JP2012233260A5 - - Google Patents

Claims (6)

下記式（３ａ）で示される硬質皮膜。
（Ｃｒ_(1-p-q-r)Ａｌ_pＺｒ_qＨｆ_r）（Ｃ_(1-z)Ｎ_z） …（３ａ）
［式中の添字は、原子比を示す；ただしｑ及びｒは、片方が０であってもよい；これら添字は、以下の関係を満足する；
０．２≦ｐ＜０．５
０．２≦（ｑ＋ｒ）≦０．５
０．０５≦（１−ｐ−ｑ−ｒ）
０．５≦ｚ≦１］ A hard film represented by the following formula (3a).
_{(Cr (1-pqr) Al} p Zr q Hf r) (C (1-z) N z) ... (3a)
[Subscript in the formula, represents an atomic ratio; however q and r, one may be 0; these subscripts satisfy the relationships below;
0 . 2 ≦ p <0.5
0.2 ≦ (q + r) ≦ 0.5
0.05 ≦ (1-pqr)
0.5 ≦ z ≦ 1] 下記式（３ｂ）で示される硬質皮膜。
（Ｃｒ_{(1-p-q-r-s-t)}Ａｌ_pＺｒ_qＨｆ_rＳｉ_sＢ_t）（Ｃ_(1-z)Ｎ_z） …（３ｂ）
［式中の添字は、原子比を示す；ただしｑ及びｒは、片方が０であってもよい；またｓ及びｔも、片方が０であってもよい；これら添字は、以下の関係を満足する；
０．２≦ｐ＜０．５
０．２≦（ｑ＋ｒ）≦０．５
０＜（ｓ＋ｔ）≦０．２
０．０５≦（１−ｐ−ｑ−ｒ−ｓ−ｔ）
０．５≦ｚ≦１］ A hard film represented by the following formula (3b).
_{(Cr (1-pqrst) Al} p Zr q Hf r Si s B t) (C (1-z) N z) ... (3b)
[Subscript in the formula, represents an atomic ratio; however q and r are one of 0, which may be, also s and t, one is 0, which may be, these indices, the following relationship Satisfy
0 . 2 ≦ p <0.5
0.2 ≦ (q + r) ≦ 0.5
0 <(s + t) ≦ 0.2
0.05 ≦ (1-pqr−s−t)
0.5 ≦ z ≦ 1] 下記式（３ｃ）で示されるターゲットを用い、イオンプレーティング法又はスパッタリング法によって、Ｃ／Ｎ比（原子比）が０．５／０．５〜０／１の窒化物層又は炭窒化物層を形成することによって得られる硬質皮膜。
Ｃｒ_(1-p-q-r)Ａｌ_pＺｒ_qＨｆ_r …（３ｃ）
［式中の添字は、原子比を示す；ただしｑ及びｒは、片方が０であってもよい；これら添字は、以下の関係を満足する；
０．２≦ｐ＜０．５、
０．２≦（ｑ＋ｒ）≦０．５、
０．０５≦（１−ｐ−ｑ−ｒ）］ A nitride layer or carbonitride layer having a C / N ratio (atomic ratio) of 0.5 / 0.5 to 0/1 by an ion plating method or a sputtering method using a target represented by the following formula (3c) Hard film obtained by forming.
_{Cr (1-pqr) Al p} Zr q Hf r ... (3c)
[Subscript in the formula, represents an atomic ratio; however q and r, one may be 0; these subscripts satisfy the relationships below;
0 . 2 ≦ p <0.5,
0.2 ≦ (q + r) ≦ 0.5,
0.05 ≦ (1-pqr )] 下記式（３ｄ）で示されるターゲットを用い、イオンプレーティング法又はスパッタリング法によって、Ｃ／Ｎ比（原子比）が０．５／０．５〜０／１の窒化物層又は炭窒化物層を形成することによって得られる硬質皮膜。
Ｃｒ_{(1-p-q-r-s-t)}Ａｌ_pＺｒ_qＨｆ_rＳｉ_sＢ_t …（３ｄ）
［式中の添字は、原子比を示す；ただしｑ及びｒは、片方が０であってもよい；またｓ及びｔも、片方が０であってもよい；これら添字は、以下の関係を満足する；
０．２≦ｐ＜０．５、
０．２≦（ｑ＋ｒ）≦０．５、
０＜（ｓ＋ｔ）≦０．２
０．０５≦（１−ｐ−ｑ−ｒ−ｓ−ｔ）］ A nitride layer or carbonitride layer having a C / N ratio (atomic ratio) of 0.5 / 0.5 to 0/1 by an ion plating method or a sputtering method using a target represented by the following formula (3d) Hard film obtained by forming.
_{Cr (1-pqrst) Al p} Zr q Hf r Si s B t ... (3d)
[Subscript in the formula, represents an atomic ratio; however q and r are one of 0, which may be, also s and t, one is 0, which may be, these indices, the following relationship Satisfy
0 . 2 ≦ p <0.5,
0.2 ≦ (q + r) ≦ 0.5,
0 <(s + t) ≦ 0.2
0.05 ≦ (1-p−q−r−s−t )] 立方晶型結晶構造を示すものである請求項１〜４のいずれかに記載の硬質皮膜。 The hard coating film according to any one of claims 1 to 4 , which exhibits a cubic crystal structure. 厚さが１０００ｎｍ以上である請求項１〜５のいずれかに記載の硬質皮膜。 The hard film according to any one of claims 1 to 5 , which has a thickness of 1000 nm or more.