JP2012072212A - Photocurable composition, and base material with coating layer - Google Patents
Photocurable composition, and base material with coating layer Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012072212A JP2012072212A JP2010216198A JP2010216198A JP2012072212A JP 2012072212 A JP2012072212 A JP 2012072212A JP 2010216198 A JP2010216198 A JP 2010216198A JP 2010216198 A JP2010216198 A JP 2010216198A JP 2012072212 A JP2012072212 A JP 2012072212A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- photocurable composition
- coating layer
- mass
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
Description
本発明は、光硬化性組成物、及びこの光硬化性組成物から形成されるコーティング層を備えるコーティング層付き基材に関する。 The present invention relates to a photocurable composition and a substrate with a coating layer comprising a coating layer formed from the photocurable composition.
タッチパネルディスプレイなどの光学表示装置や、携帯電話機、ポータブル音楽プレーヤーなどの電子機器の筐体などの部材は、指で触れられることで機器の操作がされるため、表面に皮脂などの脂質成分による指紋跡が付着しやすい。このような指紋跡の付着により、部材の外観が損なわれたり、視認性、操作性が妨げられたりするという問題がある。このため、これらの部材には、表面上に指紋跡がつきにくく、或いは指紋跡がついたとしても簡単に拭き取り可能であるという、いわゆる耐指紋性の機能が求められている。 Optical display devices such as touch panel displays, and members of electronic devices such as mobile phones and portable music players are operated by touching them with fingers, so fingerprints due to lipid components such as sebum on the surface Marks are easily attached. Such adhesion of fingerprint marks has a problem that the appearance of the member is impaired, and visibility and operability are hindered. For this reason, these members are required to have a so-called fingerprint resistance function that is difficult to make fingerprint marks on the surface or can be easily wiped even if fingerprint marks are attached.
これらの部材の耐指紋性を向上させる方法として、部材の表面に耐指紋性のフィルムを設ける方法が挙げられる。特許文献１には、炭素数３以上であるアルキレンオキシドを含む特定の構造のポリエーテル骨格含有ウレタン樹脂を含む光硬化性組成物により形成されるコーティング層が透明性基材の表面上に設けられることで構成される耐指紋性のフィルムが提案されている。 As a method for improving the fingerprint resistance of these members, a method of providing a fingerprint resistant film on the surface of the members can be mentioned. In Patent Document 1, a coating layer formed of a photocurable composition containing a polyether skeleton-containing urethane resin having a specific structure containing an alkylene oxide having 3 or more carbon atoms is provided on the surface of a transparent substrate. A fingerprint-resistant film composed of the above has been proposed.
しかし、特許文献１で開示されているフィルムは、コーティング層の硬度が低いため、充分な耐久性を有しないという問題がある。 However, the film disclosed in Patent Document 1 has a problem that it does not have sufficient durability because the hardness of the coating layer is low.
耐久性の高い耐指紋性の材料としては、特許文献２に、オルガノ（ポリ）シロキサン基及び有機フッ素化合物基のいずれも含まない撥水性基を有する（メタ）アクリレートを共重合成分として含む（メタ）アクリル系共重合体又はこれと無機酸化物微粒子との複合体を含有する耐汚染性付与剤が開示されている。 As a highly durable material having high fingerprint resistance, Patent Document 2 contains (meth) acrylate having a water-repellent group containing neither an organo (poly) siloxane group nor an organic fluorine compound group as a copolymerization component (meta ) An antifouling agent containing an acrylic copolymer or a composite of this and an inorganic oxide fine particle is disclosed.
しかし、特許文献２に記載されている技術においても、耐汚染性付与剤から形成される塗膜の表面硬度は充分に高いとはいえず、このため高い耐久性のフィルムは得られない。 However, even in the technique described in Patent Document 2, the surface hardness of the coating film formed from the stain resistance imparting agent cannot be said to be sufficiently high, and thus a highly durable film cannot be obtained.
このように、従来の耐指紋性のためのフィルムは、耐指紋性と実用上充分な耐久性とを兼ね備えていなかった。 As described above, conventional films for fingerprint resistance do not have both fingerprint resistance and practically sufficient durability.
本発明は、上記事由に鑑みてなされたものであり、高い耐指紋性を有すると共に耐久性にも優れた塗膜を形成するための光硬化性組成物、及びこの光硬化性組成物から形成されるコーティング層を備えるコーティング層付き基材を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above reasons, and is formed from a photocurable composition for forming a coating film having high fingerprint resistance and excellent durability, and the photocurable composition. It aims at providing the base material with a coating layer provided with the coating layer made.
本発明に係る光硬化性組成物は、
（Ａ）１分子あたり５個以上のアクリル基を有する光重合性多官能化合物、
（Ｂ）ポリアルキレンオキシド基とポリアルキル基とのうちいずれかを有する親油性樹脂、
（Ｃ）光重合性モノマー、及び
（Ｄ）光重合開始剤
を含み、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００質量部に対して、（Ａ）成分の割合が５０〜９０質量部、（Ｂ）成分の割合が１〜２０質量部、（Ｃ）成分の割合が８〜４８質量部であり、且つ不揮発性成分の粘度が５０００ｍＰａ・ｓ（２５℃時）以下である。
The photocurable composition according to the present invention is:
(A) a photopolymerizable polyfunctional compound having 5 or more acrylic groups per molecule,
(B) a lipophilic resin having any one of a polyalkylene oxide group and a polyalkyl group,
(C) A photopolymerizable monomer and (D) a photopolymerization initiator are included, and the proportion of the component (A) is 50 to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the components (A) to (D). The ratio of the component (B) is 1 to 20 parts by mass, the ratio of the component (C) is 8 to 48 parts by mass, and the viscosity of the nonvolatile component is 5000 mPa · s (at 25 ° C.) or less.
本発明に係る光硬化性組成物においては、前記（Ｂ）成分が、炭素数３以上であるアルキレンオキシドを繰り返し単位とするポリアルキレンオキシド基と、炭素数３以上であるポリアルキル基とのうちいずれかを有することが好ましい。 In the photocurable composition according to the present invention, the component (B) is a polyalkylene oxide group having an alkylene oxide having 3 or more carbon atoms as a repeating unit and a polyalkyl group having 3 or more carbon atoms. It is preferable to have either.
本発明に係るコーティング層付き基材は、基材と、この基材上に形成されているコーティング層とを備え、前記コーティング層が前記光硬化性組成物から形成されている。 The base material with a coating layer according to the present invention includes a base material and a coating layer formed on the base material, and the coating layer is formed from the photocurable composition.
本発明に係るコーティング層付き基材においては、前記基材がフィルム状であり且つ透明であることが好ましい。 In the base material with a coating layer according to the present invention, the base material is preferably film-like and transparent.
本発明に係るコーティング層付き基材においては、前記コーティング層の表面のオレイン酸接触角が１０°以下であることが好ましい。 In the base material with a coating layer which concerns on this invention, it is preferable that the oleic acid contact angle of the surface of the said coating layer is 10 degrees or less.
本発明によれば、高い耐指紋性を有すると共に耐久性にも優れた硬化物を形成するための光硬化性組成物、及びこの光硬化性組成物から形成されるコーティング層を備えるコーティング層付き基材が得られる。 According to the present invention, a photocurable composition for forming a cured product having high fingerprint resistance and excellent durability, and a coating layer comprising a coating layer formed from the photocurable composition A substrate is obtained.
本実施形態による光硬化性組成物は、次の（Ａ）〜（Ｄ）成分を含有する。 The photocurable composition according to the present embodiment contains the following components (A) to (D).
（Ａ）１分子あたり５個以上のアクリル基を有する光重合性多官能化合物。 (A) A photopolymerizable polyfunctional compound having 5 or more acrylic groups per molecule.
（Ｂ）ポリアルキレンオキシド基とポリアルキル基とのうちいずれかを有する親油性樹脂。 (B) A lipophilic resin having either a polyalkylene oxide group or a polyalkyl group.
（Ｃ）光重合性モノマー。 (C) Photopolymerizable monomer.
（Ｄ）光重合開始剤。 (D) Photopolymerization initiator.
上記（Ａ）成分に含まれる１分子あたり５個以上のアクリル基を有する光重合性多官能化合物は、モノマーであってもオリゴマーであってもよい。（Ａ）成分の数平均分子量は、特に制限されないが、３００〜３０００の範囲であることが好ましく、５００〜２５００の範囲であれば更に好ましい。この数平均分子量は、光散乱法により測定される。 The photopolymerizable polyfunctional compound having 5 or more acrylic groups per molecule contained in the component (A) may be a monomer or an oligomer. The number average molecular weight of the component (A) is not particularly limited, but is preferably in the range of 300 to 3000, and more preferably in the range of 500 to 2500. This number average molecular weight is measured by a light scattering method.
光重合性多官能化合物の１分子あたりに含まれるアクリル基の数は、光硬化性組成物から形成される硬化物が高い物理的、化学的強度を有するようになるために重要である。このアクリル基の数が５個以上であることで、硬化物の物理的、化学的強度が高くなり、硬化物が高い耐久性（耐擦傷性、耐薬品性等）を発揮するようになる。このアクリル基の上限は特に制限されないがモノマー又はプレポリマーが有し得るアクリル基の個数を考慮すると、実質上の上限値は１５個である。 The number of acrylic groups contained in one molecule of the photopolymerizable polyfunctional compound is important because a cured product formed from the photocurable composition has high physical and chemical strength. When the number of acrylic groups is 5 or more, the physical and chemical strength of the cured product is increased, and the cured product exhibits high durability (such as scratch resistance and chemical resistance). The upper limit of this acrylic group is not particularly limited, but considering the number of acrylic groups that the monomer or prepolymer may have, the practical upper limit is 15.
光重合性多官能化合物のアクリル基当量（アクリル基一つあたりの分子量）は、特に制限はされないが、３００以下であることが好ましく、２００以下であることが更に好ましい。この場合、光硬化性組成物から形成される硬化物の架橋密度が特に向上し、硬化物の物理的、化学的強度が更に高くなる。このアクリル基当量の下限は特に制限されないが、現実に存在し得る化合物の構造を考慮すると、実質上の下限は９６である。 The acrylic group equivalent (molecular weight per acrylic group) of the photopolymerizable polyfunctional compound is not particularly limited, but is preferably 300 or less, and more preferably 200 or less. In this case, the crosslink density of the cured product formed from the photocurable composition is particularly improved, and the physical and chemical strength of the cured product is further increased. The lower limit of the acrylic group equivalent is not particularly limited, but the practical lower limit is 96 in consideration of the structure of a compound that may actually exist.
（Ａ）成分に含まれる光重合性多官能化合物の好ましい具体例としては、ジペンタエリスリトールペンタ、ヘキサアクリレートなどのポリオールポリアクリレート；ポリオールポリアクリレートのアルキレンオキサイド変成体；イソシアヌル酸アルキレンオキシド変成体のポリオールポリアクリレート；ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー；ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー；ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー；ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、などが挙げられる。これらの光重合性多官能化合物のうち、一種のみが用いられても、二種以上が併用されてもよい。 Preferable specific examples of the photopolymerizable polyfunctional compound contained in the component (A) include polyol polyacrylates such as dipentaerythritol penta and hexaacrylate; alkylene oxide modification of polyol polyacrylate; polyol of isocyanuric acid alkylene oxide modification Polyacrylate; Pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer; Pentaerythritol triacrylate toluene diisocyanate urethane prepolymer; Pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer; Dipentaerythritol pentaacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer . Among these photopolymerizable polyfunctional compounds, only one type may be used or two or more types may be used in combination.
（Ｂ）成分に含まれるポリアルキレンオキシド基とポリアルキル基とのうちいずれかを有する親油性樹脂は、光硬化性組成物から形成される硬化物に充分な耐指紋性が付与される程度の親油性を有することが好ましい。親油性樹脂の、デイビス法により決定されるＨＬＢ値が６．５以下であることが好ましく、更に６．０以下であることが好ましい。このＨＬＢ値の下限は特に制限されないが、入手可能な樹脂のＨＬＢ値を考慮すると、実質上の下限値は−３．５である。 The lipophilic resin having either a polyalkylene oxide group or a polyalkyl group contained in the component (B) is such that sufficient fingerprint resistance is imparted to a cured product formed from the photocurable composition. It preferably has lipophilicity. The HLB value of the lipophilic resin determined by the Davis method is preferably 6.5 or less, and more preferably 6.0 or less. The lower limit of the HLB value is not particularly limited, but in consideration of the HLB value of an available resin, the practical lower limit is −3.5.
親油性樹脂における、ポリアルキレンオキシド基中の繰り返し単位であるアルキレンオキシド基の炭素数、又はポリアルキル基の炭素数は、３以上であることが好ましい。この場合、親油性樹脂の親油性が特に高くなり、光硬化性組成物から形成される硬化物の耐指紋性が大きく向上する。炭素数の上限は特に制限されないが、入手可能な樹脂の構造を考慮すると、実質上の上限値は２２である。 In the lipophilic resin, the number of carbon atoms of the alkylene oxide group, which is a repeating unit in the polyalkylene oxide group, or the number of carbon atoms of the polyalkyl group is preferably 3 or more. In this case, the lipophilicity of the oleophilic resin is particularly high, and the fingerprint resistance of the cured product formed from the photocurable composition is greatly improved. The upper limit of the carbon number is not particularly limited, but the practical upper limit is 22 considering the structure of available resin.
更に親油性樹脂は光重合性を備えることが好ましく、そのためには親油性樹脂はアクリル基を有することが好ましい。 Furthermore, the lipophilic resin preferably has photopolymerizability, and for that purpose, the lipophilic resin preferably has an acrylic group.
（Ｂ）成分の数平均分子量は、特に制限されないが、２００〜２０００が好ましく、２５０〜１５００が更に好ましい。 The number average molecular weight of the component (B) is not particularly limited, but is preferably 200 to 2000, and more preferably 250 to 1500.
親油性樹脂の好ましい具体例としては、４−ｔｅｒｔ―ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ＨＦ（Ｃ）−Ｐ００（ハリマ化成製）、ＨＦ（Ｃ）−ＫＴ２０（ハリマ化成製）、などが挙げられる。これらの親油性樹脂のうち、一種のみが用いられても、二種以上が併用されてもよい。 Specific examples of the lipophilic resin include 4-tert-butylcyclohexyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, and isostearyl (meth). Acrylate, behenyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, nonyl Phenoxy polypropylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol Ruji (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, HF (C) -P00 (manufactured by Harima Chemicals), HF (C) -KT20 (Harima Kasei), and the like. Among these lipophilic resins, only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.
（Ｃ）成分には、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の光重合性モノマーが含まれる。この光重合性モノマーによって、光硬化性組成物の光硬化性が維持されると共に、光硬化性組成物の粘度が調整される。 The component (C) includes a photopolymerizable monomer other than the components (A) and (B). This photopolymerizable monomer maintains the photocurability of the photocurable composition and adjusts the viscosity of the photocurable composition.
光重合性モノマーの好ましい具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどのアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの低分子量ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートまたはそのアルキレンオキシド変成体；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジまたはトリまたはテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタまたはヘキサ（メタ）アクリレートなどのポリオールポリ（メタ）アクリレートまたはそのアルキレンオキサイド変成体；イソシアヌル酸アルキレンオキシド変成体のジまたはトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、などが挙げられる。これらの光重合性モノマーのうち、一種のみが用いられても、二種以上が併用されてもよい。 Preferred specific examples of the photopolymerizable monomer include alkylene glycol di (meth) acrylates such as ethylene glycol di (meth) acrylate and propylene glycol di (meth) acrylate; diethylene glycol di (meth) acrylate and tetraethylene glycol di (meth) Low molecular weight polyalkylene glycol di (meth) acrylate such as acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate or its alkylene oxide modified products; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol di Or tri or tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta or hexa (meth) ) Polyol poly (meth) acrylates such as acrylates or alkylene oxide modifications thereof; di- or tri (meth) acrylates of isocyanuric acid alkylene oxide modifications, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane EO modified triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, Etc. Among these photopolymerizable monomers, only one type may be used, or two or more types may be used in combination.
（Ｄ）成分に含まれる光重合開始剤により、活性エネルギー線照射に対する光硬化性組成物の光硬化性が向上する。 The photopolymerization initiator contained in the component (D) improves the photocurability of the photocurable composition against active energy ray irradiation.
光重合開始剤としては、例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、オキシムエステル系重合開始剤などが挙げられる。アルキルフェノン系光重合開始剤の具体例としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノンなどが挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤の具体例としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。チタノセン系光重合開始剤の具体例としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムなどが挙げられる。オキシムエステル系重合開始剤の具体例としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）、オキシフェニル酢酸、２−［２−オキソ−２−フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステル、２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチルエステルなどが挙げられる。これら以外の光硬化剤の例として、ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、カンファーキノン、オキシフェニル酢酸エステルなどの水素引き抜き型開始剤も挙げられる。光重合開始剤の特に好ましい具体例として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、および、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オンなどが挙げられる。これらの光重合開始剤のうち、一種のみが用いられても、二種以上が併用されてもよい。 Examples of the photopolymerization initiator include alkylphenone photopolymerization initiators, acylphosphine oxide photopolymerization initiators, titanocene photopolymerization initiators, and oxime ester polymerization initiators. Specific examples of the alkylphenone photopolymerization initiators include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1- Phenyl-propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4 -(2-Hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) me Le] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone and the like. Specific examples of the acylphosphine oxide photopolymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, and the like. . Specific examples of titanocene photopolymerization initiators include bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl). Examples include titanium. Specific examples of the oxime ester polymerization initiator include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (0-acetyloxime), oxyphenylacetic acid, 2- [2-oxo-2-phenylacetoxyethoxy] ethyl ester, 2- (2 -Hydroxyethoxy) ethyl ester and the like. Examples of photocuring agents other than these include hydrogen abstraction type such as benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl benzoylbenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-ethylanthraquinone, camphorquinone, oxyphenylacetate, etc. Also included are initiators. Particularly preferred specific examples of the photopolymerization initiator include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, and 1- [4 -(2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -Benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one and the like. Among these photopolymerization initiators, only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.
光硬化性組成物はさらに必要に応じて、希釈溶媒として有機溶媒を含有してもよい。有機溶媒の具体例としては、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ミネラルスピリットなどの脂肪族系溶媒；メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエーテルエステル系溶媒；メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒；などが挙げられる。これらの有機溶媒のうち、一種のみが用いられても、二種以上が併用されてもよい。 The photocurable composition may further contain an organic solvent as a dilution solvent, if necessary. Specific examples of organic solvents include aromatic solvents such as toluene and xylene; aliphatic solvents such as hexane, heptane, octane and mineral spirit; ketone solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; diethyl ether , Isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, anisole, phenetole, etc .; Ester solvents such as acetate; dimethylformamide, diethylformamide, Amide solvents such as methyl sulfoxide and N-methylpyrrolidone; cellosolv solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve; ether ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; methanol, ethanol and propanol Alcohol-based solvents such as; halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform; and the like. Among these organic solvents, only one kind may be used or two or more kinds may be used in combination.
光硬化性組成物は、更に必要に応じて適宜の添加剤を含有してもよい。添加剤としては、光重合開始助剤、帯電防止剤、無機充填材、有機充填材、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤、着色剤などが挙げられる。 The photocurable composition may further contain an appropriate additive as necessary. Additives include photopolymerization initiators, antistatic agents, inorganic fillers, organic fillers, polymerization inhibitors, antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, antifoaming agents, leveling agents, colorants, etc. Can be mentioned.
上記の成分が適宜の手法で混合されることで、光硬化性組成物が得られる。 A photocurable composition is obtained by mixing the above-mentioned components by an appropriate technique.
光硬化性組成物中における（Ａ）成分の割合は、（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００質量部に対して５０〜９０質量部の範囲である。（Ａ）成分の割合が５０質量部以上であることで、光硬化性組成物から形成される硬化物の物理的、化学的強度が充分に向上する。硬化物の更なる物理的、化学的強度の向上のためには、更に（Ａ）成分の割合が８０質量部以上であることが好ましい。（Ａ）成分の割合が９３質量部以下であることで、光硬化性組成物から形成される硬化物の耐指紋性が充分に向上する。硬化物の更なる耐指紋性向上のためには、更に（Ａ）成分の割合が７０質量部以下であることが好ましい。 The proportion of the component (A) in the photocurable composition is in the range of 50 to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the components (A) to (D). (A) The ratio of a component is 50 mass parts or more, and the physical and chemical intensity | strength of the hardened | cured material formed from a photocurable composition fully improve. In order to further improve the physical and chemical strength of the cured product, the ratio of the component (A) is preferably 80 parts by mass or more. (A) The ratio of a component is 93 mass parts or less, The fingerprint resistance of the hardened | cured material formed from a photocurable composition fully improves. In order to further improve the fingerprint resistance of the cured product, the proportion of the component (A) is preferably 70 parts by mass or less.
光硬化性組成物中における（Ｂ）成分の割合は、（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００質量部に対して１〜２０質量部の範囲である。（Ｂ）成分の割合が２０質量部以下であることで、光硬化性組成物から形成される硬化物の物理的、化学的強度が充分に向上する。硬化物の更なる物理的、化学的強度の向上のためには、更に（Ｂ）成分の割合が５質量部以下であることが好ましい。（Ｂ）成分の割合が１質量部以上であることで、光硬化性組成物から形成される硬化物の耐指紋性が充分に向上する。硬化物の更なる耐指紋性向上のためには、更に（Ｂ）成分の割合が１０質量部以上であることが好ましい。 The ratio of (B) component in a photocurable composition is the range of 1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of (A)-(D) component. (B) When the ratio of a component is 20 mass parts or less, the physical and chemical strength of the hardened | cured material formed from a photocurable composition fully improve. In order to further improve the physical and chemical strength of the cured product, the ratio of the component (B) is preferably 5 parts by mass or less. (B) When the ratio of a component is 1 mass part or more, the fingerprint resistance of the hardened | cured material formed from a photocurable composition fully improves. In order to further improve the fingerprint resistance of the cured product, the ratio of the component (B) is preferably 10 parts by mass or more.
光硬化性組成物中における（Ｃ）成分の割合は、（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００質量部に対して８〜４８質量部の範囲である。この範囲において、光硬化性組成物から形成される硬化物の物理的、化学的強度が向上する。光硬化性組成物から形成される硬化物の物理的、化学的強度が更に向上するためには、（Ｃ）成分の割合が更に１０〜３０質量部の範囲であることが好ましい。 The proportion of the component (C) in the photocurable composition is in the range of 8 to 48 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the components (A) to (D). In this range, the physical and chemical strength of the cured product formed from the photocurable composition is improved. In order to further improve the physical and chemical strength of the cured product formed from the photocurable composition, the ratio of the component (C) is preferably in the range of 10 to 30 parts by mass.
光硬化性組成物中における（Ｄ）成分の割合は、光硬化性組成物に充分な光硬化性が付与されるように適宜設定される。（Ｄ）成分の割合は、光硬化性組成物を構成する成分の種類にもよるが、（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００質量部に対して１〜２０質量部の範囲で設定されることが好ましく、１〜１０質量部の範囲で設定されると更に好ましい。 The proportion of the component (D) in the photocurable composition is appropriately set so that sufficient photocurability is imparted to the photocurable composition. (D) Although the ratio of a component is based also on the kind of component which comprises a photocurable composition, it sets in the range of 1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of (A)-(D) component. It is preferable that it is set in the range of 1 to 10 parts by mass.
光硬化性組成物中の不揮発性成分の粘度は、５０００ｍＰａ・ｓ（２５℃時）以下に調整される。不揮発性成分とは、光硬化性組成物から揮発性成分を除いた成分である。揮発性成分とは、光硬化性組成物から硬化物が形成される過程で揮発して光硬化性組成物或いは硬化物から除去される成分のことである。例えば光硬化性組成物が（Ａ）〜（Ｄ）成分並びに希釈溶剤からなる場合には、揮発性成分は希釈溶剤であり、不揮発性成分は（Ａ）〜（Ｄ）成分の混合物である。光硬化性組成物が揮発性成分を含む場合における不揮発性成分の粘度の測定にあたっては、例えば揮発性成分以外の光硬化性組成物の原料が混合されることで混合物（不揮発性成分）が調製され、続いてこの混合物の粘度が測定される。或いは、光硬化性組成物が加熱されるなどしてこの光硬化性組成物から揮発性成分が除去されると共に不揮発性成分が残留し、続いてこの不揮発性成分の粘度が測定される。揮発性成分が除去される際には、光硬化性組成物は、揮発性成分が充分に除去されると共に不揮発性成分の変質が生じないような適宜の条件で加熱され、例えば８０℃で１時間加熱される。不揮発性成分の粘度が前記の範囲内であると、光硬化性組成物から形成される硬化物の物理的、化学的強度が大きく向上する。硬化物の物理的、化学的強度の更なる向上のためには、不揮発性成分の粘度は、４０００ｍＰａ・ｓ（２５℃時）以下が更に好ましい。不揮発性成分の粘度の下限は特に制限されないが、達成可能な粘度の値を考慮すると、実質上の下限値は５００ｍＰａ・ｓ（２５℃時）である。 The viscosity of the non-volatile component in the photocurable composition is adjusted to 5000 mPa · s (at 25 ° C.) or less. The nonvolatile component is a component obtained by removing a volatile component from the photocurable composition. A volatile component is a component which volatilizes in the process in which hardened | cured material is formed from a photocurable composition, and is removed from a photocurable composition or hardened | cured material. For example, when a photocurable composition consists of (A)-(D) component and a dilution solvent, a volatile component is a dilution solvent and a non-volatile component is a mixture of (A)-(D) component. In measuring the viscosity of the nonvolatile component when the photocurable composition contains a volatile component, for example, a mixture (nonvolatile component) is prepared by mixing raw materials of the photocurable composition other than the volatile component. Subsequently, the viscosity of the mixture is measured. Alternatively, a volatile component is removed from the photocurable composition by heating the photocurable composition or the like, and a non-volatile component remains. Subsequently, the viscosity of the non-volatile component is measured. When the volatile component is removed, the photocurable composition is heated under appropriate conditions such that the volatile component is sufficiently removed and the non-volatile component is not deteriorated. Heated for hours. When the viscosity of the nonvolatile component is within the above range, the physical and chemical strength of the cured product formed from the photocurable composition is greatly improved. In order to further improve the physical and chemical strength of the cured product, the viscosity of the nonvolatile component is more preferably 4000 mPa · s (at 25 ° C.) or less. The lower limit of the viscosity of the non-volatile component is not particularly limited, but considering the achievable viscosity value, the practical lower limit is 500 mPa · s (at 25 ° C.).
光硬化性組成物中の成分の種類並びに割合が適宜選択されることで、不揮発性成分の粘度が調整される。特に光硬化性組成物中の（Ｃ）成分の割合が調整されることで、光硬化性組成物の光硬化性並びに硬化物の特性が充分に高く維持されながら、不揮発性成分の粘度が容易に調整される。 By appropriately selecting the type and ratio of the components in the photocurable composition, the viscosity of the nonvolatile component is adjusted. In particular, by adjusting the proportion of the component (C) in the photocurable composition, the viscosity of the non-volatile component is easily maintained while maintaining the photocurability of the photocurable composition and the properties of the cured product sufficiently high. Adjusted to
本実施形態では、（Ａ）成分が１分子あたり５個以上という多くのアクリル基を有することで、硬化物の架橋密度が高くなる。このため、（Ｂ）成分によって硬化物に高い耐指紋性が付与されつつ、更にこの硬化物の物理的、化学的強度が大きく向上すると考えられる。更に、本実施形態では硬化反応時に光硬化性組成物中の成分のモビリティーが高く維持され、このため（Ａ）成分のアクリル基の反応性が向上して反応速度が速くなり、これにより架橋密度が高い硬化物が得られると考えられる。但し、本発明はこの理論に拘束されない。 In this embodiment, (A) component has many acrylic groups of 5 or more per molecule, and the crosslinking density of hardened | cured material becomes high. For this reason, it is considered that the physical and chemical strength of the cured product is greatly improved while imparting high fingerprint resistance to the cured product by the component (B). Further, in the present embodiment, the mobility of the components in the photocurable composition is maintained high during the curing reaction, and therefore the reactivity of the acrylic group of the component (A) is improved and the reaction rate is increased, whereby the crosslinking density is increased. It is considered that a cured product having a high value can be obtained. However, the present invention is not bound by this theory.
本実施形態によるコーティング層付き基材は、基材と、この基材上に形成されているコーティング層とを備える。コーティング層は本実施形態による光硬化性組成物から形成される。このため、コーティング層は優れた耐指紋性を有すると共に、物理的、化学的強度が高く、高い耐久性（耐擦傷性、耐薬品性等）を有する。 The substrate with a coating layer according to this embodiment includes a substrate and a coating layer formed on the substrate. The coating layer is formed from the photocurable composition according to the present embodiment. For this reason, the coating layer has excellent fingerprint resistance, high physical and chemical strength, and high durability (such as scratch resistance and chemical resistance).
基材としては、特に制限されないが、例えばタッチパネルディスプレイなどの光学表示装置や、携帯電話機、ポータブル音楽プレーヤーなどの電子機器の筐体などの部材が挙げられる。 Although it does not restrict | limit especially as a base material, Members, such as optical display apparatuses, such as a touchscreen display, and housing | casings of electronic devices, such as a mobile telephone and a portable music player, are mentioned, for example.
基材はフィルム状であり且つ透明であってもよい。すなわち、コーティング層付き基材は、フィルム状の透明な基材と、この基材上に形成されているコーティング層とを備える光学フィルムであってもよい。このような光学フィルムが、タッチパネルディスプレイなどの光学表示装置や、携帯電話機、ポータブル音楽プレーヤーなどの電子機器の筐体などの適宜の部材に重ねて固定されると、これらの部材の最外層に、コーティング層が設けられる。 The substrate may be film-like and transparent. That is, the substrate with a coating layer may be an optical film including a film-like transparent substrate and a coating layer formed on the substrate. When such an optical film is fixed on an appropriate member such as an optical display device such as a touch panel display or a casing of an electronic device such as a mobile phone or a portable music player, the outermost layer of these members A coating layer is provided.
フィルム状の透明な基材の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトン等の樹脂から形成されるフィルムが挙げられる。フィルム状の透明な基材は、一枚のフィルムからなる単層構造を有していてもよく、同じ材質若しくは異種の材質からなる複数のフィルムが積層することで構成される多層構造を有していてもよい。フィルム状の透明な基材は無色透明であることが好ましいが、着色されていてもよい。フィルム状の透明な基材の可視光透過率はできる限り高いことが好ましい。 Specific examples of the film-like transparent substrate include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyolefins such as cyclic polyolefin, polyethylene, polypropylene and polystyrene, polyvinyl chloride, and polyvinylidene chloride. Examples thereof include films formed from resins such as vinyl resins such as polycarbonate, acrylic resin, triacetyl cellulose (TAC), polyether sulfone, and polyether ketone. The film-like transparent base material may have a single-layer structure composed of a single film, or a multilayer structure configured by laminating a plurality of films made of the same material or different materials. It may be. The film-like transparent substrate is preferably colorless and transparent, but may be colored. The visible light transmittance of the film-like transparent substrate is preferably as high as possible.
フィルム状の透明な基材の厚みは、充分な透明性が維持されていれば特に制限されない。可視光透過率の向上のためには厚みは薄いほど好ましいが、加工性の面からは厚みは１０〜３００μｍの範囲であることが好ましい。 The thickness of the film-like transparent substrate is not particularly limited as long as sufficient transparency is maintained. The thickness is preferably as small as possible for improving the visible light transmittance, but from the viewpoint of workability, the thickness is preferably in the range of 10 to 300 μm.
基材上にコーティング層が形成されるにあたっては、例えばまず基材上に光硬化性組成物が塗布されることで塗膜が形成される。光硬化性組成物が有機溶剤を含有する場合には、光硬化性組成物が塗布され、更に加熱されることで有機溶剤が揮発することで、塗膜が形成される。この塗膜に紫外線等のエネルギー線が照射されて光硬化性組成物が硬化することで、コーティング層が形成される。コーティング層の厚みは特に制限されないが、１〜１０μｍの範囲であることが好ましい。 When the coating layer is formed on the substrate, for example, first, a coating film is formed by applying a photocurable composition on the substrate. When the photocurable composition contains an organic solvent, the photocurable composition is applied, and the organic solvent is volatilized by heating to form a coating film. The coating layer is formed by irradiating this coating film with energy rays such as ultraviolet rays and curing the photocurable composition. The thickness of the coating layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 10 μm.
光硬化性組成物の塗布方法としては、特に制限なく適宜の方法が適用され得る。塗布方法の例としては、ウェットコーティング法（ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等）が挙げられる。 As a method for applying the photocurable composition, an appropriate method can be applied without particular limitation. Examples of coating methods include wet coating methods (dip coating method, spin coating method, flow coating method, spray coating method, roll coating method, gravure roll coating method, air doctor coating method, plate coating method, wire doctor coating method, Knife coating method, reverse coating method, transfer roll coating method, micro gravure coating method, kiss coating method, cast coating method, slot orifice coating method, calendar coating method, die coating method, etc.).
塗膜に照射されるエネルギー線の種類は光硬化性組成物の組成に応じて適宜選択され、照射条件も光硬化性組成物の組成、塗膜の膜厚等に応じて適宜設定される。 The type of energy rays irradiated to the coating film is appropriately selected according to the composition of the photocurable composition, and the irradiation conditions are also appropriately set according to the composition of the photocurable composition, the film thickness of the coating film, and the like.
本実施形態によるコーティング層付き基材におけるコーティング層は、上述のとおり高い耐指紋性を有するが、特にこのコーティング層のオレイン酸接触角が１０°以下であることが好ましい。この場合、コーティング層は非常に優れた耐指紋性を発揮する。このオレイン酸接触角は小さいほど好ましく、理想的には０°である。オレイン酸接触角が１０°以下であるコーティング層は、本実施形態による光硬化性組成物から容易に形成される。このオレイン酸接触角は、例えば光硬化性組成物中における（Ａ）成分と（Ｂ）成分の割合が調整されることで、容易に調整される。 Although the coating layer in the base material with a coating layer according to the present embodiment has high fingerprint resistance as described above, it is particularly preferable that the oleic acid contact angle of this coating layer is 10 ° or less. In this case, the coating layer exhibits very good fingerprint resistance. The smaller the oleic acid contact angle, the better. Ideally, it is 0 °. The coating layer having an oleic acid contact angle of 10 ° or less is easily formed from the photocurable composition according to the present embodiment. This oleic acid contact angle is easily adjusted by adjusting the ratio of the component (A) and the component (B) in the photocurable composition, for example.
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。但し、実施例によって本発明が制限されることはない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited by the examples.
［光学フィルムの作製］
各実施例及び比較例において、表１に示す成分を混合し、更にメチルエチルケトンを加えることで、不揮発分率が３５質量％の光硬化性組成物を得た。
[Production of optical film]
In each Example and Comparative Example, the components shown in Table 1 were mixed, and methyl ethyl ketone was further added to obtain a photocurable composition having a nonvolatile content of 35% by mass.
光硬化性組成物をＰＥＴフィルムの表面上に塗布し、８０℃で３分間加熱して乾燥させることで、塗膜を形成した。この塗膜に紫外線照射機を用いて紫外線を５００ｍＪ/ｃｍ２の条件で照射することで、塗膜を硬化させた。これにより、ＰＥＴフィルムとその上に形成されているコーティング層とを備える光学フィルムを得た。 The photocurable composition was applied on the surface of a PET film, and heated at 80 ° C. for 3 minutes to dry, thereby forming a coating film. The coating film was cured by irradiating the coating film with ultraviolet rays under the condition of 500 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiator. This obtained the optical film provided with PET film and the coating layer currently formed on it.
表１に示されている成分の詳細は、次のとおりである。
The details of the components shown in Table 1 are as follows.
〈（Ａ）成分又は（Ａ）成分に対応する化合物〉
・Ａ−ＤＰＨ；ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、新中村化学工業株式会社製、品番Ａ−ＤＰＨ、１分子あたりのアクリル基数６個、アクリル基当量９６、数平均分子量５７８。
・Ｕ−１５ＨＡ；ウレタンアクリレートプレポリマー、新中村化学工業株式会社製、品番Ｕ−１５ＨＡ、１分子あたりのアクリル基数１５個、アクリル基当量１５３、数平均分子量２３００。
・Ａ−９５３０；ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、新中村化学工業株式会社製、品番Ａ−９５３０、１分子あたりのアクリル基数５個、アクリル基当量１０５、数平均分子量５２４。
・Ｍ−４０３；ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの含有量５０〜６０質量％〉、東亞合成株式会社製、品番Ｍ−４０３、１分子あたりのアクリル基数５個、アクリル基当量１０５、数平均分子量５２４。
・Ｍ−４０５；ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの含有量１０〜２０質量％）、東亞合成株式会社製、品番Ｍ−４０５、１分子あたりのアクリル基数５個、アクリル基当量１０５、数平均分子量５２４。
・Ａ−ＴＭＰＴ；ペンタエリスリトールテトラアクリレート、新中村化学工業株式会社製、品番Ａ−ＴＭＰＴ、１分子あたりのアクリル基数４個、アクリル基当量７４、数平均分子量２９６。
<Compound corresponding to component (A) or component (A)>
A-DPH; dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product number A-DPH, 6 acrylic groups per molecule, 96 acrylic group equivalents, and number average molecular weight 578.
U-15HA; urethane acrylate prepolymer, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product number U-15HA, 15 acrylic groups per molecule, acrylic group equivalent 153, number average molecular weight 2300.
A-9530; dipentaerythritol pentaacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product number A-9530, 5 acrylic groups per molecule, acrylic group equivalent 105, number average molecular weight 524.
M-403: mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (content of dipentaerythritol pentaacrylate 50 to 60% by mass), manufactured by Toagosei Co., Ltd., product number M-403, acrylic per molecule 5 groups, acrylic group equivalent 105, number average molecular weight 524.
M-405: Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (content of dipentaerythritol pentaacrylate is 10 to 20% by mass), manufactured by Toagosei Co., Ltd., product number M-405, acrylic per molecule 5 groups, acrylic group equivalent 105, number average molecular weight 524.
A-TMPT: pentaerythritol tetraacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product number A-TMPT, 4 acrylic groups per molecule, acrylic group equivalent 74, number average molecular weight 296.
〈（Ｂ）成分又は（Ｂ）成分に対応する化合物〉
・ＡＮＰ−３００；ノニルフェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、日油株式会社製、品番ＡＮＰ−３００、アルキレンオキシド単位の炭素数３、ＨＬＢ値２．０、数平均分子量５６４。
・ＡＤＰ−４００；ポリプロピレングリコールジアクリレート、日油株式会社製、品番ＡＤＰ−４００、アルキレンオキシド単位の炭素数３、ＨＬＢ値６．１、数平均分子量４７４。
・ＡＤＴ−２５０；ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、日油株式会社製、品番ＡＤＴ−２５０、アルキレンオキシド単位の炭素数４、ＨＬＢ値５．２、数平均分子量３４２。
・Ｓ−１８００Ａ；イソステアリルアクリレート、新中村化学工業株式会社製、品番Ｓ−１８００Ａ、ポリアルキル基の炭素数１８、ＨＬＢ値−１．６、数平均分子量３２４。
・ＡＥ−４００；ポリエチレングリコールモノアクリレート、日油株式会社製、品番ＡＥ−４００、アルキレンオキシド単位の炭素数２、ＨＬＢ値１２．２、数平均分子量５１２。
<Compound corresponding to (B) component or (B) component>
ANP-300: Nonylphenoxypolypropylene glycol acrylate, manufactured by NOF Corporation, product number ANP-300, carbon number of alkylene oxide unit 3, HLB value 2.0, number average molecular weight 564.
ADP-400; polypropylene glycol diacrylate, manufactured by NOF Corporation, product number ADP-400, carbon number of alkylene oxide unit 3, HLB value 6.1, number average molecular weight 474.
ADT-250; polytetramethylene glycol diacrylate, manufactured by NOF Corporation, product number ADT-250, carbon number of alkylene oxide unit 4, HLB value 5.2, number average molecular weight 342.
S-1800A; isostearyl acrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product number S-1800A, polyalkyl group having 18 carbon atoms, HLB value of -1.6, number average molecular weight 324.
-AE-400; polyethylene glycol monoacrylate, manufactured by NOF Corporation, product number AE-400, carbon number of alkylene oxide unit 2, HLB value 12.2, number average molecular weight 512.
〈（Ｃ）成分〉
・Ａ−ＴＭＭ−３；ペンタエリスリトールトリアクリレート、新中村化学工業株式会社製、品番Ａ−ＴＭＭ−３。
・Ａ−ＨＤ−Ｎ；１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、新中村化学工業株式会社製、品番Ａ−ＨＤ−Ｎ。
・Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ；ペンタエリスリトールトリアクリレート、新中村化学工業株式会社製、品番Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ。
・Ｍ−３０６；ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（ペンタエリスリトールトリアクリレートの含有量６５〜７０質量％）、東亞合成株式会社製、品番Ｍ−３０６。
・Ｍ−４５０；ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレートの混合物（ペンタエリスリトールトリアクリレートの含有量１０質量％以下）、東亞合成株式会社製、品番Ｍ−４５０。
<(C) component>
A-TMM-3: Pentaerythritol triacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product number A-TMM-3.
A-HD-N; 1,6-hexanediol diacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product number A-HD-N.
A-TMM-3LM-N; pentaerythritol triacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product number A-TMM-3LM-N.
M-306; a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (pentaerythritol triacrylate content 65 to 70% by mass), manufactured by Toagosei Co., Ltd., product number M-306.
-M-450; a mixture of pentaerythritol tri and tetraacrylate (content of pentaerythritol triacrylate of 10% by mass or less), manufactured by Toagosei Co., Ltd., product number M-450.
〈（Ｄ）成分〉
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４；１−ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、ＢＡＳＦ社製、品番ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４。
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７；２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル-プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、ＢＡＳＦ社製、品番ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７。
<(D) component>
IRGACURE 184; 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, manufactured by BASF, product number IRGACURE 184.
IRGACURE127; 2-Hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one, manufactured by BASF, part number IRGACURE127.
［評価試験］
各実施例及び比較例で得られた光学フィルムの性能評価試験を、次に示すとおり行った。
[Evaluation test]
The performance evaluation test of the optical film obtained by each Example and the comparative example was done as shown below.
・粘度測定
（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、及び（Ｄ）成分を表１に示す割合で混合した混合物を調製し、この混合物の２５℃における粘度を、Ｂ型粘度計（ＢＭ型、トキメック社製）を用いて測定した。
-Viscosity measurement The mixture which mixed (A) component, (B) component, (C) component, and (D) component in the ratio shown in Table 1 was prepared, and the viscosity in 25 degreeC of this mixture was a B-type viscometer. (BM type, manufactured by Tokimec).
・全光線透過率及びヘイズの測定
日本電色工業株式会社製の濁度計（型番ＮＤＨ２０００）を用い、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１９９７に準拠して、光学フィルムの全光線透過率及びヘイズを測定した。
-Measurement of total light transmittance and haze The total light transmittance and haze of the optical film were measured based on JIS K7361-1997 using a turbidimeter (model number NDH2000) manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
・耐指紋性評価試験
コーティング層上に人の指を接触させた後に、この指をコーティング層から離した。続いて、コーティング層をその表面に対して垂直な方向から目視で観察し、指紋跡が確認された場合を「不良」、指紋跡が確認されなかった場合を「良」と評価した。
・鉛筆硬度の測定
ＪＩＳ Ｋ５６００に従って、コーティング層の鉛筆硬度を測定した。引っかき試験を１０回おこない、傷が認められない回数が８回以上である場合を合格と評価した。
-Fingerprint resistance evaluation test A human finger was brought into contact with the coating layer, and then the finger was separated from the coating layer. Subsequently, the coating layer was visually observed from a direction perpendicular to the surface, and a case where a fingerprint trace was confirmed was evaluated as “bad”, and a case where a fingerprint trace was not confirmed was evaluated as “good”.
-Measurement of pencil hardness According to JIS K5600, the pencil hardness of the coating layer was measured. The scratch test was performed 10 times, and the case where the number of scratches was not recognized was 8 times or more was evaluated as acceptable.
・耐擦傷性評価試験
＃００００のスチールウールをコーティング層と接触させた状態で、スチールウールからコーティング層へ向けて４９ｋＰａの荷重をかけながら、スチールウールを３０００ｍｍ／ｍｉｎの速度でコーティング層上で１００往復させた。続いて、コーティング層の表面を目視で観察し、多数の傷が認められた場合を「傷多数」、少数本の傷が認められた場合を「傷少数」、傷が認められなかった場合を「傷なし」と評価した。
Scratch resistance evaluation test In a state where # 0000 steel wool was in contact with the coating layer, the steel wool was applied to the coating layer at a rate of 3000 mm / min while applying a load of 49 kPa from the steel wool to the coating layer. I made a round trip. Subsequently, the surface of the coating layer was visually observed. If a large number of scratches were observed, “large number of scratches”, a small number of scratches were recognized, “small number of scratches”, and no scratches were observed. Evaluated as “no scratch”.
・密着性
コーティング層に対して、ＪＩＳ Ｄ０２０２−１９８８に準拠した碁盤目テープ剥離試験をおこない、１００個のマス目のうちの剥離が生じなかったマス目の数によって、密着性を評価した。
・オレイン酸接触角の測定
自動接触角計（協和界面科学製）を用いて、コーティング層のオレイン酸の接触角を測定した。
-Adhesiveness The cross cut tape peeling test based on JISD0202-1988 was performed with respect to the coating layer, and adhesiveness was evaluated by the number of the squares which did not peel among the 100 squares.
-Measurement of oleic acid contact angle The contact angle of oleic acid in the coating layer was measured using an automatic contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science).
・耐薬品性
試験用の薬品として、トルエン、アセトン、塩酸水溶液（濃度１０質量％）、食塩水（濃度１０質量％）、及び石灰水（濃度１０質量％）を用意し、これらの薬品に対するコーティング層の耐性を次のようにして調査した。
・ Chemical resistance Toluene, acetone, hydrochloric acid aqueous solution (concentration: 10% by mass), saline (concentration: 10% by mass), and lime water (concentration: 10% by mass) are prepared as test chemicals. The layer resistance was investigated as follows.
コーティング層の表面上に薬品をピペットから１滴滴下した。コーティング層上に薬品の液滴が載っている状態を、室温で２．５時間維持してから、薬品をコーティング層上から除去した。続いて、コーティング層の表面を目視で観察し、外観に変色が確認された場合を「不良」、外観に変化が確認されなかった場合を「良」と評価した。 One drop of chemical was dropped from the pipette on the surface of the coating layer. The state in which the chemical droplets were placed on the coating layer was maintained at room temperature for 2.5 hours, and then the chemical was removed from the coating layer. Subsequently, the surface of the coating layer was visually observed, and the case where discoloration was confirmed in the appearance was evaluated as “bad”, and the case where no change was confirmed in the appearance was evaluated as “good”.
・結果
以上の評価試験の結果を、下記表２に示す。
-Results The results of the above evaluation tests are shown in Table 2 below.
Claims (5)
（Ｂ）ポリアルキレンオキシド基とポリアルキル基とのうちいずれかを有する親油性樹脂、
（Ｃ）光重合性モノマー、及び
（Ｄ）光重合開始剤
を含み、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分の合計量１００質量部に対して、前記（Ａ）成分の割合が５０〜９０質量部、前記（Ｂ）成分の割合が１〜２０質量部、前記（Ｃ）成分の割合が８〜４８質量部であり、且つ不揮発性成分の粘度が５０００ｍＰａ・ｓ（２５℃時）以下である光硬化性組成物。 (A) a photopolymerizable polyfunctional compound having 5 or more acrylic groups per molecule,
(B) a lipophilic resin having any one of a polyalkylene oxide group and a polyalkyl group,
(C) A photopolymerizable monomer and (D) a photopolymerization initiator are included, and the proportion of the component (A) is 50 to 90 masses per 100 mass parts of the total amount of the components (A) to (D). Part, the ratio of the component (B) is 1 to 20 parts by mass, the ratio of the component (C) is 8 to 48 parts by mass, and the viscosity of the nonvolatile component is 5000 mPa · s (at 25 ° C.) or less. Photocurable composition.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010216198A JP2012072212A (en) | 2010-09-27 | 2010-09-27 | Photocurable composition, and base material with coating layer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010216198A JP2012072212A (en) | 2010-09-27 | 2010-09-27 | Photocurable composition, and base material with coating layer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012072212A true JP2012072212A (en) | 2012-04-12 |
Family
ID=46168749
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010216198A Pending JP2012072212A (en) | 2010-09-27 | 2010-09-27 | Photocurable composition, and base material with coating layer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2012072212A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014188845A (en) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Dexerials Corp | Lipophilic laminate, method for manufacturing the same, object, and method for manufacturing the same |
| WO2020085218A1 (en) * | 2018-10-24 | 2020-04-30 | デクセリアルズ株式会社 | Active energy ray-curable resin composition, antifogging/antifouling multilayer body and method for producing same, article, and antifogging method |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008255301A (en) * | 2007-04-09 | 2008-10-23 | Nippon Paint Co Ltd | Fingerprint-proof photocurable composition, fingerprint-proof film, and optical display device |
| JP2010024450A (en) * | 2008-06-18 | 2010-02-04 | Toyobo Co Ltd | Resin composition for hard coat for molding |
| JP2010095569A (en) * | 2008-10-14 | 2010-04-30 | Mitsubishi Chemicals Corp | Active energy ray-curable resin composition, cured material and article |
| WO2010090116A1 (en) * | 2009-02-04 | 2010-08-12 | 日本化薬株式会社 | Actinic-energy-ray-curable resin composition for hard coat and use thereof |
| JP2010191370A (en) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Nippon Bee Chemical Co Ltd | Antiglare coating composition, antiglare film, and method for manufacturing the same |
| JP2012007028A (en) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Nippon Kayaku Co Ltd | Active energy ray-curable resin composition for hard coat and application of the same |
-
2010
- 2010-09-27 JP JP2010216198A patent/JP2012072212A/en active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008255301A (en) * | 2007-04-09 | 2008-10-23 | Nippon Paint Co Ltd | Fingerprint-proof photocurable composition, fingerprint-proof film, and optical display device |
| JP2010024450A (en) * | 2008-06-18 | 2010-02-04 | Toyobo Co Ltd | Resin composition for hard coat for molding |
| JP2010095569A (en) * | 2008-10-14 | 2010-04-30 | Mitsubishi Chemicals Corp | Active energy ray-curable resin composition, cured material and article |
| WO2010090116A1 (en) * | 2009-02-04 | 2010-08-12 | 日本化薬株式会社 | Actinic-energy-ray-curable resin composition for hard coat and use thereof |
| JP2010191370A (en) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Nippon Bee Chemical Co Ltd | Antiglare coating composition, antiglare film, and method for manufacturing the same |
| JP2012007028A (en) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Nippon Kayaku Co Ltd | Active energy ray-curable resin composition for hard coat and application of the same |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014188845A (en) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Dexerials Corp | Lipophilic laminate, method for manufacturing the same, object, and method for manufacturing the same |
| WO2020085218A1 (en) * | 2018-10-24 | 2020-04-30 | デクセリアルズ株式会社 | Active energy ray-curable resin composition, antifogging/antifouling multilayer body and method for producing same, article, and antifogging method |
| JP2020066158A (en) * | 2018-10-24 | 2020-04-30 | デクセリアルズ株式会社 | Active energy ray-curable resin composition, antifogging and antifouling laminate and method of producing the same, article, and antifogging method |
| US11898053B2 (en) | 2018-10-24 | 2024-02-13 | Dexerials Corporation | Active energy ray-curable resin composition, anti-fogging and anti-fouling laminate, method for producing same, article, and anti-fogging method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5341105B2 (en) | Photocurable hydrophilic coating, hydrophilic coating, and hydrophilic article | |
| CN104487497B (en) | Hard coating film | |
| JP6795793B2 (en) | Silicon-containing highly branched polymer | |
| TW201420652A (en) | Hard coating film | |
| JP2008255301A (en) | Fingerprint-proof photocurable composition, fingerprint-proof film, and optical display device | |
| JP6574481B2 (en) | Hard coat film, front plate of image display element, resistive touch panel, capacitive touch panel, and image display device | |
| CN104736613A (en) | Laminated hard coating film | |
| KR101883721B1 (en) | Compositon for hard coating, optical film and display device using the same | |
| JP2010095707A (en) | Fingerprint-proof photocurable composition and coating with fingerprint-proof coating layer | |
| JPWO2009087752A1 (en) | Hard coat layer forming resin composition | |
| JP6147130B2 (en) | Photocurable composition capable of forming a cured coating having anti-fingerprint property, coating and coating substrate thereof | |
| KR20190055071A (en) | Scratch resistant hard coat material | |
| JP4806965B2 (en) | Method for forming antistatic coating | |
| US20170335132A1 (en) | Hard coating composition and hard coating film using the same | |
| WO2019065075A1 (en) | Photopolymerizable composition, hard coat film, method for manufacturing hard coat film, and article provided with hard coat film | |
| JP2012072212A (en) | Photocurable composition, and base material with coating layer | |
| JP6874787B2 (en) | Active energy ray-curable resin composition, cured product and laminate | |
| TW201819425A (en) | Optical active energy ray curable resin composition, cured coating film and optical film capable of forming a cured coating film on the surfaces of various base films | |
| JP2008056872A (en) | Resin composition for hard coat layer formation | |
| TW201103964A (en) | Curable coating material, abrasion resistant resin plate, and display window protection plate of portable type information terminal | |
| JP6894835B2 (en) | Active energy ray-curable composition and cured product | |
| JP2009248361A (en) | Scratch-resistant resin plate and its use | |
| JP2013209482A (en) | Hard coating composition | |
| TW201809160A (en) | Hard coating composition and hard coating film using the same | |
| KR20180043089A (en) | Hard coating composition and hard coating film prepared from the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20120118 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130307 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131220 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140107 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140430 |