JP2012113917A - Light-emitting device - Google Patents
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- H—ELECTRICITY
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- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/86—Series electrical configurations of multiple OLEDs
Abstract
Description
本発明は発光装置およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a light emitting device and a method for manufacturing the same.
有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、「エレクトロルミネッセンス」を「EL」と記載することがある。)は、電圧を印加することによって発光する発光素子の一種であり、一対の電極と、この一対の電極間に配置される発光層とを含んで構成される。有機EL素子に電圧を印加すると、陽極から正孔が注入されるとともに陰極から電子が注入される。これら正孔と電子とが発光層において結合することにより発光が生じる。 An organic electroluminescence element (hereinafter, “electroluminescence” may be referred to as “EL”) is a kind of light-emitting element that emits light when a voltage is applied thereto, and a pair of electrodes and a pair of electrodes. And a light emitting layer disposed on the substrate. When a voltage is applied to the organic EL element, holes are injected from the anode and electrons are injected from the cathode. Light emission occurs when these holes and electrons are combined in the light emitting layer.
このような有機EL素子を複数個直列に接続した発光装置が提案されている(たとえば特許文献1参照)。 A light emitting device in which a plurality of such organic EL elements are connected in series has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
図7は複数(図7では3個)の有機EL素子1が直列接続された発光装置2を模式的に示す図である。図7(1)は発光装置2の平面図であり、図7(2)は発光装置2の断面図である。
FIG. 7 is a diagram schematically showing a
図7に示す発光装置2は3個の有機EL素子1を備える。これら3個の有機EL素子1は、所定の配列方向Xに沿って支持基板3上に配置され、直列接続されている。各有機EL素子1は一対の電極4,5と、この電極間に設けられる発光層6を備える。以下では一対の電極4,5のうちの支持基板3寄りに配置される一方の電極を第1電極4と記載し、第1電極4よりも支持基板3から離間して配置される他方の電極を第2電極5と記載する。なお製造工程の簡易さや素子特性などを勘案して、第1および第2電極4,5間には発光層6のみならず、発光層とは異なる所定の層が設けられることもある。また第1電極4および第2電極5のうちの少なくとも1つの電極は、光透過性を示す導電性薄膜によって構成される。発光層6で発生した光を有機EL素子の外界に出射させる必要があるからである。このような導電性薄膜には通常、インジウムスズ酸化物(Indium Tin Oxide:略称ITO)やインジウム亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide:略称IZO)などの金属酸化物薄膜がもちいられている。
The
図7に示すように各有機EL素子1の第1電極4は、互いに配列方向Xに所定の間隔を開けて離散的に配置されるため、互いに電気的に接続されていない。同様に各有機EL素子1の第2電極5は、互いに配列方向Xに所定の間隔をあけて配置されるため、相互に電気的に接続されていない。
As shown in FIG. 7, the
他方、配列方向Xに隣り合う有機EL素子1の第1電極4と、第2電極5とは互いに接して接続されており、電気的に接続されている。これによって複数の有機EL素子1は直列接続を構成する。具体的には第1電極4は、配列方向Xの一方(以下、「配列方向Xの一方」を「左方」といい、「配列方向Xの他方」を右方ということがある。)の端部(以下、左端部ということがある。)が、左方に隣り合う有機EL素子1の第2電極5の右方の端部(以下、右端部ということがある。)に重なる位置まで延在するように形成され、左方に隣り合う有機EL素子1の第1電極4と接して接続されており、電気的に接続されている。このように配列方向Xに隣り合う有機EL素子1の第1電極4と第2電極5とが電気的に接続されることにより、複数の有機EL素子1が直列接続を構成する。
On the other hand, the
つぎに図8を参照して照明装置の製造方法を説明する。
まず支持基板3上に第1電極4を形成する。具体的には支持基板3上に、配列方向Xに所定の間隔をあけて離散的に3つの第1電極4を形成する(図8(1)参照)
Next, a method for manufacturing the lighting device will be described with reference to FIG.
First, the
つぎに発光層6となる材料を含むインキを、所定の塗布法によって支持基板3上に塗布する。一般に塗布法は意図する部位にのみ選択的にインキをパターン塗布することがむずかしいため、第1電極4間などの不要な部位にもインキが塗布される(図8(2)参照)。そのためインキを塗布した後に、不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が必要となる(図8(3)参照)。インキの除去は、たとえばインキが可溶な溶剤を含ませた布や綿棒などを使ってインキを拭き取る方法や、レーザーアブレーション法などによっておこなうことができる。その後、第2電極5をパターン形成する(図8(4)参照)。これによって、直列接続された3個の有機EL素子1を備える発光装置2を作製することができる。
Next, the ink containing the material used as the
上述の従来の技術では、不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が必要となるため、工程数が増加するという問題がある。さらに不要な部位に塗布されたインキを除去するさいに、発光層に異物が混入するおそれもある。 The above-described conventional technique has a problem that the number of steps increases because a step of removing ink applied to unnecessary portions is required. Further, when removing the ink applied to unnecessary portions, there is a possibility that foreign matters may be mixed into the light emitting layer.
また光透過性を示す電極として用いられるITO薄膜やIZO薄膜などは、導電性が必ずしも十分とはいえない。とくに大面積の有機EL素子を駆動する場合には電圧降下に起因する発光ムラが顕著になり、また発熱量が大きくなるという問題がある。 In addition, ITO thin films and IZO thin films used as light-transmitting electrodes are not necessarily sufficiently conductive. In particular, when driving an organic EL element having a large area, there are problems that uneven light emission due to a voltage drop becomes remarkable and the amount of heat generation becomes large.
したがって本発明の目的は、発光層を塗布法によって形成するさいに不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が不要な構造であるとともに、大面積の有機EL素子においても、発光ムラや発熱の少ない発光装置を提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is a structure that does not require a step of removing ink applied to an unnecessary portion when forming a light emitting layer by a coating method, and also in a large-area organic EL element, light emission unevenness and heat generation. It is to provide a light emitting device with a small amount of light.
本発明は、支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であって、
各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、
前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、
前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、
前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、
前記一対の電極のうちの少なくとも1つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置に関する。
The present invention is a light emitting device comprising a support substrate and a plurality of organic electroluminescence elements provided on the support substrate along a predetermined arrangement direction and connected in series,
Each organic electroluminescence element includes a pair of electrodes and a light emitting layer provided between the electrodes,
The light emitting layer extends along the predetermined arrangement direction across the plurality of organic electroluminescence elements,
Each of the pair of electrodes extends so as to protrude from the light emitting layer in a width direction perpendicular to both the thickness direction of the support substrate and the arrangement direction when viewed from one thickness direction of the support substrate. Part
One electrode of the pair of electrodes extends from the extending portion to the other electrode of the organic electroluminescence element adjacent in the arrangement direction and is connected to the other electrode. Further comprising
The present invention relates to a light emitting device in which at least one of the pair of electrodes is a mesh-like translucent electrode configured by arranging conductors in a mesh.
また本発明は、前記網目状透光性電極の導電体が、導電性フィラーと樹脂との混合物、または導電性材料のみからなる発光装置に関する。 The present invention also relates to a light-emitting device in which the conductor of the mesh-like translucent electrode is made of only a mixture of a conductive filler and a resin, or a conductive material.
また本発明は、前記網目状透光性電極のシート抵抗が5Ω/sq以下である発光装置に関する。 The present invention also relates to a light-emitting device in which the sheet-like translucent electrode has a sheet resistance of 5 Ω / sq or less.
また本発明は、前記網目状透光性電極の光透過率が50%以上である発光装置に関する。 The present invention also relates to a light emitting device in which the light transmittance of the mesh-like translucent electrode is 50% or more.
また本発明は、前記延在部は、前記厚み方向一方から見て、前記幅方向の一方に発光層から突出するように延在する第1延在部と、前記幅方向の他方に発光層から突出するように延在する第2延在部とを含む発光装置に関する。 Further, according to the present invention, the extending portion has a first extending portion extending so as to protrude from the light emitting layer in one of the width directions when viewed from one side in the thickness direction, and a light emitting layer on the other in the width direction. The present invention relates to a light emitting device including a second extending portion extending so as to project from the light emitting device.
また本発明は、支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であり、
各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、
前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、
前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、
前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、
前記一対の電極のうちの少なくとも1つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置の製造方法であって、
前記発光層となる材料を含むインキを、前記複数の有機EL素子に跨って前記所定の配列方向に沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層を形成する工程を含むことを特徴とする発光装置の製造方法に関する。
Further, the present invention is a light emitting device comprising a support substrate and a plurality of organic electroluminescence elements provided on the support substrate along a predetermined arrangement direction and connected in series,
Each organic electroluminescence element includes a pair of electrodes and a light emitting layer provided between the electrodes,
The light emitting layer extends along the predetermined arrangement direction across the plurality of organic electroluminescence elements,
Each of the pair of electrodes extends so as to protrude from the light emitting layer in a width direction perpendicular to both the thickness direction of the support substrate and the arrangement direction when viewed from one thickness direction of the support substrate. Part
One electrode of the pair of electrodes extends from the extending portion to the other electrode of the organic electroluminescence element adjacent in the arrangement direction and is connected to the other electrode. Further comprising
A method of manufacturing a light-emitting device, wherein at least one of the pair of electrodes is a mesh-like translucent electrode configured by arranging conductors in a mesh pattern,
The step of forming the light emitting layer by solidly applying the ink containing the material to be the light emitting layer along the predetermined arrangement direction across the plurality of organic EL elements and solidifying the applied coating film. The manufacturing method of the light-emitting device characterized by including.
また本発明は、前記インキを塗布する方法が、キャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法または印刷法である発光装置の製造方法に関する。 The present invention also relates to a method for manufacturing a light emitting device, wherein the method for applying the ink is a cap coating method, a slit coating method, a spray coating method, or a printing method.
本発明によれば、発光層を塗布法によって形成するさいに不要な部位に塗布されたインキを除去する工程が不要な構造であるとともに、大面積の有機EL素子においても、発光ムラや発熱の少ない発光装置を実現することができる。 According to the present invention, it is a structure that does not require a step of removing ink applied to an unnecessary part when forming a light emitting layer by a coating method, and even in a large-area organic EL element, light emission unevenness and heat generation are eliminated. A small number of light emitting devices can be realized.
1)発光装置の構成
以下、図面を参照して発光装置の構成についてまず説明する。本実施形態の発光装置はたとえば照明装置、液晶表示装置およびスキャナなどの光源に用いられる。図1は本発明の第1実施形態の発光装置11を模式的に示す平面図である。発光装置11は、支持基板12と、この支持基板12上に設けられ、直列接続される複数の有機EL素子13とを備える。
1) Configuration of Light-Emitting Device Hereinafter, the configuration of the light-emitting device will be described first with reference to the drawings. The light emitting device of this embodiment is used for a light source such as a lighting device, a liquid crystal display device, and a scanner. FIG. 1 is a plan view schematically showing a
所定の配列方向Xは支持基板12の厚み方向Zに垂直な方向に設定される。すなわち配列方向Xは支持基板12の主面に平行に設定される。本実施形態では図1に示すように複数の有機EL素子13は所定の直線に沿って配列しているが、所定の曲線に沿って配列されていてもよい。なお所定の曲線に沿って複数の有機EL素子13が配列されている場合、配列方向Xは前記所定の曲線の接線方向に相当する。
The predetermined arrangement direction X is set in a direction perpendicular to the thickness direction Z of the
支持基板12上に設けられる有機EL素子13の個数は設計に応じて適宜設定される。以下第1実施形態では3個の有機EL素子13が設けられた発光装置11について説明する。
The number of
各有機EL素子13はそれぞれ一対の電極14,15と、この電極14,15間に設けられる発光層16を備える。一対の電極14,15のうちのいずれか一方の電極が有機EL素子13の陽極として機能し、いずれか他方の電極が有機EL素子13の陰極として機能する。以下一対の電極14,15のうちで支持基板12寄りに配置される電極を第1電極14と記載し、支持基板12から離間して配置される他方の電極を第2電極15と記載する。
Each
第1および第2電極14,15間には少なくとも1層の発光層16が設けられる。なお第1および第2電極14,15間には、1層の発光層16に限らず、複数の発光層や発光層とは異なる層が必要に応じて設けられることがある。
At least one
発光層16は複数の有機EL素子13に跨って配列方向Xに沿って延在している。本実施形態では直列接続される複数の有機EL素子13において、配列方向Xの一端(図1では左端)に設けられる有機EL素子13の発光層16から、配列方向Xの他端(図1では右端)に設けられる有機EL素子13の発光層16まで、配列方向Xに沿って延在する発光層が連続して一体的に形成されている。発光層とは異なる所定の層が第1および第2電極14,15間に設けられる場合、この所定の層は、複数の有機EL素子13に跨って配列方向Xに沿って延在していてもよく、また有機EL素子13ごとに離間するように形成されていてもよい。
The
さらに発光層16とは異なる所定の層が塗布法によって形成される場合には、この発光層16とは異なる所定の層は、発光層16と同様に、複数の有機EL素子13に跨って配列方向Xに沿って延在していることが好ましい。後述するように、不要な部位に形成された層を除去する工程が省略できるためである。
Further, when a predetermined layer different from the
第1および第2電極14,15(一対の電極)はそれぞれ延在部17,18を有する。この延在部17,18は、支持基板12の厚み方向Z一方から見て(以下、「平面視で」ということがある。)、前記支持基板の厚み方向Zおよび前記配列方向Xに垂直な幅方向Yに、発光層16から突出するように延在する。第1電極14の延在部17は第1電極14に一体的に形成されている。また第2電極15の延在部18は第2電極15に一体的に形成されている。各有機EL素子13を構成する第1電極14と第2電極15(一対の電極)とは、有機EL素子13ごとには互いに接触するようには構成されておらず、平面視で第1電極14の延在部17と第2電極15の延在部18とは重ならないように配置されている。本実施形態では第1電極14の延在部17は、第1電極14において、第2電極15と対向する部分の左方の端部(以下、左端部ということがある)から幅方向Yに延在する。第2電極15の延在部18は、第2電極15において、第1電極14との対向部の右方の端部(以下、右端部ということがある)から幅方向Yに延在している。そのため第1電極14の延在部17と第2電極15の延在部18とは平面視で重ならず、電気的に絶縁されている。
The first and
第1および第2電極14,15(一対の電極)の一方の電極は接続部を有する。この接続部は、配列方向Xに隣り合う有機EL素子の他方の電極にまで延在部から配列方向Xに延在し、該他方の電極に接続される。なお接続部は、第1および第2電極14,15(一対の電極のうち)の一方の電極のみに限らず、第1および第2電極14,15(一対の電極のうち)の他方の電極も有していてもよい。すなわち第1および第2電極14,15(一対の電極のうち)の他方の電極も、配列方向Xに隣り合う有機EL素子の一方の電極にまで延在部から配列方向Xに延在し、該一方の電極に接続される接続部を有していてもよい。
One electrode of the first and
本実施形態では第1および第2電極14,15(一対の電極)の一方の電極に相当する第1電極14が接続部19を有する。すなわち第1電極14は、左方に配置される有機EL素子の第2電極15(他方の電極)の延在部18にまで、第1電極14の延在部17から左方に延在する接続部19を備える。このように第1電極14の接続部19は、左方に配置される有機EL素子の第2電極15(他方の電極)の延在部18と平面視で重なり、この重なる部分で直接的に第2電極15(他方の電極)と接続される。
In the present embodiment, the
平面視で発光層16から幅方向Yに延在する延在部18は、幅方向Yの一方または他方に設けられるが、幅方向Yの両方に設けられることが好ましい。すなわち延在部17,18は、平面視で、前記幅方向の一方に発光層から突出するように延在する第1延在部17a,18aと、幅方向Yの他方に発光層16から突出するように延在する第2延在部17b,18bとを含むことが好ましい。平面視で発光層16から幅方向Yの両方に延在する延在部17,18を備えることにより、隣り合う有機EL素子13の第1電極14と第2電極15とが幅方向Yの両方の端部で接続されることになる。
The extending
さらに直列接続を構成する複数の有機EL素子13のうちで、最も左方に配置される有機EL素子13の第1電極14と、最も右方に配置される有機EL素子13の第2電極とは、電力供給部(不図示)に電気的につながる配線にそれぞれ接続される。これによって電力供給部から、直列接続を構成する複数の有機EL素子13に電力が供給され、各有機EL素子が発光する。
Further, among the plurality of
各有機EL素子13は接続部から給電される。本実施形態では平面視で発光層16から幅方向Yの両方に延在する延在部17,18を備えることにより、各有機EL素子13は幅方向Yの両方の端部から給電される。有機EL素子13は、給電される部位から離間するほど、電圧降下のために輝度が低下する。本実施形態では延在部17,18から幅方向Yに離間するほど、すなわち幅方向Yの中央部ほど電圧低下のために輝度が低下するが、各有機EL素子13は幅方向Yの両方の端部から給電されるため、幅方向Yの一方の端部から給電される素子構成に比べると電圧降下の影響を抑制することができ、ひいては輝度ムラを抑制することができる。
Each
(網目状透光性電極)
有機EL素子には、ボトムエミッション型の構成のものと、トップエミッション型の構成のものと、両面発光型の構成のものとがある。ボトムエミッション型の有機EL素子は支持基板を通して光を外界に出射し、トップエミッション型の有機EL素子は、支持基板とは反対側から光を外界に出射し、両面発光型の有機EL素子は、支持基板側および支持基板とは反対側の両方から光を外界に出射する。本発明はボトムエミッション型、トップエミッション型、および両面発光型の有機EL素子のいずれであっても適用することができる。
(Reticulated translucent electrode)
Organic EL elements include a bottom emission type configuration, a top emission type configuration, and a dual emission type configuration. The bottom emission type organic EL element emits light to the outside through the support substrate, the top emission type organic EL element emits light to the outside from the side opposite to the support substrate, and the double emission type organic EL element is Light is emitted to the outside from both the support substrate side and the opposite side of the support substrate. The present invention can be applied to any of bottom emission type, top emission type, and double-sided emission type organic EL elements.
ボトムエミッション型の有機EL素子では、第1電極14を通して光が出射するため、第1電極14が光透過性を示す電極によって構成され、逆に第2電極は通常光を反射する電極によって構成される。またトップエミッション型の有機EL素子では第2電極を通して光が出射するため、第2電極15が光透過性を示す電極によって構成され、逆に第1電極14は通常光を反射する電極によって構成される。また両面発光型の有機EL素子では、第1および第2電極14,15の両方の電極が、光透過性を示す電極によって構成される。
In the bottom emission type organic EL element, since light is emitted through the
このように第1および第2電極14,15(一対の電極)のうちの少なくとも1つの電極は、光透過性を示す電極によって構成されるが、本実施形態では、この光透過性を示す電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極からなる。
As described above, at least one of the first and
網目状透光性電極は、網目状に配置される導電体を含む。この導電体は、支持基板12の主面に平行な2次元平面において網目状構造を形成している。網目状構造としては、少なくとも前記2次元平面において導電体が連続してつらなり、電気的に導通している構造を有していればよく、たとえば格子構造やハニカム構造のような規則的な構造を有していてもよく、また規則的な構造を有していなくてもよい。
The mesh-like translucent electrode includes a conductor arranged in a mesh shape. This conductor forms a network structure in a two-dimensional plane parallel to the main surface of the
網目状透光性電極の導電体は、導電性フィラーと樹脂との混合物、または導電性材料のみからなることが好ましい。 The conductor of the mesh-like translucent electrode is preferably made of a mixture of a conductive filler and a resin, or only a conductive material.
上記導電性フィラーには、AuやAg、Al、カーボンなどからなる金属微粒子、またはAuやAg、Al、カーボンなどからなる導電性ワイヤーなどを用いることができる。 As the conductive filler, metal fine particles made of Au, Ag, Al, carbon, or the like, or a conductive wire made of Au, Ag, Al, carbon, or the like can be used.
また上記導電性フィラーが混合される樹脂には、エポキシやアクリル、ナイロン、ウレタン、フェノールなどの樹脂、さらには3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸などの導電性樹脂をもちいることができる。 The resin mixed with the conductive filler may be a resin such as epoxy, acrylic, nylon, urethane, or phenol, or a conductive resin such as 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid. it can.
また網目状透光性電極の導電体を構成する上記導電性材料には、AuやAg、Al、Cuの単体またはこれらの金属を1種以上含む合金などをもちいることができる。 As the conductive material constituting the conductor of the mesh-like translucent electrode, Au, Ag, Al, Cu alone or an alloy containing one or more of these metals can be used.
網目状透光性電極は、支持基板12の主面に平行な2次元平面において網目状構造を形成する導電体からなる非透光部を有する。網目状透光性電極に入射する光は、非透光部を除く残余の領域(以下、透光部ということがある)を通って網目状透光性電極を透過する。このように網目状透光性電極は非透光部を有するが、人間の目に視認される程度に巨視的に見れば、全体として透光性を有する。
The mesh-like translucent electrode has a non-translucent portion made of a conductor that forms a mesh-like structure in a two-dimensional plane parallel to the main surface of the
網目状透光性電極の一方の主面または両方の主面には、当該網目状透光性電極に接して
透過性導電層を積層してもよい。このように透過性導電層を積層することにより、透光部の導電性を高めることができ、さらには透光部と非透光部との段差を低減することができる。このような透過性導電層としては、ITO、ZTOなどの金属酸化物や、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの透明導電性樹脂をいることができる。また、透明導電性樹脂は、ITO、ZTOなどの金属酸化物と比較し屈折率が低いため、透光部に透明導電性樹脂を積層させた場合でも発光層から出射される光を発光装置の外部に効率的に取り出すことができる。透過性導電層は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、あるいはインキを用いた印刷法、インクジェット法などにより形成することができる。
A transparent conductive layer may be laminated on one main surface or both main surfaces of the mesh-like translucent electrode in contact with the mesh-like translucent electrode. By laminating the transparent conductive layer in this manner, the conductivity of the light transmitting part can be increased, and further, the step between the light transmitting part and the non-light transmitting part can be reduced. As such a transparent conductive layer, a transparent conductive resin such as a metal oxide such as ITO or ZTO, polyaniline or a derivative thereof, or polythiophene or a derivative thereof can be used. In addition, since the transparent conductive resin has a lower refractive index than metal oxides such as ITO and ZTO, the light emitted from the light emitting layer can be emitted from the light emitting device even when the transparent conductive resin is laminated on the light transmitting portion. It can be taken out efficiently. The transparent conductive layer can be formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a printing method using ink, an ink jet method, or the like.
網目状透光性電極のシート抵抗は有機EL素子の発光効率の向上、輝度ムラおよび発熱の低減の観点から、10Ω/sq以下であることが好ましく、さらには5Ω/sq以下であることが好ましく、さらには1Ω/sq以下であることが好ましい。網目状透光性電極の膜厚は、網目状透光性電極の導電性や有機EL素子の作製のしやすさの観点から適宜選択され、50nm〜1μmが好ましく、さらには100nm〜500nmがより好ましい。網目状透光性電極の開口率、すなわち単位面積当たりの透光部の割合は、導電性や光取り出し効率などを勘案して適宜選択されるが、30〜95%が好ましく、さらに50〜90%がより好ましい。また網目状に配置される導電体の線幅は、導電性や光取り出し効率などを勘案して適宜選択されるが、5μm〜1mmが好ましく、さらには10μm〜200μmが好ましい。また網目状に配置される導電体に囲まれる各透光部の面積は、平均すると100μm2〜4mm2が好ましく、さらには400μm2〜1mm2が好ましい。また網目状透光性電極の光透過率は、30%以上が好ましく、50%以上が好ましく、70%以上がさらに好ましい。なお本明細書における光透過率は、可視光透過率を意味する。 The sheet resistance of the mesh-like translucent electrode is preferably 10 Ω / sq or less, more preferably 5 Ω / sq or less, from the viewpoint of improving the light emission efficiency of the organic EL element, reducing luminance unevenness and heat generation. Further, it is preferably 1Ω / sq or less. The film thickness of the mesh-like translucent electrode is appropriately selected from the viewpoint of the conductivity of the mesh-like translucent electrode and the ease of production of the organic EL device, and is preferably 50 nm to 1 μm, more preferably 100 nm to 500 nm. preferable. The aperture ratio of the mesh-like translucent electrode, that is, the ratio of the translucent portion per unit area is appropriately selected in consideration of the conductivity, light extraction efficiency, etc., but is preferably 30 to 95%, and more preferably 50 to 90. % Is more preferable. In addition, the line width of the conductors arranged in a mesh shape is appropriately selected in consideration of conductivity, light extraction efficiency, and the like, but is preferably 5 μm to 1 mm, and more preferably 10 μm to 200 μm. Moreover, the area of each translucent part surrounded by the conductors arranged in a mesh shape is preferably 100 μm 2 to 4 mm 2 on average, and more preferably 400 μm 2 to 1 mm 2 . Further, the light transmittance of the mesh-like translucent electrode is preferably 30% or more, preferably 50% or more, and more preferably 70% or more. In addition, the light transmittance in this specification means visible light transmittance.
網目状透光性電極は、(1)まず上述の導電体からなる導電性薄膜を一面に形成して、さらにこの導電性薄膜を所定の方法によって網目状にパターニングすることによって形成してもよく、また(2)上述の導電体を網目状に直接パターン形成してもよい。 The mesh-like translucent electrode may be formed by (1) first forming a conductive thin film made of the above-described conductor on one surface and further patterning this conductive thin film into a mesh shape by a predetermined method. (2) The above-described conductor may be directly patterned in a mesh shape.
たとえば上記(1)の方法として、まず真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより導電体からなる導電性薄膜を一面に形成し、さらにフォトリソグラフィ法によって導電性薄膜をパターニングすることにより網目状透光性電極を形成することができる。また上記導電性フィラーと樹脂とを所定の分散媒に分散させた塗布液を所定の塗布法によって塗布成膜し、さらにこれをフォトリソグラフィ法によってパターニングすることによって網目状透光性電極を形成することができる。 For example, as the method of (1), first, a conductive thin film made of a conductor is formed on one surface by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, etc., and then the conductive thin film is patterned by a photolithography method. A transparent electrode can be formed. Further, a coating liquid in which the conductive filler and the resin are dispersed in a predetermined dispersion medium is applied and formed by a predetermined application method, and this is patterned by a photolithography method to form a mesh-like translucent electrode. be able to.
またたとえば上記(2)の方法として、所定のパターンのマスクをもちいて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより上記導電体を網目状に形成することによって網目状透光性電極を形成することができる。またたとえば上記導電性フィラーと樹脂とを所定の分散媒に分散させた塗布液を、印刷法、インクジェット法などによって網目状に塗布液を塗布成膜することによって網目状透光性電極をパターン形成することができる。 Further, for example, as a method of (2) above, a mesh-like translucent electrode is formed by forming the conductor in a mesh shape by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method or the like using a mask having a predetermined pattern. Can be formed. In addition, for example, a network-like translucent electrode is patterned by applying a coating liquid in which the conductive filler and the resin are dispersed in a predetermined dispersion medium to form a coating liquid by a printing method, an ink-jet method, or the like. can do.
さらには、支持基板12とは異なる所定の基台上にあらかじめ作製した網目状透光性電極を、ラミネート法によって支持基板12上に転写することにより、支持基板12上に網目状透光性電極を形成してもよい。
Furthermore, a mesh-like translucent electrode prepared in advance on a predetermined base different from the
2)発光装置の製造方法
本実施形態の発光装置の製造方法は、支持基板と、所定の配列方向に沿って前記支持基板上に設けられ、直列接続される複数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える発光装置であり、各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、前記一対の電極のうちの少なくとも1つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置の製造方法であって、前記発光層となる材料を含むインキを、前記複数の有機EL素子に跨って前記所定の配列方向に沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層を形成する工程を含む。
2) Method for Manufacturing Light-Emitting Device The method for manufacturing a light-emitting device according to the present embodiment includes a support substrate and a plurality of organic electroluminescent elements provided on the support substrate along a predetermined arrangement direction and connected in series. Each of the organic electroluminescence elements includes a pair of electrodes and a light emitting layer provided between the electrodes, the light emitting layer straddling the plurality of organic electroluminescence elements, Each of the pair of electrodes extends in a direction perpendicular to both the thickness direction of the support substrate and the arrangement direction when viewed from one thickness direction of the support substrate. One of the pair of electrodes is the other of the organic electroluminescence elements adjacent in the arrangement direction. A connecting portion extending from the extending portion to the other electrode in the arrangement direction and connected to the other electrode, wherein at least one of the pair of electrodes has a conductor mesh A method of manufacturing a light-emitting device that is a mesh-like translucent electrode that is arranged in the form of an ink containing a material that becomes the light-emitting layer, the predetermined arrangement direction across the plurality of organic EL elements And a step of forming a light-emitting layer by solidifying the applied coating.
以下、図2および図3を参照して発光装置を製造する方法を説明する。まず支持基板12を用意する。本工程では有機EL素子13を駆動する駆動回路(不図示)があらかじめ形成されている支持基板12を用意してもよい。
Hereinafter, a method of manufacturing the light emitting device will be described with reference to FIGS. First, the
つぎに支持基板12上に第1電極14をパターン形成する(図2参照)。第1電極が光透過性を示す電極である場合、支持基板12上には第1電極14として前述の導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極をパターン形成する。この網目状透光性電極の形成方法は上述のとおりである。
Next, the
なお第1電極が非透光性の電極の場合、たとえばスパッタリング法または蒸着法によって、導電体膜を支持基板12上に成膜し、つぎにフォトリソグラフィ法によって導電体膜を所定の形状にパターニングすることによって、第1電極14をパターン形成することができる。なおフォトリソグラフィ工程をおこなうことなく、マスク蒸着法などによって所定の部位にのみ第1電極14をパターン形成してもよい。また塗布法により導電性材料を含むインキを塗布し、塗布した塗膜を固化することにより第1電極14を形成してもよい。またラミネート法により導電性薄膜を転写することにより第1電極14を形成してもよい。
When the first electrode is a non-transparent electrode, for example, a conductor film is formed on the
なお本工程では第1電極14があらかじめ形成された支持基板12を用意してもよい。
In this step, the
つぎに支持基板12上に発光層16を形成する(図3参照)。たとえば発光層16となる材料を含むインキを、複数の有機EL素子13に跨って配列方向Xに沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層16を形成することができる。
Next, the
インキを塗布する方法としては、キャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法、印刷法、インクジェット法、ノズルプリンティング法などをあげることができ、これらのなかでも大面積を効率的に塗布することが可能なキャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法および印刷法が好ましい。 Examples of the ink application method include a cap coating method, a slit coating method, a spray coating method, a printing method, an ink jet method, and a nozzle printing method. Among these methods, a large area can be efficiently applied. Possible cap coating methods, slit coating methods, spray coating methods and printing methods are preferred.
つぎに支持基板12上に第2電極15を形成する。第2電極15が光透過性を示す電極である場合、発光層16上には第2電極15として前述の導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極をパターン形成する。この網目状透光性電極の形成方法は上述のとおりである。
Next, the
なお第2電極が非透光性の電極の場合、たとえばスパッタリング法または蒸着法によって、導電体膜を支持基板12上に成膜し、つぎにフォトリソグラフィ法によって導電体膜を所定の形状にパターニングすることによって、第2電極をパターン形成することができる。なおフォトリソグラフィ工程をおこなうことなく、マスク蒸着法などによって所定の部位にのみ第2電極をパターン形成してもよい。また塗布法により導電性材料を含むインキを塗布し、塗布した塗膜を固化することにより第2電極を形成してもよい。またラミネート法により導電性薄膜を転写することにより第2電極を形成してもよい。
When the second electrode is a non-transparent electrode, for example, a conductor film is formed on the
なお前述したように第1および第2電極14,15間には発光層16とは異なる所定の層を設けることがある。発光層とは異なる所定の層を塗布法によって形成する場合には、発光層を形成する方法と同じ方法によって、発光層とは異なる所定の層を形成することが好ましい。すなわち発光層とは異なる所定の層となる材料を含むインキを、複数の有機EL素子13に跨って配列方向Xに沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層とは異なる所定の層を形成することが好ましい。なお発光層とは異なる所定の層を蒸着法などの乾式法で形成する場合には、発光層とは異なる所定の層を第1電極14上にのみ選択的に形成してもよい。
As described above, a predetermined layer different from the
インキを塗布する方法としては、キャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法、印刷法、インクジェット法、ノズルプリンティング法などをあげることができ、これらのなかでも大面積を効率的に塗布することが可能なキャップコート法、スリットコート法、スプレーコート法および印刷法が好ましい。 Examples of the ink application method include a cap coating method, a slit coating method, a spray coating method, a printing method, an ink jet method, and a nozzle printing method. Among these methods, a large area can be efficiently applied. Possible cap coating methods, slit coating methods, spray coating methods and printing methods are preferred.
以下支持基板12および有機EL素子13の構成についてさらに詳細に説明する。
Hereinafter, the configurations of the
前述したように第1および第2電極14,15間には発光層16のみならず、発光層16とは異なる所定の層がさらに設けられることがある。陰極と発光層との間に設けられる層としては、電子輸送層、正孔ブロック層などを挙げることができる。
As described above, not only the
正孔ブロック層は正孔の輸送を堰き止める機能を有する。なお電子注入層及び/又は電子輸送層が正孔の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が正孔ブロック層を兼ねることがある。 The hole blocking layer has a function of blocking hole transport. In the case where the electron injection layer and / or the electron transport layer have a function of blocking hole transport, these layers may also serve as the hole blocking layer.
陽極と発光層との間に設けられる層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層などを挙げることができる。陽極と発光層との間に、正孔注入層と正孔輸送層との両方の層が設けられる場合、陽極に接する層を正孔注入層といい、この正孔注入層を除く層を正孔輸送層という。 Examples of the layer provided between the anode and the light emitting layer include a hole injection layer, a hole transport layer, and an electron block layer. When both the hole injection layer and the hole transport layer are provided between the anode and the light-emitting layer, the layer in contact with the anode is called a hole injection layer, and the layers other than the hole injection layer are positive. It is called a hole transport layer.
正孔注入層は陽極からの正孔注入効率を改善する機能を有する。正孔輸送層は陽極側の表面に接する層からの正孔注入を改善する機能を有する。電子ブロック層は電子の輸送を堰き止める機能を有する。なお正孔注入層及び/又は正孔輸送層が電子の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの層が電子ブロック層を兼ねることがある。 The hole injection layer has a function of improving hole injection efficiency from the anode. The hole transport layer has a function of improving hole injection from a layer in contact with the surface on the anode side. The electron blocking layer has a function of blocking electron transport. When the hole injection layer and / or the hole transport layer has a function of blocking electron transport, these layers may also serve as an electron blocking layer.
なお電子注入層および正孔注入層を総称して電荷注入層ということがあり、電子輸送層および正孔輸送層を総称して電荷輸送層ということがある。 The electron injection layer and the hole injection layer may be collectively referred to as a charge injection layer, and the electron transport layer and the hole transport layer may be collectively referred to as a charge transport layer.
本実施形態の有機EL素子のとりうる層構成の一例を以下に示す。
a)陽極/発光層/陰極
b)陽極/正孔注入層/発光層/陰極
c)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極
d)陽極/正孔注入層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
e)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/陰極
f)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
g)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
h)陽極/発光層/電子注入層/陰極
i)陽極/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
(ここで、記号「/」は、記号「/」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。
以下同じ。)
本実施形態の有機EL素子は2層以上の発光層を有していてもよい。上記a)〜i)の層構成のうちのいずれか1つにおいて、陽極と陰極とに挟持された積層体を「構造単位A」とすると、2層の発光層を有する有機EL素子の構成として、以下のj)に示す層構成をあげることができる。なお2つある(構造単位A)の層構成は互いに同じでも、異なっていてもよい。
j)陽極/(構造単位A)/電荷発生層/(構造単位A)/陰極
ここで電荷発生層とは、電界を印加することにより、正孔と電子を発生する層である。
電荷発生層としては、たとえば酸化バナジウム、インジウムスズ酸化物(Indium Tin Oxide:略称ITO)、酸化モリブデンなどから成る薄膜をあげることができる。
An example of a layer structure that can be taken by the organic EL element of the present embodiment is shown below.
a) anode / light emitting layer / cathode b) anode / hole injection layer / light emitting layer / cathode c) anode / hole injection layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode d) anode / hole injection layer / light emitting layer / Electron transport layer / electron injection layer / cathode e) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / cathode f) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode g ) Anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode h) Anode / light emitting layer / electron injection layer / cathode i) Anode / light emitting layer / electron transport layer / electron injection Layer / Cathode (Here, the symbol “/” indicates that the layers sandwiching the symbol “/” are laminated adjacently.
same as below. )
The organic EL element of this embodiment may have two or more light emitting layers. In any one of the layer configurations of a) to i) above, when the laminate sandwiched between the anode and the cathode is referred to as “structural unit A”, the configuration of the organic EL element having two light emitting layers is obtained. The layer configuration shown in j) below can be given. Note that the two (structural unit A) layer structures may be the same or different.
j) Anode / (Structural Unit A) / Charge Generation Layer / (Structural Unit A) / Cathode Here, the charge generation layer is a layer that generates holes and electrons by applying an electric field.
Examples of the charge generation layer include a thin film made of vanadium oxide, indium tin oxide (abbreviated as ITO), molybdenum oxide, or the like.
また「(構造単位A)/電荷発生層」を「構造単位B」とすると、3層以上の発光層を有する有機EL素子の構成として、以下のk)に示す層構成をあげることができる。
k)陽極/(構造単位B)x/(構造単位A)/陰極
なお記号「x」は、2以上の整数を表し、(構造単位B)xは、構造単位Bがx段積層された積層体を表す。また複数ある(構造単位B)の層構成は同じでも、異なっていてもよい。
Further, when “(structural unit A) / charge generation layer” is “structural unit B”, the organic EL element having three or more light-emitting layers can have the layer configuration shown in the following k).
k) anode / (structural unit B) x / (structural unit A) / cathode The symbol “x” represents an integer of 2 or more, and (structural unit B) x is a stack in which the structural unit B is stacked in x stages. Represents the body. A plurality of (structural units B) may have the same or different layer structure.
なお電荷発生層を設けずに、複数の発光層を直接積層させた有機EL素子を構成してもよい。 In addition, you may comprise the organic EL element which laminated | stacked the several light emitting layer directly, without providing a charge generation layer.
<支持基板>
支持基板は有機EL素子を製造する工程において化学的に変化しないものが好適に用いられ、たとえばガラス、プラスチック、高分子フィルム、およびシリコン板、並びにこれらを積層したものなどが用いられる。なお有機EL素子を駆動する駆動回路が予め形成されている駆動用基板を支持基板として用いてもよい。支持基板を通して光が出射する構成のボトムエミッション型の有機EL素子を支持基板に搭載する場合、支持基板には光透過性を示す基板が用いられる。
<Support substrate>
As the support substrate, one that is not chemically changed in the process of manufacturing the organic EL element is suitably used. For example, glass, plastic, a polymer film, a silicon plate, and a laminate of these are used. A drive substrate in which a drive circuit for driving the organic EL element is formed in advance may be used as the support substrate. When a bottom emission type organic EL element configured to emit light through a support substrate is mounted on the support substrate, a substrate exhibiting light transmittance is used as the support substrate.
<陽極および陰極>
陽極および陰極の少なくとも1つの電極は透光性電極から構成される。なお陰極および陽極のうちの1つの電極のみが透光性電極から構成される場合には、当該透光性電極は前述した網目状透光性電極によって構成される。また陽極および陰極が透光性電極である場合、少なくとも一方が前記網目状透光性電極から構成されればよく、他方は光透過性を示す電極によって構成されてもよい。光透過性を示す電極としては、ITO、ZTOなどの金属酸化物や、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの透明導電性樹脂を用いてもよい。このような光透過性を示す電極は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、あるいはインキを用いた印刷法、インクジェット法などにより形成することができる。
<Anode and cathode>
At least one of the anode and the cathode is composed of a translucent electrode. In addition, when only one electrode of a cathode and an anode is comprised from a translucent electrode, the said translucent electrode is comprised by the mesh-like translucent electrode mentioned above. Moreover, when an anode and a cathode are translucent electrodes, at least one should just be comprised from the said mesh-like translucent electrode, and the other may be comprised by the electrode which shows a light transmittance. As the electrode exhibiting light transmittance, a transparent conductive resin such as metal oxide such as ITO or ZTO, polyaniline or a derivative thereof, polythiophene or a derivative thereof may be used. Such an electrode having optical transparency can be formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a printing method using ink, an ink jet method, or the like.
陽極および陰極のうちの1つの電極には不透光性を示す電極を用いてもよく、このような不透光性を示す電極の材料としては、電気伝導度の高い材料が好ましく、可視光反射率の高い材料が好ましい。不透光性を示す電極には、金、銀、白金、銅、アルミニウム、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫の単体もしくは1種以上を含む合金、またはグラファイト若しくはグラファイト層間化合物などが用いられる。なお不透光性を示す電極は、2層以上の層を積層した積層体で構成されていてもよい。不透光性を示す電極の膜厚は、求められる特性および工程の簡易さなどを考慮して適宜設計され、たとえば10nm〜10μmであり、好ましくは20nm〜1μmであり、さらに好ましくは50nm〜500nmである。不透光性を示す電極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、また金属薄膜を熱圧着するラミネート法などを挙げることができる。 An electrode exhibiting translucency may be used as one of the anode and the cathode, and the material of the electrode exhibiting such translucency is preferably a material having high electrical conductivity, such as visible light. A highly reflective material is preferred. Gold, silver, platinum, copper, aluminum, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, tin, or an alloy containing one or more, or graphite or a graphite intercalation compound is used for the electrode exhibiting light-impermeable properties. It is done. Note that the light-transmitting electrode may be formed of a stacked body in which two or more layers are stacked. The film thickness of the non-translucent electrode is appropriately designed in consideration of required characteristics and process simplicity, and is, for example, 10 nm to 10 μm, preferably 20 nm to 1 μm, more preferably 50 nm to 500 nm. It is. Examples of a method for manufacturing an electrode having light-transmitting properties include a vacuum deposition method, a sputtering method, and a laminating method in which a metal thin film is thermocompression bonded.
<正孔注入層>
正孔注入層を構成する正孔注入材料としては、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウムおよび酸化アルミニウムなどの金属酸化物や、フェニルアミン系化合物、スターバースト型アミン系化合物、フタロシアニン系、アモルファスカーボン、ポリアニリンおよびポリチオフェン誘導体などを挙げることができる。
<Hole injection layer>
As the hole injection material constituting the hole injection layer, metal oxides such as vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide and aluminum oxide, phenylamine compounds, starburst amine compounds, phthalocyanine systems, amorphous carbon, Examples thereof include polyaniline and polythiophene derivatives.
正孔注入層の成膜方法としては、たとえば正孔注入材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。たとえば所定の塗布法によって正孔注入材料を含む溶液を塗布成膜し、さらにこれを固化することによって正孔注入層を形成することができる。 Examples of the method for forming the hole injection layer include film formation from a solution containing a hole injection material. For example, a hole injection layer can be formed by coating a film containing a hole injection material by a predetermined coating method and solidifying the solution.
溶液からの成膜に用いられる溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒、および水を挙げることができる。 Solvents used for film formation from solution include chlorine solvents such as chloroform, methylene chloride and dichloroethane, ether solvents such as tetrahydrofuran, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone. Examples thereof include solvents, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, and ethyl cellosolve acetate, and water.
正孔注入層の膜厚は、求められる特性および工程の簡易さなどを考慮して適宜設定され、たとえば1nm〜1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。 The film thickness of the hole injection layer is appropriately set in consideration of required characteristics and process simplicity, and is, for example, 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 200 nm.
<正孔輸送層>
正孔輸送層を構成する正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)若しくはその誘導体、又はポリ(2,5−チエニレンビニレン)若しくはその誘導体などを挙げることができる。
<Hole transport layer>
As the hole transport material constituting the hole transport layer, polyvinylcarbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, a polysiloxane derivative having an aromatic amine in a side chain or a main chain, a pyrazoline derivative, an arylamine derivative, a stilbene derivative, Triphenyldiamine derivative, polyaniline or derivative thereof, polythiophene or derivative thereof, polyarylamine or derivative thereof, polypyrrole or derivative thereof, poly (p-phenylene vinylene) or derivative thereof, or poly (2,5-thienylene vinylene) or Examples thereof include derivatives thereof.
これらの中で正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリ(p−フェニレンビニレン)若しくはその誘導体、又はポリ(2,5−チエニレンビニレン)若しくはその誘導体などの高分子正孔輸送材料が好ましく、さらに好ましくはポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体である。低分子の正孔輸送材料の場合には、高分子バインダーに分散させて用いることが好ましい。 Among these, hole transport materials include polyvinyl carbazole or derivatives thereof, polysilane or derivatives thereof, polysiloxane derivatives having aromatic amine compound groups in the side chain or main chain, polyaniline or derivatives thereof, polythiophene or derivatives thereof, poly Polymeric hole transport materials such as arylamine or derivatives thereof, poly (p-phenylene vinylene) or derivatives thereof, or poly (2,5-thienylene vinylene) or derivatives thereof are preferred, and polyvinylcarbazole or derivatives thereof are more preferred. , Polysilane or a derivative thereof, and a polysiloxane derivative having an aromatic amine in the side chain or main chain. In the case of a low-molecular hole transport material, it is preferably used by being dispersed in a polymer binder.
正孔輸送層の成膜方法としては、たとえば正孔輸送材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。たとえば所定の塗布法によって正孔輸送材料を含む溶液を塗布成膜し、さらにこれを固化することによって正孔輸送層を形成することができる。低分子の正孔輸送材料では、高分子バインダーをさらに混合した溶液を用いて成膜してもよい。 Examples of the method for forming the hole transport layer include film formation from a solution containing a hole transport material. For example, a hole transport layer can be formed by coating a film containing a hole transport material by a predetermined coating method and solidifying the solution. In the case of a low molecular hole transport material, a film may be formed using a solution in which a polymer binder is further mixed.
溶液からの成膜に用いられる溶媒としては、たとえばクロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒などを挙げることができる。 Solvents used for film formation from solution include, for example, chlorinated solvents such as chloroform, methylene chloride and dichloroethane, ether solvents such as tetrahydrofuran, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone. Examples thereof include ester solvents such as system solvents, ethyl acetate, butyl acetate, and ethyl cellosolve acetate.
混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また可視光に対する吸収の弱いものが好適に用いられ、たとえばポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサンなどを挙げることができる。 As the polymer binder to be mixed, those that do not extremely inhibit charge transport are preferable, and those that weakly absorb visible light are preferably used. For example, polycarbonate, polyacrylate, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polystyrene, poly Examples thereof include vinyl chloride and polysiloxane.
正孔輸送層の膜厚は、要求される特性および工程の簡易さなどを考慮して適宜設定され、たとえば1nm〜1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。 The film thickness of the hole transport layer is appropriately set in consideration of required characteristics and process simplicity, and is, for example, 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm, and more preferably 5 nm to 200 nm. .
<発光層>
発光層は、通常、主として蛍光及び/又はりん光を発光する有機物、または該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。たとえば発光効率の向上や、発光波長を変化させるためにドーパントは加えられる。なお発光層に含まれる有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよい。低分子化合物よりも溶媒への溶解性が一般的に高い高分子化合物は塗布法に好適に用いられるため、発光層は高分子化合物を含むことが好ましく、高分子化合物としてポリスチレン換算の数平均分子量が103〜108の化合物を含むことが好ましい。発光層を構成する発光材料としては、たとえば以下の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料を挙げることができる。
<Light emitting layer>
The light emitting layer is usually formed of an organic substance that mainly emits fluorescence and / or phosphorescence, or an organic substance and a dopant that assists the organic substance. For example, a dopant is added in order to improve luminous efficiency and change the emission wavelength. The organic substance contained in the light emitting layer may be a low molecular compound or a high molecular compound. Since a high molecular compound having a generally higher solubility in a solvent than a low molecular compound is preferably used in the coating method, the light-emitting layer preferably contains a high molecular compound, and the number average molecular weight in terms of polystyrene as the high molecular compound Preferably contain 10 3 to 10 8 compounds. Examples of the light emitting material constituting the light emitting layer include the following dye materials, metal complex materials, polymer materials, and dopant materials.
(色素系材料)
色素系材料としては、たとえば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体などを挙げることができる。
(Dye material)
Examples of dye-based materials include cyclopentamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivative compounds, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, pyrrole derivatives, thiophene ring compounds. Pyridine ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, oxadiazole dimers, pyrazoline dimers, quinacridone derivatives, coumarin derivatives, and the like.
(金属錯体系材料)
金属錯体系材料としては、たとえばTb、Eu、Dyなどの希土類金属、またはAl、Zn、Be、Ir、Ptなどを中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを配位子に有する金属錯体を挙げることができ、たとえばイリジウム錯体、白金錯体などの三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体などを挙げることができる。
(Metal complex materials)
Examples of the metal complex material include rare earth metals such as Tb, Eu, and Dy, or Al, Zn, Be, Ir, Pt, etc. as a central metal, and oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline. Examples include metal complexes having structures as ligands, such as iridium complexes, platinum complexes and other metal complexes that emit light from triplet excited states, aluminum quinolinol complexes, benzoquinolinol beryllium complexes, benzoxazolyl zinc A complex, a benzothiazole zinc complex, an azomethylzinc complex, a porphyrin zinc complex, a phenanthroline europium complex, and the like can be given.
(高分子系材料)
高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素系材料や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどを挙げることができる。
(Polymer material)
As polymer materials, polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyfluorene derivatives, polyvinyl carbazole derivatives, the above dye materials and metal complex light emitting materials are polymerized. The thing etc. can be mentioned.
上記発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、およびそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体やポリフルオレン誘導体などが好ましい。 Among the light emitting materials, examples of the material that emits blue light include distyrylarylene derivatives, oxadiazole derivatives, and polymers thereof, polyvinylcarbazole derivatives, polyparaphenylene derivatives, and polyfluorene derivatives. Of these, polymer materials such as polyvinyl carbazole derivatives, polyparaphenylene derivatives, and polyfluorene derivatives are preferred.
また、緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。 Examples of materials that emit green light include quinacridone derivatives, coumarin derivatives, and polymers thereof, polyparaphenylene vinylene derivatives, polyfluorene derivatives, and the like. Of these, polymer materials such as polyparaphenylene vinylene derivatives and polyfluorene derivatives are preferred.
また、赤色に発光する材料としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。
(ドーパント材料)
ドーパント材料としては、たとえばペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。なお、このような発光層の厚さは、通常約2nm〜200nmである。
Examples of materials that emit red light include coumarin derivatives, thiophene ring compounds, and polymers thereof, polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, and polyfluorene derivatives. Among these, polymer materials such as polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, and polyfluorene derivatives are preferable.
(Dopant material)
Examples of the dopant material include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squalium derivatives, porphyrin derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazolone derivatives, decacyclene, phenoxazone, and the like. In addition, the thickness of such a light emitting layer is usually about 2 nm-200 nm.
発光層は、たとえば溶液からの成膜によって形成される。たとえば発光材料を含む溶液を所定の塗布法によって塗布し、さらにこれを固化することによって発光層は形成される。溶液からの成膜に用いる溶媒としては、前述の溶液から正孔注入層を成膜する際に用いられる溶媒と同様の溶媒を挙げることができる。 The light emitting layer is formed, for example, by film formation from a solution. For example, a light emitting layer is formed by applying a solution containing a light emitting material by a predetermined application method and further solidifying the solution. Examples of the solvent used for film formation from a solution include the same solvents as those used for forming a hole injection layer from the aforementioned solution.
<電子輸送層>
電子輸送層を構成する電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は8−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体などを挙げることができる。
<Electron transport layer>
As an electron transport material constituting the electron transport layer, an oxadiazole derivative, anthraquinodimethane or a derivative thereof, benzoquinone or a derivative thereof, naphthoquinone or a derivative thereof, anthraquinone or a derivative thereof, tetracyanoanthraquinodimethane or a derivative thereof, Fluorenone derivatives, diphenyldicyanoethylene or derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, or metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, polyquinoline or derivatives thereof, polyquinoxaline or derivatives thereof, polyfluorene or derivatives thereof, and the like can be given.
電子輸送層の成膜法としては、たとえば蒸着法および溶液からの成膜法などをあげることができる。なお溶液から成膜する場合には高分子バインダーを併用してもよい。 Examples of the method for forming the electron transport layer include a vapor deposition method and a film formation method from a solution. In the case of forming a film from a solution, a polymer binder may be used in combination.
電子輸送層の膜厚は、要求される特性および工程の簡易さなどを考慮して適宜設定され、たとえば1nm〜1μmであり、好ましくは2nm〜500nmであり、さらに好ましくは5nm〜200nmである。 The film thickness of the electron transport layer is appropriately set in consideration of required characteristics and process simplicity, and is, for example, 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 200 nm.
<電子注入層>
電子注入層を構成する材料としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属およびアルカリ土類金属のうちの1種類以上を含む合金、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩、またはこれらの物質の混合物などを挙げることができる。アルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、ハロゲン化物、および炭酸塩の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウムなどを挙げることができる。また、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウムなどを挙げることができる。電子注入層は、2層以上を積層した積層体で構成されてもよく、たとえばLiF/Caなどを挙げることができる。電子注入層は、蒸着法、スパッタリング法、印刷法などにより形成される。電子注入層の膜厚としては、1nm〜1μm程度が好ましい。
<Electron injection layer>
The material constituting the electron injection layer includes alkali metal, alkaline earth metal, an alloy containing at least one of alkali metal and alkaline earth metal, oxide of alkali metal or alkaline earth metal, halide, carbonic acid A salt or a mixture of these substances can be used. Examples of alkali metals, alkali metal oxides, halides, and carbonates include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, lithium oxide, lithium fluoride, sodium oxide, sodium fluoride, potassium oxide, potassium fluoride , Rubidium oxide, rubidium fluoride, cesium oxide, cesium fluoride, lithium carbonate, and the like. Examples of alkaline earth metals, alkaline earth metal oxides, halides and carbonates include magnesium, calcium, barium, strontium, magnesium oxide, magnesium fluoride, calcium oxide, calcium fluoride, barium oxide, Examples thereof include barium fluoride, strontium oxide, strontium fluoride, and magnesium carbonate. An electron injection layer may be comprised by the laminated body which laminated | stacked two or more layers, for example, LiF / Ca etc. can be mentioned. The electron injection layer is formed by vapor deposition, sputtering, printing, or the like. The thickness of the electron injection layer is preferably about 1 nm to 1 μm.
以上説明した発光装置11は、平面視で発光層16が形成される領域から幅方向Yに突出した領域において、隣り合う有機EL素子13の第1電極14と第2電極15とが接続されることにより隣り合う有機EL素子13が直列接続されるので、隣り合う有機EL素子13の第1電極14と第2電極15とを有機EL素子13間の領域において接続する必要がない。そのため隣り合う有機EL素子13間の領域に発光層などが形成されていてもよく、これによって塗布法で発光層を形成するさいに、隣り合う有機EL素子13間の領域に形成される発光層を除去する工程を省略することができる。したがって微細なパターン塗布が比較的不得手なキャップコート法などの塗布法であっても、直列接続される複数の有機EL素子13を簡便に作製することができる。
In the
また網目状透光性電極を用いることにより、たとえ有機EL素子の発光面積を大きくしたとしても、発光ムラや発熱の少ない発光装置を実現することができる。 In addition, by using a mesh-like translucent electrode, it is possible to realize a light emitting device with little light emission unevenness and heat generation even if the light emitting area of the organic EL element is increased.
図4は本発明の第2実施形態の発光装置31を模式的に示す図である。本実施形態の発光装置31は前述の第1実施形態の発光装置11とは第1電極14および第2電極15の形状のみが異なるので、第1電極14および第2電極15についてのみ説明し、第1実施形態と対応する部分については同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
FIG. 4 is a diagram schematically showing a
本実施形態では第1電極14に加えて、第2電極15も接続部32を有する。すなわち第2電極15は、配列方向Xに隣り合う有機EL素子の第1電極14にまで延在部から配列方向Xに延在し、該第1電極15に接続される接続部32を有する。
In the present embodiment, in addition to the
従って配列方向Xに隣り合う一対の有機EL素子13において、右方に配置される有機EL素子13の第1電極14の延在部17から接続部19が左方に延在するとともに、左方に配置される有機EL素子13の第2電極15の延在部18から接続部32が右方に延在し、これら第1電極14の接続部19と、第2電極15の接続部32とが重なることによって隣り合う一対の有機EL素子13の第1電極14と第2電極15とが接続される。
Therefore, in the pair of
図5は本発明の第3実施形態の発光装置41を模式的に示す図である。本実施形態の発光装置41は前述の第1実施形態の発光装置11とは第1電極14および第2電極15の形状のみが異なるので、第1電極14および第2電極15についてのみ説明し、第1実施形態と対応する部分については同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
FIG. 5 is a diagram schematically showing a
本実施形態では第1電極14が接続部19を有さず、逆に第2電極15が接続部42を有する。すなわち第2電極15は、配列方向Xに隣り合う有機EL素子の第1電極14にまで延在部から配列方向Xに延在し、該第1電極15に接続される接続部42を有する。
In this embodiment, the
図1に示す第1実施形態の発光装置11では、第1電極14のみが接続部19を有し、逆に図5に示す第3実施形態の発光装置41では、第2電極15のみが接続部42を有する。第1および第2電極14,15のうちのいずれか一方のみが接続部を有する場合、いずれの電極が接続部を有するかは設計に応じて適宜選択すればよいが、第1および第2電極14,15(一対の電極)のうちでシート抵抗が低い方の電極のみが接続部を有することが好ましい。すなわち第2電極15のシート抵抗よりも第1電極14のシート抵抗が低い場合、図1に示す第1実施形態の発光装置11のように第1電極14のみが接続部19を有することが好ましい。逆に第1電極14のシート抵抗よりも第2電極15のシート抵抗が低い場合、図5に示す第3実施形態の発光装置41のように第2電極15のみが接続部42を有することが好ましい。
In the
なお前述した各実施形態では複数の有機EL素子によって1つの直列接続が構成された発光装置を示しているが、複数の有機EL素子によって複数の直列接続が構成された発光装置であっても本発明を好適に適用することができる。また直列接続と並列接続とを併用して構成された発光装置であっても本発明を好適に適用することができる。 In addition, although each embodiment mentioned above has shown the light-emitting device by which one series connection was comprised by the some organic EL element, even if it is a light-emitting device by which the some series connection was comprised by the some organic EL element, this book The invention can be suitably applied. Further, the present invention can be suitably applied even to a light-emitting device configured by using both serial connection and parallel connection.
図6は本発明の第4実施形態の発光装置61を示す図である。本実施形態の発光装置61は、2列の直列接続を並列接続した構成の発光装置である。各直列接続は、3個の有機EL素子が直列接続されて構成される。2列の直列接続は、一端同士および他端同士が電気的に接続され、並列接続される。
FIG. 6 is a view showing a
複数の有機EL素子によって1つの直列接続が構成された発光装置では、有機EL素子の数が増加するほど、素子を駆動する駆動源の電圧が高くなるが、並列接続を併用することによって、駆動源に要求される供給電圧を適度に抑制することができる。 In a light-emitting device in which one series connection is configured by a plurality of organic EL elements, the voltage of a drive source that drives the elements increases as the number of organic EL elements increases. The supply voltage required for the source can be moderately suppressed.
1 有機EL素子
2 発光装置
3 支持基板
4 第1電極
5 第2電極
6 発光層
11 発光装置
12 支持基板
13 有機EL素子
14 第1電極
15 第2電極
16 発光層
17,18 延在部
19 接続部
31 発光装置
32 接続部
41 発光装置
42 接続部
61 発光装置
DESCRIPTION OF
Claims (7)
各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、
前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、
前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、
前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、
前記一対の電極のうちの少なくとも1つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置。 A light emitting device comprising: a support substrate; and a plurality of organic electroluminescence elements provided on the support substrate along a predetermined arrangement direction and connected in series,
Each organic electroluminescence element includes a pair of electrodes and a light emitting layer provided between the electrodes,
The light emitting layer extends along the predetermined arrangement direction across the plurality of organic electroluminescence elements,
Each of the pair of electrodes extends so as to protrude from the light emitting layer in a width direction perpendicular to both the thickness direction of the support substrate and the arrangement direction when viewed from one thickness direction of the support substrate. Part
One electrode of the pair of electrodes extends from the extending portion to the other electrode of the organic electroluminescence element adjacent in the arrangement direction and is connected to the other electrode. Further comprising
The light emitting device, wherein at least one of the pair of electrodes is a mesh-like translucent electrode configured by arranging conductors in a mesh.
各有機エレクトロルミネッセンス素子はそれぞれ、一対の電極と、該電極間に設けられる発光層とを備え、
前記発光層は、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に跨って、前記所定の配列方向に沿って延在しており、
前記一対の電極はそれぞれ、前記支持基板の厚み方向一方から見て、前記支持基板の厚み方向および前記配列方向のいずれにも垂直な幅方向に、発光層から突出するように延在する延在部を有し、
前記一対の電極のうちの一方の電極は、前記配列方向に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の他方の電極にまで前記延在部から前記配列方向に延在し、該他方の電極に接続される接続部をさらに有し、
前記一対の電極のうちの少なくとも1つの電極が、導電体が網目状に配置されて構成される網目状透光性電極である発光装置の製造方法であって、
前記発光層となる材料を含むインキを、前記複数の有機EL素子に跨って前記所定の配列方向に沿って連続的に塗布し、塗布した塗膜を固化することにより発光層を形成する工程を含む発光装置の製造方法。 A light-emitting device comprising a support substrate and a plurality of organic electroluminescence elements provided in series along a predetermined arrangement direction and connected in series;
Each organic electroluminescence element includes a pair of electrodes and a light emitting layer provided between the electrodes,
The light emitting layer extends along the predetermined arrangement direction across the plurality of organic electroluminescence elements,
Each of the pair of electrodes extends so as to protrude from the light emitting layer in a width direction perpendicular to both the thickness direction of the support substrate and the arrangement direction when viewed from one thickness direction of the support substrate. Part
One electrode of the pair of electrodes extends from the extending portion to the other electrode of the organic electroluminescence element adjacent in the arrangement direction and is connected to the other electrode. Further comprising
A method of manufacturing a light-emitting device, wherein at least one of the pair of electrodes is a mesh-like translucent electrode configured by arranging conductors in a mesh pattern,
The step of forming the light emitting layer by solidly applying the ink containing the material to be the light emitting layer along the predetermined arrangement direction across the plurality of organic EL elements and solidifying the applied coating film. A manufacturing method of a light emitting device including the same.
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