JP2012159756A - グレースケールマスク - Google Patents

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Abstract

【課題】光透過率の連続性を保った上で、高い光透過率を再現することができるグレースケールマスクを提供する。
【解決手段】隣接配置された複数のピクセル1で構成されたグレースケールマスクにおいて、1ピクセルには少なくとも1の単位領域10を有しており、単位領域はそれぞれ、光を通す第1領域aと光を通さない第2領域bとで構成され、第1領域と第2領域の面積比に応じて光透過率が決定されるようになっており、1ピクセルの光透過率が50%からの差の絶対値が同じで、50%よりも大きい光透過率を有したときと小さい光透過率を有したときを比較すると、第1領域と第2領域の面積比が1:1となる単位領域における第1領域と第2領域の境界線Lを中心線として線対称で、かつ、第1領域と第2領域が入れ替わった形状となる。
【選択図】図1

Description

本発明は、マイクロレンズを製造する目的等のために用いられるグレースケールマスクに関するものである。
従来、バイナリパターンで形成されるグレースケールマスクとしては、開口部の形状が共通で配置密度を制御することで光透過率を調整するもの(以下、密度制御型という)と、開口部の密度が等しくて開口率を制御することで光透過率を調整するもの(以下、開口率制御型という)との2種類がある(例えば、特許文献1参照)。ここで、密度制御型のグレースケールマスクでは原理的に開口率を細かく制御することができないため、光透過率の細かい制御を行う場合には、開口率制御型のグレースケールマスクを用いる必要があった。
特開2004−310077号公報
ところが、開口率制御型のグレースケールマスクでは、開口部のサイズ(開口率)がマスク描画装置の分解能に依存するため、従来、設計値で高い光透過率が設定されていても、マスク描画装置の分解能を超えた開口率、ひいては光透過率を再現することはできなかった。例えば、開口率制御型のグレースケールマスクでは、1ピクセル毎にその中心部分に開口部が配置されることが多く、この開口部の大きさを拡げていくことで光透過率を高くするようになっているが、このとき、マスク描画装置で表現可能な最小サイズが0.5μmで、開口部ピッチ(すなわち、1ピクセルのサイズ)が5μmの場合、隣接する開口部との最小ギャップも0.5μmとなるため、結果として開口率は1〜81%の間しか再現できなかった。
ここで、さらに高い光透過率が必要な場合の対応案として、1ピクセル中の開口部と非開口部の面積比が1:1(50%ずつ)の場合を境にして、1ピクセル中の開口部と非開口部の位置を逆転させる方法が提案されている。すなわち、1ピクセル中の開口部が50%に達するまでは、その中心部分に配置された開口部が徐々に拡がるようにして開口率を高くしていき、1ピクセル中の開口部が50%に達したら、その後は、中心部分の開口部と周辺部分の非開口部の位置を入れ替えた上で、当該入れ替えで中心部分に配置された非開口部を徐々に狭めていく(つまり、周辺部分の開口部が徐々に中心部分に向かって拡がっていく)ことで、再現できる開口率の上限を高くするものである。このようにすることで、マスク描画装置の分解能を超えずに高い開口率、ひいては高い光透過率を再現することが可能となる。
しかしながら、1ピクセル中の開口部と非開口部の位置をある状態(ここでは面積比が1:1の場合)を境に逆転させると、その逆転する箇所で光透過率にずれが生じてしまうという問題が起こることがわかった。すなわち、計算上は1ピクセル中の開口部と非開口部の位置を逆転させても開口率(光透過率)は連続性を保つこととなるが、実際には、開口箇所の誤差や開口形状が変化することで開口率が大きく変化してしまい、1ピクセル中の開口部と非開口部の位置を逆転させた箇所を境に開口率の連続性を保つことができなくなってしまうという問題が生じてしまうのである。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、光透過率の連続性を保った上で、高い光透過率を再現することができるグレースケールマスクを提供することを目的とする。
かかる課題を解決するために、本発明は、隣接配置された複数のピクセル(1)で構成されたグレースケールマスクにおいて、1ピクセル(1)には少なくとも1の単位領域(10)を有しており、前記単位領域(10)はそれぞれ、光を通す第1領域(a)と光を通さない第2領域(b)とで構成され、前記第1領域(a)と前記第2領域(b)の面積比に応じて光透過率が決定されるようになっており、前記1ピクセル(1)の光透過率が50%からの差の絶対値が同じで、前記50%よりも大きい光透過率を有したときと小さい光透過率を有したときを比較すると、前記第1領域(a)と前記第2領域(b)の面積比が1:1となる前記単位領域(10)における前記第1領域(a)と前記第2領域(b)の境界線(L)を中心線として線対称で、かつ、前記第1領域(a)と前記第2領域(b)が入れ替わった形状となるグレースケールマスクとしたことを特徴とする。
なお、ここでは、本発明をわかりやすく説明するため、実施の形態を表す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施の形態に限定されるものではないことは言及するまでもない。
本発明によれば、1ピクセルに少なくとも1つ有する単位領域がそれぞれ、光を通す第1領域と光を通さない第2領域とで構成され、1ピクセルの光透過率が50%からの差の絶対値が同じで、50%よりも大きい光透過率を有したときと小さい光透過率を有したときを比較すると、第1領域と第2領域の面積比が1:1となる単位領域における双方の領域の境界線を中心線として線対称で、かつ、その領域同士が入れ替わった形状となることで、光透過率の連続性を保った上で、高い光透過率を再現することができる。
本発明の実施の形態1に係るグレースケールマスクの単位領域を示す図である。 同実施の形態1に係るグレースケールマスクの単位領域を開口率順に配置したパターンを示す図である。 グレースケールマスクにおける光透過率の設計値のグラフとそれに基づくグレースケールマスクのパターンを示す図である。 本発明の実施の形態2〜7に係るグレースケールマスクの単位領域を示す図である。
以下、本発明の実施の形態について説明する。
[発明の実施の形態1]
最初に、本発明の実施の形態1について、図1〜図3を用いて説明する。図1は、本発明の実施の形態1に係るグレースケールマスクの単位領域を示す図である。図2は、同実施の形態1に係るグレースケールマスクの単位領域を開口率順に配置したパターンを示す図である。図3は、グレースケールマスクにおける光透過率の設計値のグラフとそれに基づくグレースケールマスクのパターンを示す図である。
本発明のグレースケールマスクは、図1に示すような、ピクセル1を複数、隣接配置した構成となっており、1ピクセル中に少なくとも1の単位領域10を有している。この単位領域10とは、後述する本発明の特徴を備える最小単位の領域であり、1ピクセルそのままの領域又は1ピクセルを同じ形状で等分割した1つの領域となっている。本実施の形態のグレースケールマスクでは、1ピクセル中に1つの単位領域10を有している(すなわち、1ピクセル1そのままが1つの単位領域10を構成している)。また、本実施の形態の単位領域10は正方形状となっており、その単位領域10がさらに4つの正方形状部11,12,13,14に区分けされている。
また、単位領域10は、光を通す透光部である第1領域aと、光を通さない遮光部である第2領域bとで構成されている。そして、これら第1領域aと第2領域bの面積が、マスク描画装置の分解能の限界に至るまでそれぞれ増減することで、当該単位領域10における開口率(光透過率)が拡縮するようになっている。
また、図1及び図2に示すように、単位領域10における開口率の拡縮において、第1領域aと第2領域bの面積比が1:1(すなわち、50%ずつ)となるより第2領域bの方が広い場合(例えば、図1における左側の図参照)には、4つの正方形状部11,12,13,14のうちの右上部13と左下部12は全て第2領域(遮光部)bのままで推移し、左上部11と右下部14のみ、当該部位のそれぞれの中心部分が、開口率が高くなるに連れて徐々に第2領域bから第1領域(透光部)aの面積が大きくなるように変化する(開口部が大きくなる)ようになっている。
そして、単位領域10における開口率の拡縮において、第1領域aと第2領域bの面積比が1:1(すなわち、50%ずつ)となると(例えば、図1における中央の図参照)、4つの正方形状部11,12,13,14のうちの左上部11と右下部14は全て第1領域aとなり、右上部13と左下部12は全て第2領域bとなる状態(所謂、市松模様の状態)になる。このときの第1領域aと第2領域bとの境界(ここでは、単位領域10の上下方向の中心線(なお、この場合刃単位領域10の左右方向の中心線でも可))を境界線Lとする。
さらに、単位領域10における開口率の拡縮において、第1領域aと第2領域bの面積比が1:1(すなわち、50%ずつ)となるより第1領域aの方が広くなると(例えば、図1における右側の図参照)、4つの正方形状部11,12,13,14のうちの左上部11と右下部14は全て第1領域aのままで推移し、右上部13と左下部12のみ、当該部位のそれぞれの周辺部分が、開口率が高くなるに連れて徐々に第2領域bから第1領域aの面積が大きくなるように変化する(開口部が大きくなる)ようになっている。
本実施の形態では、前記したように、第1領域aと第2領域bの面積比を変化させていく際、図1における中央の図に示すような第1領域aと第2領域bの面積比が1:1(すなわち、1ピクセルの光透過率が50%)となる単位領域10を基準とし、これより開口率が高いものと低いものとで、その面積比が丁度逆となるものについて(すなわち、1ピクセルの光透過率が50%からの差の絶対値が同じで、50%よりも大きい光透過率を有したときと小さい光透過率を有したときを比較すると)、面積比が1:1となる単位領域10における第1領域aと第2領域bとの境界線Lを中心線として線対称で、かつ、第1領域aと第2領域bとが入れ替わった状態となっている。すなわち、単位領域10における第1領域aと第2領域bの面積比がA:Bのもの(1ピクセルの光透過率が50%+α)とB:Aのもの(1ピクセルの光透過率が50%−α)については、それぞれ、境界線Lで線対称で、かつ、第1領域aと第2領域bとを入れ替えた形状となるように、単位領域10の形状が構成されている。このようにすることで、急に開口形状が変化してグレースケールマスクの光透過率の連続性にずれが生じることを防ぎ、当該連続性を保ちながら、高い開口率(光透過率)を確保することができるものである。
ここで、図3に示すように、本実施の形態のグレースケールマスクにおける開口率の低いもの(ここでは、4.6%)から高いもの(ここでは、91.7%)までの単位領域を順に並べると、その模様が綺麗にグラデーションとなっており、本実施の形態のグレースケールマスクが、光透過率の連続性を維持した状態となっていることがわかる。
[発明の実施の形態2〜7]
次に、本発明の実施の形態2〜7について、図4を用いて説明する。図4は、本発明の実施の形態2〜7に係るグレースケールマスクの単位領域を示す図である。なお、本発明の実施の形態2〜7については、前記した本発明の実施の形態1と異なる箇所についてのみ説明し、同様の箇所については説明を省略する。
本発明の実施の形態2のグレースケールマスクは、図4(1)に示すように、1ピクセル101中に正方形状の1つの単位領域110を有しており、第1領域aと第2領域bの面積比が1:1となる単位領域110における境界線L1が、左上から右下に掛けての対角線と同じ線となるように構成されている(図4(1)における中央の図参照)。また、この単位領域110における第1領域aと第2領域bは、境界線L1で仕切られたそれぞれの範囲の中心部分を中心として直角二等辺三角形状で増減するようになっている。このような単位領域110でも、前記した本発明の実施の形態1と同様の作用効果を得ることができる。
また、本発明の実施の形態3のグレースケールマスクは、図4(2)に示すように、1ピクセル201中に正方形状の1つの単位領域210を有しており、第1領域aと第2領域bの面積比が1:1となる単位領域210における境界線L2が、上下方向の中心線と同じ線となるように構成されている(図4(2)における中央の図参照)。また、この単位領域210における第1領域aと第2領域bは、境界線L2で仕切られたそれぞれの範囲の中心部分を中心として縦長の長方形状で増減するようになっている。このような単位領域210でも、前記した本発明の実施の形態1と同様の作用効果を得ることができる。
また、本発明の実施の形態4のグレースケールマスクは、図4(3)に示すように、1ピクセル301中に正方形状の4つの単位領域310を有しており、第1領域aと第2領域bの面積比が1:1となる単位領域310における境界線L3が、単位領域310における左上から右下への対角線と同じ線となるように構成されている(図4(3)における中央の図参照)。また、この単位領域110における第1領域aと第2領域bは、境界線L3で仕切られたそれぞれの範囲の対角の角部を中心として直角二等辺三角形状で増減するようになっている。このような単位領域310でも、前記した本発明の実施の形態1と同様の作用効果を得ることができる。
また、本発明の実施の形態5のグレースケールマスクは、図4(4)に示すように、1ピクセル401中に正方形状の4つの単位領域410を有しており、第1領域aと第2領域bの面積比が1:1となる単位領域410における境界線L4が、単位領域410における左上から右下への対角線と同じ線となるように構成されている(図4(4)における中央の図参照)。また、この単位領域110における第1領域aと第2領域bは、境界線L4で仕切られたそれぞれの範囲の対角の角部を中心として略円弧形状(途中から変形していく)で増減するようになっている。このような単位領域410でも、前記した本発明の実施の形態1と同様の作用効果を得ることができる。
また、本発明の実施の形態6のグレースケールマスクは、図4(5)に示すように、正六角形状の1ピクセル501中に菱形の3つの単位領域510を有しており、第1領域aと第2領域bの面積比が1:1となる単位領域510における境界線L5が、菱形の単位領域510における短い対角線と同じ線となるように構成されている(図4(5)における中央の図参照)。また、この単位領域510における第1領域aと第2領域bは、境界線L5で仕切られたそれぞれの範囲の中心部分を中心として正三角形状で増減するようになっている。このような単位領域510でも、前記した本発明の実施の形態1と同様の作用効果を得ることができる。
また、本発明の実施の形態7のグレースケールマスクは、図4(6)に示すように、正六角形状の1ピクセル601中に1つの単位領域610を有しており、第1領域aと第2領域bの面積比が1:1となる単位領域610における境界線L6が、上下方向の中心線と同じ線となるように構成されている(図4(6)における中央の図参照)。また、この単位領域610における第1領域aと第2領域bは、境界線L6で仕切られたそれぞれの範囲の中心部分を中心として台形状で増減するようになっている。このような単位領域610でも、前記した本発明の実施の形態1と同様の作用効果を得ることができる。
なお、図4(1)〜(6)において第1領域aと第2領域bの面積比がA:Bのもの(1ピクセルの光透過率が50%+α)とB:Aのもの(1ピクセルの光透過率が50%−α)、C:Dのもの(1ピクセルの光透過率が50%+β)とD:C(1ピクセルの光透過率が50%−β)のもの、E:Fのもの(1ピクセルの光透過率が50%+γ)とF:Eのもの(1ピクセルの光透過率が50%−γ)はそれぞれ、境界線で線対称で、かつ、第1領域と第2領域を入れ替えた形状となっている。
以上のように、本発明の各実施の形態のグレースケールマスクによれば、1ピクセル1に少なくとも1つ有する単位領域10,110,210,310,410,510,610がそれぞれ、光を通す第1領域aと光を通さない第2領域bとで構成され、1ピクセル1の光透過率が50%からの差の絶対値が同じで、50%よりも大きい光透過率を有したときと小さい光透過率を有したときを比較すると、第1領域aと第2領域bの面積比が1:1となる単位領域10,110,210,310,410,510,610における双方の領域の境界線L,L1,L2,L3,L4,L5,L6を中心線として線対称で、かつ、その領域同士が入れ替わった形状となることで、光透過率の連続性を保った上で、高い光透過率を再現することができる。
なお、以上説明した実施の形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。
例えば、本発明は、前記した各実施の形態の例に限って適用されるものではなく、前記した各実施の形態以外の単位領域の形状であっても、第1領域と第2領域の面積比が逆になる単位領域同士の形状が(すなわち、1ピクセルの光透過率が50%からの差の絶対値が同じで、50%よりも大きい光透過率を有したときと小さい光透過率を有したときを比較したときに)、第1領域と第2領域の面積比が1:1となる単位領域における双方の領域の境界線を中心線として線対称で、かつ、その領域同士が入れ替わった形状となる法則を有していれば適用可能である。
1,101,201,301,401,501,601 ピクセル
10,110,210,310,410,510,610 単位領域
a 第1領域
b 第2領域
L,L1,L2,L3,L4,L5,L6 境界線

Claims (2)

  1. 隣接配置された複数のピクセルで構成されたグレースケールマスクにおいて、
    1ピクセルには少なくとも1の単位領域を有しており、
    前記単位領域はそれぞれ、
    光を通す第1領域と光を通さない第2領域とで構成され、前記第1領域と前記第2領域の面積比に応じて光透過率が決定されるようになっており、
    前記1ピクセルの光透過率が50%からの差の絶対値が同じで、前記50%よりも大きい光透過率を有したときと小さい光透過率を有したときを比較すると、前記第1領域と前記第2領域の面積比が1:1となる前記単位領域における前記第1領域と前記第2領域の境界線を中心線として線対称で、かつ、前記第1領域と前記第2領域が入れ替わった形状となることを特徴とするグレースケールマスク。
  2. 前記1ピクセル中に、複数の単位領域を有していることを特徴とする請求項1に記載のグレースケールマスク。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103425821A (zh) * 2013-07-17 2013-12-04 大连理工大学 一种自由曲面灰度掩膜的设计方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5310623A (en) * 1992-11-27 1994-05-10 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Method for fabricating microlenses
US20050130045A1 (en) * 2003-01-28 2005-06-16 Ken Ozawa Exposing mask and production method therefor and exposing method
JP2006030510A (ja) * 2004-07-15 2006-02-02 Toppan Printing Co Ltd 濃度分布マスク
JP2009008885A (ja) * 2007-06-28 2009-01-15 Toppan Printing Co Ltd 濃度分布マスク
JP2010002677A (ja) * 2008-06-20 2010-01-07 Toppan Printing Co Ltd 濃度分布マスクとその製造方法及びマイクロレンズアレイの製造方法
JP2010049068A (ja) * 2008-08-22 2010-03-04 Toppan Printing Co Ltd 濃度分布マスク及びその製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5310623A (en) * 1992-11-27 1994-05-10 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Method for fabricating microlenses
JPH08504515A (ja) * 1992-11-27 1996-05-14 ロッキード ミサイルズ アンド スペース カンパニー インコーポレイテッド マイクロレンズの製造方法および装置
US20050130045A1 (en) * 2003-01-28 2005-06-16 Ken Ozawa Exposing mask and production method therefor and exposing method
JP2005165248A (ja) * 2003-01-28 2005-06-23 Sony Corp 露光用マスクおよびその製造方法ならびに露光方法
JP2006030510A (ja) * 2004-07-15 2006-02-02 Toppan Printing Co Ltd 濃度分布マスク
JP2009008885A (ja) * 2007-06-28 2009-01-15 Toppan Printing Co Ltd 濃度分布マスク
JP2010002677A (ja) * 2008-06-20 2010-01-07 Toppan Printing Co Ltd 濃度分布マスクとその製造方法及びマイクロレンズアレイの製造方法
JP2010049068A (ja) * 2008-08-22 2010-03-04 Toppan Printing Co Ltd 濃度分布マスク及びその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103425821A (zh) * 2013-07-17 2013-12-04 大连理工大学 一种自由曲面灰度掩膜的设计方法

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