JP2012030478A - 加飾体、及び加飾体の製造方法 - Google Patents
加飾体、及び加飾体の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 本発明の加飾体は、透光性を有する基材の表側となる面の上に設けられる金属酸化物の誘電体薄膜からなる反射増加膜層と、前記基材の一方の面に設けられる色濃度勾配を有するグラデーション状の着色層と、反射増加膜層が形成される側と反対の基材面上には遮光用の下地層とが形成されてなる。
【選択図】 図1
Description
(2) (1)の加飾体において、前記反射増加膜層は前記基材の屈折率に対して高い屈折率を持つ薄膜と相対的に低い屈折率を持つ薄膜とが交互に積層されてなることを特徴とする。
(3) (2)の加飾体において、前記反射増加膜層と前記基材との間、または前記下地層と前記基材との間にはハードコート層が形成されていることを特徴とする。
(4) (3)の加飾体において、前記グラデーション状の着色層の色は黒色であることを特徴とする。
(5) (4)の加飾体において、前記グラデーション状の着色層は前記基材の一方の面に昇華性染料の定着により染色されることにより形成されていることを特徴とする。
(6) (1)乃至(5)に何れか記載の加飾体において、さらに前記反射増加膜層が形成される側と反対の基材面上には遮光用の下地層が形成されていることを特徴とする加飾体。
(7) 加飾体の製造方法において、透光性を有する基材の片面に色濃度勾配を有するグラデーション状の着色層を形成する第1ステップと、前記基材の表側となる面上に反射増加膜層を形成する第2ステップと、前記反射増加膜層が形成される側と反対の基材面上に遮光用の下地層を形成する第3ステップと、を有することを特徴とする。
(8) (7)の加飾体の製造方法において、前記下地層は白色にて形成し、前記着色層は黒色のグラデーションにて形成することを特徴とする。
なお、本実施形態では、高屈折率の薄膜としてTiO2を用い、低屈折率の薄膜としてSiO2を用いるものとし、基材1に形成された着色層2上に高屈折率の薄膜を、その上に低屈折率の薄膜を形成し、これを交互に3層積層させることにより反射増加膜3を形成する。このような薄膜の形成は、真空蒸着法やスパッタ法等、の既知の薄膜形成手法により行うことができる。
基材として、A4サイズ,厚さ125μmのポリエチレンテレフタラートのフィルムを用いた。図1に示す構成にて反射増加膜層、着色層、下地層を形成した。着色層は基材の片面に気相転写染色法を用いて染色を行うことにより形成した。市販のパーソナルコンピュータに附属のドローソフトを使用して、黒色が得られるように赤、青、黄のインクの出力量を設定し、プリンターを用いてA4サイズのプリンタ用紙に黒色でグラデーション状の色濃度となるように出力を行った。使用したインクはアントラキノン系昇華性染料を含有する(株)ニデック製、Red NK-1,Yellow NK-1,Blue NK-1を用いた。
2 着色層
3 反射増加膜層
4 下地層
10 加飾体
Claims (8)
- 透光性を有する基材の表側となる面の上に設けられる金属酸化物の誘電体薄膜からなる反射増加膜層と、前記基材の一方の面に設けられる色濃度勾配を有するグラデーション状の着色層と、が形成されてなることを特徴とする加飾体。
- 請求項1の加飾体において、前記反射増加膜層は前記基材の屈折率に対して高い屈折率を持つ薄膜と相対的に低い屈折率を持つ薄膜とが交互に積層されてなることを特徴とする加飾体。
- 請求項2の加飾体において、前記反射増加膜層と前記基材との間、または前記下地層と前記基材との間にはハードコート層が形成されていることを特徴とする加飾体。
- 請求項3の加飾体において、前記グラデーション状の着色層の色は黒色であることを特徴とする加飾体。
- 請求項4の加飾体において、前記グラデーション状の着色層は前記基材の一方の面に昇華性染料の定着により染色されることにより形成されていることを特徴とする加飾体。
- 請求項1乃至請求項5に何れか記載の加飾体において、さらに前記反射増加膜層が形成される側と反対の基材面上には遮光用の下地層が形成されていることを特徴とする加飾体。
- 透光性を有する基材の片面に色濃度勾配を有するグラデーション状の着色層を形成する第1ステップと、前記基材の表側となる面上に反射増加膜層を形成する第2ステップと、前記反射増加膜層が形成される側と反対の基材面上に遮光用の下地層を形成する第3ステップと、を有することを特徴とする加飾体の製造方法。
- 請求項7の加飾体の製造方法において、前記下地層は白色にて形成し、前記着色層は黒色のグラデーションにて形成することを特徴とする加飾体の製造方法。
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