JP2012066381A - ステージ装置及びガントリ型ステージ装置及びステージ装置の制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上面にワークが載置されるテーブル14と、テーブル14の両側に起立する一対のZ軸駆動機構と20、テーブル14の上方で一対のZ軸駆動機構20間に横架されたビーム18と、ビーム18の両端部を一対のZ軸駆動機構20に対して回動可能に支持する一対の回動支持部46と、を有する。
【選択図】図1
Description
ブルの上方にビームが横架されており、テーブルまたはビームの何れか一方をY方向(水
平方向)に移動させて所定の作業(加工や検査など)を行うように構成されている(例え
ば、特許文献1参照)。
ており、テーブルに載置された基板に対する加工や検査を行うように動作制御される。そ
して、テーブルに対するビームの高さ位置は、ビームの両端を昇降可能に支持する昇降機
構によって調整される。
持される構成であるため、例えば、基板の大型化に伴ってビームの全長が長くなると、ボ
ールねじ機構にかかる荷重も増大することになり、ボールねじ機構だけでは高精度に位置
決めすることが難しい。
の平面度を高精度に加工することが難しく、基板搬送方向と直交するX方向の微小な傾き
がテーブル表面に発生した場合、ビームがテーブル上面に対して平行になるように高さ調
整を行う際に大きな荷重がかかると、ボールねじ機構の構造上の精度的ばらつきによって
ビームの平行度を正確に保つことが難しい。
テージ装置の制御方法を提供することを目的とする。
立する一対のZ軸駆動機構と、前記テーブルの上方で前記一対のZ軸駆動機構間に横架さ
れたビームと、該ビームの両端部を前記一対のZ軸駆動機構に対して回動可能に支持する
一対の回動支持部とを有することを特徴とする。
スライド可能に支持するスライド部を有することを特徴とする。
ダと、該シリンダ内の圧力を一定に保つ圧力調整手段とを有することを特徴とする。
手段と、該一対の検出手段による検出値が等しくなるように前記一対のZ軸駆動機構を駆
動させる制御手段と、を有することを特徴とする。
ることを特徴とする。
するボールねじ機構を有し、前記ボールねじ機構を介して前記ビームを昇降させることを
特徴とする。
ントリ部と、を有するガントリ型ステージ装置において、前記ビームが前記テーブル上面
と平行となるように前記ビームの両端高さ位置を調整するZ軸調整機構を前記ガントリ部
に設けたことを特徴とする。
る一対の回動支持部と、前記一対の回動支持部のうち何れか一方を前記ビームに対してス
ライド可能に支持するスライド部と、を有することを特徴とする。
ダと、該シリンダ内の圧力を一定に保つ圧力調整手段とを有することを特徴とする。
方に対向するように設けられたビームと前記テーブルとの距離を計測し、計測結果を記憶
する工程と、前記計測結果に基づいて前記該一対の検出手段による検出値が等しくなるよ
うに前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端高さ位置を調整
する工程と、を有することを特徴とする。
可能に連結するため、Z軸駆動機構によりビームの高さ位置を調整してテーブル上面に対
するビームの平行度を正確に保つように調整することが可能になり、特にテーブルの大型
化に伴うテーブル平面度の微小な傾きにもビームの高さ位置を微調整してテーブル上面に
対するビームの平行度を高精度に維持することができる。
可能に支持するスライド部を有するため、水平方向に対してビームが微小角度の傾きを持
つように調整された場合でもスライド部のスライド動作によりZ軸駆動機構に負担をかけ
ることが防止される。
保つ圧力調整手段とを有するため、ビームの荷重が増大してもZ軸駆動機構の負担を軽減
して荷重増大による精度的なばらつきをなくすことができる。
め、ビームを移動させるよりもテーブル上に載置された基板とビームとの平行度をより精
密に確保することができる。
せるため、テーブル上面に対するビームの平行度を精密に調整することが可能になり、且
つボールねじ機構にビームの全ての荷重が作用しないように構成してあり、ボールねじ機
構により構造的なばらつきがビームの平行度に影響しないようにできる。
置を調整するZ軸調整機構をガントリ部に設けたため、テーブル上面に対するビームの平
行度を正確に保つように調整することが可能になり、特にテーブルの大型化に伴うテーブ
ル平面度の微小な傾きにもビームの高さ位置を微調整してテーブル上面に対するビームの
平行度を高精度に維持することができる。
の側面図である。図1及び図2に示されるように、ステージ装置10は、ワークとしての
基板(図中、破線で示す)11を水平方向に移動させるガントリ型と呼ばれているステー
ジ装置であり、基礎に固定されたベース12と、ベース12上にY方向に移動可能に設け
られたテーブル14と、ベース12上に固定された門型のガントリ部16と、テーブル1
4のY方向への移動制御及びガントリ部16のZ方向の高さ調整制御を行う制御装置(制
御手段)17とを有する。
4は、上面に基板11を真空吸着するための小孔(図示せず)が多数設けられており、真
空ポンプによって基板11との隙間の空気を小孔から吸引して基板11を水平状態にチャ
ッキングするように構成されている。
部を支持する一対のZ軸駆動機構20とを有する。また、ビーム18には、テーブル14
との距離(Z方向の高さ位置)を計測する一対のZ方向センサ(検出手段)21A,21
Bが設けられている。一対のZ方向センサ21A,21Bは、テーブル14の上面のうち
基板11が載置される載置領域の外側に形成された余白領域に対向するX方向位置に取り
付けられている。
る方式のセンサがある。そして、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測された値
が等しくなるようにZ軸駆動機構20を駆動させることによりビーム18がテーブル14
の上面と平行状態になる。尚、Z軸駆動機構20の詳細については、後述する。
るためのY軸駆動機構22が設けられている。このY軸駆動機構22は、Y方向に延在す
る一対のY方向ガイド24と、X方向を規制するX方向ガイド26と、Y方向リニアモー
タ(水平方向駆動手段)28と、テーブル14を支持する支持部材30とを有する。
可動ベース32の上面に起立してテーブル14を支持する支柱34を有する。従って、テ
ーブル14は、Y方向リニアモータ28に駆動される可動ベース32と共に、Y方向へ移
動する。Y方向リニアモータ28は、X方向ガイド26の上面凹部に固定されたマグネッ
トヨークユニット36と、可動ベース32の下面に取り付けられ、マグネットヨークユニ
ット36に挿入されたコイルユニット38とから構成されたムービングコイル(MC)型
リニアモータである。
方向静圧パッド40と、X方向ガイド26の左右側面に対して圧縮空気を噴出させるX方
向静圧パッド42とが設けられている。そのため、可動ベース32は、Y方向静圧パッド
40、X方向静圧パッド42からの空気層によってY方向ガイド24及びX方向ガイド2
6に対して非接触且つ低摩擦で移動するように支持される。
するY方向リニアスケール(図示せず)が設けられている。このY方向リニアスケールに
よりテーブル14が初期位置(Y方向基準位置)からどの位置まで移動かを正確に検出す
ることができる。
ントリ部16は、テーブル14の左右両側に位置するようにベース12上に固定された一
対の支持部材44と、支持部材44上に支持されたZ軸駆動機構20と、Z軸駆動機構2
0に対してビーム18の両端部を回動可能に支持する一対の回動支持部46と、一方の回
動支持部46をX方向にスライド可能に支持するスライド部48と、ビーム18の両端部
の荷重を支える一対のエアシリンダ50とを有する。
ンダ本体52より上方に突出するピストンロッド54とを有し、圧力制御部56によりシ
リンダ本体52の内部の圧力が所定圧力に保たれるように制御されている。また、エアシ
リンダ50は、ピストンロッド54の上端がビーム18に結合されており、ビーム18の
荷重をシリンダ本体52の空気圧により支持するように構成されている。圧力制御部(圧
力調整手段)56は、ピストンロッド54に作用する負荷(荷重)に応じた圧力となるよ
うにシリンダ本体52の空気圧を制御しており、例えば、ビーム18に取り付けられた各
種加工用治具や検査用ユニットによる荷重増大に対応してシリンダ本体52の空気圧を増
大させることによりビーム18の高さ位置を一定に保つように圧力制御を行う。
構20の内部構造を側面からみた縦断面図である。図3及び図4に示されるように、Z軸
駆動機構20は、支持部材44上に固定されたZ軸ベース60と、Z軸ベース60に中心
線に沿うように装架されたボールねじ62と、ボールねじ62に螺合されたナット64と
、ボールねじ62に回転駆動力を付与するZ軸駆動モータ66と、ビーム18の背面に結
合されるZ軸テーブル68と、Z軸テーブル68の昇降動作をガイドする一対のZ軸リニ
アガイド70とを有する。Z軸ベース60は、側方からみるとコ字状に形成されており、
垂直方向(Z方向)に起立する起立部60aと、起立部60aの上端より水平方向に突出
する上部60bと、起立部60aの下端より水平方向に突出し支持部材44上に固定され
る下部60cとを有する。
0aに設けられた一対のボールねじサポート72により回転可能に軸承されており、上端
にはカップリング74が連結されている。Z軸駆動モータ66は、下方(Z軸方向)に延
在する回転軸76を有し、Z軸ベース60の上部60bに垂直状態に取り付けられている
。また、Z軸駆動モータ66に駆動された回転軸76の回転は、カップリング74を介し
てボールねじ62に伝達される。
ルねじ62の回転方向によって昇降する。また、Z軸テーブル68の背面には、Z軸リニ
アガイド70を摺動するリニアブロック78に結合されており、Z軸テーブル68はナッ
ト64がボールねじ62の回転と共に昇降する際にZ軸リニアガイド70にガイドされる
。
ビーム18は、上記Z軸駆動機構20により上下方向に駆動されるZ軸テーブル68の昇
降位置によってZ軸方向の位置が変化し、Z軸テーブル68に設けられたリニアスケール
(図示せず)によりテーブル14の上面(またはテーブル14に載置された基板11)に
対する離間距離が一定となるように高さ位置が調整される。
め、上記のようにZ軸テーブル68にリニアスケールを設けず、回転軸76の回転角を検
出する回転角検出センサ(図示せず)をZ軸駆動モータ66に内蔵させ、回転角を制御す
ることによりビーム18の高さ位置を正確に調整することも可能である。
部46、スライド部48の構造について説明する。図5は回動支持部46、スライド部4
8を正面図である。図6は図5中A−A線に沿う回動支持部46、スライド部48の縦断
面図である。尚、本実施例では、ビーム18の右端が回動支持部46、スライド部48に
連結され、ビーム18の左端が回動支持部46に連結されている。すなわち、スライド部
48は、ビーム18の両端のうち何れか一方(本実施例では、右端)のみに設けられてい
る。
ーブル80が設けられ、このロータリテーブル80の内周にはロータリベアリング82が
回転可能に嵌合されている。そして、ロータリベアリング82の内周には、軸84が貫通
されており、軸84に対してビーム18の端部が回動可能に支持されている。また、ロー
タリベアリング82より前方に突出した軸84の端部は、ロータリベアリング82の内輪
の側面を覆う円形のカバー86が設けられている。また、ビーム18の前面には、ロータ
リベアリング82の外輪の側面を覆うリング状のカバー88が取り付けられている。
90は、右側からみると、断面形状がコ字状に形成されており、Z軸テーブル68に対向
する垂直板90aと、垂直板90aの上下端部から後方に曲げられた摺動部90b、90
cとを有する。そして、Z軸テーブル68の前面には、スライダベース92が固定され、
且つスライダベース92の端部には、摺動部90b、90cをX方向に摺動可能に支持す
るクロスローラガイド94が設けられている。
され、且つスライダ90とクロスローラガイド94によりX方向にスライド可能に支持さ
れている。尚、ビーム18の左端は、図示していないが上記ロータリベアリング82と軸
84により回動可能に支持されている。
可能に支持されているため、一対のZ軸駆動機構20により両端の高さ位置が調整される
際にZ軸駆動機構20に対して回動できると共に、回動支持部46のX方向の位置ずれが
スライド部48の摺動動作により吸収される。
制御方法(記憶式ならい制御)と第2の制御方法(リアルタイム制御)の何れかを実行す
るように設定されている。第1の制御方法(記憶式ならい制御)では、基板11をテーブ
ル14に載置し、予めZ方向センサ21A,21Bによりテーブル14のY軸方向に対す
る高さ位置を計測し、この計測値を記憶させる。そして、実際の制御動作を行なうときに
は、記憶された高さ計測値に基づきビーム18がテーブル14上面と平行となるようにビ
ーム18の両端高さ位置を制御する。
状態でZ方向センサ21A,21Bによりテーブル14のY軸方向に対する高さ位置を計
測し、この検出された計測値に基づきビーム18がテーブル14上面と平行となるように
ビーム18の両端高さ位置を制御する。
を参照して説明する。図7に示されるように、制御装置17は、ステップS11(以下「
ステップ」を省略する)でY方向リニアモータ28のコイルユニット38に電圧を印加し
てテーブル14を初期位置からY方向に所定の一定速度で移動させる。
14上面との距離(テーブル14に対するビーム18の高さ位置)HA,HBを計測する
。続いて、S13に進み、一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計
測データHA,HBをメモリ(図示せず)に記憶する。尚、このメモリは、テーブル14
のY方向位置に対応するビーム18とテーブル14との距離の計測値(Z方向計測データ
HA,HB)を格納するデータベースを有する。
する。S14において、テーブル14がY方向の終端位置に達していない場合には、上記
S11に戻り、テーブル14のY方向への移動及び一対のZ方向センサ21A,21Bに
よるテーブル14上面との距離を計測する。
、S15に進み、テーブル14を初期位置に戻す。次のS16では、搬入装置(図示せず
)により基板11をテーブル14の上面に搬入する。続いて、S17に進み、基板11を
テーブル14上に真空吸着する。
の一定速度で移動させる。そして、図8に示すS19では、Y方向リニアスケールにより
計測されたビーム18に対するテーブル14のY方向位置を読み込む。続いて、S20に
進み、メモリに記憶された当該Y方向位置におけるZ方向計測データHA,HBに基づい
てHA=H、HB=HとなるようにZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18の両端高さ
位置を修正し、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18を平行にする。
記S21において、テーブル14がY方向の終端位置に達していない場合には、前述した
S18に戻り、S18〜S21の制御処理を再度実行する。また、S21において、テー
ブル14がY方向の終端位置に達した場合には、S22に進み、テーブル14上の基板1
1を搬出装置(図示せず)により搬出する。その後、S23に進み、停止スイッチ(図示
せず)がオンに操作されたか否かをチェックする。S23において、停止スイッチ(図示
せず)がオフのときは、上記S15に戻り、S15以降の処理を繰り返す。また、S23
において、停止スイッチ(図示せず)がオンに操作されたときは、ステージ装置10を停
止状態にして今回の制御処理を終了する。
4のY軸方向に対する高さ位置を計測し、この計測値を記憶させてあるので、実際の作業
工程のときには、Y方向位置に対応する計測値を読み込むことにより、テーブル14の上
面に対してビーム18の両端高さ位置を修正して平行とすることが可能となる。そのため
、ビーム18を常に規定高さ位置でテーブル14の上面と平行状態に保つことができるの
で、基板11に対する加工や検査を精密に行うことが可能になる。
0を参照して説明する。図9に示されるように、制御装置17は、S31で、テーブル1
4を初期位置に戻す。次のS32では、搬入装置(図示せず)により基板11をテーブル
14の上面に搬入する。続いて、S33に進み、基板11をテーブル14上に真空吸着す
る。
所定の一定速度で移動させる。そして、図10に示すS35では、Y方向リニアスケール
により計測されたビーム18に対するテーブル14のY方向位置を読み込む。続いて、S
36に進み、メモリに記憶された当該Y方向位置におけるZ方向計測データHA,HBを
読み込む。
タHA,HBが共に予め設定された基準高さHと等しいか否かをチェックする。このS3
7において、HA=H、HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対して
ビーム18が平行であり、且つビーム18とテーブル14との距離が規定値であると判断
し、S38〜S46の処理を省略して後述するS47に移行する。
向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHA>Hか否かをチェックす
る。このS38において、HA>Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対し
てビーム18の左端が上がった状態に傾いているため、S39に進み、左側のZ軸駆動機
構20のZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18の左端をZ方向差分(HA−H)だけ
下げる。
14上面との距離(テーブル14に対するビーム18の高さ位置)HA,HBを計測する
。そして、上記S37に戻り、Z方向傾き修正後に一対のZ方向センサ21A,21Bに
より計測されたZ方向計測データがHA=H、HB=Hか否かをチェックする。このS3
7において、HA=H、HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対して
ビーム18が平行に修正されたため、上記S47に移行する。
サ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHA<Hか否かをチェックする。S
41において、HA<Hである場合は、ビーム18の左端が下がった状態に傾いているの
で、S42に進み、左側のZ軸駆動機構20のZ軸駆動モータ66を駆動してビーム18
の左端をZ方向差分(HA−H)だけ上げる。続いて、上記S40に進み、一対のZ方向
センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離(テーブル14
に対するビーム18の高さ位置)HA,HBを計測する。そして、再び、上記S37に戻
り、Z方向傾き修正後に一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計測
データがHA=H、HB=Hか否かをチェックする。このS37において、HA=H、H
B=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行に修正さ
れたため、上記S47に移行する。
サ21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHB>Hか否かをチェックする。こ
のS43において、HB>Hである場合は、ビーム18の右端が上がった状態に傾いてい
るので、S44に進み、右側のZ軸駆動機構20のZ軸駆動モータ66を駆動してビーム
18の右端をZ方向差分(HB−H)だけ下げる。続いて、上記S40に進み、一対のZ
方向センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離(テーブル
14に対するビーム18の高さ位置)HA,HBを計測する。そして、再び、上記S37
に戻り、Z方向傾き修正後に一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向
計測データがHA=H、HB=Hか否かをチェックする。S37において、HA=H、H
B=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行に修正さ
れたため、上記S47に移行する。
21A,21Bにより計測されたZ方向計測データHB<Hか否かをチェックする。この
S45において、HB<Hである場合は、ビーム18の右端が下がった状態に傾いている
ので、S46に進み、右側のZ軸駆動機構20のZ軸駆動モータ66を駆動してビーム1
8の右端をZ方向差分(HB−H)だけ上げる。続いて、上記S40に進み、一対のZ方
向センサ21A,21Bにより各Y方向位置でのテーブル14上面との距離(テーブル1
4に対するビーム18の高さ位置)HA,HBを計測する。そして、再び、上記S37に
戻り、Z方向傾き修正後に一対のZ方向センサ21A,21Bにより計測されたZ方向計
測データがHA=H、HB=Hか否かをチェックする。このS37において、HA=H、
HB=Hである場合は、テーブル14の当該Y方向位置に対してビーム18が平行に修正
されたため、上記S47に移行する。
8の高さ位置を調整する際、ビーム18の荷重が、エアシリンダ50により支えられてい
るので、Z軸駆動モータ66及びボールねじ62の負担が小さくなっており、ビーム18
の高さ調整を容易且つスムーズに行える。
て平行であるとしてS47に進み、テーブル14がY方向の終端位置に達したか否かをチ
ェックする。上記S47において、テーブル14がY方向の終端位置に達していない場合
には、前述したS34に戻り、S34以降の処理を再度実行する。また、S47において
、テーブル14がY方向の終端位置に達した場合には、S48に進み、テーブル14上の
基板11を搬出装置(図示せず)により搬出する。その後、S49に進み、停止スイッチ
(図示せず)がオンに操作されたか否かをチェックする。このS49において、停止スイ
ッチ(図示せず)がオフのときは、上記S31に戻り、S31以降の処理を繰り返す。ま
た、S49において、停止スイッチ(図示せず)がオンに操作されたときは、ステージ装
置10を停止状態にして今回の制御処理を終了する。
動させると共にZ方向センサ21A,21Bによりテーブル14のY軸方向に対する高さ
位置を計測し、この計測値に基づきテーブル14の上面に対してビーム18の両端高さ位
置を修正して平行とすることが可能となる。そのため、ビーム18を常に規定高さ位置で
テーブル14の上面と平行状態に保つことができるので、基板11に対する加工や検査を
精密に行うことが可能になる。
一例として挙げたが、これに限らず、ガントリ部16をY方向に移動させる構成のステー
ジ装置にも本発明を適用できるのは、勿論である。
たが、これに限らず、ボールねじ以外の伝達機構を用いても良いのは勿論である。
設けた構成を一例として挙げたが、これに限らず、3個以上のZ方向センサ21A,21
Bを設け、各センサにより計測された値からテーブル上面の微小な傾きを演算するように
しても良い。
し、基板11がテーブル14に載置された状態ではテーブル上面に対するビーム18の傾
きを修正する処理を行ったが、これに限らず、基板11がテーブル14に載置される度に
テーブル14に対するビーム18の傾きを計測するようにしても良い。
Bにより計測されたZ方向計測データがHA=HBか否かをチェックしたが、これに限ら
ず、例えば、予め設定された高さ位置をしきい値としてZ方向センサ21A,21Bによ
り計測されたZ方向計測データと比較し、ビーム18の両端の高さ位置を個別に調整する
方法を用いても良い。
11 基板
12 ベース
14 テーブル
16 ガントリ部
17 制御装置
18 ビーム
20 Z軸駆動機構
21A,21B Z方向センサ
22 Y軸駆動機構
24 Y方向ガイド24
26 X方向ガイド
28 Y方向リニアモータ
30 支持部材
36 マグネットヨークユニット
38 コイルユニット
46 回動支持部
48 スライド部
50 エアシリンダ
56 圧力制御部
60 Z軸ベース
62 ボールねじ
64 ナット
66 Z軸駆動モータ
68 Z軸テーブル
70 Z軸リニアガイド
82 ロータリベアリング
90 スライダ
92 スライダベース
94 クロスローラガイド
また、計測値に基づいてビーム両端高さを制御することにより、テーブル上面に対するビームの平行度を高精度に維持することが出来る。
Claims (10)
- 上面にワークが載置されるテーブルと、
該テーブルの両側に起立する一対のZ軸駆動機構と、
前記テーブルの上方で前記一対のZ軸駆動機構間に横架されたビームと、
該ビームの両端部を前記一対のZ軸駆動機構に対して回動可能に支持する一対の回動支
持部と、
を有することを特徴とするステージ装置。 - 前記一対の回動支持部のうち何れか一方を前記ビームに対してスライド可能に支持する
スライド部を有することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。 - 前記一対のZ軸駆動機構は、前記ビームの荷重を支えるシリンダと、該シリンダ内の圧
力を一定に保つ圧力調整手段とを有することを特徴とする請求項1または2に記載のステ
ージ装置。 - 前記ビームと前記テーブル上面との距離を検出する一対の検出手段と、
該一対の検出手段による検出値が等しくなるように前記一対のZ軸駆動機構を駆動させ
る制御手段と、
を有することを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載のステージ装置。 - 前記テーブルを水平方向に移動させる水平方向駆動手段を有することを特徴とする請求
項1乃至4の何れかに記載のステージ装置。 - 前記一対のZ軸駆動機構は、モータ駆動力を前記ビームに伝達するボールねじ機構を有
し、前記ボールねじ機構を介して前記ビームを昇降させることを特徴とする請求項1乃至
5に記載のステージ装置。 - テーブルと、
該テーブルの上方に横架されたビームを有するガントリ部と、
を有するガントリ型ステージ装置において、
前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端高さ位置を調整す
るZ軸調整機構を前記ガントリ部に設けたことを特徴とするガントリ型ステージ装置。 - 前記Z軸調整機構は、
前記ビームの両端部を回動可能に支持する一対の回動支持部と、
前記一対の回動支持部のうち何れか一方を前記ビームに対してスライド可能に支持する
スライド部と、
を有することを特徴とする請求項7に記載のガントリ型ステージ装置。 - 前記一対のZ軸駆動機構は、前記ビームの荷重を支えるシリンダと、該シリンダ内の圧
力を一定に保つ圧力調整手段とを有することを特徴とする請求項7または8に記載のガン
トリ型ステージ装置。 - テーブルを水平方向に移動させる工程と、
前記テーブルの上方に対向するように設けられたビームと前記テーブルとの距離を計測し、計測結果を記憶する工程と、
前記計測結果に基づいて前記該一対の検出手段による検出値が等しくなるように前記ビームが前記テーブル上面と平行となるように前記ビームの両端高さ位置を調整する工程と、を有することを特徴とするステージ装置の制御方法。
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