JP2012138017A - Touch panel and display device having touch panel - Google Patents

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Yuko Nakanishi
悠子 中西
Norihisa Moriya
徳久 守谷
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel capable of expanding an active area and having good reliability in connection between a transparent electrode and a connection part, and a display device having the touch panel.SOLUTION: A touch panel 1 is obtained by connecting a touch panel sensor 2 with a flexible substrate 3. The touch panel sensor 2 includes: a first transparent substrate 16 having, on one face thereof, a first transparent electrode 19 with plural first sensor electrodes placed in parallel with one another at a predetermined interval and first extraction wiring 4 made of a metal material; a second transparent substrate 17 having, in a direction orthogonal to the first transparent electrode 19, a second transparent electrode 20 with plural second sensor electrodes placed in parallel with one another at a predetermined interval and plural second extraction wiring pieces 6 made of a metal material and a resin material; and an adhesion layer 18 adhering the first transparent substrate and the second transparent substrate. The other face of the first transparent substrate 16 faces a face of the second transparent substrate 17 with the second transparent electrode 20 and the second extraction wiring pieces 6 placed thereon, and the first transparent substrate 16 is laminated on the second transparent substrate 17 through the adhesion layer 18.

Description

本発明は、タッチパネル、及びこのタッチパネルを備えた表示装置に関する。   The present invention relates to a touch panel and a display device including the touch panel.

近年、タッチパネルは、表示装置と座標検出装置を組み合わせた入力装置として注目されている。タッチパネルは、携帯電話、携帯音楽再生装置、携帯ゲーム機、自動販売機、ATM等のように、限られたスペースでより多くの情報入力をすることが必要な電子機器に用いられることが多く、これら電子機器の画面を指やペンなどで押圧することにより、電子機器に対して対話形式で電子機器の操作や情報入力を行えるように構成されている。   In recent years, a touch panel has attracted attention as an input device that combines a display device and a coordinate detection device. Touch panels are often used for electronic devices that need to input more information in a limited space, such as mobile phones, portable music players, portable game machines, vending machines, ATMs, etc. By pressing the screen of these electronic devices with a finger or a pen, the electronic device can be operated and information can be input interactively with respect to the electronic device.

タッチパネルは、作動原理によって、抵抗膜方式、静電容量方式、赤外線方式、超音波方式、及び電磁誘導結合方式等に分類されており、それぞれの方式のタッチパネルが有するメリット及びデメリット、並びにタッチパネルの使用用途に応じて使い分けられている。近年は、これら各方式の中でも、他の方式に比べて透過率が高く耐久性がある点、及び多点検出が可能で複雑な操作が可能となる点から、静電容量方式のタッチパネルが特に注目されている。   The touch panel is classified into a resistance film method, a capacitance method, an infrared method, an ultrasonic method, an electromagnetic inductive coupling method, and the like according to an operation principle. Advantages and disadvantages of each type of touch panel, and use of the touch panel It is properly used according to the purpose. In recent years, among these methods, the capacitive touch panel is particularly advantageous because of its high transmittance and durability compared to other methods, and the ability to detect multiple points and perform complex operations. Attention has been paid.

静電容量方式のタッチパネルは、操作者が指先やペン等の外部導体で触れた際に生じる電気容量の変化から外部導体が触れた位置を検出して検出信号を生成するタッチパネルセンサと、このタッチパネルセンサで生成された検出信号を外部の回路に出力するためのフレキシブル基板とを備えている。   The capacitive touch panel includes a touch panel sensor that generates a detection signal by detecting a position touched by an external conductor based on a change in capacitance that occurs when an operator touches the external conductor such as a fingertip or a pen, and the touch panel. And a flexible substrate for outputting a detection signal generated by the sensor to an external circuit.

タッチパネルセンサは、透明の基材フィルムと、この基材フィルムの表面に設けられる各種電極とで構成されているのが一般的である。例えば、特許文献1には、基材フィルム上に透明導電膜、導電膜パターン層、及び誘電体層を積層したタッチパネルセンサを備えた静電容量式タッチパネルが開示されている。   The touch panel sensor is generally composed of a transparent base film and various electrodes provided on the surface of the base film. For example, Patent Document 1 discloses a capacitive touch panel including a touch panel sensor in which a transparent conductive film, a conductive film pattern layer, and a dielectric layer are stacked on a base film.

タッチパネルセンサは、操作者が視認することができ、外部導体で触れることができるアクティブエリアと、このアクティブエリアの周囲に形成された額縁領域とを有している。アクティブエリアには、所定の間隔で平行に配置された複数の第1のセンサ電極からなる第1の透明電極、及び第1の透明電極と直交する方向に所定の間隔で平行に配置された複数の第2のセンサ電極からなる第2の透明電極が設けられている。一般的には、これら第1の透明電極及び第2の透明電極は、導電率の低い透明導電材料で形成されている。額縁領域には、第1の透明電極に電気的に接続された第1の取出配線、及び第2の透明電極に電気的に接続された第2の取出配線が設けられている。第1の取出配線及び第2の取出配線は、導電率の高い材料で形成される。これら第1の取出配線及び第2の取出配線は、高い導電性を有するインクを基材フィルム上に印刷して形成することにより形成されるのが一般的である。例えば、特許文献2には、導電性インキなどを用いたスクリーン印刷法で取出配線を形成することが開示されている。   The touch panel sensor has an active area that can be visually recognized by an operator and can be touched by an external conductor, and a frame area formed around the active area. In the active area, a first transparent electrode composed of a plurality of first sensor electrodes arranged in parallel at a predetermined interval, and a plurality of elements arranged in parallel at a predetermined interval in a direction orthogonal to the first transparent electrode A second transparent electrode composed of the second sensor electrode is provided. In general, the first transparent electrode and the second transparent electrode are formed of a transparent conductive material having low conductivity. In the frame region, a first extraction wiring electrically connected to the first transparent electrode and a second extraction wiring electrically connected to the second transparent electrode are provided. The first extraction wiring and the second extraction wiring are formed of a material having high conductivity. The first extraction wiring and the second extraction wiring are generally formed by printing and forming ink having high conductivity on a base film. For example, Patent Document 2 discloses forming an extraction wiring by a screen printing method using conductive ink or the like.

また、タッチパネルセンサの構成としては、第1の透明電極及び第1の取出配線を形成した第1の基材フィルムと、第2の透明電極及び第2の取出配線を形成した第2の基材フィルムとを重ね合わせて構成したものや(例えば、特許文献2)、基材フィルムの一方側の面に第1の透明電極及び第1の取出配線を形成し、この基材フィルムの他方側の面に第2の透明電極及び第2の取出配線を形成したものがある。   Moreover, as a structure of a touch panel sensor, the 1st base film which formed the 1st transparent electrode and the 1st extraction wiring, and the 2nd base material which formed the 2nd transparent electrode and the 2nd extraction wiring A film formed by superimposing a film (for example, Patent Document 2), a first transparent electrode and a first extraction wiring are formed on one surface of the base film, and the other side of the base film is formed. Some have a second transparent electrode and a second extraction wiring formed on the surface.

特開2006−23904号公報JP 2006-23904 A 特許第2587975号公報Japanese Patent No. 2587975

近年は、タッチパネルの意匠性や操作性を向上させる観点から、タッチパネル自体は大型化させずにアクティブエリアをより大きくすることが求められている。このような要求に応えるために、近年のタッチパネルは、額縁領域の面積をより少なくしてアクティブエリアを拡大することが種々検討されている。   In recent years, from the viewpoint of improving the design and operability of the touch panel, it is required to increase the active area without increasing the size of the touch panel itself. In order to meet such demands, various studies have been made on recent touch panels to expand the active area by reducing the area of the frame region.

しかし、額縁領域の面積を少なくすると、この額縁領域に配置された第1の取出配線又は第2の取出配線をより細線化しなければならず、また各取出配線の設置場所の位置精度をより向上させなければならない。一方、特許文献2のように、スクリーン印刷のような印刷法により取出配線を形成する場合には、導電性インクを基材フィルム上に塗布して取出配線を形成するので、取出配線の細線化や設置場所の位置精度の向上が難しいという問題がある。また、印刷法で形成した取出配線は、厚さが10μm以上になってしまい、取出配線が厚くなってしまうという問題もある。   However, if the area of the frame region is reduced, the first extraction wiring or the second extraction wiring arranged in the frame region must be made finer, and the position accuracy of the installation location of each extraction wiring is further improved. I have to let it. On the other hand, when the extraction wiring is formed by a printing method such as screen printing as in Patent Document 2, the extraction wiring is formed by applying conductive ink on the base film, so that the extraction wiring is thinned. In addition, there is a problem that it is difficult to improve the position accuracy of the installation location. Moreover, the extraction wiring formed by the printing method has a problem that the thickness becomes 10 μm or more and the extraction wiring becomes thick.

このような問題を解決する方法としては、サブトラクティブ法で第1の取出配線及び第2の取出配線を形成する方法がある。サブトラクティブ法は、スパッタリングやメッキ等の方法で形成した導電性薄膜に対して、レジスト層を塗布し、パターン露光及び現像により残すべき導体のレジストパターンを形成し、エッチングにより不要な導電性薄膜を除去し、レジスト層を剥離して金属パターンを形成する方法である。最終的に形成された金属パターンが第1の取出配線又は第2の取出配線となる。   As a method for solving such a problem, there is a method of forming the first extraction wiring and the second extraction wiring by a subtractive method. In the subtractive method, a resist layer is applied to a conductive thin film formed by a method such as sputtering or plating, a resist pattern of a conductor to be left by pattern exposure and development is formed, and an unnecessary conductive thin film is formed by etching. In this method, the metal layer is formed by removing the resist layer. The metal pattern finally formed becomes the first extraction wiring or the second extraction wiring.

サブトラクティブ法で第1の取出配線及び第2の取出配線を形成する場合は、これら取出配線を細線化することができ、各取出配線の設置場所の位置精度を上げることはできる。しかし、サブトラクティブ法は、金属パターンが形成される領域以外の他の領域にも金属の導電性薄膜を予め形成した上で、不要な金属薄膜をエッチングで除去して所望の金属パターンを形成するので、金属の使用量が増加するという問題がある。また、サブトラクティブ法では、フォトマスク等のような高価な部材が必要となるほか、取出配線を形成するために、露光や現像などの複数のプロセスを経なければならないので、製造時のコストが増加してしまうという問題もある。   When the first extraction wiring and the second extraction wiring are formed by the subtractive method, the extraction wiring can be thinned, and the position accuracy of the installation location of each extraction wiring can be increased. However, in the subtractive method, a metal conductive thin film is previously formed in other regions other than the region where the metal pattern is formed, and then the unnecessary metal thin film is removed by etching to form a desired metal pattern. Therefore, there is a problem that the amount of metal used increases. In addition, in the subtractive method, an expensive member such as a photomask is required, and a plurality of processes such as exposure and development are required to form a lead-out wiring. There is also a problem that it increases.

また、特許文献2のタッチパネルは、ガラス基板上に形成された透明電極用の取り出し回路が透明フィルムに形成され、この透明フィルムをガラス基板上に貼り合わせる際に取り出し回路と透明電極とを電気的に接続するように構成されている。そのため、特許文献2のタッチパネルは、ガラス基板上の透明電極と取り出し回路との間の接続損失を生じるおそれがあり、また接続損失が生じないようにするためには、取り出し回路を特殊な形状に加工する必要性や、過大な圧力や熱を用いて接続するというような、新たな工程が必要となるという問題がある。   Further, in the touch panel of Patent Document 2, a transparent electrode extraction circuit formed on a glass substrate is formed on a transparent film, and when the transparent film is bonded onto the glass substrate, the extraction circuit and the transparent electrode are electrically connected. Configured to connect to. Therefore, the touch panel of Patent Document 2 may cause a connection loss between the transparent electrode on the glass substrate and the extraction circuit. In order to prevent the connection loss from occurring, the extraction circuit has a special shape. There is a problem that a new process such as necessity of processing and connection using excessive pressure or heat is required.

本発明は、このような問題を解決するためになされたもので、アクティブエリアを拡大することができるとともに、特別な工程を設けなくてもタッチパネルセンサとフレキシブル基板とを確実に接続することが可能なタッチパネル、及びこのタッチパネルを備えた表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve such a problem. The active area can be enlarged, and the touch panel sensor and the flexible substrate can be reliably connected without providing a special process. An object is to provide a simple touch panel and a display device including the touch panel.

本発明は、
(1)表面に接触した物体の位置を検出するタッチパネルセンサにフレキシブル基板が接合されたタッチパネルであって、前記タッチパネルセンサは、複数の第1のセンサ電極が所定の間隔で平行に配置された第1の透明電極と、金属材料を含み前記第1のセンサ電極と電気的に接続する複数の第1の取出配線とが一方側の面に配置された第1の透明基板と、前記第1のセンサ電極と直交する方向に、複数の第2のセンサ電極が所定の間隔で平行に配置された第2の透明電極と、金属材料と樹脂材料を含み前記第2のセンサ電極と電気的に接続する複数の第2の取出配線とが配置された第2の透明基板と、前記第1の透明基板と第2の透明基板とを接着する接着層と、を備え、前記第1の透明基板の他方側の面と、前記第2の透明基板の第2の透明電極及び第2の取出配線が配置された面とを対向させて、前記第1の透明基板を前記第2の透明基板の上に前記接着層を介して積層してなることを特徴とするタッチパネル、
(2)前記第1の取出配線は、前記フレキシブル基板に形成されたフレキシブル回路と電気的に接続される第1の接続端子と接続し、前記第2の取出配線は、前記フレキシブル回路と電気的に接続される第2の接続端子と接続し、これら第1の接続端子及び第2の接続端子は、前記タッチパネルセンサにおける同一の側部に形成されていることを特徴とする上記(1)記載のタッチパネル、
(3)前記タッチパネルセンサは、物体の接触を検知可能なアクティブエリアと、前記アクティブエリアの周囲に形成された額縁領域とを有し、前記額縁領域は、前記フレキシブル基板が接合されるとともに前記第1の取出配線の一部と第2の取出配線が配置される第1の額縁領域と、前記第1の取出配線の一部が配置される第2の額縁領域とを有し、前記第2の額縁領域の幅が前記第1の額縁領域の幅よりも狭くなるように形成されていることを特徴とする上記(1)又は(2)記載のタッチパネル、
(4)前記第1の透明基板には、前記第1の接続端子が形成されている側部に切り欠き部が形成されており、前記第2の接続端子が前記切り欠き部から露出するように配置されている上記(2)又は(3)記載のタッチパネル、
を要旨とする。
The present invention
(1) A touch panel in which a flexible substrate is bonded to a touch panel sensor that detects the position of an object in contact with a surface, wherein the touch panel sensor includes a plurality of first sensor electrodes arranged in parallel at a predetermined interval. A first transparent substrate having one transparent electrode and a plurality of first extraction wirings that include a metal material and are electrically connected to the first sensor electrode, disposed on one surface; A second transparent electrode in which a plurality of second sensor electrodes are arranged in parallel at a predetermined interval in a direction orthogonal to the sensor electrode, and includes a metal material and a resin material, and is electrically connected to the second sensor electrode. A second transparent substrate on which a plurality of second extraction wirings are arranged, and an adhesive layer that bonds the first transparent substrate and the second transparent substrate. The other surface and the second transparent substrate second The first transparent substrate is laminated on the second transparent substrate via the adhesive layer with the transparent electrode and the surface on which the second extraction wiring is disposed facing each other. Touch panel,
(2) The first extraction wiring is connected to a first connection terminal electrically connected to a flexible circuit formed on the flexible substrate, and the second extraction wiring is electrically connected to the flexible circuit. The first connection terminal and the second connection terminal connected to the second connection terminal are formed on the same side portion of the touch panel sensor. Touch panel,
(3) The touch panel sensor has an active area capable of detecting contact of an object and a frame region formed around the active area, and the frame region is bonded to the flexible substrate and the first region. A first frame region in which a part of the first extraction wiring and the second extraction wiring are arranged, and a second frame region in which a part of the first extraction wiring is arranged, and the second The touch panel according to (1) or (2), wherein the width of the frame region is formed to be narrower than the width of the first frame region,
(4) The first transparent substrate has a notch formed on a side portion where the first connection terminal is formed, and the second connection terminal is exposed from the notch. The touch panel according to the above (2) or (3),
Is the gist.

また、本発明に係る表示装置は、上記(1)から(4)のいずれかに記載のタッチパネルを表示部に備えたことを特徴とする。   In addition, a display device according to the present invention is characterized in that the touch panel according to any one of (1) to (4) is provided in a display unit.

本発明に係るタッチパネルは、第1の取出配線と第2の取出配線との高低差を少なくすることができるため、特別な加工又は過大な圧力若しくは熱などを加えなくても、フレキシブル基板とタッチパネルセンサとを確実に接続することができ、電気的な接続の信頼性をより向上させることが可能になる。また、本発明に係るタッチパネルは、第1の取出配線を金属材料を含む材料で形成し、第2の取出配線を金属材料と樹脂材料を含む材料で形成するので、製造時のコストを低く抑えながら、タッチパネルセンサのアクティブエリアをより拡大することが可能になる。   Since the touch panel according to the present invention can reduce the height difference between the first extraction wiring and the second extraction wiring, the flexible substrate and the touch panel can be used without applying special processing or excessive pressure or heat. The sensor can be reliably connected, and the reliability of electrical connection can be further improved. In the touch panel according to the present invention, the first lead-out wiring is formed of a material containing a metal material, and the second lead-out wiring is formed of a material containing a metal material and a resin material. However, the active area of the touch panel sensor can be further expanded.

本発明に係るタッチパネルの外観構成を表した外観斜視図である。It is an appearance perspective view showing appearance composition of a touch panel concerning the present invention. タッチパネルのアクティブエリアと額縁領域を表した説明図である。It is explanatory drawing showing the active area and frame area of the touch panel. タッチパネルセンサの構成を表した分解斜視図である。It is a disassembled perspective view showing the structure of the touch panel sensor. 図3において符号Aで示す部分を拡大した部分拡大図である。It is the elements on larger scale which expanded the part shown with the code | symbol A in FIG. 図3において符号Bで示す部分を拡大した部分拡大図である。It is the elements on larger scale which expanded the part shown with the code | symbol B in FIG. 図1のA−A´線の断面図である。It is sectional drawing of the AA 'line of FIG. 図5のB−B´線の断面図である。It is sectional drawing of the BB 'line of FIG. 第1の透明基板に第1の取出配線を形成する方法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the method of forming a 1st extraction wiring in a 1st transparent substrate. 第2の透明基板に第2の取出配線を形成する方法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the method of forming the 2nd extraction wiring in the 2nd transparent substrate. 第1の取出配線を形成した第1の透明基板と、第2の取出配線を形成した第2の透明基板とを、接着層を介して積層させた状態を表した模式図である。It is the schematic diagram showing the state which laminated | stacked the 1st transparent substrate in which the 1st extraction wiring was formed, and the 2nd transparent substrate in which the 2nd extraction wiring was formed via the contact bonding layer. 比較例1のタッチパネルセンサの構成を表した模式図である。6 is a schematic diagram illustrating a configuration of a touch panel sensor of Comparative Example 1. FIG.

本発明に係るタッチパネルの構成を、図面を用いて説明する。なお、本明細書における「先端側」、「後端側」、「左側」、「右側」、「上側」、「下側」とは、図1に示す方向を示すものとする。また、本実施の形態においては、「第1の透明基板の一方側の面」とは第1の透明基板の上面を意味し、「第1の透明基板の他方側の面」とは第1の透明基板の下面を意味するものとする。また、本明細書における「物体の接触する」状態は、物体が直接接触した状態のみならず、物体が接触したことをタッチパネルセンサが検知することができる程度にまで、該物体が近接した状態をも含むものとする。   A configuration of a touch panel according to the present invention will be described with reference to the drawings. In this specification, “front end side”, “rear end side”, “left side”, “right side”, “upper side”, and “lower side” indicate directions shown in FIG. In the present embodiment, “one surface of the first transparent substrate” means the upper surface of the first transparent substrate, and “the other surface of the first transparent substrate” means the first surface. This means the lower surface of the transparent substrate. Further, in this specification, the “object contact” state is not only a state in which the object is in direct contact but also a state in which the object is close to the extent that the touch panel sensor can detect that the object has touched. Shall also be included.

(タッチパネル1の構成)
図1に示すように、本実施の形態のタッチパネル1は、タッチパネルセンサ2とフレキシブル基板3とから構成されている。タッチパネルセンサ2は、表面に接触した物体の位置を検出するためのもので、第1の取出配線4に接続された接続端子(以下、第1の接続端子5と言う。)及び第2の取出配線6に接続された接続端子(以下、第2の接続端子7と言う。)がタッチパネルセンサ2の側部に形成されている。フレキシブル基板3は、一方の面に図示しない電極配線及び電極端子がパターン形成された可撓性を有する基板である。フレキシブル基板3の電極端子は、第1の接続端子5及び第2の接続端子7と異方性導電接着剤を介して電気的に接続されるようになっている。なお、説明の便宜上、図1ではタッチパネルセンサ2とフレキシブル基板3とを分離して記載した。また、図1における符号8は、タッチパネルセンサ2の上に設けられる接着層である。この接着層8は、図示しないカバーガラスをタッチパネルセンサ2の上に設置する際に、これらタッチパネルセンサ2とカバーガラスとを接着するためのものである。
(Configuration of touch panel 1)
As shown in FIG. 1, the touch panel 1 according to the present embodiment includes a touch panel sensor 2 and a flexible substrate 3. The touch panel sensor 2 is for detecting the position of an object in contact with the surface, and is connected to the first extraction wiring 4 (hereinafter referred to as the first connection terminal 5) and the second extraction. A connection terminal (hereinafter referred to as a second connection terminal 7) connected to the wiring 6 is formed on the side portion of the touch panel sensor 2. The flexible substrate 3 is a flexible substrate having a pattern of electrode wiring and electrode terminals (not shown) formed on one surface. The electrode terminal of the flexible substrate 3 is electrically connected to the first connection terminal 5 and the second connection terminal 7 via an anisotropic conductive adhesive. For convenience of explanation, FIG. 1 shows the touch panel sensor 2 and the flexible substrate 3 separately. 1 is an adhesive layer provided on the touch panel sensor 2. The adhesive layer 8 is for bonding the touch panel sensor 2 and the cover glass when a cover glass (not shown) is installed on the touch panel sensor 2.

タッチパネルセンサ2は、図示しないカバーガラスの表面に接触した物体の位置を検出するためのセンサ部材である。図2に示すように、タッチパネルセンサ2は、操作者が視認することができるとともに、表面に指等の物体の接触を検知可能なアクティブエリア11と、このアクティブエリア11の周囲に形成され、通常は操作者が視認することができない額縁領域12とに区画されている。この額縁領域12は、フレキシブル基板3が接合されるとともに第1の取出配線4の一部、第1の接続端子5、第2の取出配線6、及び第2の接続端子7が配置されている第1の額縁領域13と、少なくとも第1の取出配線4の一部が配置されている第2の額縁領域14とを有している。   The touch panel sensor 2 is a sensor member for detecting the position of an object in contact with the surface of a cover glass (not shown). As shown in FIG. 2, the touch panel sensor 2 is formed around an active area 11 that can be visually recognized by the operator and that can detect contact of an object such as a finger on the surface, and is normally Is divided into a frame region 12 that cannot be visually recognized by the operator. In the frame region 12, the flexible substrate 3 is joined and a part of the first extraction wiring 4, the first connection terminal 5, the second extraction wiring 6, and the second connection terminal 7 are arranged. It has the 1st frame area | region 13 and the 2nd frame area | region 14 by which at least one part of the 1st extraction wiring 4 is arrange | positioned.

第1の額縁領域13は幅W1を有するように形成され、第2の額縁領域14は幅W2を有するように形成されている。これら幅W1及び幅W2は、幅W1が幅W2に比べて広くなるように形成されている。これは、第1の額縁領域13がフレキシブル基板3をタッチパネルセンサ2に接合するための領域でもあり、該フレキシブル基板3を接合するために必要な幅を確保する必要があるからである。   The first frame region 13 is formed to have a width W1, and the second frame region 14 is formed to have a width W2. The width W1 and the width W2 are formed so that the width W1 is wider than the width W2. This is because the first frame region 13 is also a region for joining the flexible substrate 3 to the touch panel sensor 2 and it is necessary to ensure a width necessary for joining the flexible substrate 3.

なお、本実施の形態においては、第1の額縁領域13がアクティブエリア11の先端側に形成され、第2の額縁領域14がアクティブエリア11の左右端側に形成されているが、これら第1の額縁領域13及び第2の額縁領域14は、この位置に限定されるものではない。例えば、図1において、フレキシブル基板3がアクティブエリア11の右端側に接合される場合には、第1の額縁領域13はアクティブエリア11の右端側になり、第2の額縁領域14は、アクティブエリア11の先端側及び後端側になる。なお、説明の便宜上、図2では、第1の透明基板16及び第2の透明基板17上に形成されている各取出配線や接続端子等の記載は省略した。   In the present embodiment, the first frame region 13 is formed on the front end side of the active area 11 and the second frame region 14 is formed on the left and right end sides of the active area 11. The frame region 13 and the second frame region 14 are not limited to this position. For example, in FIG. 1, when the flexible substrate 3 is bonded to the right end side of the active area 11, the first frame region 13 is on the right end side of the active area 11, and the second frame region 14 is the active area. 11 on the front end side and rear end side. For convenience of explanation, in FIG. 2, description of each extraction wiring and connection terminal formed on the first transparent substrate 16 and the second transparent substrate 17 is omitted.

図3に示すように、タッチパネルセンサ2は、第1の透明基板16の下面16aと第2の透明基板17の上面17aとを対向させて、第1の透明基板16を第2の透明基板17の上に接着層18を介して積層して構成されている。第1の透明基板16は、光透過性樹脂フィルムで形成された部材であり、図3及び図4に示すように、一方側の面としての上面16bに、第1の透明電極19、第1の取出配線4及び第1の接続端子5が配置形成されている。また、第2の透明基板17は、光透過性樹脂フィルムで形成された部材であり、図3及び図5に示すように、第2の透明電極20、第2の取出配線6及び第2の接続端子7が上面17aに配置形成されている。なお、以下においては、第1の透明基板16を構成する光透過性樹脂フィルムを第1の光透過性樹脂フィルム30といい、第2の透明基板17を構成する光透過性樹脂フィルムを第2の光透過性樹脂フィルム35という。   As shown in FIG. 3, in the touch panel sensor 2, the lower surface 16 a of the first transparent substrate 16 and the upper surface 17 a of the second transparent substrate 17 are opposed to each other so that the first transparent substrate 16 is the second transparent substrate 17. It is formed by laminating on top of each other via an adhesive layer 18. The first transparent substrate 16 is a member formed of a light-transmitting resin film. As shown in FIGS. 3 and 4, the first transparent electrode 19 and the first transparent electrode 19 are formed on the upper surface 16b as one surface. The lead-out wiring 4 and the first connection terminal 5 are arranged and formed. The second transparent substrate 17 is a member formed of a light transmissive resin film. As shown in FIGS. 3 and 5, the second transparent electrode 20, the second extraction wiring 6, and the second extraction substrate 6 are used. Connection terminals 7 are arranged and formed on the upper surface 17a. In the following, the light transmissive resin film constituting the first transparent substrate 16 is referred to as a first light transmissive resin film 30, and the light transmissive resin film constituting the second transparent substrate 17 is a second light transmissive resin film. The light transmissive resin film 35 is called.

第1の透明基板16及び第2の透明基板17に用いられる第1の光透過性樹脂フィルム30及び第2の光透過性樹脂フィルム35としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、もしくはシンジオタクティック・ポリスチレン等、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、もしくはポリエーテルニトリル等、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、もしくはポリノルボルネン系樹脂等、又はポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、もしくは熱可塑性ポリイミド等からなるフィルムが挙げられる。   Examples of the first light-transmitting resin film 30 and the second light-transmitting resin film 35 used for the first transparent substrate 16 and the second transparent substrate 17 include acrylics such as polymethyl methacrylate, polyamide, polyacetal, poly Butylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetyl cellulose, or syndiotactic polystyrene, polyphenylene sulfide, polyether ketone, polyether ether ketone, fluororesin, or polyether nitrile, polycarbonate, modified polyphenylene ether, poly Cyclohexene or polynorbornene resin, etc., or polysulfone, polyethersulfone, polysulfone, polyarylate, polyamideimide, polyether De, or film and the like made of thermoplastic polyimide.

第1の透明電極19は、左右方向に線状に形成された第1のセンサ電極21を複数本有しており、これら第1のセンサ電極21が所定の間隔を開けてアクティブエリア11内に平行に配置されて構成されている。また、第2の透明電極20は、第1のセンサ電極21と直交する方向に線状に形成された第2のセンサ電極22を複数本有しており、これら第2のセンサ電極22が、所定の間隔を開けてアクティブエリア11内に平行に配置されて構成されている。そのため、これら第1の透明電極19及び第2の透明電極20は、互いに直交し、アクティブエリア11内を格子状に位置するように配置されている。第1の透明電極19の両端は額縁領域12まで延出しており、それぞれの端部が第1の透明電極用端子23と接続するように構成されている。また、第2の透明電極20の両端も額縁領域12まで延出しており、それぞれの端部が第2の透明電極用端子24と接続するように構成されている。これら第1の透明電極19及び第2の透明電極20は、操作者が指などでタッチパネル1の表面を触れた時に、表面に接触した物体と第1の透明電極19との間の静電容量の変化、及び該物体と第2の透明電極20との間の静電容量の変化から、アクティブエリア11内のどの位置に物体が接触したかを検知することができるようになっている。なお、本実施の形態では、第1の透明電極19を構成する第1のセンサ電極21、及び第2の透明電極20を構成する第2のセンサ電極22は線状に形成されているが、第1センサ電極21及び第2センサ電極22の形状はこれに限定されるものではなく、線状以外の形状であってもよい。   The first transparent electrode 19 has a plurality of first sensor electrodes 21 that are linearly formed in the left-right direction, and the first sensor electrodes 21 are arranged in the active area 11 with a predetermined interval. They are arranged in parallel. The second transparent electrode 20 has a plurality of second sensor electrodes 22 formed linearly in a direction orthogonal to the first sensor electrode 21, and these second sensor electrodes 22 are The active area 11 is arranged in parallel at a predetermined interval. For this reason, the first transparent electrode 19 and the second transparent electrode 20 are arranged so as to be orthogonal to each other and positioned in a grid pattern in the active area 11. Both ends of the first transparent electrode 19 extend to the frame region 12, and each end portion is configured to be connected to the first transparent electrode terminal 23. Further, both ends of the second transparent electrode 20 extend to the frame region 12, and each end portion is configured to be connected to the second transparent electrode terminal 24. The first transparent electrode 19 and the second transparent electrode 20 have a capacitance between the object in contact with the surface and the first transparent electrode 19 when the operator touches the surface of the touch panel 1 with a finger or the like. It is possible to detect at which position in the active area 11 the object has come in contact with the change in the above and the change in the capacitance between the object and the second transparent electrode 20. In the present embodiment, the first sensor electrode 21 constituting the first transparent electrode 19 and the second sensor electrode 22 constituting the second transparent electrode 20 are formed in a linear shape. The shape of the first sensor electrode 21 and the second sensor electrode 22 is not limited to this, and may be a shape other than a linear shape.

第1の取出配線4は、第1の透明電極19で生成された検知信号を、フレキシブル基板3に形成されたフレキシブル回路を介して外部の装置へ送出するための配線である。第1の取出配線4は、図1、図3及び図4に示すように、先端側の端部はフレキシブル回路と接続するための第1の接続端子5と接続し、後端側の端部は第1の透明電極用端子23と接続している。なお、図4においてハッチングを施している箇所は、第1の取出配線4、第1の接続端子5及び第1の透明電極用端子23である。   The first extraction wiring 4 is a wiring for sending the detection signal generated by the first transparent electrode 19 to an external device via a flexible circuit formed on the flexible substrate 3. As shown in FIGS. 1, 3 and 4, the first lead-out wiring 4 has an end on the front end side connected to a first connection terminal 5 for connecting to a flexible circuit, and an end on the rear end side. Is connected to the first transparent electrode terminal 23. In FIG. 4, the hatched portions are the first extraction wiring 4, the first connection terminal 5, and the first transparent electrode terminal 23.

第1の取出配線4は、額縁領域12の左右両側に、第1の額縁領域13と第2の額縁領域14とを跨いで形成されている。また、第1の取出配線4は、左右に設けられている第1の透明電極用端子23のいずれか一方側の端子とのみ接続しており、他端側の端子とは接続しないように形成されている。例えば、最後端側の第1のセンサ電極21は、左側に形成された第1の透明電極用端子23を介して第1の取出配線4と接続されており、この第1のセンサ電極21の先端側に隣接する第1のセンサ電極21は、右側に形成された第1の透明電極用端子23を介して第1の取出配線4と接続されるようになっている。   The first extraction wiring 4 is formed on both the left and right sides of the frame region 12 so as to straddle the first frame region 13 and the second frame region 14. Further, the first extraction wiring 4 is formed so as to be connected only to one of the terminals of the first transparent electrode terminal 23 provided on the left and right, and not to the terminal on the other end. Has been. For example, the first sensor electrode 21 on the rear end side is connected to the first extraction wiring 4 via the first transparent electrode terminal 23 formed on the left side. The first sensor electrode 21 adjacent to the distal end side is connected to the first extraction wiring 4 through a first transparent electrode terminal 23 formed on the right side.

第2の取出配線6は、フレキシブル回路を介して、第2の透明電極20で生成された検知信号を外部の装置へ送出するためのものである。第2の取出配線6は、図1、図3及び図5に示すように、先端側の端部はフレキシブル回路と接続するための第2の接続端子7と接続し、後端側の端部は第2の透明電極用端子24と接続するように形成されている。なお、図5においてハッチングを施しているのは、第2の取出配線6、第2の接続端子7及び第2の透明電極用端子24である。   The 2nd extraction wiring 6 is for sending out the detection signal produced | generated by the 2nd transparent electrode 20 to an external apparatus via a flexible circuit. As shown in FIGS. 1, 3 and 5, the second lead-out wiring 6 is connected to the second connection terminal 7 for connecting to the flexible circuit at the tip end and to the end on the rear end side. Is formed so as to be connected to the second transparent electrode terminal 24. In FIG. 5, the second extraction wiring 6, the second connection terminal 7, and the second transparent electrode terminal 24 are hatched.

第2の取出配線6は、額縁領域12の先端側に形成されている第1の額縁領域13に形成されている。また、第2の取出配線6は、先端側に設けられている第2の透明電極用端子24とのみ接続しており、後端側に設けられている第2の透明電極用端子24とは接続しないように形成されている。   The second extraction wiring 6 is formed in the first frame region 13 formed on the front end side of the frame region 12. The second lead-out wiring 6 is connected only to the second transparent electrode terminal 24 provided on the front end side, and the second transparent electrode terminal 24 provided on the rear end side. It is formed so as not to be connected.

接着層18は、第1の透明基板16と第2の透明基板17とを積層させる際に、これら第1の透明基板16及び第2の透明基板17を接着するための層である。この接着層18は透光性を有するものであれば従来公知のものを適宜選択することができる。具体的には、接着層18を形成する樹脂組成物としては、アクリル酸、アクリル酸アルキル、メタクリル酸、メタクリル酸アルキル、天然ゴムなどを挙げることができる。樹脂組成物は、波長400nm以上700nm以下の可視光の透過率に優れた接着層18を形成可能な光透過性接着剤である点で、アクリル酸アルキルを主成分とするものであることが好ましい。また、接触している電極間の絶縁信頼性を保つため、吸水率が低く、酸フリーであることが好ましい。   The adhesive layer 18 is a layer for adhering the first transparent substrate 16 and the second transparent substrate 17 when the first transparent substrate 16 and the second transparent substrate 17 are laminated. As the adhesive layer 18, a conventionally known one can be appropriately selected as long as it has translucency. Specifically, examples of the resin composition forming the adhesive layer 18 include acrylic acid, alkyl acrylate, methacrylic acid, alkyl methacrylate, and natural rubber. The resin composition is preferably a light-transmitting adhesive capable of forming the adhesive layer 18 having an excellent visible light transmittance with a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less, and is mainly composed of alkyl acrylate. . Moreover, in order to maintain the insulation reliability between the electrodes which are contacting, it is preferable that a water absorption is low and it is acid free.

図6は、図1のA−A´線における断面図、図7は、図5のB−B´線における断面図である。なお、図6は、説明の便宜上、左右両端と中央の一部を省略して記載する。図6に示すように、第1の透明基板16は、第1の光透過性樹脂フィルム30の上面に、第1のアンダーコート層31、第1の誘電体層32、第1の透明導電膜層33及び第1の遮光導電膜層34が積層されている。第1のアンダーコート層31は、少なくとも、光硬化型樹脂剤又はエポキシ系硬化剤を溶解したアンダーコート層形成液を塗布した後に紫外線を照射することで、塗布された該樹脂剤又は硬化剤を硬化させることにより形成される薄膜層であり、第1の光透過性樹脂フィルム30の全面に形成されている。この第1のアンダーコート層31を形成するために使用される光硬化型樹脂剤としては、例えば、オキセタン樹脂などのアクリル系樹脂が挙げられ、エポキシ系硬化剤としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等が挙げられる。   6 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 1, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. In FIG. 6, for convenience of explanation, the left and right ends and a part of the center are omitted. As shown in FIG. 6, the first transparent substrate 16 has a first undercoat layer 31, a first dielectric layer 32, and a first transparent conductive film on the upper surface of the first light transmissive resin film 30. A layer 33 and a first light-shielding conductive film layer 34 are stacked. The first undercoat layer 31 irradiates at least ultraviolet light after applying an undercoat layer forming solution in which a photocurable resin agent or an epoxy-based curing agent is dissolved, so that the applied resin agent or curing agent is removed. It is a thin film layer formed by curing, and is formed on the entire surface of the first light transmissive resin film 30. Examples of the photocurable resin agent used to form the first undercoat layer 31 include acrylic resins such as oxetane resins. Examples of the epoxy curing agent include bisphenol A type epoxy. Examples thereof include resins and bisphenol F type epoxy resins.

第1の誘電体層32は、第1の透明電極19の密着性を向上させるとともに、第1の透明電極19を目立たなくするためのものである。第1の誘電体層32は、第1の透明基板16上にSiOの薄膜を形成することにより構成されている。この第1の誘電体層32を形成することで、第1の光透過性樹脂フィルム30と第1の透明導電膜層33との密着性を向上させることができるとともに、第1の透明導電膜層33により形成される第1の透明電極19を目立たなくすることができ、操作者が第1の透明電極19の存在を意識することなく、タッチパネル1を操作することができるようになる。なお、本実施の形態では、第1の誘電体層32としてSiOの薄膜を用いているが、SiON等を用いてもよい。 The first dielectric layer 32 is for improving the adhesion of the first transparent electrode 19 and making the first transparent electrode 19 inconspicuous. The first dielectric layer 32 is configured by forming a thin film of SiO 2 on the first transparent substrate 16. By forming the first dielectric layer 32, the adhesion between the first light-transmissive resin film 30 and the first transparent conductive film layer 33 can be improved, and the first transparent conductive film can be improved. The first transparent electrode 19 formed by the layer 33 can be made inconspicuous, and the operator can operate the touch panel 1 without being aware of the presence of the first transparent electrode 19. In the present embodiment, a thin film of SiO 2 is used as the first dielectric layer 32, but SiON or the like may be used.

第1の透明導電膜層33は、複数本の第1のセンサ電極21からなる第1の透明電極19を構成するとともに、第2の額縁領域14に形成されている第1の透明電極用端子23、第1の取出配線4及び第1の接続端子5のそれぞれを構成するものであり、これら第1の透明電極19、第1の透明電極用端子23、第1の取出配線4及び第1の接続端子5の形状に対応するパターンとなるように、第1の誘電体層32の上に形成されている。   The first transparent conductive film layer 33 constitutes a first transparent electrode 19 composed of a plurality of first sensor electrodes 21, and a first transparent electrode terminal formed in the second frame region 14. 23, the first extraction wiring 4 and the first connection terminal 5, respectively. The first transparent electrode 19, the first transparent electrode terminal 23, the first extraction wiring 4 and the first connection terminal 5. It is formed on the first dielectric layer 32 so as to have a pattern corresponding to the shape of the connection terminal 5.

第1の透明導電膜層33を形成するものとしては、インジウム錫オキサイド(ITO)、酸化インジウム、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)、酸化錫(SnO)、酸化亜鉛(ZnO)のような導電性酸化物が挙げられる。第1の透明導電膜層33は、これら導電性酸化物の薄膜をスパッタ法で第1の誘電体層32上に形成することにより得られる。このようにして得られた第1の透明導電膜層33の膜厚は、薄膜の透明性を確保する観点及び成膜性の観点から15nm〜50nmであることが好ましい。なお、第1の透明導電膜層33は、カーボンナノチューブ又は金属ナノワイヤからなる導電性繊維を含む膜、金属ナノワイヤ及び導電性高分子を含む膜により形成されていてもよい。 The first transparent conductive film layer 33 is formed of conductive oxide such as indium tin oxide (ITO), indium oxide, indium zinc oxide (IZO), tin oxide (SnO 2 ), and zinc oxide (ZnO). Things. The first transparent conductive film layer 33 is obtained by forming a thin film of these conductive oxides on the first dielectric layer 32 by sputtering. The film thickness of the first transparent conductive film layer 33 thus obtained is preferably 15 nm to 50 nm from the viewpoint of ensuring the transparency of the thin film and from the viewpoint of film formability. The first transparent conductive film layer 33 may be formed of a film containing conductive fibers made of carbon nanotubes or metal nanowires, or a film containing metal nanowires and a conductive polymer.

第1の遮光導電膜層34は、第1の透明電極用端子23、第1の取出配線4及び第1の接続端子5のそれぞれを構成するものである。第1の遮光導電膜層34は、第1の透明導電膜層33のうち、第1の透明電極用端子23、第1の取出配線4及び第1の接続端子5を構成するものの上に形成されている。第1の遮光導電膜層34は、スパッタ法又は蒸着法等の真空プロセスを用いて第1の透明導電膜層33の上に形成された遮光導電薄膜に対してエッチング処理を施すことにより形成されている。   The first light-shielding conductive film layer 34 constitutes each of the first transparent electrode terminal 23, the first extraction wiring 4, and the first connection terminal 5. The first light-shielding conductive film layer 34 is formed on the first transparent conductive film layer 33 that constitutes the first transparent electrode terminal 23, the first extraction wiring 4, and the first connection terminal 5. Has been. The first light-shielding conductive film layer 34 is formed by performing an etching process on the light-shielding conductive thin film formed on the first transparent conductive film layer 33 using a vacuum process such as sputtering or vapor deposition. ing.

第1の遮光導電膜層34は、例えば、金(Au)銀(Ag)、銅(Cu)、クロム(Cr)、プラチナ(Pt)、アルミニウム(Al)、又はこれらの金属のうちのいずれか1種類以上の金属を含む合金、例えばAPC(銀、パラジウム、銅の合金)、MAM(モリブデン、アルミニウム、モリブデンの合金)によって形成されている。なお、第1の遮光導電膜層34は、これらの金属のうちの異なる金属を積層させてもよい。   The first light-shielding conductive film layer 34 is, for example, gold (Au) silver (Ag), copper (Cu), chromium (Cr), platinum (Pt), aluminum (Al), or any of these metals. It is formed of an alloy containing one or more kinds of metals, for example, APC (silver, palladium, copper alloy), MAM (molybdenum, aluminum, molybdenum alloy). The first light-shielding conductive film layer 34 may be formed by stacking different metals among these metals.

第2の透明基板17は、図5のB−B´線の断面に示すように、第2の透明導電膜層38が形成されている部分と、図1のA−A´線の断面に示すように、該第2の透明導電膜層38が形成されていない部分がある。例えば、図5に示す部分では、第2の透明基板17は、第2の光透過性樹脂フィルム35の上面に、第2のアンダーコート層36、第2の誘電体層37、第2の透明導電膜層38及び第2の遮光導電膜層39が積層されている。また、図1に示す箇所では、第2の透明基板17は、第2の光透過性樹脂フィルム35の上面に、第2のアンダーコート層36、第2の誘電体層37及び第2の遮光導電膜層39が積層されており、第2の透明導電膜層38が形成されていない。これは、額縁領域12は操作者が視認することができる場所ではなく、金属又は合金からなる第2の遮光導電膜層39を形成することが許容されており、また第2の遮光導電膜層39を形成しやすくすることができるからである。ただし、これは、第2の透明導電膜層38を額縁領域12内に形成することを禁止する趣旨ではなく、必要に応じて、額縁領域12にも第2の透明導電膜層38を形成し、その上に第2の遮光導電膜層39を形成してもよい。   The second transparent substrate 17 has a portion where the second transparent conductive film layer 38 is formed and a cross section taken along the line AA 'in FIG. As shown, there is a portion where the second transparent conductive film layer 38 is not formed. For example, in the portion shown in FIG. 5, the second transparent substrate 17 has a second undercoat layer 36, a second dielectric layer 37, and a second transparent on the upper surface of the second light transmissive resin film 35. A conductive film layer 38 and a second light shielding conductive film layer 39 are stacked. In addition, in the place shown in FIG. 1, the second transparent substrate 17 has a second undercoat layer 36, a second dielectric layer 37, and a second light shielding layer on the upper surface of the second light transmissive resin film 35. The conductive film layer 39 is laminated, and the second transparent conductive film layer 38 is not formed. This is because the frame region 12 is not a place where the operator can visually recognize, and it is allowed to form the second light-shielding conductive film layer 39 made of a metal or an alloy, and the second light-shielding conductive film layer. This is because 39 can be easily formed. However, this is not to prohibit the formation of the second transparent conductive film layer 38 in the frame region 12, and the second transparent conductive film layer 38 is also formed in the frame region 12 as necessary. The second light-shielding conductive film layer 39 may be formed thereon.

第2のアンダーコート層36は、少なくとも、光硬化型樹脂剤又はエポキシ系硬化剤を溶解したアンダーコート層形成液を塗布した後に紫外線を照射することで、塗布された該樹脂剤又は硬化剤を硬化させることにより形成される薄膜層であり、第2の光透過性樹脂フィルム35の全面に形成されている。この第2のアンダーコート層36を形成するために使用される光硬化型樹脂剤としては、例えば、オキセタン樹脂などのアクリル系樹脂が挙げられ、エポキシ系硬化剤としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等が挙げられる。また、第2のアンダーコート層36を形成する際に使用される樹脂材又は硬化剤は、第1の透明基板16に対して第1のアンダーコート層31を形成する際に使用するものと同じでもよいし、異なるものを使用してもよい。   The second undercoat layer 36 irradiates at least ultraviolet light after applying an undercoat layer forming solution in which a photocurable resin agent or an epoxy curing agent is dissolved, so that the applied resin agent or curing agent is applied. It is a thin film layer formed by curing, and is formed on the entire surface of the second light transmissive resin film 35. Examples of the photocurable resin agent used to form the second undercoat layer 36 include acrylic resins such as oxetane resins. Examples of the epoxy curing agent include bisphenol A type epoxy. Examples thereof include resins and bisphenol F type epoxy resins. Further, the resin material or curing agent used when forming the second undercoat layer 36 is the same as that used when forming the first undercoat layer 31 on the first transparent substrate 16. However, a different one may be used.

第2の誘電体層37は、第2のアンダーコート層36上にSiOの薄膜を形成することにより構成されている。第2の誘電体層37は、第2の透明導電膜層38又は第2の遮光導電膜層39と第2の光透過性樹脂フィルム35との密着性を向上させるとともに、第2の透明導電膜層38の上に形成された第2の透明電極20を目立たなくするためのもので、操作者が第2の透明電極20の存在を意識することなく、タッチパネル1を操作することができるようになっている。なお、本実施の形態では、第2の誘電体層37としてSiOの薄膜を用いているが、SiON等を用いてもよい。また、本実施の形態では、第2の誘電体層37として、第1の誘電体層32と同じ材質の薄膜を形成しているが、第2の誘電体層37と第1の誘電体層32とが異なる材料から形成されていてもよい。 The second dielectric layer 37 is configured by forming a thin film of SiO 2 on the second undercoat layer 36. The second dielectric layer 37 improves the adhesion between the second transparent conductive film layer 38 or the second light-shielding conductive film layer 39 and the second light-transmitting resin film 35, and the second transparent conductive film. It is intended to make the second transparent electrode 20 formed on the film layer 38 inconspicuous, so that the operator can operate the touch panel 1 without being aware of the presence of the second transparent electrode 20. It has become. In this embodiment, a thin film of SiO 2 is used as the second dielectric layer 37, but SiON or the like may be used. In the present embodiment, a thin film made of the same material as the first dielectric layer 32 is formed as the second dielectric layer 37. However, the second dielectric layer 37 and the first dielectric layer 32 may be formed from a different material.

第2の透明導電膜層38は、複数本の第2のセンサ電極22からなる第2の透明電極20を構成するとともに、第1の額縁領域13並びに第2の額縁領域14に形成されている第2の透明電極用端子24を構成するものであり、これら第2の透明電極20及び第2の透明電極用端子24の形状に対応するパターンを形成するように第2の誘電体層37の上に形成されている。   The second transparent conductive film layer 38 constitutes the second transparent electrode 20 including the plurality of second sensor electrodes 22 and is formed in the first frame region 13 and the second frame region 14. The second transparent electrode terminal 24 is configured, and the second dielectric layer 37 is formed so as to form a pattern corresponding to the shape of the second transparent electrode 20 and the second transparent electrode terminal 24. Formed on top.

第2の透明導電膜層38を形成するものとしては、インジウム錫オキサイド(ITO)、酸化インジウム、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)のような導電性酸化物が挙げられる。第2の透明導電膜層38は、これら導電性酸化物の薄膜をスパッタ法で第2の誘電体層37上に形成することにより得られる。このようにして得られた第2の透明導電膜層38の膜厚は、薄膜の透明性を確保する観点及び成膜性の観点から15nm〜50nmであることが好ましい。なお、第2の透明導電膜層38は、カーボンナノチューブ又は金属ナノワイヤからなる導電性繊維を含む膜、金属ナノワイヤ及び導電性高分子を含む膜により形成されていてもよい。   The second transparent conductive film layer 38 is formed of a conductive oxide such as indium tin oxide (ITO), indium oxide, indium zinc oxide (IZO), tin oxide (SnO2), or zinc oxide (ZnO). Is mentioned. The second transparent conductive film layer 38 is obtained by forming a thin film of these conductive oxides on the second dielectric layer 37 by sputtering. The film thickness of the second transparent conductive film layer 38 thus obtained is preferably 15 nm to 50 nm from the viewpoint of ensuring the transparency of the thin film and from the viewpoint of film formability. The second transparent conductive film layer 38 may be formed of a film containing conductive fibers made of carbon nanotubes or metal nanowires, or a film containing metal nanowires and a conductive polymer.

第2の遮光導電膜層39は、第2の取出配線6、第2の透明電極用端子24及び第2の接続端子7を構成するものであり、これら第2の取出配線6、第2の透明電極用端子24及び第2の接続端子7の形状に対応するパターンを形成するように、第2の誘電体層37及び第2の透明導電膜層38の上に形成されている。   The second light-shielding conductive film layer 39 constitutes the second extraction wiring 6, the second transparent electrode terminal 24 and the second connection terminal 7, and these second extraction wiring 6, second It forms on the 2nd dielectric material layer 37 and the 2nd transparent conductive film layer 38 so that the pattern corresponding to the shape of the terminal 24 for transparent electrodes and the 2nd connection terminal 7 may be formed.

第2の遮光導電膜層39は、ペースト状の電極材料が第2の誘電体層37上又は第2の透明導電膜層38上にスクリーン印刷法で塗布されて形成されている。第2の遮光導電膜層39は、金属材料と樹脂材料からなるペースト状の導電性材料によって形成されている。金属材料に用いられるものとしては、例えば、金(Au)銀(Ag)、銅(Cu)、クロム(Cr)、プラチナ(Pt)、アルミニウム(Al)、又はこれらの金属のうちのいずれか1種類以上の金属を含む合金、例えばAPC(銀、パラジウム、銅の合金)、MAM(モリブデン、アルミニウム、モリブデンの合金)などが挙げられる。   The second light-shielding conductive film layer 39 is formed by applying a paste-like electrode material on the second dielectric layer 37 or the second transparent conductive film layer 38 by a screen printing method. The second light-shielding conductive film layer 39 is formed of a paste-like conductive material made of a metal material and a resin material. Examples of the metal material used include gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), chromium (Cr), platinum (Pt), aluminum (Al), or any one of these metals. An alloy containing more than one kind of metal, for example, APC (silver, palladium, copper alloy), MAM (molybdenum, aluminum, molybdenum alloy), and the like can be given.

また、樹脂材料に用いられるものとしては、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル、ビニルエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、オリゴエステルアクリレート樹脂、キシレン樹脂、ビスマレイドトリアジン樹脂、フラン樹脂、尿素樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、シリコン樹脂、アクリル樹脂、オキセタン樹脂、オキサジン樹脂、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、ケトン樹脂、ポリスチレン、ポリエステルなどが挙げられる。特に、第2の透明基板17がフィルム材であり高温で焼成することができないため、第2の遮光導電膜層39には、銀とエポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、もしくはそれらの混同樹脂からなるペースト状の導電性材料を用いることが好ましい。また、上記のペーストを用いてスクリーン印刷法で外周パターンを形成した後に、レーザー加工を行い、微細部のパターニングを行ってもよいし、金属材料を含む感光性ペーストを用いてスクリーン印刷法で外周パターンを形成した後に、リソグラフィ工程を経て、微細部のパターニングを行ってもよい。   Examples of the resin material include phenol resin, epoxy resin, unsaturated polyester, vinyl ester resin, diallyl phthalate resin, oligoester acrylate resin, xylene resin, bismaleide triazine resin, furan resin, urea resin, Examples include polyurethane, melamine resin, silicon resin, acrylic resin, oxetane resin, oxazine resin, polyamide, polyimide, acrylic resin, ketone resin, polystyrene, and polyester. In particular, since the second transparent substrate 17 is a film material and cannot be baked at a high temperature, the second light-shielding conductive film layer 39 is made of silver and an epoxy resin, an acrylic resin, a phenol resin, or a mixed resin thereof. It is preferable to use a paste-like conductive material. In addition, after forming an outer peripheral pattern by the screen printing method using the above paste, laser processing may be performed to pattern a fine portion, or an outer periphery pattern may be formed by a screen printing method using a photosensitive paste containing a metal material. After the pattern is formed, the fine portion may be patterned through a lithography process.

また、図1及び図3に示すように、本実施の形態のタッチパネル1は、接着層18を介して第1の透明基板16と第2の透明基板17とが積層されている。また、第1の透明基板16には、第1の接続端子5が形成された側部の中央部に切り欠き16cが形成されており、この切り欠き16cが形成されている箇所に、第2の透明基板17に形成された第2の接続端子7が露出するように配置されている。したがって、これら第1の接続端子5と第2の接続端子7は、共に同一の側部に位置し、また、図6に示すように、第1の遮光導電膜層34と第2の遮光導電膜層39との間は、H1の高低差を有する。   As shown in FIGS. 1 and 3, in the touch panel 1 of the present embodiment, a first transparent substrate 16 and a second transparent substrate 17 are laminated via an adhesive layer 18. In addition, the first transparent substrate 16 has a notch 16c formed at the center of the side where the first connection terminal 5 is formed, and the second notch 16c is formed at the location where the notch 16c is formed. The second connection terminals 7 formed on the transparent substrate 17 are arranged so as to be exposed. Therefore, the first connection terminal 5 and the second connection terminal 7 are both located on the same side, and, as shown in FIG. 6, the first light shielding conductive film layer 34 and the second light shielding conductive film. There is a difference in height between H1 and the film layer 39.

本実施の形態に係るタッチパネル1では、金属材料を含む第1の遮光導電膜層34の厚さが0.01μm〜1μmと薄く、また金属材料と樹脂材料を含むペースト状の導電性材料によって形成されている第2の遮光導電膜層39の厚さが5μm〜30μmと厚いため、第1の透明基板16を第2の透明基板17の上に積層することで、第1の遮光導電膜層34の上端面から第2の遮光導電膜層39の上端面までの差、すなわち第1の取出配線4と第2の取出配線6との高低差H1を大幅に減少させることができる。そのためフレキシブル基板3は過大な弾性変形をせずにタッチパネルセンサ2と接合することができ、電極端子と、第1の接続端子5又は第2の接続端子7との接続が解除されるような力がフレキシブル基板3に発生することを低減させることができる。したがって、本実施の形態のタッチパネル1は、電極端子と、第1の接続端子5及び第2の接続端子7との接続信頼性を飛躍的に向上させることが可能になる。なお、本実施の形態に係るタッチパネル1は、第1の遮光導電膜層が金属材料を含み、第2の遮光導電膜層39が金属材料と樹脂材料を含む導電性材料から形成されているが、第1の遮光導電膜層34を金属材料から形成し、第2の遮光導電膜層を金属材料と樹脂材料からなるペースト状の導電性材料により形成してもよい。   In the touch panel 1 according to the present embodiment, the first light-shielding conductive film layer 34 containing a metal material is as thin as 0.01 μm to 1 μm, and is formed of a paste-like conductive material containing a metal material and a resin material. Since the thickness of the second light-shielding conductive film layer 39 is as thick as 5 μm to 30 μm, the first light-shielding conductive film layer is formed by laminating the first transparent substrate 16 on the second transparent substrate 17. The difference from the upper end surface of 34 to the upper end surface of the second light-shielding conductive film layer 39, that is, the height difference H1 between the first extraction wiring 4 and the second extraction wiring 6 can be greatly reduced. Therefore, the flexible substrate 3 can be joined to the touch panel sensor 2 without excessive elastic deformation, and the force that releases the connection between the electrode terminal and the first connection terminal 5 or the second connection terminal 7. Can be reduced in the flexible substrate 3. Therefore, the touch panel 1 of the present embodiment can dramatically improve the connection reliability between the electrode terminal and the first connection terminal 5 and the second connection terminal 7. In the touch panel 1 according to the present embodiment, the first light-shielding conductive film layer includes a metal material, and the second light-shielding conductive film layer 39 is formed from a conductive material including a metal material and a resin material. Alternatively, the first light-shielding conductive film layer 34 may be formed from a metal material, and the second light-shielding conductive film layer may be formed from a paste-like conductive material made of a metal material and a resin material.

また、本実施の形態のタッチパネル1は、第1の接続端子5と第2の接続端子7とが、共にタッチパネルセンサ2の同一の側部に設けられている。そのため、本実施の形態のタッチパネル1は、フレキシブル基板3を一箇所に設ければよく、他の箇所における額縁領域12を狭領域化し、アクティブエリア11を拡大することが可能になる。   In the touch panel 1 according to the present embodiment, the first connection terminal 5 and the second connection terminal 7 are both provided on the same side portion of the touch panel sensor 2. Therefore, the touch panel 1 according to the present embodiment only needs to be provided with the flexible substrate 3 in one place, and the frame area 12 in another place can be narrowed and the active area 11 can be enlarged.

さらに、本実施の形態のタッチパネルセンサ2は、狭領域化した第2の額縁領域14に取出配線を設置する場合には、スパッタ法で形成した第1の取出配線4を設置し、第2の額縁領域14に比べて比較的広範囲が確保される第1の額縁領域13には、安価な印刷法で形成した第2の取出配線6を設置することができる。そのため、本実施の形態のタッチパネル1は、製造時のコストを低く抑えながら、アクティブエリア11を拡大することが可能になる。   Furthermore, in the touch panel sensor 2 of the present embodiment, when the extraction wiring is installed in the second frame area 14 which is narrowed, the first extraction wiring 4 formed by the sputtering method is installed, The second lead-out wiring 6 formed by an inexpensive printing method can be installed in the first frame region 13 in which a relatively wide area is ensured as compared with the frame region 14. Therefore, the touch panel 1 of the present embodiment can expand the active area 11 while keeping the manufacturing cost low.

次に、第1の透明基板16に第1の透明電極19及び第1の取出配線4を形成するステップを図8に基づいて説明する。まず、第1の透明基板16となる光透過性樹脂フィルム30を用意し、この光透過性樹脂フィルム30上に第1のアンダーコート層31及び第1の誘電体層32を順次積層させた後に、第1の透明導電膜層33及び第1の遮光導電膜層34をスパッタ法により順次積層する(図8(a))。なお、第1の透明導電膜層33は第1の透明電極19となる層であり、第1の遮光導電膜層34は第1の取出配線4、第1の接続端子5及び第1の透明電極用端子23となる層である。   Next, the step of forming the first transparent electrode 19 and the first extraction wiring 4 on the first transparent substrate 16 will be described with reference to FIG. First, a light transmissive resin film 30 to be the first transparent substrate 16 is prepared, and a first undercoat layer 31 and a first dielectric layer 32 are sequentially laminated on the light transmissive resin film 30. Then, the first transparent conductive film layer 33 and the first light-shielding conductive film layer 34 are sequentially stacked by sputtering (FIG. 8A). Note that the first transparent conductive film layer 33 is a layer that becomes the first transparent electrode 19, and the first light-shielding conductive film layer 34 is the first extraction wiring 4, the first connection terminal 5, and the first transparent electrode. This is a layer that becomes the electrode terminal 23.

次に、第1の遮光導電膜層34の上に感光膜層41を形成する。感光膜層41は、第1の遮光導電膜層34の上にバーコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スクリーン印刷等の各種方法によりコーティングすることで形成される(図8(b))。次に、感光膜層41の上にフォトマスク42を配置する。フォトマスク42は、第1の透明電極19及び第1の取出配線4の形状に応じたパターンが金属膜で形成されているガラス部材である。(図8(c))。   Next, a photosensitive film layer 41 is formed on the first light-shielding conductive film layer 34. The photosensitive film layer 41 is formed by coating the first light-shielding conductive film layer 34 by various methods such as a bar coating method, a die coating method, a curtain coating method, and screen printing (FIG. 8B). Next, a photomask 42 is disposed on the photosensitive film layer 41. The photomask 42 is a glass member in which a pattern corresponding to the shape of the first transparent electrode 19 and the first extraction wiring 4 is formed of a metal film. (FIG. 8 (c)).

次に、フォトマスク42に形成されたパターンを感光膜層41に露光する。露光時に用いられる露光装置は、感光膜層41の感光特性に対応したものを用いることができ、例えば紫外線露光装置や電子線露光装置等を用いることができる。露光完了後はフォトマスク42を取り除く(図8(d))。なお、図8(d)において、符号43で示した箇所は、露光によって感光膜層が感光した部分である。次に、現像液を用いて感光膜層41を現像する。現像する際の現像液としては水酸化カリウム溶液、TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド)等を用いることができ、これも感光膜層41の特性に応じたものを使用することができる。このようにして現像した感光膜層41は感光した部分が取り除かれ、フォトマスク42に形成されたパターンと同じものが感光膜層41にパターニングされる(図8(e))。   Next, the pattern formed on the photomask 42 is exposed to the photosensitive film layer 41. As the exposure apparatus used at the time of exposure, an apparatus corresponding to the photosensitive characteristics of the photosensitive film layer 41 can be used. For example, an ultraviolet exposure apparatus or an electron beam exposure apparatus can be used. After the exposure is completed, the photomask 42 is removed (FIG. 8D). In FIG. 8D, the portion indicated by reference numeral 43 is a portion where the photosensitive film layer is exposed by exposure. Next, the photosensitive film layer 41 is developed using a developer. As a developer for development, a potassium hydroxide solution, TMAH (tetramethylammonium hydroxide), or the like can be used, and a developer corresponding to the characteristics of the photosensitive film layer 41 can also be used. The photosensitive film layer 41 developed in this way is subjected to removal of the exposed portion, and the same pattern as that formed on the photomask 42 is patterned on the photosensitive film layer 41 (FIG. 8E).

次に、第1の遮光導電膜層34及び第1の透明導電膜層33のエッチング処理を行う。エッチング剤としては、塩化鉄水溶液および塩化鉄水溶液を主成分とした混合液等を用いることができ、感光膜層41、第1の遮光導電膜層34及び第1の透明導電膜層33の特性に応じたものを適宜使用することができる。第1の遮光導電膜層34及び第1の透明導電膜層33のエッチング処理が完了すると、感光膜層41に形成されたパターンと同じものが第1の遮光導電膜層34及び第1の透明導電膜層33にパターニングされる(図8(f))。エッチング処理を行った後は感光膜層41を剥離する(図8(g))。このようにパターニングされた第1の透明導電膜層33が第1の透明電極19等になる。   Next, the first light-shielding conductive film layer 34 and the first transparent conductive film layer 33 are etched. As the etching agent, an aqueous solution of iron chloride and a mixed liquid mainly composed of an aqueous solution of iron chloride can be used. A product according to the above can be used as appropriate. When the etching process of the first light-shielding conductive film layer 34 and the first transparent conductive film layer 33 is completed, the same pattern as the pattern formed on the photosensitive film layer 41 is the first light-shielding conductive film layer 34 and the first transparent conductive film layer 41. The conductive film layer 33 is patterned (FIG. 8F). After performing the etching process, the photosensitive film layer 41 is peeled off (FIG. 8G). The first transparent conductive film layer 33 patterned in this way becomes the first transparent electrode 19 and the like.

次に、感光性材料を第1の遮光導電膜層34の上に再度コーティングして、感光膜層44を形成する(図8(h))。そして、感光膜層44の上にフォトマスク45を配置する。このフォトマスク45は、第1の取出配線4の形状に応じたパターンが金属膜で形成されているガラス部材である(図8(i))。   Next, a photosensitive material is coated again on the first light-shielding conductive film layer 34 to form a photosensitive film layer 44 (FIG. 8H). Then, a photomask 45 is disposed on the photosensitive film layer 44. The photomask 45 is a glass member in which a pattern corresponding to the shape of the first extraction wiring 4 is formed of a metal film (FIG. 8I).

次に、フォトマスク45に形成されたパターンを感光膜層44に露光する。先の露光と同様、露光時に用いられる露光装置は、感光膜層44の感光特性に対応したものを用いることができ、例えば紫外線露光装置や電子線露光装置等を用いることができる。露光完了後はフォトマスク45を取り除く(図8(j))。なお、図8(j)において、符号46で示した箇所は、露光によって感光膜層44が感光した部分である。次に、現像液を用いて感光膜層44を現像する。現像する際の現像液としては、水酸化カリウム溶液、TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド)等を用いることができ、これも感光膜層44の特性に応じたものを使用することができる。このようにして現像した感光膜層44は感光した部分が取り除かれ、フォトマスク45に形成されたパターンと同じものが感光膜層44にパターニングされる(図8(k))。   Next, the pattern formed on the photomask 45 is exposed to the photosensitive film layer 44. As in the previous exposure, the exposure apparatus used at the time of exposure can be one corresponding to the photosensitive characteristics of the photosensitive film layer 44, for example, an ultraviolet exposure apparatus or an electron beam exposure apparatus. After the exposure is completed, the photomask 45 is removed (FIG. 8 (j)). In FIG. 8 (j), the portion denoted by reference numeral 46 is a portion where the photosensitive film layer 44 is exposed by exposure. Next, the photosensitive film layer 44 is developed using a developer. As a developer for development, a potassium hydroxide solution, TMAH (tetramethylammonium hydroxide), or the like can be used, and a developer corresponding to the characteristics of the photosensitive film layer 44 can also be used. The photosensitive film layer 44 thus developed is stripped of the exposed portion, and the same pattern as that formed on the photomask 45 is patterned on the photosensitive film layer 44 (FIG. 8 (k)).

次に、第1の遮光導電膜層34のエッチング処理を行う。エッチング剤としては、燐硝酢酸等を用いることができ、感光膜層44、第1の遮光導電膜層34及び第1の透明導電膜層33の特性に応じたものを適宜使用することができる。第1の遮光導電膜層34のエッチング処理が完了すると、感光膜層44に形成されたパターンと同じものが第1の遮光導電膜層34にパターニングされる(図8(l))。そして、エッチング処理を行った後は感光膜層44を剥離する(図8(m))。このようにしてパターニングされた第1の遮光導電膜層34が第1の取出配線4等になる。   Next, the first light shielding conductive film layer 34 is etched. As the etchant, phosphonic acetic acid or the like can be used, and those according to the characteristics of the photosensitive film layer 44, the first light-shielding conductive film layer 34, and the first transparent conductive film layer 33 can be appropriately used. . When the etching process for the first light-shielding conductive film layer 34 is completed, the same pattern as that formed on the photosensitive film layer 44 is patterned on the first light-shielding conductive film layer 34 (FIG. 8L). After the etching process, the photosensitive film layer 44 is peeled off (FIG. 8 (m)). The first light-shielding conductive film layer 34 thus patterned becomes the first extraction wiring 4 and the like.

次に、第2の透明基板17に第2の取出配線6を形成するステップを図9に基づいて説明する。まず、第2の光透過性樹脂フィルム35を用意し、この光透過性樹脂フィルム上に第2のアンダーコート層36及び第2の誘電体層37を順次積層し、さらに第2の透明導電膜層38となる薄膜をスパッタ法により順次積層する。なお、第2の透明導電膜層38は第2の透明電極20となる層である。   Next, the step of forming the second extraction wiring 6 on the second transparent substrate 17 will be described with reference to FIG. First, a second light transmissive resin film 35 is prepared, a second undercoat layer 36 and a second dielectric layer 37 are sequentially laminated on the light transmissive resin film, and a second transparent conductive film is further formed. A thin film to be the layer 38 is sequentially laminated by a sputtering method. The second transparent conductive film layer 38 is a layer that becomes the second transparent electrode 20.

次に、第2の透明導電膜層38の上に感光膜層51を形成する。感光膜層51は、第2の透明導電膜層38の上にバーコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スクリーン印刷等の各種方法によりコーティングすることで形成される(図9(a))。次に、感光膜層51の上にフォトマスク52を配置する。フォトマスク52は、第2の透明電極20の形状に応じたパターンが金属膜で形成されているガラス部材である(図9(b))。   Next, a photosensitive film layer 51 is formed on the second transparent conductive film layer 38. The photosensitive film layer 51 is formed by coating the second transparent conductive film layer 38 by various methods such as a bar coating method, a die coating method, a curtain coating method, and screen printing (FIG. 9A). Next, a photomask 52 is disposed on the photosensitive film layer 51. The photomask 52 is a glass member in which a pattern corresponding to the shape of the second transparent electrode 20 is formed of a metal film (FIG. 9B).

次に、フォトマスク52に形成されたパターンを感光膜層51に露光する。露光時に用いられる露光装置は、感光膜層の感光特性に対応したものを用いることができ、例えば紫外線露光装置や電子線露光装置等を用いることができる。露光完了後はフォトマスク52を取り除く(図9(c))。なお、図9(c)において、符号53で示した箇所は、露光によって感光膜層が感光した部分である。次に、現像液を用いて感光膜層51を現像する。現像する際の現像液としては、水酸化カリウム溶液、TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド)等を用いることができ、これも感光膜層51の特性に応じたものを使用することができる。このようにして現像した感光膜層51は感光した部分が取り除かれ、フォトマスク52に形成されたパターンと同じものが感光膜層51にパターニングされる(図9(d))。   Next, the pattern formed on the photomask 52 is exposed to the photosensitive film layer 51. As an exposure apparatus used at the time of exposure, an apparatus corresponding to the photosensitive characteristics of the photosensitive film layer can be used, and for example, an ultraviolet exposure apparatus or an electron beam exposure apparatus can be used. After the exposure is completed, the photomask 52 is removed (FIG. 9C). In FIG. 9C, the portion indicated by reference numeral 53 is a portion where the photosensitive film layer is exposed by exposure. Next, the photosensitive film layer 51 is developed using a developer. As a developer for development, a potassium hydroxide solution, TMAH (tetramethylammonium hydroxide), or the like can be used, and a developer corresponding to the characteristics of the photosensitive film layer 51 can also be used. The photosensitive film layer 51 developed in this manner is stripped of the exposed portion, and the same pattern as that formed on the photomask 52 is patterned on the photosensitive film layer 51 (FIG. 9D).

次に、第2の透明導電膜層38のエッチング処理を行う。エッチング剤としては、塩化鉄水溶液および塩化鉄水溶液を主成分とした混合液等を用いることができ、第2の透明導電膜層38の特性に応じたものを適宜使用することができる。第2の透明導電膜層38のエッチング処理が完了すると、感光膜層51に形成されたパターンと同じものが第2の透明導電膜層38にパターニングされる(図9(e))。エッチング処理を行った後は感光膜層51を剥離する(図9(f))。このようにしてパターニングされた第2の透明導電膜層38が第2の透明電極20となる。   Next, the second transparent conductive film layer 38 is etched. As the etching agent, an aqueous solution of iron chloride, a mixed solution containing an aqueous iron chloride solution as a main component, or the like can be used, and an appropriate one depending on the characteristics of the second transparent conductive film layer 38 can be used. When the etching process of the second transparent conductive film layer 38 is completed, the same pattern as that formed on the photosensitive film layer 51 is patterned on the second transparent conductive film layer 38 (FIG. 9E). After performing the etching process, the photosensitive film layer 51 is peeled off (FIG. 9F). The second transparent conductive film layer 38 thus patterned becomes the second transparent electrode 20.

次に、スクリーン印刷法を用いて、ペースト状の導電性材料を第2の透明電極20上に印刷して第2の遮光導電膜層39を形成する(図9(g))。このようにして印刷された第2の遮光導電膜層39が第2の取出配線6等になる。   Next, by using a screen printing method, a paste-like conductive material is printed on the second transparent electrode 20 to form a second light-shielding conductive film layer 39 (FIG. 9G). The second light-shielding conductive film layer 39 printed in this way becomes the second extraction wiring 6 and the like.

次に、第2の透明基板17の上に接着層18を介在させて、第1の透明基板16の下面を第2の透明基板17の上に積層固定する。このようにして、本実施の形態のタッチパネルセンサ2が形成される(図10(a))。なお、図10(a)では、第2の遮光導電膜層39が第2の透明導電膜層38の上に形成される例について説明したが、第2の取出配線6を形成する場所によっては、第2のアンダーコート層36及び第2の誘電体層37が形成された第2の透過性樹脂フィルム35上に第2の遮光導電膜層39を直接形成することもある。また、本実施の形態では、第1の透過性基板16が第1のアンダーコート層31及び第1の誘電体層32を有し、第2の透過性基板17が第2のアンダーコート層36及び第2の誘電体層37を有するように構成したが、図10(b)に示すように、第1のアンダーコート層及び第1の誘電体層、並びに第2のアンダーコート層及び第2の誘電体層を有しなくてもよい。   Next, the adhesive layer 18 is interposed on the second transparent substrate 17, and the lower surface of the first transparent substrate 16 is laminated and fixed on the second transparent substrate 17. In this way, the touch panel sensor 2 of the present embodiment is formed (FIG. 10A). In FIG. 10A, the example in which the second light-shielding conductive film layer 39 is formed on the second transparent conductive film layer 38 has been described, but depending on the location where the second extraction wiring 6 is formed. The second light-shielding conductive film layer 39 may be directly formed on the second transparent resin film 35 on which the second undercoat layer 36 and the second dielectric layer 37 are formed. In the present embodiment, the first transmissive substrate 16 has the first undercoat layer 31 and the first dielectric layer 32, and the second transmissive substrate 17 is the second undercoat layer 36. And the second dielectric layer 37, as shown in FIG. 10B, the first undercoat layer and the first dielectric layer, and the second undercoat layer and the second dielectric layer 37 are formed. The dielectric layer may not be provided.

以上に説明した本発明のタッチパネル1を用いて、本発明の表示装置を提供することができる。本発明の表示装置は、上記したタッチパネル1を表示部に設けることで構成されている。   The display device of the present invention can be provided using the touch panel 1 of the present invention described above. The display device of the present invention is configured by providing the touch panel 1 described above in a display unit.

表示部は、液晶表示パネルや有機EL表示パネル等のような従来から公知のものを適宜使用してもよく、上記したものに限定されるものではない。また、表示部を備えた表示装置としては、例えば、携帯電話、携帯音楽再生装置、パーソナルコンピュータ等が挙げられるが、これら以外の表示装置にも使用することができる。   As the display unit, a conventionally known display unit such as a liquid crystal display panel or an organic EL display panel may be used as appropriate, and the display unit is not limited to the above. In addition, examples of the display device including the display unit include a mobile phone, a portable music playback device, and a personal computer, but the display device can also be used for other display devices.

以下に、本発明の実施例及び比較例を示す。なお、実施例1におけるタッチパネルセンサ2は、図6に示す断面を有するものであり、比較例1におけるタッチパネルセンサ2は、図11に示す断面を有するものである。   Examples of the present invention and comparative examples are shown below. In addition, the touch panel sensor 2 in Example 1 has a cross section shown in FIG. 6, and the touch panel sensor 2 in Comparative Example 1 has a cross section shown in FIG.

実施例1:
(第1の透明基板16の作成)
まず、厚さ75μmのPETフィルム(東レ製 ルミラーT60)を準備した。次に、光硬化型樹脂剤(東亞合成株式会社製 アロニックスM405)及びエポキシ系硬化剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製 イルガキュア184)をイソブチルアルコールに溶解した溶液を、バーコート法(松尾産業株式会社製、K303マルチコーター)によりPETフィルムの全面に塗布した。そして、Model LC−6B Benchtop Conveyor(フュージョンUVシステムズ・ジャパン株式会社製)を用いて、溶液の塗布面上から波長365nm、積算エネルギー300mJの紫外線を照射して、PETフィルム上に厚さ1μmのアンダーコート層を製膜した。
Example 1:
(Creation of the first transparent substrate 16)
First, a 75 μm thick PET film (Toray Lumirror T60) was prepared. Next, a solution obtained by dissolving a photocurable resin agent (Aronix M405, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and an epoxy-based curing agent (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) in isobutyl alcohol was used as a bar coating method (Matsuo Sangyo Co., Ltd.). It was apply | coated to the whole surface of PET film by the product made from K303 multicoater. Then, using a Model LC-6B Benchtop Conveyor (Fusion UV Systems Japan Co., Ltd.), UV light having a wavelength of 365 nm and an integrated energy of 300 mJ is irradiated from the coating surface of the solution, and the PET film has an under thickness of 1 μm. A coat layer was formed.

次に、アンダーコート層を形成したPETフィルムの片面に、厚さ30nmのSiOの薄膜からなる誘電体層をスパッタ法(株式会社 アルバック製、コンタクトスパッタ ACS−4000)により製膜した。次に、誘電体層上に、厚さ30nmのITO膜と、厚さ100nmのAPC膜をスパッタ法により順次製膜した。その後、ポジ感光性材料(ローム&ハース社製 S1805)を用いて、カーテンコート法により厚さ1.0μmのポジレジストを製膜した。 Next, a dielectric layer composed of a thin film of SiO 2 having a thickness of 30 nm was formed on one side of a PET film on which an undercoat layer was formed by a sputtering method (ULVAC, Inc., contact sputtering ACS-4000). Next, an ITO film having a thickness of 30 nm and an APC film having a thickness of 100 nm were sequentially formed on the dielectric layer by a sputtering method. Thereafter, a positive resist having a thickness of 1.0 μm was formed by a curtain coating method using a positive photosensitive material (S1805 manufactured by Rohm & Haas).

次に、ポジレジストの上に第1の透明電極19及び第1の取出配線4のパターンが形成されたフォトマスクを所定位置に配置し、フォトマスクの上から、プロキシアライナー(大日本科研製 MA5000)により、波長365nm、積算エネルギー300mJの紫外線を照射して、ポジレジストの露光を行った。その後、KOH現像液により、ポジレジストの現像処理を行った。   Next, a photomask in which a pattern of the first transparent electrode 19 and the first extraction wiring 4 is formed on a positive resist is arranged at a predetermined position, and a proxy aligner (MA5000 manufactured by Dainippon Kaken) is placed on the photomask. ) To irradiate ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm and an accumulated energy of 300 mJ to expose the positive resist. Thereafter, the positive resist was developed with a KOH developer.

次に、エッチング剤として塩化鉄溶液を用いてAPC膜とITO膜のエッチング処理をして、これらAPC膜及びITO膜にパターニングを行った。その後、NaOH溶液により、ポジレジストを剥離した。   Next, the APC film and the ITO film were etched using an iron chloride solution as an etchant, and the APC film and the ITO film were patterned. Thereafter, the positive resist was peeled off with an NaOH solution.

次に、カーテンコーター(株式会社セリテック製)を用いて、ポジ感光性材料(AZマテリアル製)をカーテンコート法により塗布し、APC膜上からの厚さが1.0μmのポジレジストを製膜した。そして、ポジレジストの上に、第1の取出配線4のパターンが形成されたフォトマスクを所定位置に配置し、フォトマスクの上から、プロキシアライナー(大日本科研製 MA5000)により、波長365nm、積算エネルギー300mJの紫外線を照射して、ポジレジストの露光を行った。その後、KOH現像液により、ポジレジストの現像処理を行った。   Next, using a curtain coater (manufactured by Seritech Co., Ltd.), a positive photosensitive material (manufactured by AZ Material) was applied by the curtain coating method to form a positive resist having a thickness of 1.0 μm from the APC film. . Then, a photomask in which the pattern of the first extraction wiring 4 is formed on the positive resist is disposed at a predetermined position, and a wavelength of 365 nm is integrated from above the photomask by a proxy aligner (MA5000 manufactured by Dainippon Kaken). The positive resist was exposed by irradiating ultraviolet rays having an energy of 300 mJ. Thereafter, the positive resist was developed with a KOH developer.

次に、燐酸、硝酸、酢酸、水を4:1:4:4の割合で混合した燐硝酢酸をエッチング剤として用いて、APC膜のエッチング処理をして、APC膜のパターニングを行った。その後、NaOH溶液により、ポジレジストを剥離した。これによって、第1の透明基板16を得た。   Next, the APC film was subjected to etching processing using phosphoric acid acetic acid in which phosphoric acid, nitric acid, acetic acid, and water were mixed at a ratio of 4: 1: 4: 4 as an etching agent, and the APC film was patterned. Thereafter, the positive resist was peeled off with an NaOH solution. As a result, a first transparent substrate 16 was obtained.

(第2の透明基板17の作成)
まず、厚さ75μmのPETフィルム(東レ製 ルミラーT60)を準備した。次に、光硬化型樹脂剤(東亞合成株式会社製 アロニックスM405)及びエポキシ系硬化剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製 イルガキュア184)をイソブチルアルコールに溶解した溶液を、自動塗工機(松尾産業株式会社製、K303マルチコーター)を用いてバーコート法によりPETフィルムの全面に塗布した。そして、Model LC−6B Benchtop Conveyor(フュージョンUVシステムズ・ジャパン株式会社製)を用いて、溶液の塗布面上から波長365nm、積算エネルギー300mJの紫外線を照射して、PETフィルム上に厚さ1μmのアンダーコート層を製膜した。
(Creation of the second transparent substrate 17)
First, a 75 μm thick PET film (Toray Lumirror T60) was prepared. Next, a solution obtained by dissolving a photocurable resin agent (Aronix M405 manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and an epoxy type curing agent (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) in isobutyl alcohol is used as an automatic coating machine (Matsuo Sangyo Co., Ltd.). It was applied to the entire surface of the PET film by a bar coating method using a company-made K303 multi-coater. Then, using a Model LC-6B Benchtop Conveyor (Fusion UV Systems Japan Co., Ltd.), UV light having a wavelength of 365 nm and an integrated energy of 300 mJ is irradiated from the coating surface of the solution, and the PET film has an under thickness of 1 μm. A coat layer was formed.

次に、アンダーコート層を形成したPETフィルムの片面に、厚さ30nmのSiOの薄膜からなる第2の誘電体層をスパッタ法により製膜した。次に、第2の誘電体層上に、厚さ30nmのITO膜をスパッタ法により製膜し、その後、ポジ感光性材料(ローム&ハース社製 S1805)を用いて、カーテンコート法により厚さ1.0μmのポジレジストを製膜した。 Next, a second dielectric layer made of a thin film of SiO 2 having a thickness of 30 nm was formed on one side of the PET film on which the undercoat layer was formed by sputtering. Next, an ITO film having a thickness of 30 nm is formed on the second dielectric layer by a sputtering method, and then the thickness is determined by a curtain coating method using a positive photosensitive material (S1805 manufactured by Rohm & Haas). A 1.0 μm positive resist was formed.

次に、ポジレジストの上に第2の透明電極20のパターンが形成されたフォトマスクを所定位置に配置し、フォトマスクの上から、プロキシアライナー(大日本科研製 MA5000)により、波長365nm、積算エネルギー300mJの紫外線を照射して、ポジレジストの露光を行った。その後、KOH現像液により、ポジレジストの現像処理を行った。次に、エッチング剤として塩化鉄溶液を用いてITO膜のエッチング処理をして、ITO膜にパターニングを行った。その後、NaOH溶液により、ポジレジストを剥離した。   Next, a photomask in which the pattern of the second transparent electrode 20 is formed on the positive resist is arranged at a predetermined position, and a wavelength of 365 nm is integrated from above the photomask using a proxy aligner (MA5000, manufactured by Dainippon Kaken). The positive resist was exposed by irradiating ultraviolet rays having an energy of 300 mJ. Thereafter, the positive resist was developed with a KOH developer. Next, the ITO film was etched using an iron chloride solution as an etchant, and the ITO film was patterned. Thereafter, the positive resist was peeled off with an NaOH solution.

次に、スクリーン印刷法により、第2の誘電体層上及び一部のITO膜上に銀ペーストをパターニングし、第2の取出電極のパターンを作成した。その後、PETフィルム乾燥炉内に入れて、温度150℃の雰囲気下において30分加熱して銀ペーストを焼成した。
得られた銀ペーストの膜厚を表面粗さ・輪郭形状測定器((有)小阪研究所製 SEF3500)で測定を行ったところ、15μmであった。これによって、第2の透明基板17を得た。
Next, a silver paste was patterned on the second dielectric layer and a part of the ITO film by screen printing to form a second extraction electrode pattern. Then, it put in the PET film drying furnace, and it heated for 30 minutes in the atmosphere of temperature 150 degreeC, and baked the silver paste.
When the film thickness of the obtained silver paste was measured with a surface roughness / contour shape measuring instrument (SEF3500, manufactured by Kosaka Laboratory), it was 15 μm. As a result, a second transparent substrate 17 was obtained.

(第1の透明基板16と第2の透明基板17の積層)
第2の透明基板17の接続端子が形成されている以外の箇所に、厚さ25μmの両面テープ55(日栄化工製 MHM−50)の片面を貼り合わせて、両面テープ55の上に第1の透明基板16を重ね合わせた。そして、第1の透明基板16の上で2kgの荷重を加えるローラーを2往復させて、第1の透明基板16と第2の透明基板17との密着性を向上させた。これによって、タッチパネルセンサ2が形成された。
(Lamination of first transparent substrate 16 and second transparent substrate 17)
One side of a 25 μm thick double-sided tape 55 (manufactured by NEIEI KAKO Co., Ltd., MHM-50) is bonded to a portion other than where the connection terminals of the second transparent substrate 17 are formed. The transparent substrate 16 was overlaid. And the roller which applies a 2 kg load was reciprocated twice on the 1st transparent substrate 16, and the adhesiveness of the 1st transparent substrate 16 and the 2nd transparent substrate 17 was improved. Thereby, the touch panel sensor 2 was formed.

(フレキシブル基板3の取り付け)
次に、異方性導電接着剤を仮張りしたフレキシブル基板3をタッチパネルセンサ2に貼り合わせ、その後、フレキシブル基板3を温度180℃の条件下で圧力2MPaを15秒間加えてこれらを圧着させ、接続電極と電極との間に導通をもたせるようにした。これによって、実施例1のタッチパネル1が形成された。
(Attachment of flexible substrate 3)
Next, the flexible substrate 3 temporarily attached with an anisotropic conductive adhesive is bonded to the touch panel sensor 2, and then the flexible substrate 3 is pressure-bonded by applying a pressure of 2 MPa for 15 seconds at a temperature of 180 ° C. Conductivity was provided between the electrodes. Thereby, the touch panel 1 of Example 1 was formed.

(導通試験)
実施例1のタッチパネル1のサンプルを10個準備し、これらのタッチパネル1に形成された全ての第1の取出配線4とフレキシブル回路との導通、及び全ての第2の取出配線6とフレキシブル回路との導通の有無をテスターで確認した。導通が確認された場合は、その取出配線とフレキシブル回路は接続されていると判断し、導通が確認されなかった場合は、その取出配線とフレキシブル回路は接続されていないと判断した。
この方法で、10個のサンプルについてフレキシブル回路と第1の取出配線4との導通、及びフレキシブル回路と第2の取出配線6との導通の有無を確認したところ、全てのサンプルに形成された全ての取出配線について導通が確認された。
(Continuity test)
Ten samples of the touch panel 1 of Example 1 were prepared, and all the first extraction wirings 4 formed on these touch panels 1 were connected to the flexible circuit, and all the second extraction wirings 6 and the flexible circuit were connected. The presence or absence of conduction was confirmed with a tester. When continuity was confirmed, it was determined that the extraction wiring and the flexible circuit were connected, and when continuity was not confirmed, it was determined that the extraction wiring and the flexible circuit were not connected.
With this method, it was confirmed whether or not there was continuity between the flexible circuit and the first extraction wiring 4 and conduction between the flexible circuit and the second extraction wiring 6 for 10 samples. Continuity was confirmed for the lead-out wiring.

(接着層18の膜厚の測定)
まず、接着層18と、この接着層18を貼り合わせるためのフィルム基材とを準備した。次に、フィルム基材の厚さを測定した。フィルム基材の厚さは、レーザーマイクロスコープ(KEYENCE製 形状測定レーザーマイクロスコープ VK−8700)を用い、フィルム基材の任意の5点の厚さを測定し、これら5点での測定結果を平均化することにより、算出した。
(Measurement of the film thickness of the adhesive layer 18)
First, an adhesive layer 18 and a film substrate for bonding the adhesive layer 18 were prepared. Next, the thickness of the film substrate was measured. The thickness of the film substrate is measured by measuring the thickness of any five points on the film substrate using a laser microscope (shape measurement laser microscope VK-8700 manufactured by KEYENCE), and averaging the measurement results at these five points. To calculate.

次に、フィルム基材に接着層18を貼り合せて粘着積層体を形成し、この粘着積層体の厚さを測定した。粘着積層体の厚さは、先に使用したものと同一のレーザーマイクロスコープを用いて、該粘着積層体の任意の5点の厚さを測定し、これら5点での測定結果を平均化することにより、算出した。接着層18の厚さは、粘着積層体の厚さからフィルム基材の厚さを減算することにより、算出した。   Next, the adhesive layer 18 was bonded to the film substrate to form an adhesive laminate, and the thickness of the adhesive laminate was measured. The thickness of the adhesive laminate is measured using the same laser microscope as previously used, and the thickness of any five points of the adhesive laminate is measured, and the measurement results at these five points are averaged. Was calculated. The thickness of the adhesive layer 18 was calculated by subtracting the thickness of the film substrate from the thickness of the pressure-sensitive adhesive laminate.

(第1の取出配線4と第2の取出配線6との高低差H1の測定)
まず、第1の透明導電膜層33、第1の遮光導電膜層34等が積層された第1の透明基板16、及び、第2の透明導電膜層38、第2の遮光導電膜層39等が積層された第2の透明基板17を準備した。次に、ミクロトーム(ライカ製EM UC6)を用いて第1の透明基板16を切断し、露出した断面をSEM(日立ハイテク製S−4800)により観察して、第1の透明基板16、第1のアンダーコート層31、第1の誘電体層32、第1の透明導電膜層33、及び第1の遮光導電膜層34のそれぞれの厚さを測定した。次に、先と同様のミクロトームを用いて第2の透明基板17を切断し、露出した断面を先と同様のSEMにより観察して、第2の透明基板17、第2のアンダーコート層36、第2の誘電体層37、及び第2の遮光導電膜層39のそれぞれの厚さを測定した。
(Measurement of the height difference H1 between the first extraction wiring 4 and the second extraction wiring 6)
First, the first transparent substrate 16 on which the first transparent conductive film layer 33, the first light shielding conductive film layer 34, and the like are laminated, the second transparent conductive film layer 38, and the second light shielding conductive film layer 39. A second transparent substrate 17 on which etc. were laminated was prepared. Next, the first transparent substrate 16 is cut using a microtome (Leica EM UC6), and the exposed cross section is observed with an SEM (Hitachi High-Tech S-4800). The thickness of each of the undercoat layer 31, the first dielectric layer 32, the first transparent conductive film layer 33, and the first light-shielding conductive film layer 34 was measured. Next, the second transparent substrate 17 is cut using the same microtome as before, and the exposed cross section is observed with the same SEM as before, so that the second transparent substrate 17, the second undercoat layer 36, The thicknesses of the second dielectric layer 37 and the second light-shielding conductive film layer 39 were measured.

次に、第2の透明基板17、第2のアンダーコート層36、第2の誘電体層37、接着層18、第1の透明基板16、第1のアンダーコート層31、第1の誘電体層32、第1の透明導電膜層33及び第1の遮光導電層のそれぞれの厚みを合算した値(以下、第1の遮光導電層までの高さという。)を算出するとともに、第2の透明基板17、第2のアンダーコート層36、第2の誘電体層37及び第2の遮光導電膜層39のそれぞれの厚みを合算した値(以下、第2の遮光導電層までの高さという。)を算出した。   Next, the second transparent substrate 17, the second undercoat layer 36, the second dielectric layer 37, the adhesive layer 18, the first transparent substrate 16, the first undercoat layer 31, the first dielectric While calculating the value which added each thickness of the layer 32, the 1st transparent conductive film layer 33, and the 1st light shielding conductive layer (henceforth the height to a 1st light shielding conductive layer), it is 2nd. The total thickness of the transparent substrate 17, the second undercoat layer 36, the second dielectric layer 37, and the second light-shielding conductive layer 39 (hereinafter referred to as the height to the second light-shielding conductive layer) ) Was calculated.

次に、第1の遮光導電層までの高さから、第2の遮光導電層までの高さを減算して、図8に示す高低差H1を算出した。その結果、本実施例における高低差H1は、86.6±2μmであった。   Next, the height difference H1 shown in FIG. 8 was calculated by subtracting the height to the second light-shielding conductive layer from the height to the first light-shielding conductive layer. As a result, the height difference H1 in this example was 86.6 ± 2 μm.

比較例1:
第1の透明基板16´の上に両面テープ55´の片面を貼り合せて、この両面テープ55´の上に第2の透明基板17´を重ね合わせて密着させた以外は、実施例1と同様の方法で比較例1のタッチパネルセンサ2を作成した。また、このタッチパネルセンサ2に対して実施例1と同様の方法でフレキシブル基板3を圧着させて、比較例1のタッチパネル1を作成した。
Comparative Example 1:
Example 1 except that one side of a double-sided tape 55 'is bonded onto the first transparent substrate 16' and the second transparent substrate 17 'is superposed and adhered to the double-sided tape 55'. A touch panel sensor 2 of Comparative Example 1 was created in the same manner. Moreover, the flexible substrate 3 was crimped | bonded with this touch panel sensor 2 by the method similar to Example 1, and the touch panel 1 of the comparative example 1 was created.

比較例1のタッチパネル1のサンプルを10個準備し、これらのタッチパネル1を用いて、実施例1と同様の方法で導通試験を行った。その結果、10個のサンプルのうち2個のサンプルで導通が確認されなかった。   Ten samples of the touch panel 1 of Comparative Example 1 were prepared, and using these touch panels 1, a continuity test was performed in the same manner as in Example 1. As a result, conduction was not confirmed in 2 samples out of 10 samples.

導通試験に使用したタッチパネル1のサンプルの第1の取出配線4と第2の取出配線6との高低差を実施例1と同様の方法で測定した。
その結果、比較例1のタッチパネル1における上記高低差は114.9±2μmであった。
The height difference between the first extraction wiring 4 and the second extraction wiring 6 of the sample of the touch panel 1 used for the continuity test was measured in the same manner as in Example 1.
As a result, the height difference in the touch panel 1 of Comparative Example 1 was 114.9 ± 2 μm.

以上のことから、実施例1のタッチパネル1は、比較例1のタッチパネル1よりも、タッチパネルセンサ2とフレキシブル基板3との接続信頼性に優れていることが確認された。   From the above, it was confirmed that the touch panel 1 of Example 1 was superior to the touch panel 1 of Comparative Example 1 in connection reliability between the touch panel sensor 2 and the flexible substrate 3.

1 タッチパネル
2 タッチパネルセンサ
3 フレキシブル基板
4 第1の取出配線
5 第1の接続端子
6 第2の取出配線
7 第2の接続端子
11 アクティブエリア
12 額縁領域
13 第1の額縁領域
14 第2の額縁領域
16 第1の透明基板
17 第2の透明基板
18 接着層
19 第1の透明電極
20 第2の透明電極
21 第1のセンサ電極
22 第2のセンサ電極
23 第1の透明電極用端子
24 第2の透明電極用端子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Touch panel 2 Touch panel sensor 3 Flexible board 4 1st extraction wiring 5 1st connection terminal 6 2nd extraction wiring 7 2nd connection terminal 11 Active area 12 Frame area 13 1st frame area 14 2nd frame area 16 First transparent substrate 17 Second transparent substrate 18 Adhesive layer 19 First transparent electrode 20 Second transparent electrode 21 First sensor electrode 22 Second sensor electrode 23 First transparent electrode terminal 24 Second Transparent electrode terminal

Claims (5)

表面に接触した物体の位置を検出するタッチパネルセンサにフレキシブル基板が接合されたタッチパネルであって、
前記タッチパネルセンサは、
複数の第1のセンサ電極が所定の間隔で平行に配置された第1の透明電極と、金属材料を含み前記第1のセンサ電極と電気的に接続する複数の第1の取出配線とが一方側の面に配置された第1の透明基板と、
前記第1のセンサ電極と直交する方向に、複数の第2のセンサ電極が所定の間隔で平行に配置された第2の透明電極と、金属材料と樹脂材料を含み前記第2のセンサ電極と電気的に接続する複数の第2の取出配線とが配置された第2の透明基板と、
前記第1の透明基板と第2の透明基板とを接着する接着層と、を備え、
前記第1の透明基板の他方側の面と、前記第2の透明基板の第2の透明電極及び第2の取出配線が配置された面とを対向させて、前記第1の透明基板を前記第2の透明基板の上に前記接着層を介して積層してなることを特徴とするタッチパネル。
A touch panel in which a flexible substrate is bonded to a touch panel sensor that detects the position of an object in contact with the surface,
The touch panel sensor
One of a first transparent electrode in which a plurality of first sensor electrodes are arranged in parallel at a predetermined interval and a plurality of first extraction wirings that include a metal material and are electrically connected to the first sensor electrode A first transparent substrate disposed on the side surface;
A second transparent electrode in which a plurality of second sensor electrodes are arranged in parallel at a predetermined interval in a direction orthogonal to the first sensor electrode; the second sensor electrode including a metal material and a resin material; A second transparent substrate on which a plurality of second extraction wirings to be electrically connected are disposed;
An adhesive layer that bonds the first transparent substrate and the second transparent substrate;
The other surface of the first transparent substrate and the surface of the second transparent substrate on which the second transparent electrode and the second extraction wiring are disposed are opposed to each other, and the first transparent substrate is A touch panel, which is laminated on a second transparent substrate via the adhesive layer.
前記第1の取出配線は、前記フレキシブル基板に形成されたフレキシブル回路と電気的に接続される第1の接続端子と接続し、
前記第2の取出配線は、前記フレキシブル回路と電気的に接続される第2の接続端子と接続し、
これら第1の接続端子及び第2の接続端子は、前記タッチパネルセンサにおける同一の側部に形成されていることを特徴とする請求項1記載のタッチパネル。
The first lead-out wiring is connected to a first connection terminal electrically connected to a flexible circuit formed on the flexible substrate,
The second lead-out wiring is connected to a second connection terminal that is electrically connected to the flexible circuit,
The touch panel according to claim 1, wherein the first connection terminal and the second connection terminal are formed on the same side portion of the touch panel sensor.
前記タッチパネルセンサは、物体の接触を検知可能なアクティブエリアと、前記アクティブエリアの周囲に形成された額縁領域とを有し、
前記額縁領域は、前記フレキシブル基板が接合されるとともに前記第1の取出配線の一部と第2の取出配線が配置される第1の額縁領域と、前記第1の取出配線の一部が配置される第2の額縁領域とを有し、
前記第2の額縁領域の幅が前記第1の額縁領域の幅よりも狭くなるように形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載のタッチパネル。
The touch panel sensor has an active area capable of detecting contact of an object, and a frame area formed around the active area,
The frame region includes a first frame region where a part of the first extraction wiring and a second extraction wiring are arranged, and a part of the first extraction wiring, to which the flexible substrate is bonded. A second frame region to be
The touch panel according to claim 1 or 2, wherein a width of the second frame region is formed to be narrower than a width of the first frame region.
前記第1の透明基板には、前記第1の接続端子が形成されている側部に切り欠き部が形成されており、
前記第2の接続端子が前記切り欠き部から露出するように配置されている請求項2又は3記載のタッチパネル。
The first transparent substrate has a notch formed on the side where the first connection terminal is formed,
The touch panel according to claim 2, wherein the second connection terminal is disposed so as to be exposed from the notch.
請求項1から4のいずれかに記載のタッチパネルを表示部に備えたことを特徴とする表示装置。   A display device comprising the touch panel according to claim 1 in a display unit.
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