes insufficient, and thus the hardness of the
ハードコート層２の厚みは、塗工性および硬度の観点から、２μｍ〜１５μｍの範囲であることが好ましく、４μｍ〜１２μｍの範囲であることがより好ましい。ハードコート層の厚みが前記範囲より大きいと、ハードコート層形成後の透明高分子基材にカールが生じたり、ヘイズが大きくなる傾向がある。一方、ハードコート層の厚みが前記範囲より小さいと、タッチパネル形成時のギラツキを十分に抑制できない場合がある。また、ハードコート層の厚みは、微粒子２２の平均粒径や含有量を考慮して、ハードコート層の表面プロファイルが前記範囲となるように調整することが好ましい。
The thickness of the
＜誘電体薄膜＞
ハードコート層２と透明導電層４との間には、透明導電層の密着性や反射特性の制御等を目的として誘電体薄膜３が設けられていてもよい。誘電体薄膜は１層でもよく、２層あるいはそれ以上設けてもよい。誘電体薄膜は、無機物、有機物、あるいは無機物と有機物との混合物により形成される。誘電体薄膜を形成する材料としては、ＮａＦ、Ｎａ３ＡｌＦ６、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＳｉＯ２、ＬａＦ３、ＣｅＦ３、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＳｉＯｘ（ｘは１．５以上２未満）などの無機物や、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマーなどの有機物が挙げられる。特に、有機物として、メラミン樹脂とアルキド樹脂と有機シラン縮合物の混合物からなる熱硬化型樹脂を使用することが好ましい。誘電体薄膜は、上記の材料を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、塗工法などにより形成できる。
<Dielectric thin film>
A dielectric
誘電体薄膜３の厚みは、５ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ〜７０ｎｍであることがさらに好ましい。誘電体薄膜の厚さが過度に小さいと連続被膜となりにくい。また、誘電体薄膜の厚みが過度に大きいと、透明導電性フィルムの透明性が低下したり、誘電体薄膜にクラックが生じ易くなる傾向がある。
The thickness of the dielectric
誘電体薄膜は、平均粒径が１ｎｍ〜５００ｎｍのナノ微粒子を有していてもよい。誘電体薄膜中のナノ微粒子の含有量は０．１重量％〜９０重量％であることが好ましい。誘電体薄膜に用いられるナノ微粒子の平均粒径は、上述のように１ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましく、５ｎｍ〜３００ｎｍであることがより好ましい。また、誘電体薄膜中のナノ微粒子の含有量は１０重量％〜８０重量％であることがより好ましく、２０重量％〜７０重量％であることがさらに好ましい。 The dielectric thin film may have nanoparticles having an average particle diameter of 1 nm to 500 nm. The content of nanoparticles in the dielectric thin film is preferably 0.1% to 90% by weight. As described above, the average particle size of the nanoparticles used in the dielectric thin film is preferably in the range of 1 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 300 nm. Further, the content of the nanoparticles in the dielectric thin film is more preferably 10% by weight to 80% by weight, and further preferably 20% by weight to 70% by weight.
誘電体薄膜中にナノ微粒子を含有することによって、誘電体薄膜の屈折率の調整を容易に行うことができる。 By containing the nano fine particles in the dielectric thin film, the refractive index of the dielectric thin film can be easily adjusted.
誘電体薄膜中に含まれるナノ微粒子としては、ハードコート層中に含まれうるナノ微粒子として先に説明したのと同様に、重合性不飽和基を含む有機化合物と結合（表面修飾）された無機酸化物ナノ微粒子が好適に用いられる。また、このようなナノ微粒子が用いられる場合、誘電体薄膜は、重合性不飽和基を有する有機化合物から形成されることが好ましい。これにより、ナノ微粒子同士の凝集を防止することができるからである。 The nanoparticle contained in the dielectric thin film is an inorganic substance bonded (surface modified) with an organic compound containing a polymerizable unsaturated group, as described above as the nanoparticle that can be contained in the hard coat layer. Oxide nanoparticles are preferably used. When such nano-particles are used, the dielectric thin film is preferably formed from an organic compound having a polymerizable unsaturated group. This is because aggregation of the nanoparticles can be prevented.
＜透明導電層＞
ハードコート層２上には、透明導電層４が形成される。なお、図１に示すようにハードコート層２上に誘電体薄膜３が形成されている場合は、誘電体薄膜３上に透明導電層４が形成される。透明導電層４の構成材料は特に限定されず、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも１種の金属の金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。例えば酸化スズを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンを含有する酸化スズ（ＡＴＯ）などが好ましく用いられる。
<Transparent conductive layer>
A transparent
透明導電層４の厚みは特に制限されないが、その表面抵抗を１×１０3Ω／□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、厚みを１０ｎｍ以上とするのが好ましい。膜厚が、厚くなりすぎると透明性の低下などをきたすため、１５〜３５ｎｍであることが好ましく、より好ましくは２０〜３０ｎｍの範囲内である。透明導電層の厚みが１５ｎｍ未満であると膜表面の電気抵抗が高くなり、かつ連続被膜になり難くなる。また、透明導電層の厚みが３５ｎｍを超えると透明性の低下などをきたす場合がある。
The thickness of the transparent
透明導電層４の形成方法は特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを例示できる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。なお、図２、３に示すように、ハードコート層２形成面側に透明導電層４が形成される場合、透明導電層４がスパッタリング法等のドライプロセスによって形成されれば、透明導電層４の表面は、その下地層であるハードコート層２表面の凹凸をほぼ維持する。そのため、ハードコート層２上に透明導電層４が形成されている場合においても、透明導電層４表面にも、耐ブロッキング性および易滑性を付与することができる。
The formation method of the transparent
透明導電層４は、必要に応じて、加熱アニール処理を施して結晶化することができる。透明導電層を結晶化することで、透明導電層が低抵抗化されることに加えて、透明性および耐久性が向上する。
The transparent
＜透明導電性フィルムの背面側の構成＞
上記のようにして得られた透明導電性フィルムは、そのままタッチパネルの形成に用いてもよいし、透明高分子基材１の透明導電層４形成面側と反対側に、視認性の向上を目的とした反射防止層を設けたり、外表面の保護を目的とした背面ハードコート層を設けてもよい。なお、透明高分子基材上への背面ハードコート層や反射防止層等は、透明導電層の形成前、形成後のいずれにおこなうこともできる。反射防止層は、背面ハードコート層上に設けることもできる。
<Configuration on the back side of the transparent conductive film>
The transparent conductive film obtained as described above may be used for forming a touch panel as it is, or on the side opposite to the transparent
背面ハードコート層の形成に用いられる硬化性樹脂としては、透明高分子基材１の透明導電層４形成面側に設けられるハードコート層２の硬化性樹脂バインダー２１の成分として前述したのと同様の樹脂組成物を用いることができる。
The curable resin used for forming the back hard coat layer is the same as that described above as the component of the
反射防止層は、光の干渉効果を利用して、入射光と反射光の逆転した位相を互いに相殺させることで反射防止機能を発現させるものである。画像表示装置にタッチパネルを装着した際、画像の視認性を低下させる要因のひとつに空気と透明高分子基材あるいはその上に形成された背面ハードコート層界面での光の反射が挙げられる。厚みおよび屈折率を厳密に制御した薄膜を、透明高分子基材あるいは背面ハードコート層上に形成して反射防止層として機能させることで、空気界面における反射を低減させることができる。 The antireflection layer exhibits an antireflection function by canceling out the reversed phases of incident light and reflected light using the interference effect of light. When a touch panel is attached to the image display device, one of the factors that lower the image visibility is the reflection of light at the interface between the air and the transparent polymer base material or the back hard coat layer formed thereon. Reflection at the air interface can be reduced by forming a thin film whose thickness and refractive index are strictly controlled on a transparent polymer substrate or a back hard coat layer to function as an antireflection layer.
光の干渉効果に基づく反射防止層の設計において、その干渉効果を向上させるには、反射防止層と透明高分子基材あるいは背面ハードコート層との屈折率差を大きくすることが好ましい。一般的に、基材上に、厚みおよび屈折率を厳密に制御した薄膜を２〜５層積層する多層反射防止層では、屈折率の異なる成分を所定の厚さだけ複数層形成することで、反射防止層の光学設計に自由度が増し、より反射防止効果を向上させ、分光反射特性も可視光領域でフラットにすることが可能となる。このような反射防止層の形成においては、光学薄膜の各層の厚み精度が要求される為、一般的にはドライ方式である真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等による光学薄膜の形成が行われている。 In designing the antireflection layer based on the light interference effect, it is preferable to increase the difference in refractive index between the antireflection layer and the transparent polymer substrate or the back hard coat layer in order to improve the interference effect. In general, in a multilayer antireflection layer in which 2 to 5 thin films whose thickness and refractive index are strictly controlled are laminated on a base material, by forming a plurality of components having different refractive indexes by a predetermined thickness, The degree of freedom in optical design of the antireflection layer is increased, the antireflection effect is further improved, and the spectral reflection characteristics can be flattened in the visible light region. In the formation of such an antireflection layer, since the thickness accuracy of each layer of the optical thin film is required, the optical thin film is generally formed by a dry method such as vacuum deposition, sputtering, or CVD. ing.
また、透明高分子基材あるいは背面ハードコート層上に単層の光学薄膜を積層することによっても、反射防止効果を発現させることが可能である。反射防止層を単層にする設計においても、反射防止機能を最大限引き出す為には、反射防止層と透明高分子基材あるいは背面ハードコート層との屈折率差を大きくする必要がある。反射防止層の膜厚をｄ、屈折率をｎ、入射光の波長を入とすると、反射防止層の膜厚とその屈折率との間でｎｄ＝（λ／４）×（２ｍ−１）なる関係式が成立することが好ましい（ただし、ｍは自然数である）。反射防止層の屈折率が透明高分子基材の屈折率より小さい場合は、前記関係式が成立する条件で反射率が最小となる。例えば、反射防止層の屈折率が１．４５である場合は、可視光線中の５５０ｎｍの波長の入射光に対して、反射率を最小にする反射防止層の膜厚は９５ｎｍとなる。 It is also possible to exhibit an antireflection effect by laminating a single-layer optical thin film on the transparent polymer substrate or the back hard coat layer. Even in the design of a single antireflection layer, it is necessary to increase the difference in refractive index between the antireflection layer and the transparent polymer base material or the back hard coat layer in order to maximize the antireflection function. Assuming that the thickness of the antireflection layer is d, the refractive index is n, and the wavelength of the incident light is entered, nd = (λ / 4) × (2m−1) between the thickness of the antireflection layer and its refractive index. It is preferable that the following relational expression holds (where m is a natural number). When the refractive index of the antireflection layer is smaller than the refractive index of the transparent polymer substrate, the reflectance is minimized under the condition that the relational expression is satisfied. For example, when the refractive index of the antireflection layer is 1.45, the thickness of the antireflection layer that minimizes the reflectance is 95 nm with respect to incident light having a wavelength of 550 nm in visible light.
反射防止機能を発現させる可視光線の波長領域は、３８０〜７８０ｎｍであり、特に視感度が高い波長領域は４５０〜６５０ｎｍの範囲であり、その中心波長である５５０ｎｍの反射率を最小にする設計を行なうことが通常行われている。 The wavelength region of visible light that exhibits the antireflection function is 380 to 780 nm, and the wavelength region with particularly high visibility is in the range of 450 to 650 nm, and the design that minimizes the reflectance of 550 nm, which is the central wavelength, is designed. It is usually done.
また、透明高分子基材１の透明導電層４形成面側と反対側には、図２に示すように、透明な粘着剤層７を介して透明基体８が貼り合わされて、透明導電性積層体１１０を形成することもできる。透明高分子基材１と透明基体８との貼り合わせは、透明基体８の方に粘着剤層７を設けておき、これに透明高分子基材１を貼り合わせるようにしてもよい。また、逆に透明高分子基材１の方に粘着剤層７を設けておき、これに透明基体８を貼り合わせるようにしてもよい。また、セパレーター上に粘着剤層７を予め形成し、透明基体８または透明高分子基材１に粘着剤層７を転写することもできる。
Further, as shown in FIG. 2, a
粘着剤層７としては、透明性を有するものであれば特に制限なく使用できる。具体的には、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、光学的透明性に優れ、適度なぬれ性、凝集性および接着性等の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性等にも優れるという点からは、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。
The pressure-
粘着剤層７の構成材料である粘着剤の種類によっては、適当な粘着用下塗り剤を用いることで投錨力を向上させることが可能なものがある。従って、そのような粘着剤を用いる場合には、粘着用下塗り剤を用いることが好ましい。
Depending on the type of the pressure-sensitive adhesive that is the constituent material of the pressure-
前記粘着用下塗り剤としては、粘着剤の投錨力を向上できる層であれば特に制限はない。具体的には、例えば、同一分子内にアミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、クロル基等の反応性官能基と加水分解性のアルコキシシリル基とを有するシラン系カップリング剤、同一分子内にチタンを含む加水分解性の親水性基と有機官能性基とを有するチタネート系カップリング剤、および同一分子内にアルミニウムを含む加水分解性の親水性基と有機官能性基とを有するアルミネート系カップリング剤等のいわゆるカップリング剤、エポキシ系樹脂、イソシアネート系樹脂、ウレタン系樹脂、エステルウレタン系樹脂等の有機反応性基を有する樹脂を用いることができる。工業的に取扱い易いという観点からは、シラン系カップリング剤を含有する層が特に好ましい。 The adhesive undercoat is not particularly limited as long as it is a layer that can improve the anchoring force of the adhesive. Specifically, for example, a silane coupling agent having a reactive functional group such as amino group, vinyl group, epoxy group, mercapto group, chloro group and hydrolyzable alkoxysilyl group in the same molecule, the same molecule Titanate coupling agent having hydrolyzable hydrophilic group and organic functional group containing titanium, and aluminum having hydrolyzable hydrophilic group and organic functional group containing aluminum in the same molecule A resin having an organic reactive group such as a so-called coupling agent such as an nate coupling agent, an epoxy resin, an isocyanate resin, a urethane resin, or an ester urethane resin can be used. From the viewpoint of easy industrial handling, a layer containing a silane coupling agent is particularly preferred.
また、前記粘着剤層７には、ベースポリマーに応じた架橋剤を含有させることができる。また、粘着剤層７には必要に応じて例えば天然物や合成物の樹脂類、ガラス繊維やガラスビーズ、金属粉やその他の無機粉末等からなる充填剤、顔料、着色剤、酸化防止剤などの適宜な添加剤を配合することもできる。また透明微粒子を含有させて光拡散性が付与された粘着剤層７とすることもできる。
The pressure-
なお、前記の透明微粒子には、例えば平均粒径が０．５〜２０μｍのシリカ、酸化カルシウム、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化スズ、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性の無機系微粒子や、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタンの如き適宜なポリマーからなる架橋または未架橋の有機系微粒子など適宜なものを１種または２種以上用いることができる。 The transparent fine particles include, for example, conductive inorganic fine particles such as silica, calcium oxide, alumina, titania, zirconia, tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide having an average particle size of 0.5 to 20 μm. Alternatively, one or two or more suitable materials such as crosslinked or uncrosslinked organic fine particles made of a suitable polymer such as polymethyl methacrylate and polyurethane can be used.
粘着剤層は、通常、ベースポリマーまたはその組成物を溶剤に溶解または分散させた固形分濃度が１０〜５０重量％程度の粘着剤溶液として用いられる。前記溶剤としては、トルエンや酢酸エチル等の有機溶剤や水等の粘着剤の種類に応じたものを適宜に選択して用いることができる。 The pressure-sensitive adhesive layer is usually used as a pressure-sensitive adhesive solution having a solid content concentration of about 10 to 50% by weight in which a base polymer or a composition thereof is dissolved or dispersed in a solvent. As the solvent, an organic solvent such as toluene or ethyl acetate or an adhesive such as water can be appropriately selected and used.
この粘着剤層７は、透明基体８の接着後に於いては、そのクッション効果により、透明高分子基材１の一方の面に設けられた透明導電層４の耐擦傷性やタッチパネル用としての打点特性、いわゆるペン入力耐久性を向上させる機能を有する。この機能をより良く発揮させる観点から、粘着剤層７の弾性係数を１〜１００Ｎ／ｃｍ２の範囲、厚さを１μｍ以上、通常５〜１００μｍの範囲に設定するのが望ましい。
The
このような粘着剤層７を介して貼り合わされる透明基体８は、透明高分子基材１に対して良好な機械的強度を付与し、特にカールなどの発生防止に寄与するものである。貼り合わせ後においても可撓性を有することが要求される場合は、透明基体８は、通常６〜３００μｍ程度のプラスチックフィルムが用いられる。その一方、可撓性が特に要求されない場合には、通常０．０５〜１０ｍｍ程度のガラス板やフィルム状ないし板状のプラスチック等が、それぞれ用いられる。プラスチックの材質としては、前記した透明高分子基材１と同様のものが挙げられる。
The
また、必要に応じて、前記透明基体８の外表面（粘着剤層７とは反対側の面）に、背面ハードコート層や反射防止層を設けてもよい。前記透明基体８の外表面に設けられる背面ハードコート層や反射防止層としては、透明高分子基材１の透明導電層４形成面側と反対側に設けられる層として前記したのと同様のものが好適に用いられる。
Moreover, you may provide a back surface hard-coat layer and an antireflection layer in the outer surface (surface on the opposite side to the adhesive layer 7) as needed. The back hard coat layer and antireflection layer provided on the outer surface of the
上記のような本発明の透明導電性フィルムは、各種装置の透明電極や、タッチパネルの形成に好適に用いられる。特に、本発明の透明導電性フィルムは、押圧時のニュートンリングの発生が抑制され、かつペン入力耐久性に優れることから、抵抗膜方式のタッチパネルに好適に用いられる。 The transparent conductive film of the present invention as described above is suitably used for forming transparent electrodes of various devices and touch panels. In particular, the transparent conductive film of the present invention is suitably used for a resistive film type touch panel because generation of Newton rings during pressing is suppressed and pen input durability is excellent.
以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、各例中、含有量や比率は、特記がない限りいずれも重量基準である。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded. In each example, the content and ratio are based on weight unless otherwise specified.
［測定方法］
（ハードコート層の屈折率）
アタゴ社製のアッベ屈折率計を用い、ハードコート層の測定面に対して測定光を入射させるようにして、該装置に示される規定の測定方法により測定を行った。
[Measuring method]
(Refractive index of hard coat layer)
Using an Abbe refractometer manufactured by Atago Co., Ltd., the measurement light was incident on the measurement surface of the hard coat layer, and the measurement was performed by the specified measurement method shown in the apparatus.
（微粒子の屈折率）
微粒子をスライドガラス上に載せ、屈折率標準液を微粒子上に滴下し、カバーガラスを被せて試料を作製した。その試料を顕微鏡にて観察し、微粒子の輪郭が屈折率標準液との界面で最も視認し難くなる屈折率標準液の屈折率を微粒子の屈折率とした。
(Refractive index of fine particles)
Fine particles were placed on a slide glass, a refractive index standard solution was dropped on the fine particles, and a cover glass was placed over to prepare a sample. The sample was observed with a microscope, and the refractive index of the refractive index standard solution in which the contour of the fine particles was most hardly visible at the interface with the refractive index standard solution was defined as the refractive index of the fine particles.
（平均粒子径）
ベックマン・コールター製のコールターマルチサイザーを用いて、コールターカウント法にて測定を行った。
(Average particle size)
Measurement was performed by a Coulter counting method using a Beckman Coulter Coulter Multisizer.
（ハードコート層の膜厚）
透明高分子基材上に粒子を含有するハードコート層を設けたフィルムの厚みを測定し、透明高分子基材の厚みを差し引くことで粒子を含有するハードコート層の膜厚を算出した。厚みの測定は、ミツトヨ製のマイクロゲージ式厚み計にて測定した。
(Hard coat layer thickness)
The thickness of the film provided with the hard coat layer containing particles on the transparent polymer substrate was measured, and the thickness of the hard coat layer containing particles was calculated by subtracting the thickness of the transparent polymer substrate. The thickness was measured with a micro gauge thickness meter made by Mitutoyo.
（ヘイズ）
ＪＩＳ Ｋ７１３６に準じ、村上色彩技術研究所社製のヘイズメーター（型番「ＨＲ３００」）を用いて測定した。
(Haze)
According to JIS K7136, it measured using the haze meter (model number "HR300") by Murakami Color Research Laboratory.
（表面形状の測定）
透明導電性フィルムの透明高分子基材側表面に、粘着剤層を介してＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製のガラス（膜厚１．３ｍｍ）を貼り合わせて測定サンプルとした。このサンプルの透明導電層の表面形状を、小阪研究所製の高精度微細形状測定器（商品名：サーフコーダＥＴ４０００）にて測定した。測定長４ｍｍで表面形状の測定を行い、粗さ平均線に平行で０．２μｍの高さにある第１基準線を超える凸状部の数Ｎ１、および粗さ平均線に平行で１μｍの高さにある第２基準線を超える凸状部の数Ｎ２を求めた。
(Surface shape measurement)
On the transparent polymer substrate side surface of the transparent conductive film, glass (film thickness: 1.3 mm) made by MATUNAMI was bonded via an adhesive layer to obtain a measurement sample. The surface shape of the transparent conductive layer of this sample was measured with a high-precision fine shape measuring instrument (trade name: Surfcorder ET4000) manufactured by Kosaka Laboratory. The surface shape is measured at a measurement length of 4 mm, the number N 1 of convex portions exceeding the first reference line at a height of 0.2 μm parallel to the roughness average line, and 1 μm parallel to the roughness average line The number N 2 of convex portions exceeding the second reference line at the height was determined.
（アンチニュートンリング（ＡＮＲ）性）
透明導電性フィルムの透明高分子基材側表面に、粘着剤層を介してＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製のガラス（膜厚１．３ｍｍ）を貼り合わせて測定サンプルとした。このサンプルの透明導電層表面に、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製のガラス（膜厚１．３ｍｍ）を強く押し付け、ニュートンリング現象の有無を目視にて確認した。結果は以下の２段階で評価した。
○ ：ニュートンリングが見られない。
× ：ニュートンリングが見られる。
(Anti-Newton ring (ANR) properties)
On the transparent polymer substrate side surface of the transparent conductive film, glass (film thickness: 1.3 mm) made by MATUNAMI was bonded via an adhesive layer to obtain a measurement sample. Glass of MATSUNAMI (thickness 1.3 mm) was strongly pressed on the surface of the transparent conductive layer of this sample, and the presence or absence of the Newton ring phenomenon was visually confirmed. The results were evaluated in the following two stages.
○: Newton ring is not seen.
X: Newton ring is seen.
（ギラツキ評価）
透明導電性フィルムの透明高分子基材側表面に、粘着剤層を介してＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製のガラス（膜厚１．３ｍｍ）を貼り合わせて測定サンプルとした。このサンプルを、バックライト（ハクバ写真産業（株）製、商品名「ライトビュワー５７００」）上に置かれたマスクパターン上に、スペーサーを介して、透明導電層側がバックライトと対向するようにセットした。マスクパターンとしては、開口部が縦１０５μｍ×横４０μｍであり、縦線幅１５μｍ、横線幅５０μｍの格子状パターン（１６０ｐｐｉ）を用いた。バックライト表面からマスクパターンまでの距離は１．５ｍｍ、マスクパターンから透明導電層までの距離が、１．３ｍｍとなるようにスペーサーをセットした。ギラツキの有無は目視にて確認した。結果を以下の３段階で評価した。
○ ：ギラツキがほとんど認められない。
△ ：ギラツキが見られるが、実用上は問題ないレベル。
× ：ギラツキがひどく、実用上問題があるレベル。
(Glare evaluation)
On the transparent polymer substrate side surface of the transparent conductive film, glass (film thickness: 1.3 mm) made by MATUNAMI was bonded via an adhesive layer to obtain a measurement sample. This sample is set on the mask pattern placed on the backlight (trade name “Light Viewer 5700”, manufactured by Hakuba Photo Industry Co., Ltd.) so that the transparent conductive layer side faces the backlight via a spacer. did. As the mask pattern, a lattice pattern (160 ppi) having an opening of 105 μm long × 40 μm wide, a vertical line width of 15 μm, and a horizontal line width of 50 μm was used. The spacer was set so that the distance from the backlight surface to the mask pattern was 1.5 mm, and the distance from the mask pattern to the transparent conductive layer was 1.3 mm. The presence or absence of glare was confirmed visually. The results were evaluated in the following three stages.
○: Almost no glare is observed.
Δ: Glittering is observed, but there is no practical problem.
×: Level of severe glare and practical problems.
（文字ボケ）
透明導電性フィルムの透明高分子基材側表面に、粘着剤層を介してＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製のガラス（膜厚１．３ｍｍ）を貼り合わせて測定サンプルとした。このサンプルを、透明導電層側がディスプレイと対向するように、ディスプレイの表面から距離２ｍｍ離して設置し、文字のボケを目視により判定した。結果は以下の２段階で評価した。
○ ：文字ボケがみられない。
× ：文字ボケがみられる。
(Character blur)
On the transparent polymer substrate side surface of the transparent conductive film, glass (film thickness: 1.3 mm) made by MATUNAMI was bonded via an adhesive layer to obtain a measurement sample. This sample was placed at a distance of 2 mm from the surface of the display so that the transparent conductive layer side was opposed to the display, and blurring of characters was visually determined. The results were evaluated in the following two stages.
○: Character blur is not seen.
X: Character blur is observed.
（ペン入力耐久性）
ペン入力耐久性評価の概略は、図３に示すとおりである。透明導電性フィルムの透明高分子基材１側表面に、粘着剤層７１を介してＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製のガラス８１（膜厚１．３ｍｍ）に貼り合わせて下部電極サンプルとした。上部電極サンプルとしては、ＰＥＴフィルム１１上にＩＴＯ膜４１が形成された透明導電性フィルム１０１（日東電工製 商品名「エリクリスタ Ｖ２７０Ｌ−ＴＦＭＰ」）を用いた。上部電極サンプルと下部電極サンプルとの間に、厚み１８８μｍのＰＥＴフィルム５０を２０ｍｍ間隔で配置し、上部電極サンプルと下部電極サンプルとを透明導電層同士が対向するように配置して、図３に模式的に示す擬似抵抗膜方式タッチパネルを作製した。この擬似タッチパネルの中央部に、上部電極サンプル側から１．２ｋｇの荷重を掛けたポリアセタール製のペン９０（ペン先Ｒ０．８ｍｍ）で、２５０００往復の摺動試験を実施し、試験後の上部電極サンプルのリニアリティを測定した。耐久性試験後のリニアリティが２．０以下のものを○、２．０％を超えるものを×とした。
(Pen input durability)
The outline of pen input durability evaluation is as shown in FIG. A transparent
リニアリティの測定は、摺動試験後の上部電極サンプルの透明導電層の両端部間に５Ｖの電圧を印加し、一方の電極（端子Ａ）および他方の電極（端子Ｂ）間の出力電圧を測定することによっておこなった。リニアリティは、測定開始位置Ａでの出力電圧をＥＡ、測定終了位置Ｂでの出力電圧をＥＢ、ＡＢ間の距離をＬＡＢ、開始位置Ａからの距離Ｘの測定点での出力電圧をＥＸ、理論値をＥＸＸとすると、以下の計算から、求められる。
ＥＸＸ＝｛Ｘ・（ＥＢ−ＥＡ）／ＬＡＢ｝＋ＥＡ
リニアリティ（％）＝〔（ＥＸＸ−ＥＸ）／（ＥＢ−ＥＡ）〕×１００
The linearity is measured by applying a voltage of 5V across the transparent conductive layer of the upper electrode sample after the sliding test and measuring the output voltage between one electrode (terminal A) and the other electrode (terminal B). It was done by doing. The linearity is the output voltage at the measurement start position A, E A , the output voltage at the measurement end position B, E B , the distance between AB , L AB , and the output voltage at the measurement point at the distance X from the start position A. If E X and the theoretical value is E XX , it can be obtained from the following calculation.
E XX = {X · (E B -E A) / L AB} + E A
Linearity (%) = [(E XX -E X) / ( E B -E A) ] × 100
なお、リニアリティ測定の概略は、図４に示すとおりである。タッチパネルを用いる画像表示装置では、ペンで押さえられることにより上部電極と下部電極との接触部分の抵抗値から画面上に表示されるペンの位置が決定されている。上部および下部パネル表面の出力電圧分布が理論線（理想線）のようになっているものとして抵抗値が決められるが、電圧値が、図４の実測値のように理論線からずれると、実際のペン位置と抵抗値によって決まる画面上のペン位置がうまく同調しなくなる。理論線からのずれがリニアリティであり、その値が大きいほど、実際のペン位置と画面上のペンの位置のずれが大きくなる。すなわち、耐久試験後のリニアリティが小さいほど、耐久性が優れていることを意味する。 The outline of the linearity measurement is as shown in FIG. In an image display device using a touch panel, the position of the pen displayed on the screen is determined from the resistance value of the contact portion between the upper electrode and the lower electrode by being pressed with the pen. The resistance value is determined on the assumption that the output voltage distribution on the upper and lower panel surfaces is a theoretical line (ideal line), but if the voltage value deviates from the theoretical line as shown in FIG. The pen position on the screen, which is determined by the pen position and the resistance value, is not well synchronized. The deviation from the theoretical line is linearity, and the larger the value, the larger the deviation between the actual pen position and the pen position on the screen. That is, the smaller the linearity after the durability test, the better the durability.
［実施例１］
（ハードコート層形成用コーティング組成物の調整）
ハードコート層形成用の樹脂バインダー成分として、下記に示すＡ、Ｂ、Ｃ成分を酢酸ブチル：酢酸エチル＝８９：１１の混合溶媒中に含有するアクリルウレタン系紫外線硬化型樹脂組成物（ＤＩＣ製、商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ１０７１」、固形分：６６重量％）を用いた。このハードコート層形成用材料を硬化して得られた硬化皮膜の屈折率は、１．５２であった。
Ａ成分：ペンタエリスリトール系アクリレートと水添キシレンジイソシアネートからなるウレタンアクリレート（１００重量部）
Ｂ成分：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（４９重量部）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（４１重量部）、およびペンタエリスリトールトリアクリレート（２４重量部）
Ｃ成分：アクリロイル基含有アルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート（５９重量部）
[Example 1]
(Preparation of coating composition for forming hard coat layer)
As a resin binder component for forming a hard coat layer, an acrylic urethane-based ultraviolet curable resin composition (made by DIC, containing the following components A, B, and C in a mixed solvent of butyl acetate: ethyl acetate = 89: 11) The product name “GRANDIC PC1071”, solid content: 66% by weight) was used. The refractive index of the cured film obtained by curing the material for forming a hard coat layer was 1.52.
Component A: urethane acrylate (100 parts by weight) comprising pentaerythritol acrylate and hydrogenated xylene diisocyanate
Component B: dipentaerythritol hexaacrylate (49 parts by weight), pentaerythritol tetraacrylate (41 parts by weight), and pentaerythritol triacrylate (24 parts by weight)
Component C: alkyl (meth) acrylate having an acryloyl group-containing alkyl group (59 parts by weight)
前記ハードコート層形成用材料の樹脂固形分１００重量部あたり、アクリルとスチレンの架橋粒子（積水化成品工業（株）製、商品名「ＸＸ８０ＡＡ」、重量平均粒径：５．５μｍ、屈折率：１．５１５）を４０重量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製の商品名「イルガキュア１８４」）を１．８重量部、レベリング剤（ＤＩＣ製、商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００」）を０．５重量部添加し、混合溶媒（酢酸ブチル：酢酸エチル＝５８：４２）を用いて固形分濃度が４０重量％となるように希釈して、粒子を含有するハードコート層形成用コーティング組成物を調製した。前記アクリルとスチレンの架橋粒子のアスペクト比は、ほとんどが１．０５であった。 Crosslinked particles of acrylic and styrene (trade name “XX80AA”, manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., weight average particle size: 5.5 μm, refractive index per 100 parts by weight of resin solid content of the hard coat layer forming material: 1.515) 40 parts by weight, photopolymerization initiator (trade name “Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1.8 parts by weight, leveling agent (product name “GRANDIC PC-4100” manufactured by DIC) 0.5 parts by weight, and diluted with a mixed solvent (butyl acetate: ethyl acetate = 58: 42) to a solid content concentration of 40% by weight to form a coating for forming a hard coat layer containing particles A composition was prepared. Most of the aspect ratios of the acrylic and styrene crosslinked particles were 1.05.
（ハードコート層の形成）
両面に易接着コーティング層が形成されたＰＥＴフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラー Ｕ４８３」）の片面に、前記ハードコート層形成用コーティング組成物を塗布し、１００℃で１分間加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、メタルハライドランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、塗膜を硬化処理して厚み９．５μｍの粒子を含有するハードコート層を形成した。
(Formation of hard coat layer)
Applying the coating composition for forming a hard coat layer on one side of a PET film substrate (trade name “Lumirror U483”, manufactured by Toray Industries, Inc.) having an easy-adhesion coating layer formed on both sides, and heating at 100 ° C. for 1 minute The coating was dried by Thereafter, ultraviolet rays having an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2 were irradiated with a metal halide lamp, and the coating film was cured to form a hard coat layer containing particles having a thickness of 9.5 μm.
（誘電体薄膜の形成）
粒子を含有するハードコート層の上に、ＪＳＲ（株）製の商品名「ＪＵＡ２０４」をバーコーターを用いて塗布し、８０℃で１分間加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、メタルハライドランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、塗膜を硬化処理して厚み５０ｎｍの樹脂層を形成した。
(Formation of dielectric thin film)
On the hard coat layer containing the particles, a trade name “JUA204” manufactured by JSR Corporation was applied using a bar coater and heated at 80 ° C. for 1 minute to dry the coating film. Thereafter, ultraviolet rays having an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2 were irradiated with a metal halide lamp, and the coating film was cured to form a resin layer having a thickness of 50 nm.
（ＩＴＯ膜の形成）
前記樹脂層の上に、スパッタリング法にてＩＴＯを２５ｎｍの厚みに形成し、実施例１の透明導電性フィルムを得た。
(Formation of ITO film)
On the resin layer, ITO was formed to a thickness of 25 nm by a sputtering method, and the transparent conductive film of Example 1 was obtained.
［実施例２］
実施例１のハードコート層形成用コーティング組成物の調整において、アクリルとスチレンの架橋粒子の含有量をハードコート層形成用材料の樹脂固形分１００重量部あたり５０重量部に変更し、ハードコート層の厚みを１１．５μｍとした。それ以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
[Example 2]
In the adjustment of the coating composition for forming the hard coat layer of Example 1, the content of the crosslinked particles of acrylic and styrene was changed to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the resin solid content of the material for forming the hard coat layer. The thickness was set to 11.5 μm. Other than that was carried out similarly to Example 1, and produced the transparent conductive film.
［実施例３］
実施例１のハードコート層形成用コーティング組成物の調整において、アクリルとスチレンの架橋粒子に代えてシリコーン粒子（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、商品名「トスパール１３０」、重量平均粒径：３．０μｍ、屈折率：１．４３）を、ハードコート層形成用材料の樹脂固形分１００重量部あたり２．５重量部添加し、ハードコート層の厚みを４.０μｍとした。それ以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
[Example 3]
In the preparation of the coating composition for forming a hard coat layer in Example 1, silicone particles (made by Momentive Performance Materials Japan G.K., trade name “Tospearl 130”, weight average particles instead of crosslinked particles of acrylic and styrene were used. 2.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of resin solid content of the hard coat layer forming material was added, and the thickness of the hard coat layer was set to 4.0 μm. Other than that was carried out similarly to Example 1, and produced the transparent conductive film.
［実施例４］
実施例１のハードコート層形成用コーティング組成物の調整において、アクリルとスチレンの架橋粒子の含有量をハードコート層形成用材料の樹脂固形分１００重量部あたり４５重量部に変更し、ハードコート層の厚みを９．０μｍとした。それ以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
[Example 4]
In the preparation of the coating composition for forming the hard coat layer in Example 1, the content of the crosslinked particles of acrylic and styrene was changed to 45 parts by weight per 100 parts by weight of the resin solid content of the material for forming the hard coat layer. The thickness was set to 9.0 μm. Other than that was carried out similarly to Example 1, and produced the transparent conductive film.
［実施例５］
（ハードコート層形成用コーティング組成物の調整）
ハードコート層形成用の樹脂バインダー成分として、酢酸ブチル：メチルエチルケトン（ＭＥＫ）＝７６：２４の混合溶媒中に、ジペンタエリスリトールおよびイソホロンジイソシアネート系ポリウレタンと、表面を有機分子により修飾したシリカナノ微粒子（重量平均粒径１００ｎｍ以下）とを、２：３の重量比で含有するハードコート層形成材料（ＪＳＲ製、商品名「オプスターＺ７５４０」、固形分：５６重量％）を用いた。このハードコート層形成用材料を硬化して得られた硬化皮膜の屈折率は、１．４８５であった。
[Example 5]
(Preparation of coating composition for forming hard coat layer)
As a resin binder component for forming a hard coat layer, dipentaerythritol and isophorone diisocyanate polyurethane in a mixed solvent of butyl acetate: methyl ethyl ketone (MEK) = 76: 24, and silica nanoparticles whose surface is modified with organic molecules (weight average) The hard coat layer forming material (trade name “OPSTAR Z7540”, solid content: 56% by weight, manufactured by JSR) containing a weight ratio of 2: 3 in a weight ratio of 2: 3 was used. The refractive index of the cured film obtained by curing the material for forming a hard coat layer was 1.485.
前記ハードコート層形成用材料の樹脂固形分１００重量部あたり、アクリルとスチレンの架橋粒子（積水化成品工業（株）製、商品名「ＸＸ７９ＡＡ」、重量平均粒径：５．５μｍ、屈折率：１．５０５）を５重量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製の商品名「イルガキュア１８４」）を０．５重量部、レベリング剤（ＤＩＣ製、商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００」）を０．１重量部混合した。この混合物を、固形分濃度が４０重量％、酢酸ブチル：ＭＥＫの比率が２：１となるように希釈して、微粒子を含有するハードコート層形成材料を調製した。 Crosslinked particles of acrylic and styrene (trade name “XX79AA”, manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., weight average particle size: 5.5 μm, refractive index per 100 parts by weight of resin solid content of the hard coat layer forming material: 1.505) 5 parts by weight, photopolymerization initiator (trade name “Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.5 parts by weight, leveling agent (trade name “GRANDIC PC-4100” manufactured by DIC) Was mixed by 0.1 part by weight. This mixture was diluted so that the solid content concentration was 40% by weight and the ratio of butyl acetate: MEK was 2: 1 to prepare a hard coat layer forming material containing fine particles.
（ハードコート層の形成）
両面に易接着コーティング層が形成されたＰＥＴフィルム基材（東レ製、商品名「ルミラー Ｕ４８３」）の片面に、前記ハードコート層形成用コーティング組成物を塗布し、１００℃で１分間加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、メタルハライドランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、塗膜を硬化処理して厚み８．５μｍの粒子を含有するハードコート層を形成した。
(Formation of hard coat layer)
Applying the coating composition for forming a hard coat layer on one side of a PET film substrate (trade name “Lumirror U483”, manufactured by Toray Industries, Inc.) having an easy-adhesion coating layer formed on both sides, and heating at 100 ° C. for 1 minute The coating was dried by Thereafter, ultraviolet rays having an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2 were irradiated with a metal halide lamp, and the coating film was cured to form a hard coat layer containing particles having a thickness of 8.5 μm.
（誘電体薄膜および透明導電層の形成）
実施例１と同様に、ハードコート層上にＪＳＲ（株）製の商品名「ＪＵＡ２０４」を塗布して厚み５０ｎｍの樹脂層を形成し、その上に、スパッタリング法にて厚み２５ｎｍのＩＴＯ膜を形成して透明導電性フィルムを得た。
(Formation of dielectric thin film and transparent conductive layer)
As in Example 1, a product name “JUA204” manufactured by JSR Co., Ltd. was applied on the hard coat layer to form a resin layer having a thickness of 50 nm, and an ITO film having a thickness of 25 nm was formed thereon by sputtering. It formed and obtained the transparent conductive film.
［比較例1］
ハードコート層の厚みを１２μｍとした以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
[Comparative Example 1]
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the hard coat layer was 12 μm.
［比較例２］
ハードコート層の厚みを８．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
[Comparative Example 2]
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the hard coat layer was 8.5 μm.
［比較例３］
ハードコート層の厚みを１２μｍとした以外は、実施例４と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
[Comparative Example 3]
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 4 except that the thickness of the hard coat layer was 12 μm.
［比較例４］
実施例１のハードコート層形成用コーティング組成物の調整において、重量平均粒径が５．５μｍのアクリルとスチレンの架橋粒子に代えて、アクリルとスチレンの架橋粒子（積水化成品工業製、商品名「ＸＸ４１ＡＡ」、重量平均粒径：８．０μｍ、屈折率：１．５０５）に変更し、１０重量部混合した以外は実施例１と同様な方法にて粒子を含有するハードコート層形成材料を得た。また、粒子を含有するハードコート層の厚みを７．０μｍにした以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
[Comparative Example 4]
In the preparation of the hard coat layer forming coating composition of Example 1, instead of the acrylic and styrene crosslinked particles having a weight average particle size of 5.5 μm, crosslinked particles of acrylic and styrene (trade name, manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., trade name) “XX41AA”, weight average particle size: 8.0 μm, refractive index: 1.505), and a hard coat layer forming material containing particles by the same method as in Example 1 except that 10 parts by weight was mixed. Obtained. Moreover, the transparent conductive film was produced like Example 1 except having made the thickness of the hard-coat layer containing particle | grains into 7.0 micrometers.
［比較例５］
ハードコート層の厚みを１０μｍとした以外は、比較例４と同様にして、透明導電性フィルムを作製した。
[Comparative Example 5]
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Comparative Example 4 except that the thickness of the hard coat layer was 10 μm.
［評価］
実施例および比較例のそれぞれの透明導電性フィルムのハードコート層の組成および評価結果を表１に示す。また、実施例および比較例の透明導電性フィルムの表面プロファイルを図５〜図１３に示す。
[Evaluation]
Table 1 shows the compositions and evaluation results of the hard coat layers of the transparent conductive films of Examples and Comparative Examples. Moreover, the surface profile of the transparent conductive film of an Example and a comparative example is shown in FIGS.
表１に示すように、比較例１では、表面が平滑であり、第１基準線を超える凸状部の数が少ないために、ニュートンリングの発生がみされている。また、比較例２、４では、アンチニュートンリング性は付与されているものの、第２基準線を超える凸状部が存在するために、ペン入力耐久性が低いことがわかる。さらに、第２基準線を超える凸状部は存在しないものの、第１基準線を超える凸状部の数が多い比較例５では、画面にギラツキが生じ視認性に劣っていた。さらに、比較例３では、ヘイズが高いために、文字ボケが生じていた。 As shown in Table 1, in Comparative Example 1, since the surface is smooth and the number of convex portions exceeding the first reference line is small, Newton rings are observed. Further, in Comparative Examples 2 and 4, although anti-Newton ring property is imparted, it can be seen that the pen input durability is low because there is a convex portion exceeding the second reference line. Furthermore, although the convex part exceeding a 2nd reference line does not exist, in the comparative example 5 with many convex parts exceeding a 1st reference line, the glare produced on the screen and it was inferior to visibility. Furthermore, in Comparative Example 3, character blurring occurred due to high haze.
これに対して、実施例１〜５の透明導電性フィルムを用いた場合は、アンチニュートンリング性およびペン入力耐久性に優れ、かつ視認性にも優れることがわかる。ハードコート層中の微粒子の屈折率が硬化性樹脂バインダーの屈折率よりも大きい実施例５では、実用上は問題ないレベルではあるが、ギラツキが確認された。このことから、ハードコート層における微粒子の屈折率を硬化性樹脂バインダーの屈折率よりも小さくすることで、ギラツキの発生を抑止できることがわかる。 On the other hand, when the transparent conductive film of Examples 1-5 is used, it turns out that it is excellent in anti-Newton ring property and pen input durability, and also excellent in visibility. In Example 5 where the refractive index of the fine particles in the hard coat layer was larger than the refractive index of the curable resin binder, glare was confirmed although it was a level that was not a problem in practical use. From this, it can be seen that the occurrence of glare can be suppressed by making the refractive index of the fine particles in the hard coat layer smaller than the refractive index of the curable resin binder.
１ 透明高分子基材
２ ハードコート層
２１ 硬化性樹脂バインダー
２２ 微粒子
３ 誘電体薄膜
４ 透明導電層
７ 粘着剤層
８ 透明基体
１００ 透明導電性フィルム
１１０ 透明導電性積層体
DESCRIPTION OF
Claims (9)
ハードコート層は硬化性樹脂および微粒子を含有し、
透明導電層表面の任意の長さ４ｍｍにおいて測定した表面粗さプロファイルにおいて、粗さ平均線に平行で０．２μｍの高さにある第１基準線を超える凸状部の数が１０個〜７０個であり、かつ、粗さ平均線に平行で１μｍの高さにある第２基準線を超える凸状部を有していない、
透明導電性フィルム。 A transparent conductive film having a hard coat layer and a transparent conductive layer in this order on one main surface of the transparent polymer substrate, the haze is 0 to 10%,
The hard coat layer contains a curable resin and fine particles,
In the surface roughness profile measured at an arbitrary length of 4 mm on the surface of the transparent conductive layer, the number of convex portions exceeding the first reference line at a height of 0.2 μm parallel to the roughness average line is 10 to 70. And has no convex portion exceeding the second reference line at a height of 1 μm parallel to the roughness average line,
Transparent conductive film.
Ａ成分：ウレタン（メタ）アクリレート
Ｂ成分：ポリオール（メタ）アクリレート
Ｃ成分：水酸基およびアクリロイル基の少なくとも一方の基を有するアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート The transparent conductive film of any one of Claims 1-4 in which the curable resin in the said hard-coat layer contains the following A component, B component, and C component:
Component A: Urethane (meth) acrylate Component B: Polyol (meth) acrylate Component C: Alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having at least one of a hydroxyl group and an acryloyl group
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Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013181087A (en) * | 2012-03-01 | 2013-09-12 | Nippon Paper Industries Co Ltd | Hard coat film, and method for manufacturing the same |
| WO2014041940A1 (en) | 2012-09-14 | 2014-03-20 | 富士フイルム株式会社 | Curable composition and image-forming method |
| JP2016022701A (en) * | 2014-07-23 | 2016-02-08 | 大日本印刷株式会社 | Method for manufacturing functional film, functional film, method for manufacturing polarizing plate, and method for manufacturing transparent conductive film |
| JP2016081733A (en) * | 2014-10-17 | 2016-05-16 | 日東電工株式会社 | Transparent conductive film, transparent conductive film wound body and touch panel |
| WO2017002779A1 (en) * | 2015-06-28 | 2017-01-05 | 日本製紙株式会社 | Hard coat film |
| JP2017007352A (en) * | 2016-10-03 | 2017-01-12 | 日本製紙株式会社 | Hard coat film and method for producing the same |
| KR20180001561A (en) | 2013-09-18 | 2018-01-04 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | Laminate film and manufacturing method thereof, touch panel device, image display device, and mobile device |
| JP2018012290A (en) * | 2016-07-22 | 2018-01-25 | 日東電工株式会社 | Transparent conductive film |
| KR20200025600A (en) * | 2018-08-31 | 2020-03-10 | 주식회사 엘지화학 | Conductive film and method for preparing the same |
| KR20200075580A (en) * | 2018-12-18 | 2020-06-26 | 주식회사 엘지화학 | Conductive film and method for preparing the same |
| WO2023013733A1 (en) * | 2021-08-06 | 2023-02-09 | 日東電工株式会社 | Laminate |
| WO2023013734A1 (en) * | 2021-08-06 | 2023-02-09 | 日東電工株式会社 | Laminate |
-
2011
- 2011-07-21 JP JP2011160092A patent/JP2013022843A/en not_active Withdrawn
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013181087A (en) * | 2012-03-01 | 2013-09-12 | Nippon Paper Industries Co Ltd | Hard coat film, and method for manufacturing the same |
| WO2014041940A1 (en) | 2012-09-14 | 2014-03-20 | 富士フイルム株式会社 | Curable composition and image-forming method |
| KR20180001561A (en) | 2013-09-18 | 2018-01-04 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | Laminate film and manufacturing method thereof, touch panel device, image display device, and mobile device |
| JP2016022701A (en) * | 2014-07-23 | 2016-02-08 | 大日本印刷株式会社 | Method for manufacturing functional film, functional film, method for manufacturing polarizing plate, and method for manufacturing transparent conductive film |
| JP2016081733A (en) * | 2014-10-17 | 2016-05-16 | 日東電工株式会社 | Transparent conductive film, transparent conductive film wound body and touch panel |
| WO2017002779A1 (en) * | 2015-06-28 | 2017-01-05 | 日本製紙株式会社 | Hard coat film |
| JP2018012290A (en) * | 2016-07-22 | 2018-01-25 | 日東電工株式会社 | Transparent conductive film |
| JP2017007352A (en) * | 2016-10-03 | 2017-01-12 | 日本製紙株式会社 | Hard coat film and method for producing the same |
| KR20200025600A (en) * | 2018-08-31 | 2020-03-10 | 주식회사 엘지화학 | Conductive film and method for preparing the same |
| KR102300533B1 (en) * | 2018-08-31 | 2021-09-09 | 주식회사 엘지화학 | Conductive film and method for preparing the same |
| KR20200075580A (en) * | 2018-12-18 | 2020-06-26 | 주식회사 엘지화학 | Conductive film and method for preparing the same |
| KR102613008B1 (en) * | 2018-12-18 | 2023-12-12 | 주식회사 엘지화학 | Conductive film and method for preparing the same |
| WO2023013733A1 (en) * | 2021-08-06 | 2023-02-09 | 日東電工株式会社 | Laminate |
| JPWO2023013733A1 (en) * | 2021-08-06 | 2023-02-09 | ||
| WO2023013734A1 (en) * | 2021-08-06 | 2023-02-09 | 日東電工株式会社 | Laminate |
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