JP2012524290A - 透明度制御エレクトロクロミック素子 - Google Patents
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Abstract
下部電極(4)の表面を2つの分離領域、つまり自由領域(4a)と、アクティブエリア(CDEF)を含有するアクティブ領域(4b)とに分離する少なくとも1つのパーティション(5)と、
上部電極(9)の表面を2つの相互に電気的に分離にされた領域、つまり自由領域(9a)と、アクティブエリア(CDEF)を含有するアクティブ領域(9b)とに分離する少なくとも1つのパーティション(12)とを備えるエレクトロクロミック素子に関する。
Description
少なくとも1つの「全面」パーティションが、絶縁層を通過することなくここから延び、絶縁層を基板から分離する層まで通過し、下部電極の表面を2つの相互に電気的に分離された領域、つまりこれに合わせて上部電極が第1の電流源コネクタに半田付けされる自由領域と、アクティブエリアを含有するアクティブ領域とに分割し、
少なくとも1つの「選択」パーティションが上部電極と、上部電極を下部電極から分離する種々の層とを通過し、この選択パーティションは上部電極の表面を2つの相互に電気的に分離された領域、つまり下部電極に半田付けされた第2の電流源コネクタを受容する自由領域と、アクティブエリアを含有するアクティブ領域とに分割する。
基板(3)の表面の少なくとも一部に、下部電極(4)を形成する少なくとも1つの導電層を堆積するステップであって、これらの層が前記絶縁層に先行するステップと、
絶縁層を通過せずに絶縁層から開始して、絶縁層を基板(3)から分離する層の少なくとも1つの全面パーティション(5)を生成するステップであって、各全面パーティション(5)が下部電極(4)の表面を2つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域(4a)と、アクティブエリア(CDEF)を含有するアクティブ領域(4b)とに分割するステップと、
自由領域およびアクティブ領域(4a、4b)上に、絶縁層(7a)と、種々の他の機能層(7)と、上部電極(9)を形成する導電層とを堆積するステップと、
上部電極と、上部電極を下部電極(4)から分離する種々の層とによって少なくとも1つの選択パーティション(12)を生成するステップであって、各選択パーティション(12)が上部電極(9)の表面を2つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域(9a)と、アクティブエリア(CDEF)を含有するアクティブ領域(9b)とに分割するステップと、
電流源コネクタ(15)を上部電極(9)のアクティブ領域(9b)に半田付けするステップと、および
電流源コネクタ(15)を、上部電極(9)の自由領域(9a)と、上部電極に合わせて配置された下部電極のアクティブ領域(4b)とに半田付けするステップ、とを含むプロセスである。
Claims (19)
- 少なくとも1つの電気制御アクティブエリア(CDEF)の制御透過性または反射性を有し、少なくとも、下部導電性電極(4)を形成する層と、少なくとも1つがエレクトロクロミック層であり、かつ少なくとも1つ(6、7a)が絶縁性である種々の機能層(7)と、上部導電性電極(9)とを順次備える多層スタックをキャリア基板(3)上に有するエレクトロクロミック素子であって、
少なくとも1つの「全面」パーティション(5)が、絶縁層(6、7a)を通過せずに絶縁層から延び、絶縁層を基板(3)から分離する層(4、2)を通過し、下部電極(4)の表面を2つの相互に電気的に分離された領域、つまり、これに合わせて上部電極(9)が第1の電流源コネクタ(15)に半田付けされる自由領域(4a)と、アクティブエリア(CDEF)を含有するアクティブ領域(4b)とに分割し、
少なくとも1つの「選択」パーティション(12)が、上部電極(9)と、上部電極を下部電極(4)から分離する種々の層とを通過し、上部電極(9)の表面を2つの相互に電気的に分離された領域、つまり、下部電極(4)に半田付けされた第2の電流源コネクタ(17)を受容する自由領域(9a)と、アクティブエリア(CDEF)を含有するアクティブ領域(9b)とに分割する、エレクトロクロミック素子。 - 下部電極(4)の自由領域(4a)が上部電極(9)の電流源コネクタ(17)に半田付けされることを特徴とする、請求項1に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
- キャリア基板(3)がグレージング機能を有しており、具体的にはガラスまたはプラスチックからなることを特徴とする、請求項1または2のいずれかに記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
- 電流源コネクタ(15、17)と電極(4、9)間の半田ジョイントの少なくとも1つが超音波半田付けされることを特徴とする、請求項1から3の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
- 上部電極(9)が少なくとも1つの湿気防止層(11)によって被覆され、湿気防止層が前記選択パーティション(12)によって貫通されることを特徴とする、請求項1から4の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
- 前記絶縁層が、下部電極(4)上に堆積された酸化タンタル(Ta2O5)層であることを特徴とする、請求項1から5の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
- 電極(4、9)の少なくとも1つが少なくとも1つのインジウムスズ酸化物(ITO)層から形成されることを特徴とする、請求項1から6の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
- 上部電極(9)が、少なくとも1つのコネクタ(17)に接続された細線導電ワイヤ(30)のアレイと接触していることを特徴とする、請求項1から7の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
- ワイヤ(30)のアレイが、具体的には、例えばポリウレタンやポリビニルブチラール(PVB)などの熱可塑性ポリマーからなる支持体(32)によって支持されることを特徴とする、請求項8に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
- 全面パーティション(5)および選択パーティション(12)によって画定された自由領域(4a、9)が前記素子の周辺に配置されることを特徴とする、請求項1から9の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
- 基板(3)が矩形であり、全面パーティション(5)および選択パーティション(12)が、基板(3)の対向辺(3a、3b)と平行になるようにそれぞれ生成されることを特徴とする、請求項10に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
- 全面パーティション(5)が、略正方形の自由領域(4a)を構成するように基板(3)の4つの角に生成され、選択パーティション(12)が、略矩形の自由領域(9a)を構成するように前記素子の縁部の周辺の略途中に生成されることを特徴とする、請求項1から11の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子。
- 少なくとも1つの電気制御アクティブエリア(CDEF)の制御透過性または反射性を有し、少なくとも、下部電極(4)形成する導電層と、少なくとも1つがエレクトロクロミック層であり、かつ少なくとも1つが絶縁性である種々の機能層と、上部電極(9)を形成する導電層とを順次備える多層スタックをキャリア基板(3)上に有するエレクトロクロミック素子の製造プロセスであって、
基板(3)の表面の少なくとも一部に、下部電極(4)を形成する少なくとも1つの導電層を堆積するステップであって、これらの層が前記絶縁層に先行するステップと、
絶縁層を通過せずに、絶縁層から開始して、絶縁層を基板(3)から分離する層の少なくとも1つの全面パーティション(5)を生成するステップであって、各全面パーティション(5)が下部電極(4)の表面を2つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域(4a)と、アクティブエリア(CDEF)を含有するアクティブ領域(4b)とに分割する、ステップと、
自由領域およびアクティブ領域(4a、4b)上に、絶縁層(7a)と、種々の他の機能層(7)と、上部電極(9)を形成する導電層とを堆積するステップと、
上部電極と、上部電極を下部電極(4)から分離する種々の層によって少なくとも1つの選択パーティション(12)を生成するステップであって、各選択パーティション(12)が上部電極(9)の表面を2つの相互に電気的に分離された領域、つまり自由領域(9a)と、アクティブエリア(CDEF)を含有するアクティブ領域(9b)とに分割する、ステップと、
電流源コネクタ(15)を上部電極(9)のアクティブ領域(9b)に半田付けするステップと、
電流源コネクタ(17)を、上部電極(9)の自由領域(9a)と、上部電極に合わせて配置された下部電極のアクティブ領域(4b)とに半田付けするステップとを含むプロセス。 - 電流源コネクタ(15)が下部電極(4)の自由領域(4a)に半田付けされることを特徴とする、請求項13に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子の製造プロセス。
- 半田ジョイントの少なくとも1つが超音波半田付けされることを特徴とする、請求項13または14のいずれかに記載の透過性制御エレクトロクロミック素子の製造プロセス。
- パーティション(5、12)の少なくとも1つがレーザービームによって生成されることを特徴とする、請求項13から15の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子の製造プロセス。
- 請求項1から12の一項に記載の複数のエレクトロクロミック素子が同一キャリア基板上に生成され、前記素子が完成されると、キャリア基板およびこの上に堆積されたすべての層が、特定の素子を構成するようにカットされることを特徴とする、請求項13から16の一項に記載の透過性制御エレクトロクロミック素子の製造プロセス。
- 具体的に可変光および/またはエネルギー透過性および/または反射性を有する請求項1から12の一項に記載のエレクトロクロミック素子を含み、基板または基板の少なくとも一部が透明または部分的に透明であり、プラスチックからなり、好ましくは複数および/または積層グレージングまたはダブルグレージングとして装備されることを特徴とするエレクトロクロミックグレージング。
- アーキテクチャグレージングとして、自動車用グレージングとして、産業車両用、または列車、海上もしくは航空の公共輸送用、農業車両用、工事現場の機械用、バックミラーもしくはサイドミラー用または他のミラー用、表示および標識用、およびカメラシャッター用のグレージングとしての、請求項18に記載のグレージングの使用。
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