JP2012023028A - 有機発光表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板と、基板上に配される素子回路部と、素子回路部と電気的に連結される画素電極と、画素電極を露出させる画素定義膜と、画素電極上に配されて光を放出する中間層と、画素定義膜上に形成される第1イオン注入層と、を備える有機発光表示装置。
【選択図】図3
Description
20、50 基板
21、51 バッファ層
22、52 活性層
23、53 ゲート絶縁膜
24、54 ゲート電極
25、55 層間絶縁膜
26、56 ソース電極
27、57 ドレイン電極
58 パッシベーション膜
59 平坦化膜
60、160 画素定義膜
61、161 画素電極
62、162 中間層
63、163 対向電極
Claims (27)
- 基板と、
前記基板上に配される素子回路部と、
前記素子回路部と電気的に連結される画素電極と、
前記画素電極を露出させる画素定義膜と、
前記画素電極上に配されて光を放出する中間層と、
前記画素定義膜上に形成される第1イオン注入層と、を備えることを特徴とする有機発光表示装置。 - 前記第1イオン注入層は、前記画素定義膜にイオンを注入して形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機発光表示装置。
- 前記イオンは、BHx+またはPH+であることを特徴とする請求項2に記載の有機発光表示装置。
- 前記第1イオン注入層は、前記画素定義膜を200℃に硬化させ、前記イオンを前記画素定義膜に注入することを特徴とする請求項2に記載の有機発光表示装置。
- 前記第1イオン注入層は、その厚さが2000ないし3000Åであることを特徴とする請求項2に記載の有機発光表示装置。
- 前記画素定義膜は有機物からなり、
前記第1イオン注入層は、前記画素定義膜からのガス排出を防止することを特徴とする請求項1に記載の有機発光表示装置。 - 前記画素電極と前記画素回路部との間に配され、前記画素回路部を覆う平坦化防止膜をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の有機発光表示装置。
- 前記平坦化防止膜は、前記画素電極と前記画素回路部とが連結されるようにコンタクトホールを備えることを特徴とする請求項7に記載の有機発光表示装置。
- 前記平坦化膜上には第2イオン注入層が配されることを特徴とする請求項7に記載の有機発光表示装置。
- 前記第2イオン注入層は、前記平坦化膜上にイオンを注入して形成されることを特徴とする請求項9に記載の有機発光表示装置。
- 前記イオンは、BHx+またはPH+であることを特徴とする請求項10に記載の有機発光表示装置。
- 前記第2イオン注入層は前記画素定義膜を200℃に硬化させ、前記イオンを前記平坦化膜に注入することを特徴とする請求項10に記載の有機発光表示装置。
- 前記第2イオン注入層は、その厚さが2000ないし3000Åであることを特徴とする請求項9に記載の有機発光表示装置。
- 前記第2イオン注入層は、前記平坦化膜からのガス排出を防止することを特徴とする請求項9に記載の有機発光表示装置。
- 前記素子回路部は薄膜トランジスタであることを特徴とする請求項1に記載の有機発光表示装置。
- 基板上に素子回路部を形成する段階と、
前記素子回路部上にパッシベーション膜を形成する段階と、
前記パッシベーション膜上に平坦化膜を形成する段階と、
前記平坦化膜上に画素電極を形成する段階と、
前記画素電極を露出させるように前記平坦化膜上に画素定義膜を形成する段階と、
前記画素定義膜上に第1イオン注入層を形成する段階と、を含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法。 - 前記第1イオン注入層を形成する段階は、
前記画素定義膜を加熱する段階と、
前記画素定義膜にイオンを注入する段階と、からなることを特徴とする請求項16に記載の有機発光表示装置の製造方法。 - 前記イオンは、BHx+またはPH+であることを特徴とする請求項17に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記イオン注入段階は、前記イオンを前記画素定義膜の表面に注入して前記第1イオン注入層を形成することを特徴とする請求項18に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記第1イオン注入層の厚さは、2000ないし3000Åであることを特徴とする請求項19に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記画素定義膜を加熱する段階は、前記画素定義膜を約200℃に硬化させることを特徴とする請求項17に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記平坦化膜形成後に、前記平坦化膜上に第2イオン注入層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項17に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記第2イオン注入層を形成する段階は、
前記平坦化膜を加熱する段階と、
前記平坦化膜にイオンを注入する段階と、からなることを特徴とする請求項22に記載の有機発光表示装置の製造方法。 - 前記イオンは、BHx+またはPH+であることを特徴とする請求項23に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記イオン注入段階は、前記イオンを前記平坦化膜の表面に注入して前記第2イオン注入層を形成することを特徴とする請求項23に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記第2イオン注入層の厚さは2000ないし3000Åであることを特徴とする請求項22に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記平坦化膜を加熱する段階は、前記画素定義膜を約200℃に硬化させることを特徴とする請求項23に記載の有機発光表示装置の製造方法。
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