JP2011509530A - 高性能ヘテロ構造発光素子および方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 層状ヘテロ構造発光素子は、少なくとも、基板、n型窒化ガリウム系半導体クラッド層領域、p型窒化ガリウム系半導体クラッド層領域、p型酸化亜鉛系正孔注入層領域、およびオーミック接触層領域を含む。あるいは、素子はキャッピング層領域も含んでよく、または反射層領域および保護キャッピング層領域を含んでもよい。素子はオーミック接触層領域に隣接する1つ以上の埋め込み挿入層を含んでもよい。オーミック接触層領域は、酸化インジウムスズ、酸化ガリウムスズ、または酸化インジウムスズ材料といった材料からなり得る。n型窒ガリウム系クラッド層領域と電気的に接触するn型電極パッドが形成される。p型領域と電気的に接触するp型パッドが形成される。
【選択図】 図2
Description
本特許出願は、参照により本明細書に援用する、2008年1月8日に出願された米国仮特許出願第61/019817号(代理人整理番号MOXT−108−PR)の優先権を主張する。また、本出願人による以下の特許出願も参照により本明細書に援用する。
PCT/US03/27143(2003年8月27日出願)(MOXT−002−PCT)
PCT/US06/02534(2006年1月25日出願)(MOXT−003−PCT)
PCT/US06/11619(2006年3月28日出願)(MOXT−004−PCT)
PCT/US05/43821(2005年12月6日出願)(MOXT−005−PCT)
PCT/US07/77003(2007年8月28日出願)(MOXT−106−PCT)
PCT/US08/81556(2008年10月29日出願)(MOXT−107−PCT)
本発明は、概して半導体ヘテロ構造発光素子に関し、より詳細には酸化亜鉛系および窒化ガリウム系材料を含む発光素子の電力効率および性能の向上、ならびにこのような素子に関連する方法に関する。
米国特許出願公開第2003/0209723A1号(Sakai)
米国特許出願公開第2005/0077537A1号(Seong他)
米国特許出願公開第2005/0082557A1号(Seong他)
米国特許出願公開第2007/0111354A1号(Seong他)
(1)この膜は、第2族(ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、およびラジウム)、第12族(亜鉛、カドミウム、および水銀)、第2族および第12族元素、ならびに、第12族および第16族(酸素、硫黄、セレニウム、テルリウム、およびポロニウム)元素からなる群から選択される元素の酸化化合物であり、
(2)p型ドーパンは、第1族(水素、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、およびフランシウム)、第11族(銅、銀、および金)、第5族(バナジウム、ニオビウム、およびタンタル)、および第15族(窒素、リン、ヒ素、アンチモン、およびビスマス)元素からなる群から選択される元素である、p型ドープされた金属酸化膜が開示されている。
(1)p型ドーパンは、第1族(水素、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、およびフランシウム)、第11族(銅、銀、および金)、第5族(バナジウム、ニオビウム、およびタンタル)、および第15族(窒素、リン、ヒ素、アンチモン、およびビスマス)元素からなる群から選択される元素であり、
(2)p型ドーパンは、ヒ素を含み、
(3)合金層は、これらに限定されないが、LEDおよびLDを含む半導体素子に組み込まれる、p型ドープされた(ベリリウム、亜鉛、および酸素)合金、すなわちBeZnO合金、および(亜鉛、カドミウム、セレニウム、および酸素)合金、すなわちZnCdSeO合金も開示されている。
(1)p型酸化亜鉛系半導体層領域として採用されるベリリウム、亜鉛、および酸素の合金(BeZnO合金)。
(2)p型酸化亜鉛系半導体層領域として採用されるベリリウム、マグネシウム、亜鉛、および酸素の合金(BeMgZnO合金)。
(3)半導体層領域として採用される(第2族元素、亜鉛、および酸素)合金。
(4)p型酸化亜鉛系半導体層領域として採用されるBeMgZnO合金であって、マグネシウムが隣接する層間の格子整合を向上させるために使用され得るBeMgZnO合金。
(5)p型酸化亜鉛系半導体層領域として採用される亜鉛、カドミウム、セレン、硫黄、および酸素の合金(ZnCdSeSO合金)。
(6)p型酸化亜鉛系半導体層領域として採用される亜鉛、カドミウム、セレン、硫黄、ベリリウム、および酸素合金(BeZnCdSeSO合金)であって、ベリリウムが隣接する層間の格子整合を向上させるために使用され得る、BeZnCdSeSO合金。
(7)オーミック接触層領域は、p型酸化亜鉛系半導体層領域の全てのまたは一部をカバーし得る。
(8)層はエピタキシャル成長して素子性能を向上させ得る。
本発明は、発明者による以下の達成を利用および実施する。
1)活性層領域内のp型キャリア(正孔)の濃度を増加させることができれば、例えば窒化ガリウム(GaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、および窒化インジウムアルミニウムガリウム(InAlGaN)といった窒化ガリウム系の無機広バンドギャップ材料を含む発光素子の全体的な動作効率を向上させることができる。
2)更に、例えば酸化亜鉛(ZnO)などの亜鉛酸化系の半導体材料を使用することにより、例えば窒化ガリウム(GaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、および窒化インジウムアルミニウムガリウム(InAlGaN)といった窒化ガリウム系の半導体材料内で得られるよりも、より高い濃度のp型キャリア(正孔)を得ることができる。
3)窒化ガリウム系活性層領域に極めて近接して位置する少なくとも1つのp型半導体層領域であって、素子動作中に窒化ガリウム系活性層領域へp型キャリア(正孔)を提供し得るp型半導体層領域を形成することにより、活性層領域内のp型キャリア(正孔)の濃度を増加させれば、例えば窒化ガリウム(GaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、および窒化インジウムアルミニウムガリウム(InAlGaN)といった窒化ガリウム系の無機広バンドギャップ材料を含む発光素子の全体的な動作効率が向上するであろう。
4)窒化ガリウム系活性層領域に極めて近接して位置する少なくとも1つのp型酸化亜鉛系半導体層領域であって、p型酸化亜鉛系層領域が素子動作中に窒化ガリウム系活性層領域へp型キャリア(正孔)を提供し得るp型酸化亜鉛系層領域を形成することにより、活性層領域内のp型キャリア(正孔)の濃度が増加させれば、例えば窒化ガリウム(GaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、窒化インジウムアルミニウムガリウム(InAlGaN)といった窒化ガリウム系の無機広バンドギャップ材料からなる発光素子の全体的な動作効率が向上するであろう。
5)窒化ガリウム系活性層領域に極めて近接して位置する少なくとも1つのp型酸化亜鉛系半導体層領域であって、素子動作中に窒化ガリウム系活性層領域へp型キャリア(正孔)を注入し得るp型酸化亜鉛系層領域を形成することにより、活性層領域内のp型キャリア(正孔)の濃度を増加させれば、例えば窒化ガリウム(GaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、窒化インジウムアルミニウムガリウム(InAlGaN)といった窒化ガリウム系の無機広バンドギャップ材料からなる発光素子の全体的な動作効率が向上するであろう。
6)窒化ガリウム系活性層領域に極めて近接して位置する少なくとも1つのp型酸化亜鉛系半導体層領域であって、このp型酸化亜鉛系層領域は窒化ガリウム系活性層領域よりも高いp型キャリア(正孔)濃度を有し、素子動作中に窒化ガリウム系活性層領域へp型キャリア(正孔)を注入し得る、p型酸化亜鉛系層領域を形成することにより、活性層領域内のp型キャリア(正孔)の濃度を増加させれば、例えば窒化ガリウム(GaN)、窒化インジウムガリウム(InGaN)、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、窒化インジウムアルミニウムガリウム(InAlGaN)といった窒化ガリウム系の無機広バンドギャップ材料からなる発光素子の全体的な動作効率が向上するであろう。
7)更に、発光素子の全体的な動作効率は、活性層領域内のp型キャリアの濃度を増加させることにより、そして、素子の電気的接触抵抗を減少させることにより向上させることができる。
8)半導体発光素子は層状構造を有する。このように、素子内の所定の層および層領域の構造および電気特性は、素子の全体的な動作特徴、効率、性能、および用途を向上させることができる。同様に、素子内の層および層領域を形成するために使用される半導体材料の材料組成は、素子の全体的な動作特徴、効率、性能、および用途に大いに影響を与えることができる。
9)発光素子の全体的な動作効率は、素子の活性層領域内の正孔濃度を増加させるヘテロ構造を使用することにより向上させることができる。素子動作中に別の半導体材料を含む活性層領域への正孔キャリアのソースとなる半導体材料からなるp型層領域を含むヘテロ構造素子は、素子の全体的な動作特徴、効率、性能、および用途を向上させることができる。
10)素子動作中に別の広バンドギャップ半導体材料を含む活性層領域への正孔キャリアのソースとなる、広バンドギャップ半導体材料からなるp型層領域を含むヘテロ構造素子は、素子の全体的な動作特徴、効率、性能、および用途を向上させることができる。
11)素子動作中に別の広バンドギャップ半導体材料からなる活性層領域内へと正孔キャリアを注入する、広バンドギャップ半導体材料からなるp型層領域を含むヘテロ構造素子は、素子の全体的な動作特徴、効率、性能、および用途を向上させることができる。
12)第1型系材料の広バンドギャップ半導体からなるp型層領域であり、第2型系材料の広バンドギャップ半導体を含むp型クラッド層領域上に形成されたp型層領域を含むヘテロ構造素子であって、第1型系材料のp型層領域は素子動作中に第2型系材料の活性層領域への正孔キャリアのソースとなる、ヘテロ構造素子は、素子の全体的な動作特徴、効率、性能、および用途を向上させることができる。
13)第1組成型の広バンドギャップ半導体材料からなるp型層領域であり、第2組成型の広バンドギャップ半導体を含むp型クラッド層領域上に形成されたp型層領域を含むヘテロ構造素子であって、第1組成型の材料のp型層領域は、素子動作中に第2組成型材料の活性層領域内へと正孔キャリアを注入する、ヘテロ構造素子は、素子の全体的な動作特徴、効率、性能、および用途を向上させることができる。
14)素子動作中に別の広バンドギャップ半導体材料からなる活性層領域への正孔キャリアのソースとなる、広バンドギャップ半導体材料からなるp型層領域を含み、p型正孔注入層領域上に形成されたオーミック接触層を含む、ヘテロ構造素子は、素子の全体的な動作特徴、効率、性能、および用途を向上させることができる。
15)素子動作中に別の組成の広バンドギャップ半導体材料からなる活性層領域へ正孔キャリアを注入する、広バンドギャップ半導体材料からなるp型層領域を含み、p型正孔注入層領域上に形成されたオーミック接触層を含む、ヘテロ構造素子は、素子の全体的な動作特徴、効率、性能、および用途を向上させることができる。
16)第1組成型系材料の広バンドギャップ半導体からなるp型層領域であり、第2組成型系材料の広バンドギャップ半導体を含むp型クラッド層領域上に形成されたp型層領域を含むヘテロ構造素子であって、素子動作中に第1組成型系材料のp型層領域が第2組成型系材料の活性層領域の材料への正孔キャリアソースとなるヘテロ構造は、p型正孔ソース層領域上に形成されたオーミック接触層を含むものであり、このようなヘテロ構造は、素子の全体的な動作特徴、効率、性能、および用途を向上させることができる。
17)第1組成型系材料の広バンドギャップ半導体からなるp型層領域であり、第2組成型系材料の広バンドギャップ半導体を含むp型クラッド層領域上に形成されたp型層領域を含むヘテロ構造素子であって、素子動作中に第1組成型系材料のp型層領域が第2組成型系材料の活性層領域内へ正孔キャリアを注入する、ヘテロ構造素子は、p型正孔注入層領域上に形成されたオーミック接触層を含むものであり、このようなヘテロ構造素子は、素子の全体的な動作特徴、効率、性能、および用途を向上させることができる。
[発明の例示される実施形態/実施]
[追加の発光素子例]
1)p型酸化亜鉛系半導体正孔注入層領域は、これらに限定されないが、BeZnO、MgZnO、BeMgO、およびBeMgZnO合金材料を含むリストから選択される材料の1つまたは2つ以上の層から構成することができる。
2)p型酸化亜鉛系半導体正孔注入層領域は、これらに限定されないが、ZnCdSeO、ZnCdSO、ZnCdSSeO、ZnSSeO、ZnSOおよびZnSeO合金材料を含むリストから選択される材料の1つまたは2つ以上の層から構成することができる。
3)p型酸化亜鉛系半導体正孔注入層領域は、1つ以上の他の層との格子整合を向上させる目的でMgまたはBeのような1つ以上の元素を取り入れた、BeZnO、MgZnO、BeMgO、およびBeMgZnO、ZnCdSeO、ZnCdSO、ZnCdSSeO、ZnSSeO、ZnSOおよびZnSeO合金材料を含むリストから選択される材料の1つまたは2つ以上の層から構成することができる。
4)p型酸化亜鉛系半導体正孔注入層のドーパントが、第1族、第11族、第5族、および第15族元素から選択される少なくとも1つの元素であるように、構造を作ることができる。
5)p型酸化亜鉛系半導体正孔注入層領域のドーパントが、ヒ素、リン、アンチモン、および窒素からなる群から選択されるように構造を作ることができる。または、本発明の特定の態様では、p型酸化亜鉛半導体層領域のドーパントがヒ素のみであってもよい。
6)あるいは、p型酸化亜鉛系半導体正孔注入層のドーパントが、第1族、第11族、第5族、および第15族元素から選択される少なくとも1つの元素、または、ヒ素、リン、アンチモン、および窒素からなる群から選択される1つ以上の元素、または一例では、ヒ素のみであるように、構造を作ることができる。
7)p型酸化ベリリウム亜鉛合金半導体正孔注入層領域のドーパントが、第1族、第11族、第5族、および第15族元素から選択される少なくとも1つの元素であるように、構造を作ることができる。
8)p型酸化ベリリウム亜鉛合金半導体正孔注入領域のドーパントが、ヒ素、リン、アンチモン、および窒素からなる群から選択されるように構造を作ることができる。または、本発明の特定の態様では、p型酸化亜鉛半導体層領域のドーパントがヒ素のみであってもよい。
9)あるいは、p型酸化ベリリウム亜鉛合金正孔注入層領域のドーパントが、第1族、第11族、第5族、および第15族元素から選択される少なくとも1つの元素、または、ヒ素、リン、アンチモン、および窒素からなる群から選択される少なくとも1つの元素、または、特にヒ素のみであるように、構造を作ることができる。
10)あるいは、p型酸化亜鉛系半導体正孔注入層領域のドーパントが、成長中に取り込まれ得るように、構造を作ることができる。
11)あるいは、p型酸化亜鉛系半導体正孔注入層領域のドーパントが、これらに限定されないが、ハイブリッドビーム堆積、熱フラックス、元素フラックス、プラズマフラックス、拡散、熱拡散、スパッタリング、および/またはイオン注入を含むリストから選択される処理方法により取り込まれ得るように、構造を作ることができる。
12)あるいは、オーミック接触層領域が、これらに限定されないが、ハイブリッドビーム堆積、熱フラックス、元素フラックス、プラズマフラックス、拡散、熱拡散、スパッタリング、および/またはイオン注入を含むリストから選択される処理方法により形成されるように、構造を作ることができる。
13)あるいは、p型酸化亜鉛系正孔注入層領域の組成は、素子の効率および光電力出力の性能を向上させるように選択することができる。
14)あるいは、オーミック接触層領域が、これらに限定されないが、酸化インジウムスズ、酸化ガリウム亜鉛、および酸化インジウム亜鉛を含むリストから選択される1つまたは2つ以上の層であるように、構造を作ることができる。オーミック接触層領域は、約0.1nm〜2000nmの間の厚さに形成される。
15)あるいは、p型酸化亜鉛系半導体正孔注入層領域が、これらに限定されないが、ハイブリッドビーム堆積、熱フラックス、元素フラックス、プラズマフラックス、拡散、熱拡散、スパッタリングおよび/またはイオン注入を含むリストから選択される処理方法により形成され得るように、構造を作ることができる。
16)あるいは、オーミック接触層領域が、これらに限定されないが、ハイブリッドビーム堆積、熱フラックス、元素フラックス、プラズマフラックス、拡散、熱拡散、スパッタリング、および/またはイオン注入を含むリストから選択される処理方法により形成され得るように、構造を作ることができる。
17)あるいは、p型酸化亜鉛系正孔注入層領域が、これらに限定されないが、第2族元素、ZnO、BeZnO、MgZnO、BeMgZnO、ZnCdSeO、ZnCdSO、ZnCdSSeO、ZnSSeO、ZnSO、およびZnSeOからなる酸化物を含むリストから選択される酸化物材料である、構造を作ることができる。p型酸化亜鉛系層領域は、約0.1nm〜2000nmの間の厚さに形成される。
18)あるいは、p型酸化亜鉛系正孔注入層領域が、これらに限定されないが、第2族元素、ZnO、MgZnO、ZnCdSeO、ZnCdSO、ZnCdSSeO、ZnSSeO、ZnSO、およびZnSeOからなる酸化物を含むリストから選択され、層間の格子整合を向上させるためにBeが添加された酸化物材料である、構造を作ることができる。p型酸化亜鉛系層領域は、約0.1nmから約2000nmの間の厚さに形成される。
19)あるいは、p型酸化亜鉛系正孔注入層領域が、これらに限定されないが、第2族元素、ZnO、およびBeZnOからなる酸化物を含むリストから選択され、層間の格子整合を向上させるためにMgが添加された酸化物材料である構造を作ることができる。p型酸化亜鉛系層領域は、約0.1nm〜2000nmの間の厚さに形成される。
[発明の更なる例および説明]
[結論]
Claims (24)
- 基板と、
n型窒化ガリウム系半導体クラッド層領域と、
窒化ガリウム系活性層領域と、
p型窒化ガリウム系クラッド層領域と、
p型酸化亜鉛系正孔注入層領域と、
オーミック接触層領域と、
を含む層状構造を有するヘテロ構造発光素子。 - 基板と、
n型窒化ガリウム系半導体クラッド層領域と、
窒化ガリウム系活性層領域と、
p型窒化ガリウム系クラッド層領域と、
p型酸化亜鉛系正孔注入層領域と、
オーミック接触層領域と、
保護キャッピング層領域と、
を含む、層状構造を有するヘテロ構造発光素子。 - 基板と、
n型窒化ガリウム系半導体クラッド層領域と、
窒化ガリウム系活性層領域と、
p型窒化ガリウム系クラッド層領域と、
p型酸化亜鉛系正孔注入層領域と、
オーミック接触層領域と、
反射層領域と、
保護キャッピング層領域と、
を含む、層状構造を有するヘテロ構造発光素子。 - 前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域と前記オーミック接触層領域との間に埋め込み挿入層を更に含み、前記埋め込み挿入層は、Ni、Au、Pt、Pd、Mg、Cu、Zn、Ag、Sc、Co、Rh、Li、Be、Ca、Ru、Re、Ti、Ta、NaおよびLaを含むリストから選択される少なくとも1つの元素を含む、請求項1〜3のいずれかに記載の素子。
- 前記オーミック接触層領域と前記保護キャッピング層領域との間に埋め込み挿入層を更に含み、前記埋め込み挿入層は、Ni、Au、Pt、Pd、Mg、Cu、Zn、Ag、Sc、Co、Rh、Li、Be、Ca、Ru、Re、Ti、Ta、NaおよびLaを含むリストから選択される少なくとも1つの元素を含む、請求項2に記載の素子。
- 前記オーミック接触層領域と前記反射層領域との間に埋め込み挿入層を更に含み、前記埋め込み挿入層は、Ni、Au、Pt、Pd、Mg、Cu、Zn、Ag、Sc、Co、Rh、Li、Be、Ca、Ru、Re、Ti、Ta、NaおよびLaを含むリストから選択される少なくとも1つの元素を含む、請求項3に記載の素子。
- 前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域は、第2族元素、ZnO、BeZnO、MgZnO、BeMgZnO、ZnCdSeO、ZnCdSO、ZnCdSSeO、ZnSSeO、ZnSOおよびZnSeOを含む酸化物を含むリストから選択される酸化物材料である、請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。
- 前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域は、層間の格子整合を向上させるためにBeが添加された、第2族元素、ZnO、MgZnO、ZnCdSeO、ZnCdSO、ZnCdSSeO、ZnSSeO、ZnSO、およびZnSeOを含む酸化物を含むリストから選択される酸化物材料である、請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。
- 前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域は、層間の格子整合を向上させるためにMgが添加された、第2族元素、ZnOおよびBeZnOを含む酸化物を含むリストから選択される酸化物材料である、請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。
- 前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域は、p型酸化亜鉛材料である、請求項1〜3のいずれかに記載の素子。
- 前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域は、p型酸化ベリリウム亜鉛合金材料である、請求項1〜3のいずれかに記載の素子。
- 前記オーミック接触層領域は、酸化インジウムスズを含む、請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。
- 前記オーミック接触層領域は、酸化ガリウム亜鉛を含む、請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。
- 前記オーミック接触層領域は、酸化インジウム亜鉛を含む、請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。
- 前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域は、少なくとも単一の層である、請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。
- 前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域のドーパントは、第1族(IA)、第11族(IB)、第5族(VB)、および第15族(VA)元素からなる群から選択される少なくとも1つの元素を含む、請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。
- 前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域の前記ドーパントは、窒素、ヒ素、リン、アンチモン、およびビスマスからなる群から選択される少なくとも1つの元素を含む、請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。
- 前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域の前記ドーパントはヒ素を含む、請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。
- 前記素子は、前記基板上に形成され、かつ前記基板とn型窒化ガリウム系半導体クラッド層領域との間に配置されバッファ層を含む、請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。
- 前記p型酸化亜鉛系半導体層領域は、約0.1nm〜2000nmの間の厚さに形成され、前記オーミック接触層領域は、約0.1nm〜2000nmの間の厚さに形成される、請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。
- 請求項1に記載の層状構造を有するヘテロ構造発光素子を製造する方法であって、
n型窒化ガリウム系半導体クラッド層領域を形成することと、
窒化ガリウム系活性層領域を前記n型窒化ガリウム系半導体クラッド層領域上に形成することと、
p型窒化ガリウム系クラッド層領域を前記窒化ガリウム系活性層領域上に形成することと、
p型酸化亜鉛系正孔注入層領域を前記p型窒化ガリウム系クラッド層領域上に形成することと、
オーミック接触層領域を前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域上に形成することと、
を含む、方法。 - 請求項2に記載の層状構造を有するヘテロ構造発光素子を製造する方法であって、
n型窒化ガリウム系半導体クラッド層領域を形成することと、
窒化ガリウム系活性層領域を前記n型窒化ガリウム系半導体クラッド層上に形成することと、
p型窒化ガリウム系クラッド層領域を前記窒化ガリウム系活性層領域上に形成することと、
p型酸化亜鉛系正孔注入層領域を前記p型窒化ガリウム系クラッド層領域上に形成することと、
オーミック接触層領域を前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域上に形成することと、
保護キャッピング層を前記オーミック接触層領域上に形成することと、
を含む、方法。 - 請求項3に記載の層状構造を有するヘテロ構造発光素子を製造する方法であって、
n型窒化ガリウム系半導体クラッド層領域を形成することと、
窒化ガリウム系活性層領域を前記n型窒化ガリウム系半導体クラッド層上に形成することと
p型窒化ガリウム系クラッド層領域を前記窒化ガリウム系活性層領域上に形成すること、
p型酸化亜鉛系正孔注入層領域を前記p型窒化ガリウム系クラッド層領域上に形成することと、
オーミック接触層を前記p型酸化亜鉛系正孔注入層領域上に形成することと、
反射層を前記オーミック接触層領域上に形成することと、
保護キャッピング層を前記反射層領域上に形成することと、
を含む、方法。 - 請求項4〜20のいずれかに記載の層状構造を有するヘテロ構造発光素子を製造する方法。
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