JP2012000785A - 液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板にノズルストレート部及びノズルテーパー部の領域を規定するための第1のマスクパターンと前記基板に圧力室に相当する空間部の領域を規定するための第2のマスクパターンとを同時に形成するパターニング工程と、前記第1のマスクパターンに基づいて第1のエッチングを行い、前記基板にストレート状の貫通孔を形成する第1のエッチング工程と、前記第2のマスクパターンに基づいて第2のエッチングを行い、前記基板に前記圧力室に相当する空間部を形成する第2のエッチング工程と、前記第1のマスクパターンに基づいて第3のエッチングを行い、前記圧力室に相当する空間部の前記貫通孔が形成された面のうち、該貫通孔の周辺にテーパー形状を形成する第3のエッチング工程とを備えた液体吐出ヘッドの製造方法によって上記課題を解決する。
【選択図】 図2
Description
Claims (8)
- 振動板によって一壁面が構成され、液体を収容する圧力室と、前記圧力室の前記振動板と対向する面に連通し、前記圧力室から離れるにしたがって径が徐々に細くなるノズルテーパー部と、前記ノズルテーパー部に連通し、ノズル開口部を有するノズルストレート部とを有する液体吐出ヘッドの製造方法において、
基板に前記ノズルストレート部及びノズルテーパー部の領域を規定するための第1のマスクパターンと前記基板に前記圧力室に相当する空間部の領域を規定するための第2のマスクパターンとを同時に形成するパターニング工程と、
前記第1のマスクパターンに基づいて第1のエッチングを行い、前記基板にストレート状の貫通孔を形成する第1のエッチング工程と、
前記第2のマスクパターンに基づいて第2のエッチングを行い、前記基板に前記圧力室に相当する空間部を形成する第2のエッチング工程と、
前記第1のマスクパターンに基づいて第3のエッチングを行い、前記圧力室に相当する空間部の前記貫通孔が形成された面のうち、該貫通孔の周辺にテーパー形状を形成する第3のエッチング工程と、
を備えたことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記パターニング工程は、前記ノズルストレート部及びノズルテーパー部の領域の中心と前記圧力室に相当する空間部の領域の中心とが一致するように前記第1のマスクパターン及び第2のマスクパターンを同時に形成することを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第1のエッチング工程、第2のエッチング工程、及び第3のエッチング工程は、前記第1のマスクパターン及び第2のマスクパターンが形成された面からのみエッチングを行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記基板は、シリコンからなる支持体層と、酸化膜からなる中間層と、シリコンからなる活性層とが積層されたSOI基板であり、さらに前記活性層表面に形成されたドープ層を有し、
前記第2のエッチング工程は、前記圧力室に相当する空間部を前記支持体層及び中間層に形成し、
前記第3のエッチング工程は、前記活性層に前記テーパー形状を形成することで、前記ノズルテーパー部を前記活性層に形成し、前記ノズルストレート部を前記ドープ層に形成することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記第3のエッチング工程は、ウエットエッチングにより前記貫通孔の周辺にテーパー形状を形成することを特徴とする請求項4に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第3のエッチング工程は、結晶異方性エッチングを行うことで、四角錐のテーパー形状を形成することを特徴とする請求項5に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第3のエッチング工程は、前記ドープ層をエッチングストップ層として用いることを特徴とする請求項5又は6に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第2のエッチング工程は、
前記貫通孔の内側に保護膜を形成する工程と、
前記ノズルテーパー部の領域の支持体層をエッチングする工程と、
該ノズルテーパー部の領域の中間層を、該中間層の厚さが薄くなるようにエッチングする工程と、
前記圧力室の領域の支持体層をエッチングする工程と、
を含み、
前記第3のエッチング工程は、
前記圧力室の領域の中間層をエッチングすることで、前記ノズルテーパー部の領域の活性層のみを露出させる工程と、
を含むことを特徴とする請求項4から7のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
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