JP2012020227A - 液体試料加熱気化装置 - Google Patents

液体試料加熱気化装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2012020227A
JP2012020227A JP2010159767A JP2010159767A JP2012020227A JP 2012020227 A JP2012020227 A JP 2012020227A JP 2010159767 A JP2010159767 A JP 2010159767A JP 2010159767 A JP2010159767 A JP 2010159767A JP 2012020227 A JP2012020227 A JP 2012020227A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid sample
heater
temperature
heating
vaporization tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010159767A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5852774B2 (ja
Inventor
Hidenori Oba
秀憲 大場
Tadayuki Nagano
忠幸 長野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Horiba Stec Co Ltd
Original Assignee
Horiba Stec Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Horiba Stec Co Ltd filed Critical Horiba Stec Co Ltd
Priority to JP2010159767A priority Critical patent/JP5852774B2/ja
Priority to EP11173535A priority patent/EP2407235A1/en
Priority to CN2011101959322A priority patent/CN102338715A/zh
Priority to CN201611241356.XA priority patent/CN106959241A/zh
Priority to KR1020110069392A priority patent/KR101822658B1/ko
Priority to US13/182,401 priority patent/US8661919B2/en
Publication of JP2012020227A publication Critical patent/JP2012020227A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5852774B2 publication Critical patent/JP5852774B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J7/00Apparatus for generating gases
    • B01J7/02Apparatus for generating gases by wet methods
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/44Sample treatment involving radiation, e.g. heat
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67109Apparatus for thermal treatment mainly by convection
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01BBOILING; BOILING APPARATUS ; EVAPORATION; EVAPORATION APPARATUS
    • B01B1/00Boiling; Boiling apparatus for physical or chemical purposes ; Evaporation in general
    • B01B1/06Preventing bumping
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D1/00Evaporating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D1/00Evaporating
    • B01D1/0011Heating features
    • B01D1/0017Use of electrical or wave energy
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D1/00Evaporating
    • B01D1/0082Regulation; Control
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D1/00Evaporating
    • B01D1/30Accessories for evaporators ; Constructional details thereof
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01KMEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01K1/00Details of thermometers not specially adapted for particular types of thermometer
    • G01K1/16Special arrangements for conducting heat from the object to the sensitive element
    • G01K1/18Special arrangements for conducting heat from the object to the sensitive element for reducing thermal inertia

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)
  • Control Of Resistance Heating (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Abstract

【課題】液体試料の温度制御の応答性及び精度を向上させる。
【解決手段】液体試料を貯留する気化タンク21と、気化タンク21内に設けられ、液体試料に接触して加熱する加熱部22hを有する1又は複数のヒータ22と、ヒータ22の加熱部22hを含む外表面に接触して設けられ、当該外表面の温度を検出する温度検出部と、温度検出部からの温度検出信号を受け付けて、前記ヒータ22に供給する電力を制御する制御部25とを備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、気化タンクに貯留された液体試料を加熱して気化するための液体試料加熱気化装置に関するものである。
従来の液体試料加熱気化装置としては、図6に示すように、液体試料を導入する導入ポート及び気化した液体試料を導出する導出ポートを有する気化タンクと、当該気化タンクに貯留された液体試料を加熱して気化するためのヒータを備えている。ヒータは、気化タンクの底壁及び側壁の外部に設けられて、それら底壁及び側壁を介して液体試料を加熱するように構成されている。このときの液体試料の温調は、液体試料の温度を検出する液温センサと、ヒータに設けられたヒータ温度センサとからの温度検出値を用いて行われている。
しかしながら、上記構成では、液体試料を加熱する面は底壁の内面及び側壁の内面であり、伝熱の関係上、底壁等の内面温度がヒータの温度と同一となるにはタイムラグが生じてしまう。その結果、液体試料の温度制御の応答性が悪いという問題がある。また、液温センサ及びヒータ温度センサの温度検出値を用いて温調しても、加熱面である底壁等の内面の温度が未知であり、高精度な温調を行うには難がある。特に必要な蒸気圧を確保できる温度とそれが熱分解する温度(分解点)とが近い場合には、上記のように温度制御の応答性が悪いものや高精度な温調ができないものにおいては、液体試料の熱分解が生じてしまい、不具合が顕著となる。
なお、本出願人は、液体試料の温度調節の問題点の1つである液面近傍での温度低下を解消するため、特許文献1に示すように、液面付近にカートリッジヒータを配置したものを考えている。このカートリッジヒータは、発熱線及び当該発熱線を収容する筒状の金属製収容体からなり、気化タンクの側壁から内部に差し込まれることにより設置される。
上記構成において、カートリッジヒータの温度制御を行うために、当該カートリッジヒータの金属製収容体の内部に、発熱線の温度を検出する温度センサが設けられている。この温度センサからの温度検出信号を制御部が取得することによって、カートリッジヒータの発熱線に供給する電力を制御する。
しかしながら、発熱線からの熱は、外部の金属製収容体を介して液体試料に伝熱されることになり、発熱体の温度と金属製収容体の温度とが同一になるまでタイムラグが生じてしまう。そうすると上述したように、制御応答性が悪く、設定温度に高精度に制御することも難しくなる。
特開2002−336680号公報
従来では温度制御の応答性及び精度を向上させるために温度検出信号をいかに用いるか等制御態様に囚われがちである。一方で本発明は、温度センサの配置を鋭意検討した結果なされたものであり、液体試料の温度制御の応答性及び精度を向上させることをその主たる課題とするものである。
すなわち本発明に係る液体試料加熱気化装置は、液体試料を導入する導入ポート及び気化した液体試料を導出する導出ポートを有し、液体試料を貯留する気化タンクと、前記気化タンク内に設けられ、液体試料に接触して加熱する加熱部を有する1又は複数のヒータと、前記ヒータの加熱部を含む外表面に接触して設けられ、当該外表面の温度を検出するヒータ温度検出部と、前記ヒータ温度検出部からの温度検出信号を受け付けて、前記ヒータに供給する電力を制御する制御部とを備えることを特徴とする。
このようなものであれば、ヒータ温度検出部をヒータの加熱部を含む外表面に接触して設けることにより、従来生じていたタイムラグによる不具合を解消することができ、液体試料の温度制御の応答性及び精度を向上させることができる。特に、必要な蒸気圧を確保できる温度とそれが熱分解する温度(分解点)とが近い場合であっても、液体試料に接触する加熱部を含む外表面の温度を検出しているので、液体試料の温度を分解点未満に確実に制御できるようになり、液体試料の熱分解の問題も解消することができる。
前記ヒータが、前記気化タンクに挿入して設けられる棒状ヒータであれば、液体試料と加熱部との接触面積を可及的に大きくすることができ、液体試料を効率良く加熱することができる。これにより、小型の気化タンクを用いながらも、大容量の気化した液体試料を供給することができるようになる。
この場合、気化タンクの気密性を確保し易くする観点から、ヒータ温度検出部を当該気化タンクの外側に位置する外表面に接触して設けられていることが望ましい。また、ヒータ温度検出部をこの配置にすることによって液体試料の熱分解を一層防止することができる。つまり、ヒータは、液体試料に接触している加熱部よりも、気化タンクの外側において外気に接触している外表面の方が高温になる。この高温になる外表面の温度を検出して、例えば当該外表面の検出温度を分解点未満にする等の温度制御を行うことによって、液体試料の熱分解を好適に防止することができる。
このように構成した本発明によれば、液体試料の温度制御の応答性及び精度を向上させることができる。
本発明の試料ガス供給システムの一実施形態を示す模式図である。 同実施形態の液体試料加熱気化装置の構成を示す模式的断面図である。 同実施形態の液体試料加熱気化装置の構成を示す模式的平面図である。 同実施形態のセンサ保持ブロックの構成を示す側面図である。 同実施形態のヒータの制御態様を示す模式図である。 従来の液体試料加熱気化装置の構成を示す模式図である。
以下に、本発明に係る液体試料加熱気化装置を用いた試料ガス供給システムの一実施形態について、図面を参照して説明する。
<装置構成>
本実施形態に係る試料ガス供給システム100は、例えば半導体製造システムや太陽電池製造システムに組み込まれるものであり、図1に示すように、液体試料を加熱して気化する液体試料加熱気化装置2と、この液体試料加熱気化装置2の導出ポートP2に接続されて、気化された液体試料(以下、試料ガスという)をチャンバ等の対象機器200に供給する供給ライン3と、当該供給ライン3に設けられて、試料ガスの流量をコントロールするマスフローコントローラ(MFC)等の流量制御機器4とを備えている。本実施形態では、液体試料として、必要な蒸気圧を確保できる温度と液体試料自体が熱分解してしまう温度(分解点)とが近い試料、例えば、ジエチル亜鉛((CZn、DEZ)、トリメチルアルミニウム((CHAl、TMA)、トリメチルガリウム((CHGa、TMGa)、トリエチルガリウム((CGa)、テトラキスメチルエチルアミノハフニウム(Hf[N(CH)(C)])、テトラキスメチルエチルアミノジルコニウム(Zr[N(CH)(C)]、TEMAZ)等である。また、熱分解し易い試料を用いているため、流量制御機器4に組み込まれる流量センサは、熱式流量センサではなく、差圧式流量センサを用いている。
しかして本実施形態の液体試料加熱気化装置2は、図2に示すように、液体試料が貯留される気化タンク21と、当該気化タンク21内に設けられて、液体試料を加熱して気化するための複数のヒータ22と、当該ヒータ22に設けられてヒータ22の温度を検出するヒータ温度検出部23と、気化タンク21に貯留された液体試料に浸漬されて当該液体試料の温度を検出する液温度検出部24と、ヒータ温度検出部23及び液温度検出部24からの検出信号を受け付けて、ヒータ22に供給する電力を制御する制御部25とを備えている。
以下、各部21〜25について説明する。
気化タンク21は、図2及び図3に示すように、概略中空円柱形状をなす金属製のものである。そして、その上壁21aに液体試料を内部に導入する導入ポートP1と気化タンク21内で気化した液体試料(試料ガス)を導出する導出ポートP2が設けられている。なお、導入ポートP1及び導出ポートP2にはそれぞれ開閉弁が設けられており、液体試料の導入及び試料ガスの導出が切り替えられる。また導入ポートP1には図示しない液体試料容器が接続されており、当該液体試料容器から気化タンク21に液体試料が供給される。
ヒータ22は、気化タンク21の側周壁21bに設けられた取り付け孔に挿入されることによって、気化タンク21内に設けられる棒状ヒータである。本実施形態のヒータ22は、発熱線221と、当該発熱線221を収容する円筒状をなす金属製収容体222とからなる、いわゆるカートリッジヒータである。このヒータ22は、気化タンク21に側周壁21bから水平方向に延びるように設けられるとともに、気化タンク21内の空間を水平に横切るように設けられる。ヒータ22の先端部は、気化タンク21の取り付け孔に溶接されるとともに、基端部も気化タンク21の取り付け孔に溶接される。複数(本実施形態では4本)のヒータ22は、水平方向に等間隔且つ互いに平行に設けられている(図3参照)。また、ヒータ22の単位長さ当たりのワット数は同じである。
各ヒータ22は、気化タンク21内に貯留された液体試料に接触して加熱する加熱部である加熱面22hを有する。この加熱面22hは、ヒータ22を気化タンク21に挿入して取り付けた状態おいて、当該気化タンク21内に位置するヒータ22の外表面のことであり、液体試料に接触して当該液体試料に直接熱を伝える面である。本実施形態ではヒータ22が発熱線221及び金属製収容体222からなることから、加熱面22hは、気化タンク21内に位置する金属製収容体222の外表面のことである。
ヒータ温度検出部23は、ヒータ22の加熱面22hを含む外表面の一部に接触して設けられて、当該ヒータ22の外表面の温度を検出するものである。具体的にヒータ温度検出部23は、複数のヒータ22のうちの少なくとも1つに設けられており、当該ヒータ22の金属製収容体222の外表面に接触して設けられている。本実施形態では、ヒータ温度検出部23は、ヒータ22を気化タンク21に挿入して取り付けた状態おいて、当該気化タンク21の外側に位置する金属製収容体222の外表面に接触するように設けている。これにより、気化タンク21の気密性を確保し易くして安全性を担保するとともに、ヒータ温度検出部23の取り付けを容易にしてコスト削減を図っている。なお、このヒータ温度検出部23により得られる温度検出値は、ヒータ22の加熱面22hと略同一の温度である。
具体的にヒータ温度検出部23は、図4に示すように、温度センサ本体231と、当該温度センサ本体231を保持するとともに、金属製収容体222からの熱を温度センサ本体231に伝熱するセンサ保持ブロック232とを備えている。温度センサ本体231は、例えば白金測温抵抗体を用いたものであり、温度センサ本体231により得られた検出信号は制御部25に出力される。
センサ保持ブロック232は、ヒータ22の金属製収容体222が挿入される貫通孔232aを備えている。この貫通孔232aがヒータ22の金属製収容体222の外側周面に嵌ることによって、貫通孔232aの内側周面が、金属製収容体222の外側周面と接触する。また、このセンサ保持ブロック232には、貫通孔232aに隣接する位置に温度センサ本体231を挿入して固定するための挿入孔232bが設けられている。この挿入孔232bは上方に開口しており、温度センサ本体231が上方から挿入される。そして、温度センサ本体231が挿入した状態で、当該挿入孔232bに直交して連通する雌ねじ孔232cに留めねじ233を螺合させることによって、当該留めねじ233の先端面によりセンサ本体231をセンサ保持ブロック232に押圧させて固定する。
このセンサ保持ブロック232は、熱伝導性に優れた材料、例えばアルミニウムを用いて構成されており、ヒータ22からの熱をセンサ本体231に伝達し易くしている。つまり、ヒータ22による加熱開始後、当該ヒータ22により加熱される液体試料の温度よりもセンサ本体231の温度の方が高温となるように構成している。言い換えれば、センサ保持ブロック232の熱伝導率が、液体材料の熱伝導率よりも大きくなるように構成している。これにより、温度センサ本体231により得られる温度検出値を液体試料の温度よりも高温とすることができ、温度センサ本体231の温度検出値を液体試料の分解点未満に制御することで、液体試料の熱分解を確実に防止できるようにしている。
液温度検出部24は、図2に示すように、気化タンク21内の液体試料の液体温度を検出できるように気化タンク21内に配置されている。この液温度検出部24は、前記温度センサ本体231と同様に、例えば白金測温抵抗体を用いたものであり、液温度検出部24により得られた検出信号は制御部25に出力される。また、液温度検出部24は、気化タンク21の上壁21aに設けられたセンサ挿入用の取付孔に挿入された固定されており、その先端部(センシング部)は、ヒータ22よりも下の位置に配置されるように構成されている。
制御部25は、ヒータ温度検出部23(温度センサ本体231)からの加熱面22h温度を示す検出信号と液温度検出部24からの液体温度を示す検出信号とを受け付けて、カスケード制御により、ヒータ22に接続された電源をON/OFF制御するものである。
具体的に制御部25は、予め定められた加熱面22hの設定温度(例えば60℃)と温度センサ本体231により得られた加熱面22h温度と比較するとともに、予め定めた液体温度(例えば55℃)と液温度検出部24により得られた液体温度とを比較する。そして、制御部25は、それらの比較により、加熱面温度制御用のオンオフ信号を生成するとともに、液温度制御用のオンオフ信号を生成する(図5上段)。これらのオンオフ信号を比較して、両者のオンオフ信号のオン信号が重複した場合にのみ、制御部25はヒータ22に電力を供給するように制御する(図5下段)。
<本実施形態の効果>
このように構成した本実施形態のガス供給システム100によれば、ヒータ温度検出部23をヒータ22の加熱面22hを含む外表面に接触して設けることにより、従来生じていた伝熱の時間差による不具合を解消することができ、液体試料の温度制御の応答性及び精度を向上させることができる。特に、必要な蒸気圧を確保できる温度とそれが熱分解する温度(分解点)とが近い場合であっても、液体試料に接触する加熱面22hを含む外表面の温度を検出しているので、液体試料の温度を分解点未満に確実に制御できるようになり、液体試料の熱分解の問題も解消することができる。
また、ヒータ22に棒状のカートリッジヒータであり、気化タンク21内に挿入して設けているので、液体試料と加熱面22hとの接触面積を可及的に大きくし、液体試料を効率良く加熱することができる。これにより、小型の気化タンク21を用いながらも、大容量の気化した液体試料を供給することができるようになる。
<その他の変形実施形態>
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
例えば、前記実施形態ではヒータ温度検出部を気化タンクの外側に位置するヒータの外表面に設けているが、気化タンクの内側に位置するヒータの外表面(加熱面)に接触するように設けても良い。
また、ヒータ温度検出部を温度センサ本体のみから構成し、当該温度センサ本体をセンサ固定用耐熱テープを用いてヒータの外周面に接触するように固定しても良い。
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
100・・・ガス供給システム
2 ・・・液体試料加熱気化装置
3 ・・・流量制御機構
21 ・・・気化タンク
P1 ・・・導入ポート
P2 ・・・導出ポート
22 ・・・ヒータ
22h・・・加熱面(加熱部)
23 ・・・ヒータ温度検出部
231・・・温度センサ本体
232・・・センサ保持ブロック
25 ・・・制御部

Claims (2)

  1. 液体試料を導入する導入ポート及び気化した液体試料を導出する導出ポートを有し、液体試料を貯留する気化タンクと、
    前記気化タンク内に設けられ、液体試料に接触して加熱する加熱部を有する1又は複数のヒータと、
    前記ヒータの加熱部を含む外表面に接触して設けられ、当該外表面の温度を検出するヒータ温度検出部と、
    前記ヒータ温度検出部からの温度検出信号を受け付けて、前記ヒータに供給する電力を制御する制御部とを備える液体試料加熱気化装置。
  2. 前記ヒータが、前記気化タンクに挿入して設けられる棒状ヒータであり、
    前記ヒータ温度検出部が、前記気化タンクに挿入された棒状ヒータにおいて、当該気化タンクの外側に位置する外表面に接触して設けられている請求項1記載の液体試料加熱気化装置。
JP2010159767A 2010-07-14 2010-07-14 液体試料加熱気化装置 Active JP5852774B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010159767A JP5852774B2 (ja) 2010-07-14 2010-07-14 液体試料加熱気化装置
EP11173535A EP2407235A1 (en) 2010-07-14 2011-07-12 Liquid sample heating vaporizer
CN2011101959322A CN102338715A (zh) 2010-07-14 2011-07-13 液体试样加热汽化装置
CN201611241356.XA CN106959241A (zh) 2010-07-14 2011-07-13 液体试样加热汽化装置
KR1020110069392A KR101822658B1 (ko) 2010-07-14 2011-07-13 액체시료 가열기화장치
US13/182,401 US8661919B2 (en) 2010-07-14 2011-07-13 Liquid sample heating vaporizer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010159767A JP5852774B2 (ja) 2010-07-14 2010-07-14 液体試料加熱気化装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012020227A true JP2012020227A (ja) 2012-02-02
JP5852774B2 JP5852774B2 (ja) 2016-02-03

Family

ID=44773948

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010159767A Active JP5852774B2 (ja) 2010-07-14 2010-07-14 液体試料加熱気化装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8661919B2 (ja)
EP (1) EP2407235A1 (ja)
JP (1) JP5852774B2 (ja)
KR (1) KR101822658B1 (ja)
CN (2) CN102338715A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013235758A (ja) * 2012-05-10 2013-11-21 Sanden Corp 加熱装置
JP2014007289A (ja) * 2012-06-25 2014-01-16 Tokyo Electron Ltd ガス供給装置及び成膜装置
WO2019180906A1 (ja) * 2018-03-23 2019-09-26 株式会社Kokusai Electric 気化器、基板処理装置及び半導体装置の製造方法
JP2021030216A (ja) * 2019-08-23 2021-03-01 廣化科技股▲分▼有限公司 純ギ酸ガス供給装置、純ギ酸ガスが供給されるはんだ付けシステム及び純ギ酸ガス供給方法
JP2022046879A (ja) * 2020-09-11 2022-03-24 株式会社Kokusai Electric 気化装置、基板処理装置、クリーニング方法、半導体装置の製造方法、およびプログラム
US11866822B2 (en) 2019-09-18 2024-01-09 Kokusai Electric Corporation Vaporizer, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10087896B1 (en) * 2012-10-14 2018-10-02 Alberto Martin Perez Liquefied light hydrocarbon fuel system for hybrid vehicle and methods thereto
US9454158B2 (en) 2013-03-15 2016-09-27 Bhushan Somani Real time diagnostics for flow controller systems and methods
KR101480379B1 (ko) * 2013-11-20 2015-01-09 한국표준과학연구원 상변화 기반의 온습도계 점검장치 및 그 제어방법과 그 점검방법
CN105092716A (zh) * 2015-08-12 2015-11-25 苏州优谱德精密仪器科技有限公司 一种紧凑型液化石油气成分检测装置
KR101895684B1 (ko) 2016-11-18 2018-09-07 현주 우주 쓰레기를 처리하기 위한 방법
US10983537B2 (en) 2017-02-27 2021-04-20 Flow Devices And Systems Inc. Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller
CN109163944A (zh) * 2018-09-26 2019-01-08 苏州曼德克光电有限公司 一种多级加热的取样装置
CN109358092B (zh) * 2018-10-23 2021-11-09 国联汽车动力电池研究院有限责任公司 一种软包电池的封装效果检验方法
CN110963534A (zh) * 2019-11-25 2020-04-07 怀化恒安石化有限公司 一种用于硝酸镍产品生产过程的深度萃取除杂装置
JP7033622B2 (ja) 2020-03-19 2022-03-10 株式会社Kokusai Electric 気化装置、基板処理装置、クリーニング方法および半導体装置の製造方法
DE102022212052B3 (de) 2022-11-14 2023-11-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein Vorrichtung und Verfahren zum Verdampfen einer Flüssigkeit für eine elektrische Zigarette

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6161789U (ja) * 1984-09-27 1986-04-25
JPS6231892U (ja) * 1985-08-09 1987-02-25
US5078922A (en) * 1990-10-22 1992-01-07 Watkins-Johnson Company Liquid source bubbler
JPH11319537A (ja) * 1998-05-13 1999-11-24 Ebara Corp 液体原料気化器用カートリッジヒータ
JP2001518600A (ja) * 1997-08-19 2001-10-16 エイオーエス・ホールディング・カンパニー 熱効率向上のために比例帯温度制御を備える温水器
JP2002336680A (ja) * 2001-05-16 2002-11-26 Stec Inc 気化タンク

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3020975A (en) * 1957-10-17 1962-02-13 Phillips Petroleum Co Sampling system for a process analyzer
US3107516A (en) * 1960-09-19 1963-10-22 Gen Motors Corp Liquid vaporization testing apparatus
US3987133A (en) * 1975-09-05 1976-10-19 Fisher Scientific Company Humidifier
US4618462A (en) * 1983-10-24 1986-10-21 Fisher Robert S Humidifier with controlled heat input
JP2000252269A (ja) * 1992-09-21 2000-09-14 Mitsubishi Electric Corp 液体気化装置及び液体気化方法
US5402668A (en) * 1992-11-24 1995-04-04 Miller Brewing Company High-resolution beer volatile analysis method
US6863268B2 (en) * 2001-11-27 2005-03-08 Chaojiong Zhang Dew point humidifier (DPH) and related gas temperature control
US6715743B2 (en) * 2001-11-27 2004-04-06 Chaojiong Zhang Gas humidifier
US6988717B2 (en) * 2003-12-15 2006-01-24 Chemflow Systems, Inc. Method and system for near saturation humidification of a gas flow
DE102004019635B4 (de) * 2004-04-22 2007-12-27 Rehm Anlagenbau Gmbh Dampfbetriebene Lötanlage und Dampferzeugungssystem für eine Lötanlage
CN1721617B (zh) * 2004-07-14 2010-06-09 冯启东 蒸汽发生装置及使用该蒸汽发生装置的蒸汽熨斗
DE102005030822A1 (de) * 2005-07-01 2007-01-11 Krones Ag Verfahren und Vorrichtung zum Überwachen eines Verdampfers
US20070098591A1 (en) * 2005-10-31 2007-05-03 Georg Frinke Method and apparatus for low energy vaporization of liquid oxidizing agents or solutions

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6161789U (ja) * 1984-09-27 1986-04-25
JPS6231892U (ja) * 1985-08-09 1987-02-25
US5078922A (en) * 1990-10-22 1992-01-07 Watkins-Johnson Company Liquid source bubbler
JP2001518600A (ja) * 1997-08-19 2001-10-16 エイオーエス・ホールディング・カンパニー 熱効率向上のために比例帯温度制御を備える温水器
JPH11319537A (ja) * 1998-05-13 1999-11-24 Ebara Corp 液体原料気化器用カートリッジヒータ
JP2002336680A (ja) * 2001-05-16 2002-11-26 Stec Inc 気化タンク

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013235758A (ja) * 2012-05-10 2013-11-21 Sanden Corp 加熱装置
JP2014007289A (ja) * 2012-06-25 2014-01-16 Tokyo Electron Ltd ガス供給装置及び成膜装置
WO2019180906A1 (ja) * 2018-03-23 2019-09-26 株式会社Kokusai Electric 気化器、基板処理装置及び半導体装置の製造方法
JPWO2019180906A1 (ja) * 2018-03-23 2020-12-17 株式会社Kokusai Electric 気化器、基板処理装置及び半導体装置の製造方法
JP2021030216A (ja) * 2019-08-23 2021-03-01 廣化科技股▲分▼有限公司 純ギ酸ガス供給装置、純ギ酸ガスが供給されるはんだ付けシステム及び純ギ酸ガス供給方法
US11866822B2 (en) 2019-09-18 2024-01-09 Kokusai Electric Corporation Vaporizer, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device
JP2022046879A (ja) * 2020-09-11 2022-03-24 株式会社Kokusai Electric 気化装置、基板処理装置、クリーニング方法、半導体装置の製造方法、およびプログラム
JP7184857B2 (ja) 2020-09-11 2022-12-06 株式会社Kokusai Electric 気化装置、基板処理装置、クリーニング方法、半導体装置の製造方法、プログラム、および基板処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR101822658B1 (ko) 2018-01-26
EP2407235A1 (en) 2012-01-18
CN106959241A (zh) 2017-07-18
KR20120007460A (ko) 2012-01-20
US20120011943A1 (en) 2012-01-19
CN102338715A (zh) 2012-02-01
US8661919B2 (en) 2014-03-04
JP5852774B2 (ja) 2016-02-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5852774B2 (ja) 液体試料加熱気化装置
JP7054421B2 (ja) 電子蒸気供給装置
US20160298227A1 (en) A crucible device used in coating system
JP5373474B2 (ja) 可燃性ガス検出装置
TWI628717B (zh) 加熱汽化系統和加熱汽化方法
US10717416B2 (en) Washer fluid heating device
JP2014047365A (ja) 蒸発源
WO2011027566A1 (ja) 電解装置
CN108624500B (zh) 用于运行加湿模块的方法、加湿模块、具有加湿模块的培养箱或气候室
KR100860115B1 (ko) 연료전지용 가습장치
TW201624590A (zh) 氣化用容器、氣化器及氣化裝置
KR101103508B1 (ko) 선형 유기물 증착 장치
JP2014219117A (ja) ボイラ
KR101640836B1 (ko) 기화량을 안정적으로 제어할 수 있는 캐니스터와 기화 시스템
JP2008164583A (ja) 可燃性ガス検出装置
CN102560681A (zh) 测温装置及扩散炉
US20220196285A1 (en) Storage electric water heater
KR20140022268A (ko) 전기식 보일러
CN118208718A (zh) 一种常压过热水蒸气发生装置
CN215328349U (zh) 一种lpcvd炉用teos气体生成装置
KR20240052767A (ko) 기화기
JP2017146210A (ja) 温度センサ取付構造
JP2008151709A (ja) 酸素センサ
JP2009074773A (ja) 加湿器
CN105024261B (zh) 利用碘钨灯作为热源的快速供碘装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130704

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140714

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140722

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140922

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150317

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150518

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151126

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151207

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5852774

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250