JP2012061832A

JP2012061832A - Method of manufacturing laminated body, stamper, and transfer device

Info

Publication number: JP2012061832A
Application number: JP2010210241A
Authority: JP
Inventors: Kazuya Hayashibe; 和弥林部; Hiroshi Tazawa; 洋志田澤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2010-09-17
Filing date: 2010-09-17
Publication date: 2012-03-29

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a laminated body having a non-permeable base and a transfer region without inconsistency.SOLUTION: The method of manufacturing the laminated body includes: applying an energy-ray curable resin-composition on the base; causing a rotation surface of a rotation stamper to come into close contact with the energy-ray curable resin-composition applied on the base during rotation; and irradiating the energy-ray curable resin-composition with energy rays emitted from one or a plurality of energy ray sources prepared in the rotation stamper via the rotation surface so as to cure the energy-ray curable resin-composition. Thus, a shape layer onto which uneven shapes of the rotation surface are transferred is formed on the base.

Description

本発明は、積層体の製造方法、原盤および転写装置に関する。詳しくは、基体上に形状層を形成する積層体の製造方法に関する。 The present invention relates to a laminate manufacturing method, a master, and a transfer device. Specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a laminate in which a shape layer is formed on a substrate.

従来より、基体上に凹凸形状を付与する方法として、熱可塑性材料を用いる方法（以下熱転写方式と称する。）、および光硬化性材料を用いる方法（以下光転写方式と称する。）が用いられている（例えば特許文献１、２参照）。熱転写方式では、ガラス転移温度以上まで加熱した状態の基体に対して原盤をプレスし、冷却した後に、原盤を基体から剥離することにより、基体上に凹凸形状を有する積層体を得ることができる。光転写方式では、基体を加熱する必要がなく、基体上に塗布された未硬化の光硬化性材料に対して原盤を押し当て、原盤または基体を通して光照射を行い、光硬化性材料を硬化させることにより、基体上に凹凸形状を有する積層体を得ることができる。 Conventionally, a method using a thermoplastic material (hereinafter referred to as a thermal transfer method) and a method using a photocurable material (hereinafter referred to as a light transfer method) have been used as methods for imparting an uneven shape on a substrate. (For example, refer to Patent Documents 1 and 2). In the thermal transfer method, a master having a concavo-convex shape can be obtained on a substrate by pressing the master against a substrate heated to a glass transition temperature or higher, cooling, and then peeling the master from the substrate. In the optical transfer method, there is no need to heat the substrate, the master is pressed against an uncured photocurable material applied on the substrate, and light is irradiated through the master or the substrate to cure the photocurable material. Thereby, the laminated body which has uneven | corrugated shape on a base | substrate can be obtained.

光硬化方式は、熱転写方式よりもスループットを向上できるという利点を有しているため、近年特に注目されている。光転写方式では、一般的に金属原盤またはガラス原盤が用いられる。金属原盤の作製技術としては、平坦または回転周期的な原盤を作製する技術が報告されているが、原盤側から光を照射できないため、光硬化性材料の硬化に寄与する波長の光を透過する基体だけが使用可能であり、光を透過しない基体は使用することができない。 The photo-curing method has attracted particular attention in recent years because it has the advantage that the throughput can be improved over the thermal transfer method. In the optical transfer method, a metal master or a glass master is generally used. As a technique for producing a metal master, a technique for producing a flat or rotationally master is reported. However, since light cannot be irradiated from the master, the light having a wavelength that contributes to the curing of the photocurable material is transmitted. Only a substrate can be used, and a substrate that does not transmit light cannot be used.

ガラス原盤では、原盤側から光を照射できるため、光硬化性材料の硬化に寄与する波長の光を透過しない基体を使用して、凹凸形状を有した積層体を得ることが可能である。従来のガラス原盤の作製技術では、数インチサイズの円盤状または板状の大きさが限られた原盤しか作製することができないため、原盤の成形面の面積以上の大きいサイズの積層体を作製する場合には、ステップ＆リピート方式が採用される。しかし、ステップ＆リピート方式では、各ステップにて転写した転写領域の境界部において不整合性が生じてしまう。かかる境界部の不整合性は、積層体の種類によっては、積層体の特性の低下を招くことがある。 Since the glass master can be irradiated with light from the master side, it is possible to obtain a laminate having an uneven shape by using a substrate that does not transmit light having a wavelength that contributes to the curing of the photocurable material. With the conventional glass master production technology, only a few inches of disk-shaped or plate-shaped masters can be produced, so a laminate with a size larger than the area of the molding surface of the master is produced. In this case, a step & repeat method is adopted. However, in the step & repeat method, inconsistency occurs at the boundary portion of the transfer area transferred at each step. Such inconsistency of the boundary portion may cause deterioration of the characteristics of the laminate depending on the type of the laminate.

特開２００６−２６８７３号公報JP 2006-26873 A

特開２００６−２１６８３６号公報JP 2006-216836 A

したがって、本発明の目的は、非透過性の基体を有し、かつ、不整合性のない転写領域を有する積層体の製造方法、原盤および転写装置を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a laminate, a master, and a transfer device that have a non-transparent substrate and have a transfer region that is not inconsistent.

上述の課題を解決するために、第１の発明は、
基体上にエネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、
基体上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して回転原盤の回転面を回転密着させながら、回転原盤内に設けられた１または複数のエネルギー線源から放射されたエネルギー線を回転面を介して照射し、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、回転面の凹凸形状が転写された形状層を基体上に形成する工程と
を備える積層体の製造方法である。 In order to solve the above-mentioned problem, the first invention
Applying an energy ray curable resin composition on a substrate;
While rotating the rotating surface of the rotating master disk to the energy beam curable resin composition applied on the substrate, the energy beam emitted from one or more energy beam sources provided in the rotating master disk is rotated. And a step of curing the energy beam curable resin composition to form a shape layer on which the concavo-convex shape of the rotating surface is transferred on a substrate.

第２の発明は、
凹凸形状を有する回転面と、
回転面の内側に設けられた１または複数のエネルギー線源と
を有する回転原盤を備え、
回転原盤は、エネルギー線源から放射されたエネルギー線に対して透過性を有し、
基体上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して回転原盤の回転面を回転密着させながら、エネルギー線源から放射されたエネルギー線を回転面を介して照射し、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、回転面の凹凸形状が転写された形状層を基体上に形成する転写装置である。 The second invention is
A rotating surface having an uneven shape;
A rotating master having one or more energy ray sources provided inside the rotating surface;
The rotating master has transparency to the energy rays emitted from the energy source,
The energy beam curable resin is irradiated with energy rays emitted from the energy beam source through the rotating surface while the rotating surface of the rotating master disk is in close contact with the energy beam curable resin composition applied on the substrate. It is a transfer device that forms on the substrate a shape layer to which the uneven shape of the rotating surface is transferred by curing the composition.

第３の発明は、
凹凸形状を有する回転面を備え、
エネルギー線源から放射されたエネルギー線に対して透過性を有し、
エネルギー線源から放射されたエネルギー線を、回転面を介してエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して照射し硬化可能とし得る原盤である。 The third invention is
It has a rotating surface with an uneven shape,
It is transparent to the energy rays emitted from the energy ray source,
This is a master that can be cured by irradiating an energy ray curable resin composition with an energy ray emitted from an energy ray source via a rotating surface.

エネルギー線に対して不透過性とは、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることが困難である程度の不透過性を意味する。 The impermeability to energy rays means that the energy ray curable resin composition is difficult to cure and has a certain degree of impermeability.

構造体の配列は、規則配列、不規則配列、およびそれらの組み合わせであることが好ましい。構造体の配列は、１次元配列または２次元配列であることが好ましい。基体の形状としては、２つの主面を有するフィルム状または板状などの形状、３つ以上の主面を有する多面体形状、球面および自由曲面などの曲面を有する曲面形状、平面および球面を有する多面体形状を用いることが好ましい。これらの基体の有する複数の主面のうちの少なくとも１つに形状層を形成することが好ましい。基体が、少なくとも１つの平面または曲面を有し、平面または曲面に形状層が形成されることが好ましい。 The arrangement of the structures is preferably a regular arrangement, an irregular arrangement, and a combination thereof. The array of structures is preferably a one-dimensional array or a two-dimensional array. As the shape of the substrate, a film or plate shape having two principal surfaces, a polyhedral shape having three or more principal surfaces, a curved surface shape having a curved surface such as a spherical surface and a free-form surface, a polyhedron having a flat surface and a spherical surface It is preferable to use a shape. It is preferable to form a shape layer on at least one of a plurality of main surfaces of these substrates. It is preferable that the substrate has at least one plane or curved surface, and the shape layer is formed on the plane or curved surface.

以上説明したように、この発明によれば、非透過性の基体を有し、かつ、不整合性のない転写領域を有する積層体を作製することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to produce a laminate having an impermeable substrate and a transfer region having no inconsistency.

図１Ａは、本発明の第１の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す平面図である。図１Ｂは、図１Ａに示した積層体の一部を拡大して表す斜視図である。図１Ｃは、図１Ａに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。図１Ｄは、図１Ｃに示した積層体のトラック延在方向の断面図である。FIG. 1A is a plan view showing an example of a configuration of a laminated body according to the first embodiment of the present invention. FIG. 1B is an enlarged perspective view showing a part of the laminate shown in FIG. 1A. FIG. 1C is an enlarged plan view showing a part of the laminate shown in FIG. 1A. 1D is a cross-sectional view of the stacked body shown in FIG. 1C in the track extending direction. 図２Ａ〜図２Ｅは、本発明の第１の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第１〜第５の例を示す断面図である。2A to 2E are cross-sectional views showing first to fifth examples of the base body provided in the laminate according to the first embodiment of the present invention. 図３は、本発明の第１の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention. 図４は、ロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。図４Ｂは、図４Ａに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。FIG. 4 is a perspective view showing an example of the configuration of the roll master. FIG. 4B is an enlarged plan view showing a part of the roll master shown in FIG. 4A. 図５は、ロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the roll master exposure apparatus. 図６Ａ〜図６Ｄは、本発明の第１の実施形態に係る積層体の製造方法の一例を説明するための工程図である。6A to 6D are process diagrams for explaining an example of a method for manufacturing a laminate according to the first embodiment of the present invention. 図７Ａ〜図７Ｅは、本発明の第１の実施形態に係る積層体の製造方法の一例を説明するための工程図である。FIG. 7A to FIG. 7E are process diagrams for explaining an example of the manufacturing method of the laminated body according to the first embodiment of the present invention. 図８は、本発明の第２の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。FIG. 8 is a schematic view showing an example of the configuration of a transfer apparatus according to the second embodiment of the present invention. 図９は、本発明の第３の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。FIG. 9 is a schematic view showing an example of the configuration of a transfer apparatus according to the third embodiment of the present invention. 図１０は、本発明の第４の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing an example of the configuration of the laminate according to the fourth embodiment of the present invention. 図１１Ａは、本発明の第５の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す断面図である。図１１Ｂは、図１１Ａに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。図１１Ｃは、図１１Ｂに示した積層体の断面図である。FIG. 11A is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of a multilayer body according to the fifth embodiment of the present invention. FIG. 11B is an enlarged plan view illustrating a part of the stacked body illustrated in FIG. 11A. FIG. 11C is a cross-sectional view of the stacked body illustrated in FIG. 11B. 図１２は、本発明の第６の実施形態に係る積層体の構成の一例示す斜視図である。FIG. 12 is a perspective view showing an example of the configuration of the multilayer body according to the sixth embodiment of the present invention. 図１３Ａ〜図１３Ｅは、本発明の第７の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第１〜第５の例を示す断面図である。13A to 13E are cross-sectional views illustrating first to fifth examples of a base body provided in a multilayer body according to a seventh embodiment of the present invention. 図１４Ａ、図１４Ｂは、本発明の第８の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第１、第２の例を示す断面図である。14A and 14B are cross-sectional views showing first and second examples of the base body provided in the multilayer body according to the eighth embodiment of the present invention.

本発明の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。
１．第１の実施形態（基体の一主面に複数の構造体が２次元配列された積層体の例）
２．第２の実施形態（積層体をステージにより搬送する転写装置の例）
３．第３の実施形態（円環状のベルト原盤を備えた転写装置の例）
５．第４の実施形態（基体の一主面に複数の構造体がランダム配列させた積層体の例）
６．第５の実施形態（基体の一主面に複数の構造体が１次元配列させた積層体の例）
７．第７の実施形態（基体の両主面に複数の構造体が２次元配列させた例）
８．第８の実施形態（非透過性を有する複数の構造体が２次元配列された積層体の例） Embodiments of the present invention will be described in the following order with reference to the drawings.
1. First embodiment (an example of a laminate in which a plurality of structures are two-dimensionally arranged on one main surface of a substrate)
2. Second Embodiment (Example of Transfer Device that Transports Laminated Body by Stage)
3. Third Embodiment (Example of a transfer device provided with an annular belt master)
5. Fourth embodiment (an example of a laminate in which a plurality of structures are randomly arranged on one main surface of a substrate)
6). Fifth embodiment (an example of a laminate in which a plurality of structures are arranged one-dimensionally on one main surface of a base)
7). Seventh Embodiment (Example in which a plurality of structures are two-dimensionally arranged on both main surfaces of a base)
8). Eighth embodiment (an example of a laminate in which a plurality of non-permeable structures are two-dimensionally arranged)

＜１．第１の実施形態＞
［積層体の構成］
図１Ａは、本発明の第１の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す断面図である。図１Ｂは、図１Ａに示した積層体の一部を拡大して表す斜視図である。図１Ｃは、図１Ａに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。図１Ｄは、図１Ｃに示した積層体のトラック延在方向の断面図である。積層体は、第１の主面および第２の主面を有する基体１と、これらの主面の一方に形成された、凹凸形状を有する形状層２とを備える。以下では、形状層２が形成される第１の面を表面と称し、それとは反対側の第２の面を裏面と称する。 <1. First Embodiment>
[Configuration of laminate]
FIG. 1A is a cross-sectional view showing an example of the configuration of the laminate according to the first embodiment of the present invention. FIG. 1B is an enlarged perspective view showing a part of the laminate shown in FIG. 1A. FIG. 1C is an enlarged plan view showing a part of the laminate shown in FIG. 1A. 1D is a cross-sectional view of the stacked body shown in FIG. 1C in the track extending direction. The laminate includes a substrate 1 having a first main surface and a second main surface, and a shape layer 2 having an uneven shape formed on one of these main surfaces. Below, the 1st surface in which the shape layer 2 is formed is called a surface, and the 2nd surface on the opposite side is called a back surface.

積層体は、シボ表面加工体、デザイン体、機械素子および医療素子などの成型素子、反射防止素子、偏光素子、周期光学素子、回折素子、結像素子および導波素子などの光学素子に対して適用して好適なものである。具体的には、積層体は、ＮＤフィルタ、シャープカットフィルタおよび干渉フィルタなどの各種光量調整フィルタ、偏光板、携帯電話および自動車のインストルメントパネルの前面板、携帯電話などのシボ加工、樹脂成形品、ガラス成形品に適用して好適なものである。 Laminates are for surface elements, design bodies, molding elements such as mechanical elements and medical elements, antireflection elements, polarizing elements, periodic optical elements, diffractive elements, imaging elements and waveguide elements, and other optical elements. It is suitable for application. Specifically, the laminated body includes various light amount adjustment filters such as ND filters, sharp cut filters, and interference filters, polarizing plates, front panels of mobile phones and automobile instrument panels, textured processing of mobile phones, and resin molded products. It is suitable for application to glass molded products.

積層体は、例えば、帯状の形状を有し、ロール状に巻回されて、いわゆる原反とされる。積層体は、可撓性を有していることが好ましい。これにより、帯状の積層体をロール状に巻回して原反とすることができ、搬送性や取り扱い性などが向上するからである。 The laminated body has, for example, a belt-like shape and is wound into a roll shape to form a so-called original fabric. The laminate is preferably flexible. This is because the belt-like laminate can be wound into a roll to form an original fabric, and the transportability and handling properties are improved.

図１Ａに示すように、積層体は、例えば、少なくとも１周期以上の転写領域を有している。ここで、１周期の転写領域Ｔ_Eは、後述するロール原盤を１回転することにより転写される領域である。すなわち、１周期の転写領域Ｔ_Eの長さは、ロール原盤の周面の長さに相当する。隣接する２つの転写領域Ｔ_Eの境界部において、形状層２の凹凸形状に不整合性が存在しなく、２つの転写領域Ｔ_Eがシームレスに接続されていることが好ましい。ここで、不整合性とは、構造体２１による凹凸形状等の物理的な構成が不連続であることを意味する。 As shown to FIG. 1A, the laminated body has a transfer area | region of at least 1 period or more, for example. Here, the one-period transfer area _TE is an area to be transferred by rotating the roll original disk described later once. That is, the length of the transfer area T _E of one cycle is equivalent to the length of the peripheral surface of the roll master. It is preferable that there is no inconsistency in the uneven shape of the shape layer 2 at the boundary between two adjacent transfer regions T _E , and the two transfer regions T _E are seamlessly connected. Here, inconsistency means that the physical configuration such as the uneven shape by the structure 21 is discontinuous.

（基体）
基体１の材料は特に限定はされものではなく用途によって適宜選択可能であり、例えば石英、メチルメタクリレート（共）重合体、ポリカーボネート、スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマーなどのプラスチック、ガラス、金属、セラミックス、磁性体、半導体を用いることができる。基体２の形状としては、例えば、シート状、プレート状、ブロック状を挙げることができるが、特にこれらの形状に限定されるものではない。ここで、シートにはフィルムが含まれるものと定義する。 (Substrate)
The material of the substrate 1 is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the application. For example, quartz, methyl methacrylate (co) polymer, polycarbonate, styrene (co) polymer, methyl methacrylate-styrene copolymer, cellulose diester. Acetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polyamide, polyimide, polyether sulfone, polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, polyether ketone, polyurethane, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, etc. Plastics, glasses, metals, ceramics, magnetic materials, and semiconductors can be used. Examples of the shape of the substrate 2 include a sheet shape, a plate shape, and a block shape, but are not particularly limited to these shapes. Here, the sheet is defined as including a film.

基体１は、形状層２を形成するためのエネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化するためのエネルギー線に対して不透過性を有している。本明細書中にて、エネルギー線とは、形状層２を形成するためのエネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化するためエネルギー線を示すものとする。基体１の表面に対して、例えば、印刷、塗布、真空成膜などにより装飾層または機能層を形成するようにしてもよい。 The substrate 1 is impermeable to energy rays for curing the energy ray curable resin composition for forming the shape layer 2. In the present specification, the energy beam indicates an energy beam for curing the energy beam curable resin composition for forming the shape layer 2. For example, a decoration layer or a functional layer may be formed on the surface of the substrate 1 by printing, coating, vacuum film formation, or the like.

基体２は、単層構造または積層構造を有している。ここで、積層構造は、２以上の層を積層してなる積層構造であり、積層構造中の少なくとも１層は、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層である。積層体を形成する方法としては、例えば、融着や表面処理などにより層間を直接的に貼合する方法、接着層や粘着層などの貼合層を介して層間を貼合する方法が挙げられるが、特に限定されるものではない。貼合層が、エネルギー線を吸収する顔料などの材料を含むようにしてもよい。また、基体２を積層構造とする場合、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層と、エネルギー線に対して透過性を有する透過層とを組み合わせるようにしてもよい。また、基体が２以上の不透過層を備える場合には、それらが互いに異なる吸収特性を有していてもよい。 The substrate 2 has a single layer structure or a laminated structure. Here, the laminated structure is a laminated structure in which two or more layers are laminated, and at least one layer in the laminated structure is an impermeable layer that is impermeable to energy rays. Examples of the method for forming the laminate include a method of directly bonding the layers by fusion or surface treatment, and a method of bonding the layers through a bonding layer such as an adhesive layer or an adhesive layer. However, it is not particularly limited. The bonding layer may include a material such as a pigment that absorbs energy rays. Moreover, when the base | substrate 2 is made into a laminated structure, you may make it combine the non-permeable layer which has an impermeability with respect to an energy ray, and the permeable layer which has the permeability | transmittance with respect to an energy ray. Moreover, when a base | substrate is provided with two or more impermeable layers, they may have mutually different absorption characteristics.

透過層の材料としては、例えば、アクリル樹脂コーティング材等の透明な有機膜や、透明な金属膜、無機膜、金属化合物膜またはそれらの積層体を用いることができるが、特に限定されるものではない。不透過層の材料としては、例えば、顔料を含んだアクリル樹脂コーティング材等の有機膜や、金属膜、金属化合物膜またはそれらの積層体を用いることができるが、特に限定されるものではない。 As a material of the transmission layer, for example, a transparent organic film such as an acrylic resin coating material, a transparent metal film, an inorganic film, a metal compound film, or a laminate thereof can be used, but is not particularly limited. Absent. As the material of the impermeable layer, for example, an organic film such as an acrylic resin coating material containing a pigment, a metal film, a metal compound film, or a laminate thereof can be used, but it is not particularly limited.

図２Ａ〜図２Ｅは、基体の第１〜第５の例を示す断面図である。 2A to 2E are cross-sectional views showing first to fifth examples of the substrate.

（第１の例）
図２Ａに示すように、基体１は、単層の構造を有し、基体全体がエネルギー線に対して不透過性を有する不透過層である。 (First example)
As shown in FIG. 2A, the substrate 1 has a single-layer structure, and the entire substrate is an impermeable layer that is impermeable to energy rays.

（第２の例）
図２Ｂに示すように、基体１は、２層構造を有し、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層１１ａと、エネルギー線に対して透過性を有する透過層１１ｂとを備える。不透過層１１ａが裏面側に配置され、透過層１１ｂが表面側に配置される。 (Second example)
As shown in FIG. 2B, the substrate 1 has a two-layer structure, and includes a non-transparent layer 11a that is impermeable to energy rays, and a transmissive layer 11b that is permeable to energy rays. The impermeable layer 11a is disposed on the back surface side, and the transmissive layer 11b is disposed on the front surface side.

（第３の例）
図２Ｃに示すように、基体１は、２層構造を有し、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層１１ａと、エネルギー線に対して透過性を有する透過層１１ｂとを備える。不透過層１１ａが表面側に配置され、透過層１１ｂが裏面側に配置される。 (Third example)
As shown in FIG. 2C, the substrate 1 has a two-layer structure, and includes a non-transparent layer 11a that is impermeable to energy rays, and a transmissive layer 11b that is permeable to energy rays. The impermeable layer 11a is disposed on the front surface side, and the transmissive layer 11b is disposed on the back surface side.

（第４の例）
図２Ｄに示すように、基体１は、３層構造を有し、エネルギー線に対して透過性を有する透過層１１ｂと、この透過層１１ｂの両主面に形成された、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層１１ａ、１１ａとを備える。一方の不透過層１１ａが裏面側に配置され、他方の不透過層１１ａが表面側に配置される。 (Fourth example)
As shown in FIG. 2D, the substrate 1 has a three-layer structure and is permeable to energy rays. The transmissive layer 11b is formed on both main surfaces of the transmissive layer 11b. And impermeable layers 11a and 11a having impermeable properties. One impermeable layer 11a is disposed on the back surface side, and the other impermeable layer 11a is disposed on the front surface side.

（第５の例）
図２Ｅに示すように、基体１は、３層構造を有し、エネルギー線に対して不透過性を有する不透過層１１ａと、この不透過層１１ａの両主面に形成された、エネルギー線に対して透過性を有する透過層１１ｂ、１１ｂとを備える。一方の透過層１１ｂが裏面側に配置され、他方の透過層１１ｂが表面側に配置される。 (Fifth example)
As shown in FIG. 2E, the substrate 1 has a three-layer structure and has an impermeable layer 11a that is impermeable to energy rays, and energy rays formed on both main surfaces of the impermeable layer 11a. Transparent layers 11b and 11b having transparency. One transmissive layer 11b is disposed on the back side, and the other transmissive layer 11b is disposed on the front side.

（形状層）
形状層２は、例えば、複数の構造体２１が２次元配列されてなる層であり、必要に応じて複数の構造体２１と基体１との間に基底層２２を備えるようにしてもよい。基底層２２は、構造体３の底面側に構造体３と一体成形された層であり、構造体３と同様のエネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化してなる。基底層２２の厚さは、特に限定されるものではなく、必要に応じて適宜選択することができる。複数の構造体２１が、例えば、基体２の表面において複数列のトラックＴをなすように配列されている。複数例のトラックをなすように配列された複数の構造体２１が、例えば、四方格子状または六方格子状などの規則的な所定の配置パターンをなすようにしてもよい。構造体２１の高さが基体１の表面において規則的または不規則的に変化するようにしてもよい。 (Shape layer)
The shape layer 2 is, for example, a layer in which a plurality of structures 21 are two-dimensionally arranged, and a base layer 22 may be provided between the plurality of structures 21 and the base 1 as necessary. The base layer 22 is a layer integrally formed with the structure 3 on the bottom surface side of the structure 3, and is formed by curing the same energy ray curable resin composition as the structure 3. The thickness of the base layer 22 is not particularly limited, and can be appropriately selected as necessary. The plurality of structures 21 are arranged so as to form a plurality of rows of tracks T on the surface of the base 2, for example. The plurality of structures 21 arranged to form a plurality of examples of tracks may form a regular predetermined arrangement pattern such as a tetragonal lattice shape or a hexagonal lattice shape. The height of the structure 21 may be changed regularly or irregularly on the surface of the substrate 1.

構造体２１は、基体１の表面に対して凸状または凹状の形状を有し、基体１の表面に凸状および凹状の構造体２１が両方存在していてもよい。構造体２１の具体的な形状としては、例えば、錐体状、柱状、針状、半球状、半楕円球状、多角形状などが挙げられるが、これらの形状に限定されるものではなく、他の形状を採用するようにしてもよい。錐体状としては、例えば、頂部が尖った錐体形状、頂部が平坦な錐体形状、頂部に凸状または凹状の曲面を有する錐体形状が挙げられるが、これらの形状に限定されるものではない。また、錐体状の錐面を凹状または凸状に湾曲させるようにしてもよい。後述するロール原盤露光装置（図５参照）を用いてロール原盤を作製する場合には、構造体２１の形状として、頂部に凸状の曲面を有する楕円錐形状、または頂部が平坦な楕円錐台形状を採用し、それらの底面を形成する楕円形の長軸方向をトラックの延在方向と一致させることが好ましい。 The structure 21 may have a convex or concave shape with respect to the surface of the substrate 1, and both the convex and concave structures 21 may exist on the surface of the substrate 1. Specific examples of the shape of the structure 21 include a cone shape, a columnar shape, a needle shape, a hemispherical shape, a semi-elliptical spherical shape, and a polygonal shape. However, the shape is not limited to these shapes. You may make it employ | adopt a shape. Examples of the cone shape include a cone shape with a sharp top, a cone shape with a flat top, and a cone shape with a convex or concave curved surface at the top, but are not limited to these shapes. is not. Further, the cone-shaped cone surface may be curved concavely or convexly. In the case of producing a roll master using a roll master exposure apparatus (see FIG. 5) described later, the structure 21 has an elliptical cone shape having a convex curved surface at the top, or an elliptical frustum with a flat top. It is preferable to adopt a shape and make the major axis direction of the ellipse forming the bottom face coincide with the extending direction of the track.

構造体３のピッチは、積層体の種類によって適宜選択される。例えば、積層体が、光の反射防止を目的とするサブ波長構造体などの光学素子である場合には、構造体３は、反射の低減を目的とする光の波長帯域以下の短い配置ピッチ、例えば可視光の波長と同程度の配置ピッチで周期的に２次元配置される。反射の低減を目的とする光の波長帯域は、例えば、紫外光の波長帯域、可視光の波長帯域または赤外光の波長帯域である。ここで、紫外光の波長帯域とは１０ｎｍ〜４００ｎｍの波長帯域、可視光の波長帯域とは４００ｎｍ〜８３０ｎｍの波長帯域、赤外光の波長帯域とは８３０ｎｍ〜１ｍｍの波長帯域をいう。 The pitch of the structures 3 is appropriately selected depending on the type of the laminated body. For example, when the laminated body is an optical element such as a sub-wavelength structure for the purpose of preventing reflection of light, the structure 3 has a short arrangement pitch equal to or less than the wavelength band of light for the purpose of reducing reflection, For example, the two-dimensional arrangement is periodically performed at an arrangement pitch that is approximately the same as the wavelength of visible light. The wavelength band of light for the purpose of reducing reflection is, for example, the wavelength band of ultraviolet light, the wavelength band of visible light, or the wavelength band of infrared light. Here, the wavelength band of ultraviolet light means a wavelength band of 10 nm to 400 nm, the wavelength band of visible light means a wavelength band of 400 nm to 830 nm, and the wavelength band of infrared light means a wavelength band of 830 nm to 1 mm.

形状層２は、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化することにより形成される。エネルギー線硬化性樹脂組成物とは、エネルギー線を照射することによって硬化させることができる樹脂組成物を意味する。エネルギー線とは、電子線、紫外線、赤外線、レーザー光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線など）、マイクロ波、高周波などのラジカル、カチオン、アニオンなどの重合反応の引き金と成りうるエネルギー線を示す。エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、他の樹脂と混合して用いるようにしてもよく、例えば熱硬化性樹脂などの他の硬化性樹脂と混合して用いてもよい。また、エネルギー線硬化性樹脂組成物は、有機無機ハイブリッド材料であってもよい。また、２種以上のエネルギー線硬化性樹脂組成物を混合して用いるようにしてもよい。エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、紫外線により硬化する紫外線硬化樹脂を用いることが好ましい。 The shape layer 2 is formed by curing the energy beam curable resin composition. The energy ray curable resin composition means a resin composition that can be cured by irradiation with energy rays. Energy rays are polymerization reactions of radicals such as electron beams, ultraviolet rays, infrared rays, laser beams, visible rays, ionizing radiation (X rays, α rays, β rays, γ rays, etc.), microwaves, high frequencies, cations, anions, etc. Shows energy lines that can trigger. The energy ray curable resin composition may be used by mixing with other resins as necessary, for example, by mixing with other curable resins such as thermosetting resins. The energy ray curable resin composition may be an organic-inorganic hybrid material. Moreover, you may make it mix and use 2 or more types of energy beam curable resin compositions. As the energy ray curable resin composition, it is preferable to use an ultraviolet curable resin that is cured by ultraviolet rays.

紫外線硬化樹脂は、例えば、単官能モノマー、二官能モノマー、多官能モノマー、開始剤などからなり、具体的には、以下に示す材料を単独または、複数混合したものである。
単官能モノマーとしては、例えば、カルボン酸類（アクリル酸）、ヒドロキシ類（２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート）、アルキル、脂環類（イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート）、その他機能性モノマー（２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレンクリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ-ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ-ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、２−（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−パーフルオロオクチルー２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロー３−メチルブチル）エチルアクリレート）、２，４，６−トリブロモフェノールアクリレート、２，４，６−トリブロモフェノールメタクリレート、２−（２，４，６−トリブロモフェノキシ）エチルアクリレート）、２−エチルヘキシルアクリレートなどを挙げることができる。 The ultraviolet curable resin includes, for example, a monofunctional monomer, a bifunctional monomer, a polyfunctional monomer, an initiator, and the like. Specifically, the ultraviolet curable resin is a single material or a mixture of the following materials.
Monofunctional monomers include, for example, carboxylic acids (acrylic acid), hydroxys (2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate), alkyl, alicyclics (isobutyl acrylate, t-butyl acrylate) , Isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate), other functional monomers (2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene crycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, Ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N- Methylaminopropylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, acryloylmorpholine, N-isopropylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, N-vinylpyrrolidone, 2- (perfluorooctyl) ethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2- Hydroxypropyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl acrylate, 2- (perfluoro-3-methylbutyl) ethyl acrylate), 2,4,6-tribromophenol acrylate, 2 , 4,6-tribromophenol methacrylate, 2- (2,4,6-tribromophenoxy) ethyl acrylate), 2-ethylhexyl acrylate, etc. That.

二官能モノマーとしては、例えば、トリ（プロピレングリコール）ジアクリレート、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ウレタンアクリレートなどを挙げることができる。 Examples of the bifunctional monomer include tri (propylene glycol) diacrylate, trimethylolpropane diallyl ether, urethane acrylate, and the like.

多官能モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートなどを挙げることができる。 Examples of the polyfunctional monomer include trimethylolpropane triacrylate, dipentaerythritol penta and hexaacrylate, and ditrimethylolpropane tetraacrylate.

開始剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンなどを挙げることができる。 Examples of the initiator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and the like. Can be mentioned.

また、エネルギー線硬化性樹脂組成物が、必要に応じてフィラー、機能性添加剤、溶剤、無機材料、顔料、帯電防止剤、増感色素などを含んでいてもよい。フィラーとしては、例えば、無機微粒子および有機微粒子のいずれも用いることができる。無機微粒子としては、例えば、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃などの金属酸化物微粒子を挙げることができる。機能性添加剤としては、例えば、レベリング剤、表面調整剤、吸収剤、消泡剤などを挙げることができる。 Moreover, the energy beam curable resin composition may contain a filler, a functional additive, a solvent, an inorganic material, a pigment, an antistatic agent, a sensitizing dye, and the like as necessary. As the filler, for example, both inorganic fine particles and organic fine particles can be used. Examples of the inorganic fine particles include metal oxide fine particles such as SiO ₂ , TiO ₂ , ZrO ₂ , SnO ₂ , and Al ₂ O ₃ . Examples of the functional additive include a leveling agent, a surface conditioner, an absorbent, and an antifoaming agent.

［転写装置の構成］
図３は、本発明の第１の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。この転写装置は、ロール原盤１０１と、基体供給ロール１１１と、巻き取りロール１１２と、ガイドロール１１３、１１４と、ニップロール１１５、剥離ロール１１６と、塗布装置１１７と、光源１１０とを備える。 [Configuration of transfer device]
FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention. The transfer device includes a roll master 101, a substrate supply roll 111, a take-up roll 112, guide rolls 113 and 114, a nip roll 115, a peeling roll 116, a coating device 117, and a light source 110.

基体供給ロール１１１には、シート状などの基体１がロール状に巻かれ、ガイドロール１１３を介して基体１を連続的に送出できるように配置されている。巻き取りロール１１２は、この転写装置により凹凸形状が転写された形状層２を有する積層体を巻き取りできるように配置されている。ガイドロール１１３、１１４は、帯状の基体１および帯状の積層体を搬送できるように、この転写置内の搬送路に配置されている。ニップロール１１５は、基体供給ロール１１１から送出され、エネルギー線硬化性樹脂組成物が塗布された基体１を、ロール原盤１０１とニップできるように配置されている。ロール原盤１１０は、形状層２を形成するための転写面を有し、その内部には１個または複数個のエネルギー線源１１０を備える。ロール原盤１１０の詳細について後述する。剥離ロール１１６は、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８を硬化することにより得られた形状層２を、ロール原盤１１０の転写面から剥離可能に配置されている。 On the substrate supply roll 111, the substrate 1 such as a sheet is wound in a roll shape, and is arranged so that the substrate 1 can be continuously fed through the guide roll 113. The take-up roll 112 is arranged so that the laminated body having the shape layer 2 having the concavo-convex shape transferred thereto by this transfer device can be taken up. The guide rolls 113 and 114 are arranged on a conveyance path in the transfer unit so that the belt-like substrate 1 and the belt-like laminate can be conveyed. The nip roll 115 is arranged so that the substrate 1 fed from the substrate supply roll 111 and coated with the energy ray curable resin composition can be nipped with the roll master 101. The roll master disk 110 has a transfer surface for forming the shape layer 2, and includes one or a plurality of energy beam sources 110 therein. Details of the roll master 110 will be described later. The peeling roll 116 is disposed so that the shape layer 2 obtained by curing the energy beam curable resin composition 118 can be peeled from the transfer surface of the roll master 110.

基体供給ロール１１１、巻き取りロール１１２、ガイドロール１１３、１１４、ニップロール１１５、および剥離ロール１１６の材質は特に限定されるものではなく、所望とするロール特性に応じてステンレスなどの金属、ゴム、シリコーンなどを適宜選択して用いることができる。塗布装置１１７としては、例えば、コーターなどの塗布手段を備える装置を用いることができる。コーターとしては、例えば、塗布するエネルギー線硬化性樹脂組成物の物性などを考慮して、グラビア、ワイヤバー、およびダイなどのコーターを適宜使用することができる。 The material of the substrate supply roll 111, the take-up roll 112, the guide rolls 113 and 114, the nip roll 115, and the peeling roll 116 is not particularly limited, and a metal such as stainless steel, rubber, or silicone depending on the desired roll characteristics Etc. can be appropriately selected and used. As the coating device 117, for example, a device including coating means such as a coater can be used. As the coater, for example, a coater such as a gravure, a wire bar, and a die can be appropriately used in consideration of physical properties of the energy ray curable resin composition to be applied.

［ロール原盤の構成］
図４Ａは、ロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。図４Ｂは、図４Ａに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。ロール原盤１０１は、例えば、円筒状の形状を有する原盤であり、その表面に形成された転写面Ｓｐと、それとは反対の内側に形成された内周面である裏面Ｓｉとを有する。ロール原盤１０１の内部には、例えば、裏面Ｓｉにより形成される円柱状の空洞部が形成されており、この空洞部に１個または複数個のエネルギー線源１１０が備えられる。転写面Ｓｐには、例えば、凹状または凸状の複数の構造体１０２が形成され、これらの構造体１０２の形状を基体１上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して転写することにより、積層体の形状層２が形成される。すなわち、転写面Ｓｐには、積層体の形状層２の有する凹凸形状を反転したパターンが形成されている。 [Composition of roll master]
FIG. 4A is a perspective view illustrating an example of a configuration of a roll master. FIG. 4B is an enlarged plan view showing a part of the roll master shown in FIG. 4A. The roll master 101 is, for example, a master having a cylindrical shape, and has a transfer surface Sp formed on the surface thereof and a back surface Si that is an inner peripheral surface formed on the inner side opposite to the transfer surface Sp. Inside the roll master 101, for example, a cylindrical cavity formed by the back surface Si is formed, and one or a plurality of energy beam sources 110 are provided in the cavity. For example, a plurality of concave or convex structures 102 are formed on the transfer surface Sp, and the shape of these structures 102 is transferred to the energy ray curable resin composition applied on the substrate 1. As a result, the shape layer 2 of the laminate is formed. That is, on the transfer surface Sp, a pattern is formed by inverting the concavo-convex shape of the shape layer 2 of the laminate.

ロール原盤１０１は、エネルギー線源１１０から放射されたエネルギー線に対して透過性を有し、エネルギー線源１１０から放射されて裏面Ｓｉに入射したエネルギー線を転写面Ｓｐから放出可能に構成されている。この転写面Ｓｐから放出されたエネルギー線により、基体１上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が硬化される。ロール原盤１０１の材料は、エネルギー線に対して透過性を有するものであればよく特に限定されるものではない。紫外線に対して透過性を有する材料としては、ガラス、石英、透明樹脂、有機無機ハイブリッド材料などを用いることが好ましい。透明樹脂としては、例えば、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）などが挙げられる。有機無機ハイブリッド材料としては、例えば、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）などが挙げられる。ロール原盤１０１の転写面Ｓｐおよび裏面Ｓｉの少なくとも一方に、透明性を有する金属膜、金属化合物膜または有機膜を形成するようにしてもよい。 The roll master 101 is transparent to the energy rays emitted from the energy ray source 110, and is configured to be able to emit the energy rays emitted from the energy ray source 110 and incident on the back surface Si from the transfer surface Sp. Yes. The energy ray curable resin composition 118 applied on the substrate 1 is cured by the energy rays emitted from the transfer surface Sp. The material of the roll master 101 is not particularly limited as long as it is permeable to energy rays. As a material having transparency to ultraviolet rays, glass, quartz, transparent resin, organic-inorganic hybrid material, or the like is preferably used. Examples of the transparent resin include polymethyl methacrylate (PMMA) and polycarbonate (PC). Examples of the organic / inorganic hybrid material include polydimethylsiloxane (PDMS). A transparent metal film, metal compound film, or organic film may be formed on at least one of the transfer surface Sp and the back surface Si of the roll master 101.

１個または複数個のエネルギー線源１１０は、基体１上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に向けてエネルギー線を照射可能にロール原盤１０１の空洞部内に支持されている。ロール原盤１０１が複数個のエネルギー線源１１０を備える場合には、これらのエネルギー線源１１０は、１列または２列以上の列をなすように配置されることが好ましい。エネルギー線源としては、電子線、紫外線、赤外線、レーザー光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線など）、マイクロ波、または高周波などエネルギー線を放出可能なものであればよく、特に限定されるものではない。エネルギー線源の形態としては、例えば、点状光源、線状光源を用いることができるが、特に限定されるものではなく、点状光源と線状光源とを組み合わせて用いるようにしてもよい。エネルギー線源として点状光源を用いる場合には、複数の点状光源を直線状に配列するなどして線状光源を構成することが好ましい。線状光源は、ロール原盤１０１の回転軸と平行に配置することが好ましい。紫外線を放出するエネルギー線源としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ショートアーク放電ランプ、紫外線発光ダイオード、半導体レーザー、蛍光灯、有機エレクトロルミネッセンス、無機エレクトロルミネッセンス、発光ダイオード、光ファイバなどが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。また、ロール原盤１０１の内部にスリットをさらに設け、このスリットを介してエネルギー線源１１０から放射されたエネルギー線がエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に対して照射されるようにしてもよい。このとき、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８はエネルギー線を吸収することにより発生する熱によって硬化させても良い。 One or a plurality of energy beam sources 110 are supported in the hollow portion of the roll master 101 so as to be able to irradiate energy beams toward the energy beam curable resin composition 118 applied on the substrate 1. When the roll master 101 includes a plurality of energy ray sources 110, these energy ray sources 110 are preferably arranged to form one row or two or more rows. The energy ray source can emit energy rays such as electron beam, ultraviolet ray, infrared ray, laser beam, visible ray, ionizing radiation (X ray, α ray, β ray, γ ray, etc.), microwave or high frequency. There is no particular limitation. As the form of the energy ray source, for example, a point light source or a linear light source can be used, but it is not particularly limited, and a point light source and a linear light source may be used in combination. When a point light source is used as the energy ray source, it is preferable to configure the line light source by arranging a plurality of point light sources in a straight line. The linear light source is preferably arranged in parallel with the rotation axis of the roll master 101. Examples of energy ray sources that emit ultraviolet rays include low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, short arc discharge lamps, ultraviolet light-emitting diodes, semiconductor lasers, fluorescent lamps, organic electroluminescence, inorganic electroluminescence, light-emitting diodes, and optical fibers. Although it is mentioned, it is not particularly limited to these. Further, a slit may be further provided in the roll master 101, and the energy ray curable resin composition 118 may be irradiated with energy rays emitted from the energy ray source 110 through the slit. At this time, the energy ray curable resin composition 118 may be cured by heat generated by absorbing the energy rays.

［ロール原盤露光装置の構成］
図５は、ロール原盤を作製するためのロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。このロール原盤露光装置は、光学ディスク記録装置をベースとして構成されている。 [Configuration of roll master exposure apparatus]
FIG. 5 is a schematic view showing an example of the configuration of a roll master exposure apparatus for producing a roll master. This roll master exposure apparatus is configured based on an optical disk recording apparatus.

レーザー光源２１は、記録媒体としてのロール原盤１０１の表面に着膜されたレジストを露光するための光源であり、例えば波長λ＝２６６ｎｍの記録用のレーザー光１０４を発振するものである。レーザー光源２１から出射されたレーザー光１０４は、平行ビームのまま直進し、電気光学素子（ＥＯＭ：Electro Optical Modulator）２２へ入射する。電気光学素子２２を透過したレーザー光１０４は、ミラー２３で反射され、変調光学系２５に導かれる。 The laser light source 21 is a light source for exposing the resist deposited on the surface of the roll master 101 as a recording medium, and oscillates a recording laser beam 104 having a wavelength λ = 266 nm, for example. The laser light 104 emitted from the laser light source 21 travels straight as a parallel beam and enters an electro-optic element (EOM: Electro Optical Modulator) 22. The laser beam 104 transmitted through the electro-optic element 22 is reflected by the mirror 23 and guided to the modulation optical system 25.

ミラー２３は、偏光ビームスプリッタで構成されており、一方の偏光成分を反射し他方の偏光成分を透過する機能をもつ。ミラー２３を透過した偏光成分はフォトダイオード２４で受光され、その受光信号に基づいて電気光学素子２２を制御してレーザー光１０４の位相変調を行う。 The mirror 23 is composed of a polarization beam splitter and has a function of reflecting one polarization component and transmitting the other polarization component. The polarization component transmitted through the mirror 23 is received by the photodiode 24, and the electro-optic element 22 is controlled based on the received light signal to perform phase modulation of the laser light 104.

変調光学系２５において、レーザー光１０４は、集光レンズ２６により、ガラス（ＳｉＯ₂）などからなる音響光学素子（ＡＯＭ：Acoust-Optic Modulator）２７に集光される。レーザー光１０４は、音響光学素子２７により強度変調され発散した後、レンズ２８によって平行ビーム化される。変調光学系２５から出射されたレーザー光１０４は、ミラー３１によって反射され、移動光学テーブル３２上に水平かつ平行に導かれる。 In the modulation optical system 25, the laser light 104 is collected by an acousto-optic device (AOM) 27 made of glass (SiO ₂ ) or the like by a condenser lens 26. The laser beam 104 is intensity-modulated by the acoustooptic device 27 and diverges, and then converted into a parallel beam by the lens 28. The laser beam 104 emitted from the modulation optical system 25 is reflected by the mirror 31 and guided horizontally and parallel onto the moving optical table 32.

移動光学テーブル３２は、ビームエキスパンダ３３、および対物レンズ３４を備えている。移動光学テーブル３２に導かれたレーザー光１０４は、ビームエキスパンダ３３により所望のビーム形状に整形された後、対物レンズ３４を介して、ロール原盤１０１上のレジスト層へ照射される。ロール原盤１０１は、スピンドルモータ３５に接続されたターンテーブル３６の上に載置されている。そして、ロール原盤１０１を回転させるとともに、レーザー光１０４をロール原盤１０１の高さ方向に移動させながら、レジスト層へレーザー光１０４を間欠的に照射することにより、レジスト層の露光工程が行われる。形成された潜像は、円周方向に長軸を有する略楕円形になる。レーザー光１０４の移動は、移動光学テーブル３２の矢印Ｒ方向への移動によって行われる。 The moving optical table 32 includes a beam expander 33 and an objective lens 34. The laser beam 104 guided to the moving optical table 32 is shaped into a desired beam shape by the beam expander 33 and then irradiated onto the resist layer on the roll master 101 through the objective lens 34. The roll master 101 is placed on the turntable 36 connected to the spindle motor 35. Then, while rotating the roll master 101 and moving the laser light 104 in the height direction of the roll master 101, the resist layer is exposed to the laser light 104 intermittently, thereby performing the resist layer exposure process. The formed latent image has a substantially elliptical shape having a major axis in the circumferential direction. The laser beam 104 is moved by moving the moving optical table 32 in the arrow R direction.

露光装置は、例えば、図１Ｃに示した六方格子または準六方格子などの２次元パターンに対応する潜像をレジスト層に形成するための制御機構３７を備えている。制御機構３７は、フォマッター２９とドライバ３０とを備える。フォマッター２９は、極性反転部を備え、この極性反転部が、レジスト層に対するレーザー光１０４の照射タイミングを制御する。ドライバ３０は、極性反転部の出力を受けて、音響光学素子２７を制御する。 The exposure apparatus includes, for example, a control mechanism 37 for forming a latent image corresponding to a two-dimensional pattern such as a hexagonal lattice or a quasi-hexagonal lattice shown in FIG. 1C on the resist layer. The control mechanism 37 includes a formatter 29 and a driver 30. The formatter 29 includes a polarity reversal unit, and this polarity reversal unit controls the irradiation timing of the laser beam 104 to the resist layer. The driver 30 receives the output from the polarity inversion unit and controls the acoustooptic device 27.

このロール原盤露光装置では、２次元パターンが空間的にリンクするように１トラック毎に極性反転フォマッター信号と記録装置の回転コントロラーを同期させ信号を発生し、音響光学素子２７により強度変調している。角速度一定（ＣＡＶ）で適切な回転数と適切な変調周波数と適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子または準六方格子パターンを記録することができる。例えば、円周方向の周期を３１５ｎｍ、円周方向に対して約６０度方向（約−６０度方向）の周期を３００ｎｍにするには、送りピッチを２５１ｎｍにすればよい（ピタゴラスの法則）。極性反転フォマッター信号の周波数はロールの回転数（例えば１８００ｒｐｍ、９００ｒｐｍ、４５０ｒｐｍ、２２５ｒｐｍ）により変化させる。例えば、ロールの回転数１８００ｒｐｍ、９００ｒｐｍ、４５０ｒｐｍ、２２５ｒｐｍそれぞれに対向する極性反転フォマッター信号の周波数は、３７．７０ＭＨｚ、１８．８５ＭＨｚ、９．３４ＭＨｚ、４、７１ＭＨｚとなる。所望の記録領域に空間周波数（円周３１５ｎｍ周期、円周方向約６０度方向（約−６０度方向）３００ｎｍ周期）が一様な準六方格子パターンは、遠紫外線レーザー光を移動光学テーブル３２上のビームエキスパンダ（ＢＥＸ）３３により５倍のビーム径に拡大し、開口数（ＮＡ）０．９の対物レンズ３４を介してロール原盤１０１上のレジスト層に照射し、微細な潜像を形成することにより得られる。 In this roll master exposure apparatus, a signal is generated by synchronizing the polarity inversion formatter signal and the rotation controller of the recording apparatus for each track so that the two-dimensional pattern is spatially linked, and the intensity is modulated by the acoustooptic device 27. Yes. A hexagonal lattice pattern or a quasi-hexagonal lattice pattern can be recorded by patterning at a constant angular velocity (CAV) with an appropriate rotation speed, an appropriate modulation frequency, and an appropriate feed pitch. For example, in order to set the period in the circumferential direction to 315 nm and the period in the direction of about 60 degrees (about -60 degrees) with respect to the circumferential direction to 300 nm, the feed pitch may be set to 251 nm (Pythagorean law). The frequency of the polarity inversion formatter signal is changed according to the number of rotations of the roll (for example, 1800 rpm, 900 rpm, 450 rpm, 225 rpm). For example, the frequency of the polarity inversion formatter signal facing the roll rotation speeds of 1800 rpm, 900 rpm, 450 rpm, and 225 rpm is 37.70 MHz, 18.85 MHz, 9.34 MHz, and 4 and 71 MHz, respectively. A quasi-hexagonal lattice pattern with a uniform spatial frequency (circumferential 315 nm period, circumferential direction approximately 60 degrees direction (approximately −60 degrees direction) 300 nm period) in a desired recording area is obtained by moving far ultraviolet laser light on the moving optical table 32. The beam expander (BEX) 33 enlarges the beam diameter to 5 times and irradiates the resist layer on the roll master 101 through the objective lens 34 having a numerical aperture (NA) of 0.9 to form a fine latent image. Can be obtained.

［積層体の製造方法］
図６Ａ〜図７Ｅは、本発明の第１の実施形態に係る積層体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 [Manufacturing method of laminate]
FIG. 6A to FIG. 7E are process diagrams for explaining an example of the manufacturing method of the laminated body according to the first embodiment of the present invention.

（レジスト成膜工程）
まず、図６Ａに示すように、円筒状のロール原盤１０１を準備する。次に、図６Ｂに示すように、ロール原盤１０１の表面にレジスト層１０３を形成する。レジスト層１０３の材料としては、例えば、有機系レジスト、および無機系レジストのいずれを用いてもよい。有機系レジストとしては、例えば、ノボラック系レジスト、化学増幅型レジストなどを用いることができる。また、無機系レジストとしては、例えば、１種または２種以上の遷移金属からなる金属化合物を用いることができる。 (Resist film formation process)
First, as shown in FIG. 6A, a cylindrical roll master 101 is prepared. Next, as illustrated in FIG. 6B, a resist layer 103 is formed on the surface of the roll master 101. As a material of the resist layer 103, for example, either an organic resist or an inorganic resist may be used. As the organic resist, for example, a novolac resist, a chemically amplified resist, or the like can be used. Moreover, as an inorganic type resist, the metal compound which consists of 1 type, or 2 or more types of transition metals can be used, for example.

（露光工程）
次に、図６Ｃに示すように、ロール原盤１０１の表面に形成されたレジスト層１０３に、レーザー光（露光ビーム）１０４を照射する。具体的には、図５に示したロール原盤露光装置のターンテーブル３６上に載置し、ロール原盤１０１を回転させると共に、レーザー光（露光ビーム）１０４をレジスト層１０３に照射する。このとき、レーザー光１０４をロール原盤１０１の高さ方向（円柱状または円筒状のロール原盤１０１の中心軸に平行な方向）に移動させながら、レーザー光１０４を間欠的に照射することで、レジスト層１０３を全面にわたって露光する。これにより、レーザー光１０４の軌跡に応じた潜像１０５が、可視光波長と同程度のピッチでレジスト層１０３の全面にわたって形成される。 (Exposure process)
Next, as shown in FIG. 6C, a laser beam (exposure beam) 104 is irradiated onto the resist layer 103 formed on the surface of the roll master 101. Specifically, it is placed on the turntable 36 of the roll master exposure apparatus shown in FIG. 5, the roll master 101 is rotated, and the resist layer 103 is irradiated with a laser beam (exposure beam) 104. At this time, the laser beam 104 is intermittently irradiated while moving the laser beam 104 in the height direction of the roll master 101 (a direction parallel to the central axis of the columnar or cylindrical roll master 101). Layer 103 is exposed over the entire surface. Thereby, a latent image 105 corresponding to the locus of the laser beam 104 is formed over the entire surface of the resist layer 103 at a pitch approximately equal to the visible light wavelength.

潜像１０５は、例えば、原盤表面において複数列のトラックをなすように配置されるとともに、六方格子パターンまたは準六方格子パターンを形成する。潜像１０５は、例えば、トラックの延在方向に長軸方向を有する楕円形状である。 For example, the latent image 105 is arranged to form a plurality of rows of tracks on the surface of the master and forms a hexagonal lattice pattern or a quasi-hexagonal lattice pattern. The latent image 105 has, for example, an elliptical shape having a major axis direction in the track extending direction.

（現像工程）
次に、ロール原盤１０１を回転させながら、レジスト層１０３上に現像液を滴下して、図６Ｄに示すように、レジスト層１０３を現像処理する。図示するように、レジスト層１０３をポジ型のレジストにより形成した場合には、レーザー光１０４で露光した露光部は、非露光部と比較して現像液に対する溶解速度が増すので、潜像（露光部）１０５に応じたパターンがレジスト層１０３に形成される。 (Development process)
Next, a developer is dropped on the resist layer 103 while rotating the roll master 101, and the resist layer 103 is developed as shown in FIG. 6D. As shown in the figure, when the resist layer 103 is formed of a positive resist, the exposed portion exposed with the laser beam 104 has a higher dissolution rate in the developer than the non-exposed portion, so that the latent image (exposure) is exposed. Part) is formed on the resist layer 103 in accordance with the pattern 105.

（エッチング工程）
次に、ロール原盤１０１の上に形成されたレジスト層１０３のパターン（レジストパターン）をマスクとして、ロール原盤１０１の表面をエッチング処理する。これにより、図７Ａに示すように、トラックの延在方向に長軸方向をもつ楕円錐形状または楕円錐台形状の凹部、すなわち構造体１０２を得ることができる。エッチングとしては、例えばドライエッチングやウエットエッチングを用いることができる。 (Etching process)
Next, the surface of the roll master 101 is etched using the pattern (resist pattern) of the resist layer 103 formed on the roll master 101 as a mask. As a result, as shown in FIG. 7A, an elliptical cone-shaped or elliptical truncated cone-shaped recess having a major axis direction in the track extending direction, that is, a structure 102 can be obtained. As the etching, for example, dry etching or wet etching can be used.

（線源配置工程）
次に、図７Ｂに示すように、ロール原盤１０１内の収容空間（空洞部）に、１または複数のエネルギー線源１１０を配置する。エネルギー線源１１０は、ロール原盤１０１の幅方向Ｄｗまたは回転軸ｌの軸方向と平行に配置することが好ましい。 (Radio source placement process)
Next, as shown in FIG. 7B, one or more energy beam sources 110 are arranged in the accommodation space (cavity) in the roll master 101. The energy beam source 110 is preferably arranged in parallel with the width direction Dw of the roll master 101 or the axial direction of the rotation axis l.

（転写工程）
次に、必要に応じて、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が塗布される基体１の表面に対して、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、ＵＶ処理、オゾン処理、ブラスト処理などの表面処理を施す。次に、図７Ｃに示すように、長尺の基体１またはロール原盤１０１上にエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８を塗布または印刷する。塗布方法は特に限定されるものではないが、例えば、基体上または原盤上へのポッティング、スピンコート法、グラビアコート法、ダイコート法、バーコート法などを用いることができる。印刷方法としては、例えば、凸版印刷法、オフセット印刷法、グラビア印刷法、凹版印刷法、ゴム版印刷法、スクリーン印刷法などを用いることができる。次に、必要に応じて、溶剤除去やプリベークなどの加熱処理を行う。 (Transfer process)
Next, if necessary, surface treatment such as corona treatment, plasma treatment, flame treatment, UV treatment, ozone treatment, and blast treatment is performed on the surface of the substrate 1 to which the energy beam curable resin composition 118 is applied. Apply. Next, as shown in FIG. 7C, the energy beam curable resin composition 118 is applied or printed on the long base 1 or the roll master 101. The coating method is not particularly limited, and for example, potting on a substrate or master, a spin coating method, a gravure coating method, a die coating method, a bar coating method, or the like can be used. As a printing method, for example, a relief printing method, an offset printing method, a gravure printing method, an intaglio printing method, a rubber plate printing method, a screen printing method and the like can be used. Next, heat treatment such as solvent removal or pre-baking is performed as necessary.

次に、ロール原盤１０１を回転させながら、その転写面Ｓｐをエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に密着させるとともに、ロール原盤１０１内のエネルギー線源１１０から出射されたエネルギー線を、ロール原盤１０１の転写面Ｓｐの側からエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に対して照射する。これにより、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が硬化し、形状層２が形成される。具体的には、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８の硬化反応が、ロール原盤１０１の転写面Ｓｐ側から基体１の表面側に向けて順次進行し、塗布または印刷されたエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８の全体が硬化することで、形状層２が形成される。基底層２２の有無、または基底層２２の厚さは、例えば、基体１の表面に対するロール原盤１０１の圧力を調整することにより選択可能である。次に、基体１上に形成された形状層２をロール原盤１０１の転写面Ｓｐから剥離する。これにより、図６Ｅに示すように、基体１の表面に形状層２が形成された積層体が得られる。この転写工程では、上述のようにして、帯状を有する基体１の長手方向をロール原盤１０１の回転進行方向として凹凸形状が転写される。 Next, while rotating the roll master 101, the transfer surface Sp is brought into close contact with the energy beam curable resin composition 118, and energy rays emitted from the energy beam source 110 in the roll master 101 are transferred to the roll master 101. The energy ray curable resin composition 118 is irradiated from the transfer surface Sp side. Thereby, the energy beam curable resin composition 118 is cured, and the shape layer 2 is formed. Specifically, the curing reaction of the energy beam curable resin composition 118 proceeds sequentially from the transfer surface Sp side of the roll master 101 to the surface side of the substrate 1, and is applied or printed. The shape layer 2 is formed by hardening the entire object 118. The presence or absence of the base layer 22 or the thickness of the base layer 22 can be selected, for example, by adjusting the pressure of the roll master 101 against the surface of the substrate 1. Next, the shape layer 2 formed on the substrate 1 is peeled off from the transfer surface Sp of the roll master 101. Thereby, as shown to FIG. 6E, the laminated body by which the shape layer 2 was formed in the surface of the base | substrate 1 is obtained. In this transfer step, as described above, the concavo-convex shape is transferred with the longitudinal direction of the belt-like substrate 1 as the rotational advance direction of the roll master 101.

ここで、図３に示す転写装置を用いた転写工程について具体的に説明する。
まず、基体供給ロール１１１から長尺の基体１を送出し、送出された基体１は、塗布装置１１７の下を通過する。次に、塗布装置１１７の下を通過する基体１上に、塗布装置１１７によりエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８を塗布する。次に、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が塗布された基体１をガイドロール１１３を経てロール原盤１０１に向けて搬送する。 Here, the transfer process using the transfer apparatus shown in FIG. 3 will be specifically described.
First, the long substrate 1 is delivered from the substrate supply roll 111, and the delivered substrate 1 passes under the coating device 117. Next, the energy beam curable resin composition 118 is applied by the coating device 117 onto the substrate 1 that passes under the coating device 117. Next, the substrate 1 to which the energy ray curable resin composition 118 is applied is conveyed toward the roll master 101 through the guide roll 113.

次に、基体１とエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８との間に気泡が入らないように、搬入された基体１をロール原盤１０１とニップロール１１５とにより挟み合わる。その後、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８をロール原盤１０１の転写面Ｓｐに密着させながら、基体１をロール原盤１０１の転写面Ｓｐに沿わせて搬送するとともに、１または複数のエネルギー線源１１０から放射されたエネルギー線を、ロール原盤１０１の転写面Ｓｐを介してエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に対して照射する。これにより、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が硬化し、形状層２が形成さる。次に、剥離ロール１１６により、ロール原盤１０１の転写面Ｓｐから形状層２が剥離されて、長尺の積層体が得られる。次に、得られた積層体を、ガイドロール１１４を介して巻き取り１１２に向けて搬送し、長尺の積層体を巻き取りロール１１２により巻き取る。これにより、長尺の積層体が巻回された原反が得られる。 Next, the carried substrate 1 is sandwiched between the roll master 101 and the nip roll 115 so that air bubbles do not enter between the substrate 1 and the energy beam curable resin composition 118. Thereafter, while the energy beam curable resin composition 118 is brought into close contact with the transfer surface Sp of the roll master 101, the substrate 1 is transported along the transfer surface Sp of the roll master 101, and from one or more energy beam sources 110. The irradiated energy beam is irradiated to the energy beam curable resin composition 118 via the transfer surface Sp of the roll master 101. Thereby, the energy ray curable resin composition 118 is cured, and the shape layer 2 is formed. Next, the shape layer 2 is peeled off from the transfer surface Sp of the roll master 101 by the peeling roll 116 to obtain a long laminate. Next, the obtained laminate is conveyed toward the take-up 112 via the guide roll 114, and the long laminate is taken up by the take-up roll 112. Thereby, the raw material by which the elongate laminated body was wound is obtained.

＜２．第２の実施形態＞
図８は、本発明の第２の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。この転写装置は、ロール原盤１０１と、塗布装置１１７と、搬送ステージ１２１とを備える。第２の実施形態において、第１の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。搬送ステージ１２１は、この搬送ステージ１２１上に載置された基体１を矢印ａの方向に向けて搬送可能に構成されている。 <2. Second Embodiment>
FIG. 8 is a schematic view showing an example of the configuration of a transfer apparatus according to the second embodiment of the present invention. The transfer device includes a roll master 101, a coating device 117, and a transport stage 121. In the second embodiment, the same portions as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. The transfer stage 121 is configured to be able to transfer the substrate 1 placed on the transfer stage 121 in the direction of arrow a.

次に、上述の構成を有する転写装置の動作の一例について説明する。
まず、塗布装置１１７の下を通過する基体１上に、塗布装置１１７によりエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８を塗布する。次に、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が塗布された基体１をロール原盤１０１に向けて搬送する。次に、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８をロール原盤１０１の転写面Ｓｐに密着させながら搬送するとともに、ロール原盤１０１内に設けられた１または複数のエネルギー線源１１０から放射されたエネルギー線を、ロール原盤１０１の転写面Ｓｐを介してエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に対して照射する。これにより、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が硬化し、形状層２が形成さる。次に、搬送ステージを矢印ａの方向に搬送することにより、ロール原盤１０１の転写面Ｓｐから形状層２を剥離する。これにより、長尺の積層体が得られる。次に、必要に応じて、得られた積層体を所定の大きさまたは形状に裁断する。以上により、目的とする積層体が得られる。 Next, an example of the operation of the transfer device having the above-described configuration will be described.
First, the energy beam curable resin composition 118 is applied by the coating device 117 onto the substrate 1 that passes under the coating device 117. Next, the base body 1 on which the energy beam curable resin composition 118 is applied is conveyed toward the roll master 101. Next, the energy beam curable resin composition 118 is conveyed while being in close contact with the transfer surface Sp of the roll master 101, and energy rays emitted from one or a plurality of energy ray sources 110 provided in the roll master 101 are used. The energy ray curable resin composition 118 is irradiated through the transfer surface Sp of the roll master 101. Thereby, the energy ray curable resin composition 118 is cured, and the shape layer 2 is formed. Next, the shape layer 2 is peeled from the transfer surface Sp of the roll master 101 by transporting the transport stage in the direction of arrow a. Thereby, a long laminated body is obtained. Next, if necessary, the obtained laminate is cut into a predetermined size or shape. The target laminated body is obtained by the above.

＜３．第３の実施形態＞
図９は、本発明の第３の実施形態に係る転写装置の構成の一例を示す概略図である。この転写装置は、ロール１３１、１３２、１３４、１３５と、ベルト原盤であるエンボスベルト１３３と、平坦ベルト１３６と、１個または複数個のエネルギー線源１１０と、塗布装置１１７とを備える。第３の実施形態において、第１の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。 <3. Third Embodiment>
FIG. 9 is a schematic view showing an example of the configuration of a transfer apparatus according to the third embodiment of the present invention. This transfer device includes rolls 131, 132, 134, 135, an emboss belt 133 as a belt master, a flat belt 136, one or a plurality of energy beam sources 110, and a coating device 117. In 3rd Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected to the location same as 1st Embodiment, and description is abbreviate | omitted.

エンボスベルト１３３は、環状の形状を有し、その外周面には複数の構造体１０２が、例えば２次元配列されている。エンボスベルト１３３は、エネルギー線に対して透過性を有している。平坦ベルト１３６は、環状の形状を有し、その外周面は平坦面とされている。エンボスベルト１３３と平坦ベルト１３６との間には、基体２の厚さ程度の間隙が形成され、これらのベルトの間を、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が塗布された基体１が走行可能となっている。 The embossed belt 133 has an annular shape, and a plurality of structures 102 are two-dimensionally arranged on the outer peripheral surface thereof, for example. The embossed belt 133 is permeable to energy rays. The flat belt 136 has an annular shape, and its outer peripheral surface is a flat surface. A gap about the thickness of the substrate 2 is formed between the emboss belt 133 and the flat belt 136, and the substrate 1 coated with the energy ray curable resin composition 118 can run between these belts. It has become.

ロール１３１とロール１３２とは離間して配置され、これらのロール１３１とロール１３２とにより、エンボスベルト１３３がその内周面により支持されて、エンボスベルト１３３が細長い長円形状などに形状保持されている。エンボスベルト１３３の内側に配置されたロール１３１とロール１３２とを回転駆動させることにより、エンボスベルト１３３が回転走行されるようになっている。 The roll 131 and the roll 132 are arranged apart from each other, and the embossed belt 133 is supported by the inner peripheral surface of the roll 131 and the roll 132, and the embossed belt 133 is held in a long and narrow oval shape. Yes. The embossing belt 133 is driven to rotate by rotating the roll 131 and the roll 132 disposed inside the embossing belt 133.

ロール１３４およびロール１３５はそれぞれ、ロール１３１およびロール１３２に対向して配置されている。これらのロール１３４とロール１３５とにより、平坦ベルト１３６がその内周面により支持されて、平坦ベルト１３６が細長い長円形状などに形状保持されている。平坦ベルト１３６の内側に配置されたロール１３４とロール１３５とを回転駆動させることにより、平坦ベルト１３６が回転走行されるようになっている。 The roll 134 and the roll 135 are disposed to face the roll 131 and the roll 132, respectively. The flat belt 136 is supported by the inner peripheral surface of the roll 134 and the roll 135, and the flat belt 136 is held in a shape of an elongated ellipse or the like. The flat belt 136 is driven to rotate by rotating the roll 134 and the roll 135 disposed inside the flat belt 136.

エンボスベルト１３３の内側には、１または複数のエネルギー線源１１０が配置されている。１または複数のエネルギー線源１１０は、エンボスベルト１３３と平坦ベルト１３６との間を走行する基体１に対して、エネルギー線を照射可能に保持されている。線状光源などのエネルギー線源１１０は、エンボスベルト１３３の幅方向と平行に配置することが好ましい。エネルギー線源１１０の配置位置はエンボスベルト１３３の内周面により形成される空間内であればよく特に限定されるものではない。例えば、ロール１３１およびロール１３２の少なくとも一方の内部に配置するようにしてもよい。この場合、ロール１３１およびロール１３２をエネルギー線に対して透過性を有する材料により形成することが好ましい。 One or more energy ray sources 110 are arranged inside the emboss belt 133. One or a plurality of energy ray sources 110 are held so as to be able to irradiate energy rays to the base 1 that travels between the emboss belt 133 and the flat belt 136. The energy ray source 110 such as a linear light source is preferably arranged in parallel with the width direction of the emboss belt 133. The arrangement position of the energy beam source 110 is not particularly limited as long as it is within the space formed by the inner peripheral surface of the emboss belt 133. For example, it may be arranged inside at least one of the roll 131 and the roll 132. In this case, it is preferable to form the roll 131 and the roll 132 with a material that is permeable to energy rays.

次に、上述の構成を有する転写装置の動作の一例について説明する。
まず、塗布装置１１７の下を通過する基体１上に、塗布装置１１７によりエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８を塗布する。次に、回転するエンボスベルト１３３と平坦ベルト１３６との間の間隙に、ロール１３１、１３４の側からエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が塗布された基材１１を搬入する。これにより、エンボスベルト１３３の転写面とエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８とが密着する。次に、この密着状態を維持しながら、エネルギー線源１１０から放射されたエネルギー線を、エンボスベルト１３３を介してエネルギー線硬化性樹脂組成物１１８に対して照射する。これにより、エネルギー線硬化性樹脂組成物１１８が硬化され、基体１上に形状層２が形成される。次に、エンボスベルト１３３を形状層２から剥離する。これにより、目的とする積層体が得られる。 Next, an example of the operation of the transfer device having the above-described configuration will be described.
First, the energy beam curable resin composition 118 is applied by the coating device 117 onto the substrate 1 that passes under the coating device 117. Next, the base material 11 coated with the energy ray curable resin composition 118 is carried into the gap between the rotating emboss belt 133 and the flat belt 136 from the rolls 131 and 134 side. Thereby, the transfer surface of the emboss belt 133 and the energy ray curable resin composition 118 are in close contact with each other. Next, the energy ray curable resin composition 118 is irradiated via the embossed belt 133 with the energy rays emitted from the energy ray source 110 while maintaining this close contact state. Thereby, the energy beam curable resin composition 118 is cured, and the shape layer 2 is formed on the substrate 1. Next, the embossed belt 133 is peeled from the shape layer 2. Thereby, the target laminated body is obtained.

＜４．第４の実施形態＞
図１０Ａは、本発明の第４の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す平面図である。図１０Ｂは、図１０Ａに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。第４の実施形態に係る積層体は、構造体３を蛇行するトラック（以下ウォブルトラックと称する。）上に配列している点において、第１の実施形態に係る積層体とは異なっている。基体２上における各トラックのウォブルは、同期していることが好ましい。すなわち、ウォブルは、シンクロナイズドウォブルであることが好ましい。このようにウォブルを同期させることで、六方格子または準六方格子などの単位格子形状を保持し、充填率を高く保つことができる。ウォブルトラックの波形としては、例えば、サイン波、三角波などを挙げることができるが、これに限定されるものではない。ウォブルトラックの波形は、周期的な波形に限定されるものではなく、非周期的な波形としてもよい。
この第４の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。 <4. Fourth Embodiment>
FIG. 10A is a plan view illustrating an example of a configuration of a stacked body according to the fourth embodiment of the present invention. 10B is an enlarged plan view illustrating a part of the stacked body illustrated in FIG. 10A. The laminated body according to the fourth embodiment is different from the laminated body according to the first embodiment in that the structures 3 are arranged on a meandering track (hereinafter referred to as a wobble track). The wobbles of the tracks on the substrate 2 are preferably synchronized. That is, the wobble is preferably a synchronized wobble. By synchronizing the wobbles in this way, the unit lattice shape such as a hexagonal lattice or a quasi-hexagonal lattice can be maintained, and the filling rate can be kept high. Examples of the wobble track waveform include a sine wave and a triangular wave, but are not limited thereto. The wobble track waveform is not limited to a periodic waveform, and may be a non-periodic waveform.
The fourth embodiment is the same as the first embodiment except for the above.

＜５．第５の実施形態＞
図１１Ａは、本発明の第５の実施形態に係る積層体の構成の一例を示す断面図である。図１１Ｂは、図１１Ａに示した積層体の一部を拡大して表す平面図である。図１１Ｃは、図１１Ｂに示した積層体の断面図である。第４の実施形態に係る積層体は、複数の構造体２１がランダムに２次元配列されている点において、第１の実施形態とは異なっている。また、構造体２１の大きさおよび／または高さもランダムに変化させるようにしてもよい。
この第５の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。 <5. Fifth Embodiment>
FIG. 11A is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of a multilayer body according to the fifth embodiment of the present invention. FIG. 11B is an enlarged plan view illustrating a part of the stacked body illustrated in FIG. 11A. FIG. 11C is a cross-sectional view of the stacked body illustrated in FIG. 11B. The laminated body according to the fourth embodiment is different from the first embodiment in that the plurality of structures 21 are randomly two-dimensionally arranged. Further, the size and / or height of the structure 21 may be changed randomly.
The fifth embodiment is the same as the first embodiment except for the above.

＜６．第６の実施形態＞
図１２は、本発明の第６の実施形態に係る積層体の構成の一例示す斜視図である。図１２に示すように、第６の実施形態に係る積層体は、基体表面にて一方向に延在された柱状の構造体２１を有し、この構造体２１が基体１上に１次元配列されている点において、第１の実施形態のものとは異なっている。 <6. Sixth Embodiment>
FIG. 12 is a perspective view showing an example of the configuration of the multilayer body according to the sixth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 12, the laminated body according to the sixth embodiment has a columnar structure 21 extending in one direction on the surface of the substrate, and the structure 21 is arranged in a one-dimensional array on the substrate 1. This is different from that of the first embodiment.

構造体２１の断面形状は、例えば三角形状、頂部に曲率Ｒが付された三角形状、多角形状、半円形状、半楕円形状、放物線状、トロイダル形状などを挙げることができるが、特に限定されるものではない。また、構造体２１をウォブルさせながら一方向に延在させるようにしてもよい。
この第６の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。 Examples of the cross-sectional shape of the structure 21 include a triangular shape, a triangular shape with a curvature R at the top, a polygonal shape, a semicircular shape, a semielliptical shape, a parabolic shape, and a toroidal shape, but are particularly limited. It is not something. Further, the structure 21 may be extended in one direction while being wobbled.
The sixth embodiment is the same as the first embodiment except for the above.

＜７．第７の実施形態＞
図１３Ａ〜図１３Ｅは、本発明の第７の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第１〜第５の例を示す断面図である。第７の実施形態に係る積層体は、基体１の両主面に複数の構造体２１が２次元配列されている点において、第１の実施形態に係る積層体とは異なっている。具体的には、第１〜第５の例の積層体はそれぞれ、基体１の両主面に複数の構造体２１が２次元配列されている点以外のことは、上述の第１の実施形態に係る積層体の第１〜第５の例と同様である（図２参照）。
この第７の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。 <7. Seventh Embodiment>
13A to 13E are cross-sectional views illustrating first to fifth examples of a base body provided in a multilayer body according to a seventh embodiment of the present invention. The laminated body according to the seventh embodiment is different from the laminated body according to the first embodiment in that a plurality of structures 21 are two-dimensionally arranged on both main surfaces of the substrate 1. Specifically, the laminates of the first to fifth examples are the same as those of the first embodiment described above except that the plurality of structures 21 are two-dimensionally arranged on both main surfaces of the base 1. It is the same as that of the 1st-5th example of the laminated body which concerns on (refer FIG. 2).
The seventh embodiment is the same as the first embodiment except for the above.

＜８．第８の実施形態＞
図１４Ａは、本発明の第８の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第１の例を示す断面図である。図１４Ｂは、本発明の第８の実施形態に係る積層体に備えられた基体の第２の例を示す断面図である。第８の実施形態に係る積層体は、構造体２１がエネルギー線に対して不透過性を有している点において、第１の実施形態または第７の実施形態に係る積層体とは異なっている。このような不透過性を有する構造体２１は、例えば、エネルギー線を吸収する顔料などの材料をエネルギー線硬化性樹脂組成物に添加することにより形成することが可能である。
この第８の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。 <8. Eighth Embodiment>
FIG. 14A is a cross-sectional view showing a first example of a base body provided in a multilayer body according to the eighth embodiment of the present invention. FIG. 14B is a cross-sectional view showing a second example of the base body provided in the multilayer body according to the eighth embodiment of the present invention. The laminated body according to the eighth embodiment is different from the laminated body according to the first embodiment or the seventh embodiment in that the structure 21 is impermeable to energy rays. Yes. Such an impermeable structure 21 can be formed, for example, by adding a material such as a pigment that absorbs energy rays to the energy ray curable resin composition.
In the eighth embodiment, other than the above is the same as in the first embodiment.

以上、この発明の実施形態について具体的に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described concretely, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, The various deformation | transformation based on the technical idea of this invention is possible.

例えば、上述の実施形態において挙げた構成、工程、方法、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、工程、方法、形状、材料および数値などを用いてもよい。 For example, the configurations, processes, methods, shapes, materials, numerical values, and the like given in the above-described embodiments are merely examples, and different configurations, processes, methods, shapes, materials, numerical values, and the like are used as necessary. Also good.

また、上述の実施形態の各構成、工程、方法、形状、材料および数値などは、この発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。 In addition, each configuration, process, method, shape, material, numerical value, and the like of the above-described embodiments can be combined with each other without departing from the gist of the present invention.

１基体
２構造体
１１ａ不透過層
１１ｂ透過層
２１構造体
２２基底層
１０１ロール原盤
１０２構造体
１１０エネルギー線源
１１８エネルギー線硬化性樹脂組成物
１３３エンボスベルト
１３６平坦ベルト
Ｓｐ成形面
Ｓｉ裏面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Structure 11a Impervious layer 11b Transmitted layer 21 Structure 22 Base layer 101 Roll master 102 Structure 110 Energy ray source 118 Energy ray curable resin composition 133 Embossed belt 136 Flat belt Sp Molded surface Si Back surface

Claims

基体上にエネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、
上記基体上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して回転原盤の回転面を回転密着させながら、上記回転原盤内に設けられた１または複数のエネルギー線源から放射されたエネルギー線を上記回転面を介して照射し、上記エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、上記回転面の凹凸形状が転写された形状層を上記基体上に形成する工程と
を備える積層体の製造方法。 Applying an energy ray curable resin composition on a substrate;
Energy rays emitted from one or a plurality of energy ray sources provided in the rotating master disk while rotating and closely contacting the rotating surface of the rotating master disk to the energy ray curable resin composition applied on the substrate. Forming a shape layer on which the concavo-convex shape of the rotating surface is transferred on the substrate by irradiating through the rotating surface and curing the energy ray curable resin composition. Method.

上記基体は、上記エネルギー線に対して不透過性を有する請求項１記載の積層体の製造方法。 The method for manufacturing a laminate according to claim 1, wherein the substrate is impermeable to the energy rays.

上記回転面の凹凸形状は、凸状または凹状の複数の構造体を１次元配列または２次元配列することにより形成される請求項１記載の積層体の製造方法。 The method for manufacturing a laminate according to claim 1, wherein the uneven shape of the rotating surface is formed by one-dimensionally or two-dimensionally arranging a plurality of convex or concave structures.

上記複数の構造体は、規則的または不規則的に配置されている請求項３記載の積層体の製造方法。 The method for manufacturing a laminate according to claim 3, wherein the plurality of structures are regularly or irregularly arranged.

上記複数の構造体が、サブ波長構造体である請求項３記載の積層体の製造方法。 The method for manufacturing a laminate according to claim 3, wherein the plurality of structures are subwavelength structures.

上記回転原盤は、ロール原盤またはベルト原盤である請求項１記載の積層体の製造方法。 The method for manufacturing a laminate according to claim 1, wherein the rotating master is a roll master or a belt master.

上記１または複数のエネルギー線源は、上記回転原盤の幅方向に配置されている請求項１記載の積層体の製造方法。 The method for manufacturing a laminate according to claim 1, wherein the one or more energy beam sources are arranged in a width direction of the rotating master.

上記基体は、帯状の形状を有し、
上記形状層の形成工程では、上記基体の長手方向を回転進行方向として上記凹凸形状が転写される請求項１記載の積層体の製造方法。 The base has a strip shape,
The method for producing a laminate according to claim 1, wherein, in the forming step of the shape layer, the uneven shape is transferred with the longitudinal direction of the base body as a rotation progression direction.

上記基体が、少なくとも１つの平面または曲面を有し、
上記平面または曲面に上記形状層が形成される請求項１記載の積層体の製造方法。 The substrate has at least one plane or curved surface;
The manufacturing method of the laminated body of Claim 1 in which the said shape layer is formed in the said plane or curved surface.

凹凸形状を有する回転面と、
上記回転面の内側に設けられた１または複数のエネルギー線源と
を有する回転原盤を備え、
上記回転原盤は、上記エネルギー線源から放射されたエネルギー線に対して透過性を有し、
基体上に塗布されたエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して上記回転原盤の回転面を回転密着させながら、上記エネルギー線源から放射されたエネルギー線を上記回転面を介して照射し、上記エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、上記回転面の凹凸形状が転写された形状層を上記基体上に形成する転写装置。 A rotating surface having an uneven shape;
A rotating master having one or more energy ray sources provided inside the rotating surface;
The rotating master is permeable to energy rays emitted from the energy ray source,
The energy beam radiated from the energy beam source is irradiated through the rotating surface while the rotating surface of the rotating master disk is rotationally adhered to the energy beam curable resin composition applied on the substrate, and the energy The transfer apparatus which forms the shape layer in which the uneven | corrugated shape of the said rotating surface was transcribe | transferred on the said base | substrate by hardening a linear curable resin composition.

凹凸形状を有する回転面を備え、
エネルギー線源から放射されたエネルギー線に対して透過性を有し、
上記エネルギー線源から放射されたエネルギー線を、上記回転面を介してエネルギー線硬化性樹脂組成物に対して照射し硬化可能とし得る原盤。 It has a rotating surface with an uneven shape,
It is transparent to the energy rays emitted from the energy ray source,
A master that can be cured by irradiating the energy ray curable resin composition with energy rays emitted from the energy ray source via the rotating surface.