JP2012019062A - 発光半導体装置、実装基板及びそれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【効果】本発明によれば、ガス透過性を大幅に改善することでリフレクターの反射率低下を防止し、腐食性ガスの侵入による腐食を防止することができ、これにより長期の信頼性を確保した発光半導体装置を提供することができる。
【選択図】なし
Description
また、高硬度ゴム状シリコーン樹脂でも、ガスの透過性はエポキシ樹脂等に比べ大きく、窒素酸化物やイオウ酸化物等の腐食性ガスがシリコーン樹脂を透過し、リフレクター表面の銀メッキ部と反応する。その結果、光反射率が低下し輝度低下の原因となった。
請求項1:
発光半導体素子用リフレクターに収容された発光半導体素子の電極がリードの電極にフリップチップ方式で接続され、素子とリードフレームとの間隙部がアンダーフィル材で充填硬化されていると共に、上記発光半導体素子及びリフレクターの表面を覆って0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜が形成されてなることを特徴とする発光半導体装置。
請求項2:
更に、上記発光半導体素子が透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止された請求項1記載の発光半導体装置。
請求項3:
発光半導体素子用リフレクターに収容され、ダイボンド材でダイパッドに固定された発光半導体素子の電極とリード電極とが導電細線で接続され、かつ上記発光半導体素子、導電細線及びリフレクターの表面を覆って0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜が形成されてなることを特徴とする発光半導体装置。
請求項4:
更に、上記発光半導体素子が透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止された請求項3記載の発光半導体装置。
請求項5:
発光半導体素子用リフレクターに収容された発光半導体素子の電極がリードの電極にフリップチップ方式で接続され、素子とリードフレームとの間隙部がアンダーフィル材で充填硬化され、更に上記発光半導体素子が透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止されていると共に、該封止樹脂及びリフレクターの表面を覆って0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜が形成されてなることを特徴とする発光半導体装置。
請求項6:
発光半導体素子用リフレクターに収容され、ダイボンド材でダイパッドに固定された発光半導体素子の電極とリード電極とが導電細線で接続され、更に上記発光半導体素子及び導電細線が透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止されていると共に、該封止樹脂及びリフレクターの表面を覆って0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜が形成されてなることを特徴とする発光半導体装置。
請求項7:
透明樹脂が、シリコーン樹脂を30質量%以上含有するものである請求項2,4,5又は6記載の発光半導体装置。
請求項8:
透明樹脂が、熱硬化性エポキシ−シリコーン樹脂組成物の硬化物である請求項7記載の発光半導体装置。
請求項9:
酸化ケイ素硬化被膜が、パーハイドロポリシラザンを硬化することによって形成されたものである請求項1乃至8のいずれか1項記載の発光半導体装置。
請求項10:
発光半導体素子用リフレクターに収容された発光半導体素子の電極がリードの電極にフリップチップ方式で接続され、素子とリードフレームとの間隙部がアンダーフィル材で充填硬化され、更に上記発光半導体素子が透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止された発光半導体装置が、実装基板上にリード電極を導電接合材料で接合することによって実装されていると共に、実装基板上の装置表面に0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜が形成されてなることを特徴とする実装基板。
請求項11:
発光半導体素子用リフレクターに収容され、ダイボンド材でダイパッドに固定された発光半導体素子の電極とリード電極とが導電細線で接続され、上記発光半導体素子及び導電細線を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止された発光半導体装置が、実装基板上にリード電極を導電接合材料で接合することによって実装されていると共に、実装基板上の装置表面に0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜が形成されてなることを特徴とする実装基板。
請求項12:
透明樹脂が、シリコーン樹脂を30質量%以上含有するものである請求項10又は11記載の実装基板。
請求項13:
透明樹脂が、熱硬化性エポキシ−シリコーン樹脂組成物の硬化物である請求項12記載の実装基板。
請求項14:
酸化ケイ素硬化被膜が、パーハイドロポリシラザンを硬化することによって形成されたものである請求項10乃至13のいずれか1項記載の実装基板。
請求項15:
発光半導体素子用リフレクターに収容された発光半導体素子の電極をリードの電極にフリップチップ方式で接続し、素子とリードフレームとの間隙部をアンダーフィル材で充填硬化させた後、上記発光半導体素子及びリフレクターの表面を覆ってパーハイドロポリシラザン溶液を噴霧又は注型塗布し、パーハイドロポリシラザンを硬化させて0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜を形成することを特徴とする発光半導体装置の製造方法。
請求項16:
更に、上記発光半導体素子を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止する請求項15記載の製造方法。
請求項17:
発光半導体素子用リフレクターに収容され、ダイボンド材でダイパッドに固定された発光半導体素子の電極とリード電極とを導電細線で接続した後、上記発光半導体素子、導電細線及びリフレクターの表面を覆ってパーハイドロポリシラザン溶液を噴霧又は注型塗布し、パーハイドロポリシラザンを硬化させて0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜を形成することを特徴とする発光半導体装置の製造方法。
請求項18:
更に、上記発光半導体素子を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止する請求項17記載の製造方法。
請求項19:
発光半導体素子用リフレクターに収容された発光半導体素子の電極をリードの電極にフリップチップ方式で接続し、素子とリードフレームとの間隙部をアンダーフィル材で充填硬化させた後、上記発光半導体素子を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止し、次いで該封止樹脂及びリフレクターの表面を覆ってパーハイドロポリシラザン溶液を噴霧又は注型塗布し、パーハイドロポリシラザンを硬化させて0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜を形成することを特徴とする発光半導体装置の製造方法。
請求項20:
発光半導体素子用リフレクターに収容され、ダイボンド材でダイパッドに固定された発光半導体素子の電極とリード電極とを導電細線で接続した後、上記発光半導体素子及び導電細線を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止し、次いで該封止樹脂及びリフレクターの表面を覆ってパーハイドロポリシラザン溶液を噴霧又は注型塗布し、パーハイドロポリシラザンを硬化させて0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜を形成することを特徴とする発光半導体装置の製造方法。
請求項21:
透明樹脂が、シリコーン樹脂を30質量%以上含有するものである請求項16、18、19又は20記載の製造方法。
請求項22:
透明樹脂が、熱硬化性エポキシ−シリコーン樹脂組成物の硬化物である請求項21記載の製造方法。
請求項23:
発光半導体素子用リフレクターに収容された発光半導体素子の電極をリードの電極にフリップチップ方式で接続し、素子とリードフレームとの間隙部をアンダーフィル材で充填硬化させた後、上記発光半導体素子を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止し、得られた発光半導体装置を実装基板上にリード電極を導電接合材料で接合して実装し、次いで実装基板上の装置表面にパーハイドロポリシラザン溶液を噴霧又は注型塗布し、パーハイドロポリシラザンを硬化させて0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜を形成することを特徴とする実装基板の製造方法。
請求項24:
発光半導体素子用リフレクターに収容され、ダイボンド材でダイパッドに固定された発光半導体素子の電極とリード電極とを導電細線で接続した後、上記発光半導体素子及び導電細線を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止し、得られた発光半導体装置を実装基板上にリード電極を導電接合材料で接合して実装し、次いで実装基板上の装置表面にパーハイドロポリシラザン溶液を噴霧又は注型塗布し、パーハイドロポリシラザンを硬化させて0.05〜10μmの酸化ケイ素硬化被膜を形成することを特徴とする実装基板の製造方法。
請求項25:
透明樹脂が、シリコーン樹脂を30質量%以上含有するものである請求項23又は24記載の製造方法。
請求項26:
透明樹脂が、熱硬化性エポキシ−シリコーン樹脂組成物の硬化物である請求項23記載の製造方法。
図2,3は、上記フリップチップ方式による本発明の一実施形態を示すもので、図1で示されるリフレクター1に収容された発光半導体素子10の電極とリードフレーム2,2におけるリード電極とをハンダや金、金/錫、あるいは他の金属のボール12を介してフリップチップ方式で接続し、発光半導体素子10を接合する。接合後、発光半導体素子10下部の間隙にシリコーンやエポキシ樹脂系アンダーフィル材14を侵入させ、隙間を充填し、熱で硬化させる(図2)。
なお、図示していないが、図5の場合と同様に、図6の状態において、透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂により発光素子、金線を樹脂封止した後、この封止樹脂、リフレクターの表面に酸化ケイ素被膜を形成するようにしてもよい。
なお、発光半導体装置として図2のものを用いる代りに図6のものを用い、図9の場合と同様にして実装基板を作製することもできる。
−(SiH2NH)−
より具体的には、下記構造にて表すことができる。
このパーハイドロポリシラザンとしては市販品を用いることができ、例えばAZエレクトロニックマテリアルズ(株)製アクアミカ(Aquamica)等を使用することができる。
R1 aSi(OR2)b(OH)cO(4-a-b-c)/2 (1)
(式中、R1は同一又は異種の炭素数1〜20の一価炭化水素基等の有機基、R2は同一又は異種の炭素数1〜4の一価炭化水素基等の有機基を示し、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、0.801≦a+b+c<2を満たす数である。)
で示されるようなシリコーン樹脂(オルガノポリシロキサン)が用いられ、これに縮合触媒等を配合した公知の縮合硬化型シリコーン樹脂組成物を使用することができる。
例えば、青色LEDを用いて白色化するために各種公知の蛍光体粉末を添加することができる。代表的な黄色蛍光体として一般式A3B50O12:M(式中、成分Aは、Y,Gd,Tb,La,Lu,Se及びSmからなるグループからなる少なくとも1つの元素を有し、成分Bは、Al,Ga及びInからなるグループからなる少なくとも1つの元素を有し、成分MはCe,Pr,Eu,Nd及びErからなるグループからなる少なくとも1つの元素を有する)のガーネットのグループからなる蛍光体粒子を含有するのが特に有利である。青色光を放射する発光ダイオードチップを備えた白色光を放射する発光ダイオード素子用に蛍光体として、Y3Al5O12:Ce蛍光体及び/又は(Y,Gd、Tb)3(Al,Ga)5O12:Ce蛍光体が適している。その他の蛍光体として、例えば、CaGa2S4:Ce3+及びSrGa2S4:Ce3+、YAlO3:Ce3+,YGaO3:Ce3+、Y(Al,Ga)O3:Ce3+、Y2SiO5:Ce3+等が挙げられる。また、混合色光を作製するためにはこれらの蛍光体の他に希土類でドープされたアルミン酸塩や希土類でドープされたオルトケイ酸塩等が適している。青色発光ダイオード(LED)の封止樹脂として使用し、白色化する場合は、イットリウム・アルミニウム・ガーネット系(YAG)、ナイトライドシリケート類、更に希土類でドープされたチオガレート等の蛍光体を含有してもよい。蛍光体の含有量については限定されないが、組成物中1〜30質量%の範囲内が望ましい。特に望ましくは5〜20質量%である。
熱硬化性シリコーン樹脂組成物(SWC7200T、信越化学工業(株)製)で成形した図1の構造のリフレクターに青色LEDをシリコーンダイボンド剤(KJR−632DA−1、信越化学工業(株)製)を用いて固定し、150℃で1時間加熱することで発光素子をダイパッド状に固着させた。
その後、金線で素子とリード先端を電気的に接続した(図6)。その後、透明なシリコーン樹脂組成物(LPS−3410、信越化学工業(株)製)にYAG系蛍光体を5質量%配合したシリコーン樹脂組成物をポッティングによりリフレクターの凹部に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間加熱硬化させることで封止した。
得られた発光半導体装置をパーハイドロポリシラザン(AZエレクトロニックマテリアルズ(株)の商品名:アクアミカ)を25質量%含有するテトラブチルエーテル溶液でスプレー塗布した。塗布後、発光半導体装置を200℃で20分処理し、硬化させることで、クラックのない透明な酸化ケイ素被膜を形成させた。膜厚は約1μmであった。これを発光半導体装置No.1とした。
実施例1で作製したパーハイドロポリシラザンで処理をしていない発光半導体装置をNo.2とした。
熱硬化性シリコーン樹脂組成物(SWC7200T、信越化学工業(株)製)で成形した図1の構造のリフレクターに青色LEDを金バンプを介して図2のように接続した。接続後、平均粒径が5μmの球状シリカを50質量%含有するシリコーン樹脂組成物(製品名、信越化学工業(株)製)を素子と基板の間隙に流し込み、120℃で1時間硬化させた。シリコーン樹脂組成物が硬化した後、リフレクター凹部にパーハイドロポリシラザン(アクアミカ)を25質量%含有するテトラブチルエーテル溶液を流し込み、180℃で30分硬化させた。その後、再度パーハイドロポリシラザン溶液を流し込み、180℃で1時間硬化させることで、膜厚平均2μmのクラックのない透明な酸化ケイ素被膜を生成した(図3)。これを発光半導体装置No.3とした。
No.3の発光半導体装置を用い、凹部に実施例1で使用した付加型シリコーン樹脂組成物をポッティングによりリフレクターの凹部に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間加熱硬化させることで封止した(図4)。これを発光半導体装置No.4とした。
フリップチップ方式で素子をリードフレーム上に接合した後(図2)、実施例1で使用した付加型シリコーン樹脂組成物をポッティングによりリフレクターの凹部に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間加熱硬化させることで封止した。
得られた発光半導体装置をパーハイドロポリシラザン(アクアミカ)を25質量%含有するテトラブチルエーテル溶液でスプレー塗布した。塗布後、発光半導体装置を200℃で20分処理し、硬化させることでクラックのない透明な酸化ケイ素被膜を形成させた(図5)。膜厚は約1μmであった。これを発光半導体装置No.5とした。
フリップチップ方式で素子をリードフレーム上に接合した後(図2)、実施例1で使用した付加型シリコーン樹脂組成物をポッティングによりリフレクターの凹部に流し込み、120℃で1時間、更に150℃で2時間加熱硬化させることで封止した。
得られた3個の発光半導体装置をセラミックス製実装基板上にハンダを使用し、リフレクターの電極と基板電極を接続させた。その後、パーハイドロポリシラザン(アクアミカ)を25質量%含有するテトラブチルエーテル溶液でスプレー塗布した。塗布後、発光半導体装置を200℃で20分処理し、硬化させることでクラックのない透明な酸化ケイ素被膜を形成させた(図9)。膜厚は約1μmであった。これを発光半導体装置No.6とした。
タック性試験
実施例1と比較例1の発光半導体装置No.1とNo.2を用い、シリコーン樹脂表面のタック性を比較した。評価方法は粒度1μmのアルミニウム粉末5gをそれぞれの発光半導体装置上に振りかけて、シリコーン樹脂表面に付着した度合いで行った。
パーハイドロポリシラザン(アクアミカ)で表面に酸化被膜を形成させたNo.1は全くアルミニウム粉末が付着しないのに対し、No.2は表面全体に粉末が付着した。
耐硫化試験結果
密閉することができるガラス容器(30cm×10cm×15cm)中に実施例1〜5、比較例1で製造した発光半導体装置、及び硫化アンモニウム40グラムと水40グラムを入れて、室温で48時間放置し、銀メッキ表面の変色状態を観察した。
実施例1〜5で製造した発光半導体装置No.1、No.3、No.4、No.5、No.6はいずれも銀メッキ表面は全く変色しないが、No.2は黒色に変色していた。
2 リードフレーム
10 発光半導体素子
12 ボール
14 アンダーフィル材
16 酸化ケイ素被膜
18 透明樹脂
20 ダイパッド
22 金線
30 実装基板
32 ハンダ
Claims (26)
- 発光半導体素子用リフレクターに収容された発光半導体素子の電極がリードの電極にフリップチップ方式で接続され、素子とリードフレームとの間隙部がアンダーフィル材で充填硬化されていると共に、上記発光半導体素子及びリフレクターの表面を覆って0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜が形成されてなることを特徴とする発光半導体装置。
- 更に、上記発光半導体素子が透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止された請求項1記載の発光半導体装置。
- 発光半導体素子用リフレクターに収容され、ダイボンド材でダイパッドに固定された発光半導体素子の電極とリード電極とが導電細線で接続され、かつ上記発光半導体素子、導電細線及びリフレクターの表面を覆って0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜が形成されてなることを特徴とする発光半導体装置。
- 更に、上記発光半導体素子が透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止された請求項3記載の発光半導体装置。
- 発光半導体素子用リフレクターに収容された発光半導体素子の電極がリードの電極にフリップチップ方式で接続され、素子とリードフレームとの間隙部がアンダーフィル材で充填硬化され、更に上記発光半導体素子が透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止されていると共に、該封止樹脂及びリフレクターの表面を覆って0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜が形成されてなることを特徴とする発光半導体装置。
- 発光半導体素子用リフレクターに収容され、ダイボンド材でダイパッドに固定された発光半導体素子の電極とリード電極とが導電細線で接続され、更に上記発光半導体素子及び導電細線が透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止されていると共に、該封止樹脂及びリフレクターの表面を覆って0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜が形成されてなることを特徴とする発光半導体装置。
- 透明樹脂が、シリコーン樹脂を30質量%以上含有するものである請求項2,4,5又は6記載の発光半導体装置。
- 透明樹脂が、熱硬化性エポキシ−シリコーン樹脂組成物の硬化物である請求項7記載の発光半導体装置。
- 酸化ケイ素硬化被膜が、パーハイドロポリシラザンを硬化することによって形成されたものである請求項1乃至8のいずれか1項記載の発光半導体装置。
- 発光半導体素子用リフレクターに収容された発光半導体素子の電極がリードの電極にフリップチップ方式で接続され、素子とリードフレームとの間隙部がアンダーフィル材で充填硬化され、更に上記発光半導体素子が透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止された発光半導体装置が、実装基板上にリード電極を導電接合材料で接合することによって実装されていると共に、実装基板上の装置表面に0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜が形成されてなることを特徴とする実装基板。
- 発光半導体素子用リフレクターに収容され、ダイボンド材でダイパッドに固定された発光半導体素子の電極とリード電極とが導電細線で接続され、上記発光半導体素子及び導電細線を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止された発光半導体装置が、実装基板上にリード電極を導電接合材料で接合することによって実装されていると共に、実装基板上の装置表面に0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜が形成されてなることを特徴とする実装基板。
- 透明樹脂が、シリコーン樹脂を30質量%以上含有するものである請求項10又は11記載の実装基板。
- 透明樹脂が、熱硬化性エポキシ−シリコーン樹脂組成物の硬化物である請求項12記載の実装基板。
- 酸化ケイ素硬化被膜が、パーハイドロポリシラザンを硬化することによって形成されたものである請求項10乃至13のいずれか1項記載の実装基板。
- 発光半導体素子用リフレクターに収容された発光半導体素子の電極をリードの電極にフリップチップ方式で接続し、素子とリードフレームとの間隙部をアンダーフィル材で充填硬化させた後、上記発光半導体素子及びリフレクターの表面を覆ってパーハイドロポリシラザン溶液を噴霧又は注型塗布し、パーハイドロポリシラザンを硬化させて0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜を形成することを特徴とする発光半導体装置の製造方法。
- 更に、上記発光半導体素子を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止する請求項15記載の製造方法。
- 発光半導体素子用リフレクターに収容され、ダイボンド材でダイパッドに固定された発光半導体素子の電極とリード電極とを導電細線で接続した後、上記発光半導体素子、導電細線及びリフレクターの表面を覆ってパーハイドロポリシラザン溶液を噴霧又は注型塗布し、パーハイドロポリシラザンを硬化させて0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜を形成することを特徴とする発光半導体装置の製造方法。
- 更に、上記発光半導体素子を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止する請求項17記載の製造方法。
- 発光半導体素子用リフレクターに収容された発光半導体素子の電極をリードの電極にフリップチップ方式で接続し、素子とリードフレームとの間隙部をアンダーフィル材で充填硬化させた後、上記発光半導体素子を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止し、次いで該封止樹脂及びリフレクターの表面を覆ってパーハイドロポリシラザン溶液を噴霧又は注型塗布し、パーハイドロポリシラザンを硬化させて0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜を形成することを特徴とする発光半導体装置の製造方法。
- 発光半導体素子用リフレクターに収容され、ダイボンド材でダイパッドに固定された発光半導体素子の電極とリード電極とを導電細線で接続した後、上記発光半導体素子及び導電細線を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止し、次いで該封止樹脂及びリフレクターの表面を覆ってパーハイドロポリシラザン溶液を噴霧又は注型塗布し、パーハイドロポリシラザンを硬化させて0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜を形成することを特徴とする発光半導体装置の製造方法。
- 透明樹脂が、シリコーン樹脂を30質量%以上含有するものである請求項16、18、19又は20記載の製造方法。
- 透明樹脂が、熱硬化性エポキシ−シリコーン樹脂組成物の硬化物である請求項21記載の製造方法。
- 発光半導体素子用リフレクターに収容された発光半導体素子の電極をリードの電極にフリップチップ方式で接続し、素子とリードフレームとの間隙部をアンダーフィル材で充填硬化させた後、上記発光半導体素子を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止し、得られた発光半導体装置を実装基板上にリード電極を導電接合材料で接合して実装し、次いで実装基板上の装置表面にパーハイドロポリシラザン溶液を噴霧又は注型塗布し、パーハイドロポリシラザンを硬化させて0.05〜10μm厚さの酸化ケイ素硬化被膜を形成することを特徴とする実装基板の製造方法。
- 発光半導体素子用リフレクターに収容され、ダイボンド材でダイパッドに固定された発光半導体素子の電極とリード電極とを導電細線で接続した後、上記発光半導体素子及び導電細線を透明樹脂又は蛍光体を含有する透明樹脂で封止し、得られた発光半導体装置を実装基板上にリード電極を導電接合材料で接合して実装し、次いで実装基板上の装置表面にパーハイドロポリシラザン溶液を噴霧又は注型塗布し、パーハイドロポリシラザンを硬化させて0.05〜10μmの酸化ケイ素硬化被膜を形成することを特徴とする実装基板の製造方法。
- 透明樹脂が、シリコーン樹脂を30質量%以上含有するものである請求項23又は24記載の製造方法。
- 透明樹脂が、熱硬化性エポキシ−シリコーン樹脂組成物の硬化物である請求項23記載の製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013004901A (ja) * | 2011-06-21 | 2013-01-07 | Nippon Kasei Chem Co Ltd | Ledデバイス |
JP2013232503A (ja) * | 2012-04-27 | 2013-11-14 | Toshiba Corp | 半導体発光装置 |
JP2014130963A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置 |
JP2015138965A (ja) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
WO2015175369A1 (en) * | 2014-05-10 | 2015-11-19 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Packaging for ultraviolet optoelectronic device |
JP2016527729A (ja) * | 2013-08-08 | 2016-09-08 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | オプトエレクトロニクス部品およびその製造方法 |
JP2017521872A (ja) * | 2014-07-23 | 2017-08-03 | クリスタル アイエス, インコーポレーテッドCrystal Is, Inc. | 紫外線発光装置の光子取出し |
CN107567659A (zh) * | 2015-05-13 | 2018-01-09 | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 | 用于加工引线框架的方法和引线框架 |
US10103302B2 (en) | 2014-12-25 | 2018-10-16 | Nichia Corporation | Light emitting device |
US10147854B2 (en) | 2014-05-10 | 2018-12-04 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Packaging for ultraviolet optoelectronic device |
WO2019031102A1 (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-14 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 波長変換部材、発光装置及び照明装置 |
JP2019201195A (ja) * | 2018-05-15 | 2019-11-21 | 東貝光電科技股▲ふん▼有限公司Unity Opto Technology Co.,Ltd. | Led光源、led光源の製造方法及び直下型表示装置 |
JP2021500749A (ja) * | 2017-10-19 | 2021-01-07 | ルミレッズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | 発光デバイスパッケージ |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10490712B2 (en) | 2011-07-21 | 2019-11-26 | Cree, Inc. | Light emitter device packages, components, and methods for improved chemical resistance and related methods |
US10686107B2 (en) * | 2011-07-21 | 2020-06-16 | Cree, Inc. | Light emitter devices and components with improved chemical resistance and related methods |
US10211380B2 (en) | 2011-07-21 | 2019-02-19 | Cree, Inc. | Light emitting devices and components having improved chemical resistance and related methods |
JP5938912B2 (ja) * | 2012-01-13 | 2016-06-22 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及び照明装置 |
JP2013197309A (ja) * | 2012-03-19 | 2013-09-30 | Toshiba Corp | 発光装置 |
JP6099901B2 (ja) * | 2012-08-23 | 2017-03-22 | スタンレー電気株式会社 | 発光装置 |
DE102013101598B9 (de) * | 2013-02-18 | 2023-10-19 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements |
WO2015076591A1 (ko) * | 2013-11-21 | 2015-05-28 | 주식회사 루멘스 | 발광 소자 패키지, 백라이트 유닛, 조명 장치 및 발광 소자 패키지의 제작 방법 |
DE102014101557A1 (de) * | 2014-02-07 | 2015-08-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zu seiner Herstellung |
TW201616689A (zh) * | 2014-06-25 | 2016-05-01 | 皇家飛利浦有限公司 | 經封裝之波長轉換發光裝置 |
US20160268554A1 (en) * | 2015-03-11 | 2016-09-15 | National Taiwan University | Electroluminescent devices with improved optical out-coupling efficiencies |
US10680208B2 (en) | 2015-03-11 | 2020-06-09 | National Taiwan University | Electroluminescent device and display pixel structure using the same |
KR102530759B1 (ko) | 2016-06-14 | 2023-05-11 | 삼성전자주식회사 | 발광소자 패키지 및 그 제조방법 |
WO2019042559A1 (en) * | 2017-08-31 | 2019-03-07 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | OPTOELECTRONIC COMPONENT |
US10672960B2 (en) * | 2017-10-19 | 2020-06-02 | Lumileds Llc | Light emitting device package with a coating layer |
KR20200119444A (ko) * | 2019-04-09 | 2020-10-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치 및 이의 제조 방법 |
KR20220084923A (ko) * | 2020-12-14 | 2022-06-21 | 엘지디스플레이 주식회사 | 백라이트 유닛 및 표시장치 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002094128A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-03-29 | Stanley Electric Co Ltd | 発光ダイオード及びその製造方法 |
JP2004088004A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-18 | Okaya Electric Ind Co Ltd | 発光ダイオード |
JP2007059419A (ja) * | 2005-08-22 | 2007-03-08 | Showa Denko Kk | 化合物半導体発光素子を有するledパッケージ |
JP2007324256A (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Toyoda Gosei Co Ltd | Led装置 |
JP2009111245A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Nichia Corp | 発光装置及びこれの製造方法 |
JP2009224536A (ja) * | 2008-03-17 | 2009-10-01 | Citizen Holdings Co Ltd | Ledデバイスおよびその製造方法 |
JP2010086992A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-15 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置およびその製造方法 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5221642A (en) * | 1991-08-15 | 1993-06-22 | Staktek Corporation | Lead-on-chip integrated circuit fabrication method |
DE4328466C1 (de) | 1993-08-24 | 1995-04-13 | Siemens Ag | Siloxanhaltiges Gießharzsystem |
TW383508B (en) * | 1996-07-29 | 2000-03-01 | Nichia Kagaku Kogyo Kk | Light emitting device and display |
JP3378465B2 (ja) * | 1997-05-16 | 2003-02-17 | 株式会社東芝 | 発光装置 |
US5847507A (en) * | 1997-07-14 | 1998-12-08 | Hewlett-Packard Company | Fluorescent dye added to epoxy of light emitting diode lens |
US6383641B1 (en) * | 1997-08-15 | 2002-05-07 | Asahi Glass Company Ltd. | Transparent coated molded product and method for producing the same |
DE19918370B4 (de) * | 1999-04-22 | 2006-06-08 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | LED-Weißlichtquelle mit Linse |
WO2002009478A1 (fr) * | 2000-07-24 | 2002-01-31 | Tdk Corporation | Dispositif luminescent |
US6417019B1 (en) * | 2001-04-04 | 2002-07-09 | Lumileds Lighting, U.S., Llc | Phosphor converted light emitting diode |
JP2002314143A (ja) * | 2001-04-09 | 2002-10-25 | Toshiba Corp | 発光装置 |
JP2002314139A (ja) | 2001-04-09 | 2002-10-25 | Toshiba Corp | 発光装置 |
JP2002334975A (ja) * | 2001-05-08 | 2002-11-22 | Nec Corp | 半導体装置の支持構造、ccd半導体装置、その製造方法、及び、ccd半導体装置用パッケージ |
JP2002368028A (ja) * | 2001-06-13 | 2002-12-20 | Nec Corp | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
JP4074796B2 (ja) | 2002-09-10 | 2008-04-09 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | エポキシ樹脂組成物および半導体装置 |
US7157745B2 (en) * | 2004-04-09 | 2007-01-02 | Blonder Greg E | Illumination devices comprising white light emitting diodes and diode arrays and method and apparatus for making them |
JP2005263869A (ja) | 2004-03-16 | 2005-09-29 | Nagase Chemtex Corp | 光半導体封止用樹脂組成物 |
JP4653671B2 (ja) * | 2005-03-14 | 2011-03-16 | 株式会社東芝 | 発光装置 |
KR100593814B1 (ko) * | 2005-12-06 | 2006-06-28 | 에이스 인더스트리 주식회사 | 반도체 다이본딩용 점착테이프 |
JP5068472B2 (ja) * | 2006-04-12 | 2012-11-07 | 昭和電工株式会社 | 発光装置の製造方法 |
EP2017295A1 (en) * | 2006-04-26 | 2009-01-21 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Thermosetting composition for optical semiconductor, die bond material for optical semiconductor device, underfill material for optical semiconductor device, sealing agent for optical semiconductor device, and optical semiconductor device |
TWM302123U (en) * | 2006-06-13 | 2006-12-01 | Lighthouse Technology Co Ltd | The stand structure of light-emitting diode |
JP5233087B2 (ja) | 2006-06-28 | 2013-07-10 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置およびその製造方法、パッケージ、発光素子実装用の基板 |
EP2100908B1 (en) * | 2006-11-15 | 2014-05-21 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Heat curable resin composition for light reflection |
WO2008153125A1 (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-18 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | 光半導体素子用封止剤及び光半導体素子 |
US7967476B2 (en) * | 2007-07-04 | 2011-06-28 | Nichia Corporation | Light emitting device including protective glass film |
JP5630948B2 (ja) | 2007-07-04 | 2014-11-26 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
US20090230409A1 (en) * | 2008-03-17 | 2009-09-17 | Philips Lumileds Lighting Company, Llc | Underfill process for flip-chip leds |
-
2010
- 2010-07-08 JP JP2010155362A patent/JP2012019062A/ja active Pending
-
2011
- 2011-07-08 US US13/179,200 patent/US8319242B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002094128A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-03-29 | Stanley Electric Co Ltd | 発光ダイオード及びその製造方法 |
JP2004088004A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-18 | Okaya Electric Ind Co Ltd | 発光ダイオード |
JP2007059419A (ja) * | 2005-08-22 | 2007-03-08 | Showa Denko Kk | 化合物半導体発光素子を有するledパッケージ |
JP2007324256A (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Toyoda Gosei Co Ltd | Led装置 |
JP2009111245A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Nichia Corp | 発光装置及びこれの製造方法 |
JP2009224536A (ja) * | 2008-03-17 | 2009-10-01 | Citizen Holdings Co Ltd | Ledデバイスおよびその製造方法 |
JP2010086992A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-15 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置およびその製造方法 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013004901A (ja) * | 2011-06-21 | 2013-01-07 | Nippon Kasei Chem Co Ltd | Ledデバイス |
JP2013232503A (ja) * | 2012-04-27 | 2013-11-14 | Toshiba Corp | 半導体発光装置 |
JP2014130963A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光装置 |
JP2016527729A (ja) * | 2013-08-08 | 2016-09-08 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | オプトエレクトロニクス部品およびその製造方法 |
JP2015138965A (ja) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
WO2015175369A1 (en) * | 2014-05-10 | 2015-11-19 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Packaging for ultraviolet optoelectronic device |
US9548429B2 (en) | 2014-05-10 | 2017-01-17 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Packaging for ultraviolet optoelectronic device |
US10147854B2 (en) | 2014-05-10 | 2018-12-04 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Packaging for ultraviolet optoelectronic device |
JP2017521872A (ja) * | 2014-07-23 | 2017-08-03 | クリスタル アイエス, インコーポレーテッドCrystal Is, Inc. | 紫外線発光装置の光子取出し |
US10103302B2 (en) | 2014-12-25 | 2018-10-16 | Nichia Corporation | Light emitting device |
CN107567659A (zh) * | 2015-05-13 | 2018-01-09 | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 | 用于加工引线框架的方法和引线框架 |
JP2018520500A (ja) * | 2015-05-13 | 2018-07-26 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | リード・フレームを機械加工するための方法およびリード・フレーム |
CN107567659B (zh) * | 2015-05-13 | 2020-07-14 | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 | 用于加工引线框架的方法和引线框架 |
WO2019031102A1 (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-14 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 波長変換部材、発光装置及び照明装置 |
JP2021500749A (ja) * | 2017-10-19 | 2021-01-07 | ルミレッズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | 発光デバイスパッケージ |
JP7193532B2 (ja) | 2017-10-19 | 2022-12-20 | ルミレッズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | 発光デバイスパッケージ |
JP2019201195A (ja) * | 2018-05-15 | 2019-11-21 | 東貝光電科技股▲ふん▼有限公司Unity Opto Technology Co.,Ltd. | Led光源、led光源の製造方法及び直下型表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8319242B2 (en) | 2012-11-27 |
US20120007119A1 (en) | 2012-01-12 |
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