JP2011502579A5 - 多孔質貯蔵部および非ポリマー拡散層を備えた内部人工器官及びその形成方法 - Google Patents

Claims (11)

1. 表面と、
   前記表面上において第１セラミックから形成された第１多孔質層であって薬剤を含有する第１多孔質層と、
   前記第１多孔質層上において第２セラミックまたは金属から形成された第２多孔質層と、を備え、
   前記第２多孔質層は前記第１多孔質層よりも低い空隙率を有するとともに前記第２多孔質層の細孔径は、前記第１多孔質層の細孔径よりも小さい、内部人工器官。
2. 前記第２多孔質層の厚さは、１０〜５００ｎｍである、請求項１に記載の内部人工器官。
3. 前記第１多孔質層の厚さは、０．１〜３μｍ（ミクロン）である、請求項１に記載の内部人工器官。
4. 前記表面は、ステント本体の表面である、請求項１に記載の内部人工器官。
5. 前記第２多孔質層は、金属から形成されている、請求項１に記載の内部人工器官。
6. 前記第１多孔質層および前記第２多孔質層は、ポリマーを含まない薬物送達システムを形成する、請求項１に記載の内部人工器官。
7. 前記第２セラミックは、酸化イリジウムである、請求項１に記載の内部人工器官。
8. 前記第２セラミックは、滑らかな球状のモルフォロジーを有する、請求項７に記載の内部人工器官。
9. 前記第２セラミックは前記第１セラミックとは異なる、請求項７に記載の内部人工器官。
10. 内部人工器官を形成する方法であって、
    前記内部人工器官上に第１多孔質層を形成することと、
    前記第１多孔質層に薬剤を導入することと、
    前記薬剤を含有した第１多孔質層の上に、セラミックまたは金属の第２多孔質層を形成することと、を含み、
    前記第２多孔質層は前記第１多孔質層よりも低い空隙率を有するとともに前記第２多孔質層の細孔径は、前記第１多孔質層の細孔径よりも小さい、方法。
11. 前記第１多孔質層をゾル−ゲル法又はナノクラスター堆積過程によって形成することを含む、請求項１０に記載の方法。