JP2012208361A - Scanning type microscope and scanning type microscope system - Google Patents

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晋太郎 高橋
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To acquire a low noise image in high speed in a scanning type microscope.SOLUTION: A scanning type microscope comprises a light source unit, first scanning means 114a, a first beam restriction body 115a and a light quantity detector 118. The light source unit emits irradiation beams to irradiate to a sample from first and second radiation points. The first scanning means 114a changes deflection direction of the irradiation beam. The first beam restriction body 115a has plural pores 115as to pass the irradiation beam. The light quantity detector 118 detects the reception quantity of a signal beam caused by the irradiation to the sample. The first scanning means 114a can move a scanning point along the first scanning direction by changing the deflection direction of the irradiation beam. The plural pores 115as are placed so that the irradiation beams emitted from the first and second radiation points pass through the pore 115as at different time depending on the continuous variation of the deflection direction by the first scanning means 114a.

Description

本発明は、共焦点走査を行う走査型顕微鏡および走査型顕微鏡システムに関する。   The present invention relates to a scanning microscope and a scanning microscope system that perform confocal scanning.

従来、数多くの種類の共焦点走査型顕微鏡が提案され(非特許文献1参照)、製品化されている。これらの共焦点走査型顕微鏡は、大きく分けて、シングルビーム走査装置を用いた顕微鏡と、マルチビーム走査装置を用いた顕微鏡(特許文献1〜特許文献3参照)の2種類に分類される。以下に、2種類の顕微鏡の基本構成を簡単に説明する。   Conventionally, many types of confocal scanning microscopes have been proposed (see Non-Patent Document 1) and commercialized. These confocal scanning microscopes are roughly classified into two types: a microscope using a single beam scanning device and a microscope using a multi-beam scanning device (see Patent Documents 1 to 3). The basic configuration of the two types of microscopes will be briefly described below.

まず、シングルビーム走査装置を用いた走査型顕微鏡(以下、シングルビーム走査型顕微鏡と呼ぶ)の基本構成を説明する。シングルビーム走査型顕微鏡において、光源より発した光束は、集光レンズによって一点に集光される。集光位置に配置された第1の微小開口の透過像が、第1のリレーレンズと対物レンズを介して標本上に結像される。標本によって反射された光束は、対物レンズと第1のリレーレンズとの間に配置されたビームスプリッタによって、第1の微小開口の方向とは異なる方向に偏向される。偏向された光束は、第2のリレーレンズによって、第1の微小開口の共役位置にある第2の微小開口に集光される。第2の微小開口を通過した光の強度が、例えばフォトマルチプライアなどの検出器によって検出される。   First, a basic configuration of a scanning microscope (hereinafter referred to as a single beam scanning microscope) using a single beam scanning device will be described. In a single beam scanning microscope, a light beam emitted from a light source is condensed at one point by a condenser lens. A transmission image of the first minute aperture arranged at the condensing position is formed on the sample via the first relay lens and the objective lens. The light beam reflected by the sample is deflected in a direction different from the direction of the first minute aperture by a beam splitter disposed between the objective lens and the first relay lens. The deflected light beam is condensed by the second relay lens on the second minute aperture at the conjugate position of the first minute aperture. The intensity of light passing through the second minute aperture is detected by a detector such as a photomultiplier.

また、対物レンズとビームスプリッタの間には走査装置が配置されている。この走査装置は、例えばガルバノミラーやポリゴンミラーを有していて、第1の微小開口の像を標本面上で走査する。この走査装置と検出器に接続されているコントローラは、走査装置による光束の偏向量から、標本上での第1の微小開口の結像位置を検出する。検出位置と検出器により検出された光の強度とに基づいて、広い領域における標本像が再構成され、テレビモニタなどの画像表示装置に表示される。なお、光源としてフェムト秒パルス光源を用いた場合には、上述の第1の微小開口が省略されることもある。   A scanning device is disposed between the objective lens and the beam splitter. This scanning device has, for example, a galvanometer mirror or a polygon mirror, and scans the image of the first minute aperture on the sample surface. The controller connected to the scanning device and the detector detects the imaging position of the first minute aperture on the sample from the deflection amount of the light beam by the scanning device. Based on the detection position and the intensity of light detected by the detector, a specimen image in a wide area is reconstructed and displayed on an image display device such as a television monitor. When a femtosecond pulse light source is used as the light source, the first minute aperture described above may be omitted.

次に、マルチビーム走査装置を用いた走査型顕微鏡(以下、マルチビーム走査型顕微鏡と呼ぶ)の一例としてニポーディスクを用いた走査型顕微鏡の基本構成を説明する。マルチビーム走査型顕微鏡において、光源より発した光束は、コンデンサレンズによってニポーディスク上に照射される。ニポーディスクに設けられた複数の小開口を透過することによって分割された複数の光束は、夫々、リレーレンズと対物レンズを介して標本上の一点に集光される。標本から反射した光束は、対物レンズとリレーレンズとを介して再びニポーディスクの小開口上に集光される。   Next, a basic configuration of a scanning microscope using a Nipo disk as an example of a scanning microscope using a multi-beam scanning device (hereinafter referred to as a multi-beam scanning microscope) will be described. In a multi-beam scanning microscope, a light beam emitted from a light source is irradiated onto a Nipo disk by a condenser lens. A plurality of light beams divided by transmitting through a plurality of small apertures provided in the Nipo disk are condensed on one point on the sample via a relay lens and an objective lens, respectively. The light beam reflected from the sample is condensed again on the small opening of the Nipo disk through the objective lens and the relay lens.

ニポーディスクとコンデンサレンズとの間に配置されたビームスプリッタは、ニポーディスクからの透過光を、光源とは異なる方向へ偏向させる。偏向された透過光が撮影レンズによってイメージセンサ上に集光される。このような構成により、イメージセンサ上には、標本の像が形成される。形成された像がイメージセンサにより検出され、画像表示装置に表示される。ニポーディスクに設けられた複数の小開口は所定の間隔を空けて設けられるので、標本上に一度に当たる照明は多重スポット照明となる。しかし、ニポーディスクをモータによって高速に回転させているので、短時間ですべての標本面上を走査でき、肉眼による共焦点の観察が可能になる。   The beam splitter disposed between the Nipo disk and the condenser lens deflects the transmitted light from the Nipo disk in a direction different from that of the light source. The deflected transmitted light is collected on the image sensor by the photographing lens. With such a configuration, an image of the specimen is formed on the image sensor. The formed image is detected by the image sensor and displayed on the image display device. Since the plurality of small openings provided in the Nipo disk are provided at predetermined intervals, the illumination that hits the sample at a time is multi-spot illumination. However, since the Nipo disk is rotated at high speed by the motor, all specimen surfaces can be scanned in a short time, and confocal observation with the naked eye becomes possible.

このように、両者の基本構成の差異から理解されるように、シングルビーム走査型顕微鏡においては、光源の照明効率などが良いが、顕微鏡の視野全体の走査時間はマルチビーム走査型顕微鏡より長い。近年、試料の外観などの高速な時間変化を観察することが求められている。例えば、ビデオレート以上の100fpsで画像を取得するためには、走査装置に数十KHz相当の高速性能が必要である。しかし、走査装置に備えられる反射部のサイズを大きく保ったまま高速性能を満たすことは困難である。一方、上述のようにニポーディスクを用いているものを含めたマルチビーム走査型顕微鏡においては、走査時間が非常に短いので、1000fpsで高速に画像を取得可能であり、試料外観の高速な時間変化を観察するのに適している。   Thus, as can be understood from the difference between the basic configurations of the two, the single beam scanning microscope has good illumination efficiency of the light source, but the scanning time of the entire field of view of the microscope is longer than that of the multi-beam scanning microscope. In recent years, it has been required to observe high-speed time changes such as the appearance of a sample. For example, in order to acquire an image at 100 fps that is equal to or higher than the video rate, the scanning device needs high-speed performance equivalent to several tens of KHz. However, it is difficult to satisfy high-speed performance while keeping the size of the reflection portion provided in the scanning device large. On the other hand, in the multi-beam scanning microscope including the one using the Nipo disk as described above, since the scanning time is very short, an image can be acquired at a high speed at 1000 fps, and the time required for the appearance of the sample is high. Suitable for observing changes.

特表平1−503493号公報JP-T-1-503493 特開平5−60980号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-60980 特開平8−211296号公報Japanese Patent Laid-Open No. 8-21296

T.R.Corle and G.S.Kino, “Confocal Scanning Optical Microscopy and Related Imaging Systems”, Academic Press (1966)T.R.Corle and G.S.Kino, “Confocal Scanning Optical Microscopy and Related Imaging Systems”, Academic Press (1966)

ところで、このような高速観察に好適なマルチビーム走査型顕微鏡においても、散乱を伴う組織の観察において問題点がある。走査型顕微鏡は、試料中に集光したレーザのスポットと共役な位置にピンホールを配置することにより、レーザのスポット近傍のみの信号光(例えば、蛍光)を選択して取得することを可能足らしめることを特徴としている。それゆえ、試料による光の散乱が大きくないとみなせる場合には、その効力が発揮される。しかし、特に生体組織を試料とする場合には、生体組織の強散乱性によってレーザスポット近傍の信号光はたちまち散乱される。従って、ニポーディスクによって生成された多数のマルチビームが標本上に集光されても、マルチビームで発生した信号光は強く散乱し、対応する小開口とは別の小開口に信号光が染出すクロストークが発生する。小開口は光学的に共役な微小領域以外の微小領域における信号光も透過するため、ノイズ成分が増加する。クロストークを減少させるためにはマルチビームの空間的な間隔を広げることが考えられる。しかし、散乱の影響が非常に大きい場合には、マルチビームの本数が2本であったとしても、クロストークが発生し得る。   By the way, even in such a multi-beam scanning microscope suitable for high-speed observation, there is a problem in observation of tissue accompanied by scattering. The scanning microscope can select and acquire signal light (for example, fluorescence) only in the vicinity of the laser spot by arranging a pinhole at a position conjugate with the laser spot focused in the sample. It is characterized by tightening. Therefore, when it can be considered that light scattering by the sample is not large, the effect is exhibited. However, particularly when a biological tissue is used as a sample, the signal light in the vicinity of the laser spot is quickly scattered due to the strong scattering property of the biological tissue. Therefore, even if a large number of multi-beams generated by the Nipo disk are collected on the specimen, the signal light generated by the multi-beams is strongly scattered, and the signal light is dyed into a small aperture different from the corresponding small aperture. Crosstalk occurs. Since the small aperture also transmits signal light in a minute region other than the optically conjugate minute region, the noise component increases. In order to reduce the crosstalk, it is conceivable to increase the spatial interval of the multi-beams. However, when the influence of scattering is very large, crosstalk can occur even if the number of multi-beams is two.

従って、上記のような問題点に鑑みてなされた本発明では、マルチビームによって発生する信号光に空間的なクロストークが生じても、ノイズの少ない画像を取得可能な走査型顕微鏡および操作型顕微鏡システムの提供を目的とする。   Therefore, in the present invention made in view of the above problems, a scanning microscope and an operation microscope that can acquire an image with little noise even when spatial crosstalk occurs in signal light generated by a multi-beam. The purpose is to provide a system.

上述した諸課題を解決すべく、第1の発明による走査型顕微鏡は、
少なくとも第1、第2の出射点を同一平面上に有し、試料に照射する照射光を第1、第2の出射点から主光線が互いに平行になるように出射する光源ユニットと、
光源ユニットから出射した照射光の偏向方向を変える第1の走査手段と、
第1の走査手段により偏向された照射光が照射される第1の照射面を有し、第1の照射面には照射光を通過させる複数の孔部が形成される第1の光制限体と、
光制限体を通過した照射光を前記試料上に集光させる対物レンズと、
照射光の試料への照射により生じる信号光の受光量を検出する光量検出器と、
試料と光量検出器との間に設けられ、信号光を前記照射光から分離する光学的分離器と、
光量検出器による光量の検出時点における照射光の試料上の走査点の位置を検出する位置検出部と、
光量と走査点の位置に基づいて試料の画像を再構成する画像処理装置に、受光量と走査点の位置とを出力する出力器とを備え、
第1の走査手段は、試料上に照射される照射光の走査点を、照射光の偏向方向を変えることにより第1の走査方向に沿って移動可能であり、
複数の孔部は、第1の走査手段による偏向方向の連続的な変化に応じて、第1、第2の出射点から出射された照射光それぞれが異なる孔部を通過し、且つ、第1、第2の出射点から出射された照射光が異なる時期に孔部を通過するように、配置される
ことを特徴とするものである。
In order to solve the above-described problems, the scanning microscope according to the first invention is
A light source unit that has at least first and second emission points on the same plane and emits irradiation light to irradiate the sample from the first and second emission points so that chief rays are parallel to each other;
First scanning means for changing a deflection direction of irradiation light emitted from the light source unit;
A first light restrictor having a first irradiation surface to which the irradiation light deflected by the first scanning means is irradiated, and having a plurality of holes through which the irradiation light passes. When,
An objective lens for condensing the irradiation light that has passed through the light restrictor on the sample;
A light amount detector that detects the amount of signal light received by irradiating the sample with irradiated light; and
An optical separator provided between the sample and the light amount detector, for separating the signal light from the irradiation light;
A position detector for detecting the position of the scanning point on the sample of the irradiated light at the time of detection of the light amount by the light amount detector;
An image processing apparatus that reconstructs an image of a sample based on the amount of light and the position of the scanning point, and an output device that outputs the amount of received light and the position of the scanning point,
The first scanning means is movable along the first scanning direction by changing the scanning direction of the irradiation light irradiated on the sample by changing the deflection direction of the irradiation light,
The plurality of hole portions pass through different hole portions where the irradiation light emitted from the first and second emission points passes through the different hole portions according to the continuous change in the deflection direction by the first scanning unit, and the first The irradiation light emitted from the second emission point is arranged to pass through the hole at different times.

本発明の第1の発明による操作型顕微鏡システムは、
少なくとも第1、第2の出射点を同一平面上に有し、試料に照射する照射光を第1、第2の出射点から主光線が互いに平行になるように出射する光源ユニットと、
光源ユニットから出射した照射光の偏向方向を変える第1の走査手段と、
第1の走査手段に偏向された照射光が照射される第1の照射面を有し、第1の照射面には照射光を通過させる複数の孔部が形成される第1の光制限体と、
光制限体を通過した照射光を試料上に集光させる対物レンズと、
照射光の前記試料への照射により生じる信号光の受光量を検出する光量検出器と、
試料と光量検出器との間に設けられ、信号光を照射光から分離する光学的分離器と、
光量検出器による光量の検出時点における照射光の試料上の走査点の位置を検出する位置検出部と、
光量と走査点の位置に基づいて試料の画像を再構成する画像処理装置に、受光量と走査点の位置とを出力する出力器と、
光量と前記照射位置に基づいて試料の画像を再構成する画像処理装置と、
試料の画像を表示するモニタとを備え、
第1の走査手段は、試料上に照射される照射光の走査点を、照射光の偏向方向を変えることにより第1の走査方向に沿って移動可能であり、
複数の孔部は、第1の走査手段による偏向方向の連続的な変化に応じて、第1、第2の出射点から出射された照射光それぞれが異なる孔部を通過し、且つ、第1、第2の出射点から出射された照射光が異なる時期に孔部を通過するように、配置される
ことを特徴とするものである。
The operation type microscope system according to the first aspect of the present invention comprises:
A light source unit that has at least first and second emission points on the same plane and emits irradiation light to irradiate the sample from the first and second emission points so that chief rays are parallel to each other;
First scanning means for changing a deflection direction of irradiation light emitted from the light source unit;
A first light restrictor having a first irradiation surface to which the irradiation light deflected by the first scanning means is irradiated, and having a plurality of holes through which the irradiation light passes are formed on the first irradiation surface. When,
An objective lens for condensing the irradiation light that has passed through the light restrictor on the sample;
A light amount detector for detecting the amount of signal light received by irradiation of the sample with irradiation light;
An optical separator provided between the sample and the light amount detector, for separating the signal light from the irradiation light;
A position detector for detecting the position of the scanning point on the sample of the irradiated light at the time of detection of the light amount by the light amount detector;
An output device that outputs the amount of received light and the position of the scanning point to an image processing device that reconstructs an image of the sample based on the amount of light and the position of the scanning point;
An image processing device for reconstructing an image of the sample based on the amount of light and the irradiation position;
A monitor for displaying an image of the sample,
The first scanning means is movable along the first scanning direction by changing the scanning direction of the irradiation light irradiated on the sample by changing the deflection direction of the irradiation light,
The plurality of hole portions pass through different hole portions where the irradiation light emitted from the first and second emission points passes through the different hole portions according to the continuous change in the deflection direction by the first scanning unit, and the first The irradiation light emitted from the second emission point is arranged to pass through the hole at different times.

上記のように構成された本発明に係る走査型顕微鏡によれば、マルチビームを用いながら、ノイズの少ない画像を取得可能である。   According to the scanning microscope according to the present invention configured as described above, an image with less noise can be acquired using a multi-beam.

本発明の第1の実施形態に係る走査型顕微鏡を含む走査型顕微鏡システムの光学的な概略構成および電気的な概略構成を示す構成図である。1 is a configuration diagram illustrating an optical schematic configuration and an electrical schematic configuration of a scanning microscope system including a scanning microscope according to a first embodiment of the present invention. 図1における分岐器、第1のガルバノミラー、および第1のスリットの配置図である。FIG. 2 is a layout diagram of the branching device, the first galvanometer mirror, and the first slit in FIG. 1. 各列の励起光により走査される試料上の領域を説明する図である。It is a figure explaining the area | region on the sample scanned with the excitation light of each row | line | column. 図1における第1のスリットアレイの正面図である。It is a front view of the 1st slit array in FIG. 第1のスリットアレイに入射する励起光の照射位置の時間変化を説明するタイミングチャートである。It is a timing chart explaining the time change of the irradiation position of the excitation light which injects into a 1st slit array. 第2の実施形態に係る走査型顕微鏡を含む走査型顕微鏡システムの光学的な概略構成および電気的な概略構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the optical schematic structure and electrical schematic structure of the scanning microscope system containing the scanning microscope which concerns on 2nd Embodiment. 図6における第1のスリットアレイに対する第2のスリットアレイの配置および形状を示す構成図である。It is a block diagram which shows arrangement | positioning and a shape of the 2nd slit array with respect to the 1st slit array in FIG. 第3の実施形態に係る走査型顕微鏡を含む走査型顕微鏡システムの光学的な概略構成および電気的な概略構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the optical schematic structure and electrical schematic structure of the scanning microscope system containing the scanning microscope which concerns on 3rd Embodiment. 図8における分岐器、第1のガルバノミラー、および第1のスリットの配置図である。FIG. 9 is a layout diagram of the branching device, the first galvanometer mirror, and the first slit in FIG. 8. 第1のスリットアレイの第1の変形例を示す正面図である。It is a front view which shows the 1st modification of a 1st slit array. 第1のスリットアレイの第2の変形例を示す正面図である。It is a front view which shows the 2nd modification of a 1st slit array.

以下、本発明の適用した走査型顕微鏡の実施形態について、図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of a scanning microscope to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る走査型顕微鏡を含む走査型顕微鏡システムの光学的な構成および電気的な概略構成を示す構成図である。   FIG. 1 is a configuration diagram showing an optical configuration and an electrical schematic configuration of a scanning microscope system including a scanning microscope according to the first embodiment of the present invention.

走査型顕微鏡システム100は、走査型顕微鏡110、画像処理装置101、モニタ102によって構成される。後に詳述するように、走査型顕微鏡110は、スポット状の励起光(照射光)で試料Sを走査する。また、試料Sに照射された励起光による蛍光の光量が、走査型顕微鏡110により検出される。また、走査型顕微鏡110からは走査点の位置が検出される。蛍光の光量および走査点の位置が、画像処理装置101に伝達される。画像処理装置101では、蛍光の光量と照射位置に基づいて、試料Sの画像を再構成する。再構成された画像はモニタ102に送信され、表示される。   The scanning microscope system 100 includes a scanning microscope 110, an image processing apparatus 101, and a monitor 102. As will be described in detail later, the scanning microscope 110 scans the sample S with spot-like excitation light (irradiation light). In addition, the amount of fluorescent light generated by the excitation light applied to the sample S is detected by the scanning microscope 110. Further, the position of the scanning point is detected from the scanning microscope 110. The amount of fluorescent light and the position of the scanning point are transmitted to the image processing apparatus 101. The image processing apparatus 101 reconstructs an image of the sample S based on the amount of fluorescent light and the irradiation position. The reconstructed image is transmitted to the monitor 102 and displayed.

次に、走査型顕微鏡110の構成について、説明する。走査型顕微鏡110は、光源111、分岐器112、第1〜第5のレンズ113a〜113e、第1、第2のガルバノミラー114a、114b(第1、第2の走査手段)、第1のスリットアレイ115(第1の光制限体)、ダイクロイックミラー116(光学的分離器)、対物レンズ117、PMT118(光量検出器、出力器)、および位置検出部119(位置検出部、出力器)などによって構成される。   Next, the configuration of the scanning microscope 110 will be described. The scanning microscope 110 includes a light source 111, a branching device 112, first to fifth lenses 113a to 113e, first and second galvanometer mirrors 114a and 114b (first and second scanning means), and a first slit. By an array 115 (first light restrictor), a dichroic mirror 116 (optical separator), an objective lens 117, a PMT 118 (light quantity detector, output device), and a position detection unit 119 (position detection unit, output device), etc. Composed.

光源111から、生体に照射すると蛍光を発生させる励起光がフェムト秒パルスとして出射される。励起光は、分岐器112により強度が実質的に等しくなるように4列に分岐される。分光器112の第1〜第4の出射端は、後述する一定の間隔で直線上に並び且つ出射される励起光の主光線が互いに平行となるように、形成される。なお、分岐器112は、例えばハーフミラー(図示せず)およびミラー(図示せず)の組合せ、ファイバカプラ(図示せず)の組合せ、および回折格子などにより形成可能である。   Excitation light that generates fluorescence when emitted from the light source 111 is emitted as femtosecond pulses. The excitation light is branched into four rows by the branching device 112 so that the intensity is substantially equal. The first to fourth emission ends of the spectroscope 112 are formed so that chief rays of excitation light that are arranged in a straight line at a predetermined interval and are emitted are parallel to each other. The branching device 112 can be formed by, for example, a combination of a half mirror (not shown) and a mirror (not shown), a combination of a fiber coupler (not shown), a diffraction grating, or the like.

第1、第2のレンズ113a、113bは正レンズであり、リレー光学系を構成する。リレー光学系により、第1〜第4の出射端から出射される第1〜第4列の励起光は両側にテレセントリックにリレーされ、第1のスリットアレイ115a上に別々に集光される。第1、第2のレンズ113a、113bの間において対物レンズ117の瞳位置との共役位置に、第1のガルバノミラー114aが配置される。図2に示すように、第1のガルバノミラー114aは、第1〜第4の出射端t1〜t4を結ぶ第1の直線L1に平行な直線を軸に回転させた偏向方向に、励起光を反射させる。偏向方向を連続的に変えることにより、励起光によって試料S上の第1の走査方向(図3参照)に沿って試料Sが走査される。   The first and second lenses 113a and 113b are positive lenses and constitute a relay optical system. The first to fourth columns of excitation light emitted from the first to fourth emission ends are relayed telecentrically on both sides by the relay optical system, and are condensed separately on the first slit array 115a. A first galvanometer mirror 114a is disposed at a conjugate position with the pupil position of the objective lens 117 between the first and second lenses 113a and 113b. As shown in FIG. 2, the first galvanometer mirror 114a emits excitation light in a deflection direction rotated about a straight line parallel to the first straight line L1 connecting the first to fourth emission ends t1 to t4. Reflect. By continuously changing the deflection direction, the sample S is scanned along the first scanning direction (see FIG. 3) on the sample S by the excitation light.

第1のガルバノミラー114aによる励起光の偏向方向には、第2のレンズ113bおよび第1のスリットアレイ115aが配置される。第1のスリットアレイ115aは多数の第1のスリット115as(孔部)が形成された平板であり、板面が第1の直線L1に平行となるように配置される。また、図4に示すように、第1のスリットアレイ115aには、取得する画像の第1の走査方向の画素数に相当する第1のスリット115asが形成される。第1のスリット115asは、板面上において第1の直線L1に垂直な第2の方向d2に並べられる。なお、第2の方向d2は第1の走査方向に対応する。   A second lens 113b and a first slit array 115a are arranged in the deflection direction of the excitation light by the first galvanometer mirror 114a. The first slit array 115a is a flat plate in which a large number of first slits 115as (holes) are formed, and is arranged so that the plate surface is parallel to the first straight line L1. As shown in FIG. 4, the first slit array 115a is formed with first slits 115as corresponding to the number of pixels in the first scanning direction of the acquired image. The first slits 115as are arranged in a second direction d2 perpendicular to the first straight line L1 on the plate surface. Note that the second direction d2 corresponds to the first scanning direction.

すべての第1のスリット115asは、板面において第2の方向d2に垂直な第1の方向d1に対して傾斜した形状を有している。さらに、第1〜第4の列の中の単一の列の励起光(図4におけるEL3参照)が第1のスリット115asを通過している間は、他の3列の励起光(図4におけるEL1、EL2、EL4参照)が第1のスリットアレイ115aの板面上に照射されように、第1の方向d1に対する第1のスリット115asの傾斜角が定められる。また、第1のスリット115asは、第2の方向d2に対して傾斜させながら単一の第1のスリット115asに第1〜第4列の励起光が通過可能となるように、形成される。   All the first slits 115as have a shape inclined with respect to the first direction d1 perpendicular to the second direction d2 on the plate surface. Further, while the single column of excitation light (see EL3 in FIG. 4) in the first to fourth columns passes through the first slit 115as, the other three columns of excitation light (FIG. 4). The angle of inclination of the first slit 115as with respect to the first direction d1 is determined so that the plate surface of the first slit array 115a is irradiated on the plate surface of the first slit array 115a. The first slit 115as is formed so that the first to fourth rows of excitation light can pass through the single first slit 115as while being inclined with respect to the second direction d2.

前述のように、4列に分岐させた励起光を互いに主光線が平行となるように第1のスリットアレイ115a上に集光するので、第1のスリットアレイ115a上には第1の方向d1に沿って励起光による4列の照射スポット像が形成される。このような構成の第1のスリットアレイ115aを第1〜第4列の励起光で走査することにより、第1〜第4列の励起光は異なる時間に第1のスリット115asを通過して、試料Sに照射される。図5に示すように、タイミングt1において、第1列の励起光EL1のみが1列目の第1のスリット115asを通過し、第2〜第4列の励起光EL2〜EL4は第1のスリットアレイ115aの板面に照射される。その後、第1のガルバノミラー114aにより偏向方向が変えられ、励起光による照射スポット像は第2の方向d2に変位する。タイミングt2において、第2列の励起光EL2のみが1列目の第1のスリット115asを通過し、第1、第3、第4列の励起光EL1、EL3、EL4は第1のスリットアレイ15aの板面に照射される。同様に、タイミングt3、t4においては、夫々第3、第4列の励起光EL3、EL4のみが1列目の第1のスリット115asを通過する。第4列の励起光EL4のみが1列目の第1のスリット115asを通過後励起光による照射スポット像がさらに第2の方向d2に変位し、タイミングt5において第1列の励起光のみが2列目の第1のスリット115asを通過する。以後、同様に、第1〜第4列の励起光の2、3、…列目の第1のスリット115asの通過を順次繰返す。   As described above, the excitation light branched into four rows is condensed on the first slit array 115a so that the principal rays are parallel to each other, so that the first direction d1 is formed on the first slit array 115a. A four-row irradiation spot image is formed along with the excitation light. By scanning the first slit array 115a having such a configuration with the first to fourth columns of excitation light, the first to fourth columns of excitation light pass through the first slit 115as at different times, The sample S is irradiated. As shown in FIG. 5, at the timing t1, only the first row of excitation light EL1 passes through the first slit 115as in the first row, and the second to fourth rows of excitation light EL2 to EL4 pass through the first slit. The plate surface of the array 115a is irradiated. Thereafter, the deflection direction is changed by the first galvanometer mirror 114a, and the irradiation spot image by the excitation light is displaced in the second direction d2. At timing t2, only the second row of excitation light EL2 passes through the first slit 115as of the first row, and the first, third, and fourth rows of excitation light EL1, EL3, and EL4 pass through the first slit array 15a. Irradiated to the plate surface. Similarly, at timings t3 and t4, only the third and fourth rows of excitation light EL3 and EL4 pass through the first slit 115as in the first row, respectively. Only the excitation light EL4 in the fourth row passes through the first slit 115as in the first row, and the irradiation spot image by the excitation light is further displaced in the second direction d2, and only the excitation light in the first row is 2 at the timing t5. It passes through the first slit 115as in the row. Thereafter, similarly, the passage of the excitation light in the first to fourth columns through the first slit 115as in the second, third,.

この結果、第1のガルバノミラー114aが周波数RHzで第1の走査方向に沿って往復走査する場合には、1列の励起光による2R個/sの照射スポット像によって光学的共役位置にある試料Sが照射される。それゆえ、4列の励起光によって、4倍の8R個/sの照射スポット像によって試料Sが照射される。   As a result, when the first galvanometer mirror 114a reciprocally scans along the first scanning direction at the frequency RHz, the sample is in the optical conjugate position by the 2R / s irradiation spot images by one row of excitation light. S is irradiated. Therefore, the sample S is irradiated with four times the irradiation spot image of 8R / s by four rows of excitation light.

第1のスリットアレイ115aを通過した励起光は、第3、第4のレンズ113c、113dによって両側にテレセントリックにリレーされる。第3、第4のレンズ113c、113dの間において対物レンズ117の瞳位置との共役位置に、第2のガルバノミラー114bが配置される。第2のガルバノミラー114bは、第2の方向d2に平行な直線を軸に回転させた偏向方向に、第3のレンズ113cを透過した励起光を反射させる。偏向方向を連続的に変えることにより、励起光によって試料S上の第1の走査方向に垂直な第2の走査方向(図3参照)に沿って試料Sが走査される。   The excitation light that has passed through the first slit array 115a is telecentrically relayed on both sides by the third and fourth lenses 113c and 113d. Between the third and fourth lenses 113c and 113d, the second galvanometer mirror 114b is arranged at a conjugate position with the pupil position of the objective lens 117. The second galvanometer mirror 114b reflects the excitation light transmitted through the third lens 113c in a deflection direction rotated about a straight line parallel to the second direction d2. By continuously changing the deflection direction, the sample S is scanned along the second scanning direction (see FIG. 3) perpendicular to the first scanning direction on the sample S by the excitation light.

図3に示すように、第1、第2のガルバノミラー114a、114bそれぞれによる第2、第1の走査方向に沿った走査によって、走査型顕微鏡100の視野範囲全域ea(以後、全照射領域と呼ぶ)が照射スポット像によって照射される。第1列の励起光EL1によって、全照射領域eaを第2の走査方向に沿って4分割した第1の部分領域ua1がラスタ走査される。同様に、第2〜第4列の励起光EL2〜EL4によって、第1の部分領域ua1と別の第2〜第4の部分領域ua2〜ua4がラスタ走査される。例えば、全照射領域eaを512本の走査線によって走査する場合には、第1〜第128の走査線を第1列の励起光EL1によって走査させ、第129〜第256の走査線を第2列の励起光EL2によって走査させ、第257〜第384の走査線を第3列の励起光EL3によって走査させ、第385〜第512の走査線を第4列の励起光EL4によって走査させる。なお、第1〜第4列の励起光EL1〜EL4により、それぞれ第1〜第4の部分領域ua1〜ua4が走査されるように、第1〜第4の出射端t1〜t4の間隔が定められる。   As shown in FIG. 3, the entire field-of-view range ea (hereinafter referred to as the entire irradiation region) of the scanning microscope 100 is obtained by scanning along the second and first scanning directions by the first and second galvanometer mirrors 114a and 114b, respectively. Is irradiated by the irradiation spot image. The first partial region ua1 obtained by dividing the entire irradiation region ea into four along the second scanning direction is raster-scanned by the first row of excitation light EL1. Similarly, the first to second partial areas ua1 and the second to fourth partial areas ua2 to ua4 are raster-scanned by the second to fourth rows of excitation light EL2 to EL4. For example, when the entire irradiation area ea is scanned with 512 scanning lines, the first to 128th scanning lines are scanned with the first column of excitation light EL1, and the 129th to 256th scanning lines are scanned with the second scanning line. The 257th to 384th scanning lines are scanned with the third column excitation light EL3, and the 385th to 512th scanning lines are scanned with the fourth column excitation light EL4. Note that the intervals between the first to fourth emission ends t1 to t4 are determined so that the first to fourth partial regions ua1 to ua4 are scanned by the first to fourth rows of excitation light EL1 to EL4, respectively. It is done.

図1に示すように、第2のガルバノミラー114bによって反射された励起光は、第4、第5のレンズ113d、113e、ダイクロイックミラー116、および対物レンズ117を介して試料S上に投影される。ダイクロイックミラー116は、励起光を透過し且つ励起光により生体組織が発する蛍光を反射するように形成される。したがって、第5のレンズ113eを透過した励起光はダイクロイックミラー116を透過する。投影される励起光は、結像レンズである第5のレンズ113dおよび対物レンズ117によって試料S上において集光される。   As shown in FIG. 1, the excitation light reflected by the second galvanometer mirror 114b is projected onto the sample S via the fourth and fifth lenses 113d and 113e, the dichroic mirror 116, and the objective lens 117. . The dichroic mirror 116 is formed so as to transmit the excitation light and reflect the fluorescence emitted from the living tissue by the excitation light. Therefore, the excitation light that has passed through the fifth lens 113 e passes through the dichroic mirror 116. The excitation light to be projected is collected on the sample S by the fifth lens 113d and the objective lens 117 which are imaging lenses.

励起光が試料Sに照射されると、照射された励起光の集光点において試料Sが励起されて蛍光(信号光)が対物レンズ117に向かって発生する。したがって、前述のように8R個/sの照射スピードで試料を照射することにより、同じ発生スピードで蛍光が順次発生する。発生した蛍光は対物レンズ117を透過して、ダイクロイックミラー116に到達する。蛍光はダイクロイックミラー116により反射され、励起光の試料Sによる反射光はダイクロイックミラー116を透過する。したがって、蛍光が励起光の反射光から分離される。分離された蛍光はPMT118によって受光される。PMT118は蛍光強度に応じた電気信号に変換した画素信号を生成する。画素信号は、画像処理装置101に伝達される。   When the sample S is irradiated with the excitation light, the sample S is excited at the condensing point of the irradiated excitation light, and fluorescence (signal light) is generated toward the objective lens 117. Therefore, as described above, when the sample is irradiated at an irradiation speed of 8R / s, fluorescence is sequentially generated at the same generation speed. The generated fluorescence passes through the objective lens 117 and reaches the dichroic mirror 116. The fluorescence is reflected by the dichroic mirror 116, and the reflected light of the excitation light sample S passes through the dichroic mirror 116. Therefore, the fluorescence is separated from the reflected light of the excitation light. The separated fluorescence is received by the PMT 118. The PMT 118 generates a pixel signal converted into an electrical signal corresponding to the fluorescence intensity. The pixel signal is transmitted to the image processing apparatus 101.

なお、各列の励起光に対応する蛍光は対物レンズ117、ダイクロイックミラー116を介して、PMT118の受光部上に広く分布する。蛍光の入射範囲より広い受光部を有するPMT118が選択され、用いられる。   Note that the fluorescence corresponding to the excitation light in each column is widely distributed on the light receiving unit of the PMT 118 via the objective lens 117 and the dichroic mirror 116. A PMT 118 having a light receiving portion wider than the fluorescence incident range is selected and used.

なお、画像処理装置101には画素信号だけでなく、位置検出部119において検知される励起光の走査点の位置が位置信号として伝達される。位置検出部117は、第1、第2のガルバノミラー114a、114bに設けられる回転速度メータ(図示せず)により検出される第1、第2のガルバノミラー114a、114bの回転速度に基づいて第1、第2のガルバノミラー114a、114bによる各列の励起光パルスの偏向方向を算出する。位置検出部119は、偏向方向に基づいて走査点の位置を検出する。   Note that not only the pixel signal but also the position of the scanning point of the excitation light detected by the position detection unit 119 is transmitted to the image processing apparatus 101 as a position signal. The position detection unit 117 is based on the rotation speeds of the first and second galvanometer mirrors 114a and 114b detected by a rotation speed meter (not shown) provided in the first and second galvanometer mirrors 114a and 114b. 1. The deflection direction of the excitation light pulse of each column by the first and second galvanometer mirrors 114a and 114b is calculated. The position detector 119 detects the position of the scanning point based on the deflection direction.

画像処理装置101は、画素信号と位置信号とに基づいて試料Sの2次元状の画像を再構成する。再構成された2次元画像はモニタ102に送信され、表示される。   The image processing apparatus 101 reconstructs a two-dimensional image of the sample S based on the pixel signal and the position signal. The reconstructed two-dimensional image is transmitted to the monitor 102 and displayed.

以上のような構成の第1の実施形態の走査型顕微鏡によれば、低ノイズの画像を高速に取得可能である。4本のマルチビームにより試料を走査するので、第1のガルバノミラー114aの走査周波数で制限される走査速度を、分岐させる光束分だけ高速化させることが可能である。したがって、高速で試料画像を採取可能である。また、マルチビームの試料Sへの照射時期が分離されているので、空間的なクロストークの影響を除去することが可能である。   According to the scanning microscope of the first embodiment configured as described above, a low-noise image can be acquired at high speed. Since the sample is scanned with four multi-beams, the scanning speed limited by the scanning frequency of the first galvanometer mirror 114a can be increased by the amount of light beam to be branched. Therefore, a sample image can be collected at high speed. In addition, since the irradiation time of the multi-beam sample S is separated, it is possible to eliminate the influence of spatial crosstalk.

また、第1の実施形態の走査型顕微鏡によれば、上述のように第1〜第4の出射端t1〜t4を配置することにより、照射時期を分離させた構成において第2のガルバノミラー114bの制御の簡素化を図りながら、フレームレートの最速化を図ることが可能である。例えば本実施形態と異なる構成として、第1、第2、第3、第4の出射端から出射される励起光が、第(4n−3)、第(4n−2)、第(4n−1)、第4nの走査線(1≦n≦128)に沿って走査される構成が考えられる。このような構成においてフレームレートを最速化するためには、第1の走査方向に沿った端部に走査点が達したときに、高速で第2の走査方向に4本の走査線に相当する距離だけ走査点を移動させる必要がある。したがって、第1のガルバノミラー114aによる偏向方向に応じて第2のガルバノミラー114bによる走査速度を変える必要がある。一方、本実施形態の構成によれば、第1のガルバノミラー114aの偏向方向に拠らず、第2のガルバノミラー114bの走査速度を一定に保つことが可能で、制御が簡素化される。   Further, according to the scanning microscope of the first embodiment, the second galvanometer mirror 114b is configured in the configuration in which the irradiation timings are separated by arranging the first to fourth emission ends t1 to t4 as described above. The frame rate can be maximized while simplifying the control. For example, as a configuration different from the present embodiment, the excitation light emitted from the first, second, third, and fourth emission ends may be (4n-3) th, (4n-2) th, (4n-1). ), A configuration in which scanning is performed along the 4nth scanning line (1 ≦ n ≦ 128) is conceivable. In order to maximize the frame rate in such a configuration, when the scanning point reaches the end along the first scanning direction, it corresponds to four scanning lines in the second scanning direction at high speed. It is necessary to move the scanning point by the distance. Therefore, it is necessary to change the scanning speed by the second galvanometer mirror 114b in accordance with the deflection direction by the first galvanometer mirror 114a. On the other hand, according to the configuration of the present embodiment, the scanning speed of the second galvanometer mirror 114b can be kept constant regardless of the deflection direction of the first galvanometer mirror 114a, and the control is simplified.

また、第1の実施形態の走査型顕微鏡によれば、試料Sに照射する励起光にフェムト秒パルスレーザが用いられ、2光子吸収により発生する蛍光により画像が取得される。2光子吸収は、実質的に光子密度の高い集光点でのみ発生する。それゆえ、共焦点効果を適用する必要が無く、即ちピンホールが不要であり、部品数を削減可能である。   Further, according to the scanning microscope of the first embodiment, a femtosecond pulse laser is used as the excitation light applied to the sample S, and an image is acquired by fluorescence generated by two-photon absorption. Two-photon absorption occurs only at a condensing point with substantially high photon density. Therefore, it is not necessary to apply the confocal effect, that is, no pinhole is required, and the number of parts can be reduced.

次に本発明の第2の実施形態に係る走査型顕微鏡について説明する。第2の実施形態は、光源の種類および光学部材の配置において第1の実施形態と異なっている。以下に、第1の実施形態と異なる点を中心に第2の実施形態について説明する。なお、第1の実施形態と同じ機能および構成を有する部位には同じ符号を付す。   Next, a scanning microscope according to the second embodiment of the present invention will be described. The second embodiment differs from the first embodiment in the type of light source and the arrangement of optical members. The second embodiment will be described below with a focus on differences from the first embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the site | part which has the same function and structure as 1st Embodiment.

図6に示すように、第2の実施形態を適用した走査型顕微鏡210において、分岐器112、第1〜第5のレンズ113a〜113e、第1、第2のガルバノミラー114a、114b、第1のスリットアレイ115a、対物レンズ117、PMT118、および位置検出部119の機能および構成は第1の実施形態と同じである。また、画像処理装置101およびモニタ102の機能および構成も第1の実施形態と同じである。   As shown in FIG. 6, in the scanning microscope 210 to which the second embodiment is applied, the splitter 112, the first to fifth lenses 113a to 113e, the first and second galvanometer mirrors 114a and 114b, the first The functions and configurations of the slit array 115a, the objective lens 117, the PMT 118, and the position detector 119 are the same as those in the first embodiment. The functions and configurations of the image processing apparatus 101 and the monitor 102 are the same as those in the first embodiment.

第1の実施形態と異なり、光源211は連続波(CW)の励起光を出射する。また、ダイクロイックミラー216は第1のガルバノミラー114aと第2のレンズ113bとの間に設けられる。また、第2のスリットアレイ115bが、第1のスリットアレイ115aに積層されるように、配置される。また、第1、第2のスリットアレイ115a、115bは対物レンズ117の焦点と共役な位置に配置される。   Unlike the first embodiment, the light source 211 emits continuous wave (CW) excitation light. The dichroic mirror 216 is provided between the first galvanometer mirror 114a and the second lens 113b. In addition, the second slit array 115b is arranged so as to be stacked on the first slit array 115a. Further, the first and second slit arrays 115a and 115b are disposed at positions conjugate with the focal point of the objective lens 117.

図7に示すように、第2のスリットアレイ115bには第2の方向d2に沿って延びる4つの第2のスリット115bsが形成される。第1のスリット115asを通過する第1〜第4列の励起光EL1〜EL4の照射位置それぞれに、第2のスリット115bsが形成される。   As shown in FIG. 7, the second slit array 115b is formed with four second slits 115bs extending along the second direction d2. A second slit 115bs is formed at each irradiation position of the excitation light beams EL1 to EL4 in the first to fourth rows passing through the first slit 115as.

上述の構成において、第1のガルバノミラー114aに反射された第1列〜第4列の励起光EL1〜EL4はダイクロイックミラー216および第2のレンズ113bを透過する。透過した第1〜第4列の励起光の中から、試料Sに照射する励起光が第1のスリットアレイ115aによって選択される。なお、第2のスリットアレイ115bでは、第1のスリットアレイ115aを通過する励起光が制限されない。後述するように、第2のスリットアレイ115bは、試料Sから発する蛍光を制限するために用いられる。第1、第2のスリットアレイ115a、115bを通過した励起光は第3のレンズ113c、第2のガルバノミラー114b、第4、第5のレンズ113d、113e、および対物レンズ117を介して試料S上に集光されて照射される。   In the above configuration, the first to fourth rows of excitation light EL1 to EL4 reflected by the first galvanometer mirror 114a pass through the dichroic mirror 216 and the second lens 113b. The excitation light to be applied to the sample S is selected by the first slit array 115a from the transmitted first to fourth rows of excitation light. In the second slit array 115b, the excitation light passing through the first slit array 115a is not limited. As will be described later, the second slit array 115b is used to limit the fluorescence emitted from the sample S. The excitation light that has passed through the first and second slit arrays 115a and 115b passes through the third lens 113c, the second galvanometer mirror 114b, the fourth and fifth lenses 113d and 113e, and the objective lens 117. It is focused on and irradiated.

励起光の照射により発生する蛍光が対物レンズ117、第5、第4のレンズ113e、113d、第2のガルバノミラー114b、第3のレンズ113cを介して、第2のスリットアレイ115bに到達する。第1、第2のスリット115a、115bにより集光点以外の領域において発生した蛍光は遮光され、集光点において発生した蛍光のみが第1、第2のスリット115as、115bsを通過する。したがって、第1、第2のスリット115as、115bsにより共焦点効果を得ることが可能である。第1、第2のスリット115as、115bsを通過した蛍光は第2のレンズ113bを透過して、ダイクロイックミラー216により励起光から分離され、PMT118に受光される。   Fluorescence generated by the irradiation of excitation light reaches the second slit array 115b through the objective lens 117, the fifth and fourth lenses 113e and 113d, the second galvanometer mirror 114b, and the third lens 113c. The first and second slits 115a and 115b block the fluorescence generated in the region other than the focal point, and only the fluorescent light generated at the focal point passes through the first and second slits 115as and 115bs. Therefore, it is possible to obtain a confocal effect by the first and second slits 115as and 115bs. The fluorescence that has passed through the first and second slits 115as and 115bs passes through the second lens 113b, is separated from the excitation light by the dichroic mirror 216, and is received by the PMT 118.

第1の実施形態と同様に、PMT118により生成される画素信号および位置検出部により検出される位置信号が、画像処理装置101に伝達され、試料Sの2次元状の画像が再構成される。   As in the first embodiment, the pixel signal generated by the PMT 118 and the position signal detected by the position detection unit are transmitted to the image processing apparatus 101, and a two-dimensional image of the sample S is reconstructed.

以上のような構成の第2の実施形態の走査型顕微鏡によっても、第1の実施形態と同じく、低ノイズの画像を高速に取得可能である。また、第1の実施形態と同様に、フレームレートの最速化を達成することが可能である。   Also with the scanning microscope of the second embodiment configured as described above, a low-noise image can be acquired at high speed as in the first embodiment. Further, as in the first embodiment, it is possible to achieve the highest frame rate.

なお、第1の実施形態と異なり、ダイクロイックミラー216を第1のガルバノミラー114aと第2のレンズ113bとの間に設けることにより、第1、第2のスリット115as、115bsによる共焦点効果を得ることが可能である。第1の実施形態と異なり、共焦点効果を利用することにより光源から出射する励起光の種類をフェムト秒パルスレーザに限定することなく、連続波である励起光などを用いることが可能である。   Unlike the first embodiment, the dichroic mirror 216 is provided between the first galvanometer mirror 114a and the second lens 113b, thereby obtaining a confocal effect by the first and second slits 115as and 115bs. It is possible. Unlike the first embodiment, by using the confocal effect, it is possible to use excitation light that is a continuous wave without limiting the type of excitation light emitted from the light source to the femtosecond pulse laser.

次に本発明の第3の実施形態に係る走査型顕微鏡について説明する。第3の実施形態は、光学部材の配置などにおいて第2の実施形態と異なっている。以下に、第2の実施形態と異なる点を中心に第3の実施形態について説明する。なお、第1、第2の実施形態と同じ機能および構成を有する部位には同じ符号を付す。   Next, a scanning microscope according to the third embodiment of the present invention will be described. The third embodiment differs from the second embodiment in the arrangement of optical members and the like. The third embodiment will be described below with a focus on differences from the second embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the site | part which has the same function and structure as 1st, 2nd embodiment.

図8に示すように、第3の実施形態を適用した走査型顕微鏡310において、光源211、分岐器112、第1〜第5のレンズ113a〜113e、第1、第2のガルバノミラー114a、114b、第1、第2のスリットアレイ115a、115b、対物レンズ117、PMT118、および位置検出部119の機能および構成は第2の実施形態と同じである。また、画像処理装置101およびモニタ102の機能および構成も第2の実施形態と同じである。   As shown in FIG. 8, in the scanning microscope 310 to which the third embodiment is applied, the light source 211, the branching device 112, the first to fifth lenses 113a to 113e, the first and second galvanometer mirrors 114a and 114b. The functions and configurations of the first and second slit arrays 115a and 115b, the objective lens 117, the PMT 118, and the position detection unit 119 are the same as those in the second embodiment. The functions and configurations of the image processing apparatus 101 and the monitor 102 are also the same as those in the second embodiment.

第2の実施形態と異なり、ダイクロイックミラー316は、分岐器112と第1のレンズ113aとの間に設けられる。また、ダイクロイックミラー316とPMT118との間には、4つのコリメートレンズ120cを有するレンズアレイ120と集光レンズ121とが設けられる。   Unlike the second embodiment, the dichroic mirror 316 is provided between the branching device 112 and the first lens 113a. A lens array 120 having four collimating lenses 120c and a condenser lens 121 are provided between the dichroic mirror 316 and the PMT 118.

第1〜第4列の励起光EL1〜EL4に対応する蛍光がダイクロイックミラー316により反射されレンズアレイ120上に入射する位置それぞれに、コリメートレンズ120cが配置される。コリメートレンズ120cにより蛍光が平行光に変換され、集光レンズ121に入射する。集光レンズ121により、各列に対応する蛍光はPMT118の一点に集光される。   A collimator lens 120c is disposed at each position where the fluorescence corresponding to the first to fourth columns of excitation light EL1 to EL4 is reflected by the dichroic mirror 316 and incident on the lens array 120. The fluorescent light is converted into parallel light by the collimating lens 120 c and enters the condenser lens 121. The condensing lens 121 condenses the fluorescence corresponding to each column at one point of the PMT 118.

第2の実施形態と同様に、PMT118により生成される画素信号および位置検出部119により検出される位置信号が、画像処理装置101に伝達され、試料Sの2次元状の画像が再構成される。   Similar to the second embodiment, the pixel signal generated by the PMT 118 and the position signal detected by the position detection unit 119 are transmitted to the image processing apparatus 101, and a two-dimensional image of the sample S is reconstructed. .

以上のような構成の第3の実施形態の走査型顕微鏡によっても、第2の実施形態と同じく、低ノイズの画像を高速で取得可能である。また、第2の実施形態と同様に、フレームレートの最速化、および連続波を出射する光源を適用が可能である。   Also with the scanning microscope of the third embodiment configured as described above, a low-noise image can be acquired at high speed as in the second embodiment. Further, similarly to the second embodiment, it is possible to maximize the frame rate and apply a light source that emits a continuous wave.

さらに、第2の実施形態と異なり、レンズアレイ120を透過した蛍光は、励起光を出射した出射端によらず平行な方向に出射される。平行な方向に出射されるので集光レンズ121を用いることによりPMT118の1点に集光させることが可能である。したがって、第2の実施形態と異なり、検出部の小さなPMT118を用いることが可能となる。   Furthermore, unlike the second embodiment, the fluorescence transmitted through the lens array 120 is emitted in a parallel direction regardless of the emission end from which the excitation light is emitted. Since the light is emitted in a parallel direction, it is possible to collect light at one point of the PMT 118 by using the condensing lens 121. Therefore, unlike the second embodiment, it is possible to use the PMT 118 having a small detection unit.

本発明を諸図面や実施例に基づき説明してきたが、当業者であれば本開示に基づき種々の変形や修正を行うことが容易であることに注意されたい。従って、これらの変形や修正は本発明の範囲に含まれることに留意されたい。   Although the present invention has been described based on the drawings and examples, it should be noted that those skilled in the art can easily make various modifications and corrections based on the present disclosure. Therefore, it should be noted that these variations and modifications are included in the scope of the present invention.

例えば、上記の第1〜第3の実施形態において、第1のスリット115asは第1の方向d1に対して傾斜した形状であるが、このような形状に限定されない。例えば、図9に示すように、第1の直線L1が第1のガルバノミラー114aの回転軸に対して傾斜している場合には、図10に示すように、第1の方向d1に平行な方向に延びる形状に第1のスリット115asを形成してもよい。単一の第1のスリット115asに何れか列の励起光が通過するときに、他の列の励起光がすべての第1のスリット115asに入射されないように、第1のスリット115asが形成されれば、本実施形態と同じ効果を得ることが可能である。   For example, in the first to third embodiments, the first slit 115as has a shape inclined with respect to the first direction d1, but is not limited to such a shape. For example, as shown in FIG. 9, when the first straight line L1 is inclined with respect to the rotation axis of the first galvanometer mirror 114a, as shown in FIG. 10, it is parallel to the first direction d1. The first slit 115as may be formed in a shape extending in the direction. The first slits 115as are formed so that when one column of excitation light passes through the single first slit 115as, the excitation light of the other column is not incident on all the first slits 115as. In this case, the same effect as in the present embodiment can be obtained.

また、第1のスリットアレイ115aには、第1のスリット115asが形成される構成であるが、図11に示すように、スリットの代わりに複数の孔部122が形成されてもよい。各列の励起光の照射位置は、第1のガルバノミラー114aにより第2の方向に沿って変位する。各列の励起光の照射位置の連続的な変位に応じて、各列の励起光それぞれを異なる孔部122に通過させ、且つ、全列の励起光が異なる時期に孔部122を通過するように、孔部122が配置されれば、本実施形態と同様の効果を得ることが可能である。各列の励起光の照射位置の連続的な変位に応じて各列の励起光それぞれを異なる孔部122を通過させることにより、試料S上における画素として光学像を採取する複数の位置に各列の励起光を照射可能となるからである。また、各列の励起光の照射位置の連続的な変位に応じて、全列の励起光を異なる時期に孔部112に通過させることにより、照射時期を分離させることが可能である。なお。第1のスリット115asの代わりに孔部122を形成する構成にすれば、第2、第3の実施形態において、第2のスリットアレイ115bは不要である。   In addition, the first slit array 115a has a configuration in which the first slit 115as is formed. However, as shown in FIG. 11, a plurality of hole portions 122 may be formed instead of the slit. The irradiation position of the excitation light in each column is displaced along the second direction by the first galvanometer mirror 114a. According to the continuous displacement of the irradiation position of the excitation light of each row, the excitation light of each row is passed through different hole portions 122, and the excitation light of all rows passes through the hole portions 122 at different times. In addition, if the hole 122 is disposed, it is possible to obtain the same effect as in the present embodiment. Each row of excitation light in each row is passed through different hole portions 122 in accordance with the continuous displacement of the irradiation position of the excitation light in each row, so that each row has an optical image taken as a pixel on the sample S. This is because it becomes possible to irradiate the excitation light. Further, it is possible to separate the irradiation timings by passing the excitation light of all the rows through the holes 112 at different times in accordance with the continuous displacement of the excitation light irradiation positions of the respective rows. Note that. If the hole 122 is formed instead of the first slit 115as, the second slit array 115b is unnecessary in the second and third embodiments.

また、第2、第3の実施形態において、第1のスリットアレイ115aに積層させて第2のスリットアレイ115bを配置しているが、第2のスリットアレイ115bは設けなくてもよい。第2のスリットアレイ115bを設けなくても、第1のスリットアレイ115aにより第1のスリットを通過する光束以外の光を制限することは可能である。   In the second and third embodiments, the second slit array 115b is arranged by being stacked on the first slit array 115a. However, the second slit array 115b may not be provided. Even if the second slit array 115b is not provided, it is possible to limit light other than the light beam passing through the first slit by the first slit array 115a.

また、第2、第3の実施形態において、励起光を出射する光源211と、蛍光を分離するためにダイクロイックミラー116とを用いたが、通常の可視光を出射する光源を用い、偏向ビームスプリッタとλ/4板とを組合わせた構成のように光源から出射した光を透過し反射光分離する光学的分離器をダイクロイックミラー116の代わりに用いてもよい。   In the second and third embodiments, the light source 211 that emits the excitation light and the dichroic mirror 116 are used to separate the fluorescence. However, the light source that emits normal visible light is used, and the deflection beam splitter is used. Instead of the dichroic mirror 116, an optical separator that transmits the light emitted from the light source and separates the reflected light, such as a configuration in which the λ / 4 plate is combined, may be used.

また、第1の実施形態において、走査型顕微鏡110は落射型顕微鏡に適用される構成であるが、透過型顕微鏡に適用することも可能である。   In the first embodiment, the scanning microscope 110 is configured to be applied to an episcopic microscope, but can be applied to a transmission microscope.

また、第1〜第3の実施形態において、第2のガルバノミラー114bを用いて励起光を偏向させることにより試料Sを第2の走査方向に走査する構成であるが、試料を変位させるステージスキャナを用いて試料Sを走査する構成であってもよい。   In the first to third embodiments, the sample S is scanned in the second scanning direction by deflecting the excitation light using the second galvanometer mirror 114b. The sample S may be scanned using the.

また、第1〜第2の実施形態において、分岐器112を用いて励起光を4列に分岐する構成であるが、分岐器112を用いずに直接4つの光源を設けて、励起光を発する構成であってもよい。なお、分岐器112による分岐は4列に限定されない。2列以上に分岐されれば、シングルビーム走査型内視鏡に比べて画像取得が高速化される。   Further, in the first to second embodiments, the pump light is branched into four rows using the branching device 112, but four light sources are provided directly without using the branching device 112, and the pumping light is emitted. It may be a configuration. The branching by the branching unit 112 is not limited to four columns. If branched into two or more rows, the image acquisition is speeded up as compared with a single beam scanning endoscope.

また、第1〜第3の実施形態において、第1、第2のガルバノミラー114a、114bの回転速度に基づいて励起光の走査点を検出する構成であるが、他の方法により走査点を検出する構成であってもよい。例えば、エンコーダを用いて回転位置を検出して、回転位置に基づいて走査点を検出する構成であってもよい。   In the first to third embodiments, the scanning point of the excitation light is detected based on the rotational speeds of the first and second galvanometer mirrors 114a and 114b. However, the scanning point is detected by other methods. It may be configured to. For example, a configuration in which a rotational position is detected using an encoder and a scanning point is detected based on the rotational position may be used.

また、第1の実施形態において、ダイクロイックミラー116は対物レンズ117と第5のレンズ113eとの間に設けられる構成であるが、分岐器112から対物レンズ117までの間のいかなる位置に設けられてもよい。また、第2の実施形態において、ダイクロイックミラー116は第1のガルバノミラー114aと第2のレンズ113bとの間に設けられる構成であるが、分岐器112から第1のスリットアレイ115aまでの間のいかなる位置に設けられても良い。   In the first embodiment, the dichroic mirror 116 is provided between the objective lens 117 and the fifth lens 113e. However, the dichroic mirror 116 is provided at any position between the branching device 112 and the objective lens 117. Also good. In the second embodiment, the dichroic mirror 116 is provided between the first galvanometer mirror 114a and the second lens 113b. The dichroic mirror 116 is provided between the branching device 112 and the first slit array 115a. It may be provided at any position.

100 走査型顕微鏡システム
101 画像処理装置
110、210、310 走査型顕微鏡
111、211 光源
112 分岐器
113a〜113e 第1〜第5のレンズ
114a、114b 第1、第2のガルバノミラー
115a、115b 第1、第2のスリットアレイ
115as、115bs 第1、第2のスリット
116、216、316 ダイクロイックミラー
117 対物レンズ
118 PMT
119 位置検出部
EL1〜EL4 第1〜第4列の励起光
S 試料
t1〜t4 第1〜第4の出射端
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Scanning microscope system 101 Image processing apparatus 110, 210, 310 Scanning microscope 111, 211 Light source 112 Branch device 113a-113e 1st-5th lens 114a, 114b 1st, 2nd galvanometer mirror 115a, 115b 1st , Second slit array 115as, 115bs first, second slit 116, 216, 316 dichroic mirror 117 objective lens 118 PMT
119 Position detection unit EL1 to EL4 First to fourth rows of excitation light S Sample t1 to t4 First to fourth emission ends

Claims (7)

少なくとも第1、第2の出射点を同一平面上に有し、試料に照射する照射光を前記第1、第2の出射点から主光線が互いに平行になるように出射する光源ユニットと、
前記光源ユニットから出射した前記照射光の偏向方向を変える第1の走査手段と、
前記第1の走査手段により偏向された前記照射光が照射される第1の照射面を有し、前記第1の照射面には前記照射光を通過させる複数の孔部が形成される第1の光制限体と、
前記光制限体を通過した前記照射光を前記試料上に集光させる対物レンズと、
前記照射光の前記試料への照射により生じる信号光の受光量を検出する光量検出器と、
前記試料と前記光量検出器との間に設けられ、前記信号光を前記照射光から分離する光学的分離器と、
前記光量検出器による光量の検出時点における前記照射光の前記試料上の走査点の位置を検出する位置検出部と、
前記光量と前記走査点の位置に基づいて前記試料の画像を再構成する画像処理装置に、前記受光量と前記走査点の位置とを出力する出力器とを備え、
前記第1の走査手段は、前記試料上に照射される前記照射光の走査点を、前記照射光の偏向方向を変えることにより第1の走査方向に沿って移動可能であり、
前記複数の孔部は、前記第1の走査手段による偏向方向の連続的な変化に応じて、前記第1、第2の出射点から出射された前記照射光それぞれが異なる前記孔部を通過し、且つ、前記第1、第2の出射点から出射された前記照射光が異なる時期に前記孔部を通過するように、配置される
ことを特徴とする走査型顕微鏡。
A light source unit that has at least first and second emission points on the same plane, and emits irradiation light to irradiate the sample from the first and second emission points so that chief rays are parallel to each other;
First scanning means for changing a deflection direction of the irradiation light emitted from the light source unit;
A first irradiation surface on which the irradiation light deflected by the first scanning unit is irradiated; and a plurality of holes through which the irradiation light passes are formed in the first irradiation surface. Light limiter,
An objective lens for condensing the irradiation light that has passed through the light restrictor on the sample;
A light amount detector that detects the amount of signal light received by irradiating the sample with the irradiation light; and
An optical separator provided between the sample and the light amount detector, for separating the signal light from the irradiation light;
A position detection unit for detecting a position of a scanning point on the sample of the irradiation light at the time of detection of the light amount by the light amount detector;
An image processing device that reconstructs an image of the sample based on the light amount and the position of the scanning point, and an output device that outputs the received light amount and the position of the scanning point.
The first scanning means is movable along the first scanning direction by changing a scanning point of the irradiation light irradiated on the sample by changing a deflection direction of the irradiation light.
The plurality of hole portions pass through the hole portions where the irradiation lights emitted from the first and second emission points are different according to a continuous change in the deflection direction by the first scanning unit. And the scanning microscope characterized by arrange | positioning so that the said irradiation light radiate | emitted from the said 1st, 2nd radiation | emission point may pass the said hole part at a different time.
請求項1に記載の走査型顕微鏡において、前記光源ユニットは、フェムト秒パルス光を前記照射光として出射することを特徴とする走査型顕微鏡。   The scanning microscope according to claim 1, wherein the light source unit emits femtosecond pulsed light as the irradiation light. 請求項1に記載の走査型顕微鏡において、前記光源ユニットは連続波を前記照射光として出射し、前記光学的分離器が前記光源ユニットと前記第1の光制限体との間に設けられ、前記第1の光制限体は前記照射光が通過している前記孔部と前記対物レンズにより集光された前記照射光の集光点とが共役な位置になるように配置されることを特徴とする走査型顕微鏡。   The scanning microscope according to claim 1, wherein the light source unit emits a continuous wave as the irradiation light, the optical separator is provided between the light source unit and the first light restrictor, The first light restrictor is arranged so that the hole through which the irradiation light passes and the condensing point of the irradiation light condensed by the objective lens are in a conjugate position. Scanning microscope. 請求項3に記載の走査型顕微鏡において、
前記信号光が入射する第2の照射面を有し、前記第1、第2の出射点に対応する前記集光点と共役な位置に第2のスリットが形成され、前記第2のスリットは前記第1の走査手段による前記走査点の変位に対応する前記第2の照射面における前記信号光の変位方向に延びるように形成される第2の光制限体を備え、
前記孔部は、前記第1、第2の出射点から出射する前記照射光の夫々の前記第1の照射面上における照射位置を通る方向および前記第1の変位方向のいずれにも傾斜する方向に延びる第1のスリットであり、
前記第1の走査手段による偏向角度を変えることにより、前記第1、第2の出射点から出射した前記照射光が対応する前記照射光が、同一の前記第1のスリットを通過可能である
ことを特徴とする走査型顕微鏡。
The scanning microscope according to claim 3, wherein
The second slit has a second irradiation surface on which the signal light is incident, a second slit is formed at a position conjugate with the condensing point corresponding to the first and second emission points, and the second slit is A second light restricting body formed to extend in the displacement direction of the signal light on the second irradiation surface corresponding to the displacement of the scanning point by the first scanning means;
The hole portion is inclined in both the direction passing through the irradiation position on the first irradiation surface of the irradiation light emitted from the first and second emission points and the first displacement direction. A first slit extending to
The irradiation light corresponding to the irradiation light emitted from the first and second emission points can pass through the same first slit by changing the deflection angle by the first scanning means. A scanning microscope characterized by the above.
請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の走査型顕微鏡において、
前記光制限体と前記対物レンズとの間に設けられ、前記第1の走査方向と異なる第2の走査方向に沿って、前記走査点を相対的に移動させる第2の走査手段を備え、
前記第1、第2の出射点は、前記第1、第2の出射点それぞれに対応する前記走査点が前記第2の走査方向に沿った異なる範囲を変位するように配置される
ことをと特徴とする走査型顕微鏡。
In the scanning microscope according to any one of claims 1 to 4,
A second scanning unit provided between the light restrictor and the objective lens and relatively moving the scanning point along a second scanning direction different from the first scanning direction;
The first and second emission points are arranged such that the scanning points corresponding to the first and second emission points are displaced in different ranges along the second scanning direction. A scanning microscope.
請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の走査型顕微鏡において、
前記光源ユニットは、
前記照射光を出射する単一の光源と、
前記照射光の主光線が相互に平行となるように前記出射方向に垂直な平面上に配置された前記複数の出射端に、前記光源から出射する前記照射光を分岐する分岐器とを備える
ことを特徴とする走査型顕微鏡。
The scanning microscope according to any one of claims 1 to 5,
The light source unit is
A single light source for emitting the irradiation light;
A branching device that branches the irradiation light emitted from the light source at the plurality of emission ends arranged on a plane perpendicular to the emission direction so that chief rays of the irradiation light are parallel to each other; A scanning microscope characterized by the above.
少なくとも第1、第2の出射点を同一平面上に有し、試料に照射する照射光を前記第1、第2の出射点から主光線が互いに平行になるように出射する光源ユニットと、
前記光源ユニットから出射した前記照射光の偏向方向を変える第1の走査手段と、
前記第1の走査手段に偏向された前記照射光が照射される第1の照射面を有し、前記第1の照射面には前記照射光を通過させる複数の孔部が形成される第1の光制限体と、
前記光制限体を通過した前記照射光を前記試料上に集光させる対物レンズと、
前記照射光の前記試料への照射により生じる信号光の受光量を検出する光量検出器と、
前記試料と前記光量検出器との間に設けられ、前記信号光を前記照射光から分離する光学的分離器と、
前記光量検出器による光量の検出時点における前記照射光の前記試料上の走査点の位置を検出する位置検出部と、
前記光量と前記走査点の位置に基づいて前記試料の画像を再構成する画像処理装置に、前記受光量と前記走査点の位置とを出力する出力器と、
前記光量と前記照射位置に基づいて前記試料の画像を再構成する画像処理装置と、
前記試料の画像を表示するモニタとを備え、
前記第1の走査手段は、前記試料上に照射される前記照射光の走査点を、前記照射光の偏向方向を変えることにより第1の走査方向に沿って移動可能であり、
前記複数の孔部は、前記第1の走査手段による偏向方向の連続的な変化に応じて、前記第1、第2の出射点から出射された前記照射光それぞれが異なる前記孔部を通過し、且つ、前記第1、第2の出射点から出射された前記照射光が異なる時期に前記孔部を通過するように、配置される
ことを特徴とする走査型顕微鏡システム。
A light source unit that has at least first and second emission points on the same plane, and emits irradiation light to irradiate the sample from the first and second emission points so that chief rays are parallel to each other;
First scanning means for changing a deflection direction of the irradiation light emitted from the light source unit;
A first irradiation surface on which the irradiation light deflected by the first scanning unit is irradiated; and a plurality of holes that allow the irradiation light to pass through are formed on the first irradiation surface. Light limiter,
An objective lens for condensing the irradiation light that has passed through the light restrictor on the sample;
A light amount detector that detects the amount of signal light received by irradiating the sample with the irradiation light; and
An optical separator provided between the sample and the light amount detector, for separating the signal light from the irradiation light;
A position detection unit for detecting a position of a scanning point on the sample of the irradiation light at the time of detection of the light amount by the light amount detector;
An output device that outputs the received light amount and the position of the scanning point to an image processing device that reconstructs an image of the sample based on the light amount and the position of the scanning point;
An image processing device for reconstructing an image of the sample based on the light amount and the irradiation position;
A monitor for displaying an image of the sample,
The first scanning means is movable along the first scanning direction by changing a scanning point of the irradiation light irradiated on the sample by changing a deflection direction of the irradiation light.
The plurality of hole portions pass through the hole portions where the irradiation lights emitted from the first and second emission points are different according to a continuous change in the deflection direction by the first scanning unit. And the scanning microscope system characterized by arrange | positioning so that the said irradiation light radiate | emitted from the said 1st, 2nd radiation | emission point may pass the said hole part at a different time.
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