JP2011523495A - 整合ネットワークを制御するための装置、システムおよび方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2008年5月7日に出願された米国仮出願第61/051,196号(名称「GENERATOR−CONTROLLED MATCHING NETWORK」)の優先権を主張し、この仮出願はその全体が本明細書において参照により援用される。
Claims (20)
- プラズマ処理のための発電機であって、
プラズマを励起するために利用される電力を印加するように適合される電力出力と、
電力サンプルを得るよう、該電力出力に印加される電力をサンプリングするように適合されるセンサと、
インピーダンス制御出力であって、該インピーダンス制御出力は、該インピーダンス制御信号を、該電力サンプルに応答して提供するように構成され、該インピーダンス制御信号は、該発電機の出力と該インピーダンス制御出力とに接続されるインピーダンス整合ネットワークが、インピーダンス制御信号に応答して、該プラズマのインピーダンスを、該発電機の動作インピーダンスと整合させることを可能にする、インピーダンス制御出力と
を備える、発電機。 - 前記発電機を前記インピーダンス整合ネットワークに結合するケーブルを特徴付ける情報を記憶するように構成されるメモリを含み、該発電機は、該ケーブルを特徴付ける情報に応答して、前記インピーダンス制御信号を提供するように構成される、請求項1に記載の発電機。
- ユーザが前記ケーブルを特徴付ける情報の少なくとも一部を入力することを可能にするように構成されるユーザインターフェースを含む、請求項2に記載の発電機。
- 前記ケーブルを特徴付ける情報は、前記ケーブルの長さを含む、請求項2に記載の発電機。
- 前記ケーブルの長さを計算するように構成される論理を含む、請求項3に記載の発電機。
- 前記ケーブルの長さおよび前記電力サンプルに応答して、前記インピーダンス制御信号の内容を生成するように構成される、インピーダンス制御論理部分を含む、請求項3に記載の発電機。
- 前記センサは、電圧電流センサおよび方向性結合器から成る群より選択されるセンサを含む、請求項1に記載の発電機。
- 前記電力出力は、RF電力を印加するように適合される、請求項1に記載の発電機。
- プラズマ負荷に電力を伝達するための方法であって、
発電機において電力を生成することであって、該電力は、プラズマを励起するために利用される、ことと、
該発電機の電力出力に該電力を提供することであって、該電力出力は、該発電機をインピーダンス整合ネットワークに結合するように構成される、ことと、
電力サンプルを得るよう、該電力をサンプリングすることと、
該電力サンプルに応答して、インピーダンス制御出力に結合される該インピーダンス整合ネットワークが、信号によって制御されることが可能になるように、インピーダンス制御信号を該インピーダンス制御出力に提供することと
を含む、方法。 - 前記発電機のメモリ内に、該発電機を前記インピーダンス整合ネットワークに結合するケーブルを特徴付ける情報を記憶することを含み、該発電機は、該ケーブルを特徴付ける情報に応答して、前記インピーダンス制御信号を提供するように構成される、請求項9に記載の方法。
- ユーザインターフェースを介して、ユーザから前記ケーブルを特徴付ける情報の少なくとも一部を受信することを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記ケーブルを特徴付ける情報は、前記ケーブルの長さを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記ケーブルの前記長さおよび前記電力サンプルに応答して、前記インピーダンス制御信号の内容を生成することを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記ケーブルの前記長さを計算することを含む、請求項12に記載の方法。
- 前記電力サンプルは、順電圧および逆電圧の情報を示す情報を含む、請求項9に記載の方法。
- プラズマ処理のための電力伝達システムであって、
電力出力と、該電力出力によって伝達される電力のパラメータを測定するためのセンサと、該測定されたパラメータの値に応答して、インピーダンス制御信号を提供するように構成されるインピーダンス制御出力とを含む、発電機と、
該発電機の該出力と該発電機の該インピーダンス制御出力とに接続されるインピーダンス整合ネットワークであって、該インピーダンス整合ネットワークは、プラズマのインピーダンスを該発電機の動作インピーダンスに整合させることにより、該インピーダンス制御信号に応答して、該発電機からプラズマ処理チャンバ内のプラズマへ効率的な電力の伝達を提供するように構成される、インピーダンス整合ネットワークと
を備える、システム。 - 前記発電機は、前記発電機を前記インピーダンス整合ネットワークに結合するケーブルを特徴付ける情報を記憶するように構成されるメモリを含み、前記発電機は、前記ケーブルを特徴付ける情報に応答して、前記インピーダンス制御信号を提供するように構成される、請求項16に記載のシステム。
- 前記発電機は、ユーザが前記ケーブルを特徴付ける情報の少なくとも一部を入力できるように構成される、ユーザインターフェースを含む、請求項17に記載のシステム。
- 前記ケーブルを特徴付ける情報は、前記ケーブルの長さを含む、請求項17に記載のシステム。
- 前記発電機は、前記ケーブルの長さを計算するように構成される論理を含む、請求項17に記載のシステム。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI665711B (zh) * | 2014-09-17 | 2019-07-11 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 電漿處理裝置 |
Families Citing this family (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8847561B2 (en) | 2008-05-07 | 2014-09-30 | Advanced Energy Industries, Inc. | Apparatus, system, and method for controlling a matching network based on information characterizing a cable |
US9082589B2 (en) * | 2012-10-09 | 2015-07-14 | Novellus Systems, Inc. | Hybrid impedance matching for inductively coupled plasma system |
US9620337B2 (en) * | 2013-01-31 | 2017-04-11 | Lam Research Corporation | Determining a malfunctioning device in a plasma system |
US8781415B1 (en) | 2013-02-07 | 2014-07-15 | Mks Instruments, Inc. | Distortion correction based feedforward control systems and methods for radio frequency power sources |
US9536713B2 (en) * | 2013-02-27 | 2017-01-03 | Advanced Energy Industries, Inc. | Reliable plasma ignition and reignition |
US9755641B1 (en) | 2014-01-10 | 2017-09-05 | Reno Technologies, Inc. | High speed high voltage switching circuit |
US10431428B2 (en) | 2014-01-10 | 2019-10-01 | Reno Technologies, Inc. | System for providing variable capacitance |
US9844127B2 (en) | 2014-01-10 | 2017-12-12 | Reno Technologies, Inc. | High voltage switching circuit |
US10455729B2 (en) | 2014-01-10 | 2019-10-22 | Reno Technologies, Inc. | Enclosure cooling system |
US9697991B2 (en) | 2014-01-10 | 2017-07-04 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US9865432B1 (en) | 2014-01-10 | 2018-01-09 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US9496122B1 (en) | 2014-01-10 | 2016-11-15 | Reno Technologies, Inc. | Electronically variable capacitor and RF matching network incorporating same |
US9196459B2 (en) | 2014-01-10 | 2015-11-24 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US10340879B2 (en) | 2015-02-18 | 2019-07-02 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
US11017983B2 (en) | 2015-02-18 | 2021-05-25 | Reno Technologies, Inc. | RF power amplifier |
US9729122B2 (en) | 2015-02-18 | 2017-08-08 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
US9306533B1 (en) | 2015-02-20 | 2016-04-05 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US9525412B2 (en) | 2015-02-18 | 2016-12-20 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
US11081316B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-08-03 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11150283B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-10-19 | Reno Technologies, Inc. | Amplitude and phase detection circuit |
US11342161B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-05-24 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit with voltage bias |
US10692699B2 (en) | 2015-06-29 | 2020-06-23 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching with restricted capacitor switching |
US10984986B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-04-20 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11342160B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-05-24 | Reno Technologies, Inc. | Filter for impedance matching |
US11335540B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-05-17 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US9721758B2 (en) | 2015-07-13 | 2017-08-01 | Mks Instruments, Inc. | Unified RF power delivery single input, multiple output control for continuous and pulse mode operation |
US9876476B2 (en) | 2015-08-18 | 2018-01-23 | Mks Instruments, Inc. | Supervisory control of radio frequency (RF) impedance tuning operation |
US9577516B1 (en) | 2016-02-18 | 2017-02-21 | Advanced Energy Industries, Inc. | Apparatus for controlled overshoot in a RF generator |
US10229816B2 (en) | 2016-05-24 | 2019-03-12 | Mks Instruments, Inc. | Solid-state impedance matching systems including a hybrid tuning network with a switchable coarse tuning network and a varactor fine tuning network |
EP3616235A4 (en) | 2017-07-07 | 2021-02-24 | Advanced Energy Industries, Inc. | INTER-PERIODIC CONTROL SYSTEM FOR PLASMA POWER SUPPLY SYSTEM AND ITS OPERATING PROCESS |
US11651939B2 (en) | 2017-07-07 | 2023-05-16 | Advanced Energy Industries, Inc. | Inter-period control system for plasma power delivery system and method of operating same |
US11615943B2 (en) | 2017-07-07 | 2023-03-28 | Advanced Energy Industries, Inc. | Inter-period control for passive power distribution of multiple electrode inductive plasma source |
US11398370B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-07-26 | Reno Technologies, Inc. | Semiconductor manufacturing using artificial intelligence |
US11521833B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-12-06 | Reno Technologies, Inc. | Combined RF generator and RF solid-state matching network |
US10714314B1 (en) | 2017-07-10 | 2020-07-14 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US10483090B2 (en) | 2017-07-10 | 2019-11-19 | Reno Technologies, Inc. | Restricted capacitor switching |
US11476091B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-10-18 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network for diagnosing plasma chamber |
US11315758B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-04-26 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching using electronically variable capacitance and frequency considerations |
US11101110B2 (en) | 2017-07-10 | 2021-08-24 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11393659B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-07-19 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11289307B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-03-29 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11114280B2 (en) | 2017-07-10 | 2021-09-07 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching with multi-level power setpoint |
US10727029B2 (en) | 2017-07-10 | 2020-07-28 | Reno Technologies, Inc | Impedance matching using independent capacitance and frequency control |
US20190108976A1 (en) * | 2017-10-11 | 2019-04-11 | Advanced Energy Industries, Inc. | Matched source impedance driving system and method of operating the same |
JP7317045B2 (ja) * | 2018-04-20 | 2023-07-28 | エーイーエス グローバル ホールディングス, プライベート リミテッド | 高効率発電機ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法 |
US11521831B2 (en) | 2019-05-21 | 2022-12-06 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method with reduced memory requirements |
KR102279639B1 (ko) * | 2019-07-09 | 2021-07-20 | 한양대학교 산학협력단 | 기판 처리 장치 |
CN114762079A (zh) | 2019-12-02 | 2022-07-15 | 朗姆研究公司 | 射频辅助等离子体生成中的阻抗变换 |
KR20210070709A (ko) * | 2019-12-05 | 2021-06-15 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 전원특성 측정장치, 그 전원특성 측정장치를 포함하는 이미지 시스템, 및 그 이미지 시스템의 동작 방법 |
US11994542B2 (en) | 2020-03-27 | 2024-05-28 | Lam Research Corporation | RF signal parameter measurement in an integrated circuit fabrication chamber |
WO2022173629A1 (en) * | 2021-02-12 | 2022-08-18 | Advanced Energy Industries, Inc. | Inter-period control for passive power distribution of multiple electrode inductive plasma source |
TWI783676B (zh) * | 2021-09-10 | 2022-11-11 | 瑞昱半導體股份有限公司 | 阻抗匹配方法與網路裝置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003273035A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-09-26 | Alps Electric Co Ltd | プラズマ処理装置及びその駆動方法並びにプラズマ処理方法 |
JP2004207875A (ja) * | 2002-12-24 | 2004-07-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マッチング制御装置及びマッチング制御方法及び真空装置 |
US20060005928A1 (en) * | 2002-03-08 | 2006-01-12 | Lam Research Corporation | Apparatus and methods for improving the stability of RF power delivery to a plasma load |
JP2006166412A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-06-22 | Daihen Corp | インピーダンス整合装置 |
JP2007035425A (ja) * | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Sharp Corp | プラズマ処理装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69509046T2 (de) * | 1994-11-30 | 1999-10-21 | Applied Materials, Inc. | Plasmareaktoren zur Behandlung von Halbleiterscheiben |
US5982099A (en) * | 1996-03-29 | 1999-11-09 | Lam Research Corporation | Method of and apparatus for igniting a plasma in an r.f. plasma processor |
US6384580B1 (en) * | 2000-06-14 | 2002-05-07 | Motorola, Inc. | Communications device for use with electrical source |
US6887339B1 (en) * | 2000-09-20 | 2005-05-03 | Applied Science And Technology, Inc. | RF power supply with integrated matching network |
TW200300649A (en) * | 2001-11-27 | 2003-06-01 | Alps Electric Co Ltd | Plasma processing apparatus, its driving method, matching circuit design system, and plasma processing method |
TW200300951A (en) * | 2001-12-10 | 2003-06-16 | Tokyo Electron Ltd | Method and device for removing harmonics in semiconductor plasma processing systems |
US6838832B1 (en) * | 2002-03-08 | 2005-01-04 | Lam Research Corporation | Apparatus and methods for improving the stability of RF power delivery to a plasma load |
KR100697500B1 (ko) * | 2003-04-11 | 2007-03-20 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 공기 조화 시스템 |
SE526001C2 (sv) * | 2003-09-26 | 2005-06-14 | Abb Research Ltd | System för överföring av elektrisk kraft |
KR100577533B1 (ko) | 2003-12-30 | 2006-05-08 | 피앤드에스주식회사 | 정합장치 |
US7403764B2 (en) * | 2004-11-30 | 2008-07-22 | Turner Terry R | RF power delivery diagnostic system |
EP1952533A1 (en) | 2005-10-31 | 2008-08-06 | MKS Instruments, Inc. | Radio frequency power delivery system |
US8847561B2 (en) | 2008-05-07 | 2014-09-30 | Advanced Energy Industries, Inc. | Apparatus, system, and method for controlling a matching network based on information characterizing a cable |
-
2008
- 2008-12-14 US US12/334,490 patent/US8847561B2/en active Active
-
2009
- 2009-05-07 CN CN200980120990.XA patent/CN102057759B/zh active Active
- 2009-05-07 KR KR1020107025225A patent/KR101436930B1/ko active IP Right Grant
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003273035A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-09-26 | Alps Electric Co Ltd | プラズマ処理装置及びその駆動方法並びにプラズマ処理方法 |
US20060005928A1 (en) * | 2002-03-08 | 2006-01-12 | Lam Research Corporation | Apparatus and methods for improving the stability of RF power delivery to a plasma load |
JP2004207875A (ja) * | 2002-12-24 | 2004-07-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マッチング制御装置及びマッチング制御方法及び真空装置 |
JP2008517429A (ja) * | 2004-10-15 | 2008-05-22 | ラム リサーチ コーポレーション | プラズマ負荷へのrf電力送出安定性を改善する装置および方法 |
JP2006166412A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-06-22 | Daihen Corp | インピーダンス整合装置 |
JP2007035425A (ja) * | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Sharp Corp | プラズマ処理装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI665711B (zh) * | 2014-09-17 | 2019-07-11 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 電漿處理裝置 |
Also Published As
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