JP2012187288A - X-ray imaging apparatus - Google Patents
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 40
- LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H lead(2+);trioxido(oxo)-$l^{5}-arsane Chemical compound [Pb+2].[Pb+2].[Pb+2].[O-][As]([O-])([O-])=O.[O-][As]([O-])([O-])=O LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims abstract description 23
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 20
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 29
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 10
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 210000004872 soft tissue Anatomy 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
Images
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- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
Description
本発明は、タルボ効果によってＸ線位相コントラスト像を撮像するＸ線撮像装置に関する。 The present invention relates to an X-ray imaging apparatus that captures an X-ray phase contrast image by the Talbot effect.
Ｘ線は高い物質透過性を持ち、かつ高空間分解能イメージングが可能であることから、工業的利用として物体の非破壊検査、医療的利用としてレントゲン撮影、等に用いられている。
これらは、物体や生体内の構成元素や密度差によりＸ線透過時の吸収の違いを利用してコントラスト画像を形成するものであり、Ｘ線吸収コントラスト法と言われる。
しかしながら、軽元素ではＸ線吸収が非常に小さいため、生体の構成元素である炭素、水素、酸素などからなる生体軟組織、あるいはソフトマテリアルをＸ線吸収コントラスト法により画像化することは困難である。
これに対して、１９９０年代より、Ｘ線の位相差を用いた位相コントラスト法の研究が、放射光施設を中心に行なわれてきた。
また、実験室でのＸ線管を用いた位相イメージングについても研究が行なわれ、以下に記述する伝播法やタルボ干渉法、等が原理的に可能となっている。
伝播法とは、微焦点Ｘ線光源からでるＸ線を被写体に照射し、被検体での屈折されたＸ線を、被検体より十分に距離を離した検出器により検出する方法である。この手法は、従来の吸収コントラスト画像の輪郭を強調することで、より鮮明で見やすい画像を取得することが可能であるが、被検体内部の軟組織を画像化することは困難である。
X-rays have high material permeability and can be imaged with high spatial resolution, and are therefore used for non-destructive inspection of objects for industrial use and radiography for medical use.
In these methods, a contrast image is formed by utilizing a difference in absorption at the time of X-ray transmission due to a constituent element or density difference in an object or a living body, which is called an X-ray absorption contrast method.
However, since X-ray absorption is very small in light elements, it is difficult to image biological soft tissues or soft materials composed of carbon, hydrogen, oxygen, etc., which are constituent elements of the living body, by the X-ray absorption contrast method.
On the other hand, since the 1990s, research on the phase contrast method using the phase difference of X-rays has been conducted mainly in the synchrotron radiation facility.
Research has also been conducted on phase imaging using an X-ray tube in the laboratory, and the propagation method and Talbot interferometry described below are possible in principle.
The propagation method is a method of irradiating a subject with X-rays emitted from a fine-focus X-ray light source, and detecting refracted X-rays at the subject with a detector sufficiently away from the subject. This technique can acquire a clearer and easier-to-see image by enhancing the outline of a conventional absorption contrast image, but it is difficult to image a soft tissue inside a subject.
一方、タルボ干渉法とは、特許文献１に記載されているように、透過型の回折格子を用いて、ある干渉条件で発現する干渉縞から位相像を回復する方法である。このようなタルボ干渉法の代表的な構成例を、図８に示す。
図８において、８１はＸ線源、８２は被検体、８３は位相格子、８４は吸収格子、８５はＸ線検出器である。
タルボ干渉法による撮像のためには、空間的に可干渉なＸ線源８１、Ｘ線の位相を周期的に変調するための位相型回折格子（以下、位相格子と記す）８３、Ｘ線検出器８５が少なくとも必要である。
十分な空間的可干渉性を有するためには、λ×（Ｒ／ｓ）が、位相格子のピッチｄに対して十分大きい条件を満たすことが必要である。
ここで、λはＸ線の波長、ＲはＸ線源と位相格子との距離、ｓは線源のサイズである。
なお、この明細書において位相格子のピッチとは、格子が並んでいる周期を指している。
On the other hand, the Talbot interferometry is a method for recovering a phase image from interference fringes generated under a certain interference condition using a transmissive diffraction grating as described in Patent Document 1. A typical configuration example of such Talbot interferometry is shown in FIG.
In FIG. 8, 81 is an X-ray source, 82 is a subject, 83 is a phase grating, 84 is an absorption grating, and 85 is an X-ray detector.
For imaging by Talbot interferometry, a spatially coherent X-ray source 81, a phase type diffraction grating (hereinafter referred to as a phase grating) 83 for periodically modulating the phase of the X-ray, and X-ray detection A vessel 85 is at least required.
In order to have sufficient spatial coherence, it is necessary that λ × (R / s) satisfy a sufficiently large condition with respect to the phase grating pitch d.
Here, λ is the wavelength of the X-ray, R is the distance between the X-ray source and the phase grating, and s is the size of the source.
In this specification, the pitch of the phase grating refers to the period in which the gratings are arranged.
タルボ干渉は、位相格子から特定の距離において位相格子の形状を反映した干渉縞が出現する。これを自己像という。
この干渉縞が生じる位置は、Ｘ線源と位相格子との距離を十分大きいとした場合には、位相格子から（ｄ2／λ）×Ｎの距離離れたＸ線検出器側になる。ここでＮは位相格子の種類によって異なるが、例えば１次元のπ変調位相格子の場合にはＮ＝ｎ／４−１／８となる。ここでｎは自然数である。この位置をタルボ位置という。ここで、位相格子の前に被検体を配置すると、照射されたＸ線は被検体により屈折する。
被検体を透過したＸ線による位相格子の自己像を検出すれば、被検体の位相像を得ることができる。
但し、十分なコントラストで発生された自己像を検出するためには、空間分解能の高いＸ線検出器が必要となるが、一般的に使用可能なＸ線検出器では分解能が不十分である場合が多い。そのため、直接自己像を検出する方法ではなく、Ｘ線を吸収する材料で作製され十分な厚さを持つ回折格子である吸収格子を通して撮像することが行なわれている。
In Talbot interference, interference fringes reflecting the shape of the phase grating appear at a specific distance from the phase grating. This is called self-image.
When the distance between the X-ray source and the phase grating is sufficiently large, the position where the interference fringes occur is on the X-ray detector side that is a distance of (d 2 / λ) × N from the phase grating. Here, N varies depending on the type of the phase grating, but for example, in the case of a one-dimensional π-modulated phase grating, N = n / 4−1 / 8. Here, n is a natural number. This position is called the Talbot position. Here, when the subject is arranged in front of the phase grating, the irradiated X-rays are refracted by the subject.
A phase image of the subject can be obtained by detecting a self-image of the phase grating by X-rays transmitted through the subject.
However, in order to detect a self-image generated with sufficient contrast, an X-ray detector with a high spatial resolution is required. However, when the resolution is insufficient with a generally usable X-ray detector. There are many. For this reason, imaging is performed through an absorption grating, which is a diffraction grating made of a material that absorbs X-rays and having a sufficient thickness, instead of a method of directly detecting a self-image.
非特許文献１や特許文献２に見られるように、吸収格子は使用するＸ線を部分的に遮断出来る様に、厚い金属のスリット配列で構成されている。
例えば、その間隔は２μｍ、幅が約１μｍ、厚みが２６μｍの高アスペクト比を有する金で作製されている。この格子作製には一般的にＭＥＭＳ技術が用いられている。
この位相格子を透過したＸ線が自己像を形成する位置であるタルボ位置に吸収格子を配置すれば位相シフトの情報はモアレ縞の変形として検出することができることから、このモアレ縞をＸ線検出器で検出すれば、被検体を撮像することが可能となる。
As can be seen in Non-Patent Document 1 and
For example, the gap is made of gold having a high aspect ratio of 2 μm, a width of about 1 μm, and a thickness of 26 μm. In general, MEMS technology is used for manufacturing the lattice.
If an absorption grating is placed at the Talbot position, where X-rays transmitted through this phase grating form a self-image, phase shift information can be detected as deformation of the Moire fringes. If it is detected by the instrument, the subject can be imaged.
しかしながら、上記従来例の方法では、吸収格子の作製が困難であるという課題を有している。また、金の様な貴金属を用いることは装置コスト上も問題である。
使用するＸ線のエネルギーが高くなると、この吸収格子は更に厚くする必要があり、例えば３０ＫｅＶ以上のエネルギーを有するＸ線では厚みが５０μｍ以上必要になってくる。
また、吸収格子を用いることにより、本来情報を有するＸ線強度分布の一部を遮断して捨てることになる。例えば、特許文献２で示した方法では、遮断する割合は５０％に達している。
However, the above conventional method has a problem that it is difficult to produce an absorption grating. In addition, the use of a noble metal such as gold is problematic in terms of apparatus cost.
When the energy of X-rays to be used increases, the absorption grating needs to be further thickened. For example, X-rays having energy of 30 KeV or more require a thickness of 50 μm or more.
Further, by using the absorption grating, a part of the X-ray intensity distribution originally having information is cut off and discarded. For example, in the method shown in
本発明は、上記課題に鑑み、吸収格子を用いないでＸ線位相コントラスト像を取得することが可能となるＸ線撮像装置を提供することを目的とする。 In view of the above problems, an object of the present invention is to provide an X-ray imaging apparatus capable of acquiring an X-ray phase contrast image without using an absorption grating.
本発明は、次のように構成したＸ線撮像装置を提供するものである。
本発明のＸ線撮像装置は、Ｘ線源からのＸ線を用い、タルボ効果によってＸ線位相コントラスト像を撮像するＸ線撮像装置であって、
前記Ｘ線源からのＸ線が入射する位置に配置される被検体の前方または後方にあって、透過するＸ線のタルボ効果により自己像を形成するための第一の回折格子と、
前記第一の回折格子によって自己像が形成される位置に配置される第二の回折格子と、
前記第二の回折格子を透過したＸ線の強度分布を検出するための画素を備えたＸ線検出器と、を有し、
前記第二の回折格子がプリズム格子で構成され、該プリズム格子によって前記自己像の特定の部分を前記Ｘ線検出器における特定の画素に反映させることが可能に構成されていることを特徴とする。
The present invention provides an X-ray imaging apparatus configured as follows.
An X-ray imaging apparatus of the present invention is an X-ray imaging apparatus that uses an X-ray from an X-ray source and captures an X-ray phase contrast image by a Talbot effect,
A first diffraction grating for forming a self-image by a Talbot effect of transmitted X-rays in front of or behind a subject arranged at a position where X-rays from the X-ray source are incident;
A second diffraction grating disposed at a position where a self-image is formed by the first diffraction grating;
An X-ray detector comprising a pixel for detecting an intensity distribution of X-rays transmitted through the second diffraction grating,
The second diffraction grating is configured by a prism grating, and the prism grating is configured to reflect a specific portion of the self-image on a specific pixel in the X-ray detector. .
本発明によれば、吸収格子を用いないでＸ線位相コントラスト像を取得することが可能となるＸ線撮像装置を実現することができる。 According to the present invention, an X-ray imaging apparatus capable of acquiring an X-ray phase contrast image without using an absorption grating can be realized.
次に、本発明の実施形態におけるＸ線撮像装置について説明する。
本実施形態では、Ｘ線源からのＸ線を用い、タルボ効果によってＸ線位相コントラスト像を撮像するＸ線撮像装置において、ビームスプリッターを用いる場合の構成例について説明する。
本実施形態では、図１に示すように、入射Ｘ線１側からビームスプリッター２、位相格子（第一の回折格子）３、プリズム格子（第二の回折格子）４、第二の回折格子を透過したＸ線の強度分布を検出するＸ線検出器５を備えている。
各々は概ねＸ線入射方向に対して垂直に、またお互いに平行に配置されている。本実施形態では、前記Ｘ線源からのＸ線が入射する位置に配置される被検体の前方または後方にあって、透過するＸ線のタルボ効果により自己像を形成するための第一の回折格子は位相格子３で構成されるが、位相格子でなくても吸収格子であってもよい。但し、Ｘ線利用効率の観点から見れば、位相格子であることが好ましい。
Next, an X-ray imaging apparatus according to an embodiment of the present invention will be described.
In the present embodiment, a configuration example in which a beam splitter is used in an X-ray imaging apparatus that captures an X-ray phase contrast image by the Talbot effect using X-rays from an X-ray source will be described.
In this embodiment, as shown in FIG. 1, the
Each is arranged substantially perpendicular to the X-ray incident direction and parallel to each other. In the present embodiment, the first diffraction for forming a self-image by the Talbot effect of the transmitted X-ray that is in front of or behind the subject arranged at the position where the X-ray from the X-ray source is incident. Although the grating is composed of the phase grating 3, it may be an absorption grating instead of a phase grating. However, from the viewpoint of X-ray utilization efficiency, a phase grating is preferable.
この位相格子の周期は入射Ｘ線がタルボ干渉を発生させる必要があることから、一般的には１５μｍ以下の周期構造であることが好ましい。
この位相格子によりタルボ距離れたＸ線下流側に自己像６が形成される。自己像の周期はＸ線照射系の拡大率と位相格子の形状に依存するが、概ね１〜１５μｍの周期構造となる。
Ｘ線検出器としてＸ線検出エリアセンサーを用いた場合には一般的に画素サイズが数十μｍ以上であるため、直接この自己像を撮像することは出来ない。
従来技術では吸収格子により自己像の一部、例えば明部のみを遮蔽し暗部のみを検出素子に導くことにより撮像を可能としている。
自己像の周期構造は位相格子の形状に対応して１次元、もしくは２次元の明暗のパターンとなる。ここでは簡単のため、１次元について説明するが、当然２次元にも拡張可能である。
Since the phase of the phase grating needs to generate Talbot interference by incident X-rays, it is generally preferable that the phase grating has a periodic structure of 15 μm or less.
A self-image 6 is formed on the downstream side of the X-ray at a Talbot distance by this phase grating. The period of the self-image depends on the magnification of the X-ray irradiation system and the shape of the phase grating, but has a periodic structure of approximately 1 to 15 μm.
When an X-ray detection area sensor is used as the X-ray detector, since the pixel size is generally several tens of μm or more, this self-image cannot be directly captured.
In the prior art, a part of a self-image, for example, only a bright part is shielded by an absorption grating, and only a dark part is guided to a detection element, thereby enabling imaging.
The periodic structure of the self-image becomes a one-dimensional or two-dimensional light-dark pattern corresponding to the shape of the phase grating. Here, for the sake of simplicity, only one dimension will be described, but naturally it can be extended to two dimensions.
本実施形態では、プリズム格子によって自己像の特定の部分をＸ線検出器における特定の画素に反映させることが可能に構成される。
このプリズム格子を配置する位置は自己像のできる位置が好ましく、本実施形態ではこの位置に配置される。
ここで、タルボ干渉では自己像が形成される位置が周期的に表れるが、一番距離が短い位置に配置することが全体の装置長からは好ましい。
ここで、位相格子３で形成される自己像の周期とプリズム格子の周期は同じ場合を説明するが、モアレの形成が可能な範囲で同程度の周期としてもよい。例えば、若干周期や傾きを変えることによりモアレを形成させて位相情報を取得することも可能である。
In the present embodiment, a specific portion of the self-image is configured to be reflected on a specific pixel in the X-ray detector by the prism grating.
The position where the prism grating is arranged is preferably a position where a self-image can be formed. In this embodiment, the prism grating is arranged at this position.
Here, in Talbot interference, the position where the self-image is formed appears periodically, but it is preferable from the overall apparatus length to arrange at the position where the distance is the shortest.
Here, although the case where the period of the self-image formed by the phase grating 3 and the period of the prism grating are the same will be described, the period may be the same as long as moire can be formed. For example, it is also possible to acquire phase information by forming moire by slightly changing the period and inclination.
図１では被検体が挿入されていない初期の状態を示している。
ここでは自己像に歪みは無く、図２に示されているように自己像の明暗に対応した位置にプリズムの凹凸周期が重なる様に配置されている。
Ｘ線の屈折率は物質中で１．０より若干小さいので、プリズムに入射したＸ線の明暗領域は、プリズムにより図２にあるように屈折Ｘ線Ａ２４と屈折Ｘ線Ｂ２５に分離される。
プリズムによる屈折の角度とプリズム格子４とＸ線検出器５の距離を適切にすると、自己像の暗部と明部が図１に示す様に検出器に別々の一部を投影することが可能となる。
投影後にはプリズムによりＸ線が広がるので、ビームスプリッター２を挿入することにより、投影された暗部と明部を分けて撮像することが可能となる。
FIG. 1 shows an initial state in which no subject is inserted.
Here, there is no distortion in the self-image, and as shown in FIG. 2, the prisms are arranged so that the concave and convex periods of the prism overlap at positions corresponding to the brightness and darkness of the self-image.
Since the refractive index of X-rays is slightly smaller than 1.0 in the substance, the bright and dark region of X-rays incident on the prism is separated into refracted X-rays A24 and refracted X-rays B25 as shown in FIG.
When the angle of refraction by the prism and the distance between the prism grating 4 and the
Since X-rays are spread by the prism after projection, it is possible to separately capture the image of the projected dark part and bright part by inserting the
図３にはＸ線入射方向から見たＸ線の分離の様子を示す。
図３（ａ）、（ｂ）は１次元の場合の例であり、図３（ａ）は自己像のパターンであり、水平に干渉縞が現れる。
図３（ｂ）はプリズム格子を抜けて検出器面での分離像の一部であり、細かく分かれていた干渉縞の明部と暗部が大きく上限に分離されている。
FIG. 3 shows a state of X-ray separation as viewed from the X-ray incident direction.
FIGS. 3A and 3B are examples of a one-dimensional case, and FIG. 3A is a self-image pattern in which interference fringes appear horizontally.
FIG. 3B shows a part of the separated image on the detector surface through the prism grating. The bright and dark portions of the interference fringes that are finely separated are largely separated to the upper limit.
図３（ｃ）、（ｄ）は２次元の場合の一例であり、図３（ｂ）は市松格子状の自己像のパターンが現れる。
これに１次元で用いたプリズム格子を縦と横方向に設置すると市松模様の４つの領域が拡大される。
図３（ｄ）にプリズム格子を抜けて検出器面での分離像の一部を示すが、細かく分かれていた干渉縞の明部と暗部が２次元でも大きく上限に分離されている。
光線追跡と屈折による解析では、上記のプリズムによる明部、暗部の分離は完全であるが、実際に光を波面として計算すると分離は完全ではない。
分離を良くするにはビーム領域にあるプリズムの数を多くすることが好ましく、実質的には４以上あることが好ましい。
FIGS. 3C and 3D are examples of a two-dimensional case, and FIG. 3B shows a checkered self-image pattern.
If the prism grating used in one dimension is installed in the vertical and horizontal directions, the four areas of the checkered pattern are enlarged.
FIG. 3D shows a part of the separated image on the detector surface after passing through the prism grating. The bright and dark portions of the interference fringes that are finely separated are largely separated to the upper limit even in two dimensions.
In the analysis based on ray tracing and refraction, the bright part and the dark part are completely separated by the prism, but the separation is not perfect when light is actually calculated as a wavefront.
In order to improve the separation, it is preferable to increase the number of prisms in the beam region, and it is preferable that there are substantially four or more.
本実施形態のＸ線検出器はＸ線エリアセンサーを用いる方法が一般的であるが、フィルムを用いて撮像することも可能である。
その場合にはフィルムを現像後にデジタル画像にして処理する事が必要となる。また、Ｘ線エリアセンサーにはシンチレータを介する間接変換型でもアモルファスセレンなどを用いた直接変換型のセンサーを用いても構わない。
図１の構成ではビームスプリッターが必要となるが、プリズム格子に周期ずれを形成することによりビームスプリッターを不要にすることができる。
以下に、一定間隔で半周期ずれるようにした構成について、図４を用いて説明する。
図４ではプリズム格子４において、一定周期、ここでは４つの凸部毎に半周期だけプリズム周期をプリズムずらし部４１によりずらしている。
これによる屈折の作用を図４では暗部に対応するＸ線だけを示す。半周期ずらすことにより、暗部の情報のみＸ線検出器５の特定のエリア、例えば図１中の画素Ａ７に集光させることが可能となる。
この場合図示はしていないが、明部は画素Ｂ８に集光される。Ｘ線検出素子では周期的に明部と暗部が集光されることになる。
The X-ray detector of this embodiment is generally a method using an X-ray area sensor, but it is also possible to take an image using a film.
In that case, it is necessary to process the film into a digital image after development. The X-ray area sensor may be an indirect conversion type using a scintillator or a direct conversion type sensor using amorphous selenium or the like.
In the configuration of FIG. 1, a beam splitter is required, but the beam splitter can be eliminated by forming a period shift in the prism grating.
Hereinafter, a configuration in which a half cycle is shifted at regular intervals will be described with reference to FIG.
In FIG. 4, in the prism grating 4, the prism period is shifted by a prism shift unit 41 by a fixed period, here, by a half period for every four convex parts.
FIG. 4 shows only the X-ray corresponding to the dark part as the refraction effect due to this. By shifting the half cycle, it is possible to focus only the information on the dark part on a specific area of the
In this case, although not shown in the figure, the bright part is condensed on the pixel B8. In the X-ray detection element, the bright part and the dark part are periodically condensed.
実際の撮像方法には１回のみ撮像して明視野像、暗視野像を取得する方法がある。
この場合には図１、図４に示したプリズム格子配置において、被検体を位相格子の前方、もしくは後方に設置すれば良い。
また、プリズム格子のピッチを自己像と若干変えたり、もしくは自己像の向きと若干変化させることによりモアレを形成したのち画像処理、例えばＦＦＴ法により画像を形成可能である。
いずれの場合もＸ線検出器の明部に対応する強度情報と暗部に対応する強度情報を別々に扱うことにより達成出来る。
情報処理は従来のタルボ法と同等に出来る。但し、従来の吸収格子を用いる撮像装置では明視野像と暗視野像を得るには最低２回の撮像が必要であったが、本発明では１回の撮像で可能となる。
As an actual imaging method, there is a method of acquiring a bright field image and a dark field image by imaging only once.
In this case, the subject may be placed in front of or behind the phase grating in the prism grating arrangement shown in FIGS.
Further, it is possible to form an image by image processing, for example, FFT method after forming moire by slightly changing the pitch of the prism grating from the self image or by slightly changing the direction of the self image.
In either case, it can be achieved by separately handling the intensity information corresponding to the bright part and the intensity information corresponding to the dark part of the X-ray detector.
Information processing can be made equivalent to the conventional Talbot method. However, in a conventional imaging apparatus using an absorption grating, at least two imaging operations are necessary to obtain a bright-field image and a dark-field image, but in the present invention, it is possible to perform an imaging operation once.
上記の撮像装置による方法以外にも、縞走査法と呼ばれる方法も可能である。縞走査法とは一般的に第一の回折格子と第二の回折格子の入射Ｘ線に対する位置関係を複数回変化させて撮像する方法が採られる。
１次元タルボ法においては、例えば吸収格子である第二の回折格子を格子とは垂直方向に回折格子のピッチ以下の距離を移動させて最低３回以上撮像する。これにより各画素での位相変化量を計算することができる。
本発明でも縞走査法の適用が可能であり、第一の回折格子と第二の回折格子、すなわちプリズム格子のＸ線に対する位置関係を若干変化させて撮像することが可能である。
例えば、プリズム格子４をプリズムの凹凸とは垂直方向に凹凸周期の数分の１ずつ移動させて撮像することにより同等の撮像が可能である。
本実施形態では前述した様に自己像の明部と暗部を同時に測定可能であるので、基本的には２回の撮像で位相情報が取得可能である。
In addition to the above method using an imaging device, a method called a fringe scanning method is also possible. The fringe scanning method generally employs a method of imaging by changing the positional relationship of the first diffraction grating and the second diffraction grating with respect to the incident X-rays a plurality of times.
In the one-dimensional Talbot method, for example, a second diffraction grating, which is an absorption grating, is imaged at least three times by moving a distance equal to or less than the pitch of the diffraction grating in a direction perpendicular to the grating. Thereby, the amount of phase change in each pixel can be calculated.
The fringe scanning method can also be applied in the present invention, and imaging can be performed by slightly changing the positional relationship of the first diffraction grating and the second diffraction grating, that is, the prism grating with respect to the X-ray.
For example, the same image can be obtained by moving the prism grating 4 in a direction perpendicular to the unevenness of the prism by a fraction of the unevenness period.
In the present embodiment, as described above, since the bright part and the dark part of the self-image can be measured at the same time, the phase information can be basically acquired by imaging twice.
上記したように、実際にＸ線を波面として計算するとプリズムによる分離は完全ではない。
分離を良くするにはビーム領域にあるプリズムの数を多くする方法以外にレンズアレーを用いる方法が可能である。
図５にＸ線レンズアレー９をプリズム格子４の前方に配置した例を示す。
レンズアレーはプリズムよりピッチが広く、Ｘ線検出器での画素の２倍のピッチに拡大率で割ったピッチが有効である。
このレンズにより各画素への自己像の暗部と明部の投影が絞れることになる。Ｘ線レンズアレー９をプリズム格子４の後方に配置した場合にも同様な効果が得られる。
As described above, when the X-ray is actually calculated as a wavefront, the separation by the prism is not complete.
In order to improve the separation, a method using a lens array is possible in addition to a method of increasing the number of prisms in the beam region.
FIG. 5 shows an example in which the X-ray lens array 9 is arranged in front of the prism grating 4.
The pitch of the lens array is wider than that of the prism, and a pitch obtained by dividing the pitch of the pixel in the X-ray detector by the magnification factor is effective.
By this lens, the projection of the dark part and the bright part of the self image on each pixel can be narrowed down. A similar effect can be obtained when the X-ray lens array 9 is arranged behind the prism grating 4.
本実施形態のプリズム格子の具体的な構造を図６を用いて説明する。
本実施形態では、プリズム格子を、断面の形状が三角形である部位、あるいは傾いた四角形である部位を複数有した構成とすることができる。
図６（ａ）、（ｂ）はずらし部が無いプリズム格子の構造例である。図６（ａ）ではプリズム格子の凸部分の１つ１つの断面形状が２等辺三角形をしており、図中左側から右側へＸ線が入射される場合には、プリズム上下へＸ線は回折される。
プリズム格子を形成する材料には特に限定は無く、シリコンでも有機物でも金属や半導体、セラミックでも良い。
但し、Ｘ線が高エネルギーになると屈折角が小さくなり、分離を発生する為に必要なプリズム格子とＸ線検出器の距離が大きくなる。
このような場合にはプリズム格子の凸部アスペクト比を大きくする必要が出てきて、例えばプリズム凸の幅が数μｍ、高さが数十μｍ以上必要になる。
このような高アスペクト比の微細構造を一般的には作製が困難である。この場合には、図６（ｂ）に示すように平行スリットを作製して若干傾ける方法が有効である。
傾き角は図中矢印で示す様に入射Ｘ線に対してがスリット幅分ずれるようにする。このようなスリット構造はＳｉウェハーに対してＭＥＭＳ技術で作製可能であり、Ｓｉにマスクをストライプ状に形成した後に、深堀のエッチングを施す事により達成出来る。
A specific structure of the prism grating of the present embodiment will be described with reference to FIG.
In the present embodiment, the prism grating can be configured to have a plurality of portions whose cross-sectional shape is a triangle or portions that are inclined quadrilaterals.
FIGS. 6A and 6B are structural examples of a prism grating without a shift portion. In FIG. 6A, each cross-sectional shape of the convex part of the prism grating is an isosceles triangle, and when X-rays are incident from the left side to the right side in the figure, the X-rays are diffracted up and down the prism. Is done.
The material for forming the prism grating is not particularly limited, and may be silicon, organic material, metal, semiconductor, or ceramic.
However, when the X-ray becomes high energy, the refraction angle becomes small, and the distance between the prism grating and the X-ray detector necessary for generating separation increases.
In such a case, it is necessary to increase the convex aspect ratio of the prism grating. For example, the width of the prism convex is several μm and the height is several tens μm or more.
Such a high aspect ratio microstructure is generally difficult to fabricate. In this case, it is effective to produce a parallel slit and slightly tilt it as shown in FIG.
The inclination angle is set to be shifted by the slit width with respect to the incident X-ray as indicated by an arrow in the figure. Such a slit structure can be produced with respect to a Si wafer by the MEMS technique, and can be achieved by forming a mask on Si in a stripe shape and then performing deep etching.
図４で示した様な半ピッチずれを有するプリズム格子を作製するには、図５（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）に示すような構造が可能である。
図６（ｃ）はプリズム凹凸の片側だけ存在させることによりずらし部６２を形成する例である。また、図６（ｄ）はプリズム凹凸の半周期分プリズムを無くしてずらし部６３を形成する例であり、図６（ｅ）はプリズム凹凸の半周期分プリズムではなくＸ線遮断部分を形成してずらし部６４を形成する例である。
先ほど同様に三角の形状を作製するのが困難な場合には、図６（ｆ）に示すように、ずらし部の部分のみスリットの幅を太く、もしくは狭くして、上記同様に傾けることによりプリズム格子が作製可能である。
以上のようなプリズムを例えばＳｉで形成するのであれば、プリズム周期を４μｍとしたとき、１７．７ｋｅＶのＸ線に対しては４５μｍ、あるいは３５ｋｅＶであれば９０μｍあればプリズム半周期での位相差が２πとなる。
これにより、プリズム格子から検出器までの距離を１ｍ程度にすることができることになる。
また、このようなプリズム格子を備えたＸ線位相撮像装置を実現することができる。
以上の本実施形態の構成によれば、金などの高アスペクト比金属スリットも用いることなく、Ｘ線位相コントラスト像を撮像することが可能となる。
また、吸収格子によって遮断破棄されてきたＸ線も情報として取り出すことが可能になる。
In order to fabricate a prism grating having a half-pitch shift as shown in FIG. 4, the structures shown in FIGS. 5C, 5D, 5E, and 5F are possible.
FIG. 6C shows an example in which the shift portion 62 is formed by allowing only one side of the prism irregularities to exist. FIG. 6D shows an example in which the prism 63 is formed by eliminating the prism for the half period and the shift part 63 is formed, and FIG. 6E is for forming the X-ray blocking portion instead of the prism for the half period. This is an example in which the shifting portion 64 is formed.
If it is difficult to produce a triangular shape as before, as shown in FIG. 6 (f), the slit is widened or narrowed only at the shifted portion, and the prism is tilted in the same manner as described above. A grating can be made.
If the prism as described above is formed of Si, for example, when the prism period is set to 4 μm, the phase difference in the half period of the prism is 45 μm for 17.7 keV X-rays, or 90 μm if 35 keV. Becomes 2π.
As a result, the distance from the prism grating to the detector can be about 1 m.
In addition, an X-ray phase imaging apparatus including such a prism grating can be realized.
According to the configuration of the present embodiment, an X-ray phase contrast image can be taken without using a high aspect ratio metal slit such as gold.
Also, X-rays that have been cut off and discarded by the absorption grating can be taken out as information.
以下に、本発明の実施例について説明する。
［実施例１］
実施例１においては、ビームスプリッターを用いた１次元タルボ法を適用したＸ線撮像装置の構成例について説明する。
本実施例においては、図１の構成の数値計算を行った。ここでＸ線は平行光であり、エネルギーを１７．５ＫｅＶとした。また、第一の回折格子には位相格子を利用し、ピッチ８μｍで位相差を４μｍおきにπだけ形成する。
第二の回折格子にはプリズム格子を用い、ピッチ４μｍで高さを位相差で２π分とした。ビームスプリッターの開口幅は６４μｍであり、プリズムの凹凸が１６ケ入る様にした。
この条件では位相格子から下流側に１１．２９ｃｍの位置に自己像が形成されるので、その位置にプリズム格子を配置した。Ｘ線検出器はプリズム格子から下流側に９０．３２ｃｍとすることにより最適な位置となる。
Examples of the present invention will be described below.
[Example 1]
In the first embodiment, a configuration example of an X-ray imaging apparatus to which a one-dimensional Talbot method using a beam splitter is applied will be described.
In this example, the numerical calculation of the configuration of FIG. 1 was performed. Here, the X-ray is parallel light, and the energy is 17.5 KeV. A phase grating is used for the first diffraction grating, and a phase difference of π is formed at a pitch of 8 μm every 4 μm.
A prism grating was used as the second diffraction grating, and the height was set to 2π in terms of phase difference at a pitch of 4 μm. The aperture width of the beam splitter was 64 μm, and 16 prism irregularities were formed.
Under this condition, since a self-image is formed at a position of 11.29 cm downstream from the phase grating, a prism grating is disposed at that position. The X-ray detector is positioned optimally by being 90.32 cm downstream from the prism grating.
図７（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に計算結果を示す。
図７（ａ）は、図１の構成における画素Ａ７、画素Ｂ８でのＸ線の縦方向の強度分布である。
プリズム位置は自己像の明暗の位置に合致するように配置してある。各画素での合計のＸ線の強度比は画素Ａ：画素Ｂ＝２０：８０であり明暗の分離が得られていることがわかる。
この結果から、明部の画素情報をＸ線検出器全体から抽出してＦＦＴ画像処理することにより、明視野微分位相像を抽出できることがわかる。
また逆に暗部の画素情報をＸ線検出器全体から抽出してＦＦＴ画像処理することにより、暗視野微分位相像を抽出できる。
The calculation results are shown in FIGS. 7 (a), (b), and (c).
FIG. 7A shows the intensity distribution in the vertical direction of the X-rays at the pixel A7 and the pixel B8 in the configuration of FIG.
The prism position is arranged so as to match the bright and dark positions of the self-image. It can be seen that the total X-ray intensity ratio in each pixel is pixel A: pixel B = 20: 80, and light and dark separation is obtained.
From this result, it is understood that the bright field differential phase image can be extracted by extracting the pixel information of the bright part from the entire X-ray detector and performing the FFT image processing.
Conversely, the dark field differential phase image can be extracted by extracting the pixel information of the dark portion from the entire X-ray detector and performing FFT image processing.
次にプリズム格子を１／４、１／２周期だけ縦方向に移動させた場合の計算結果を図７（ｂ）、（ｃ）にそれぞれ示す。
プリズム格子を１／４周期ずらした場合では、各画素での合計のＸ線の強度比は３２：６８となり、プリズム格子を１／２周期だけ移動させた場合、つまり明部と暗部が同じ割合でプリズムの片面に入射した場合では４９：５１となる。これらにより、プリズム移動量にしたがって明部と暗部が分離されていることが理解できる。このことから縞走査法が出来ていることがわかる。
Next, FIGS. 7B and 7C show calculation results when the prism grating is moved in the vertical direction by ¼ and ½ periods, respectively.
When the prism grating is shifted by ¼ period, the total X-ray intensity ratio at each pixel is 32:68, and when the prism grating is moved by ½ period, that is, the ratio of the bright part and the dark part is the same. When the light is incident on one side of the prism, the ratio is 49:51. Thus, it can be understood that the bright part and the dark part are separated according to the prism movement amount. This shows that the fringe scanning method is completed.
［実施例２］
実施例２においては、実施例１にレンズアレーを追加した１次元タルボ法を適用したＸ線撮像装置の構成例について説明する。
本実施例では図１の構成に、図５で示したレンズアレーを追加した計算を行った。ここでＸ線レンズアレーはプリズム格子４の前方に配置した。
この計算でもプリズム内での最大位相変化量を２πとし、レンズアレー内での位相変化量、すなわち傾きはプリズムの半分としている。レンズアレーのピッチは６４μｍである。
[Example 2]
In the second embodiment, a configuration example of an X-ray imaging apparatus to which a one-dimensional Talbot method in which a lens array is added to the first embodiment is applied will be described.
In this embodiment, calculation was performed by adding the lens array shown in FIG. 5 to the configuration of FIG. Here, the X-ray lens array is arranged in front of the prism grating 4.
In this calculation, the maximum phase change amount in the prism is 2π, and the phase change amount in the lens array, that is, the inclination is half that of the prism. The pitch of the lens array is 64 μm.
図７（ｄ）に計算した結果を示す。
図７（ｄ）は、図１の構成における画素Ａ７、画素Ｂ８でのＸ線の強度分布である。
レンズアレーが無い場合の図７（ａ）と比較すると、コントラストが明確になっているのが分かる。各画素での合計のＸ線の強度比は画素Ａ：画素Ｂ＝９：９１であり、Ｘ線レンズアレー９が無い場合と比較して分離度の向上がみられる。
また、Ｘ線レンズアレー９をプリズム格子４の後方に配置した場合にも同様な効果が得られる。
FIG. 7D shows the calculation result.
FIG. 7D is an X-ray intensity distribution at the pixel A7 and the pixel B8 in the configuration of FIG.
It can be seen that the contrast is clearer than in FIG. 7A when there is no lens array. The total X-ray intensity ratio in each pixel is pixel A: pixel B = 9: 91, and the degree of separation is improved as compared with the case where the X-ray lens array 9 is not provided.
The same effect can be obtained when the X-ray lens array 9 is arranged behind the prism grating 4.
１：入射Ｘ線
２：ビームスプリッター
３：位相格子
４：プリズム格子
５：Ｘ線検出器
６：自己像
７：画素Ａ
８：画素Ｂ
1: incident X-ray 2: beam splitter 3: phase grating 4: prism grating 5: X-ray detector 6: self-image 7: pixel A
8: Pixel B
Claims (8)
前記Ｘ線源からのＸ線が入射する位置に配置される被検体の前方または後方にあって、透過するＸ線のタルボ効果により自己像を形成するための第一の回折格子と、
前記第一の回折格子によって自己像が形成される位置に配置される第二の回折格子と、
前記第二の回折格子を透過したＸ線の強度分布を検出するための画素を備えたＸ線検出器と、を有し、
前記第二の回折格子がプリズム格子で構成され、該プリズム格子によって前記自己像の特定の部分を前記Ｘ線検出器における特定の画素に反映させることが可能に構成されていることを特徴とするＸ線撮像装置。 An X-ray imaging apparatus that uses an X-ray from an X-ray source to capture an X-ray phase contrast image by a Talbot effect,
A first diffraction grating for forming a self-image by a Talbot effect of transmitted X-rays in front of or behind a subject arranged at a position where X-rays from the X-ray source are incident;
A second diffraction grating disposed at a position where a self-image is formed by the first diffraction grating;
An X-ray detector comprising a pixel for detecting an intensity distribution of X-rays transmitted through the second diffraction grating,
The second diffraction grating is configured by a prism grating, and the prism grating is configured to reflect a specific portion of the self-image on a specific pixel in the X-ray detector. X-ray imaging device.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012187288A true JP2012187288A (en) | 2012-10-04 |
Family
ID=47081110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011053903A Abandoned JP2012187288A (en) | 2011-03-11 | 2011-03-11 | X-ray imaging apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2012187288A (en) |
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|---|---|---|---|
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|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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