JP2012164556A - Plasma generating device, and cleaning/purifying device and small electric appliance using plasma generating device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器に関する。 The present invention relates to a plasma generator, a cleaning and purifying apparatus using the plasma generator, and a small electric appliance.
従来より、気泡を含む液中で放電を行うことで気泡にラジカル等を発生させ、液体を改質するようにしたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。 2. Description of the Related Art Conventionally, it is known that radicals or the like are generated in bubbles by performing discharge in a liquid containing bubbles to modify the liquid (for example, see Patent Document 1).
しかしながら、ラジカル等は時間の経過により消滅してしまうものであるため、液体中にラジカル等が存在した状態を長時間維持することが難しかった。 However, since radicals and the like disappear with time, it was difficult to maintain a state in which radicals and the like existed in the liquid for a long time.
そこで、本発明は、より長時間ラジカルを液体中に存在させることのできるプラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器を得ることを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to obtain a plasma generator capable of allowing radicals to exist in a liquid for a longer time, a cleaning and purifying apparatus using the plasma generator, and a small electric appliance.
本発明にあっては、水を含む液体を収容する液体収容部と、気体を収容する気体収容部と、前記気体収容部中の気体を前記液体収容部へ導く気体通路が形成され、前記液体収容部と前記気体収容部とを隔てる隔壁部と、前記気体収容部に配設された第１電極と、前記第１電極と距離を隔てられ、少なくとも前記第１電極と対になる側の部分が前記液体収容部中の液体と接触するように配設された第２電極と、前記気体収容部の気体を前記気体通路を介して前記液体収容部へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を前記気体収容部に供給する気体供給部と、前記第１電極と前記第２電極との間に所定の電圧を印加して前記第１電極と前記第２電極との間に放電を発生させることにより、前記気体収容部に導入された気体をプラズマ化するプラズマ電源部と、気体のプラズマ化により生成されて酸化により消滅するラジカルを再生成する還元部材と、を備えることを主要な特徴とする。 In the present invention, a liquid storage portion that stores a liquid containing water, a gas storage portion that stores gas, and a gas passage that guides the gas in the gas storage portion to the liquid storage portion are formed, and the liquid A partition that separates the accommodating portion and the gas accommodating portion, a first electrode disposed in the gas accommodating portion, and a portion that is spaced apart from the first electrode and at least forms a pair with the first electrode Is a second electrode disposed so as to be in contact with the liquid in the liquid container, and a gas containing oxygen in a mode in which the gas in the gas container is pumped to the liquid container through the gas passage. A predetermined voltage is applied between the gas supply unit supplied to the gas storage unit, the first electrode, and the second electrode to generate a discharge between the first electrode and the second electrode. Plasma that converts the gas introduced into the gas storage portion into plasma A source unit, and key comprising: a reducing member to regenerate radicals disappear by oxidation are generated by the plasma of the gas, a.
また、本発明の洗浄浄化装置にあっては、上記プラズマ発生装置を備えることを主要な特徴とする。 In addition, the cleaning and purifying apparatus of the present invention is characterized in that it includes the above plasma generator.
また、本発明の小型電器機器にあっては、上記プラズマ発生装置もしくは上記洗浄浄化装置を備えることを主要な特徴とする。 The main feature of the small electric appliance of the present invention is that it includes the plasma generator or the cleaning and purifying device.
本発明にかかるプラズマ発生装置は、気体のプラズマ化により生成されて酸化により消滅するラジカルを再生成する還元部材を備えている。そのため、消滅したラジカルを還元部材によって再生成することができるようになり、より長時間ラジカルを液体中に存在させることができるようになる。 The plasma generator according to the present invention includes a reducing member that regenerates radicals generated by gasification into plasma and disappearing by oxidation. Therefore, the extinguished radical can be regenerated by the reducing member, and the radical can be present in the liquid for a longer time.
そして、洗浄浄化装置や小型電器機器に上述のプラズマ発生装置を備えさせることで、より長時間ラジカルを液体中に存在させることのできる洗浄浄化装置および小型電器機器を得ることができる。 By providing the above-described plasma generator in the cleaning and purifying apparatus and the small electric appliance, it is possible to obtain the cleaning and purifying apparatus and the small electric appliance capable of allowing radicals to exist in the liquid for a longer time.
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の複数の実施形態には、同様の構成要素が含まれている。よって、以下では、それら同様の構成要素には共通の符号を付与するとともに、重複する説明を省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that similar components are included in the following embodiments. Therefore, in the following, common reference numerals are given to those similar components, and redundant description is omitted.
（第１実施形態）
本実施形態にかかるプラズマ発生装置１は、略円筒状のケース部材２を備えている。なお、ケース部材の形状は円筒状のものに限らず、例えば、角筒状としてもよい。
(First embodiment)
The plasma generator 1 according to the present embodiment includes a substantially
そして、ケース部材２の内側には、図１に示すように、セラミックス部材３が配設されており、このセラミックス部材３によってケース部材２の内部空間が上下に仕切られている。
As shown in FIG. 1, a
本実施形態では、ケース部材２の内部空間のうちセラミックス部材３の上側の領域が、水を含む液体１７を収容する液体収容部４となっているとともに、下側の領域が気体を収容する気体収容部５となっている。
In the present embodiment, the upper region of the
このように、本実施形態では、セラミックス部材３が、液体収容部４と気体収容部５とを隔てる隔壁部に相当している。
Thus, in this embodiment, the
また、液体収容部４の外周端部には、ケース部材２とセラミックス部材３との隙間を塞ぐリング状のシール材６が装着されており、液体収容部４内の液体１７がケース部材２とセラミックス部材３との隙間から気体収容部５内に漏れ出ないようにしている。
A ring-
そして、ケース部材２の天壁部（液体収容部４側の壁部）２ａには、液体収容部４に液体１７を導入する液体導入口７が設けられるとともに、液体収容部４内に導入された液体１７を外部に送り出す液体排出口８が設けられている。
The top wall portion (wall portion on the
また、ケース部材２の側壁２ｂの下部には、気体収容部５と外部とを連通する気体導入口９が設けられており、この気体導入口９には配管（気体導入路）１０が挿通されている。そして、配管１０を介して気体収容部５と気体供給部１１とが接続されている。本実施形態では、少なくとも酸素（Ｏ２）を含む気体が気体供給部１１から気体収容部５内に供給されるようになっている。
In addition, a
さらに、セラミックス部材３には気体通路３ａが形成されており、気体供給部１１から気体収容部５内に導入された気体等は、この気体通路３ａを経て液体収容部４内へ送り出されることになる。
Further, a
このように、本実施形態にかかる気体供給部１１は、気体収容部５の気体を気体通路３ａを介して液体収容部４へ圧送させる態様で、気体収容部５に少なくとも酸素を含む気体を供給する機能を有している。
Thus, the
なお、本実施形態では、気体通路３ａの孔径を約１μｍ〜１０μｍ程度としており、液体収容部４に収容された液体１７が気体通路３ａから気体収容部５内に漏れ出ることがないようになっている。
In the present embodiment, the hole diameter of the
また、プラズマ発生装置１は、気体収容部５に配設された第１電極１２と、第１電極１２と距離を隔てられ、少なくとも第１電極１２と対になる側の部分（第１電極１２の表面との間に放電を生じさせる表面）が液体収容部４中の液体１７と接触するように配設された第２電極１３と、を備えている。
In addition, the plasma generator 1 is separated from the
具体的には、ドーナツ状の第１電極１２およびドーナツ状の第２電極１３をそれぞれ気体収容部５および液体収容部４に配設している。
Specifically, the doughnut-shaped
ドーナツ状の第１電極１２は、図１に示すように、セラミックス部材３の気体収容部５側の表面３ｂに、中心が気体通路３ａとなるように配置されている。この第１電極１２の表面は、誘電体（図示せず）によって被覆されている。
As shown in FIG. 1, the doughnut-shaped
また、第２電極１３は、少なくとも第１電極１２と対になる側の部分（第１電極１２の表面との間に放電を生じさせる表面）が液体収容部４中の液体１７と接触するように、液体収容部４に配置されている。この第２電極１３も中心が気体通路３ａとなるように配置されている。すなわち、第１電極１２と第２電極１３とが同心状に配置されている。
In addition, the
このように、本実施形態にかかるプラズマ発生装置１では、気体収容部５にドーナツ状の第１電極１２を配設することで、第１電極１２が、液体収容部４に導入される液体１７に接触しないようにしている。
As described above, in the plasma generator 1 according to this embodiment, the
一方、ドーナツ状の第２電極１３を液体収容部４に配設することで、第２電極１３の少なくとも第１電極１２と対になる側の部分（第１電極１２の表面との間に放電を生じさせる表面）が、液体収容部４に導入される液体１７に接触するようにしている。
On the other hand, by disposing the doughnut-shaped
そして、第１電極１２および第２電極１３は、それぞれリード線１４を介してプラズマ電源部１５（図１参照）に電気的に接続されており、この第１電極１２と第２電極１３との間に所定の電圧が印加されるようになっている。
The
本実施形態では、第２電極１３よりも第１電極１２の方が高電位となるように第１電極１２と第２電極１３との間に所定の電圧を印加している。具体的には、第２電極１３に印加する電圧値（電圧値の絶対値）が第１電極１２に印加する電圧値（電圧値の絶対値）よりも低くなるように、第１電極１２と第２電極１３との間に所定の電圧を印加している（図２参照）。さらに、本実施形態では、第２電極１３に印加する電圧値（の絶対値）を０Ｖ近傍の値となるようにすることで、第２電極１３をグラウンド電極に近づけるようにしている。
In the present embodiment, a predetermined voltage is applied between the
ここで、本実施形態では、気体のプラズマ化により生成され、酸化により過酸化水素水に変化して消滅するラジカルを再生成する還元部材１９を液体収容部４内に設けている。具体的には、ケース部材２の天壁部２ａの下面（液体収容部４側の壁部）に還元部材１９を設けている。
Here, in this embodiment, the reducing
この還元部材１９は、Ａｇ、Ａｇ化合物、Ｆｅ、Ｆｅ化合物、ＭｎおよびＭｎ化合物のうち少なくともいずれか１つを含む部材によって形成されるものである。
The reducing
次に、上述したプラズマ発生装置１の動作ならびにヒドロキシラジカルの生成方法について説明する。 Next, the operation of the above-described plasma generator 1 and the method for generating hydroxy radicals will be described.
まず、気体収容部５の気体を気体通路３ａを介して液体収容部４へ圧送させる態様で酸素を含む気体を気体収容部５に供給する（気体を供給する工程）。
First, the gas containing oxygen is supplied to the
本実施形態では、図１に示すように、空気をベースとして酸素を含有した気体（流量約０．０１Ｌ／ｍｉｎ〜１．０Ｌ／ｍｉｎ（１０ｃｃ／ｍｉｎ〜１０００ｃｃ／ｍｉｎ））が、気体供給部１１から配管１０を介して気体収容部５に送り込まれる。このとき、気体を送り込む圧力は、約０．００９８ＭＰａ〜０．４９ＭＰａ（０．１ｋｇｆ／ｃｍ２〜５ｋｇｆ／ｃｍ２）程度とされる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 1, a gas containing oxygen based on air (flow rate of about 0.01 L / min to 1.0 L / min (10 cc / min to 1000 cc / min)) is a gas supply unit. 11 is sent into the
このように、気体供給部１１は、大気中の気体（空気）を供給する機能を備えている。なお、気体の供給流量は、気体供給部１１に設けた図示せぬ流量制御部によって制御されている。また、気体供給部１１に、大気中の気体だけでなく他の種類の気体（例えば、酸素濃度が異なる気体）を供給できる機能を持たせるとともに気種制御部を設け、様々な種類の気体のなかから１種類もしくは複数種類の気体を選択的に供給できるようにしてもよい。
As described above, the
そして、気体が気体収容部５に供給されることで、気体収容部５の圧力は、大気圧にこの圧力が加わって約０．１１ＭＰａ〜０．５９ＭＰａ（１．１ｋｇｆ／ｃｍ２〜６ｋｇｆ／ｃｍ２）程度となり、陽圧状態になる。このように、気体収容部５を陽圧とすることで、気体収容部５から気体通路３ａを経て液体収容部４へ向う気体の流れが形成される。なお、気体収容部５を陽圧とすることによっても、液体収容部４に収容された液体１７が気体通路３ａから気体収容部５内に漏れ出てしまうのが抑制される。
And by supplying gas to the
そして、上述したように酸素を含有した気体を供給することで、図３に示すように、気体通路３ａの液体収容部４側（図１の上側）の開口端３ｃにおいて酸素を含む気泡１６が成長する（気泡を成長させる工程）。
And by supplying the gas containing oxygen as above-mentioned, as shown in FIG. 3, the
次に、プラズマ電源部１５によって、第１電極１２と第２電極１３に所定の電圧が、第２電極１３に印加する電圧値（電圧値の絶対値）が第１電極１２に印加する電圧値（電圧値の絶対値）よりも低くなるように印加される。なお、印加する電圧としては、大気圧のもとにおいてグロー放電を可能にする電圧（パワー：約１０Ｗ〜１００Ｗ程度）が好ましい。このとき、プラズマ電源部１５に電圧制御部を設け、第１電極１２と第２電極１３との間に印加する電圧を制御するようにするのが好ましい。
Next, the plasma
そして、第１電極１２と第２電極１３に所定の電圧が印加されることで、第１電極１２と第２電極１３との間には、大気圧あるいはそれ以上の圧力の気体雰囲気のもとで放電が生じる。なお、大気圧のもとでプラズマを生成する技術については、たとえば文献Ａ（岡崎幸子、「大気圧グロー放電プラズマとその応用」、レビュー講演：２０ｔｈ ＪＳＰＦ Ａｎｎｕａｌ Ｍｅｅｔｉｎｇ）に報告されている。
Then, by applying a predetermined voltage to the
そして、この放電（気体に接触する第１電極１２の表面と液体に接触する第２電極１３の表面との間における放電）によって、液体収容部４の液体１７中の気体の領域においてプラズマが生成され、液体に含まれる水や気体に含まれる酸素によってオゾンやヒドロキシラジカル等が生成される（ヒドロキシラジカルを生成する工程）。
Then, this discharge (discharge between the surface of the
本実施形態では、気泡１６内の気体（液体収容部４の液体１７中の気液境界面近傍の気体）に電位差を生じさせてプラズマを生成している。このように、ヒドロキシラジカルが生成されやすい気液境界面の近傍（気体通路３ａの液体１７に臨む開口端３ｃ近傍）に電位差を生じさせることで、より多くのオゾンやヒドロキシラジカル等を生成できるようになる。なお、本実施形態では、気体通路３ａの液体１７に臨む開口端３ｃ近傍の気泡１６だけでなく、液体収容部４へ送り出された気泡１６内でもオゾンやヒドロキシラジカル等を生成することができる。
In the present embodiment, plasma is generated by generating a potential difference in the gas in the bubble 16 (the gas in the vicinity of the gas-liquid interface in the liquid 17 of the liquid container 4). As described above, by generating a potential difference in the vicinity of the gas-liquid boundary surface where hydroxy radicals are easily generated (near the
こうして生成されたオゾンやヒドロキシラジカル等は、上述した気体の流れに伴って、液体収容部４へ送り出されることになる。
The ozone, hydroxy radicals, and the like generated in this way are sent out to the
本実施形態では、液体収容部４内の液体１７の流れにより、ヒドロキシラジカル等を含んだ気泡１６をセラミックス部材（隔壁部）３からせん断して液体１７中に放出させている（気泡放出工程）。
In the present embodiment, the
具体的には、気泡１６が成長する液体収容部４では、液体１７が導入されることによって液体１７の流れ（図３および図４の矢印１８参照）が生じている。図４に示すように、矢印１８方向に流れる液体１７が成長する気泡１６にあたると、液体１７の流れが気泡１６にせん断力として作用し、気泡１６は開口端３ｃから液体１７中へ解き放たれる。
Specifically, in the
液体１７中に解き放たれた気泡１６は微細な気泡であるため、大気中に直ぐに放出されることなく液体１７の隅々にまで拡散する。そして、拡散した微細な気泡１６の一部は液体１７中に容易に溶解する。このとき、気泡１６に含まれているオゾン等が液体１７中に溶解することで、液体のオゾン濃度は一気に上昇することになる。
Since the
また、文献Ｂ（高橋正好、「マイクロバブルとナノバブルによる水環境の改善」、アクアネット、２００４．６）によれば、通常、オゾンや各種のラジカルを含んだ微細な気泡１６はマイナスに帯電していることが多いことが報告されている。そのため、気泡１６の他の一部は、液体１７中に含まれる有機物、油脂物、染料、たんぱく質、細菌等（図示せず）に容易に吸着する。液体１７中の有機物等は、液体１７に溶解したオゾンあるいは各種のラジカルや、有機物等に吸着した気泡１６に含まれるオゾンあるいは各種のラジカル等によって分解される。
According to Document B (Masayoshi Takahashi, “Improvement of water environment by microbubbles and nanobubbles”, Aquanet, 2004.6), fine bubbles 16 containing ozone and various radicals are usually negatively charged. It has been reported that there are many cases. Therefore, the other part of the
例えば、ヒドロキシラジカル等は、約１２０ｋｃａｌ／ｍｏｌ程度の比較的大きなエネルギーを有している。このエネルギーは、窒素原子と窒素原子との二重結合（Ｎ＝Ｎ）、炭素原子と炭素原子との二重結合（Ｃ＝Ｃ）あるいは炭素原子と窒素原子との二重結合（Ｃ＝Ｎ）等の結合エネルギー（〜１００ｋｃａｌ／ｍｏｌ）を上回るものである。そのため、窒素や炭素等の結合からなる有機物等は、このヒドロキシラジカル等によって容易にその結合が切断されて分解されることになる。このような有機物等の分解に寄与するオゾンやヒドロキシラジカル等は、塩素等のような残留性がなく時間とともに消滅するため、環境に配慮した物質でもある。 For example, a hydroxy radical or the like has a relatively large energy of about 120 kcal / mol. This energy is a double bond between a nitrogen atom and a nitrogen atom (N = N), a double bond between a carbon atom and a carbon atom (C = C), or a double bond between a carbon atom and a nitrogen atom (C = N). ) And the like (above 100 kcal / mol). Therefore, an organic substance composed of a bond such as nitrogen or carbon is easily broken and decomposed by this hydroxy radical or the like. Since ozone, hydroxy radicals, and the like that contribute to the decomposition of such organic substances do not have persistence like chlorine and disappear with time, they are also environmentally friendly substances.
なお、ヒドロキシラジカルは、酸化によって過酸化水素水に変化することで消滅するが、本実施形態では、液体収容部４内に還元部材１９を設けているため、本実施形態にかかるプラズマ発生装置１では、ヒドロキシラジカルの酸化によって変化した過酸化水素水が還元部材１９に接触することで、再びヒドロキシラジカルを生成できるようになっている。
The hydroxy radical disappears when it is changed to hydrogen peroxide water by oxidation. In the present embodiment, since the reducing
このように、還元部材１９は、気体に接触する第１電極１２の表面と液体に接触する第２電極１３の表面との間で放電させてプラズマ化した気体中で生成されたヒドロキシラジカルが、酸化によって過酸化水素水に変化したものを再びヒドロキシラジカルに還元させる機能を有するものである。
As described above, the reducing
以上説明したように、本実施形態にかかるプラズマ発生装置１では、第１電極１２を気体収容部５に配設するとともに、第２電極１３を、少なくとも第１電極１２と対になる側の部分（第１電極１２の表面との間に放電を生じさせる表面）が液体収容部４中の液体と接触するように配設している。
As described above, in the plasma generator 1 according to the present embodiment, the
そして、気体に接触する第１電極１２の表面と液体に接触する第２電極１３の表面との間に放電を発生させることで、液体収容部４中の液体１７内における気体の領域においてプラズマを生成し、液体１７に含まれる水および気体に含まれる酸素からヒドロキシラジカルを生成するようにしている。
Then, by generating a discharge between the surface of the
このような構成によれば、液体１７の電気抵抗による影響をそれほど受けることなく第１電極１２と第２電極１３との間に放電を生じさせることができるため、気体をより確実にプラズマ化することができ、より安定してオゾンやラジカル等を大量に生成することができるようになる。
According to such a configuration, since the discharge can be generated between the
また、本実施形態では、気体のプラズマ化により生成されて酸化により消滅するラジカルを再生成する還元部材１９を液体収容部４内に設けている。そのため、第１電極１２と第２電極１３との間の放電により気体をプラズマ化し、生成したヒドロキシラジカルが酸化によって過酸化水素水に変化したとしても、当該過酸化水素水を還元部材１９に接触させることで、再びヒドロキシラジカルに還元させることができる。すなわち、１回の放電により生成されたヒドロキシラジカルが液体中に存在する時間を従来よりも長くすることができる。さらに、還元部材１９が還元力を有する間（過酸化水素水の還元部材１９との接触によりヒドロキシラジカルを発生させることができる間）は、第１電極１２と第２電極１３との間に放電を発生させることなくヒドロキシラジカルを発生させることができるため、所定量のヒドロキシラジカルを発生させる際に、従来に比べて放電発生回数を少なくすることができ、プラズマ発生装置１の省電力化を図ることができるという利点もある。
Further, in the present embodiment, the reducing
また、本実施形態によれば、液体収容部４に液体１７が導入され、セラミックス部材３によって画成された気体収容部５にプラズマを生成する第１電極１２が配設されている。そのため、第１電極１２は液体１７には全く接触せず、液体１７の電気抵抗の影響を受けることがなくなる。これにより、第１電極１２と第２電極１３との間に放電を安定して発生させることができ、気体収容部５に導入された酸素を含む気体が確実にプラズマ化されて、水と酸素からオゾンあるいはヒドロキシラジカル等を安定に生成させることができる。
Further, according to the present embodiment, the liquid 17 is introduced into the
また本実施形態によれば、気体収容部５に酸素を含む気体を導入することで、気体収容部５を陽圧にし、気体収容部５から気体通路３ａを経て液体収容部４へ向う気体の流れを形成している。そして、この気体の流れに乗って気体通路３ａの液体１７に臨む開口端３ｃにおいて成長する気泡１６内にオゾンやヒドロキシラジカル等が生成されるようにしている。そして、所定の大きさに成長した気泡１６を液体１７の流れによってせん断して液体１７中に解き放たれるようにしている。
In addition, according to the present embodiment, by introducing a gas containing oxygen into the
すなわち、本実施形態では、気泡１６内の気体（液体収容部４の液体１７中の気液境界面近傍の気体）中でオゾンやヒドロキシラジカル等が生成されるようにしている。そして、オゾンやヒドロキシラジカル等を含んだ気体が微細な気泡１６として液体１７中に拡散されるようにしている。これにより、オゾンや各種のラジカルを発生させた後、これらが消滅する前に極めて短時間で効率的にそのオゾンや各種のラジカルを液体１７中に送り込むことができるようになる。 That is, in the present embodiment, ozone, hydroxy radicals, and the like are generated in the gas in the bubbles 16 (the gas in the vicinity of the gas-liquid interface in the liquid 17 of the liquid container 4). A gas containing ozone, hydroxy radicals, or the like is diffused into the liquid 17 as fine bubbles 16. Thereby, after ozone and various radicals are generated, the ozone and various radicals can be efficiently fed into the liquid 17 in a very short time before they disappear.
そして、オゾンや各種のラジカルを含んだ微細な気泡１６が液体１７中に拡散することによって、液体１７のオゾン濃度が高められるとともに液体１７中に含まれる有機物等に気泡１６が吸着する。これにより、液体１７中に溶解したオゾン等や吸着した気泡１６に含まれる各種のラジカルによって有機物や細菌等を効率的に分解することができる。
Then, the fine bubbles 16 containing ozone and various radicals diffuse into the liquid 17, so that the ozone concentration of the liquid 17 is increased and the
さらに、プラズマを生成する電極としてドーナツ状の第１電極１２および第２電極１３を用いることで、プラズマ発生装置１のプラズマ電源部１５や気体供給部１１を除いた本体部分の大きさをコンパクトにすることができる。その結果、既存の装置に組み込みやすくすることができる。また、新たに装置に搭載する場合においても、その占有空間を最小限に抑えることができる。
Further, by using the doughnut-shaped
また、プラズマ電源部１５が第１電極１２と第２電極１３との間に印加する電圧を制御する電圧制御部を備えていれば、第１電極１２と第２電極１３との間に液体１７の電気抵抗の変動に関わらず、安定して放電を発生させることができるようになる。このとき、電圧制御部によって、第２電極１３に印加する電圧値（電圧値の絶対値）が第１電極１２に印加する電圧値（電圧値の絶対値）よりも低くなるように、第１電極１２と第２電極１３との間に電圧を印加するようにすれば、万一、使用者等が誤って液体１７や第２電極１３に触れてしまった場合であっても、当該使用者等が感電してしまうのを抑制することができる。
If the plasma
特に、第２電極１３に印加する電圧値をゼロＶ近傍の値となるように、すなわち、第２電極１３がグラウンド電極に近づくようにすることで、使用者等の感電をより一層抑制することができる。
In particular, the voltage applied to the
また、気体供給部１１が、気体の種類を制御する気種制御部を有していれば、オゾンやヒドロキシラジカル等の生成量等の調整を行うことが可能となる。
Further, if the
このとき、気体供給部１１が大気中の空気を供給する機能を有していれば、より簡便に気体を供給することができる。
At this time, if the
また、流量制御部により気体の供給流量を制御するようにすれば、より安定的にプラズマを生成することができる。 Moreover, if the gas supply flow rate is controlled by the flow rate control unit, plasma can be generated more stably.
（第２実施形態）
本実施形態では、プラズマ発生装置１を用いた洗浄浄化装置の一例について説明する。
(Second Embodiment)
In the present embodiment, an example of a cleaning and purifying apparatus using the plasma generator 1 will be described.
本実施形態にかかる洗浄浄化装置２０は、図５に示すように、上述のプラズマ発生装置１を備えている。そして、本実施形態にかかる洗浄浄化装置２０では、セラミックス部材３を収容するケース部材２の液体導入口７に、被洗浄処理対象部３０から処理の完了した液体１７を液体収容部４に導入する配管（液体導入路）２１が接続されている。また、液体排出口８には、液体収容部４内の液体を被洗浄処理対象部３０へ送る配管（液体排出路）２２が接続されている。
As shown in FIG. 5, the cleaning and
次に、上述した洗浄浄化装置２０の動作について説明する。
Next, operation | movement of the washing | cleaning
まず、図５に示すように、空気をベースとして酸素を含有した所定流量の気体が、気体供給部１１から配管（気体導入路）１０を介して気体収容部５内に送り込まれる。そして、気体収容部５が陽圧状態とされて、その気体収容部５から気体通路３ａを経て液体収容部４へ向う気体の流れが形成される。
First, as shown in FIG. 5, a predetermined flow rate gas containing oxygen based on air is sent from the
このとき、液体収容部４には被洗浄処理対象部３０から処理の完了した液体１７が配管（液体導入路）２１から液体導入口７を経て導入される。
At this time, the liquid 17 that has been processed from the
次に、第１電極１２と第２電極１３に所定の電圧を、第２電極１３に印加する電圧値（電圧値の絶対値）が第１電極１２に印加する電圧値（電圧値の絶対値）よりも低くなるように印加することで、第１電極１２と第２電極１３との間において放電が生じる。この放電（気体に接触する第１電極１２の表面と液体に接触する第２電極１３の表面との間における放電）によって、液体収容部４の液体１７中の気体の領域においてプラズマが生成され、液体１７に含まれる水や気体に含まれる酸素によってオゾンやヒドロキシラジカル等が生成される（図４参照）。
Next, a predetermined voltage is applied to the
そして、生成されたオゾンや各種のラジカルは、上述した気体の流れとともに液体収容部４へ送り出されることとなる。このとき、成長する気泡は、上述したように液体１７の流れによってせん断され、微細な気泡１６として開口端３ｃから液体中へ解き放たれる。
And the produced | generated ozone and various radicals will be sent out to the
液体中に解き放たれた微細な気泡１６は液体の隅々にまで拡散する。このとき、拡散した微細な気泡１６の一部は、気泡１６に含まれていたオゾンやヒドロキシラジカル等とともに容易に液体１７中に溶解して、オゾン濃度が上昇する。また、一部の気泡１６は、オゾンやヒドロキシラジカル等を含んだ状態で、液体１７中に含まれる有機物等に容易に吸着する。さらに、気泡１６の一部には、微細な有機物が吸着する。
The fine bubbles 16 released in the liquid diffuse to every corner of the liquid. At this time, a part of the diffused fine bubbles 16 is easily dissolved in the liquid 17 together with ozone, hydroxy radicals, etc. contained in the
こうして、液体１７中の有機物等は、液体１７に溶解したオゾンあるいはラジカルや、有機物等に吸着した気泡１６に含まれるオゾンあるいはラジカル等によって効率的に分解される。そして、有機物等が分解されて浄化された液体１７は、液体排出口８から配管（液体排出路）２２を経て被洗浄処理対象部３０へ戻され、再び使用されることになる。
Thus, the organic matter or the like in the liquid 17 is efficiently decomposed by ozone or radicals dissolved in the liquid 17 or ozone or radicals contained in the
このとき、ヒドロキシラジカルが酸化することで生成された過酸化水素水は、還元部材１９に接触することで、再びヒドロキシラジカルに還元されるため、１回の放電により生成されたヒドロキシラジカルが液体中に存在する時間を従来よりも長くすることができる。
At this time, the hydrogen peroxide solution generated by the oxidation of the hydroxy radical is reduced to the hydroxy radical again by coming into contact with the reducing
なお、上記では、洗浄浄化装置２０として、ケース部材２内で液体１７を洗浄浄化する使用態様（使用態様Ａ）のものを例示したが、この他に、微細な気泡を拡散させた液体１７を洗浄液として所定の装置に供給する使用態様（使用態様Ｂ）も可能である。
In the above, the cleaning and
この場合には、洗浄浄化装置２０は、以下のように動作する。
In this case, the cleaning and
まず、ケース部材２内に導入された液体１７中に、オゾンやヒドロキシラジカル等を含んだ微細な気泡１６が拡散されるとともに、微細な気泡１６に含まれていたオゾンやラジカルが溶解される。このとき、気泡１６の一部には、微細な有機物が吸着する。
First, fine bubbles 16 containing ozone and hydroxy radicals are diffused in the liquid 17 introduced into the
次に、この液体１７が洗浄液として被洗浄処理対象部３０へ供給される。被洗浄処理対象部３０では、有機物等が、液体１７に溶解したオゾンあるいはラジカルや、有機物等に吸着した気泡１６に含まれるオゾンあるいはラジカル等によって効率的に分解されることになる。そして、ヒドロキシラジカルが酸化することで生成された過酸化水素水を還元部材１９に接触させることで、再びヒドロキシラジカルに還元させ、ヒドロキシラジカルを含む液体１７を洗浄液として被洗浄処理対象部３０へ再び供給させて被洗浄処理対象部３０を洗浄する。
Next, the liquid 17 is supplied to the
ところで、洗浄浄化装置を使用態様Ａとして使用する場合、たとえば浴槽に溜めた湯、雨水、汚水、下水等の各種の液体の浄化に、この洗浄浄化装置を適用することが可能である。また、使用態様Ｂとして使用する場合、たとえば洗濯機や食器洗い機等の各種家電製品、口内洗浄機等の健康家電製品、トイレ等の衛生機器等に使用する水に洗浄液として使用することができる。また、家電製品等の他に、たとえば食品の洗浄や工業製品の製造工程における洗浄等の産業界へ幅広く適用することができる。 By the way, when the cleaning and purifying apparatus is used as the usage mode A, the cleaning and purifying apparatus can be applied to purify various liquids such as hot water, rainwater, sewage, and sewage collected in a bathtub. When used as usage mode B, for example, it can be used as a cleaning liquid in water used for various home appliances such as washing machines and dishwashers, health home appliances such as a mouth washer, and sanitary equipment such as a toilet. In addition to home appliances and the like, it can be widely applied to industries such as washing of food and washing in the manufacturing process of industrial products.
以上説明したように、本実施形態では、洗浄浄化装置２０に上述のプラズマ発生装置１を備えさせている。そのため、より長時間ラジカルを液体中に存在させることのできる洗浄浄化装置を得ることができる。
As described above, in the present embodiment, the above-described plasma generator 1 is provided in the cleaning and
（第３実施形態）
本実施形態では、プラズマ発生装置１を用いた小型電器機器の一例について、図６〜８を参照して説明する。以下では、除毛装置としての電気かみそりのヘッド部を洗浄する洗浄浄化装置を例示する。
(Third embodiment)
In this embodiment, an example of a small electric appliance using the plasma generator 1 will be described with reference to FIGS. Below, the washing | cleaning purification apparatus which wash | cleans the head part of the electric razor as a hair removal apparatus is illustrated.
図６〜８に示す小型電器機器としての洗浄浄化装置４０は、除毛装置の一種である電気かみそり５０のヘッド部５１を洗浄するものである。すなわち、洗浄浄化装置４０は、上述した使用態様Ｂとして使用する洗浄浄化装置である。この場合、電気かみそり５０のヘッド部５１が被洗浄処理対象部３０に相当する。
A cleaning and
洗浄浄化装置４０は、図６〜８に示すように、ヘッド部５１を下向きにした電気かみそり５０を挿入するための開口４１ａを有した筐体４１と、開口４１ａを通じて挿入されたヘッド部５１を受容する受け皿４２とを備えている。
As shown in FIGS. 6 to 8, the cleaning and
また、洗浄浄化装置４０は、液体を貯留するタンク４３と、受け皿４２に連通されたオーバーフロー部４４と、タンク４３内の液体を液体導入口７に循環供給するポンプ４５と、を備えている。さらに、液体を濾過するフィルタ４６ａを有したカートリッジ４６と、タンク４３内の気密状態を制御するための開閉弁４７と、液体を循環するための循環経路と、を備えている。
In addition, the cleaning and
この循環経路は、タンク４３に貯留された液体を液体導入口７に導く配管（液体導入路）２１と、液体排出口８から排出される液体を受け皿４２に導く配管（液体排出路）２２と、受け皿４２から排出される液体をカートリッジ４６に導く経路２３（排出路）と、オーバーフロー部４４から排出される液体をカートリッジ４６に導く経路２４と、カートリッジ４６から排出された液体をポンプ４５に導く経路２５と、ポンプ４５から送出される液体をタンク４３に導く経路２６と、で構成されている。また、タンク４３には、気密経路２７を介して開閉弁４７が接続されている。以下、各構成部品について説明する。
This circulation path includes a pipe (liquid introduction path) 21 that guides the liquid stored in the
筐体４１は、その後部に電気かみそり５０の把持部５２と当接するスタンド部４１ｂを有し、開口４１ａから挿入される電気かみそり５０を受け皿４２と共に保持するものである。スタンド部４１ｂの前面には、図６に示すように、洗浄浄化装置４０に電気かみそり５０が装着されたことを検知する接点部材４１ｃが設けられている。接点部材４１ｃは、把持部５２背面に設けられた端子５２ａとの接触により電気かみそり５０の装着を検知するものであり、このような検知機能に併せて、電気かみそり５０に各種制御信号や駆動電力を出力する機能を持たせている。
The
筐体４１の前部上方には、洗浄後にヘッド部５１を乾燥させるためのファン４８を収容している。筐体４１前面には、ファン４８用の通気窓４１ｄや、洗浄動作を実行するための動作ボタン４１ｅ、動作状態を表示するランプ４１ｆ等が設けられている。筐体４１の後面側は、タンク４３を着装する着装部となっており、タンク４３の各口４３ａ、４３ｂ、４３ｃと連結される連結口４１ｇ、４１ｈ、４１ｉを有している。連結口４１ｇは配管（液体導入路）２１と繋がっており、連結口４１ｈは経路２６と繋がっており、連結口４１ｉは気密経路２７と繋がっている。
A
受け皿４２は、ヘッド部５１の形状に沿うような凹形状とされており、底壁部の背面側にはプラズマ発生装置１が設けられている。なお、洗浄浄化装置４０に、プラズマ発生装置１の位置を調整する位置調整部を設けるようにしてもよい。例えば、底壁部の背面側にアーム部を設けるとともに、当該アーム部によりプラズマ発生装置１を揺動可能に取り付け、位置調整部によってプラズマ発生装置１が水平に配置されるように調整できるようにすることが可能である。こうすれば、プラズマ発生装置１を常時水平に配置させることができ、より安定的にプラズマを生成することができるようになる。
The
このプラズマ発生装置１は、配管（液体導入路）２１と繋がった液体導入口７と、配管（液体排出路）２２と繋がった液体排出口８と有している。そして、受け皿４２の底壁部には、配管（液体排出路）２２と繋がった供給口４１ｊが設けられるとともに、経路２３と繋がった排出口４１ｋが設けられている。
This plasma generator 1 has a liquid inlet 7 connected to a pipe (liquid inlet path) 21 and a
また、受け皿４２の底部壁背面側にはヒータ４９が設けられている（図８参照）。このヒータ４９は、ファン４８と連動してヘッド部５１の乾燥を行うものである。
A
そして、受け皿４２の前方にはオーバーフロー部４４が設けられており、本実施形態においては受け皿４２とオーバーフロー部４４とが一体形成されている。オーバーフロー部４４の入口は受け皿４２と繋がっており、出口は経路２４と繋がっている。経路２４は、オーバーフロー部４４の出口から、受け皿４２後部に設けられた中継口４２ａを介してカートリッジ４６に至る。
An
タンク４３は、吐出口４３ａおよび流入口４３ｂと、気密状態を開放するための通気口４３ｃとを前面に有しており、通気口４３ｃの開閉により吐出口４３ａからの液体吐出が制御されている。タンク４３は筐体４１後面側に着脱自在に設けられ、筐体４１への装着状態では、吐出口４３ａが、連結口４１ｇに連結されて配管（液体導入路）２１によりプラズマ発生装置１の液体導入口７と繋がり、流入口４３ｂが、連結口４１ｈに連結されて経路２６によりポンプ４５の送出口４５ａと繋がり、通気口４３ｃが、連結口４１ｉに連結されて気密経路２７により開閉弁４７と繋がっている。
The
カートリッジ４６は、フィルタ４６ａを内部に収容した略箱状体であり、上部に流入口４６ｂを有し、前部に流出口４６ｃを有している。このカートリッジ４６は、筐体４１の下部後方に着脱自在に設けられており、筐体４１への装着状体では、流入口４６ｂが、経路２３（排出路）により排出口４１ｋと繋がるとともに、経路２４によりオーバーフロー部４４の出口と繋がっている。そして、流出口４６ｃが、経路２５によりポンプ４５の吸入口４５ｂと繋がっている。
The
かかる構成とすることで、タンク４３からプラズマ発生装置１に導入された液体に、オゾンやヒドロキシラジカル等を含んだ微細な気泡１６を拡散させて生成した洗浄液が、供給口４１ｊから受け皿４２内に供給されることとなる。すなわち、生成された洗浄液は、被洗浄処理対象部３０としてのヘッド部５１に供給されることとなる。そして、液体（洗浄液）に溶解したオゾンあるいはラジカルや、気泡１６に含まれるオゾンあるいはラジカル等によって、ヘッド部５１に付着した有機物等を効率的に分解させることができるようになる。
With this configuration, the cleaning liquid generated by diffusing
このとき、ヒドロキシラジカルが酸化することで生成された過酸化水素水は、還元部材１９に接触することで、再びヒドロキシラジカルに還元されるため、１回の放電により生成されたヒドロキシラジカルが液体中に存在する時間を従来よりも長くすることができる。
At this time, the hydrogen peroxide solution generated by the oxidation of the hydroxy radical is reduced to the hydroxy radical again by coming into contact with the reducing
以上説明したように、本実施形態では、洗浄浄化装置（小型電器機器）４０に上述のプラズマ発生装置１を備えさせている。したがって、より長時間ラジカルを液体中に存在させることのできる小型電器機器を得ることができる。 As described above, in the present embodiment, the above-described plasma generator 1 is provided in the cleaning and purifying device (small electric appliance) 40. Therefore, it is possible to obtain a small electric appliance that can make radicals exist in the liquid for a longer time.
なお、洗浄浄化装置２０にプラズマ発生装置１の位置を調整する位置調整部を設ければ、よりプラズマを安定化させることができるようになる。
In addition, if the position adjustment part which adjusts the position of the plasma generator 1 is provided in the washing | cleaning
（第３実施形態の変形例）
本変形例にかかる小型電器機器としての洗浄浄化装置４０Ａも、上記第３実施形態と同様、除毛装置の一種である電気かみそり５０のヘッド部５１を洗浄するものであり、上述した使用態様Ｂとして使用する洗浄浄化装置である。
(Modification of the third embodiment)
The cleaning and
洗浄浄化装置４０Ａは、上記第３実施形態とほぼ同様の構成をしており、ヘッド部５１を下向きにした電気かみそり５０を挿入するための開口４１ａを有した筐体４１と、開口４１ａを通じて挿入されたヘッド部５１を受容する受け皿４２とを備えている（図９参照）。
The cleaning and
また、洗浄浄化装置４０Ａは、液体を貯留するタンク４３と、受け皿４２に連通されたオーバーフロー部４４と、タンク４３内の液体を液体導入口７に循環供給するポンプ４５と、を備えている。さらに、液体を濾過するフィルタ４６ａを有したカートリッジ４６と、タンク４３内の気密状態を制御するための開閉弁４７と、液体を循環するための循環経路と、を備えている。
The cleaning and
本変形例では、循環経路は、タンク４３に貯留された液体を受け皿４２に導入する配管（液体導入路）２１と、受け皿４２から排出される液体をカートリッジ４６に導く経路２３（排出路）と、オーバーフロー部４４から排出される液体をカートリッジ４６に導く経路２４と、カートリッジ４６から排出された液体をポンプ４５に導く経路２５と、ポンプ４５から送出される液体をタンク４３に導く経路２６と、で構成されている。
In this modification, the circulation path includes a pipe (liquid introduction path) 21 that introduces liquid stored in the
受け皿４２は、ヘッド部５１の形状に沿うような凹形状とされており、底壁部には貫通孔４２ｂが形成されている。そして、当該貫通孔４２ｂを介して液体収容部４が受け皿４２の内部空間と連通するように、プラズマ発生装置１Ａが底壁部の背面側に設けられている。
The
本変形例にかかるプラズマ発生装置１Ａは、基本的に上記第１実施形態のプラズマ発生装置１と同様の構成をしている。すなわち、プラズマ発生装置１Ａは、ケース部材２を備えており、このケース部材２の内側に配設されるセラミックス部材（隔壁部）３によってケース部材２の空間が上下に仕切られている。
A plasma generator 1A according to this modification basically has the same configuration as the plasma generator 1 of the first embodiment. That is, the plasma generating apparatus 1 </ b> A includes a
そして、ケース部材２の内部空間のうちセラミックス部材３の上側の領域が、水を含む液体１７を収容する液体収容部４となっているとともに、下側の領域が気体を収容する気体収容部５となっている。
And the area | region of the upper side of the
また、液体収容部４の外周端部には、ケース部材２とセラミックス部材３との隙間を塞ぐリング状のシール材６が装着されており、液体収容部４内の液体１７がケース部材２とセラミックス部材３との隙間から気体収容部５内に漏れ出ないようにしている。
A ring-shaped
このように、本変形例では、液体収容部４内の液体１７を配管（液体排出路）２２を介して受け皿４２の内部空間に供給する構成ではなく、液体収容部４が受け皿４２の内部空間と連通するようにプラズマ発生装置１Ａを設け、受け皿４２の内部空間もプラズマ発生装置１Ａの液体収容部４として機能するように構成した点が上記第３実施形態と異なっている。なお、受け皿４２に例えば排水溝などを形成することで、液体収容部４内部の液体をよりスムーズに経路２３（排出路）から排出できるようにするのが好適である。
As described above, in the present modification, the liquid 17 in the
また、本変形例では、図示省略したが、受け皿４２内の液体によって浸水する部位（プラズマ発生装置１Ａの液体収容部内に相当）に、還元部材１９を設けている。この還元部材１９は、セラミックス部材３の上面やケース部材２の液体収容部４側の内側壁等に設けるようにしてもよい。
Although not shown in the present modification, the reducing
次に、洗浄浄化装置４０Ａの動作について説明する。
Next, the operation of the cleaning and
まず、タンク４３から配管（液体導入路）２１を介して受け皿４２およびプラズマ発生装置１Ａの液体収容部４内に液体を導入する。
First, a liquid is introduced from the
そして、空気をベースとして酸素を含有した所定流量の気体が、気体供給部１１から配管（気体導入路）１０を介して気体収容部５内に送り込まれ、気体収容部５が陽圧状態とされて、その気体収容部５から気体通路３ａを経て液体収容部４へ向う気体の流れが形成される。
Then, a gas having a predetermined flow rate containing oxygen based on air is sent from the
次に、第１電極１２と第２電極１３に所定の電圧を、第２電極１３に印加する電圧値（電圧値の絶対値）が第１電極１２に印加する電圧値（電圧値の絶対値）よりも低くなるように印加することで、第１電極１２と第２電極１３との間において放電が生じる。この放電（気体に接触する第１電極１２の表面と液体に接触する第２電極１３の表面との間における放電）によって、液体収容部４の液体１７中の気体の領域においてプラズマが生成され、液体１７に含まれる水や気体に含まれる酸素によってオゾンやヒドロキシラジカル等が生成される（図４参照）。
Next, a predetermined voltage is applied to the
そして、生成されたオゾンや各種のラジカルは、上述した気体の流れとともに液体収容部４および受け皿４２内に貯留された液体中に送り出されることとなる。このとき、成長する気泡は、微細な気泡１６として開口端３ｃから液体中へ解き放たれ、液体中に解き放たれた微細な気泡１６は液体の隅々にまで拡散する。すなわち、生成された洗浄液は、被洗浄処理対象部３０としてのヘッド部５１に供給されることとなる。そして、液体（洗浄液）に溶解したオゾンあるいはラジカルや、気泡１６に含まれるオゾンあるいはラジカル等によって、ヘッド部５１に付着した有機物等を効率的に分解させることができるようになる。
And the produced | generated ozone and various radicals will be sent out in the liquid stored in the
このとき、ヒドロキシラジカルが酸化することで生成された過酸化水素水は、還元部材１９に接触することで、再びヒドロキシラジカルに還元されるため、１回の放電により生成されたヒドロキシラジカルが液体中に存在する時間を従来よりも長くすることができる。
At this time, the hydrogen peroxide solution generated by the oxidation of the hydroxy radical is reduced to the hydroxy radical again by coming into contact with the reducing
以上の本変形例によっても上記第３実施形態と同様の作用、効果を奏することができる。 The above-described modification can also provide the same operations and effects as those of the third embodiment.
なお、第２電極１３に印加する電圧値（電圧値の絶対値）が第１電極１２に印加する電圧値（電圧値の絶対値）よりも低くなるように、第１電極１２と第２電極１３との間に電圧を印加するようにすれば、万一、使用者等が誤って液体１７や第２電極１３に触れてしまった場合であっても、当該使用者等が感電してしまうのを抑制することができる。
Note that the
このことは、本変形例のように第２電極１３を外部に露出するように配置した構成とした場合に特に有効である。
This is particularly effective when the
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態には限定されず、種々の変形が可能である。 The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made.
例えば、上記各実施形態では、気体通路が形成された隔壁部としてセラミックス部材を例示したが、隔壁部の材料は、セラミックス部材に限られるものではない。例えば、気体と液体を隔壁するガラス板などのような適当な部材を用い、この部材に写真製版とエッチングを施すことによって細孔径が約１μｍ〜１０μｍ程度の微細孔を形成したものを用いることも可能である。 For example, in each of the above embodiments, the ceramic member is exemplified as the partition wall portion in which the gas passage is formed. However, the material of the partition wall portion is not limited to the ceramic member. For example, an appropriate member such as a glass plate that partitions gas and liquid is used, and a member having fine pores with a pore diameter of about 1 μm to 10 μm formed by photolithography and etching is used. Is possible.
また、隔壁部に複数の気体通路を設けるようにしてもよい。 A plurality of gas passages may be provided in the partition wall.
また、上記第１〜第３実施形態では、液体収容部内に還元部材を設けたものを例示したが、還元部材を、液体収容部の外側（例えば、液体導入路や液体排出路内の液体中、被洗浄処理対象部側の液体中）に設けるようにしてもよい。 Moreover, in the said 1st-3rd embodiment, what provided the reduction | restoration member in the liquid storage part was illustrated, However, A reduction | restoration member is outside the liquid storage part (for example, in the liquid in a liquid introduction path or a liquid discharge path) It may be provided in the liquid on the side to be cleaned.
また、洗浄浄化装置や小型電器機器も上記実施形態で示したものに限らず、例えば、電動歯ブラシの洗浄浄化装置や浄水装置、洗剤等が含まれた水を排水前に浄化する装置等に本発明を適用することが可能である。 In addition, the cleaning and purifying device and the small electric appliance are not limited to those shown in the above embodiment. For example, the cleaning and purifying device for the electric toothbrush, the water purifying device, and the device for purifying the water containing the detergent before the drainage are used. The invention can be applied.
また、液体収容部や気体収容部、その他細部のスペック（形状、大きさ、レイアウト等）も適宜に変更可能である。 In addition, the specifications (shape, size, layout, etc.) of the liquid storage unit, the gas storage unit, and other details can be changed as appropriate.
１，１Ａ プラズマ発生装置
３ セラミックス部材（隔壁部）
３ａ 気体通路
４ 液体収容部
５ 気体収容部
１０ 配管（気体導入路）
１１ 気体供給部
１２ 第１電極
１３ 第２電極
１５ プラズマ電源部
１９ 還元部材
２０…洗浄浄化装置
４０，４０Ａ 洗浄浄化装置（小型電器機器）
1,
DESCRIPTION OF
Claims (6)
気体を収容する気体収容部と、
前記気体収容部中の気体を前記液体収容部へ導く気体通路が形成され、前記液体収容部と前記気体収容部とを隔てる隔壁部と、
前記気体収容部に配設された第１電極と、
前記第１電極と距離を隔てられ、少なくとも前記第１電極と対になる側の部分が前記液体収容部中の液体と接触するように配設された第２電極と、
前記気体収容部の気体を前記気体通路を介して前記液体収容部へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を前記気体収容部に供給する気体供給部と、
前記第１電極と前記第２電極との間に所定の電圧を印加して前記第１電極と前記第２電極との間に放電を発生させることにより、前記気体収容部に導入された気体をプラズマ化するプラズマ電源部と、
気体のプラズマ化により生成されて酸化により消滅するラジカルを再生成する還元部材と、
を備えることを特徴とするプラズマ発生装置。 A liquid container for containing a liquid containing water;
A gas container for containing gas;
A gas passage that guides the gas in the gas storage part to the liquid storage part is formed, and a partition part that separates the liquid storage part and the gas storage part;
A first electrode disposed in the gas accommodating portion;
A second electrode disposed at a distance from the first electrode and disposed so that at least a portion of the first electrode that is paired with the first electrode is in contact with the liquid in the liquid container;
In a mode in which the gas in the gas container is pumped to the liquid container through the gas passage, a gas supply unit that supplies a gas containing oxygen to the gas container,
By applying a predetermined voltage between the first electrode and the second electrode to generate a discharge between the first electrode and the second electrode, the gas introduced into the gas accommodating portion is changed. A plasma power supply that turns into plasma,
A reducing member that regenerates radicals that are generated by gasification and disappear by oxidation;
A plasma generator characterized by comprising:
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