JP2012529639A - 気体を分析するための装置および方法ならびに関連測定ステーション - Google Patents
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Abstract
Description
− 希釈係数によって分析されるべき気体の流れを希釈するように構成された希釈ユニットと、
− ポンピングによって希釈された気体の流れをサンプリングするためにサンプリングパイプを介して希釈ユニットと連通しており、
サンプリングされた希釈された気体の流れを分析し、
前記分析された希釈された気体の流れおよび希釈係数から、分析されるべき気体の流れの濃度を判定する
ための少なくとも1つの処理手段を備える分析ユニット(5)と
を備える、気体の汚染を測定するためのステーションに関する。
− 分析ユニットが、1ppb(十億分率)程度の濃度を測定する気体分析器を備えること。
− 希釈ユニットが、前記パイプに関してブランチとして接続されていること。
− 希釈ユニットが、前記パイプに関してブランチとして接続されている複数の希釈チャンネルを備え、各希釈チャンネルがそれぞれ希釈係数に関連付けられていること。
− 各稀釈チャンネルが、
分析されるべき前記気体の流れを希釈するために中性気体の流れを前記パイプに注入する手段と、
希釈された気体の流れをポンピングして、それを前記パイプ内の一定の流れを維持するようなやり方で前記パイプから抽出する手段と
を有すること。
− 各希釈チャンネルがそれぞれ分析されるべき気体の流れの希釈に関連すること。
− 少なくとも2つの希釈チャンネルが分析されるべき気体の流れの希釈のために結合されること。
− 前記分析装置が、一方では、フィルタの入口において気体の流れを分析し、他方では、フィルタの出口において気体の流れを分析するように構成されること。
− 希釈係数が判定されるステップ。
− 分析されるべき気体の流れを希釈するようなやり方で、予め決められた中性気体の流れが注入され、希釈された気体の流れがポンピングされるステップ。
− 希釈された気体の流れがポンピングによってサンプリングされるステップ。
− サンプリングされた希釈された気体の流れが分析されるステップ。
− 分析されるべき気体の流れの濃度が、前記分析された希釈された気体の流れおよび希釈係数から判定されるステップ。
(1) Q=S*P(ここで、Q=気体の流れ、S=ポンピング速度、P=圧力)。
− サンプリングされた希釈された気体の流れQaを分析すること、および
− 分析された希釈された気体の流れQaおよび希釈係数Dから、分析されるべき気体の流れQの濃度を判定すること。
(3)Q=−(Qi+Qp+Qa)
− 実行されるべき分析によって、分析されるべき気体の流れQ1またはQ2を対応するブランチに送り込むための第1のマルチウェイバルブ17a、および
− 実行されるべき分析によって、第1のブランチ1aまたは第2のブランチ1bから、分析されるべき希釈された気体の流れQa1およびQa2をサンプリングすることを可能にする第2のマルチウェイバルブ17b、を備える。
パイプ7に関してブランチ接続されている希釈チャンネルのすべて、例えば第1の希釈チャンネル9aおよび第2の希釈チャンネル9bを結合することが可能である。この場合、希釈チャンネルは、共通のブランチ、この場合は分析装置1のブランチ1b上で、連続して接続される。
(5)Di=Dj(すべての値i、jに関して)
(6)Di=n√D(n=希釈チャンネルの数)
Claims (9)
- 分析されるべき気体の濃度を判定するための気体分析装置を備える、半導体基板用の輸送容器内の気体の汚染を測定するためのステーションであって、前記分析装置が、
希釈係数(D)によって分析されるべき気体の流れ(Q)を希釈するように構成された希釈ユニット(3)と、
ポンピングによって希釈された気体の流れ(Qa)をサンプリングするためにサンプリングパイプ(7)を介して希釈ユニット(3)と連通しており、
サンプリングされた希釈された気体の流れ(Qa)を分析し、
前記分析された希釈された気体の流れ(Qa)および希釈係数(D)から分析されるべき気体の流れ(Q)の濃度(C)を判定する
ための少なくとも1つの処理手段を備える分析ユニット(5)と
を備える、気体の汚染を測定するためのステーション。 - 希釈ユニット(3)が前記パイプ(7)に関してブランチとして接続される、請求項1に記載の気体の汚染を測定するためのステーション。
- 希釈ユニット(3)が、前記パイプ(7)に関してブランチとして接続された複数の希釈チャンネル(9a、9b)を備え、各希釈チャンネル(9a、9b)がそれぞれ希釈係数(D1、D2)に関連付けられる、請求項1または2に記載の気体の汚染を測定するためのステーション。
- 各希釈チャンネルが、
分析されるべき前記気体の流れ(Q)を希釈するために中性気体の流れ(Qi)を前記パイプ(7)に注入する手段(11)と、
前記パイプ(7)において一定の流れを維持するようなやり方で、希釈された気体の流れ(Qp)を前記パイプ(7)から抽出するために希釈された気体の流れ(Qp)をポンピングする手段(13)と
を有する、請求項3に記載の気体の汚染を測定するためのステーション。 - 各希釈チャンネル(9a、9b)が、それぞれ分析されるべき気体の流れの希釈に関連する、請求項3または4に記載の気体の汚染を測定するためのステーション。
- 少なくとも2つの希釈チャンネル(9a、9b)が分析されるべき気体の流れの希釈のために結合される、請求項3から5のいずれか一項に記載の気体の汚染を測定するためのステーション。
- 一方では、フィルタの入口において気体の流れを分析し、他方では、フィルタの出口において気体の流れを分析するように構成される、請求項1から6のいずれか一項に記載の気体の汚染を測定するためのステーション。
- 分析されるべき気体の濃度を判定するための気体分析方法であって、
希釈係数(D)が判定されるステップと、
分析されるべき気体の流れ(Q)を希釈するようなやり方で、予め決められた中性気体の流れ(Qi)が注入され、希釈された気体の流れ(Qp)がポンピングされるステップと、
分析されるべき希釈された気体の流れ(Qa)がポンピングによってサンプリングされるステップと
サンプリングされた希釈された気体の流れ(Qa)が分析されるステップと、
分析されるべき気体の流れ(Q)の濃度(C)が前記分析された希釈された気体の流れ(Qa)および希釈係数(D)から判定されるステップと
を備える、気体分析方法。 - 希釈係数(D)が分析されるべき気体の濃度の範囲の濃度の最大値の関数として判定される準備ステップを備える、請求項8に記載の気体分析方法。
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