JP2012211911A - プローブの位置合せを行なう方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】平坦面と縁部とを形成し第1の結晶面をさらに形成する支持基板を配設するステップと、縁部の表面に第1の露出領域を形成する第1のマスクを支持基板の表面に配設するステップと、特定の腐食剤と、第1の露出領域をエッチングするこの腐食剤により形成される陥凹において第1の側壁と反対側の第2の側壁と縁部から遠隔した端部壁と底壁とを形成する陥凹とを配設するステップとを含む。この方法は、平坦面と、第1の結晶面と同一の第2の結晶面とを形成するプローブ基板を配設することと、特定の腐食剤を使用してプローブ基板からプローブを形成する際に、第1および第2の結晶面が全く同じに配置され、プローブが第1の側壁及び第2の側壁と一致する表面を形成するようにプローブ基板を配置することとをさらに含む。
【選択図】図8
Description
主として一方向に撓曲自在の可撓性カンチレバー部とベース部とをそれぞれ構成する反対位置にある第1および第2の部分を形成する支持体において、カンチレバー部が上記一方向に対し実質的に垂直な外側平坦面を形成し、ベース部が協働する試験機器内に固定されるように構成されているところの支持体と、
各々がベース部の反対側に配置されている、カンチレバー部における少なくとも1本の導電性プローブアームと、を備え、
カンチレバー部は反対位置にある第1および第2の区域を形成し、第2の区域はベース部と接しており、第1の区域は第1および第2の側面を形成し、第1および第2の側面の各々は外側平坦面に対し第1の角度をなしており、第1および第2の側面の間には第1の幅が形成され、第2の区域は第3および第4の側面を形成し、第3および第4の側面の各々は外側平坦面に対し第2の角度をなしており、第3および第4の側面の間には第2の幅が形成されており、
第2の幅は第1の幅と等しく、かつ/または第1の幅より小さくてもよい。
外側平坦面が第1の上面および/または第2の上面によって構成されており、
第1の上面と第1の底面との間に第1の厚みが形成され、
第2の上面と第2の底面との間に第2の厚みが形成され、
第2の厚みが第1の厚みより小さいか第1の厚みと等しいものである。
(a)被検試料を受容および支持するための手段と、
(b)試験信号を発生させるための発電手段と計測信号を検出するための電気計測手段とを備える電気的特性試験手段と、
(c)被検試料の特定箇所における電気的特性を試験するためのプローブにおいて、
1.主として一方向に撓曲自在の可撓性カンチレバー部とベース部とをそれぞれ構成する反対位置にある第1および第2の部分を形成する支持体において、カンチレバー部が前記一方向に対し実質的に垂直な外側平坦面を形成し、ベース部が協働する試験機器内に固定されるように構成されているところの支持体と、
2.各々がベース部の反対側に配置されている、カンチレバー部における少なくとも1本の導電性プローブアームと、を備え、
3.カンチレバー部が反対位置にある第1および第2の区域を形成し、第2の区域がベース部と接しており、第1の区域が第1および第2の側面を形成し、第1および第2の側面の各々は外側平坦面に対し第1の角度をなしており、第1および第2の側面の間には第1の幅が形成され、第2の区域が第3および第4の側面を形成し、第3および第4の側面の各々が外側平坦面に対し第2の角度をなしており、第3および第4の側面の間には第2の幅が形成され、
4.第2の幅が第1の幅と等しくかつ/または第1の幅より小さいところのプローブと、
(d)導電性プローブアームを被検試料の特定箇所と接触させその電気的特性を試験するよう被検試料に対してプローブを移動させる往復動手段とを備えてもよい。
平坦面と縁部とを形成し、第1の結晶面を形成する支持基板を配設するステップと、
縁部の表面に第1の露出領域を形成する第1のマスクを支持基板の表面に配設するステップと、
特定の腐食剤と、第1の露出領域をエッチングする腐食剤により形成され、第1の側壁と反対側の第2の側壁と縁部から遠隔した端部壁と底壁とを形成する陥凹とを配設するステップと、
プローブが第1の側壁および第2の側壁と一致する表面を形成するように、特定の腐食剤を使用して平坦面と、第1の結晶面と同一の第2の結晶面とを形成するプローブ基板を供給するステップと、
第1および第2の結晶面が全く同じに配置されるようにプローブ基板を配置するステップとを含んでもよい。
表面と縁部とを形成し、第1の結晶面を形成する支持基板と、
特定の腐食剤により支持基板縁部における表面に形成され、第1の側壁と反対側の第2の側壁と縁部から遠隔した端部壁と底壁とを形成する陥凹と、
プローブが第1の側壁および第2の側壁と一致する表面を形成するように、表面と第1の結晶面と同一の第2の結晶面とを形成するプローブ基板から特定の腐食剤を使用して形成され、陥凹内に位置決めされたプローブとを備えてもよい。
被検試料を受容および支持するための手段と、
試験信号を発生させるための発電手段と計測信号を検出するための電気計測手段とを備える電気的特性試験手段と、
被検試料の特定箇所における電気的特性を試験するためのプローブにおいて、支持基板に対してプローブを位置合せする装置にプローブが受容され、前記装置が、
・表面と縁部とを形成し、第1の結晶面を形成する支持基板と、
・特定の腐食剤により支持基板縁部における表面に形成され、第1の側壁と反対側の第2の側壁と縁部から遠隔した端部壁と表面から最小限の高さをなす底壁とを形成する陥凹とを備え、
・プローブが第1の側壁および第2の側壁と一致する表面を形成するように、表面と第1の結晶面と同一の第2の結晶面とを形成するプローブ基板から特定の腐食剤を使用して形成され、陥凹内に受容されたプローブと、
プローブ上に配置された1以上の導電性プローブアームを被検試料の特定箇所と接触させその電気的特性を試験するよう被検試料に対してプローブを移動させる往復動手段とを備えてもよい。
i)第1の表面を形成する被検試料と第1の表面上に形成されたある領域とを配設することと、
ii)各々が被検試料上のそれぞれの位置と接触する少なくとも1つの電極を有する第1の複数のプローブアームを備える第1の試験プローブを配設することと、
iii)被検試料上のある位置と接触する少なくとも1つの電極を有する少なくとも1本のプローブアームを備える第2の試験プローブを配設することと、
iv)第1および第2の試験プローブをそれぞれ受容する第1および第2のホルダを有する試験装置において、各々のホルダを3つの次元において位置決めおよび/または再配置する位置決め装置を各々のホルダが備えており、第1試験プローブの電極の各々および第2試験プローブの少なくとも1つの電極に電気的に接続され、第1および第2の試験プローブに対して特定の向きに被検試料を受容および保持する試料ホルダをさらに備える試験装置を配設することと、
v)前記領域と接触するように第1試験プローブのプローブアームの電極を位置決めすることと、
vi)第1試験プローブから遠隔した位置において前記領域と接触するように第2試験プローブの少なくとも1本のプローブアームの少なくとも1つの電極を位置決めすることと、
vii)第1試験プローブの電極のうち少なくとも1つ、または別の様態では第2試験プローブの少なくとも1つの電極から試験信号を伝送することと、
第1および第2試験プローブ間の試験信号の伝送を検出することとを含んでいる。
a)磁界を発生させるための磁界発生器を配設する中間的ステップと、
b)磁界の磁力線が被検試料の前記領域に対して特定の向きをなすように磁界発生器を位置決めする中間的ステップとをさらに含んでもよい。
本発明の第6の形態による方法は、
c)前記領域に対して第1試験プローブを再配置または移動させ、かつ/または前記領域に対して第2試験プローブを再配置または移動させるステップと、
d)ステップvii)および/または中間ステップa)および/またはb)を反復するステップとをさらに含んでもよい。
i)第1の表面を形成する被検試料と第1の表面上に形成されたある領域とを配設することと、
ii)被検試料上のそれぞれの位置と接触する少なくとも1つの電極を各々が有する第1の複数のプローブアームを備える第1の試験プローブを配設することと、
iii)被検試料上のある位置と接触する少なくとも1つの電極を有する少なくとも1本のプローブアームを備える第2の試験プローブを配設することと、
iv)第1および第2の試験プローブをそれぞれ受容する第1および第2のホルダを有する試験装置において、各々のホルダを3つの次元において位置決めおよび/または再配置する位置決め装置を各々のホルダが備えており、第1試験プローブの電極の各々および第2試験プローブの少なくとも1つの電極に電気的に接続され、第1および第2の試験プローブに対して特定の向きに被検試料を受容および保持する試料ホルダをさらに備える試験装置を配設することと、
v)前記領域と接触するように第1試験プローブのプローブアームの電極を位置決めすることと、
vi)第1試験プローブから遠隔した位置において前記領域と接触するように第2試験プローブの少なくとも1本のプローブアームの少なくとも1つの電極を位置決めすることと、
vii)磁界を発生させるための磁界発生器を配設することと、
viii)磁界の磁力線が被検試料の前記領域に対して特定の向きをなすように磁界発生器を位置決めすることと、
ix)第1および/または第2試験プローブにおいて電気信号を検出することとを含んでいる。
a)第1試験プローブの電極のうち少なくとも1つ、または別の様態では第2試験プローブの少なくとも1つの電極から試験信号を伝送するステップと、
b)第1および第2試験プローブ間の試験信号の伝送を検出するステップとをさらに含んでもよい。
c)前記領域に対して第1試験プローブを再配置または移動させ、かつ/または前記領域に対して第2試験プローブを再配置または移動させるステップと、
d)ステップix)および/またはステップa)および/またはb)を反復するステップとをさらに含んでもよい。
第1または第3の特定の電極から試験信号を伝送することと、
第3または第1の電極間の試験信号の伝送をそれぞれ検出することとをさらに含んでもよい。
第1試験プローブのプローブアームが第2プローブアームのうち少なくとも1本のプローブアームと実質的に平行となるように第1および第2の試験プローブを配置すること、または
第1試験プローブのプローブアームが第2プローブアームのうち少なくとも1本のプローブアームと実質的に直交する向きとなるように第1および第2の試験プローブを配置することをさらに含んでもよい。
少なくとも1つの付加的試験プローブを受容および保持する少なくとも1つの付加的ホルダを試験装置に配設することを含んでもよい。
第1プローブのプローブアームが第2試験プローブの少なくとも1本のプローブアームに対して第1の角度をなし、かつ第1プローブのプローブアームが少なくとも1つの付加的試験プローブの1本のプローブアームに対して第2の角度をなしている構成とされた第1、第2および少なくとも1個の付加的試験プローブを配置することをさらに含んでもよい。
ハウジングと、
ハウジング内に取り付けられた第1および第2の試験プローブをそれぞれ受容するための第1および第2のホルダにおいて、各々のホルダを3つの次元において位置決めおよび/または再配置する位置決め装置を各々のホルダが備えているところの第1および第2のホルダと、
被検試料上のそれぞれの位置と接触する少なくとも1つの電極を各々が有する第1の複数のプローブアームを備える第1の試験プローブと、
被検試料上のある位置と接触する少なくとも1つの電極を有する少なくとも1本のプローブアームを備える第2の試験プローブとを備え、
試験装置は第1試験プローブの電極の各々および第2試験プローブの少なくとも1つの電極に電気的に接続され、第1および第2の試験プローブに対して特定の向きに被検試料を受容および保持する試料ホルダを試験装置がさらに備え、ある領域が形成された第1の表面を被検試料が形成しており、
前記領域と接触する第1試験プローブの電極のうち少なくとも1つ、または別の様態では前記領域と接触する第2試験プローブの少なくとも1つの電極を介して試験信号を伝送する送信装置に電気的に接続された、試験信号を発生させるための信号発生器と、
第1および第2試験プローブ間の試験信号の伝送を検出する検出装置とを備えている。
第1試験プローブのプローブアームが第2プローブアームの少なくとも1本のプローブアームと実質的に平行となるように第1および第2の試験プローブを配置するか、または
第1試験プローブのプローブアームが第2プローブアームの少なくとも1本のプローブアームと実質的に直交する向きとなるように第1および第2の試験プローブを配置してもよい。
被検試料上のある位置と接触する少なくとも1つの電極を有する少なくとも1本のプローブアームを備える少なくとも1つの付加的試験プローブと、
少なくとも1つの付加的試験プローブを受容および保持する試験装置のハウジング内の少なくとも1つの付加的ホルダとをさらに備えると有利である。
第1プローブのプローブアームが第2試験プローブの少なくとも1本のプローブアームに対して第1の角度をなし、かつ第1プローブのプローブアームが少なくとも1つの付加的試験プローブの1本のプローブアームに対して第2の角度をなしている構成とされた第1、第2および少なくとも1つの付加的試験プローブをさらに備えてもよい。
a)ウエハの検査および厚み調整
b)900〜950℃でのウエハの湿式熱酸化
c)酸化ケイ素パターンの正面リソグラフィ
d)酸化ケイ素エッチング(異方性反応性イオンビームエッチング(RIE))
e)トレンチ切欠きパターンの正面リソグラフィ
f)シリコントレンチエッチング(ディープRIE)
g)低応力窒化ケイ素蒸着(LPCVD)
h)背面リソグラフィ(背面位置合せ)
i)背面窒化ケイ素エッチング(異方性RIE)
j)背面酸化ケイ素を通したHFエッチング
k)湿式シリコンエッチング(KOH)
l)正面窒化ケイ素エッチング(異方性RIE)
m)正面シリコンエッチング(等方性RIE)
n)金属蒸着(e―ビーム、静的モード)
a)低応力窒化ケイ素蒸着(LPCVD)
b)正面リソグラフィ
c)正面窒化ケイ素エッチング(異方性エッチング)
d)背面リソグラフィ(背面位置合せ)
e)背面窒化ケイ素エッチング(異方性RIE)
f)正面および背面酸化ケイ素を通したHFエッチング
g)湿式シリコンエッチング(KOH)
h)Si02エッチング(bHF)
i)正面窒化ケイ素エッチング(異方性RIE)
j)モノカンチレバー狭細化(ディープRIE)
k)電極形成、例えば金属蒸着、パターニング
1.明確な厚みを有する両面研磨シリコン{100}ウエハを1μm厚の二酸化ケイ素層で被覆する。これは湿式熱成長によって実施される。
2.正面側を選択し、そこに1:1フォトリソグラフィによりプローブパターンをフォトレジスト層に転写する。このパターンは<110>方向に対し1度の数分の1の範囲内で高精度に位置合せされる。
3.異方性反応性イオンエッチングによりフォトレジストパターンを正面側の二酸化ケイ素に転写する。その後、フォトレジストを取り除く。
4.低圧化学蒸着によりウエハを低応力窒化ケイ素の薄い層で被覆する。
5.ウエハの背面側において、1:1フォトリソグラフィにより背面側パターンをフォトレジスト層に転写する。この背面側パターンをマスクアライナで正面側パターンと注意深く位置合せする。連続的なKOHエッチングは垂直面、すなわち{111}面に対して35.2°の角度をなす側壁を形成するので個々のプローブの背面側輪郭および正面側輪郭の大きさが異なることを考慮すると、背面側パターンがプローブチップの輪郭を形成するものである。
6.背面側パターンを異方性反応性イオンエッチングにより窒化ケイ素層に転写する。窒化ケイ素層の孔直下にある二酸化ケイ素層は緩衝フッ化水素酸内でエッチングされ除かれる。
7.ウエハを高温の濃縮されたKOH溶液内で注意深く絶えず攪拌しながらエッチングする。KOHによりウエハを完全に貫通するエッチングが行なわれることにより、ウエハ上に個々のプローブチップが形成される。シリコンにおける異方性の高いエッチング速度のために、チップは特徴的な「金の延棒」形状をなす。
8.ウエハ正面側の窒化ケイ素を反応性イオンエッチングにより除去する。その直後、正面側シリコンを等方性反応性イオンエッチングにより数μmアンダーエッチングする。これにより正面側パターンがシリコンベースからある程度隔離される。
9.物理的蒸着技術によりウエハの正面側に約100nmの金層を堆積する。代表的にはe―ビーム蒸着が選択される。
A.明確な厚みを有する片面研磨シリコン{100}ウエハを薄い低応力窒化ケイ素層(代表的には100−125nm)で被覆する。これは低圧化学蒸着により実施される。
B.ウエハの正面側を陽画のフォトレジストで被覆する。正面側において、1:1フォトリソグラフィを用いて基板パターンをフォトレジスト層に転写する。このパターンは<110>方向に対し1度の数分の1の範囲内で高精度に位置合せされる。このパターンレイアウトは図6に概略が示されている。図6のレイアウトは2組の基板104、106を形成するものである。白色の細い実線92内のレイアウト要素は、利用可能なウエハ112領域に対応するフォトリソグラフィマスク上の領域にわたって矩形の配列として反復される。これは図7に示されている。フォトレジストは黒色部94、95、100、102、108、109、110、111およびチェス盤模様の矩形98で示される。フォトレジストの現像後、すべての白色区域はフォトレジストで被覆されているであろう。
C.異方性反応性イオンエッチングによりフォトレジストパターンを正面側の窒化ケイ素に転写する。その後、フォトレジストを取り除く。この段階で、図6の領域94、95、100、102、108、109、110、111のすべておよび矩形98に対応する窒化ケイ素層の矩形孔が得られている。
D.ウエハを80℃の濃縮されたKOH溶液内で十分に絶えず攪拌しながらエッチングする。KOHは窒化ケイ素で被覆されていないウエハ正面側のそれらの部分のみを攻撃することになる。プローブレセプタクルを形成するそれらのパターン要素によってKOHによるウエハを完全に貫通するエッチングが行なわれると、プロセスが停止する。
E.すすぎおよび乾燥の後、ウエハは図6(細部)および図7(図6の細部の矩形配列)により形成される溝構造を有している。ここで、白色領域はウエハの正面側を表わしている。図6の矩形98は、KOHによるウエハを完全に貫通するエッチングが行なわれたある区域に対応している。この区域98は2つの準独立プローブ基板104および106のレセプタクルの底を形成する。白色の点線96は2つの隣り合う{111}面が接する線分を表わしている。図6を参照すると、それらは常に溝の底において垂直または水平の線に沿って接するものであり、45°の角度のついた線は溝の側縁部を表している。4つの正方形のエッチピット108、109、110および111は位置合せマークとして用いられる。また、垂直の矩形は側縁部(45°線)を有していない。これは、これらの矩形がセルのレイアウトを通して連続しているためである。このようにしてそれらの矩形は垂直に隣り合うセルから同様の矩形と「溶け合う」ことになる。結果として得られる垂直な矩形は、レイアウトの垂直な端部を形成する2つのそれぞれのセルが終端となるレイアウトを通して延びることになる。
F.このウエハは貫通する垂直溝94に沿って分割することによって、容易に基板ワンドに分割される。これらのワンドは、水平溝100および/または102に沿って注意深く分割することによって個々の基板に分けられる。この全体的な分割方法は、溝のパターンを設けたチョコレート板を規則的に形成された断片に分割する方法と類似のものである。別の方法として、ウエハはダイシングとして一般的に既知の技法により細分してもよい。
プローブ160がプローブ170に対して制御された方式で移動するにつれて、計測値の変動が記録され解析される。この解析は、試験機器または、試験機器に装着ないしは接続された計算機器のいずれかにより行なわれる。
プローブ名 ばね定数/(N/m)
プローブ200 0.81
プローブ210 0.50
プローブ222 0.40
プローブ234 0.22
プローブ252 0.17
プローブ264 0.33
プローブ280 0.28
プローブ290 0.06
上方Z/μm 下方Z/μm 角度/度 力/μN
プローブ200 54.58 53.63 1.360902694 5
プローブ200 48.44 46.71 2.478815092 10
プローブ210 51.31 49.92 1.991429077 5
プローブ210 42.40 39.75 3.798622703 10
プローブ222 47.72 45.97 2.507490091 5
プローブ222 36.03 32.78 4.660405799 10
プローブ234 40.21 37.61 3.726848698 5
プローブ234 27.43 23.25 5.998312245 10
プローブ252 34.79 31.47 4.761011744 5
プローブ252 22.42 17.56 6.978577604 10
プローブ264 47.43 45.36 2.966380202 5
プローブ264 35.65 32.00 5.235498446 10
プローブ280 45.21 42.88 3.339366856 5
プローブ280 32.62 28.59 5.782320515 10
プローブ290 19.55 −6.71 19.14690626 5
プローブ290 7.03 −21.09 20.55674872 10
1.被検試料の特定箇所における電気的特性を試験するためのプローブであって、
一方向に撓曲自在の可撓性カンチレバー部とベース部とをそれぞれ構成する反対位置にある第1および第2の部分を形成する支持体であって、カンチレバー部が前記一方向に対し実質的に垂直な外側平坦面を形成し、ベース部が協働する試験機器内に固定されるように構成されているところの支持体と、
各々がベース部の反対側に配置されている、カンチレバー部における少なくとも1つの導電性プローブアームと、を備え、
カンチレバー部が反対位置にある第1および第2の区域を形成し、第2の区域はベース部と接しており、第1の区域は第1および第2の側面を形成し、第1および第2の側面の各々は外側平坦面に対し第1の角度をなしており、第1および第2の側面の間には第1の幅が形成され、第2の区域は第3および第4の側面を形成し、第3および第4の側面の各々は外側平坦面に対し第2の角度をなしており、第3および第4の側面の間には第2の幅が形成され、
第2の幅が第1の幅と等しくかつ/または第1の幅より小さいところのプローブ。
2.第1および第2の側面が実質的に平行であり、かつ/または第3および第4の側面が実質的に平行であることを特徴とする特徴点1によるプローブ。
3A.第1の角度が60ないし90度であり、かつ/または第2の角度がおおむね60ないし90度であり、第1の角度が第2の角度と同じかまたは異なることを特徴とする特徴点1または2によるプローブ。
3B.第1の角度が60ないし90度、好ましくは90度未満であり、かつ/または第2の角度がおおむね60ないし90度、好ましくは90度未満であり、第1の角度が第2の角度と同じかまたは異なることを特徴とする特徴点1または2によるプローブ。
4.第1の区域がさらに第1の上面と、反対側の平行な第1の底面とを形成しており、第2の区域がさらに第2の上面と、反対側の平行な第2の底面とを形成しており、ベース部が第3の上面を形成し、第1、第2および第3の上面が実質的に平行であり、
外側平坦面が第1の上面および/または第2の上面によって構成されており、
第1の上面と第1の底面との間に第1の厚みが形成され、
第2の上面と第2の底面との間に第2の厚みが形成され、
第2の厚みが第1の厚みより小さいか第1の厚みと等しいことを特徴とする、特徴点1から3Aまたは1から3Bのいずれかによるプローブ。
5.第2の厚みが第2の区域全体および/または第2の区域の特定の部分にわたって形成されていることを特徴とする、特徴点4によるプローブ。
6.第1の上面と第2の上面とが実質的に共面であり、かつ/または第1の上面と第3の上面とが実質的に共面であり、かつ/または第2の上面と第3の上面とが実質的に共面であり、かつ/または第1、第2または第3の上面のいずれも共面でないことを特徴とする、特徴点4または5によるプローブ。
7.第1および第2の底面が実質的に共面であることを特徴とする、特徴点4または5によるプローブ。
8.第2の区域が、第2の上面から第2の底面まで延びる少なくとも1つの孔を備えることを特徴とする、前記特徴点のいずれかによるプローブ。
9.第2の区域が、第2の厚みより小さい量だけ延びる少なくとも1つの刻み目を備えることを特徴とする、前記特徴点のいずれかによるプローブ。
10.孔または刻み目の少なくとも1つが実質的に円形、実質的に楕円形、実質的に正方形、実質的に長方形、実質的に三角形、切断した三角形、任意の多角形またはそれらの組合せの形状を有する開口を形成していることを特徴とする、特徴点8または9のいずれかによるプローブ。
11.第2の区域が、第2の上面内および/または第2の底面内に少なくとも1つの溝を有することを特徴とする、前記特徴点のいずれかによるプローブ。
12.少なくとも1つの溝のうち少なくとも1つが第3の側面から第4の側面まで延びていることを特徴とする特徴点11によるプローブ。
13.少なくとも1つの溝が第2の幅より小さい量だけ延びていることを特徴とする特徴点11によるプローブ。
14.溝のうち少なくとも1つが、丸い断面、正方形断面、矩形断面、三角形断面、切断した三角形断面、任意の多角形断面またはそれらの組合せを形成していることを特徴とする、特徴点11から13のいずれかによるプローブ。
15.第3および/または第4の側面が、第2の上面から第2の底面まで、または第2の底面から第2の上面まで少なくとも部分的に延びるトレンチを有することを特徴とする、前記特徴点のいずれかによるプローブ。
16.トレンチが、丸い断面、正方形断面、矩形断面、三角形断面、切断した三角形断面またはそれらの組合せを形成していることを特徴とする、特徴点15によるプローブ。
17.プローブが実質的に金属材料、合金、半導体材料、結晶質材料または非晶質材料、またはそれらの組合せから作製され、好ましくはプローブがSiO2、Si3N4、Siから作製されるかSOI素子であるか、または前記材料のいずれかを含む積層構造であることを特徴とする、前記特徴点のいずれかによるプローブ。
18.プローブが、複数の導電性プローブアームの各々に対する電気的接続を確立するための導電経路をさらに備えることを特徴とする、前記特徴点のいずれかによるプローブ。
19.導電経路がベース部からカンチレバー部まで延びていることを特徴とする、特徴点17によるプローブ。
20.複数の導電性プローブアームが外側平坦面に位置していることを特徴とする、前記特徴点のいずれかによるプローブ。
21.第1の幅が50ないし800ミクロン、例えば75ないし750ミクロン、75ないし500ミクロン、80ないし350ミクロン、85ないし250ミクロン、90ないし150ミクロン、60ないし90ミクロン、90ないし110ミクロン、110ないし190ミクロン、190ないし240ミクロン、240ないし290ミクロン、290ないし340ミクロン、340ないし440ミクロン、440ないし550ミクロン、550ないし650ミクロン、650ないし800ミクロン、好ましくは100ミクロンであり、かつ/または
第2の幅が40ないし300ミクロン、例えば50ないし250、75ないし200ミクロン、100ないし175ミクロン、120ないし150、40ないし80ミクロン、80ないし120ミクロン、120ないし160ミクロン、160ないし200ミクロン、200ないし230ミクロン、230ないし280ミクロン、280ないし300ミクロンであることを特徴とする、前記特徴点のいずれかによるプローブ。
22.第1の幅が0.1cmないし6cm、例えば1cmないし5.5cm、1.5cmないし5cm、2cmないし4.5cm、2.5cmないし4cm、3cmないし3.5cm、0.1cmないし0.5cm、0.5cmないし1cm、1cmないし1.5cm、1.5ないし2cm、2cmないし2.5cm、2.5cmないし3cm、3cmないし3.5cm、3.5cmないし4cm、4cmないし4.5cm、4.5ないし5cm、5cmないし5.5cm、5.5cmないし6cmであり、
第2の幅が0.1cmないし6cm、例えば1cmないし5.5cm、1.5cmないし5cm、2cmないし4.5cm、2.5cmないし4cm、3cmないし3.5cm、0.1cmないし0.5cm、0.5cmないし1cm、1cmないし1.5cm、1.5ないし2cm、2cmないし2.5cm、2.5cmないし3cm、3cmないし3.5cm、3.5cmないし4cm、4cmないし4.5cm、4.5ないし5cm、5cmないし5.5cm、5.5cmないし6cmであることを特徴とする、特徴点1から20のいずれかによるプローブ。
23.カンチレバー部が遠位端部に丸い縁部を有していることを特徴とする、前記特徴点のいずれかによるプローブ。
24.被検試料の特定箇所における電気的特性を試験するための試験装置であって、
(a)被検試料を受容および支持するための手段と、
(b)試験信号を発生させるための発電手段と計測信号を検出するための電気計測手段とを備える電気的特性試験手段と、
(c)被検試料の特定箇所における電気的特性を試験するためのプローブにおいて、
1.一方向に撓曲自在の可撓性カンチレバー部とベース部とをそれぞれ構成する反対位置にある第1および第2の部分を形成する支持体において、カンチレバー部が前記一方向に対し実質的に垂直な外側平坦面を形成し、ベース部が協働する試験機器内に固定されるように構成されているところの支持体と、
2.各々の導電性プローブアームがベース部の反対側においてカンチレバー部から自由に延び、各々の導電性プローブアームが撓曲自在に運動できるようになっている、カンチレバー部における複数の導電性プローブアームとを備え、
3.カンチレバー部が反対位置にある第1および第2の区域を形成し、第2の区域がベース部と接しており、第1の区域が第1および第2の側面を形成し、第1および第2の側面の各々は外側平坦面に対し第1の角度をなしており、第1および第2の側面の間には第1の幅が形成され、第2の区域が第3および第4の側面を形成し、第3および第4の側面の各々が外側平坦面に対し第2の角度をなしており、第3および第4の側面の間には第2の幅が形成され、
4.第2の幅が第1の幅と等しくかつ/または第1の幅より小さいところのプローブと、
(d)導電性プローブアームを被検試料の特定箇所と接触させ、その電気的特性を試験するよう被検試料に対してプローブを移動させる往復動手段とを備える試験装置。
25.電気的特性試験手段がさらに、被検試料の電気的特性を探測するための手段を備えることを特徴とする、特徴点24による試験装置。
26.往復動手段がさらに、プローブのベース部を協働して受容するように構成された保持手段を備えることを特徴とする、特徴点24から25による試験装置。
27.被検試料の一端から他端までの間で保持手段を位置決めし被検試料に対する保持手段の位置を記録する手段をさらに備える、特徴点24から26による試験装置。
28.位置決め手段が、すべての空間的方向、すなわち被検試料と共面の方向および被検試料に垂直な方向における操縦性を有することを特徴とする、特徴点24から27による試験装置。
29.位置決め手段が、例えば探測のための手段に角度位置を与えるため、保持手段を角運動させる手段をさらに備えることを特徴とする、特徴点24から28による試験装置。
30.位置決め手段が、例えば探測のための手段に角度位置を与えるため、被検試料の表面に平行な軸に沿って保持手段を角運動させる手段をさらに備えることを特徴とする、特徴点24から29による試験装置。
31.位置決め手段が、例えば探測のための手段に角度位置を与えるため、被検試料の表面に垂直な軸に沿って保持手段を角運動させる手段をさらに備えることを特徴とする、特徴点24から30による試験装置。
32.位置決め手段が、被検試料と探測のための手段との間の接触を検知するための手段をさらに備えることを特徴とする、特徴点24から31による試験装置。
33.プローブが、特徴点2から23のいずれかの特徴のいずれかをさらに備えることを特徴とする、特徴点24から32による試験装置。
34.支持基板に対してプローブを位置合せする方法であって、
平坦面と縁部とを形成し、第1の結晶面をさらに形成する支持基板を配設するステップと、
縁部の表面に第1の露出領域を形成する第1のマスクを支持基板の表面に配設するステップと、
特定の腐食剤と、第1の露出領域をエッチングする腐食剤により形成され、第1の側壁と反対側の第2の側壁と、縁部から遠隔した端部壁と、底壁とを形成する陥凹とを配設するステップと、
平坦面と、第1の結晶面と同一の第2の結晶面とを形成するプローブ基板を配設するステップと、
特定の腐食剤を使用してプローブ基板からプローブを形成する際に、第1および第2の結晶面が全く同じに配置され、プローブが第1の側壁および第2の側壁と一致する表面を形成するようにプローブ基板を配置するステップとを含む方法。
35.特定の腐食剤が特定の濃度で供給されることを特徴とする、特徴点34による方法。
36.エッチングが行なわれる特定の温度を与えることをさらに含む、特徴点34または35のいずれかによる方法。
37.エッチングが行なわれる特定の圧力を与えることをさらに含む、特徴点34から36のいずれかによる方法。
38.特定の腐食剤および/または温度および/または特定の圧力が特定の期間与えられることを特徴とする、特徴点34から37のいずれかによる方法。
39.支持基板および/またはプローブ基板がSi、GaAs、または他の半導体物質であることを特徴とする、特徴点34から38のいずれかによる方法。
40.第2の露出領域を形成する第2のマスクを底壁に配設し、特定の腐食剤を用いて第2の露出領域をエッチングすることにより底面内に突出領域を形成することをさらに含む、特徴点34から39のいずれかによる方法。
41.突出領域が実質的に正方形、矩形、三角形、角すい台、多角形、半円形、部分的な円形、半楕円形、部分的な楕円形、またはそれらの組合せの形状を有する断面を形成することを特徴とする、特徴点40による方法。
42.第1の側壁および/または第2の側壁および/または端部壁内に少なくとも1つの導電領域を配設することをさらに含む、特徴点34から41のいずれかによる方法。
43.少なくとも1つの導電領域を平坦面上まで延設することをさらに含む、特徴点42による方法。
44.プローブを陥凹と位置合せすることをさらに含む、特徴点34から43のいずれかによる方法。
45.支持基板に対してプローブを位置合せする装置であって、
平坦面と縁部とを形成し、第1の結晶面を形成する支持基板と、
特定の腐食剤により支持基板縁部表面に形成され、第1の側壁と反対側の第2の側壁と縁部から遠隔した端部壁と、底壁とを形成する陥凹と、
プローブが第1の側壁および第2の側壁と一致する表面を形成するように、表面と第1の結晶面と同一の第2の結晶面とを形成するプローブ基板から特定の腐食剤を使用して形成され、陥凹内に受容されたプローブと、を備える装置。
46.プローブが、
一方向に撓曲自在の可撓性カンチレバー部とベース部とをそれぞれ構成する反対位置にある第1および第2の部分を形成する支持体であって、カンチレバー部が前記一方向に対し実質的に垂直な外側平坦面を形成し、ベース部が陥凹内に受容されるように構成されているところの支持体と、
各々がベース部の反対側に配置されている、カンチレバー部における少なくとも1本の導電性プローブアームと、を備え、
カンチレバー部が反対位置にある第1および第2の区域を形成し、第2の区域はベース部と接しており、第1の区域は第1および第2の側面を形成し、第1および第2の側面の各々は外側平坦面に対し第1の角度をなしており、第1および第2の側面の間には第1の幅が形成され、第2の区域は第3および第4の側面を形成し、第3および第4の側面の各々は外側平坦面に対し第2の角度をなしており、第3および第4の側面の間には第2の幅が形成され、
第2の幅が第1の幅と等しくかつ/または第1の幅より小さいことを特徴とする、特徴点45による装置。
47.底壁が突出部を備えており、プローブが協働する溝を備えていることを特徴とする、特徴点45または46のいずれかによる装置。
48.突出部が実質的に正方形、矩形、三角形、角すい台、多角形、半円形、部分的な円形、半楕円形、部分的な楕円形の断面、またはそれらの組合せを形成することを特徴とする、特徴点47による装置。
49.突出部が第1の側壁から第2の側壁まで延びていることを特徴とする、特徴点47または48のいずれかによる装置。
50.突出部が第1の側壁から端部壁まで延び、かつ/または突出部が第2の側壁から端部壁まで延びていることを特徴とする、特徴点47または48のいずれかによる装置。
51.支持基板が少なくとも1つの基板位置合せマークをさらに備えており、プローブが少なくとも1つの対応するプローブ位置合せマークを備えることを特徴とする、特徴点45から50のいずれかによる装置。
52.基板位置合せマークおよび/またはプローブ位置合せマークが、エッチングされた位置合せ陥凹および/または位置合せ突出部として形成されることを特徴とする、特徴点51による装置。
53.支持基板が少なくとも2つの陥凹および/または少なくとも2つのプローブを備えることを特徴とする、特徴点45から52のいずれかによる装置。
54.被検試料の特定箇所における電気的特性を試験するための試験装置であって、
(b)被検試料を受容および支持するための手段と、
(c)試験信号を発生させるための発電手段と計測信号を検出するための電気計測手段とを備える電気的特性試験手段と、
被検試料の特定箇所における電気的特性を試験するためのプローブにおいて、支持基板に対してプローブを位置合せする装置にプローブが受容され、前記装置が、
表面と縁部とを形成し、第1の結晶面を形成する支持基板と、
特定の腐食剤により支持基板縁部における表面に形成され、第1の側壁と反対側の第2の側壁と縁部から遠隔した端部壁と表面から最小限の高さをなす底壁とを形成する陥凹とを備え、
プローブが第1の側壁および第2の側壁と一致する表面を形成するように、表面と第1の結晶面と同一の第2の結晶面とを形成するプローブ基板から特定の腐食剤を使用して形成され、陥凹内に受容されたプローブと、
(d)プローブ上に配置された1以上の導電性プローブアームを被検試料の特定箇所と接触させ、その電気的特性を試験するよう被検試料に対してプローブを移動させる往復動手段とを備える試験装置。
55.電気的特性試験手段がさらに、被検試料の電気的特性を探測するための手段を備えることを特徴とする、特徴点54による試験装置。
56.被検試料の一端から他端までの間で保持手段を位置決めし、被検試料に対する保持手段の位置を記録する手段をさらに備える、特徴点54または55による試験装置。
57.位置決め手段が、すべての空間的方向、すなわち被検試料と共面の方向および被検試料に垂直な方向における操縦性を有し、かつ/または例えば探測のための手段に角度位置を与えるため、保持手段を角運動させる手段を備えることを特徴とする、特徴点54から56のいずれかによる試験装置。
58.位置決め手段が、例えば探測のための手段に角度位置を与えるため、被検試料の表面に平行な軸に沿って保持手段を角運動させる手段をさらに備えることを特徴とする、特徴点54から57のいずれかによる試験装置。
59.位置決め手段が、例えば探測のための手段に角度位置を与えるため、被検試料の表面に垂直な軸に沿って保持手段を角運動させる手段をさらに備えることを特徴とする、特徴点54から58のいずれかによる試験装置。
60.位置決め手段が、被検試料と探測のための手段との間の接触を検知するための手段をさらに備えることを特徴とする、特徴点54から59のいずれかによる試験装置。
61.プローブが、特徴点35から53のいずれかの特徴のいずれかをさらに備えることを特徴とする、特徴点54から60のいずれかによる試験装置。
62.電気的特性を試験するための方法であって、
i)第1の表面を形成する被検試料と第1の表面上に形成されたある領域とを配設することと、
ii)各々が被検試料上のそれぞれの位置と接触する少なくとも1つの電極を有する第1の複数のプローブアームを備える第1の試験プローブを配設することと、
iii)被検試料上のある位置と接触する少なくとも1つの電極を有する少なくとも1本のプローブアームを備える第2の試験プローブを配設することと、
iv)第1および第2の試験プローブをそれぞれ受容する第1および第2のホルダを有する試験装置において、各々のホルダを3つの次元において位置決めおよび/または再配置する位置決め装置を各々のホルダが備えており、第1試験プローブの電極の各々および第2試験プローブの少なくとも1つの電極に電気的に接続され、第1および第2の試験プローブに対して特定の向きに被検試料を受容および保持する試料ホルダをさらに備える試験装置を配設することと、
v)前記領域と接触するように第1試験プローブのプローブアームの電極を位置決めすることと、
vi)第1試験プローブから遠隔した位置において前記領域と接触するように第2試験プローブの少なくとも1本のプローブアームの少なくとも1つの電極を位置決めすることと、
vii)第1試験プローブの電極のうち少なくとも1つ、または別の様態では第2試験プローブの少なくとも1つの電極から試験信号を伝送することと、
viii)第1および第2試験プローブ間の試験信号の伝送を検出することとを含む方法。
63.特徴点62による方法であって、ステップvi)の後に、
a)磁界を発生させるための磁界発生器を配設することと、
b)磁界の磁力線が被検試料の前記領域に対して特定の向きをなすように磁界発生器を位置決めすることとの中間ステップをさらに含む方法。
64.特徴点62または63のいずれかによる方法であって、
c)前記領域に対して第1試験プローブを再配置または移動させ、かつ/または前記領域に対して第2試験プローブを再配置または移動させるステップと、
d)ステップvii)および/または中間ステップa)および/またはb)を反復するステップとをさらに含む方法。
65.電気的特性を試験するための方法であって、
i)第1の表面を形成する被検試料と第1の表面上に形成されたある領域とを配設することと、
ii)各々が被検試料上のそれぞれの位置と接触する少なくとも1つの電極を有する第1の複数のプローブアームを備える第1の試験プローブを配設することと、
iii)被検試料上のある位置と接触する少なくとも1つの電極を有する少なくとも1本のプローブアームを備える第2の試験プローブを配設することと、
iv)第1および第2の試験プローブをそれぞれ受容する第1および第2のホルダを有する試験装置において、各々のホルダを3つの次元において位置決めおよび/または再配置する位置決め装置を各々のホルダが備えており、第1試験プローブの電極の各々および第2試験プローブの少なくとも1つの電極に電気的に接続され、第1および第2の試験プローブに対して特定の向きに被検試料を受容および保持する試料ホルダをさらに備える試験装置を配設することと、
v)前記領域と接触するように第1試験プローブのプローブアームの電極を位置決めすることと、
vi)第1試験プローブから遠隔した位置において前記領域と接触するように第2試験プローブの少なくとも1本のプローブアームの少なくとも1つの電極を位置決めすることと、
vii)磁界を発生させるための磁界発生器を配設することと、
viii)磁界の磁力線が被検試料の前記領域に対して特定の向きをなすように磁界発生器を位置決めすることと、
ix)第1および/または第2試験プローブにおいて電気信号を検出することとを含む方法。
66.特徴点64による方法であって、
a)第1試験プローブの電極のうち少なくとも1つ、または別の様態では第2試験プローブの少なくとも1つの電極から試験信号を伝送するステップと、
b)第1および第2試験プローブ間の試験信号の伝送を検出するステップとをさらに含む方法。
67.特徴点65または66のいずれかによる方法であって、
c)前記領域に対して第1試験プローブを再配置または移動させ、かつ/または前記領域に対して第2試験プローブを再配置または移動させるステップと、
d)ステップix)および/またはステップa)および/またはb)を反復するステップとをさらに含む方法。
68.各々が少なくとも1つの電極を有する複数のプローブアームを第2の試験プローブが備えることを特徴とする、特徴点62から67のいずれかによる方法。
69.位置決め装置が圧電アクチュエータにより構成されることを特徴とする、特徴点67から68のいずれかによる方法。
70.多数の電極パッドが被検試料の表面上に形成されることを特徴とし、第1の特定の電極を第2の特定の電極パッドと接触させることと、第3の特定の電極を第4の特定の電極パッドと接触させることと、
第1または第3の特定の電極から試験信号を伝送することと、
第3または第1の電極間の試験信号の伝送をそれぞれ検出することとをさらに含む、特徴点62から69のいずれかによる方法。
71.第1試験プローブのプローブアームが実質的に平行であり、第2試験プローブの少なくとも1本のプローブアームが縦方向の長さを画定することを特徴とする、特徴点62から70のいずれかによる方法。
72.第1試験プローブのプローブアームが第2プローブアームの少なくとも1本のプローブアームと実質的に平行となるように第1および第2の試験プローブを配置することをさらに含む、特徴点71による方法。
73.第1試験プローブのプローブアームが第2プローブアームの少なくとも1本のプローブアームと実質的に直交する向きとなるように第1および第2の試験プローブを配置することをさらに含む、特徴点71による方法。
74.被検試料上のある位置と接触する少なくとも1つの電極を有する少なくとも1本のプローブアームを備える少なくとも1つの付加的試験プローブを配設することと、
少なくとも1つの付加的試験プローブを受容および保持する少なくとも1つの付加的ホルダを試験装置に配設することとをさらに含む、特徴点62から73のいずれかによる方法。
75.少なくとも1つの付加的試験プローブの少なくとも1本のプローブアームが縦方向の長さを画定することを特徴とし、
第1、第2および少なくとも1つの付加的試験プローブを、第1プローブのプローブアームが第2試験プローブの少なくとも1本のプローブアームに対して第1の角度をなし、かつ第1プローブのプローブアームが少なくとも1つの付加的試験プローブの1本のプローブアームに対して第2の角度をなしている構成とすることをさらに含む、特徴点74による方法。
76.電気的特性を試験するための装置であって、
ハウジングと、
ハウジング内に取り付けられた第1および第2の試験プローブをそれぞれ受容するための第1および第2のホルダにおいて、各々のホルダを3つの次元において位置決めおよび/または再配置する位置決め装置を各々のホルダが備えているところの第1および第2のホルダと、
被検試料上のそれぞれの位置と接触する少なくとも1つの電極を各々が有する第1の複数のプローブアームを備える第1の試験プローブと、
被検試料上のある位置と接触する少なくとも1つの電極を有する少なくとも1本のプローブアームを備える第2の試験プローブとを備え、
試験装置が第1試験プローブの電極の各々および第2試験プローブの少なくとも1つの電極に電気的に接続され、第1および第2の試験プローブに対して特定の向きに被検試料を受容および保持する試料ホルダを試験装置がさらに備え、ある領域が形成された第1の表面を被検試料が形成しており、
前記領域と接触する第1試験プローブの電極のうち少なくとも1つ、または別の様態では前記領域と接触する第2試験プローブの少なくとも1つの電極を介して試験信号を伝送する送信装置に電気的に接続された、試験信号を発生させるための信号発生器と、
第1および第2試験プローブ間の試験信号の伝送を検出する検出装置とを備える装置。
77.位置決め装置が圧電アクチュエータにより構成されることを特徴とする、特徴点76による装置。
78.第1試験プローブのプローブアームが実質的に平行であり、第2試験プローブの少なくとも1本のプローブアームが縦方向の長さを画定するものであり、
第1試験プローブのプローブアームが第2プローブアームの少なくとも1本のプローブアームと実質的に平行となるように第1および第2の試験プローブが配置されるか、または
第1試験プローブのプローブアームが第2プローブアームの少なくとも1本のプローブアームと実質的に直交する向きとなるように第1および第2の試験プローブが配置されることを特徴とする、特徴点76から77のいずれかによる装置。
79.被検試料上のある位置と接触する少なくとも1つの電極を有する少なくとも1本のプローブアームを備える少なくとも1つの付加的試験プローブと、
少なくとも1つの付加的試験プローブを受容および保持する試験装置のハウジング内の少なくとも1つの付加的ホルダとをさらに備える、特徴点76から78のいずれかによる装置。
80.少なくとも1つの付加的試験プローブの少なくとも1本のプローブアームが縦方向の長さを画定することを特徴とし、
第1プローブのプローブアームが第2試験プローブの少なくとも1本のプローブアームに対して第1の角度をなし、かつ第1プローブのプローブアームが少なくとも1つの付加的試験プローブの1本のプローブアームに対して第2の角度をなしている構成とされた第1、第2および少なくとも1つの付加的試験プローブをさらに備える、特徴点79による装置。
Claims (28)
- 支持基板に対してプローブを位置合せする方法であって、
平坦な表面と縁部とを形成し、第1の結晶面をさらに形成する前記支持基板を配設するステップと、
前記縁部の前記表面に第1の露出領域を形成する第1のマスクを前記支持基板の前記表面に配設するステップと、
特定の腐食剤と、前記第1の露出領域をエッチングする前記腐食剤により形成され、第1の側壁と反対側の第2の側壁と前記縁部から遠隔した端部壁と底壁とを形成する陥凹とを配設するステップと、
平坦表面と、前記第1の結晶面と同一の第2の結晶面とを形成するプローブ基板を配設するステップと、
前記特定の腐食剤を使用して前記プローブ基板から前記プローブを形成する際に、前記第1および前記第2の結晶面が全く同じに配置され、前記プローブが前記第1の側壁および前記第2の側壁と一致する表面を形成するように前記プローブ基板を配置するステップとを含む方法。 - 前記特定の腐食剤が特定の濃度で供給されることを特徴とする、請求項1による方法。
- 前記エッチングが行なわれる特定の温度を与えることをさらに含む、請求項1または2のいずれかによる方法。
- 前記エッチングが行なわれる特定の圧力を与えることをさらに含む、請求項1から3のいずれかによる方法。
- 前記特定の腐食剤および/または前記温度および/または前記特定の圧力が特定の期間与えられることを特徴とする、請求項1から4のいずれかによる方法。
- 前記支持基板および/または前記プローブ基板がSi、GaAs、または他の半導体物質であることを特徴とする、請求項1から5のいずれかによる方法。
- 第2の露出領域を形成する第2のマスクを前記底壁に配設し、前記特定の腐食剤を用いて前記第2の露出領域をエッチングすることにより前記底面内に突出領域を形成することをさらに含む、請求項1から6のいずれかによる方法。
- 前記突出領域が実質的に正方形、矩形、三角形、角すい台、多角形、半円形、部分的な円形、半楕円形、部分的な楕円形、またはそれらの組合せの形状を有する断面を形成することを特徴とする、請求項7による方法。
- 前記第1の側壁および/または前記第2の側壁および/または前記端部壁内に少なくとも1つの導電領域を配設することをさらに含む、請求項1から8のいずれかによる方法。
- 前記少なくとも1つの導電領域を前記平坦表面上まで延設することをさらに含む、請求項9による方法。
- 前記プローブを前記陥凹と位置合せすることをさらに含む、請求項1から10のいずれかによる方法。
- 支持基板に対してプローブを位置合せする装置であって、
表面と縁部とを形成し、第1の結晶面を形成する前記支持基板と、
特定の腐食剤により前記支持基板の前記縁部における前記表面に形成され、第1の側壁と反対側の第2の側壁と前記縁部から遠隔した端部壁と底壁とを形成する陥凹と、
プローブが前記第1の側壁および前記第2の側壁と一致する表面を形成するように、表面と前記第1の結晶面と同一の第2の結晶面とを形成するプローブ基板から前記特定の腐食剤を使用して形成され、前記陥凹内に受容された前記プローブとを備える装置。 - 前記プローブが、
一方向に撓曲自在の可撓性カンチレバー部とベース部とをそれぞれ構成する反対位置にある第1および第2の部分を形成する支持体であって、前記カンチレバー部が前記一方向に対し実質的に垂直な外側平坦表面を形成し、前記ベース部が前記陥凹内に受容されるように構成されているところの支持体と、
各々が前記ベース部の反対側に配置されている、前記カンチレバー部における少なくとも1本の導電性プローブアームと、を備え、
前記カンチレバー部が反対位置にある第1および第2の区域を形成し、前記第2の区域は前記ベース部と接しており、前記第1の区域は第1および第2の側面を形成し、前記第1および第2の側面の各々は前記外側平坦表面に対し第1の角度をなしており、前記第1および前記第2の側面の間には第1の幅が形成され、前記第2の区域は第3および第4の側面を形成し、前記第3および第4の側面の各々は前記外側平坦表面に対し第2の角度をなしており、前記第3および前記第4の側面の間には第2の幅が形成され、
前記第2の幅が前記第1の幅と等しくかつ/または前記第1の幅より小さいことを特徴とする、請求項12による装置。 - 前記底壁が突出部を備えており、前記プローブが協働する溝を備えていることを特徴とする、請求項12または13のいずれかによる装置。
- 前記突出部が実質的に正方形、矩形、三角形、角すい台、多角形、半円形、部分的な円形、半楕円形、部分的な楕円形の断面、またはそれらの組合せを形成することを特徴とする、請求項14による装置。
- 前記突出部が前記第1の側壁から前記第2の側壁まで延びていることを特徴とする、請求項14または15のいずれかによる装置。
- 前記突出部が前記第1の側壁から前記端部壁まで延び、かつ/または前記突出部が前記第2の側壁から前記端部壁まで延びていることを特徴とする、請求項14または15のいずれかによる装置。
- 前記支持基板が少なくとも1つの基板位置合せマークをさらに備えており、前記プローブが少なくとも1つの対応するプローブ位置合せマークを備えることを特徴とする、請求項12から17のいずれかによる装置。
- 前記基板位置合せマークおよび/または前記プローブ位置合せマークが、エッチングされた位置合せ陥凹および/または位置合せ突出部として形成されることを特徴とする、請求項18による装置。
- 前記支持基板が少なくとも2つの陥凹および/または少なくとも2つのプローブを備えることを特徴とする、請求項12から19のいずれかによる装置。
- 被検試料の特定箇所における電気的特性を試験するための試験装置であって、
(d)前記被検試料を受容および支持するための手段と、
(e)試験信号を発生させるための発電手段と計測信号を検出するための電気計測手段とを備える電気的特性試験手段と、
被検試料の特定箇所における電気的特性を試験するためのプローブにおいて、支持基板に対して前記プローブを位置合せする装置に前記プローブが受容され、前記装置が、
表面と縁部とを形成し、第1の結晶面を形成する前記支持基板と、
特定の腐食剤により前記支持基板の前記縁部における前記表面に形成され、第1の側壁と反対側の第2の側壁と前記縁部から遠隔した端部壁と前記表面から最小限の高さをなす底壁とを形成する陥凹とを備え、
前記プローブが前記第1の側壁および前記第2の側壁と一致する表面を形成するように、表面と前記第1の結晶面と同一の第2の結晶面とを形成するプローブ基板から前記特定の腐食剤を使用して形成され、前記陥凹内に受容されたプローブと、
(e)前記プローブ上に配置された1以上の導電性プローブアームを前記被検試料の前記特定箇所と接触させ、その電気的特性の前記試験を実施するよう前記被検試料に対して前記プローブを移動させる往復動手段とを備える試験装置。 - 前記電気的特性試験手段がさらに、前記被検試料の電気的特性を探測するための手段を備えることを特徴とする、請求項21による試験装置。
- 前記被検試料の一端から他端までの間で前記保持手段を位置決めし、前記被検試料に対する前記保持手段の位置を記録する手段をさらに備える、請求項21または22による試験装置。
- 前記位置決め手段が、すべての空間的方向、すなわち前記被検試料と共面の方向および前記被検試料に垂直な方向における操縦性を有し、かつ/または例えば前記探測のための前記手段に角度位置を与えるため、前記保持手段を角運動させる手段を備えることを特徴とする、請求項21から23のいずれかによる試験装置。
- 前記位置決め手段が、例えば前記探測のための前記手段に角度位置を与えるため、前記被検試料の表面に平行な軸に沿って前記保持手段を角運動させる手段をさらに備えることを特徴とする、請求項21から24のいずれかによる試験装置。
- 前記位置決め手段が、例えば前記探測のための前記手段に角度位置を与えるため、前記被検試料の表面に垂直な軸に沿って前記保持手段を角運動させる手段をさらに備えることを特徴とする、請求項21から25のいずれかによる試験装置。
- 前記位置決め手段が、前記被検試料と前記探測のための前記手段との間の接触を検知するための手段をさらに備えることを特徴とする、請求項21から26のいずれかによる試験装置。
- 前記プローブが、請求項2から20のいずれかの特徴のいずれかをさらに備えることを特徴とする、請求項21から27のいずれかによる試験装置。
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