JP2012256881A - 太陽電池モジュールの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】生産性を増大又は極大化できる太陽電池モジュール及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板10の上に下部電極22を形成する段階と、下部電極22及び基板10の上に光吸収層30を形成する段階と、光吸収層10をパターニングして下部電極22を露出させるトレンチを形成段階と、光吸収層30の上部から前記トレンチ底36まで前記トレンチの一側壁に沿って延長され、前記トレンチの他側壁から分離される伝導性フィルム42でウインドー電極を形成する段階と、を含む。
【選択図】図6
【解決手段】基板10の上に下部電極22を形成する段階と、下部電極22及び基板10の上に光吸収層30を形成する段階と、光吸収層10をパターニングして下部電極22を露出させるトレンチを形成段階と、光吸収層30の上部から前記トレンチ底36まで前記トレンチの一側壁に沿って延長され、前記トレンチの他側壁から分離される伝導性フィルム42でウインドー電極を形成する段階と、を含む。
【選択図】図6
Description
本発明は太陽電池モジュールの製造方法に関する。
最近多大な関心を集めているCIGS薄膜太陽電池は、非晶質シリコン太陽電池に比べて効率が高く、初期劣化現像がない等比較的安定性が高く、商用化のための技術開発が進められている。
CIGS薄膜太陽電池は既存の単結晶シリコン太陽電池を代替できる宇宙用の軽量高効率太陽電池に初めて研究されたほど優れた特性を有し、単位重量当りの発電量が約100W/kgであり、既存のシリコンやGaAs太陽電池の20〜40W/kgに比べて著しく優れる。現在単一接合構造で20.3%を達成しているので、既存の多結晶シリコン太陽電池の最高の効率である20%と同等な性能を有している。
このような長所にも関わらず、CIGS薄膜太陽電池は生産性が低い。その理由としてはCIGS薄膜太陽電池モジュールは通常様々な段階の真空工程を経てモジュールが完成されるので、大規模装備の投資による高い製造費用を要し量産性が低い。CIGS薄膜太陽電池モジュールは基板の上に積層された下部電極、光吸収層、及びウインドー電極を含むことができる。ウインドー電極は数マイクロ乃至数十マイクロメータ程度の厚さを有する透明電極層を含むことができる。透明電極層はスパッタリング方法によって形成され得る。
しかし、従来の太陽電池モジュールの製造方法はスパッタリング方法に数マイクロメータ以上の厚さを有する透明電極層を形成する場合、蒸着工程の所要時間が増加するので、生産性が低下するという問題があった。長時間の蒸着工程は太陽電池モジュールの生産単価を増加させる要因になり得る。
本発明の目的は、生産性を増大又は極大化できる太陽電池モジュールの製造方法を提供することにある。
本発明の実施形態による太陽電池モジュールの製造方法は、基板の上に下部電極を形成する段階と、前記下部電極及び前記基板の上に光吸収層を形成する段階と、前記光吸収層をパターニングして前記下部電極を露出させるトレンチを形成段階と、前記光吸収層の上部から前記トレンチの底まで前記トレンチの一側壁に沿って延長され、前記トレンチの他側壁から分離される伝導性フィルムでウインドー電極を形成する段階と、を含む。
本発明の一実施形態によれば、前記伝導性フィルムはロールプリンティング又はテーピングされ得る。
本発明の他の実施形態によれば、前記伝導性フィルムは酸化亜鉛を含むことができる。
本発明の一実施形態によれば、前記伝導性フィルムは少なくとも1つの伝導性不純物をさらに含むことができる。
本発明の他の実施形態によれば、前記伝導性フィルムはグラフェンを含むことができる。
本発明の一実施形態によれば、前記ウインドー電極を形成する段階は、前記トレンチの底の前記下部電極と、前記光吸収層の上に前記伝導性フィルムをロールプリンティング又はテーピングする段階と、前記トレンチ側壁の前記伝導性フィルムをスクライビングする段階と、をさらに含むことができる。
本発明の他の実施形態によれば、前記光吸収層を形成する段階は、前記光吸収層の上に第1バッファ層を形成する段階をさらに含むことができる。前記第1バッファ層は硫化カドミウムを含むことができる。
本発明の一実施形態によれば、前記第1バッファ層の上に第2バッファ層を積層する段階をさらに含むことができる。前記第2バッファ層は真性酸化亜鉛を含むことができる。
本発明の実施形態によれば、光吸収層へ光を透過させるウインドー電極はロールプリンティング又はテーピングされた伝導性フィルムによって形成する。伝導性フィルムの接合は既存のスパッタリング方法より工程時間を短縮させ得る。
したがって、本発明の実施形態による太陽電池モジュールの製造方法は生産性を増大又は極大化できる。
以上の本発明の目的、他の目的、特徴、及び長所は添付された図面と関連した以下の望ましい実施形態を通じて容易に理解できる。しかし、本発明はここで説明される実施形態に限定されず、他の形態に具体化され得る。むしろ、ここで紹介される実施形態は開示された内容が徹底して完全になり得るようにそして、当業者に本発明の思想が十分に伝達できるようにするために提供されるものである。
本明細書で、所定の構成要素が異なる構成要素の上にあると言及される場合にそれは他の構成要素の上に直接形成されることができるか、又はそれらの間に第3の構成要素が介在され得るということを意味する。また、図面において、構成要素等の厚さは技術的内容の効果的な説明のために誇張されたものである。明細書全体にわたって同一の参照番号に表示された部分は同一の構成要素を示す。
本明細書で記述する実施形態は本発明の理想的な例示図である断面図及び/又は平面図を参考にして説明される。図面において、膜及び領域の厚さは技術的内容の効果的な説明のために誇張されたものである。したがって、製造技術及び/又は許容誤差等によって例示図の形態が変形できる。したがって、図面で例示された領域は概略的な属性を有し、図面で例示された領域の模様は素子の領域の特定形態を例示するためのものであり、発明の範疇を制限するためのものではない。ここに説明され例示される実施形態はその相補的な実施形態も含む。
本明細書で使用された用語は実施形態を説明するためのものであり、本発明を制限しようとするものではない。本明細書で、単数型は文句で特別に言及しない限り複数型も含む。明細書で使われる‘含む(comprises)’及び/又は‘含む(comprising)’は言及された構成要素は1つ以上の他の構成要素の存在、又は追加を排除しない。
図1は本発明の実施形態による太陽電池モジュールを示す斜視図である。
図1を参照すれば、本発明の太陽電池モジュールは光吸収層30の上部から前記光吸収層30外殻のトレンチ36の底まで延長されるウインドー電極40を含むことができる。ウインドー電極40は約2μm乃至約3μm程度の厚さを有する伝導性フィルムを含むことができる。ウインドー電極40はトレンチ36の一側壁で吸収層30、第1及び第2バッファ層32、34を覆い、前記トレンチ36の他側壁で前記光吸収層30、前記第1及び第2バッファ層32、34を露出させ得る。グリッド50はウインドー電極40の上に配置され得る。保護層60はグリッド50、ウインドー電極40、及びトレンチ36を覆うことができる。
1つの単位セル70は下部電極22、光吸収層30、第1バッファ層32、第2バッファ層34、及びウインドー電極40で構成され得る。隣接する単位セル70はトレンチ36によって互に分離され得る。即ち、トレンチ36は単位セル70を定義することができる。
1つの単位セル70のウインドー電極40は隣接する他の単位セル70の下部電極22に連結され得る。
ウインドー電極40と下部電極22とは1つの単位セル70内で光吸収層30乃至第2バッファ層34によって分離され得る。ウインドー電極40と下部電極22とは互に隣接する単位セル70との間に連結され得る。
このように構成された本発明の実施形態による太陽電池モジュールの製造方法を説明すれば、次の通りである。
図2乃至図9は本発明の実施形態による太陽電池モジュールの製造方法を順次的に示した工程斜視図である。
図2を参照すれば、基板10の上に伝導性金属層20を形成する。基板10はソーダライムガラス(sodalime glass)基板であり得る。これとは異なりに、基板10はアルミナのようなセラミック基板、ステンレス鋼板、銅テープ等の金属基板又は高分子(polymer)フィルムであり得る。伝導性金属層20は非抵抗が低いし、熱膨脹係数の差異によって剥離現像が生じないようにガラス基板に対する粘着性が優れていることが望ましい。具体的に、伝導性金属層20はモリブデン(Molybdenum)を含むことができる。モリブデンは高い電気伝導度、他の薄膜とのオーミック接合(ohmic contact)形成特性、セレニウムSe雰囲気の下で高温安定性を有することができる。
図3を参照すれば、伝導性金属層20をパターニングして下部電極22を形成する。下部電極22はレーザービーム又はフォトリソグラフィー工程によってパターニングされ得る。
図1及び図4を参照すれば、下部電極22の上に光吸収層30、第1バッファ層32、及び第2バッファ層34を順に積層できる。光吸収層30は光電効果を通じて光エネルギーから電気を生成させ得る。光吸収層30はCuInSe、CuInSe2、CuInGaSe、CuInGaSe2でなされたグループから選択されたいずれか1つのキャルコパイライト(chalcopyrite)系化合物半導体を含むことができる。キャルコパイライト系化合物半導体は約1.2eV程度のエネルギーバンドギャップを有することができる。
第1バッファ層32は後続工程によって形成されたウインドー電極40と光吸収層30とのエネルギーバンドギャップをバッファリングできる。第1バッファ層32は光吸収層30よりエネルギーバンドギャップが大きく、ウインドー電極40よりエネルギーバンドギャップが小さいことがあり得る。例えば、第1バッファ層32は硫化カドミウムCdSを含むことができる。硫化カドミウムはエネルギーバンドギャップが約2.4eVとして実質的に一定なエネルギーバンドギャップを有することができる。
前記光吸収層30とウインドー電極40との格子常数が異なるので、第2バッファ層34は 前記光吸収層30とウインドー電極40との良好な接合のために提供される。第2バッファ層34は真性酸化亜鉛(i−ZnO)を含むことができる。第2バッファ層34はウインドー電極40と同一な結晶構造を有することができる。例えば、第2バッファ層34とウインドー電極40とはウルツ鉱(wurtzite)結晶構造を有することができる。
図5を参照すれば、第2バッファ層34乃至光吸収層30をパターニングしてトレンチ36を形成する。トレンチ36は第2バッファ層34乃至光吸収層30に対する機械的スクライビングによって形成され得る。トレンチ36は下部電極22を露出させ得る。
図6を参照すれば、第2バッファ層34及び下部電極22の上に伝導性フィルム42を形成する。伝導性フィルム42は第2バッファ層34と下部電極22とにロールプリンティング又はテーピングされ得る。伝導性フィルム42は約2μm乃至約3μm程度の厚さを有する。伝導性フィルム42はホウ素B、ガリウムGa、アルミニウムAl、マグネシウムMg、インジウムIn、錫Sn、弗素Fのような不純物でドーピングされた酸化亜鉛ZnOを含むことができる。伝導性フィルム42は第2バッファ層34と、トレンチ36底の下部電極22とに接合され得る。伝導性フィルム42はローラー(図示せず)によって圧着され得る。伝導性フィルム42の圧着接合は既存のスパッタリング方法に比べて製造時間及び単価を減らし得る。また、伝導性フィルム42はグラフェン(graphene)を含むことができる。グラフェンは第2バッファ層34と、トレンチ36の底の下部電極22との上にトランスファーリング方法に形成され得る。
したがって、本発明の実施形態による太陽電池モジュールの製造方法は生産性を増大又は極大化できる。
図示しないが、伝導性フィルム42は不純物でドーピングされた酸化亜鉛ZnOと、真性酸化亜鉛i−ZnOとを含むことができる。不純物ドーピングされた酸化亜鉛と、真性酸化亜鉛i−ZnOとで構成された伝導性フィルム42を使用する時、第2バッファ層34の形成工程は省略できる。例えば、光吸収層30と第1バッファ層32とは下部電極22の上に積層され得る。以後、下部電極22の上の第1バッファ層32と光吸収層30とを一部除去してトレンチ36を形成できる。次に、伝導性フィルム42はトレンチ36底の下部電極22と、第1バッファ層32の上にロールプリンティング又はテーピングされ得る。伝導性フィルム42は下部電極22と第1バッファ層32に接合され得る。
図7を参照すれば、トレンチ36の他側壁に形成された伝導性フィルム42の一部分を除去してウインドー電極40を形成できる。伝導性フィルム42はレーザービーム又はナイフのスクライビング工程によってトレンチ36の他側壁から除去できる。伝導性フィルム42の一部分はトレンチ36の一側壁で残存できる。即ち、ウインドー電極40の一側は下部電極22に電気的に連結され、前記ウインドー電極40の他側は下部電極22から分離され得る。ウインドー電極40と下部電極22との各々は1つの単位セル70内で光吸収層30乃至第2バッファ層34によって垂直に分離され、互に隣接する前記単位セル70の間に直列に連結され得る。伝導性フィルム42は既存のフォトリソグラフィー工程及び/又はレーザービーム蝕刻工程より低廉な機械的スクライビング工程で除去できる。1つの単位セル70は積層される下部電極22、光吸収層30、第1バッファ層32、第2バッファ層34、及びウインドー電極40を含むことができる。単位セル70はトレンチ36によって定義され得る。1つの単位セル70のウインドー電極40は隣接する他の単位セル70の下部電極22に連結され得る。
一方、伝導性フィルム42はトレンチ36の他側壁に対応されるロール又はテープで先ず除去された後、基板10の上部にロールプリンティング又はテーピングされ得る。前記伝導性フィルム42はロールプリンティング又はテーピングされる時、第2バッファ層34の上部からトレンチ36の底まで前記トレンチ36の一側壁に沿って延長され、前記トレンチ36の他側壁から分離されて形成され得る。この時、スクライビング工程は省略され得る。
したがって、本発明の実施形態による太陽電池モジュールの製造方法は生産性を増大又は極大化できる。
図8を参照すれば、ウインドー電極40の上にグリッド50を形成する。グリッド50はウインドー電極40を電気的に連結することができる。図示せずが、グリッド50はメッシュ(mesh)形態を有し得る。
図9を参照すれば、グリッド50及びウインドー電極40の上に保護層60(encapsulation layer)を形成する。保護層60はウインドー電極40とグリッド50を覆うガラス又はフィルムを含むことができる。
結局、本発明の実施形態による太陽電池モジュールの製造方法は伝導性フィルムでロールプリンティング又はテーピングされたウインドー電極40を形成できるので、生産性を増大又は極大化できる。
以上の詳細な説明は本発明の望ましい実施形態を示し説明することに過ぎないし、本発明とは他の発明を利用するのに当業界に公知された他の状態への実施、発明の具体的な適用分野及び用途で要求される多様な変更も可能である。したがって、以上の発明の詳細な説明は開示された実施状態に本発明を制限しようとする意図ではなく、添付された請求の範囲は他の実施状態も含むこととして解釈されなければならない。
10・・・基板
20・・・伝導性金属層
30・・・光吸収層
40・・・ウインドー電極
50・・・グリッド
60・・・保護層
20・・・伝導性金属層
30・・・光吸収層
40・・・ウインドー電極
50・・・グリッド
60・・・保護層
Claims (9)
- 基板の上に下部電極を形成する段階と、
前記下部電極及び前記基板の上に光吸収層を形成する段階と、
前記光吸収層をパターニングして前記下部電極を露出させるトレンチを形成段階と、
前記光吸収層の上部から前記トレンチ底まで前記トレンチの一側壁に沿って延長され、前記トレンチの他側壁から分離される伝導性フィルムでウインドー電極を形成する段階と、を含む太陽電池モジュールの製造方法。 - 前記伝導性フィルムはロールプリンティング又はテーピングされた請求項1に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
- 前記伝導性フィルムは酸化亜鉛を含む請求項2に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
- 前記伝導性フィルムは少なくとも1つの伝導性不純物をさらに含む請求項3に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
- 前記伝導性フィルムはグラフェンを含む請求項2に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
- 前記ウインドー電極を形成する段階は、
前記トレンチの底の前記下部電極と、前記光吸収層の上に前記伝導性フィルムとをロールプリンティング又はテーピングする段階と、
前記トレンチ側壁の前記伝導性フィルムをスクライビングする段階と、をさらに含む請求項2に記載の太陽電池モジュールの製造方法。 - 前記光吸収層を形成する段階は、
前記光吸収層の上に第1バッファ層を形成する段階をさらに含む請求項1に記載の太陽電池モジュールの製造方法。 - 前記第1バッファ層の上に第2バッファ層を積層する段階をさらに含む請求項7に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
- 前記第2バッファ層は真性酸化亜鉛を含む請求項8に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
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