JP2012230056A

JP2012230056A - Liquid crystal array inspection apparatus and line coordinate position calculation method

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Publication number: JP2012230056A
Application number: JP2011099617A
Authority: JP
Inventors: Masamichi Nagai; 正道永井
Original assignee: Shimadzu Corp
Current assignee: Shimadzu Corp
Priority date: 2011-04-27
Filing date: 2011-04-27
Publication date: 2012-11-22
Anticipated expiration: 2031-04-27
Also published as: JP5408507B2

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately calculate a coordinate position of each line and a pixel position of a liquid crystal panel even when an uneven width occurs between frames in shrinkage, expansion, or the like of a picked-up image (a signal image) obtained from frame sampling of a display pattern.SOLUTION: In a picked-up image (a signal image) obtained by imaging a display pattern, after detecting a coordinate position of an actual detection line, when obtaining an actual detection line for detecting a coordinate position next, whether the line is good or defective is detected and whether a defective line is shrunk or expanded is determined by comparing with a signal strength pattern of the previous actual detection line to obtain the next actual detection line. By detecting whether the line is good or defective and determining whether the defective line is shrunk or expanded, a coordinate position of each line can be accurately calculated even when the line width varies.

Description

本発明は、液晶パネル基板製造工程において、製造された液晶アレイが正しく駆動するか否かを検査する液晶検査装置、および液晶パネルのピクセル位置を位置決めするために用いるラインの座標位置の算出に関する。 The present invention relates to a liquid crystal inspection apparatus for inspecting whether or not a manufactured liquid crystal array is correctly driven in a liquid crystal panel substrate manufacturing process, and calculation of a coordinate position of a line used for positioning a pixel position of a liquid crystal panel.

液晶パネル基板の製造工程では、製造された液晶パネル基板の液晶アレイが正しく駆動するかの検査が行われる（特許文献１，２）。 In the manufacturing process of the liquid crystal panel substrate, it is inspected whether the liquid crystal array of the manufactured liquid crystal panel substrate is driven correctly (Patent Documents 1 and 2).

液晶パネル基板には、複数のピクセルに対応して液晶アレイが形成されており、この液晶アレイに駆動信号を印加することによって特定のピクセルを駆動することができる。 A liquid crystal array is formed on the liquid crystal panel substrate corresponding to a plurality of pixels, and a specific pixel can be driven by applying a drive signal to the liquid crystal array.

液晶アレイ検査において、液晶アレイに所定パターンの検査信号を印加し、液晶パネル基板内のピクセルを所定パターンで駆動する。 In the liquid crystal array inspection, a predetermined pattern inspection signal is applied to the liquid crystal array, and the pixels in the liquid crystal panel substrate are driven with the predetermined pattern.

液晶パネル基板の液晶アレイの検査は、例えば、検査対象である液晶アレイに検査信号を印加し、検査信号によって各液晶アレイを駆動する。液晶パネル基板製造工程において、液晶パネル基板によってディスプレイが形成された段階では、液晶パネルに検査信号を印加し、このとき液晶パネルに現れる表示パターンを光学的に観察し、表示パターンが印加された信号パターンに対応するか否かによって液晶アレイを検査することが知られている。 In the inspection of the liquid crystal array on the liquid crystal panel substrate, for example, an inspection signal is applied to the liquid crystal array to be inspected, and each liquid crystal array is driven by the inspection signal. In the liquid crystal panel substrate manufacturing process, at the stage where the display is formed by the liquid crystal panel substrate, an inspection signal is applied to the liquid crystal panel, the display pattern appearing on the liquid crystal panel is optically observed, and the signal applied with the display pattern It is known to inspect a liquid crystal array depending on whether or not it corresponds to a pattern.

また、液晶パネル基板製造工程において、液晶パネル基板によってディスプレイが未形成の段階では、液晶アレイに検査信号を印加して所定の電位状態とし、液晶アレイ上に電子ビームやイオンビーム等の荷電ビームを二次元的に照射して走査し、この荷電ビーム走査で得られる走査画像に基づいて電位状態を検出して、液晶アレイを検査することが知られている。 In the liquid crystal panel substrate manufacturing process, when the display is not formed by the liquid crystal panel substrate, an inspection signal is applied to the liquid crystal array to obtain a predetermined potential state, and a charged beam such as an electron beam or an ion beam is applied to the liquid crystal array. It is known to inspect a liquid crystal array by two-dimensionally irradiating and scanning, detecting a potential state based on a scanning image obtained by this charged beam scanning.

表示パターンの光学画像や荷電ビーム走査の走査画像によって、ピクセルを検査するには、液晶パネル内に設けられた複数のピクセルを特定する必要がある。 In order to inspect a pixel by an optical image of a display pattern or a scanning image of charged beam scanning, it is necessary to specify a plurality of pixels provided in the liquid crystal panel.

液晶アレイに印加する検査信号として、例えば、横方向および縦方向で隣接するピクセルに対して互いに信号強度を異にする格子状の検査信号(チェッカー信号)を用いることが知られている。格子状の検査信号(チェッカー信号)を印加することによって、液晶パネルには市松模様の表示パターンが表示され、また、液晶パネル基板には市松模様の電圧パターンが形成される。 As an inspection signal applied to the liquid crystal array, for example, it is known to use a lattice-like inspection signal (checker signal) having different signal intensities with respect to adjacent pixels in the horizontal direction and the vertical direction. By applying a lattice-like inspection signal (checker signal), a checkered display pattern is displayed on the liquid crystal panel, and a checkered voltage pattern is formed on the liquid crystal panel substrate.

表示パターンの光学画像による液晶アレイ検査において、ピクセル位置を特定するために、光学画像の市松模様の表示パターン（チェッカーパターン）を光学的に撮像し、撮像で得られた撮像画像（シグナルイメージ）を用いて行うことが知られている。 In the liquid crystal array inspection using the optical image of the display pattern, in order to specify the pixel position, the checker pattern display pattern (checker pattern) of the optical image is optically captured, and the captured image (signal image) obtained by the imaging is captured. It is known to use.

このチェッカーパターンを用いたピクセル位置の特定では、撮像画像（シグナルイメージ）上に現れる横方向のラインについて、はじめに先頭のラインを識別し、先頭ラインの座標位置を求め、この座標位置に基づいてピクセル位置を特定する。次に、先頭ラインの座標位置に基準ピッチ分をオフセットした座標位置を算出し、この算出した座標位置を次のラインの座標位置とし、このラインの座標位置に基づいてピクセル位置を特定する。 In specifying the pixel position using this checker pattern, for the horizontal line appearing on the captured image (signal image), the head line is first identified, the coordinate position of the head line is obtained, and the pixel is determined based on this coordinate position. Identify the location. Next, a coordinate position obtained by offsetting the reference pitch by the coordinate position of the first line is calculated, the calculated coordinate position is set as the coordinate position of the next line, and the pixel position is specified based on the coordinate position of this line.

以下、ラインの座標位置に基準ピッチ分をオフセットすることによって次のラインの座標位置を算出し、ラインの座標位置に基づいてピクセル位置を特定する処理を繰り返すことによって、液晶パネルのピクセル位置を求める。 Hereinafter, the pixel position of the liquid crystal panel is obtained by calculating the coordinate position of the next line by offsetting the reference pitch to the coordinate position of the line, and repeating the process of specifying the pixel position based on the coordinate position of the line. .

特開２００４−２７１５１６号公報JP 2004-271516 A 特開２００４−３０９４８８号公報JP 2004-309488 A

表示パターンの撮像は、複数のラインを含むフレームを単位として得られる。フレームは、所定時間間隔のトリガ信号に基づいて撮像することで取得される。 The display pattern is captured in units of frames including a plurality of lines. The frame is acquired by imaging based on a trigger signal at a predetermined time interval.

トリガ信号の時間間隔は均等となるように形成されるが、信号処理時のノイズ等によってトリガ信号間の時間間隔にずれが生じる場合がある。このようにトリガ信号間の時間間隔にずれが生じると、隣接するフレーム間の幅に不均等な部分が生じ、ライン幅のばらつきの要因となる。ライン幅にばらつきが生じると、次のラインの座標位置の算出に支障が生じ、液晶パネルのピクセル位置の算出が困難となるという問題が生じる。 Although the time intervals of the trigger signals are formed to be equal, the time intervals between the trigger signals may be shifted due to noise or the like during signal processing. When the time interval between the trigger signals is shifted as described above, an uneven portion is generated in the width between adjacent frames, which causes variation in line width. If the line width varies, the calculation of the coordinate position of the next line will be hindered, and it will be difficult to calculate the pixel position of the liquid crystal panel.

図１５は、表示パターンのフレームサンプリングと撮像画像（シグナルイメージ）との関係を説明するための図である。 FIG. 15 is a diagram for explaining the relationship between display pattern frame sampling and a captured image (signal image).

フレームサンプリング（図１５（ａ））は、表示パターンを複数のフレームによって順次に撮像することを意味している。表示パターンは、横方向に交互に異なる表示模様が連続してなるラインが縦方向に複数本配置され、市松模様が形成されている。表示模様の各単位は、格子状の検査信号(チェッカー信号)が印加されるアレイの単位に対応し、一アレイを単位として検査信号(チェッカー信号)を印加した場合には、各表示模様の単位は一ピクセルに対応することになる。 Frame sampling (FIG. 15A) means that the display pattern is sequentially imaged by a plurality of frames. In the display pattern, a plurality of lines in which different display patterns are alternately arranged in the horizontal direction are arranged in the vertical direction to form a checkered pattern. Each unit of the display pattern corresponds to the unit of the array to which the lattice-like inspection signal (checker signal) is applied. When the inspection signal (checker signal) is applied in units of one array, the unit of each display pattern Corresponds to one pixel.

図１５に示すフレームサンプリングのピクセル数およびライン数は、表示パターンを撮像する撮像装置の仕様に応じて定まるが、ここでは、説明の便宜から一フレームは横方向に４ピクセル分縦方向に４ライン分を有する例を示している。この例は一例であってこの例に限られるものではない。各フレームはトリガ信号に基づいて撮像が行われ、撮像画像（シグナルイメージ）（図１５（ｂ））が取得される。 The number of pixels and the number of lines of frame sampling shown in FIG. 15 are determined according to the specifications of the imaging device that images the display pattern. Here, for convenience of explanation, one frame is 4 pixels in the horizontal direction and 4 lines in the vertical direction. An example with minutes is shown. This example is an example and is not limited to this example. Each frame is imaged based on the trigger signal, and a captured image (signal image) (FIG. 15B) is acquired.

図１６は、フレームサンプリングを取得するためのトリガ信号を説明するための図である。トリガ信号（図１６（ｂ））は、例えば、クロック信号（図１６（ａ））を計数し、所定数のクロック信号を計数したときに形成される。トリガ信号の信号間隔は所定数のクロック信号によって定まるが、トリガ信号を形成する信号処理においてノイズ等の影響を受けると、トリガ信号の信号間隔にばらつきが生じる場合がある。図１６（ｂ）では、トリガ信号Ａとトリガ信号Ｂとの信号間隔がＴ、トリガ信号Ｂとトリガ信号Ｃとの信号間隔がＴ＋Δｔ１、トリガ信号Ｃとトリガ信号Ｄとの信号間隔がＴ、トリガ信号Ｄとトリガ信号Ｅとの信号間隔がＴ＋Δｔ2、トリガ信号Ｅとトリガ信号Ｆの信号間隔がＴの例を示している。 FIG. 16 is a diagram for explaining a trigger signal for acquiring frame sampling. The trigger signal (FIG. 16B) is formed, for example, when a clock signal (FIG. 16A) is counted and a predetermined number of clock signals are counted. The signal interval of the trigger signal is determined by a predetermined number of clock signals, but if the signal processing for forming the trigger signal is affected by noise or the like, the signal interval of the trigger signal may vary. In FIG. 16B, the signal interval between the trigger signal A and the trigger signal B is T, the signal interval between the trigger signal B and the trigger signal C is T + Δt1, the signal interval between the trigger signal C and the trigger signal D is T, the trigger In this example, the signal interval between the signal D and the trigger signal E is T + Δt2, and the signal interval between the trigger signal E and the trigger signal F is T.

信号間隔がずれたトリガ信号によってサンプリングを行うと、得られる撮像画像（シグナルイメージ）に、ライン幅が縮まる収縮あるいはライン幅が広まる膨張の現象が生じる。ライン幅の収縮は、トリガ信号間の信号間隔が広まることで生じ、図１５ではトリガ信号Ｂとトリガ信号Ｃとの信号間隔がＴ＋Δｔ１となるフレームの場合が対応する。一方、ライン幅の膨張は、トリガ信号間の信号間隔が狭まることで生じ、図１５ではトリガ信号Ｄとトリガ信号Ｆとの信号間隔がＴ＋Δｔ2となるフレームの場合が対応する。なお、Δt2は負である。 When sampling is performed using trigger signals whose signal intervals are shifted, a phenomenon of contraction in which the line width is reduced or expansion in which the line width is widened occurs in the obtained captured image (signal image). The contraction of the line width occurs when the signal interval between the trigger signals is widened. In FIG. 15, the case where the signal interval between the trigger signal B and the trigger signal C is T + Δt1 corresponds. On the other hand, the expansion of the line width occurs when the signal interval between the trigger signals is narrowed. In FIG. 15, the case where the signal interval between the trigger signal D and the trigger signal F is T + Δt 2 corresponds. Note that Δt2 is negative.

ライン幅が収縮する場合には、フレームサンプリングにおいて、ラインの一部について撮像が行われず画像信号が欠落する。また、ライン幅が膨張する場合には、フレームサンプリングにおいて、ラインの一部が重複して撮像され同じ画像信号が連続して形成される。 When the line width contracts, in the frame sampling, a part of the line is not imaged and the image signal is lost. Further, when the line width expands, in the frame sampling, a part of the line is overlapped and the same image signal is continuously formed.

図１７は、撮像画像（シグナルイメージ）のチェッカーパターンからラインを検出し、検出したラインの座標位置に基づいてピクセル位置を特定する状態を示している。 FIG. 17 shows a state in which a line is detected from a checker pattern of a captured image (signal image) and a pixel position is specified based on the coordinate position of the detected line.

図１７（ａ）の撮像画像（シグナルイメージ）は、４ライン分のチェッカーパターンを示している。ここでは、ラインに収縮や膨張がない場合を示している。 The captured image (signal image) in FIG. 17A shows a checker pattern for four lines. Here, a case where there is no contraction or expansion in the line is shown.

はじめに、先頭ラインＬ1を識別し、先頭ラインＬ1を実検出ラインとして座標位置を検出し、この座標位置に基づいてピクセル位置（図中Ｌ1上の×印）を特定する。次に、先頭ラインＬ1の座標位置に基準ピッチ分Ｐをオフセットした座標位置を算出し、設定ライン（図中のラインＬ2）として設定する。この設定ラインを次の実検出ラインとして座標位置を検出し、この座標位置に基づいてピクセル位置（図中Ｌ2上の×印）を特定する。 First, the head line L1 is identified, a coordinate position is detected using the head line L1 as an actual detection line, and a pixel position (a cross mark on L1 in the figure) is specified based on this coordinate position. Next, a coordinate position obtained by offsetting the reference pitch P by the coordinate position of the leading line L1 is calculated and set as a setting line (line L2 in the figure). The coordinate position is detected using this set line as the next actual detection line, and the pixel position (x mark on L2 in the figure) is specified based on this coordinate position.

さらに、前ラインと同様に、ラインＬ3の座標位置に基準ピッチ分Ｐをオフセットした座標位置を算出し、次の設定ライン（図中のラインＬ3）として設定する。この設定ラインを次の実検出ラインとして座標位置を検出し、この座標位置に基づいてピクセル位置（図中Ｌ3上の×印）を特定する。 Further, similarly to the previous line, the coordinate position obtained by offsetting the reference pitch P by the coordinate position of the line L3 is calculated and set as the next set line (line L3 in the figure). The coordinate position is detected using this set line as the next actual detection line, and the pixel position (x mark on L3 in the figure) is specified based on this coordinate position.

図１７（ｂ），（ｃ），（ｄ）はラインＬ1，Ｌ2，Ｌ3の撮像画像（シグナルイメージ）の信号強度を示している。格子状の検査信号を印加することで得られる撮像画像（シグナルイメージ）の各ラインの信号強度パターンは、隣接ラインで互いに相補的に変化する。基準ピッチ分Ｐだけ離れたラインの信号強度パターンが互いに相補的に変化することから、ラインに収縮や膨張がないことを認識することができる。 FIGS. 17B, 17C, and 17D show signal intensities of captured images (signal images) of lines L1, L2, and L3. The signal intensity pattern of each line of the captured image (signal image) obtained by applying the lattice-shaped inspection signal changes complementarily in the adjacent line. Since the signal intensity patterns of the lines separated by the reference pitch P change complementarily, it can be recognized that the lines are not contracted or expanded.

図１８はラインが収縮する場合を示している。撮像画像（シグナルイメージ）のチェッカーパターンにおいてラインが収縮している場合には、ラインＬ11を実検出ラインとして次に設定される設定ラインＬ12の信号強度パターンは、実検出ラインＬ11の信号強度パターンと同一となる。図１８（ｂ），（ｃ）はラインＬ11，Ｌ12の撮像画像（シグナルイメージ）の信号強度を示し、同じ信号強度パターンを示している。 FIG. 18 shows a case where the line contracts. When the line is contracted in the checker pattern of the captured image (signal image), the signal intensity pattern of the setting line L12 that is set next with the line L11 as the actual detection line is the signal intensity pattern of the actual detection line L11. It will be the same. FIGS. 18B and 18C show the signal intensity of the captured images (signal images) of the lines L11 and L12, and show the same signal intensity pattern.

図１９はラインが膨張する場合を示している。撮像画像（シグナルイメージ）のチェッカーパターンにおいてラインが膨張している場合には、ラインＬ21を実検出ラインとして次に設定される設定ラインＬ22の信号強度パターンは、実検出ラインＬ21の信号強度パターンと互いに相補的となるが、ラインＬ22を実検出ラインとして次に設定される設定ラインＬ23の信号強度パターンは、ラインＬ22の信号強度パターンと同一となる。 FIG. 19 shows the case where the line expands. When the line is expanded in the checker pattern of the captured image (signal image), the signal intensity pattern of the setting line L22 that is set next with the line L21 as the actual detection line is the signal intensity pattern of the actual detection line L21. Although complementary to each other, the signal intensity pattern of the setting line L23 set next with the line L22 as an actual detection line is the same as the signal intensity pattern of the line L22.

図１９（ｂ），（ｃ），（ｄ）はラインＬ21，Ｌ22, Ｌ23の撮像画像（シグナルイメージ）の信号強度を示し、ラインＬ22とラインＬ23の信号強度パターンは同一となる。 FIGS. 19B, 19C, and 19D show the signal intensities of the captured images (signal images) of the lines L21, L22, and L23, and the signal intensity patterns of the lines L22 and L23 are the same.

格子状の検査信号を印加することで得られる撮像画像（シグナルイメージ）の各ラインの信号強度パターンは、隣接ラインで互いに相補的に変化することが期待されるが、ラインが収縮あるいは膨張した場合には同一となる。そのため、基準ピッチ分Ｐをオフセットすることによって次のラインの座標位置を設定し、このラインの位置座標に基づいてピクセル位置を求めると、収縮の場合には一ライン分飛ばしたラインのピクセル位置を算出することになり、膨張の場合には同一ラインのピクセル位置を算出することになり、正確なライン位置座標およびピクセル位置を検出することができない。 The signal intensity pattern of each line of a captured image (signal image) obtained by applying a grid-like inspection signal is expected to change complementary to each other in the adjacent line, but when the line contracts or expands Is the same. Therefore, when the coordinate position of the next line is set by offsetting the reference pitch P, and the pixel position is obtained based on the position coordinates of this line, the pixel position of the line skipped by one line in the case of contraction is obtained. In the case of expansion, the pixel position of the same line is calculated, and the exact line position coordinates and pixel position cannot be detected.

そこで、本発明は上記課題を解決して、表示パターンのフレームサンプリングから得られた撮像画像（シグナルイメージ）に収縮や膨張といった、隣接するフレーム間の幅に不均等な部分が生じ、ライン幅にばらつきが生じた場合であっても、各ラインの座標位置を正確に算出し、液晶パネルのピクセル位置を正確に算出することを目的とする。 Therefore, the present invention solves the above-described problems, and causes a non-uniform portion in the width between adjacent frames, such as contraction and expansion, in the captured image (signal image) obtained from frame sampling of the display pattern. It is an object to accurately calculate the coordinate position of each line and accurately calculate the pixel position of a liquid crystal panel even when variations occur.

本発明は、表示パターンを撮像して得られる撮像画像（シグナルイメージ）において、実検出ラインの座標位置を検出した後、次に座標位置を検出する実検出ラインを求める際に、前の実検出ラインの信号強度パターンと比較することによってラインの良・不良の検出、判定、および、不良ラインの収縮又は膨張の判定を行い、次の実検出ラインを求める。 The present invention detects the previous actual detection when obtaining the actual detection line for detecting the coordinate position after detecting the coordinate position of the actual detection line in the captured image (signal image) obtained by imaging the display pattern. By comparing with the signal intensity pattern of the line, the quality of the line is detected and determined, and the contraction or expansion of the defective line is determined, and the next actual detection line is obtained.

ラインの良・不良の検出、判定、不良ラインの収縮・膨張の判定を行うことによって、ライン幅にばらつきが生じた場合であっても、各ラインの座標位置を正確に算出することができる。さらに、算出したラインの座標位置から、液晶パネルのピクセル位置を正確に算出することができる。 By detecting whether or not a line is good or bad, and determining whether a defective line is contracted or expanded, the coordinate position of each line can be accurately calculated even when the line width varies. Further, the pixel position of the liquid crystal panel can be accurately calculated from the calculated coordinate position of the line.

本願発明は、液晶アレイ検査装置の態様、およびライン座標位置算出方法の態様を備え、何れの態様も、実検出ラインの座標位置を検出した後、次に座標位置を検出する実検出ラインを求める際に、前の検出ラインの信号強度パターンと比較することによってラインの良・不良の検出、判定、および、不良ラインの収縮又は膨張の判定を行うことで、次の実検出ラインを求めるという共通する技術事項を備える。 The present invention includes an aspect of a liquid crystal array inspection apparatus and an aspect of a line coordinate position calculation method. In any aspect, after detecting the coordinate position of an actual detection line, an actual detection line for detecting the coordinate position next is obtained. In this case, it is common to obtain the next actual detection line by detecting and judging the good / bad of the line by comparing with the signal intensity pattern of the previous detection line, and determining the contraction or expansion of the defective line. Technical matters to be provided.

［液晶アレイ検査装置の態様］
本願発明の液晶アレイ検査装置の態様は、液晶アレイが形成された液晶アレイ基板上に荷電ビームを照射して走査し、当該荷電ビーム走査で得られる走査画像に基づいて液晶アレイを検査する液晶アレイ検査装置、および、液晶アレイに検査信号を印加して得られる液晶パネルの表示パターンの撮像画像に基づいて液晶アレイを検査する液晶アレイ検査装置の何れの液晶アレイ検査装置に適用することができる。 [Mode of liquid crystal array inspection apparatus]
An aspect of the liquid crystal array inspection apparatus of the present invention is a liquid crystal array that scans a liquid crystal array substrate on which a liquid crystal array is formed by irradiating a charged beam and inspects the liquid crystal array based on a scanned image obtained by the charged beam scanning. The present invention can be applied to any of the inspection apparatus and the liquid crystal array inspection apparatus that inspects the liquid crystal array based on the captured image of the display pattern of the liquid crystal panel obtained by applying the inspection signal to the liquid crystal array.

液晶アレイ検査装置の態様は、液晶アレイに検査信号を印加して得られる液晶パネルの表示パターンの撮像画像に基づいて、撮像画像を構成する各ラインのライン座標位置を算出するライン座標位置算出部を備える。 An aspect of the liquid crystal array inspection apparatus includes a line coordinate position calculation unit that calculates a line coordinate position of each line constituting a captured image based on a captured image of a display pattern of a liquid crystal panel obtained by applying an inspection signal to the liquid crystal array. Is provided.

本発明のライン座標位置算出部は、液晶パネルの表示パターンを撮像して撮像画像を取得する撮像画像取得部と、撮像画像からライン座標位置を演算処理により算出するライン座標位置演算処理部とを備える。 The line coordinate position calculation unit of the present invention includes a captured image acquisition unit that captures a display pattern of a liquid crystal panel and acquires a captured image, and a line coordinate position calculation processing unit that calculates a line coordinate position from the captured image by a calculation process. Prepare.

本発明のライン座標位置演算処理部は、ラインの信号強度パターンを比較する信号パターン比較部と、前記比較部の比較に基づいてラインの良・不良の検出、判定、およびライン幅の変化状態を判定する検出・判定部、次の実検出ラインを選出する選出部、および座標算出部を備え、撮像画像を構成する複数のラインの中から撮像方向に沿って順に一ラインずつ選出し、一連の演算処理によって、選出したラインを実検出ラインとしてライン座標位置を算出する。 The line coordinate position calculation processing unit according to the present invention compares the signal intensity pattern of the line with the signal pattern comparison unit, and detects and determines line good / bad based on the comparison of the comparison unit, and the change state of the line width. A detection / determination unit for determination, a selection unit for selecting the next actual detection line, and a coordinate calculation unit are provided, and one line is sequentially selected from a plurality of lines constituting the captured image along the imaging direction. By the calculation process, the line coordinate position is calculated using the selected line as the actual detection line.

一連の演算処理において、本発明の検出・判定部は、実検出ラインのライン座標位置から基準ピッチ分だけオフセットした座標位置を算出して設定ラインを設定し、前の実検出ラインの信号強度パターンと設定ラインの信号強度パターンとを比較し、この比較に基づいてライン幅の変化によるラインの良・不良を検出し判定する。 In a series of arithmetic processing, the detection / determination unit of the present invention calculates a coordinate position offset by a reference pitch from the line coordinate position of the actual detection line, sets a setting line, and sets the signal intensity pattern of the previous actual detection line. Are compared with the signal intensity pattern of the set line, and based on this comparison, the quality of the line due to the change in the line width is detected and judged.

ラインの良・不良検出、判定によってラインの不良を検出したときに、設定ラインのライン座標位置に所定長さだけオフセットした座標位置を算出して探索ラインを設け、前の実検出ラインの信号強度パターンと探索ラインの信号強度パターンとを比較し、この比較に基づいてライン幅の変化状態を判定する。 When a line defect is detected by line good / bad detection and determination, a search line is created by calculating a coordinate position offset by a predetermined length from the line coordinate position of the set line, and the signal strength of the previous actual detection line The pattern and the signal intensity pattern of the search line are compared, and the line width change state is determined based on this comparison.

本発明の選出部は、ラインの良・不良検出判定でラインが不良であることを検出したときには探索ラインを次の実検出ラインとして選出し、ラインの良・不良検出判定でラインが良であることを検出したときには設定ラインを次の実検出ラインとして選出する。 The selection unit of the present invention selects the search line as the next actual detection line when it is detected that the line is defective in the line good / bad detection determination, and the line is good in the line good / bad detection determination. When this is detected, the set line is selected as the next actual detection line.

本発明の座標算出部は、選出部が選出したラインを実検出ラインとしてライン座標位置を算出する。 The coordinate calculation unit of the present invention calculates the line coordinate position using the line selected by the selection unit as the actual detection line.

設定ラインを設定する際に、実検出ラインのライン位置座標からのオフセットに用いる基準ピッチは、正常なラインが備えるライン幅とする。実検出ラインの位置座標から基準ピッチ分をオフセットさせた設定ラインを設定することによって、ライン幅が一定であれば常に表示パターン上の各ラインのライン位置座標を取得することができ、ライン幅が変化した場合には、検出・判定部による信号強度パターンの比較によってラインの不良を検出することができる。 When setting the setting line, the reference pitch used for the offset from the line position coordinates of the actual detection line is the line width of a normal line. By setting a setting line that is offset by the reference pitch from the position coordinates of the actual detection line, the line position coordinates of each line on the display pattern can always be obtained if the line width is constant. In the case of a change, a line defect can be detected by comparing signal intensity patterns by the detection / determination unit.

本発明が定める探索ラインの態様、および、探索ラインを用いたライン幅の変化状態（収縮又は膨張）を判定する態様は、２つの態様とすることができる。 The aspect of the search line defined by the present invention and the aspect of determining the change state (contraction or expansion) of the line width using the search line can be made into two aspects.

ここで、撮像方向は、複数のラインを含むフレームを単位として表示パターンを撮像する際において、各フレームを順次に撮像する際の撮像方向であり、ライン幅の変化はこの撮像方向に生じる。 Here, the imaging direction is an imaging direction when sequentially imaging each frame when imaging a display pattern in units of frames including a plurality of lines, and a change in line width occurs in this imaging direction.

（探索ラインの第１の態様）
第１の態様による探索ラインは、設定ラインに対して撮像方向に所定長さだけオフセットした一本のラインである。第１の態様の探索ラインは、設定ラインのライン位置から次の実検出ラインを定める方向に定める。設定ラインから所定長さだけオフセットした位置にあるラインを探索ラインとして定め、この探索ラインの信号強度パターンが次の実検出ラインの信号強度パターンとして適当であるか否か、およびライン幅の収縮・膨張を判定する。 (First mode of search line)
The search line according to the first aspect is a single line that is offset from the set line by a predetermined length in the imaging direction. The search line of the first aspect is determined in a direction in which the next actual detection line is determined from the line position of the setting line. A line at a position offset by a predetermined length from the set line is defined as a search line, whether the signal intensity pattern of this search line is appropriate as the signal intensity pattern of the next actual detection line, and the contraction of the line width Determine swelling.

検査信号として、ライン毎に相補的な表示パターンを形成する信号を用いる場合には、本発明の検出・判定部は、実検出ラインの信号強度パターンと探索ラインの信号強度パターンとが同じパターンであるときはライン幅が収縮したと判定し、実検出ラインの信号強度パターンと前記探索ラインの信号強度パターンとが相補パターンであるときはライン幅が膨張した判定する。 When a signal that forms a complementary display pattern for each line is used as the inspection signal, the detection / determination unit of the present invention uses the same pattern as the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line. In some cases, it is determined that the line width has shrunk, and when the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line are complementary patterns, it is determined that the line width has expanded.

（探索ラインの第２の態様）
第２の態様による探索ラインは、設定ラインに対して撮像方向および撮像方向と逆方向に所定長さだけオフセットした二本のラインである。 (Second mode of search line)
The search lines according to the second aspect are two lines that are offset from the set line by a predetermined length in the imaging direction and in the direction opposite to the imaging direction.

第２の態様の探索ラインは、設定ラインのライン位置から次の実検出ラインを定める方向に定める一ラインと、設定ラインのライン位置から前の実検出ラインの方向に定めるラインの一ラインの二本のラインを定める。 The search line of the second aspect includes two lines, one line determined in the direction defining the next actual detection line from the line position of the setting line and one line defined in the direction of the previous actual detection line from the line position of the setting line. Define the book line.

設定ラインを挟んで反対側にそれぞれ所定長さだけオフセットした位置に二本のラインを探索ラインとして定め、この探索ラインの信号強度パターンが次の実検出ラインの信号強度パターンとして適当であるか否か、およびライン幅の収縮・膨張を判定する。 Two lines are defined as search lines at positions offset by a predetermined length on opposite sides of the set line, and whether the signal intensity pattern of this search line is appropriate as the signal intensity pattern of the next actual detection line or not And shrinkage / expansion of the line width.

検査信号として、ライン毎に相補的な表示パターンを形成する信号を用いる場合には、本発明の検出・判定部は、前の実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向と逆方向の探索ラインの信号強度パターンとが相補パターンであり、前の実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向の探索ラインの信号強度パターンとが同じパターンであるときはライン幅が収縮したと判定する。また、前の実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向と逆方向の前記探索ラインの信号強度パターンとが同じパターンであり、前の実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向の前記探索ラインの信号強度パターンとが相補パターンであるときはライン幅が膨張したと判定する。 When a signal that forms a complementary display pattern for each line is used as the inspection signal, the detection / determination unit of the present invention uses the signal intensity pattern of the previous actual detection line and the search line in the direction opposite to the imaging direction. If the signal intensity pattern is a complementary pattern and the signal intensity pattern of the previous actual detection line and the signal intensity pattern of the search line in the imaging direction are the same pattern, it is determined that the line width has shrunk. The signal intensity pattern of the previous actual detection line and the signal intensity pattern of the search line in the direction opposite to the imaging direction are the same pattern, and the signal intensity pattern of the previous actual detection line and the search line in the imaging direction If the signal intensity pattern is a complementary pattern, it is determined that the line width has expanded.

［ライン座標位置算出方法の態様］
本願発明のライン座標位置算出方法の態様は、液晶アレイに検査信号を印加して得られる液晶パネルの表示パターンの撮像画像に基づいて、撮像画像を構成する各ラインのライン座標位置を算出するライン座標位置算出方法において、撮像画像を構成する複数のラインの中から撮像方向に沿って順に一ラインずつ選出し、選出したラインを実検出ラインとしてライン座標位置を算出する一連の工程を有する。 [Line Coordinate Position Calculation Method]
The aspect of the line coordinate position calculation method of the present invention is a line for calculating the line coordinate position of each line constituting the captured image based on the captured image of the display pattern of the liquid crystal panel obtained by applying the inspection signal to the liquid crystal array. The coordinate position calculation method includes a series of steps of selecting one line at a time along the imaging direction from a plurality of lines constituting the captured image and calculating the line coordinate position using the selected line as an actual detection line.

一連の工程は、実検出ラインのライン座標位置から基準ピッチ分だけオフセットした座標位置を算出して設定ラインを設定し、前の検出ラインの信号強度パターンと設定ラインの信号強度パターンとを比較し、この比較に基づいてライン幅の変化によるラインの良・不良を検出する検出工程と、検出工程で不良を検出したときに、設定ラインのライン座標位置に所定長さだけオフセットした座標位置を算出して探索ラインを設け、前の実検出ラインの信号強度パターンと探索ラインの信号強度パターンとを比較し、この比較に基づいてライン幅の変化状態を判定する判定工程と、検出工程でラインが不良であることを検出したときには判定工程で設けた探索ラインを次の実検出ラインとして選出し、検出工程でラインが良であることを検出したときには設定ラインを次の実検出ラインとして選出する選出工程と、選出したラインを実検出ラインとしてライン座標位置を算出する座標算出工程とを備える。 The series of steps calculates the coordinate position offset by the reference pitch from the line coordinate position of the actual detection line, sets the setting line, and compares the signal intensity pattern of the previous detection line with the signal intensity pattern of the setting line. Based on this comparison, a detection process that detects the quality of a line due to a change in line width, and when a defect is detected in the detection process, a coordinate position that is offset by a predetermined length from the line coordinate position of the set line is calculated The search line is provided, the signal intensity pattern of the previous actual detection line is compared with the signal intensity pattern of the search line, and the line is determined in the determination process for determining the change state of the line width based on this comparison, and the detection process. When a failure is detected, the search line provided in the determination process is selected as the next actual detection line, and the detection process detects that the line is good. Sometimes comprising a selection step of selecting the set line as the next real sense lines, and a coordinate calculation step of calculating a line coordinate position selected by the line as an actual detection line.

設定ラインを設定する際に、実検出ラインのライン位置座標からのオフセットに用いる基準ピッチは、正常なラインが備えるライン幅とする。実検出ラインの位置座標から基準ピッチ分をオフセットさせた設定ラインを設定することによって、ライン幅が一定であれば常に表示パターン上の各ラインのライン位置座標を取得することができ、ライン幅が変化した場合には、検出工程による信号強度パターンの比較によってラインの不良を検出することができる。 When setting the setting line, the reference pitch used for the offset from the line position coordinates of the actual detection line is the line width of a normal line. By setting a setting line that is offset by the reference pitch from the position coordinates of the actual detection line, the line position coordinates of each line on the display pattern can always be obtained if the line width is constant. In the case of a change, a line defect can be detected by comparing signal intensity patterns in the detection process.

本発明のライン座標位置算出方法において、探索ラインの態様は２つの態様とすることができる。ここで、撮像方向は、複数のラインを含むフレームを単位として表示パターンを撮像する際において、各フレームを順次に撮像する際の撮像方向であり、ライン幅の変化はこの撮像方向に生じる。 In the line coordinate position calculation method of the present invention, the search line can have two modes. Here, the imaging direction is an imaging direction when sequentially imaging each frame when imaging a display pattern in units of frames including a plurality of lines, and a change in line width occurs in this imaging direction.

検査信号として、ライン毎に相補的な表示パターンを形成する信号を用いる場合には、本発明の判定工程は、実検出ラインの信号強度パターンと探索ラインの信号強度パターンとが同じパターンであるときはライン幅が収縮したと判定し、実検出ラインの信号強度パターンと前記探索ラインの信号強度パターンとが相補パターンであるときはライン幅が膨張した判定する。 When a signal that forms a complementary display pattern for each line is used as the inspection signal, the determination process of the present invention is performed when the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line are the same pattern. It is determined that the line width has shrunk, and when the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line are complementary patterns, it is determined that the line width has expanded.

検査信号として、ライン毎に相補的な表示パターンを形成する信号を用いる場合には、本発明の判定工程は、前の実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向と逆方向の探索ラインの信号強度パターンとが相補パターンであり、前の実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向の探索ラインの信号強度パターンとが同じパターンであるときはライン幅が収縮したと判定する。また、前の実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向と逆方向の前記探索ラインの信号強度パターンとが同じパターンであり、前の実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向の前記探索ラインの信号強度パターンとが相補パターンであるときはライン幅が膨張したと判定する。 When a signal forming a complementary display pattern for each line is used as the inspection signal, the determination process of the present invention includes the signal intensity pattern of the previous actual detection line and the signal of the search line in the direction opposite to the imaging direction. When the intensity pattern is a complementary pattern and the signal intensity pattern of the previous actual detection line and the signal intensity pattern of the search line in the imaging direction are the same pattern, it is determined that the line width has shrunk. The signal intensity pattern of the previous actual detection line and the signal intensity pattern of the search line in the direction opposite to the imaging direction are the same pattern, and the signal intensity pattern of the previous actual detection line and the search line in the imaging direction If the signal intensity pattern is a complementary pattern, it is determined that the line width has expanded.

二本の探索ラインを設定する第２の態様において、設定ラインのライン位置から前の実検出ラインの方向に定める探索ラインを実検出ラインとし、この実検出ラインのライン位置座標を算出することによって、ライン幅が収縮した際の収縮ラインについてライン位置座標を算出することができる。 In the second mode of setting two search lines, a search line defined in the direction of the previous actual detection line from the line position of the set line is set as an actual detection line, and the line position coordinates of the actual detection line are calculated. The line position coordinates can be calculated for the contracted line when the line width contracts.

本発明によれば、表示パターンのフレームサンプリングから得られた撮像画像（シグナルイメージ）に収縮や膨張といった、隣接するフレーム間の幅に不均等な部分が生じ、ライン幅にばらつきが生じた場合であっても、各ラインの座標位置を正確に算出し、液晶パネルのピクセル位置を正確に算出することができる。 According to the present invention, when a captured image (signal image) obtained from frame sampling of a display pattern has a non-uniform portion in the width between adjacent frames, such as contraction or expansion, and the line width varies. Even in such a case, the coordinate position of each line can be accurately calculated, and the pixel position of the liquid crystal panel can be accurately calculated.

本発明の液晶アレイ検査装置の構成例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structural example of the liquid crystal array test | inspection apparatus of this invention. 本発明のライン座標位置演算処理部一構成例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structural example of the line coordinate position calculation process part of this invention. 本発明のライン座標位置を算出する第１の態様例を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the example of the 1st aspect which calculates the line coordinate position of this invention. 本発明のライン座標位置を算出する第１の態様例のライン収縮を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the line shrinkage | contraction of the 1st example of an aspect which calculates the line coordinate position of this invention. 本発明のライン座標位置を算出する第１の態様例のライン収縮を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the line shrinkage | contraction of the 1st example of an aspect which calculates the line coordinate position of this invention. 本発明のライン座標位置を算出する第１の態様例のライン膨張を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the line expansion of the example of the 1st aspect which calculates the line coordinate position of this invention. 本発明のライン座標位置を算出する第１の態様例のライン膨張を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the line expansion of the example of the 1st aspect which calculates the line coordinate position of this invention. 本発明のライン座標位置を算出する第２の態様例を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the 2nd example of a mode which calculates the line coordinate position of this invention. 本発明のライン座標位置を算出する第２の態様例のライン収縮を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the line shrinkage | contraction of the 2nd example of an aspect which calculates the line coordinate position of this invention. 本発明のライン座標位置を算出する第２の態様例のライン収縮を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the line shrinkage | contraction of the 2nd example of an aspect which calculates the line coordinate position of this invention. 本発明のライン座標位置を算出する第２の態様例のライン膨張を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the line expansion of the 2nd example of an aspect which calculates the line coordinate position of this invention. 本発明のライン座標位置を算出する第２の態様例のライン膨張を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the line expansion of the 2nd example of an aspect which calculates the line coordinate position of this invention. 本発明のライン座標位置を算出する第２の態様例のライン収縮を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the line shrinkage | contraction of the 2nd example of an aspect which calculates the line coordinate position of this invention. 本発明のライン座標位置を算出する第２の態様例のライン収縮を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the line shrinkage | contraction of the 2nd example of an aspect which calculates the line coordinate position of this invention. 表示パターンのフレームサンプリングと撮像画像（シグナルイメージ）との関係を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the relationship between the frame sampling of a display pattern, and a captured image (signal image). フレームサンプリングを取得するためのトリガ信号を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the trigger signal for acquiring frame sampling. 撮像画像（シグナルイメージ）からのライン検出を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the line detection from a captured image (signal image). 撮像画像（シグナルイメージ）からのライン検出を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the line detection from a captured image (signal image). 撮像画像（シグナルイメージ）からのライン検出を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the line detection from a captured image (signal image).

以下、本発明の実施の形態について図を参照しながら詳細に説明する。以下では、図１，２を用いて本発明の液晶アレイ検査装置の構成例を説明し、図３〜図１４を用いて本発明のライン座標位置算出について説明する。図３〜図７は設定ラインに対して撮像方向に探索ラインを定める例を示し、図８〜図１４は設定ラインに対して撮像方向および撮像方向と逆方向の両側に探索ラインを定める例を示している。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Below, the structural example of the liquid crystal array test | inspection apparatus of this invention is demonstrated using FIG. 1, 2, and the line coordinate position calculation of this invention is demonstrated using FIGS. 3 to 7 show examples in which search lines are defined in the imaging direction with respect to the set line, and FIGS. 8 to 14 show examples in which search lines are defined on both sides of the imaging direction and in the direction opposite to the imaging direction with respect to the set line. Show.

［液晶アレイ検査装置の構成例］
図１を用いて本発明の液晶アレイ検査装置の構成例を説明する。図１に示す構成例は、液晶アレイが形成された液晶アレイ基板上に荷電ビームを照射して走査し、荷電ビーム走査で得られる走査画像に基づいて液晶アレイを検査する液晶アレイ検査装置、および、液晶アレイに検査信号を印加して得られる液晶パネルの表示パターンの撮像画像に基づいて液晶アレイを検査する液晶アレイ検査装置の何れの液晶アレイ検査装置の両装置例を合わせて示している。 [Configuration example of liquid crystal array inspection device]
A configuration example of the liquid crystal array inspection apparatus of the present invention will be described with reference to FIG. The configuration example shown in FIG. 1 includes a liquid crystal array inspection apparatus that scans a liquid crystal array substrate on which a liquid crystal array is formed by irradiating a charged beam, and inspects the liquid crystal array based on a scanning image obtained by the charged beam scanning, and Both examples of the liquid crystal array inspection apparatus of the liquid crystal array inspection apparatus for inspecting the liquid crystal array based on the captured image of the display pattern of the liquid crystal panel obtained by applying the inspection signal to the liquid crystal array are shown together.

液晶アレイ検査装置１は、液晶基板１００はステージ５上に載置され、ステージ５はステージ制御部１３によって制御される。液晶基板１００を荷電ビームの走査によって得られる走査画像、あるいは液晶基板１００を撮像して得られる撮像画像によって液晶アレイを検査する。 In the liquid crystal array inspection apparatus 1, the liquid crystal substrate 100 is placed on the stage 5, and the stage 5 is controlled by the stage control unit 13. The liquid crystal array is inspected by a scanning image obtained by scanning the liquid crystal substrate 100 with a charged beam or a captured image obtained by imaging the liquid crystal substrate 100.

走査画像を取得する構成として、液晶基板１００に電子ビーム等の荷電粒子ビームを照射する荷電粒子ビーム源３、液晶基板１００から放出される二次電子を検出する二次電子検出器等の検出器４、検出器４の出力信号から走査画像を取得する走査画像取得部２２、走査制御を行う走査制御部１２を備える。走査制御部１２は、荷電粒子ビーム源３の荷電粒子の走査制御やステージ制御部１３のステージ制御を制御することで、液晶基板１００上の荷電粒子ビームの走査を制御する。 As a configuration for acquiring a scanning image, a charged particle beam source 3 that irradiates the liquid crystal substrate 100 with a charged particle beam such as an electron beam, and a detector such as a secondary electron detector that detects secondary electrons emitted from the liquid crystal substrate 100 4. A scanning image acquisition unit 22 that acquires a scanning image from an output signal of the detector 4 and a scanning control unit 12 that performs scanning control are provided. The scanning control unit 12 controls scanning of the charged particle beam on the liquid crystal substrate 100 by controlling scanning control of the charged particles of the charged particle beam source 3 and stage control of the stage control unit 13.

撮像画像を取得する構成として、液晶基板１００を撮像する撮像部２、撮像部２の撮像のタイミングを制御するトリガ信号を生成するトリガ信号生成部１４、撮像部２の撮像信号から撮像画像を取得する撮像画像取得部２１を備える。 As a configuration for acquiring a captured image, an imaging unit 2 that images the liquid crystal substrate 100, a trigger signal generation unit 14 that generates a trigger signal that controls the timing of imaging of the imaging unit 2, and a captured image from the imaging signal of the imaging unit 2 are acquired. The captured image acquisition unit 21 is provided.

液晶アレイ検査装置１は検査部２３を備え、検査部２３は走査画像取得部２２で取得した走査画像あるいは撮像画像取得部２１で取得した撮像画像を入力し、入力した走査画像あるいは撮像画像に基づいて液晶アレイ検査を行う。 The liquid crystal array inspection apparatus 1 includes an inspection unit 23. The inspection unit 23 inputs a scanned image acquired by the scanned image acquisition unit 22 or a captured image acquired by the captured image acquisition unit 21, and based on the input scanned image or captured image. Perform a liquid crystal array inspection.

液晶アレイ検査装置１は、液晶アレイ検査においてピクセル位置座標を特定するための構成として、撮像部２、撮像画像取得部２１、およびライン座標位置演算処理部２４を備える。 The liquid crystal array inspection apparatus 1 includes an imaging unit 2, a captured image acquisition unit 21, and a line coordinate position calculation processing unit 24 as a configuration for specifying pixel position coordinates in the liquid crystal array inspection.

ライン座標位置演算処理部２４は、液晶パネルを所定の検査信号を印加することで表示された表示パターンを撮像して得られた撮像画像（シグナルイメージ）に基づいて、液晶アレイが形成するラインの座標位置を算出する。 The line coordinate position calculation processing unit 24 detects the lines formed by the liquid crystal array based on a captured image (signal image) obtained by capturing a display pattern displayed by applying a predetermined inspection signal to the liquid crystal panel. Calculate the coordinate position.

液晶アレイ検査装置１は、液晶アレイに検査信号を印加する検査信号印加部６を備える。印加する検査信号は、例えば、横方向および縦方向で隣接するピクセルに対して互いに信号強度を異にする格子状の検査信号(チェッカー信号)を用いる。格子状の検査信号(チェッカー信号)を印加することによって、液晶パネルには市松模様の表示パターンが表示される。 The liquid crystal array inspection apparatus 1 includes an inspection signal application unit 6 that applies an inspection signal to the liquid crystal array. As the inspection signal to be applied, for example, lattice-shaped inspection signals (checker signals) having different signal intensities with respect to adjacent pixels in the horizontal direction and the vertical direction are used. By applying a grid-like inspection signal (checker signal), a checkered display pattern is displayed on the liquid crystal panel.

走査制御部１２，およびトリガ信号生成部１４は制御部１１によって制御される。なお、制御部１１は、液晶アレイ検査装置の全体を制御することができる。 The scanning controller 12 and the trigger signal generator 14 are controlled by the controller 11. The control unit 11 can control the entire liquid crystal array inspection apparatus.

次に、ライン座標位置演算処理部２４の一構成例について図２を用いて説明する。ライン座標位置演算処理部２４は、撮像画像データ記憶部２４ａ、撮像画像データ読み出し部２４ｂ、ライン算出部２４ｃ、信号パターン比較部２４ｄ、判定部２４ｅ、座標算出部２４ｆを備える。なお、ライン算出部２４ｃは、ラインを選択する選出部を構成し、信号パターン比較部２４ｄおよび判定部２４ｅは検出・判定部を構成する。 Next, a configuration example of the line coordinate position calculation processing unit 24 will be described with reference to FIG. The line coordinate position calculation processing unit 24 includes a captured image data storage unit 24a, a captured image data reading unit 24b, a line calculation unit 24c, a signal pattern comparison unit 24d, a determination unit 24e, and a coordinate calculation unit 24f. The line calculation unit 24c constitutes a selection unit that selects a line, and the signal pattern comparison unit 24d and the determination unit 24e constitute a detection / determination unit.

撮像画像データ記憶部２４ａは、撮像部を構成するＣＤＤ等の撮像装置から撮像画像データを入力し、記憶する。 The captured image data storage unit 24a receives and stores captured image data from an image capturing apparatus such as a CDD that constitutes the image capturing unit.

撮像画像データ読み出し部２４ｂは、ライン算出部２４ｃで算出されたラインに対応する撮像画像データを撮像画像データ記憶部２４ａから読み出して信号パターン比較部２４ｄに出力する。 The captured image data reading unit 24b reads captured image data corresponding to the line calculated by the line calculation unit 24c from the captured image data storage unit 24a and outputs the captured image data to the signal pattern comparison unit 24d.

信号パターン比較部２４ｄは、実検出ラインの信号強度パターンと設定ラインの信号強度パターンとを比較する比較部２４d1と、実検出ラインの信号強度パターンと探索ラインの信号強度パターンとを比較する比較部２４d2とを備える。 The signal pattern comparison unit 24d compares the signal intensity pattern of the actual detection line with the signal intensity pattern of the setting line, and the comparison unit 24d1 compares the signal intensity pattern of the actual detection line with the signal intensity pattern of the search line. 24d2.

判定部２４ｅは、比較部２４d1の比較結果に基づいて、ラインのライン幅が収縮あるいは膨張するといったラインの良・不良を判定して検出する良・不良判定部２４e1と、比較部２４d2の比較結果に基づいて、不良検出されたラインについてライン幅が収縮であるか、あるいは膨張であるかを判定する収縮・膨張判定部２４e2とを備える。 Based on the comparison result of the comparison unit 24d1, the determination unit 24e determines whether or not the line is good or bad such that the line width contracts or expands, and the comparison result of the comparison unit 24d2 And a contraction / expansion determination unit 24e2 that determines whether the line width of the detected line is contraction or expansion.

ライン算出部２４ｃは、判定部２４ｅの判定結果に基づいて、次の実検出ラインの座標位置を算出し、撮像画像データ読み出し部２４ｂは算出した実検出ラインの座標位置に基づいて撮像画像データ記憶部２４ａから撮像画像データを読み出し、実検出ラインの信号強度に基づいてピクセルの座標位置を算出する。 The line calculation unit 24c calculates the coordinate position of the next actual detection line based on the determination result of the determination unit 24e, and the captured image data reading unit 24b stores the captured image data based on the calculated coordinate position of the actual detection line. The captured image data is read from the unit 24a, and the coordinate position of the pixel is calculated based on the signal intensity of the actual detection line.

実検出ラインの信号強度を用いたピクセルの座標位置の算出は、例えば、実検出ラインの信号強度のライン長さ方向の変化から、各ピクセルに対応する信号強度列を求め、求めた信号強度列の中央位置をそのピクセルの座標位置とすることができる。 The calculation of the coordinate position of the pixel using the signal intensity of the actual detection line is performed by, for example, obtaining a signal intensity sequence corresponding to each pixel from a change in the line length direction of the signal intensity of the actual detection line, Can be the coordinate position of the pixel.

［ライン座標位置の算出］
本発明は、ライン座標位置の算出において、ラインが不良であるときに、座標位置を求めるために次の実検出ラインを定める際において、ラインを設定する態様として二つの態様を備える。 [Calculation of line coordinate position]
In the calculation of the line coordinate position, the present invention includes two modes for setting a line when determining the next actual detection line for obtaining the coordinate position when the line is defective.

第１の態様は、不良が検出されたラインに対して撮像方向に所定長さだけオフセットした位置に一本のラインを定め、このラインを探索ラインとして次の実検出ラインを定める。第２の態様は、不良が検出されたラインに対して撮像方向および撮像方向と逆方向に所定長さだけオフセットした位置に二本のラインを定め、この二本のラインを探索ラインとして次の実検出ラインを定める。撮像方向は、複数のラインを含むフレームを単位として表示パターンを撮像する際において、各フレームを順次に撮像する際の撮像方向である。 In the first aspect, one line is defined at a position offset by a predetermined length in the imaging direction with respect to a line where a defect is detected, and the next actual detection line is defined using this line as a search line. In the second mode, two lines are defined at a position offset by a predetermined length in the imaging direction and in the direction opposite to the imaging direction with respect to the line where the defect is detected. Determine the actual detection line. The imaging direction is an imaging direction when each frame is sequentially imaged when a display pattern is imaged in units of frames including a plurality of lines.

（ライン座標位置の算出の第１の態様）
はじめに、ライン座標位置を算出する第１の態様例について図３のフローチャート、図４〜図７の説明図を用いて説明する。なお、図４に示す撮像画像の例は３ピクセル分について５ライン（内、１ラインはライン幅が収縮している）のみを示し、図５に示す撮像画像の例は３ピクセル分について６ライン（内、１ラインはライン幅が収縮している）のみを示し、図６に示す撮像画像の例は３ピクセル分について３ライン（内、１ラインはライン幅が膨張している）のみを示し、図７に示す撮像画像の例は３ピクセル分について４ライン（内、１ラインはライン幅が膨張している）のみを示している。 (First mode of calculation of line coordinate position)
First, a first mode example for calculating the line coordinate position will be described with reference to the flowchart of FIG. 3 and the explanatory diagrams of FIGS. The example of the captured image shown in FIG. 4 shows only 5 lines for 3 pixels (of which 1 line has a contracted line width), and the example of the captured image shown in FIG. 5 has 6 lines for 3 pixels. 6 (in which one line is contracted in line width), the example of the captured image shown in FIG. 6 shows only three lines for three pixels (in which one line has expanded line width). The example of the captured image shown in FIG. 7 shows only 4 lines (of which 1 line has an expanded line width) for 3 pixels.

実検出ラインを基にして、基準のライン間隔だけ離れた設定ラインを算出する。基準のライン間隔は、例えば、撮像画像の各ラインのライン幅Ｐである基準ピッチとすることができる。基準ピッチを撮像画像の各ラインのライン幅Ｐに合わせて設定することによって、撮像画像の表示パターンに正常なライン幅で表されている場合には、全ラインについて設定ラインを設定し、各ラインの座標位置を算出することができる(S1)。 Based on the actual detection line, a set line separated by a reference line interval is calculated. For example, the reference line interval may be a reference pitch that is the line width P of each line of the captured image. By setting the reference pitch according to the line width P of each line of the captured image, when the display pattern of the captured image is represented by a normal line width, the setting line is set for all lines, and each line Can be calculated (S1).

実検出ラインと設定ラインの信号強度パターンを求める。図４、５はライン幅が収縮した場合を示し、図６、７はライン幅が膨張した場合を示している。図４において、ラインＬ11を現時点で座標位置を算出する実検出ラインとし、このラインＬ11から基準ピッチ（ライン幅Ｐ）だけオフセットした位置に定めたラインＬ12を設定ラインとして設定する。また、図６において、ラインＬ21を現時点で座標位置を算出する実検出ラインとし、このラインＬ21から基準ピッチ（ライン幅Ｐ）だけオフセットした位置に定めたラインＬ22を設定ラインとして設定し、さらにラインＬ22を実検出ラインとしこのラインＬ22から基準ピッチ（ライン幅Ｐ）だけオフセットした位置に定めたラインＬ23を設定ラインとして設定する(S2)。 The signal intensity pattern of the actual detection line and the setting line is obtained. 4 and 5 show the case where the line width contracts, and FIGS. 6 and 7 show the case where the line width expands. In FIG. 4, a line L11 is set as an actual detection line for calculating a coordinate position at the present time, and a line L12 set at a position offset from the line L11 by a reference pitch (line width P) is set as a setting line. In FIG. 6, a line L21 is an actual detection line for calculating a coordinate position at the present time, a line L22 set at a position offset from the line L21 by a reference pitch (line width P) is set as a setting line, L22 is set as an actual detection line, and a line L23 determined at a position offset from the line L22 by a reference pitch (line width P) is set as a setting line (S2).

実検出ラインと設定ラインの信号強度パターンを比較する。図４に示したライン幅が収縮する例では、ラインＬ11の実検出ラインの信号強度パターン（図４（ｂ））と、ラインＬ12の設定ラインの信号強度パターン（図４（ｃ））とを比較すると、同じ信号強度パターンを示している。 The signal intensity pattern of the actual detection line and the setting line is compared. In the example in which the line width shown in FIG. 4 contracts, the signal intensity pattern of the actual detection line of line L11 (FIG. 4B) and the signal intensity pattern of the set line of line L12 (FIG. 4C) are obtained. In comparison, the same signal intensity pattern is shown.

ここでは、検査信号として、撮像画像の信号強度パターンがライン方向および撮像方向で交互に変化し、信号強度が相補的に現れる表示パターンが形成されるような信号パターンを印加している。したがって、ライン幅が正常であれば、実検出ラインの信号強度パターンと設定ラインの信号強度パターンとは、互いに相補的な関係となる。 Here, as the inspection signal, a signal pattern is applied in which the signal intensity pattern of the captured image alternately changes in the line direction and the imaging direction, and a display pattern in which the signal intensity appears in a complementary manner is formed. Therefore, if the line width is normal, the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the setting line have a complementary relationship with each other.

これに対して、図４に示すようにライン幅が収縮した場合には、ライン幅の収縮によって、実検出ラインの信号強度パターンと設定ラインの信号強度パターンとは同じ信号強度パターンとなる。 On the other hand, when the line width contracts as shown in FIG. 4, the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the set line become the same signal intensity pattern due to the contraction of the line width.

また、図６に示したライン幅が膨張する例では、ラインＬ21の実検出ラインの信号強度パターン（図６（ｂ））と、ラインＬ22の設定ラインの信号強度パターン（図６（ｃ））とを比較すると、相補的な信号強度パターンを示している。次に、ラインＬ22を実検出ラインとし、基準ピッチ分オフセットしたラインＬ23を設定ラインとした場合には、ラインＬ22の実検出ラインの信号強度パターン（図６（ｃ））と、ラインＬ23の設定ラインの信号強度パターン（図６（ｄ））とを比較すると、同一信号強度パターンとなる。ラインＬ22とラインＬ23はライン膨張によって同一のラインであるため、ラインＬ22とラインＬ23を実検出ラインとしてライン座標位置を算出すると、同一ラインについて２つの座標位置を設定することになり、正確なライン座標位置およびピクセルの座標位置の算出に支障が生じる。 In the example in which the line width shown in FIG. 6 expands, the signal intensity pattern of the actual detection line of the line L21 (FIG. 6B) and the signal intensity pattern of the set line of the line L22 (FIG. 6C). And shows a complementary signal intensity pattern. Next, when the line L22 is the actual detection line and the line L23 offset by the reference pitch is the setting line, the signal intensity pattern of the actual detection line of the line L22 (FIG. 6C) and the setting of the line L23 When the signal intensity pattern of the line (FIG. 6D) is compared, the same signal intensity pattern is obtained. Since the line L22 and the line L23 are the same line by the line expansion, if the line coordinate position is calculated using the line L22 and the line L23 as the actual detection line, two coordinate positions are set for the same line, and the exact line The calculation of the coordinate position and the pixel coordinate position is hindered.

したがって、ライン幅が収縮あるいは膨張する場合には、実検出ラインの信号強度パターンと設定ラインの信号強度パターンとが同じ信号強度パターンであることを検出することによって、ライン不良を検出することができる（S3,S4,S8）。 Therefore, when the line width contracts or expands, a line defect can be detected by detecting that the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the set line are the same signal intensity pattern. (S3, S4, S8).

ライン幅が正常である場合には、実検出ラインの信号強度パターンと設定ラインの信号強度パターンとが相補的な信号強度パターンであることを検出することによって、ライン良を検出することができる（S3,S4）。 When the line width is normal, it is possible to detect a line good by detecting that the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the set line are complementary signal intensity patterns ( S3, S4).

ラインが良と判定された場合には、設定ラインを実検出ラインとし(S5)、実検出ラインの信号強度に基づいて、各ピクセルの中心に相当する座標位置を求め(S6)、ピクセルの座標位置を算出する（S7）。 If the line is determined to be good, the setting line is set as the actual detection line (S5), and the coordinate position corresponding to the center of each pixel is obtained based on the signal strength of the actual detection line (S6), and the pixel coordinates The position is calculated (S7).

ラインが不良と判定された場合には(S8)、設定ラインに対して撮像方向側に探索範囲を設定し、探索範囲内に探索ラインを設ける。探索ラインは、設定ラインから所定距離だけオフセットした位置に設ける。 When it is determined that the line is defective (S8), a search range is set on the imaging direction side with respect to the set line, and the search line is provided within the search range. The search line is provided at a position offset by a predetermined distance from the set line.

収縮したラインの収縮幅が、Ｐ／２以上でライン幅がＰ／２以下であると仮定した場合に、ラインの収縮を検出するための探索範囲の幅はＰ／２以下とする。なお、ライン幅はＰとする。また、膨張したラインのライン幅を（Ｐ＋Ｐ／２）以上と仮定した場合には、ラインの膨張を検出するための探索範囲の幅はＰ／４以上とする。したがって、ラインの収縮と膨張を検出するための探索範囲はＰ／４〜Ｐ／２とし、この探索範囲に探索ラインを設定する。 When it is assumed that the contraction width of the contracted line is P / 2 or more and the line width is P / 2 or less, the width of the search range for detecting the contraction of the line is set to P / 2 or less. The line width is P. When the line width of the expanded line is assumed to be (P + P / 2) or more, the width of the search range for detecting the expansion of the line is set to P / 4 or more. Therefore, the search range for detecting contraction and expansion of the line is P / 4 to P / 2, and the search line is set in this search range.

設定した探索ラインの信号強度パターンを求め（S10）、求めた探索ラインの信号強度パターンと実検出ラインの信号強度パターンとを比較することによって、ラインの収縮・膨張を判定する(S11)。探索ラインの信号強度パターンと実検出ラインの信号強度パターンとが同一信号強度パターンである場合には収縮と判定し（S12）、探索ラインの信号強度パターンと実検出ラインの信号強度パターンとが相補的な信号強度パターンである場合には膨張と判定する（S13）。 The signal intensity pattern of the set search line is obtained (S10), and the contraction / expansion of the line is determined by comparing the obtained signal intensity pattern of the search line and the signal intensity pattern of the actual detection line (S11). If the signal intensity pattern of the search line and the signal intensity pattern of the actual detection line are the same signal intensity pattern, it is determined as contraction (S12), and the signal intensity pattern of the search line and the signal intensity pattern of the actual detection line are complementary. If it is a typical signal intensity pattern, it is determined as expansion (S13).

S11の工程において、上記判定が成されない場合には、探索ラインを変更してS9の工程に戻り判定を繰り返す。 If the above determination is not made in step S11, the search line is changed, and the process returns to step S9 to repeat the determination.

ライン収縮の場合には、図４に示すように、設定ラインであるラインＬ12と探索ラインであるラインＬ12Aは、同じライン幅内にあって同じ信号強度パターンを有するため、実検出ライン（Ｌ11）の信号強度パターン（図４（ｂ））と、探索ライン（Ｌ12A）の信号強度パターン（図４（ｄ））とは同じ信号強度パターンとなる。 In the case of line contraction, as shown in FIG. 4, since the line L12 as the setting line and the line L12A as the search line are within the same line width and have the same signal intensity pattern, the actual detection line (L11) The signal intensity pattern (FIG. 4B) and the signal intensity pattern of the search line (L12A) (FIG. 4D) are the same signal intensity pattern.

この実検出ライン（Ｌ11）の信号強度パターン（図４（ｂ））と、探索ライン（Ｌ12A）の信号強度パターン（図４（ｄ））とが同じ信号強度パターンとなることから、ライン収縮であることを判定する。 Since the signal intensity pattern (FIG. 4B) of the actual detection line (L11) and the signal intensity pattern of the search line (L12A) (FIG. 4D) are the same signal intensity pattern, line contraction is caused. Determine that there is.

ライン膨張の場合には、図６に示すように、設定ラインであるラインＬ22とラインＬ23は同じライン幅内にあって同じ信号強度パターンを有し、かつ、設定ラインのラインＬ22に対して定めた探索ラインのラインＬ23Aは、それぞれ相補的な信号強度パターンを有するラインであるため、実検出ライン（Ｌ21）の信号強度パターン（図６（ｂ））と、探索ライン（Ｌ23A）の信号強度パターン（図６（ｄ））とは相補的な信号強度パターンとなる。 In the case of line expansion, as shown in FIG. 6, the setting lines L22 and L23 are within the same line width, have the same signal intensity pattern, and are defined with respect to the setting line L22. Since the search line L23A is a line having a complementary signal intensity pattern, the signal intensity pattern of the actual detection line (L21) (FIG. 6B) and the signal intensity pattern of the search line (L23A). (FIG. 6D) is a complementary signal intensity pattern.

この実検出ライン（Ｌ21）の信号強度パターン（図６（ｂ））と、探索ライン（Ｌ23A）の信号強度パターン（図６（ｄ））とが相補的な信号強度パターンとなることから、ライン膨張であることを判定する。 Since the signal intensity pattern (FIG. 6 (b)) of the actual detection line (L21) and the signal intensity pattern (FIG. 6 (d)) of the search line (L23A) become a complementary signal intensity pattern, the line Determine that it is inflated.

次に、探索ラインを実検出ラインとし(S14)、実検出ラインの座標位置を求め、この座標位置に基づいて実検出ライン上にある各のピクセルの中心位置を求め（S15）、求めた中心位置をピクセルの座標位置とする(S16)。 Next, the search line is set as the actual detection line (S14), the coordinate position of the actual detection line is obtained, the center position of each pixel on the actual detection line is obtained based on the coordinate position (S15), and the obtained center The position is set as the coordinate position of the pixel (S16).

S7およびS16の工程でピクセルの座標位置を求めた後は、S1の工程に戻り、前記したS1〜S16の工程を繰り返す。 After obtaining the coordinate position of the pixel in the steps S7 and S16, the process returns to the step S1, and the steps S1 to S16 described above are repeated.

ピクセルの中心位置は、例えば、実検出ライン上の信号強度パターンの信号強度変化から各ピクセルの範囲を求め、求めたピクセルの範囲の中心をピクセルの中心位置とすることで算出する。 The center position of the pixel is calculated by, for example, obtaining the range of each pixel from the signal intensity change of the signal intensity pattern on the actual detection line and setting the center of the obtained pixel range as the center position of the pixel.

ライン収縮の場合には、図５に示すように、探索ライン（Ｌ12A）を実検出ラインとしてラインの座標位置およびピクセルの座標位置を求める。その後、ラインＬ12Aから基準ピッチだけオフセットしたラインＬ13について座標位置およびピクセルの座標位置を求める。 In the case of line contraction, as shown in FIG. 5, the coordinate position of the line and the coordinate position of the pixel are obtained using the search line (L12A) as an actual detection line. Thereafter, the coordinate position and the pixel coordinate position of the line L13 offset from the line L12A by the reference pitch are obtained.

ライン膨張の場合には、図７に示すように、探索ライン（Ｌ23A）を実検出ラインとしてラインの座標位置およびピクセルの座標位置を求める。その後、ラインＬ23Aから基準ピッチだけオフセットしたラインＬ24について座標位置およびピクセルの座標位置を求める。 In the case of line expansion, as shown in FIG. 7, the coordinate position of the line and the coordinate position of the pixel are obtained using the search line (L23A) as an actual detection line. Thereafter, the coordinate position and the pixel coordinate position of the line L24 offset from the line L23A by the reference pitch are obtained.

（ライン座標位置の算出の第２の態様）
次に、ライン座標位置を算出する第２の態様例について図８のフローチャート、図９〜図１２の説明図を用いて説明する。なお、図９に示す撮像画像の例は３ピクセル分について４ライン（内、１ラインはライン幅が収縮している）のみを示し、図１０に示す撮像画像の例は３ピクセル分について５ライン（内、１ラインはライン幅が収縮している）のみを示し、図１１に示す撮像画像の例は３ピクセル分について３ライン（内、１ラインはライン幅が膨張している）のみを示し、図１２に示す撮像画像の例は３ピクセル分について４ライン（内、１ラインはライン幅が膨張している）のみを示している。 (Second mode of calculation of line coordinate position)
Next, a second mode example for calculating the line coordinate position will be described with reference to the flowchart of FIG. 8 and the explanatory diagrams of FIGS. The example of the captured image shown in FIG. 9 shows only 4 lines for 3 pixels (of which 1 line has a contracted line width), and the example of the captured image shown in FIG. 10 has 5 lines for 3 pixels. (Only one line has a contracted line width), and the example of the captured image shown in FIG. 11 shows only three lines for three pixels (of which one line has an expanded line width). The example of the captured image shown in FIG. 12 shows only 4 lines (of which the line width is expanded for 1 line) for 3 pixels.

図８に示すフローチャートは、図３に示すフローチャートと共通する工程は同じ符号Sを用いて示している。 In the flowchart shown in FIG. 8, the steps common to the flowchart shown in FIG.

実検出ラインと設定ラインの信号強度パターンを求める。図９、１０はライン幅が収縮した場合を示し、図１１、１２はライン幅が膨張した場合を示している。図９において、ラインＬ11を現時点で座標位置を算出する実検出ラインとし、このラインＬ11から基準ピッチ（ライン幅Ｐ）だけオフセットした位置に定めたラインＬ12を設定ラインとして設定する。また、図１１において、ラインＬ21を現時点で座標位置を算出する実検出ラインとし、このラインＬ21から基準ピッチ（ライン幅Ｐ）だけオフセットした位置に定めたラインＬ22を設定ラインとして設定し、さらにラインＬ22を実検出ラインとし、このラインＬ22から基準ピッチ（ライン幅Ｐ）だけオフセットした位置に定めたラインＬ23を設定ラインとして設定する(S2)。 The signal intensity pattern of the actual detection line and the setting line is obtained. 9 and 10 show the case where the line width contracts, and FIGS. 11 and 12 show the case where the line width expands. In FIG. 9, a line L11 is set as an actual detection line for calculating a coordinate position at the present time, and a line L12 set at a position offset from the line L11 by a reference pitch (line width P) is set as a setting line. In FIG. 11, the line L21 is an actual detection line for calculating the coordinate position at the present time, and the line L22 set at a position offset from the line L21 by the reference pitch (line width P) is set as a setting line. L22 is set as an actual detection line, and a line L23 determined at a position offset from the line L22 by a reference pitch (line width P) is set as a setting line (S2).

次に、実検出ラインと設定ラインの信号強度パターンを比較する。図９に示したライン幅が収縮する例では、ラインＬ11の実検出ラインの信号強度パターン（図９（ｂ））と、ラインＬ12の設定ラインの信号強度パターン（図９（ｃ））とを比較すると、同じ信号強度パターンを示している。 Next, the signal intensity patterns of the actual detection line and the setting line are compared. In the example in which the line width shown in FIG. 9 contracts, the signal intensity pattern of the actual detection line of line L11 (FIG. 9B) and the signal intensity pattern of the set line of line L12 (FIG. 9C) are obtained. In comparison, the same signal intensity pattern is shown.

これに対して、図９に示すようにライン幅が収縮した場合には、ライン幅の収縮によって、実検出ラインの信号強度パターンと設定ラインの信号強度パターンとは同じ信号強度パターンとなる。 On the other hand, when the line width contracts as shown in FIG. 9, the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the set line become the same signal intensity pattern due to the contraction of the line width.

また、図１１に示したライン幅が膨張する例では、ラインＬ21の実検出ラインの信号強度パターン（図９（ｂ））と、ラインＬ22の設定ラインの信号強度パターン（図９（ｃ））とを比較すると、相補的な信号強度パターンを示している。次に、ラインＬ22を実検出ラインとし、基準ピッチ分オフセットしたラインＬ23を設定ラインとした場合には、ラインＬ22の実検出ラインの信号強度パターン（図９（ｃ））と、ラインＬ23の設定ラインの信号強度パターン（図９（ｄ））とを比較すると、同一信号強度パターンとなる。ラインＬ22とラインＬ23はライン膨張によって同一のラインであるため、ラインＬ22とラインＬ23を実検出ラインとしてライン座標位置を算出すると、同一ラインについて２つの座標位置を設定することになり、正確なライン座標位置およびピクセルの座標位置の算出に支障が生じる。 Further, in the example in which the line width shown in FIG. 11 expands, the signal intensity pattern of the actual detection line of the line L21 (FIG. 9B) and the signal intensity pattern of the set line of the line L22 (FIG. 9C). And shows a complementary signal intensity pattern. Next, when the line L22 is the actual detection line and the line L23 offset by the reference pitch is the setting line, the signal intensity pattern of the actual detection line of the line L22 (FIG. 9C) and the setting of the line L23 When the signal intensity pattern of the line (FIG. 9D) is compared, the same signal intensity pattern is obtained. Since the line L22 and the line L23 are the same line by the line expansion, if the line coordinate position is calculated using the line L22 and the line L23 as the actual detection line, two coordinate positions are set for the same line, and the exact line The calculation of the coordinate position and the pixel coordinate position is hindered.

第２の態様による探索ラインは、設定ラインに対して撮像方向および撮像方向と逆方向に所定長さだけオフセットした二本のラインとし、設定ラインのライン位置から前の実検出ラインの方向に定める探索ラインを第１の探索ラインとし、設定ラインのライン位置から次の実検出ラインを定める方向に定める探索ラインを第２の探索ラインとする。 The search lines according to the second aspect are two lines that are offset by a predetermined length in the imaging direction and in the direction opposite to the imaging direction with respect to the setting line, and are determined in the direction of the previous actual detection line from the line position of the setting line. The search line is defined as the first search line, and the search line determined in the direction in which the next actual detection line is determined from the line position of the set line is defined as the second search line.

第２の態様では、収縮したラインの収縮幅が、Ｐ／２以上でライン幅がＰ／２以下であると仮定し、膨張したラインのライン幅を（Ｐ＋Ｐ／２）以上と仮定した場合には、ラインの収縮と膨張を検出するための探索範囲は、設定ラインの前後にそれぞれＰ／４の幅とし、この探索範囲に探索ラインを設定する。なお、正常なラインのライン幅はＰとする(S9A)。 In the second aspect, when the contracted width of the contracted line is P / 2 or more and the line width is P / 2 or less, and the expanded line is assumed to have a line width of (P + P / 2) or more. The search range for detecting contraction and expansion of the line has a width of P / 4 before and after the set line, and the search line is set in this search range. The normal line width is P (S9A).

設定した探索ラインの信号強度パターンを求め（S10）、求めた探索ラインの信号強度パターンと実検出ラインの信号強度パターンとを比較することによって、ラインの収縮・膨張を判定する(S11)。 The signal intensity pattern of the set search line is obtained (S10), and the contraction / expansion of the line is determined by comparing the obtained signal intensity pattern of the search line and the signal intensity pattern of the actual detection line (S11).

第１の探索ラインの信号強度パターンと実検出ラインの信号強度パターンとが相補的な信号強度パターンであり、第２の探索ラインの信号強度パターンと実検出ラインの信号強度パターンとが同一の信号強度パターンである場合には収縮と判定する（S12）。 The signal intensity pattern of the first search line and the signal intensity pattern of the actual detection line are complementary signal intensity patterns, and the signal intensity pattern of the second search line and the signal intensity pattern of the actual detection line are the same signal. If it is an intensity pattern, it is determined to be contraction (S12).

第１の探索ラインの信号強度パターンと実検出ラインの信号強度パターンとが同一の信号強度パターンであり、第２の探索ラインの信号強度パターンと実検出ラインの信号強度パターンとが相補的な信号強度パターンである場合には膨張と判定する（S13）。 The signal intensity pattern of the first search line and the signal intensity pattern of the actual detection line are the same signal intensity pattern, and the signal intensity pattern of the second search line and the signal intensity pattern of the actual detection line are complementary signals. If it is an intensity pattern, it is determined as expansion (S13).

ライン収縮の場合には、図９に示すように、第１の探索ラインであるラインＬ12aは収縮したラインであるため、第１の探索ラインのラインＬ12aと設定ラインのラインＬ12とは相補的な信号強度パターンを有し、実検出ライン（Ｌ11）の信号強度パターン（図９（ｂ））と、第１の探索ライン（Ｌ12a）の信号強度パターン（図９（ｄ））とは相補的な信号強度パターンとなる。 In the case of line contraction, as shown in FIG. 9, since the line L12a that is the first search line is a contracted line, the line L12a of the first search line and the line L12 of the setting line are complementary. It has a signal intensity pattern, and the signal intensity pattern (FIG. 9B) of the actual detection line (L11) and the signal intensity pattern of the first search line (L12a) (FIG. 9D) are complementary. It becomes a signal intensity pattern.

一方、第２の探索ラインであるラインＬ12bと設定ラインのラインＬ12とは同じライン内にあるため、実検出ライン（Ｌ11）の信号強度パターン（図９（ｂ））と、第２の探索ライン（Ｌ12b）の信号強度パターン（図９（ｅ））とは同一の信号強度パターンとなる。 On the other hand, since the line L12b as the second search line and the line L12 as the setting line are in the same line, the signal intensity pattern of the actual detection line (L11) (FIG. 9B) and the second search line. The signal intensity pattern (L12b) is the same as the signal intensity pattern (FIG. 9E).

この実検出ライン（Ｌ11）の信号強度パターン（図９（ｂ））と、第１の探索ライン（Ｌ12a）および第２の探索ライン（Ｌ12b）の信号強度パターン（図９（ｄ）、（ｅ））との関係からライン収縮であることを判定する。 The signal intensity pattern of the actual detection line (L11) (FIG. 9B) and the signal intensity patterns of the first search line L12a and the second search line L12b (FIGS. 9D and 9E). )) To determine line contraction.

ライン膨張の場合には、図１１に示すように、第１の探索ラインであるラインＬ23aは膨張したラインにあるため、第１の探索ラインのラインＬ23aと設定ラインのラインＬ21とは相補的な信号強度パターンを有し、実検出ライン（Ｌ21）の信号強度パターン（図１１（ｂ））と、第１の探索ライン（Ｌ23a）の信号強度パターン（図１１（ｄ））とは相補的な信号強度パターンとなる。 In the case of line expansion, as shown in FIG. 11, since the line L23a as the first search line is in the expanded line, the line L23a of the first search line and the line L21 of the setting line are complementary. It has a signal intensity pattern, and the signal intensity pattern (FIG. 11 (b)) of the actual detection line (L21) and the signal intensity pattern (FIG. 11 (d)) of the first search line (L23a) are complementary. It becomes a signal intensity pattern.

一方、第２の探索ラインであるラインＬ23bは膨張したラインの隣のライン内にあるため、実検出ライン（Ｌ21）の信号強度パターン（図１１（ｂ））と、第２の探索ライン（Ｌ23b）の信号強度パターン（図１１（ｅ））とは同一の信号強度パターンとなる。 On the other hand, since the line L23b as the second search line is in the line next to the expanded line, the signal intensity pattern (FIG. 11B) of the actual detection line (L21) and the second search line (L23b ) Signal intensity pattern (FIG. 11E) is the same signal intensity pattern.

この実検出ライン（Ｌ21）の信号強度パターン（図１１（ｂ））と、第１の探索ライン（Ｌ23a）の信号強度パターン（図１１（ｅ））とが相補的な信号強度パターンとなり、実検出ライン（Ｌ21）の信号強度パターン（図１１（ｂ））と、第２の探索ライン（Ｌ23b）の信号強度パターン（図１１（ｆ））とが相補的な信号強度パターンとなることから、ライン膨張であることを判定する。 The signal intensity pattern (FIG. 11 (b)) of the actual detection line (L21) and the signal intensity pattern (FIG. 11 (e)) of the first search line (L23a) become a complementary signal intensity pattern. Since the signal intensity pattern (FIG. 11 (b)) of the detection line (L21) and the signal intensity pattern (FIG. 11 (f)) of the second search line (L23b) become complementary signal intensity patterns, Determine line expansion.

次に、第２の探索ラインを実検出ラインとし(S14A)、実検出ラインの座標位置を求め、この座標位置に基づいて実検出ライン上にある各のピクセルの中心位置を求め（S15）、求めた中心位置をピクセルの座標位置とする(S16)。 Next, the second search line is set as an actual detection line (S14A), the coordinate position of the actual detection line is obtained, and the center position of each pixel on the actual detection line is obtained based on the coordinate position (S15). The obtained center position is set as a pixel coordinate position (S16).

ライン収縮の場合には、図１０に示すように、第２の探索ライン（Ｌ12b）を実検出ラインとしてラインの座標位置およびピクセルの座標位置を求める。その後、ラインＬ12bから基準ピッチだけオフセットしたラインＬ13について座標位置およびピクセルの座標位置を求める。 In the case of line contraction, as shown in FIG. 10, the coordinate position of the line and the coordinate position of the pixel are obtained using the second search line (L12b) as an actual detection line. Thereafter, the coordinate position and the pixel coordinate position of the line L13 offset from the line L12b by the reference pitch are obtained.

ライン膨張の場合には、図１２に示すように、第２の探索ライン（Ｌ23b）を実検出ラインとしてラインの座標位置およびピクセルの座標位置を求める。その後、ラインＬ23bから基準ピッチだけオフセットしたラインＬ24について座標位置およびピクセルの座標位置を求める。 In the case of line expansion, as shown in FIG. 12, the coordinate position of the line and the coordinate position of the pixel are obtained using the second search line (L23b) as an actual detection line. Thereafter, the coordinate position and the pixel coordinate position of the line L24 offset from the line L23b by the reference pitch are obtained.

ピクセルの中心位置は、例えば、実検出ライン上の信号強度パターンの信号強度変化から各ピクセルの範囲を求め、求めたピクセルの範囲の中心をピクセルの中心位置とすることで算出する。ラインの座標位置およびピクセルの座標位置は、前記した第１の態様と同様にして算出することができる。 The center position of the pixel is calculated by, for example, obtaining the range of each pixel from the signal intensity change of the signal intensity pattern on the actual detection line and setting the center of the obtained pixel range as the center position of the pixel. The coordinate position of the line and the coordinate position of the pixel can be calculated in the same manner as in the first aspect.

第２の態様において、上記した例は第２の探索ラインを実検出ラインとして定める例であり、この例では、収縮したラインを除いて次のラインからライン座標位置を求めている。 In the second aspect, the above example is an example in which the second search line is defined as an actual detection line. In this example, the line coordinate position is obtained from the next line except for the contracted line.

以下、図１３，図１４を用いて、第２の態様において収縮したラインについてもライン座標位置を求める例について説明する。 Hereinafter, an example in which the line coordinate position is obtained for the contracted line in the second mode will be described with reference to FIGS.

この例は、前記した図８のフローチャートにおいてS14の工程のみが相違するため、以下ではS14の工程についてのみ説明し、他の説明は省略する。 Since this example is different only in the process of S14 in the flowchart of FIG. 8 described above, only the process of S14 will be described below, and the other description will be omitted.

図１３のフローチャートにおいて、S14の実検出ラインを定める工程は、ライン収縮の場合の工程S14Aとライン膨張の場合の工程S14Bとを含む。 In the flowchart of FIG. 13, the step of determining the actual detection line in S14 includes a step S14A in the case of line contraction and a step S14B in the case of line expansion.

S12の工程でラインが収縮していると判定された場合には、第１の探索ラインを実検出ラインとし（S14A）、S13の工程でラインが膨張していると判定された場合には、第２の探索ラインを実検出ラインとする（S14B）。 If it is determined in step S12 that the line is contracted, the first search line is set as an actual detection line (S14A), and if it is determined in step S13 that the line is expanded, The second search line is set as an actual detection line (S14B).

図１４は、ラインが収縮していると判定された場合に、第１の探索ラインのラインＬ12aを実検出ラインとして定め、このラインから基準ピッチ分オフセットした位置に設定ラインＬ13を定める。これによって、収縮したラインについてもライン座標位置を求めることができる。 In FIG. 14, when it is determined that the line is contracted, the line L12a of the first search line is determined as the actual detection line, and the setting line L13 is determined at a position offset from this line by the reference pitch. Thereby, the line coordinate position can be obtained for the contracted line.

本発明は、液晶アレイ基板の他、有機ＥＬ等種々の半導体基板に適用することができる。 The present invention can be applied to various semiconductor substrates such as an organic EL in addition to a liquid crystal array substrate.

１液晶アレイ検査装置
２撮像部
３荷電粒子ビーム源
４検出器
５ステージ
６検査信号印加部
１１制御部
１２走査制御部
１３ステージ制御部
１４トリガ信号生成部
２１撮像画像取得部
２２走査画像取得部
２３走査部
２４ライン座標位置演算処理部
２４ａ撮像画像データ記憶部
２４ｂ撮像画像データ読み出し部
２４ｃライン算出部
２４ｄ信号パターン比較部
２４d1，２４d2 比較部
２４ｅ判定部
２４e1 良・不良判定部
２４e2 収縮・膨張判定部
２４ｆ座標算出部
１００液晶基板
Ａ〜Ｆトリガ信号
Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3 ライン
Ｌ11，Ｌ12，Ｌ13 ライン
Ｌ12A ライン
Ｌ12a,Ｌ12b ライン
Ｌ21，Ｌ22，Ｌ23，Ｌ24 ライン
Ｌ23A ライン
Ｌ23a,Ｌ23b ライン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Liquid crystal array inspection apparatus 2 Imaging part 3 Charged particle beam source 4 Detector 5 Stage 6 Inspection signal application part 11 Control part 12 Scan control part 13 Stage control part 14 Trigger signal generation part 21 Captured image acquisition part 22 Scanned image acquisition part 23 Scanning unit 24 Line coordinate position calculation processing unit 24a Captured image data storage unit 24b Captured image data read unit 24c Line calculation unit 24d Signal pattern comparison unit 24d1, 24d2 Comparison unit 24e Determination unit 24e1 Good / defective determination unit 24e2 Shrinkage / expansion determination unit 24f Coordinate calculation unit 100 LCD board A to F Trigger signal L1, L2, L3 line L11, L12, L13 line L12A line L12a, L12b line L21, L22, L23, L24 line L23A line L23a, L23b line

Claims

液晶アレイが形成された液晶アレイ基板上に荷電ビームを照射して走査し、当該荷電ビーム走査で得られる走査画像に基づいて液晶アレイを検査する液晶アレイ検査装置において、
液晶アレイに検査信号を印加して得られる液晶パネルの表示パターンの撮像画像に基づいて、撮像画像を構成する各ラインのライン座標位置を算出するライン座標位置算出部を備え、
前記ライン座標位置算出部は、
液晶パネルの表示パターンを撮像して撮像画像を取得する撮像画像取得部と、
前記撮像画像からライン座標位置を演算処理により算出するライン座標位置演算処理部とを備え、
前記ライン座標位置演算処理部は、
ラインの信号強度パターンを比較する信号パターン比較部と、前記信号パターン比較部の比較に基づいてラインの良・不良の検出、およびライン幅の変化状態を判定する検出・判定部、次の実検出ラインを選出する選出部、および座標算出部を備え、
撮像画像を構成する複数のラインの中から撮像方向に沿って順に一ラインずつ選出し、当該選出したラインを実検出ラインとしてライン座標位置を算出する一連の演算処理を行い、
前記一連の演算処理において、
前記検出・判定部は、
実検出ラインのライン座標位置から基準ピッチ分だけオフセットした座標位置を算出して設定ラインを設定し、前記実検出ラインの信号強度パターンと前記設定ラインの信号強度パターンとを比較し、当該比較に基づいてライン幅の変化によるラインの良・不良を検出し、
ラインの良・不良検出でラインが不良であると検出したときに、前記設定ラインのライン座標位置に所定長さだけオフセットした座標位置を算出して探索ラインを設け、前記実検出ラインの信号強度パターンと前記探索ラインの信号強度パターンとを比較し、当該比較に基づいてライン幅の変化状態を判定し、
前記選出部は、ラインの良・不良検出でラインが不良であると検出されたときには探索ラインを次の実検出ラインとして選出し、ラインの良・不良検出でラインが良であると検出されたときには前記設定ラインを次の実検出ラインとして選出し、
前記座標算出部は、前記選出部が選出したラインを実検出ラインとしてライン座標位置を算出することを特徴とする、液晶アレイ検査装置。 In a liquid crystal array inspection apparatus that scans a liquid crystal array substrate on which a liquid crystal array is formed by irradiating a charged beam and inspects the liquid crystal array based on a scanning image obtained by the charged beam scanning,
A line coordinate position calculation unit that calculates the line coordinate position of each line constituting the captured image based on the captured image of the display pattern of the liquid crystal panel obtained by applying the inspection signal to the liquid crystal array,
The line coordinate position calculation unit
A captured image acquisition unit that captures a display pattern of the liquid crystal panel and acquires a captured image;
A line coordinate position calculation processing unit that calculates a line coordinate position from the captured image by calculation processing;
The line coordinate position calculation processing unit
A signal pattern comparison unit that compares the signal intensity pattern of the line, a detection / determination unit that detects line good / bad based on the comparison of the signal pattern comparison unit, and a change state of the line width, and the next actual detection A selection section for selecting a line, and a coordinate calculation section;
Select one line at a time along the imaging direction from a plurality of lines constituting the captured image, and perform a series of arithmetic processing to calculate the line coordinate position using the selected line as an actual detection line,
In the series of arithmetic processing,
The detection / determination unit
A coordinate position that is offset by a reference pitch from the line coordinate position of the actual detection line is calculated, a setting line is set, the signal intensity pattern of the actual detection line is compared with the signal intensity pattern of the setting line, and the comparison is performed. Based on the line width change, detect line good / bad
When the line is detected to be defective in the line good / bad detection, a coordinate position offset by a predetermined length from the line coordinate position of the set line is calculated to provide a search line, and the signal strength of the actual detection line Compare the pattern and the signal intensity pattern of the search line, determine the change state of the line width based on the comparison,
The selection unit selects the search line as the next actual detection line when it is detected that the line is defective in the line good / bad detection, and is detected that the line is good in the line good / bad detection. Sometimes the setting line is selected as the next actual detection line,
The liquid crystal array inspection apparatus, wherein the coordinate calculation unit calculates a line coordinate position using the line selected by the selection unit as an actual detection line.

液晶アレイに検査信号を印加して得られる液晶パネルの表示パターンの撮像画像に基づいて液晶アレイを検査する液晶アレイ検査装置において、
液晶アレイに検査信号を印加して得られる液晶パネルの表示パターンの撮像画像に基づいて、撮像画像を構成する各ラインのライン座標位置を算出するライン座標位置算出部を備え、
前記ライン座標位置算出部は、
液晶パネルの表示パターンを撮像して撮像画像を取得する撮像画像取得部と、
前記撮像画像からライン座標位置を演算処理により算出するライン座標位置演算処理部とを備え、
前記ライン座標位置演算処理部は、
ラインの信号強度パターンを比較する信号パターン比較部と、前記信号パターン比較部の比較に基づいてラインの良・不良の検出、およびライン幅の変化状態を判定する検出・判定部、次の実検出ラインを選出する選出部、および座標算出部を備え、
撮像画像を構成する複数のラインの中から撮像方向に沿って順に一ラインずつ選出し、当該選出したラインを実検出ラインとしてライン座標位置を算出する一連の演算処理を行い、
前記一連の演算処理において、
前記検出・判定部は、
実検出ラインのライン座標位置から基準ピッチ分だけオフセットした座標位置を算出して設定ラインを設定し、前記実検出ラインの信号強度パターンと前記設定ラインの信号強度パターンとを比較し、当該比較に基づいてライン幅の変化によるラインの良・不良を検出し、
ラインの良・不良検出でラインが不良であると検出したときに、前記設定ラインのライン座標位置に所定長さだけオフセットした座標位置を算出して探索ラインを設け、前記実検出ラインの信号強度パターンと前記探索ラインの信号強度パターンとを比較し、当該比較に基づいてライン幅の変化状態を判定し、
前記選出部は、ラインの良・不良検出でラインが不良であると検出されたときには探索ラインを次の実検出ラインとして選出し、ラインの良・不良検出でラインが良であると検出されたときには前記設定ラインを次の実検出ラインとして選出し、
前記座標算出部は、前記選出部が選出したラインを実検出ラインとしてライン座標位置を算出することを特徴とする、液晶アレイ検査装置。 In a liquid crystal array inspection apparatus that inspects a liquid crystal array based on a captured image of a display pattern of a liquid crystal panel obtained by applying an inspection signal to the liquid crystal array,
A line coordinate position calculation unit that calculates the line coordinate position of each line constituting the captured image based on the captured image of the display pattern of the liquid crystal panel obtained by applying the inspection signal to the liquid crystal array,
The line coordinate position calculation unit
A captured image acquisition unit that captures a display pattern of the liquid crystal panel and acquires a captured image;
A line coordinate position calculation processing unit that calculates a line coordinate position from the captured image by calculation processing;
The line coordinate position calculation processing unit
A signal pattern comparison unit that compares the signal intensity pattern of the line, a detection / determination unit that detects line good / bad based on the comparison of the signal pattern comparison unit, and a change state of the line width, and the next actual detection A selection section for selecting a line, and a coordinate calculation section;
Select one line at a time along the imaging direction from a plurality of lines constituting the captured image, and perform a series of arithmetic processing to calculate the line coordinate position using the selected line as an actual detection line,
In the series of arithmetic processing,
The detection / determination unit
A coordinate position that is offset by a reference pitch from the line coordinate position of the actual detection line is calculated, a setting line is set, the signal intensity pattern of the actual detection line is compared with the signal intensity pattern of the setting line, and the comparison is performed. Based on the line width change, detect line good / bad
When the line is detected to be defective in the line good / bad detection, a coordinate position offset by a predetermined length from the line coordinate position of the set line is calculated to provide a search line, and the signal strength of the actual detection line Compare the pattern and the signal intensity pattern of the search line, determine the change state of the line width based on the comparison,
The selection unit selects the search line as the next actual detection line when it is detected that the line is defective in the line good / bad detection, and is detected that the line is good in the line good / bad detection. Sometimes the setting line is selected as the next actual detection line,
The liquid crystal array inspection apparatus, wherein the coordinate calculation unit calculates a line coordinate position using the line selected by the selection unit as an actual detection line.

前記基準ピッチは、正常ラインが備えるライン幅であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の液晶アレイ検査装置。 The liquid crystal array inspection apparatus according to claim 1, wherein the reference pitch is a line width included in a normal line.

前記探索ラインは、設定ラインに対して撮像方向に所定長さだけオフセットした一本のラインであることを特徴とする、請求項１から３の何れかに記載の液晶アレイ検査装置。 The liquid crystal array inspection apparatus according to claim 1, wherein the search line is a single line that is offset by a predetermined length in the imaging direction with respect to the setting line.

前記検査信号はライン毎に相補的な表示パターンを形成する信号であり、
前記検出・判定部は、
前記実検出ラインの信号強度パターンと前記探索ラインの信号強度パターンとが同じパターンであるときはライン幅が収縮したと判定し、
前記実検出ラインの信号強度パターンと前記探索ラインの信号強度パターンとが相補パターンであるときはライン幅が膨張した判定することを特徴とする、請求項４に記載の液晶アレイ検査装置。 The inspection signal is a signal that forms a complementary display pattern for each line,
The detection / determination unit
When the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line are the same pattern, it is determined that the line width is contracted,
5. The liquid crystal array inspection apparatus according to claim 4, wherein when the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line are complementary patterns, it is determined that the line width has expanded.

前記探索ラインは、設定ラインに対して撮像方向および撮像方向と逆方向に所定長さだけオフセットした二本のラインであることを特徴とする、請求項１から３の何れかに記載の液晶アレイ検査装置。 4. The liquid crystal array according to claim 1, wherein the search lines are two lines that are offset by a predetermined length with respect to a setting line in an imaging direction and in a direction opposite to the imaging direction. 5. Inspection device.

前記検査信号はライン毎に相補的な表示パターンを形成する信号であり、前記検出・判定部は、
前記実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向と逆方向の前記探索ラインの信号強度パターンとが相補パターンであり、前記実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向の前記探索ラインの信号強度パターンとが同じパターンであるときはライン幅が収縮したと判定し、
前記実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向と逆方向の前記探索ラインの信号強度パターンとが同じパターンであり、前記実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向の前記探索ラインの信号強度パターンとが相補パターンであるときはライン幅が膨張したと判定することを特徴とする、請求項６に記載の液晶アレイ検査装置。 The inspection signal is a signal that forms a complementary display pattern for each line, and the detection / determination unit includes:
The signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line in the direction opposite to the imaging direction are complementary patterns, and the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line in the imaging direction Are the same pattern, it is determined that the line width has shrunk,
The signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line in the direction opposite to the imaging direction are the same pattern, and the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line in the imaging direction The liquid crystal array inspection apparatus according to claim 6, wherein the line width is determined to be expanded when and are complementary patterns.

液晶アレイに検査信号を印加して得られる液晶パネルの表示パターンの撮像画像に基づいて、撮像画像を構成する各ラインのライン座標位置を算出するライン座標位置算出方法において、
撮像画像を構成する複数のラインの中から撮像方向に沿って順に一ラインずつ選出し、当該選出したラインを実検出ラインとしてライン座標位置を算出する一連の工程を有し、
前記一連の工程は、
実検出ラインのライン座標位置から基準ピッチ分だけオフセットした座標位置を算出して設定ラインを設定し、前記実検出ラインの信号強度パターンと前記設定ラインの信号強度パターンとを比較し、当該比較に基づいてライン幅の変化によるラインの良・不良を検出する検出工程と、
前記検出工程でラインの不良を検出したときに、前記設定ラインのライン座標位置に所定長さだけオフセットした座標位置を算出して探索ラインを設け、前記実検出ラインの信号強度パターンと前記探索ラインの信号強度パターンとを比較し、当該比較に基づいてライン幅の変化状態を判定する判定工程と、
前記検出工程でラインが不良であることを検出したときには前記判定工程で設けた探索ラインを次の実検出ラインとして選出し、前記検出工程でラインが良であることを検出したときには前記設定ラインを次の実検出ラインとして選出する選出工程と、
選出したラインを実検出ラインとしてライン座標位置を算出する座標算出工程とを備えることを特徴とする、ライン座標位置算出方法。 In a line coordinate position calculation method for calculating a line coordinate position of each line constituting a captured image based on a captured image of a display pattern of a liquid crystal panel obtained by applying an inspection signal to a liquid crystal array,
It has a series of steps of selecting one line at a time along the imaging direction from a plurality of lines constituting the captured image, and calculating the line coordinate position using the selected line as an actual detection line,
The series of steps includes
A coordinate position that is offset by a reference pitch from the line coordinate position of the actual detection line is calculated, a setting line is set, the signal intensity pattern of the actual detection line is compared with the signal intensity pattern of the setting line, and the comparison is performed. A detection process for detecting good / bad lines due to changes in line width,
When a defective line is detected in the detection step, a search line is provided by calculating a coordinate position offset by a predetermined length from the line coordinate position of the set line, and the signal intensity pattern of the actual detection line and the search line A determination step of comparing the signal intensity pattern of the line width and determining a change state of the line width based on the comparison;
When the detection step detects that the line is defective, the search line provided in the determination step is selected as the next actual detection line, and when the detection step detects that the line is good, the set line is selected. A selection process to select as the next actual detection line;
And a coordinate calculation step of calculating a line coordinate position using the selected line as an actual detection line.

前記基準ピッチは、正ラインが備えるライン幅であることを特徴とする、請求項８に記載のライン座標位置算出方法。 The line coordinate position calculation method according to claim 8, wherein the reference pitch is a line width included in a positive line.

前記探索ラインは、設定ラインに対して撮像方向に所定長さだけオフセットした一本のラインであることを特徴とする、請求項８又は９に記載のライン座標位置算出方法。 10. The line coordinate position calculation method according to claim 8, wherein the search line is a single line offset by a predetermined length in the imaging direction with respect to the set line. 11.

前記検査信号はライン毎に相補的な表示パターンを形成する信号であり、
前記判定工程は、
前記実検出ラインの信号強度パターンと前記探索ラインの信号強度パターンとが同じパターンであるときはライン幅が収縮したと判定し、
前記実検出ラインの信号強度パターンと前記探索ラインの信号強度パターンとが相補パターンであるときはライン幅が膨張した判定することを特徴とする、請求項１０に記載のライン座標位置算出方法。 The inspection signal is a signal that forms a complementary display pattern for each line,
The determination step includes
When the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line are the same pattern, it is determined that the line width is contracted,
The line coordinate position calculation method according to claim 10, wherein when the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line are complementary patterns, it is determined that the line width has expanded.

前記探索ラインは、設定ラインに対して撮像方向および撮像方向と逆方向に所定長さだけオフセットした二本のラインであることを特徴とする、請求項８又は９に記載のライン座標位置算出方法。 10. The line coordinate position calculation method according to claim 8, wherein the search lines are two lines that are offset by a predetermined length in the imaging direction and in the direction opposite to the imaging direction with respect to the set line. .

前記判定工程は、
前記実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向と逆方向の前記探索ラインの信号強度パターンとが相補パターンであり、前記実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向の前記探索ラインの信号強度パターンとが同じパターンであるときはライン幅が収縮したと判定し、
前記実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向と逆方向の前記探索ラインの信号強度パターンとが同じパターンであり、前記実検出ラインの信号強度パターンと、撮像方向の前記探索ラインの信号強度パターンとが相補パターンであるときはライン幅が膨張したと判定することを特徴とする、請求項１２に記載のライン座標位置算出方法。 The determination step includes
The signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line in the direction opposite to the imaging direction are complementary patterns, and the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line in the imaging direction Are the same pattern, it is determined that the line width has shrunk,
The signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line in the direction opposite to the imaging direction are the same pattern, and the signal intensity pattern of the actual detection line and the signal intensity pattern of the search line in the imaging direction The line coordinate position calculation method according to claim 12, wherein the line width is determined to be expanded when and are complementary patterns.