JP2011237839A - Touch panel and conductive sheet - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、タッチパネル及び導電シートに関し、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに用いて好適なタッチパネル及び導電シートに関する。 The present invention relates to a touch panel and a conductive sheet, for example, a touch panel and a conductive sheet suitable for use in a projected capacitive touch panel.
一般に、静電容量方式のタッチパネルは、人間の指先と導電膜との間での静電容量の変化を捉えて指先の位置を検出する位置入力装置であるが、この静電容量方式のタッチパネルとしては、表面型と投影型とがある。表面型は、構造が簡便ではあるが、同時に２点以上の接触（マルチタッチ）を検知することができない。一方、投影型は、例えば液晶表示装置の画素構成のように、多数の電極がマトリクス状に配列して構成され、より具体的には、垂直方向に並ぶ複数の電極が直列に接続された複数の第１電極群が水平方向に配列され、水平方向に並ぶ複数の電極が直列に接続された複数の第２電極群が垂直方向に配列されて構成され、複数の第１電極群及び複数の第２電極群で容量変化を順次検出していくことで、マルチタッチが検出できる構成となっている。 In general, a capacitive touch panel is a position input device that detects a fingertip position by detecting a change in capacitance between a human fingertip and a conductive film. There are surface type and projection type. The surface type has a simple structure, but cannot detect two or more contacts (multi-touch) at the same time. On the other hand, the projection type has a configuration in which a large number of electrodes are arranged in a matrix, for example, like a pixel configuration of a liquid crystal display device, and more specifically, a plurality of electrodes in which a plurality of electrodes arranged in the vertical direction are connected in series. The first electrode group is arranged in the horizontal direction, and a plurality of second electrode groups in which a plurality of electrodes arranged in the horizontal direction are connected in series are arranged in the vertical direction. Multi-touch can be detected by sequentially detecting capacitance changes with the second electrode group.
この投影型静電容量方式のタッチパネルの先行技術として例えば特許文献１記載のタッチスイッチが挙げられる。このタッチスイッチは、基板と、前記基板の一面に形成され、一定間隔で並べられた複数の第１電極と、前記基板の他面に形成され、一定間隔で並べられ、前記複数の第１電極とで格子状になる複数の第２電極と、を備え、ディスプレイの前面に取り付けられるタッチスイッチであって、前記第１電極と第２電極がそれぞれ複数の導体線によって網目を形成し、導体線の方向がディスプレイのブラックマトリクスに対して斜め方向となっている。さらに、このタッチスイッチは、前記一面において、第１電極同士の間に形成された第１補助線と、前記他面において、第２電極同士の間に形成された第２補助線とを備え、前記第１電極の導体線、第１補助線、第２電極の導体線、第２補助線によって線の間隔が均等な１つの格子形状が形成されている。また、前記基板の一面に形成された第１電極の導体線、第１補助線、またはその両方が、基板の他面に形成された第２電極の導体線、第２補助線、またはその両方とで１本の線状を形成するようにしている。
As a prior art of this projected capacitive touch panel, for example, a touch switch described in
ところで、基板の一面に第１電極及び第１補助線を形成し、基板の他面に第２電極及び第２補助線を形成する場合、製造ばらつき（成膜ばらつき）によって、格子形状が均一にならなくなり、ずれ量が第１補助線や第２補助線の長さの１／２程度になると、第１電極の例えば第１方向（又は第２方向）に沿った直線部分が第２電極の第１方向に沿った直線部分と重なったり、第１方向に沿って延びる第１補助線が、第２電極の第１方向に沿った直線部分と重なったりすることとなる。反対に、第２電極の例えば第１方向（又は第２方向）に沿った直線部分が第１電極の第１方向に沿った直線部分と重なったり、第２方向に沿って延びる第２補助線が、第１電極の第１方向に沿った直線部分と重なったりする。そうすると、直線部分同士が重なった部分の幅が大きくなり（線太り）、これにより、第１電極や第２電極の位置が目立ってしまい、視認性が劣化するという問題が生じる。 By the way, when the first electrode and the first auxiliary line are formed on one surface of the substrate and the second electrode and the second auxiliary line are formed on the other surface of the substrate, the lattice shape becomes uniform due to manufacturing variations (film formation variations). When the shift amount becomes about ½ of the length of the first auxiliary line or the second auxiliary line, for example, the straight portion of the first electrode along the first direction (or the second direction) is the second electrode. The first auxiliary line extending along the first direction overlaps with the straight line portion along the first direction, or overlaps with the straight line portion along the first direction of the second electrode. On the other hand, for example, a straight line portion along the first direction (or second direction) of the second electrode overlaps with a straight line portion along the first direction of the first electrode, or extends along the second direction. However, it overlaps with the straight portion along the first direction of the first electrode. If it does so, the width | variety of the part which the linear parts overlapped will become large (line-thickness), and, thereby, the position of a 1st electrode or a 2nd electrode will become conspicuous, and the problem that visibility deteriorates will arise.
本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、基体上に形成される透明導電パターンの低抵抗化を図ることができると共に、視認性も向上させることができ、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルの大サイズ化にも対応させることができ、しかも、モアレの発生を抑制することができるタッチパネルを提供することを目的とする。
また、本発明の他の目的は、基体上に形成される透明導電パターンの低抵抗化を図ることができると共に、視認性も向上させることができ、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに用いて好適な導電シートを提供することを目的とする。
The present invention has been made in consideration of such problems, and can reduce the resistance of the transparent conductive pattern formed on the substrate and improve the visibility. An object of the present invention is to provide a touch panel that can cope with an increase in the size of a capacitive touch panel and can suppress the occurrence of moire.
Another object of the present invention is to reduce the resistance of the transparent conductive pattern formed on the substrate and improve the visibility. For example, it can be used for a projected capacitive touch panel. It is an object to provide a suitable conductive sheet.
［１］ 第１の本発明に係るタッチパネルは、タッチパネル用導電シートを有するタッチパネルにおいて、前記タッチパネル用導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、２以上の第１透明導電パターンを有し、前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、２以上の第２透明導電パターンを有し、上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、且つ、前記第１方向及び前記第２方向と異なる方向にずれていることを特徴とする。
［２］ 第２の本発明に係るタッチパネルは、タッチパネル用導電シートを有するタッチパネルにおいて、前記タッチパネル用導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、２以上の第１透明導電パターンと、各第１透明導電パターンの周辺に配列された複数の第１補助線からなる第１補助パターンとを有し、前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、２以上の第２透明導電パターンと、各第２透明導電パターンの周辺に配列された複数の第２補助線からなる第２補助パターンとを有し、上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとの間に、前記第１補助パターンと前記第２補助パターンとが対向することによる組合せパターンが形成され、前記組合せパターンは、前記第１補助線と前記第２補助線とが直交して重ならない形態を有することを特徴とする。
［３］ 第２の本発明において、前記組合せパターンは、前記第１補助線の第１軸線と前記第２補助線の第２軸線とがほぼ平行とされ、前記第１軸線と前記第２軸線間の距離が、前記第１補助線の線幅及び前記第２補助線の線幅のうち、いずれか短い方の線幅の１／２以上１００μｍ以下であることを特徴とする。
［４］ 第２の本発明において、前記組合せパターンは、前記第１補助線と前記第２補助線とが一部重なる形態を有することを特徴とする。
［５］ 第２の本発明において、前記第１軸線と前記第２軸線間の距離が、前記第１補助線の線幅の１／２と前記第２補助線の線幅の１／２との合計よりも長いことを特徴とする。
［６］ 第２の本発明において、前記第１方向と前記第２方向とを二等分する方向を第３方向とし、該第３方向と直交する方向を第４方向としたとき、前記第１導電部と前記第２導電部は、基準位置から少なくとも前記第３方向に前記第１補助線の線幅及び前記第２補助線の線幅のうち、いずれか短い方の線幅の１／２以上１００μｍ以下だけずれて配置されていることを特徴とする。
［７］ 第２の本発明において、前記基準位置は、前記第１補助線の第１軸線と第２補助線の第２軸線とが一致し、且つ、前記第１補助線と前記第２補助線とが重ならず、且つ、前記第１補助線の一端と前記第２補助線の一端とが一致する位置を示すことを特徴とする。
［８］ 第２の本発明において、前記第１透明導電パターン及び前記第２透明導電パターンは、それぞれ多数の格子にて構成されていることを特徴とする。
［９］ 第２の本発明において、前記第１透明導電パターンは、２以上の第１大格子が前記第１方向に直列に接続されて構成され、前記第２透明導電パターンは、２以上の第２大格子が前記第２方向に直列に接続されて構成され、各前記第１大格子及び各前記第２大格子は、それぞれ２以上の小格子が組み合わされて構成され、前記第１大格子の辺の周囲に、前記第１大格子と非接続とされた前記第１補助パターンが形成され、前記第２大格子の辺の周囲に、前記第２大格子と非接続とされた前記第２補助パターンが形成されていることを特徴とする。
［１０］ 第２の本発明において、前記組合せパターンは、前記第１補助線の第１軸線と前記第２補助線の第２軸線とがほぼ平行とされ、前記第１軸線と前記第２軸線間の距離が、前記第１補助線の線幅及び前記第２補助線の線幅のうち、いずれか短い方の線幅の１／２以上で、且つ、小格子の配列ピッチの１／２以下であることを特徴とする。
［１１］ 第２の本発明において、前記第１大格子及び前記第２大格子の一辺の長さが３〜１０ｍｍであり、前記小格子の一辺の長さが５０〜５００μｍであることを特徴とする。
［１２］ 第２の本発明において、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンが線幅３〜３０μｍの細線から構成されていることを特徴とする。
［１３］ 第３の本発明に係る導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、２以上の第１透明導電パターンと、各第１透明導電パターンの周辺に配列された複数の第１補助線からなる第１補助パターンとを有し、前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、２以上の第２透明導電パターンと、各第２透明導電パターンの周辺に配列された複数の第２補助線からなる第２補助パターンとを有し、上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとの間に、前記第１補助パターンと前記第２補助パターンとが対向することによる組合せパターンが形成され、前記組合せパターンは、前記第１補助線と前記第２補助線とが直交して重ならない形態を有することを特徴とする。
［１４］ 第４の本発明に係る導電シートは、基体と、前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、２以上の第１透明導電パターンを有し、前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、２以上の第２透明導電パターンを有し、上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、且つ、前記第１方向及び前記第２方向と異なる方向にずれていることを特徴とする。
[1] A touch panel according to a first aspect of the present invention is a touch panel having a conductive sheet for touch panel, wherein the conductive sheet for touch panel includes a base, a first conductive portion formed on one main surface of the base, A second conductive portion formed on the other main surface of the base body, and each of the first conductive portions extends in a first direction and is arranged in a second direction orthogonal to the first direction. Two or more first transparent conductive patterns, and each of the second conductive portions extends in a second direction and is arranged in the first direction and has two or more second transparent conductive patterns. When viewed from above, the first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern are arranged so as to intersect with each other, and are shifted in a direction different from the first direction and the second direction. It is characterized by that.
[2] The touch panel according to the second aspect of the present invention is the touch panel having the conductive sheet for touch panel, wherein the conductive sheet for touch panel includes a base, a first conductive portion formed on one main surface of the base, A second conductive portion formed on the other main surface of the base body, and each of the first conductive portions extends in a first direction and is arranged in a second direction orthogonal to the first direction. Two or more first transparent conductive patterns and a first auxiliary pattern composed of a plurality of first auxiliary lines arranged around each first transparent conductive pattern, wherein each of the second conductive portions is a second one. A second auxiliary pattern that extends in the direction and is arranged in the first direction and includes two or more second transparent conductive patterns and a plurality of second auxiliary lines arranged around each second transparent conductive pattern And when viewed from above, the first The first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern are arranged so as to intersect with each other, and the first auxiliary pattern and the second transparent pattern are interposed between the first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern. A combination pattern is formed by opposing the auxiliary pattern, and the combination pattern has a form in which the first auxiliary line and the second auxiliary line do not overlap at right angles.
[3] In the second aspect of the present invention, in the combination pattern, the first axis of the first auxiliary line and the second axis of the second auxiliary line are substantially parallel, and the first axis and the second axis The distance between them is ½ or more and 100 μm or less of the shorter one of the line width of the first auxiliary line and the line width of the second auxiliary line.
[4] In the second aspect of the present invention, the combination pattern is characterized in that the first auxiliary line and the second auxiliary line partially overlap each other.
[5] In the second aspect of the present invention, the distance between the first axis and the second axis is ½ of the line width of the first auxiliary line and 1/2 of the line width of the second auxiliary line. It is characterized by being longer than the sum of.
[6] In the second aspect of the present invention, when the direction that bisects the first direction and the second direction is the third direction, and the direction orthogonal to the third direction is the fourth direction, The one conductive portion and the second conductive portion are at least 1 / of the shorter of the line width of the first auxiliary line and the line width of the second auxiliary line in the third direction from the reference position. It is characterized by being shifted by 2 or more and 100 μm or less.
[7] In the second aspect of the present invention, the reference position is such that the first axis of the first auxiliary line coincides with the second axis of the second auxiliary line, and the first auxiliary line and the second auxiliary line. A line is not overlapped, and one end of the first auxiliary line and one end of the second auxiliary line coincide with each other.
[8] In the second aspect of the present invention, the first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern are each composed of a large number of lattices.
[9] In the second aspect of the present invention, the first transparent conductive pattern includes two or more first large lattices connected in series in the first direction, and the second transparent conductive pattern includes two or more A second large lattice is configured to be connected in series in the second direction, and each of the first large lattice and each of the second large lattices is configured by combining two or more small lattices, and the first large lattice The first auxiliary pattern that is disconnected from the first large lattice is formed around a side of the lattice, and the second auxiliary lattice is disconnected from the periphery of the second large lattice. A second auxiliary pattern is formed.
[10] In the second aspect of the present invention, in the combination pattern, the first axis of the first auxiliary line and the second axis of the second auxiliary line are substantially parallel, and the first axis and the second axis The distance between them is ½ or more of the shorter one of the line width of the first auxiliary line and the line width of the second auxiliary line, and ½ of the arrangement pitch of the small lattices. It is characterized by the following.
[11] In the second aspect of the present invention, the length of one side of the first large lattice and the second large lattice is 3 to 10 mm, and the length of one side of the small lattice is 50 to 500 μm. And
[12] The second aspect of the present invention is characterized in that the first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern are composed of thin lines having a line width of 3 to 30 μm.
[13] A conductive sheet according to a third aspect of the present invention includes a base, a first conductive portion formed on one main surface of the base, and a second conductive portion formed on the other main surface of the base. Each of the first conductive parts extends in a first direction and is arranged in a second direction orthogonal to the first direction, and two or more first transparent conductive patterns and each first transparent part A first auxiliary pattern composed of a plurality of first auxiliary lines arranged around the conductive pattern, wherein the second conductive portions respectively extend in the second direction and are arranged in the first direction. Two or more second transparent conductive patterns and a second auxiliary pattern composed of a plurality of second auxiliary lines arranged around each second transparent conductive pattern, and when viewed from above, the first transparent conductive pattern The conductive pattern and the second transparent conductive pattern are arranged to cross each other, and the first A combination pattern is formed between the transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern so that the first auxiliary pattern and the second auxiliary pattern face each other, and the combination pattern includes the first auxiliary line and the second auxiliary pattern. The second auxiliary line is perpendicular to and does not overlap.
[14] A conductive sheet according to a fourth aspect of the present invention includes a base, a first conductive portion formed on one main surface of the base, and a second conductive portion formed on the other main surface of the base. Each of the first conductive parts extends in a first direction and is arranged in a second direction orthogonal to the first direction, and has two or more first transparent conductive patterns, The two conductive parts each extend in the second direction and are arranged in the first direction, and have two or more second transparent conductive patterns. When viewed from above, the first transparent conductive pattern and the two conductive parts The second transparent conductive pattern is arranged in a crossing manner, and is shifted in a direction different from the first direction and the second direction.
以上説明したように、本発明に係るタッチパネルによれば、基体上に形成される透明導電パターンの低抵抗化を図ることができると共に、視認性も向上させることができ、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルの大サイズ化にも対応させることができ、しかも、モアレの発生を抑制することができる。
本発明に係る導電シートによれば、基体上に形成される透明導電パターンの低抵抗化を図ることができると共に、視認性も向上させることができ、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに用いて好適となる。
As described above, according to the touch panel according to the present invention, the resistance of the transparent conductive pattern formed on the substrate can be reduced and the visibility can be improved. Therefore, it is possible to cope with an increase in the size of the touch panel of the system, and it is possible to suppress the occurrence of moire.
According to the conductive sheet of the present invention, the resistance of the transparent conductive pattern formed on the substrate can be reduced and the visibility can be improved. For example, the conductive sheet is used for a projected capacitive touch panel. It becomes suitable.
以下、本発明に係る導電シート及び静電容量方式タッチパネルの実施の形態例を図１〜図８を参照しながら説明する。なお、本明細書において数値範囲を示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味として使用される。 Hereinafter, embodiments of the conductive sheet and the capacitive touch panel according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the present specification, “˜” indicating a numerical range is used as a meaning including numerical values described before and after the numerical value as a lower limit value and an upper limit value.
本実施の形態に係るタッチパネル用の導電シート（以下、タッチパネル用導電シート１０と記す）は、図１及び図２Ａに示すように、第１導電シート１２Ａと第２導電シート１２Ｂとが積層されて構成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2A, a conductive sheet for a touch panel according to the present embodiment (hereinafter referred to as a
第１導電シート１２Ａは、図１及び図３に示すように、第１透明基体１４Ａ（図２Ａ参照）の一主面上に形成された第１導電部１６Ａを有する。この第１導電部１６Ａは、それぞれ第１方向（ｘ方向）に延在し、且つ、第１方向と直交する第２方向（ｙ方向）に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第１透明導電パターン１８Ａと、各第１透明導電パターン１８Ａの周辺に配列された第１補助パターン２０Ａとを有する。
As shown in FIGS. 1 and 3, the first conductive sheet 12 </ b> A includes a first conductive portion 16 </ b> A formed on one main surface of the first transparent base 14 </ b> A (see FIG. 2A). Each of the first
第１透明導電パターン１８Ａは、２以上の第１大格子２４Ａが第１方向に直列に接続されて構成され、各第１大格子２４Ａは、それぞれ２以上の小格子２６が組み合わされて構成されている。また、第１大格子２４Ａの辺の周囲に、第１大格子２４Ａと非接続とされた上述の第１補助パターン２０Ａが形成されている。
The first transparent
隣接する第１大格子２４Ａ間には、これら第１大格子２４Ａを電気的に接続する第１接続部２８Ａが形成されている。第１接続部２８Ａは、ｎ個（ｎは１より大きい実数）の小格子２６が第４方向に配列された大きさの中格子３０が配置されて構成されている。第１大格子２４Ａの第４方向と直交する辺のうち、中格子３０と隣接する部分には、小格子２６の１つの辺が欠除した第１欠除部３２Ａが形成されている。小格子２６は、ここでは一番小さい正方形状とされている。中格子３０は、図３の例では、３個分の小格子２６が第４方向に配列された大きさを有する。
Between the adjacent first
また、隣接する第１透明導電パターン１８Ａ間は電気的に絶縁された第１絶縁部３４Ａが配されている。
In addition, a first insulating portion 34A that is electrically insulated is disposed between adjacent first transparent
ここで、第１補助パターン２０Ａは、第１方向と第２方向とを二等分する方向を第３方向（ｍ方向）とし、第３方向と直交する方向を第４方向（ｎ方向）としたとき、第１大格子２４Ａの辺のうち、第３方向と直交する辺に沿って配列された複数の第１補助線３６Ａ（第３方向を軸線方向とする）と、第１大格子２４Ａの辺のうち、第４方向と直交する辺に沿って配列された複数の第１補助線３６Ａ（第４方向を軸線方向とする）と、第１絶縁部３４Ａにおいて、それぞれ２つの第１補助線３６ＡがＬ字状に組み合わされた２つの第１Ｌ字状パターン３８Ａが互いに対向して配置されたパターンとを有する。
Here, in the first
各第１補助線３６Ａの軸線方向の長さは小格子２６の内周に沿った１つの辺の１／２の長さを有する。また、各第１補助線３６Ａは、第１大格子２４Ａから所定距離（この例では、小格子２６の内周に沿った１つの辺の１／２の長さ）だけ離間した位置に形成されている。
The length of each first auxiliary line 36 </ b> A in the axial direction has a length that is ½ of one side along the inner periphery of the
上述のように構成された第１導電シート１２Ａは、図１に示すように、各第１透明導電パターン１８Ａの一方の端部側に存在する第１大格子２４Ａの開放端は、第１接続部２８Ａが存在しない形状となっている。各第１透明導電パターン１８Ａの他方の端部側に存在する第１大格子２４Ａの端部は、第１端子４０Ａを介して第１外部配線４２Ａに電気的に接続されている。
As shown in FIG. 1, the first conductive sheet 12 </ b> A configured as described above is configured such that the open end of the first large lattice 24 </ b> A existing on one end side of each first transparent conductive pattern 18 </ b> A is a first connection. The
一方、第２導電シート１２Ｂは、図１及び図４に示すように、第２透明基体１４Ｂ（図２Ａ参照）の一主面上に形成された第２導電部１６Ｂを有する。この第２導電部１６Ｂは、それぞれ第２方向（ｙ方向）に延在し、且つ、第１方向（ｘ方向）に配列され、多数の格子にて構成された２以上の第２透明導電パターン１８Ｂと、各第２透明導電パターン１８Ｂの周辺に配列された第２補助パターン２０Ｂとを有する。
On the other hand, as shown in FIGS. 1 and 4, the second conductive sheet 12 </ b> B includes a second conductive portion 16 </ b> B formed on one main surface of the second transparent base 14 </ b> B (see FIG. 2A). Each of the second
第２透明導電パターン１８Ｂは、２以上の第２大格子２４Ｂが第２方向に直列に接続されて構成され、各第２大格子２４Ｂは、それぞれ２以上の小格子２６が組み合わされて構成されている。また、第２大格子２４Ｂの辺の周囲に、第２大格子２４Ｂと非接続とされた上述の第２補助パターン２０Ｂが形成されている。
The second transparent
隣接する第２大格子２４Ｂ間には、これら第２大格子２４Ｂを電気的に接続する第２接続部２８Ｂが形成されている。第２接続部２８Ｂは、ｎ個（ｎは１より大きい実数）の小格子２６が第３方向に配列された大きさの中格子３０が配置されて構成されている。第２大格子２４Ｂの第３方向と直交する辺のうち、中格子３０と隣接する部分には、小格子２６の１つの辺が欠除した第２欠除部３２Ｂが形成されている。
Between the adjacent second
また、隣接する第２透明導電パターン１８Ｂ間は電気的に絶縁された第２絶縁部３４Ｂが配されている。
Further, a second insulating
第２補助パターン２０Ｂは、第２大格子２４Ｂの辺のうち、第４方向と直交する辺に沿って配列された複数の第２補助線３６Ｂ（第４方向を軸線方向とする）と、第２大格子２４Ｂの辺のうち、第３方向と直交する辺に沿って配列された複数の第２補助線３６Ｂ（第３方向を軸線方向とする）と、第２絶縁部３４Ｂにおいて、それぞれ２つの第２補助線３６ＢがＬ字状に組み合わされた２つの第２Ｌ字状パターン３８Ｂが互いに対向して配置されたパターンとを有する。
The second
各第２補助線３６Ｂの軸線方向の長さは小格子２６の内周に沿った１つの辺の１／２の長さを有する。また、各第２補助線３６Ｂは、第２大格子２４Ｂから所定距離（この例では、小格子２６の内周に沿った１つの辺の１／２の長さ）だけ離間した位置に形成されている。
The length of each second auxiliary line 36 </ b> B in the axial direction has a length that is ½ of one side along the inner periphery of the
上述のように構成された第２導電シート１２Ｂは、図１に示すように、各第２透明導電パターン１８Ｂの一方の端部側に存在する第２大格子２４Ｂの開放端は、第２接続部２８Ｂが存在しない形状となっている。各第２透明導電パターン１８Ｂの他方の端部側に存在する第２大格子２４Ｂの端部は、第２端子４０Ｂを介して第２外部配線４２Ｂに電気的に接続されている。
As shown in FIG. 1, the second conductive sheet 12 </ b> B configured as described above is configured such that the open end of the second large lattice 24 </ b> B existing on one end side of each second transparent conductive pattern 18 </ b> B is a second connection. The portion 28B does not exist. The end of the second
第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂの一辺の長さは、３〜１０ｍｍであることが好ましく、４〜６ｍｍであることがより好ましい。一辺の長さが、上記下限値未満であると、検出時の第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂの静電容量が減るため、検出不良になる可能性が高くなる。他方、上記上限値を超えると、位置検出精度が低下する虞がある。同様の観点から、第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂを構成する小格子２６の一辺の長さは５０μｍ以上であることが好ましく、５０〜５００μｍであることがより好ましく、１５０〜３００μｍであることがさらに好ましい。
The length of one side of the first
また、第１透明導電パターン１８Ａ（第１大格子２４Ａ、中格子３０）の線幅、並びに第２透明導電パターン１８Ｂ（第２大格子２４Ｂ、中格子３０）の線幅は、それぞれ１〜３０μｍである。
The line width of the first transparent
第１補助パターン２０Ａ（第１補助線３６Ａ）及び第２補助パターン２０Ｂ（第２補助線３６Ｂ）の線幅はそれぞれ１〜３０μｍである。この場合、第１透明導電パターン１８Ａの線幅や第２透明導電パターン１８Ｂの線幅と同じでもよく、異なっていてもよい。ただ、第１透明導電パターン１８Ａ、第２透明導電パターン１８Ｂ、第１補助パターン２０Ａ及び第２補助パターン２０Ｂの各線幅を同じにすることが好ましい。
The line widths of the first
そして、例えば第２導電シート１２Ｂ上に第１導電シート１２Ａを積層して第１タッチパネル用導電シート１０としたとき、図５に示すように、第１透明導電パターン１８Ａと第２透明導電パターン１８Ｂとが交差して配置された形態とされ、具体的には、第１透明導電パターン１８Ａの第１接続部２８Ａと第２透明導電パターン１８Ｂの第２接続部２８Ｂとが第１透明基体１４Ａ（図２Ａ参照）を間に挟んで対向し、第１導電部１６Ａの第１絶縁部３４Ａと第２導電部１６Ｂの第２絶縁部３４Ｂとが第１透明基体１４Ａを間に挟んで対向した形態となる。
For example, when the first
積層した第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂを上面から見たとき、第１導電シート１２Ａに形成された第１大格子２４Ａの隙間を埋めるように、第２導電シート１２Ｂの第２大格子２４Ｂが配列された形態となる。つまり、大格子が敷き詰められた形態となる。このとき、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの間に、第１補助パターン２０Ａと第２補助パターン２０Ｂとが対向することによる組合せパターン４４が形成される。
When the stacked first
組合せパターン４４は、第１補助線３６Ａと第２補助線３６Ｂとが直交して重ならない形態を有する。
The
すなわち、組合せパターン４４のうち、第１大格子２４Ａの辺に沿って配列された第１補助線３６Ａと第２大格子２４Ｂの辺に沿って配列された第２補助線３６Ｂとによる組合せパターンは、図６Ａ〜図６Ｃに示すように、第１補助線３６Ａの第１軸線４６Ａと第２補助線３６Ｂの第２軸線４６Ｂとがほぼ平行とされ、第１軸線４６Ａと第２軸線４６Ｂ間の平面から見た距離ｈａが、第１補助線３６Ａの線幅Ｗａ及び第２補助線３６Ｂの線幅Ｗｂのうち、いずれか短い方の線幅の１／２以上１００μｍ以下（あるいは小格子２６の配列ピッチの１／２以下）となっている。
That is, in the
図６Ａは、第１軸線４６Ａと第２軸線４６Ｂ間の距離ｈａが、第１補助線３６Ａの線幅Ｗａの１／２と第２補助線３６Ｂの線幅Ｗｂの１／２との合計未満である場合を示し、この場合、第１補助線３６Ａと第２補助線３６Ｂとが一部重なる形態となる。図６Ｂは、第１軸線４６Ａと第２軸線４６Ｂ間の距離ｈａが、第１補助線３６Ａの線幅Ｗａの１／２と第２補助線３６Ｂの線幅Ｗｂの１／２との合計である場合を示す。図６Ｃは、第１軸線４６Ａと第２軸線４６Ｂ間の距離ｈａが、第１補助線３６Ａの線幅Ｗａの１／２と第２補助線３６Ｂの線幅Ｗｂの１／２との合計よりも長い場合を示す。
In FIG. 6A, the distance ha between the
組合せパターン４４のうち、第１絶縁部３４Ａの２つの第１Ｌ字状パターン３８Ａにおける各第１補助線３６Ａと第２絶縁部３４Ｂの２つの第２Ｌ字状パターン３８Ｂにおける各第２補助線３６Ｂとによる組合せパターンは、４つのＬ字状パターン（３８Ａ、３８Ａ、３８Ｂ及び３８Ｂ）で小格子２６を形成しない形態を有する。
Among the
すなわち、図７に示すように、一方の第２Ｌ字状パターン３８Ｂ寄りに２つの第１Ｌ字状パターン３８Ａが位置し、他方の第２Ｌ字状パターン３８Ｂが、これら一方の第２Ｌ字状パターン３８Ｂ及び２つの第１Ｌ字状パターン３８Ａから離れて位置された形態となる。このうち、一方の第２Ｌ字状パターン３８Ｂ及び２つの第１Ｌ字状パターン３８Ａは、一方の第２Ｌ字状パターン３８Ｂを構成する２つの第２補助線３６Ｂのうちの一方の第２補助線３６Ｂの第２軸線４６Ｂと、一方の第１Ｌ字状パターン３８Ａを構成する２つの第１補助線３６Ａのうちの一方の第１補助線３６Ａの第１軸線４６Ａとがほぼ平行とされ、これら第１軸線４６Ａと第２軸線４６Ｂ間の距離ｈａが、第１補助線３６Ａの線幅Ｗａ及び第２補助線３６Ｂの線幅Ｗｂのうち、いずれか短い方の線幅の１／２以上１００μｍ以下（あるいは小格子２６の配列ピッチの１／２以下）となっている。
That is, as shown in FIG. 7, two first L-shaped
同様に、一方の第２Ｌ字状パターン３８Ｂを構成する２つの第２補助線３６Ｂのうちの他方の第２補助線３６Ｂの第２軸線４６Ｂと、他方の第１Ｌ字状パターン３８Ａを構成する２つの第１補助線３６Ａのうちの一方の第１補助線３６Ａの第１軸線４６Ａとがほぼ平行とされ、これら第１軸線４６Ａと第２軸線４６Ｂ間の距離ｈａが、第１補助線３６Ａの線幅Ｗａ及び第２補助線３６Ｂの線幅Ｗｂのうち、いずれか短い方の線幅の１／２以上１００μｍ以下（あるいは小格子２６の配列ピッチの１／２以下）となっている。そして、一方の第２Ｌ字状パターン３８Ｂ及び２つの第１Ｌ字状パターン３８Ａにおける第２補助線３６Ｂ及び第１補助線３６Ａの位置関係は、図６Ａ〜図６Ｃと同様である。
Similarly, of the two second
すなわち、第１導電部１６Ａと第２導電部１６Ｂは、基準位置から少なくとも第３方向に第１補助線３６Ａの線幅Ｗａ及び第２補助線３６Ｂの線幅Ｗｂのうち、いずれか短い方の線幅の１／２以上１００μｍ以下（あるいは小格子２６の配列ピッチの１／２以下）だけずれて配置されている。特に、本実施の形態では、第３方向及び第４方向にそれぞれ第１補助線３６Ａの線幅Ｗａ及び第２補助線３６Ｂの線幅Ｗｂのうち、いずれか短い方の線幅の１／２以上１００μｍ以下（あるいは小格子２６の配列ピッチの１／２以下）だけずれて配置されている。
That is, the first
ここで、基準位置は、図８に示すように、第１補助線３６Ａの第１軸線４６Ａと第２補助線３６Ｂの第２軸線４６Ｂとが一致し、且つ、第１補助線３６Ａと第２補助線３６Ｂとが重ならず、且つ、第１補助線３６Ａの一端と第２補助線３６Ｂの一端とが一致する位置を示す。
Here, as shown in FIG. 8, the
このように、本実施の形態に係るタッチパネル用導電シート１０においては、図５にも示すように、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの間に、第１補助パターン２０Ａと第２補助パターン２０Ｂとの組合せパターン４４が配置されることから、第１大格子２４Ａや第２大格子２４Ｂとの間に、空白（幅が小格子２６の辺の長さに相当し、長さが第１大格子２４Ａや第２大格子２４Ｂの辺の長さに相当する空白）が配置されるということがなくなり、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの境界が目立つということがなくなる。
Thus, in the
しかも、組合せパターン４４において、小格子２６の内周に沿った１つの辺の１／２の長さを有する第１補助線３６Ａと第２補助線３６Ｂとが一部重なった形態となり、その重なった部分の長さは、第１大格子２４Ａや第２大格子２４Ｂの各辺の長さと比較して非常に短く、１／２０以下の短さである。従って、第１補助線３６Ａと第２補助線３６Ｂとが一部重なる部分が目立つということはなく、視認性の劣化はほとんどない。これは、第１Ｌ字状パターン３８Ａと第２Ｌ字状パターン３８Ｂとの組合せにおいても同様であり、図７でも示すように、一方の第２Ｌ字状パターン３８Ｂ及び２つの第１Ｌ字状パターン３８Ａにおいても、小格子２６の内周に沿った１つの辺の１／２の長さを有する第１補助線３６Ａと第２補助線３６Ｂとが一部重なった形態となり、その重なった部分の長さは、第１大格子２４Ａや第２大格子２４Ｂの各辺の長さと比較して非常に短く、１／２０以下の短さである。従って、第１補助線３６Ａと第２補助線３６Ｂとが一部重なる部分が目立つということはなく、視認性の劣化はほとんどない。
Moreover, in the
また、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂの各辺では、第１補助線３６Ａや第２補助線３６Ｂが直交して重なることになるが、第１補助線３６Ａや第２補助線３６Ｂの軸線方向の長さは、小格子２６の内周に沿った１つの辺の１／２の長さであるから、ほとんど目立つことがない。
Further, the first
また、第１接続部２８Ａの中格子３０と第２接続部２８Ｂの中格子３０とが直交して重なることになるが、この場合、第１導電部１６Ａ及び第２導電部１６Ｂが第３方向と第４方向にずれていることから、一部において、小格子２６の形状が均一にならない部分が生じる。しかし、小格子２６が不均一となった部分の数は、第１接続部２８Ａの中格子３０と第２接続部２８Ｂの中格子３０とが直交して重なる部分の四方に存在する第１大格子２４Ａの小格子２６の数、第２大格子２４Ｂの小格子２６の数に比して少ないことから（５％程度）、小格子２６の不均一さはほとんど目立たない。しかも、第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂに中格子３０に隣接して第１欠除部３２Ａ及び第２欠除部３２Ｂを形成するようにしたので、中格子３０の直線部分が第１大格子２４Ａの直線部分や第２大格子２４Ｂの直線部分と重なることがなく、視認性の劣化はほとんどない。
In addition, the
そして、このタッチパネル用導電シート１０をタッチパネルとして使用する場合は、第１導電シート１２Ａ上に保護層を形成し、第１導電シート１２Ａの多数の第１透明導電パターン１８Ａから導出された第１外部配線４２Ａと、第２導電シート１２Ｂの多数の第２透明導電パターン１８Ｂから導出された第２外部配線４２Ｂとを、例えばスキャンをコントロールするＩＣ回路に接続する。このとき、タッチパネル用導電シート１０のうち、液晶表示装置の表示画面から外れた外周領域（額縁領域）の面積が極力小さくなるように、第１透明導電パターン１８Ａと第１外部配線４２Ａとの各接続部が直線状に配列された形態にし、第２透明導電パターン１８Ｂと第２外部配線４２Ｂとの各接続部が直線状に配列された形態にすることが好ましい。
And when using this
指先を保護層上に接触させることで、指先に対向する第１透明導電パターン１８Ａと第２透明導電パターン１８Ｂ間の静電容量が変化する。ＩＣ回路では、この変化量を検出し、この変化量に基づいて指先の位置を演算する。この演算をそれぞれの第１透明導電パターン１８Ａ／第２透明導電パターン１８Ｂ間にて行う。従って、同時に２つ以上の指先を接触させても、各指先の位置を検出することが可能となる。
By bringing the fingertip into contact with the protective layer, the capacitance between the first transparent
このように、タッチパネル用導電シート１０においては、該タッチパネル用導電シート１０を用いて例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに適用した場合に、その表面抵抗が小さいことから応答速度を速めることができ、タッチパネルの大サイズ化を促進させることができる。
Thus, in the
しかも、第１導電部１６Ａと第２導電部１６Ｂとがずれて配置されていても、上述したように、第１導電シート１２Ａの第１大格子２４Ａと第２導電シート１２Ｂの第２大格子２４Ｂとの境界が目立たなくなり、局部的に線太りが生じる等の不都合もなく、全体として、視認性が良好となる。さらに、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとが隣接して配置されることによる多数の規則的な小格子２６の配列と、第１大格子２４Ａと第２大格子２４Ｂとの間に形成される第１補助線３６Ａと第２補助線３６Ｂとのずれた配置による上述の小格子２６の配列とは異なった配列が混在し、これにより、多数の空間周波数が合わさった形態となり、その結果、液晶表示装置の画素配列との干渉が抑制され、モアレの発生を効果的に低減させることができる。
In addition, even if the first
上述のタッチパネル用導電シート１０では、小格子２６の形状を正方形状としたが、その他、多角形状としてもよい。また、一辺の形状を直線状のほか、湾曲形状でもよいし、円弧状にしてもよい。円弧状とする場合は、例えば対向する２辺については、外方に凸の円弧状とし、他の対向する２辺については、内方に凸の円弧状としてもよい。また、各辺の形状を、外方に凸の円弧と内方に凸の円弧が連続した波線形状としてもよい。もちろん、各辺の形状を、サイン曲線にしてもよい。
In the above-described
上述した第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂにおいては、第１接続部２８Ａ及び第２接続部２８Ｂを構成する中格子３０の大きさを、３個分の小格子２６の大きさに設定したが、その他、１．５個分、２個分、２．５個分等、種々の組合せに設定することができる。中格子３０は、あまりに大きすぎると、第１大格子２４Ａや第２大格子２４Ｂの配置が難しくなり、検出してはいけない交差部での静電容量変化が大きくなるため、最大で５個分の小格子２６の大きさであることが好ましい。
In the first
また、小格子２６のサイズ（１辺の長さや対角線の長さ等）や、第１大格子２４Ａを構成する小格子２６の個数、第２大格子２４Ｂを構成する小格子２６の個数も、適用されるタッチパネルのサイズや分解能（配線数）に応じて適宜設定することができる。
The size of the small lattice 26 (the length of one side, the length of the diagonal line, etc.), the number of
上述のタッチパネル用導電シート１０では、図１及び図２Ａに示すように、第１透明基体１４Ａの一主面に第１導電部１６Ａを形成し、第２透明基体１４Ｂの一主面に第２導電部１６Ｂを形成して、積層するようにしたが、その他、図２Ｂに示すように、第１透明基体１４Ａの一主面に第１導電部１６Ａを形成し、第１透明基体１４Ａの他主面に第２導電部１６Ｂを形成するようにしてもよい。また、第１導電シート１２Ａと第２導電シート１２Ｂとはその間に他の層が存在してもよく、第１透明導電パターン１８Ａと第２透明導電パターン１８Ｂとが絶縁状態であれば、それらが対向して配置されてもよい。
In the
次に、第１導電シート１２Ａや第２導電シート１２Ｂを製造する方法について説明する。
Next, a method for manufacturing the first
第１導電シート１２Ａや第２導電シート１２Ｂを製造する場合は、例えば第１透明基体１４Ａ上及び第２透明基体１４Ｂ上に感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって、露光部及び未露光部にそれぞれ金属銀部及び光透過性部を形成して第１導電部１６Ａ及び第２導電部１６Ｂを形成するようにしてもよい。なお、さらに金属銀部に物理現像及び／又はめっき処理を施すことによって金属銀部に導電性金属を担持させるようにしてもよい。
When manufacturing the first
あるいは、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に形成された銅箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する銅箔をエッチングすることによって、第１導電部１６Ａ及び第２導電部１６Ｂを形成するようにしてもよい。
Alternatively, the photoresist film on the copper foil formed on the first
あるいは、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に金属微粒子を含むペーストを印刷し、ペーストに金属めっきを行うことによって、第１導電部１６Ａ及び第２導電部１６Ｂを形成するようにしてもよい。
Alternatively, the first
第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に、第１導電部１６Ａ及び第２導電部１６Ｂをスクリーン印刷版又はグラビア印刷版によって印刷形成するようにしてもよい。
The first
次に、本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂにおいて、特に好ましい態様であるハロゲン化銀写真感光材料を用いる方法を中心にして述べる。
Next, in the first
本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂの製造方法は、感光材料と現像処理の形態によって、次の３通りの形態が含まれる。
（１） 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は熱現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる態様。
（２） 物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を溶解物理現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる態様。
（３） 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して金属銀部を非感光性受像シート上に形成させる態様。
The manufacturing method of the first
(1) A mode in which a photosensitive silver halide black-and-white photosensitive material not containing physical development nuclei is chemically developed or thermally developed to form a metallic silver portion on the photosensitive material.
(2) An embodiment in which a photosensitive silver halide black-and-white photosensitive material containing physical development nuclei in a silver halide emulsion layer is dissolved and physically developed to form a metallic silver portion on the photosensitive material.
(3) A photosensitive silver halide black-and-white photosensitive material containing no physical development nuclei and an image receiving sheet having a non-photosensitive layer containing physical development nuclei are overlapped and developed by diffusion transfer, and the metallic silver portion is non-photosensitive image-receiving sheet. Form formed on top.
上記（１）の態様は、一体型黒白現像タイプであり、感光材料上に光透過性導電膜等の透光性導電性膜が形成される。得られる現像銀は化学現像銀又は熱現像銀であり、高比表面のフィラメントである点で後続するめっき又は物理現像過程で活性が高い。 The aspect (1) is an integrated black-and-white development type, and a light-transmitting conductive film such as a light-transmitting conductive film is formed on the photosensitive material. The resulting developed silver is chemically developed silver or heat developed silver, and is highly active in the subsequent plating or physical development process in that it is a filament with a high specific surface.
上記（２）の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀粒子が溶解されて現像核上に沈積することによって感光材料上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。これも一体型黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、現像銀は比表面の小さい球形である。 In the above aspect (2), the light-transmitting conductive film such as a light-transmitting conductive film is formed on the photosensitive material by dissolving silver halide grains close to the physical development nucleus and depositing on the development nucleus in the exposed portion. A characteristic film is formed. This is also an integrated black-and-white development type. Although the development action is precipitation on the physical development nuclei, it is highly active, but developed silver is a sphere with a small specific surface.
上記（３）の態様は、未露光部においてハロゲン化銀粒子が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって受像シート上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。いわゆるセパレートタイプであって、受像シートを感光材料から剥離して用いる態様である。 In the above aspect (3), the silver halide grains are dissolved and diffused in the unexposed area and deposited on the development nuclei on the image receiving sheet, whereby a light transmitting conductive film or the like is formed on the image receiving sheet. A conductive film is formed. This is a so-called separate type in which the image receiving sheet is peeled off from the photosensitive material.
いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる（拡散転写方式の場合は、感光材料としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる）。 In either embodiment, either negative development processing or reversal development processing can be selected (in the case of the diffusion transfer method, negative development processing is possible by using an auto-positive type photosensitive material as the photosensitive material). .
ここでいう化学現像、熱現像、溶解物理現像、拡散転写現像は、当業界で通常用いられている用語どおりの意味であり、写真化学の一般教科書、例えば菊地真一著「写真化学」（共立出版社、１９５５年刊行）、Ｃ．Ｅ．Ｋ．Ｍｅｅｓ編「Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ， ４ｔｈ ｅｄ．」（Ｍｃｍｉｌｌａｎ社、１９７７年刊行）に解説されている。本件は液処理に係る発明であるが、その他の現像方式として熱現像方式を適用する技術も参考にすることができる。例えば、特開２００４−１８４６９３号、同２００４−３３４０７７号、同２００５−０１０７５２号の各公報、特願２００４−２４４０８０号、同２００４−０８５６５５号の各明細書に記載された技術を適用することができる。 The chemical development, thermal development, dissolution physical development, and diffusion transfer development mentioned here have the same meanings as are commonly used in the industry, and are general textbooks of photographic chemistry such as Shinichi Kikuchi, “Photochemistry” (Kyoritsu Publishing) (Published in 1955), C.I. E. K. It is described in "The Theory of Photographic Processes, 4th ed." Edited by Mees (Mcmillan, 1977). Although this case is an invention related to liquid processing, a technique of applying a thermal development system as another development system can also be referred to. For example, the techniques described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2004-184893, 2004-334077, and 2005-010752, and Japanese Patent Application Nos. 2004-244080 and 2004-085655 can be applied. it can.
ここで、本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂの各層の構成について、以下に詳細に説明する。
Here, the configuration of each layer of the first
［第１透明基体１４Ａ、第２透明基体１４Ｂ］
第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂとしては、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板等を挙げることができる。
上記プラスチックフィルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡ等のポリオレフィン類；ビニル系樹脂；その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等を用いることができる。
第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂとしては、ＰＥＴ（融点：２５８℃）、ＰＥＮ（融点：２６９℃）、ＰＥ（融点：１３５℃）、ＰＰ（融点：１６３℃）、ポリスチレン（融点：２３０℃）、ポリ塩化ビニル（融点：１８０℃）、ポリ塩化ビニリデン（融点：２１２℃）やＴＡＣ（融点：２９０℃）等の融点が約２９０℃以下であるプラスチックフィルム、又はプラスチック板が好ましく、特に、光透過性や加工性等の観点から、ＰＥＴが好ましい。タッチパネル用導電シート１０に使用される第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂのような透明導電性フィルムは透明性が要求されるため、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂの透明度は高いことが好ましい。
[First
Examples of the first
Examples of the raw material for the plastic film and plastic plate include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); polyolefins such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene, and EVA; Resin; In addition, polycarbonate (PC), polyamide, polyimide, acrylic resin, triacetyl cellulose (TAC) and the like can be used.
As the first
［銀塩乳剤層］
第１導電シート１２Ａの第１導電部１６Ａ（第１大格子２４Ａ、第１接続部２８Ａ、第１補助パターン２０Ａ等）及び第２導電シート１２Ｂの第２導電部１６Ｂ（第２大格子２４Ｂ、第２接続部２８Ｂ、第２補助パターン２０Ｂ等）となる銀塩乳剤層は、銀塩とバインダーの他、溶媒や染料等の添加剤を含有する。
本実施の形態に用いられる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩及び酢酸銀等の有機銀塩が挙げられる。本実施の形態においては、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀を用いることが好ましい。
銀塩乳剤層の塗布銀量（銀塩の塗布量）は、銀に換算して１〜３０ｇ／ｍ２が好ましく、１〜２５ｇ／ｍ２がより好ましく、５〜２０ｇ／ｍ２がさらに好ましい。この塗布銀量を上記範囲とすることで、タッチパネル用導電シート１０とした場合に所望の表面抵抗を得ることができる。
本実施の形態に用いられるバインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
本実施の形態の銀塩乳剤層中に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。銀塩乳剤層中のバインダーの含有量は、銀／バインダー体積比で１／４以上が好ましく、１／２以上がより好ましい。銀／バインダー体積比は、１００／１以下が好ましく、５０／１以下がより好ましい。また、銀／バインダー体積比は１／１〜４／１であることがさらに好ましい。１／１〜３／１であることが最も好ましい。銀塩乳剤層中の銀／バインダー体積比をこの範囲にすることで、塗布銀量を調整した場合でも抵抗値のばらつきを抑制し、均一な表面抵抗を有するタッチパネル用導電シートを得ることができる。なお、銀／バインダー体積比は、原料のハロゲン化銀量／バインダー量（重量比）を銀量／バインダー量（重量比）に変換し、さらに、銀量／バインダー量（重量比）を銀量／バインダー量（体積比）に変換することで求めることができる。
[Silver salt emulsion layer]
First
Examples of the silver salt used in the present embodiment include inorganic silver salts such as silver halide and organic silver salts such as silver acetate. In the present embodiment, it is preferable to use silver halide having excellent characteristics as an optical sensor.
Silver coating amount of silver salt emulsion layer (coating amount of silver salt) is preferably from 1 to 30 g / m 2 in terms of silver, more preferably 1 to 25 g / m 2, more preferably 5 to 20 g / m 2 . By setting the amount of coated silver in the above range, a desired surface resistance can be obtained when the
Examples of the binder used in the present embodiment include gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl pyrrolidone (PVP), starch and other polysaccharides, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polyvinyl amine, chitosan, polylysine, and polyacryl. Examples include acid, polyalginic acid, polyhyaluronic acid, carboxycellulose and the like. These have neutral, anionic, and cationic properties depending on the ionicity of the functional group.
The content of the binder contained in the silver salt emulsion layer of the present embodiment is not particularly limited, and can be appropriately determined as long as dispersibility and adhesion can be exhibited. The binder content in the silver salt emulsion layer is preferably ¼ or more, more preferably ½ or more in terms of the silver / binder volume ratio. The silver / binder volume ratio is preferably 100/1 or less, and more preferably 50/1 or less. The silver / binder volume ratio is more preferably 1/1 to 4/1. Most preferably, it is 1/1 to 3/1. By setting the silver / binder volume ratio in the silver salt emulsion layer within this range, even when the amount of coated silver is adjusted, variation in resistance value can be suppressed, and a conductive sheet for touch panel having uniform surface resistance can be obtained. . The silver / binder volume ratio is converted from the amount of silver halide / binder amount (weight ratio) of the raw material to the amount of silver / binder amount (weight ratio), and the amount of silver / binder amount (weight ratio) is further converted to the amount of silver. / It can obtain | require by converting into binder amount (volume ratio).
＜溶媒＞
銀塩乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
本実施の形態の銀塩乳剤層に用いられる溶媒の含有量は、銀塩乳剤層に含まれる銀塩、バインダー等の合計の質量に対して３０〜９０質量％の範囲であり、５０〜８０質量％の範囲であることが好ましい。
<Solvent>
The solvent used for forming the silver salt emulsion layer is not particularly limited. For example, water, organic solvents (for example, alcohols such as methanol, ketones such as acetone, amides such as formamide, dimethyl sulfoxide, etc. Sulphoxides such as, esters such as ethyl acetate, ethers, etc.), ionic liquids, and mixed solvents thereof.
The content of the solvent used in the silver salt emulsion layer of the present embodiment is in the range of 30 to 90% by mass with respect to the total mass of the silver salt and binder contained in the silver salt emulsion layer, and 50 to 80 It is preferably in the range of mass%.
＜その他の添加剤＞
本実施の形態に用いられる各種添加剤に関しては、特に制限は無く、公知のものを好ましく用いることができる。
<Other additives>
There are no particular restrictions on the various additives used in the present embodiment, and known ones can be preferably used.
［その他の層構成］
銀塩乳剤層の上に図示しない保護層を設けてもよい。本実施の形態において「保護層」とは、ゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために感光性を有する銀塩乳剤層上に形成される。その厚みは０．５μｍ以下が好ましい。保護層の塗布方法及び形成方法は特に限定されず、公知の塗布方法及び形成方法を適宜選択することができる。また、銀塩乳剤層よりも下に、例えば下塗り層を設けることもできる。
[Other layer structure]
A protective layer (not shown) may be provided on the silver salt emulsion layer. In the present embodiment, the “protective layer” means a layer made of a binder such as gelatin or a high molecular polymer, and is formed on a silver salt emulsion layer having photosensitivity in order to exhibit an effect of preventing scratches and improving mechanical properties. It is formed. The thickness is preferably 0.5 μm or less. The coating method and forming method of the protective layer are not particularly limited, and a known coating method and forming method can be appropriately selected. An undercoat layer, for example, can be provided below the silver salt emulsion layer.
次に、第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂの作製方法の各工程について説明する。
［露光］
本実施の形態では、第１導電部及び第２導電部を印刷方式によって施す場合を含むが、印刷方式以外は、第１導電部及び第２導電部を露光と現像等によって形成する。すなわち、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に設けられた銀塩含有層を有する感光材料又はフォトリソグラフィ用フォトポリマーを塗工した感光材料への露光を行う。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、Ｘ線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。
露光方法に関しては、ガラスマスクを介した方法やレーザー描画によるパターン露光方式が好ましい。
Next, each step of the manufacturing method of the first
[exposure]
This embodiment includes the case where the first conductive portion and the second conductive portion are applied by a printing method, but the first conductive portion and the second conductive portion are formed by exposure, development, and the like except for the printing method. That is, exposure is performed on a photosensitive material having a silver salt-containing layer provided on the first
Regarding the exposure method, a method through a glass mask or a pattern exposure method by laser drawing is preferable.
［現像処理］
本実施の形態では、乳剤層を露光した後、さらに現像処理が行われる。現像処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。現像液については特に限定はしないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、市販品では、例えば、富士フイルム社処方のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社処方のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２等の現像液、又はそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リス現像液を用いることもできる。
本発明における現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。本発明における定着処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
上記定着工程における定着温度は、約２０℃〜約５０℃が好ましく、さらに好ましくは２５〜４５℃である。また、定着時間は５秒〜１分が好ましく、さらに好ましくは７秒〜５０秒である。定着液の補充量は、感光材料の処理量に対して６００ｍｌ／ｍ２以下が好ましく、５００ｍｌ／ｍ２以下がさらに好ましく、３００ｍｌ／ｍ２以下が特に好ましい。
現像、定着処理を施した感光材料は、水洗処理や安定化処理を施されるのが好ましい。上記水洗処理又は安定化処理においては、水洗水量は通常感光材料１ｍ２当り、２０リットル以下で行われ、３リットル以下の補充量（０も含む、すなわちため水水洗）で行うこともできる。
現像処理後の露光部に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。
本実施の形態における現像処理後の階調は、特に限定されるものではないが、４．０を超えることが好ましい。現像処理後の階調が４．０を超えると、光透過性部の透光性を高く保ったまま、導電性金属部の導電性を高めることができる。階調を４．０以上にする手段としては、例えば、前述のロジウムイオン、イリジウムイオンのドープが挙げられる。
以上の工程を経て導電シートは得られるが、得られた導電シートの表面抵抗は１００オーム／ｓｑ．以下が好ましく、０．１〜１００オーム／ｓｑ．の範囲にあることが好ましく、１〜１０オーム／ｓｑ．の範囲にあることがより好ましい。このような範囲に表面抵抗を調整することで、面積が１０ｃｍ×１０ｃｍ以上の大型のタッチパネルでも位置検出を行うことができる。また、現像処理後の導電シートに対しては、さらにカレンダー処理を行ってもよく、カレンダー処理により所望の表面抵抗に調整することができる。
[Development processing]
In this embodiment, after the emulsion layer is exposed, development processing is further performed. The development processing can be performed by a normal development processing technique used for silver salt photographic film, photographic paper, printing plate-making film, photomask emulsion mask, and the like. The developer is not particularly limited, but PQ developer, MQ developer, MAA developer and the like can also be used, and commercially available products include, for example, CN-16, CR-56, CP45X, FD prescribed by Fuji Film -3, Papitol, a developer such as C-41, E-6, RA-4, D-19, D-72, etc. formulated by KODAK, or a developer included in the kit can be used. A lith developer can also be used.
The development processing in the present invention can include a fixing processing performed for the purpose of removing and stabilizing the silver salt in the unexposed portion. For the fixing process in the present invention, a fixing process technique used for silver salt photographic film, photographic paper, film for printing plate making, emulsion mask for photomask, and the like can be used.
The fixing temperature in the fixing step is preferably about 20 ° C. to about 50 ° C., more preferably 25 to 45 ° C. The fixing time is preferably 5 seconds to 1 minute, more preferably 7 seconds to 50 seconds. The replenishing amount of the fixing solution is preferably 600 ml / m 2 or less with respect to the processing of the photosensitive material, more preferably 500 ml / m 2 or less, 300 ml / m 2 or less is particularly preferred.
The light-sensitive material that has been subjected to development and fixing processing is preferably subjected to water washing treatment or stabilization treatment. In the water washing treatment or the stabilization treatment, the washing water amount is usually 20 liters or less per 1 m 2 of the light-sensitive material, and can be replenished in 3 liters or less (including 0, ie, rinsing with water).
The mass of the metallic silver contained in the exposed portion after the development treatment is preferably a content of 50% by mass or more, and 80% by mass or more with respect to the mass of silver contained in the exposed portion before exposure. More preferably. If the mass of silver contained in the exposed portion is 50% by mass or more based on the mass of silver contained in the exposed portion before exposure, it is preferable because high conductivity can be obtained.
The gradation after the development processing in the present embodiment is not particularly limited, but is preferably more than 4.0. When the gradation after the development processing exceeds 4.0, the conductivity of the conductive metal portion can be increased while keeping the light transmissive property of the light transmissive portion high. Examples of means for setting the gradation to 4.0 or higher include the aforementioned doping of rhodium ions and iridium ions.
Although the conductive sheet is obtained through the above steps, the surface resistance of the obtained conductive sheet is 100 ohm / sq. The following is preferable, 0.1-100 ohm / sq. Is preferably in the range of 1 to 10 ohm / sq. It is more preferable that it is in the range. By adjusting the surface resistance within such a range, position detection can be performed even with a large touch panel having an area of 10 cm × 10 cm or more. Further, the conductive sheet after the development treatment may be further subjected to a calendar treatment, and can be adjusted to a desired surface resistance by the calendar treatment.
［物理現像及びめっき処理］
本実施の形態では、前記露光及び現像処理により形成された金属銀部の導電性を向上させる目的で、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び／又はめっき処理を行ってもよい。本発明では物理現像又はめっき処理のいずれか一方のみで導電性金属粒子を金属性銀部に担持させてもよく、物理現像とめっき処理とを組み合わせて導電性金属粒子を金属銀部に担持させてもよい。なお、金属銀部に物理現像及び／又はめっき処理を施したものを含めて「導電性金属部」と称する。
本実施の形態における「物理現像」とは、金属や金属化合物の核上に、銀イオン等の金属イオンを還元剤で還元して金属粒子を析出させることをいう。この物理現象は、インスタントＢ＆Ｗフイルム、インスタントスライドフイルムや、印刷版製造等に利用されており、本発明ではその技術を用いることができる。
また、物理現像は、露光後の現像処理と同時に行っても、現像処理後に別途行ってもよい。
本実施の形態において、めっき処理は、無電解めっき（化学還元めっきや置換めっき）、電解めっき、又は無電解めっきと電解めっきの両方を用いることができる。本実施の形態における無電解めっきは、公知の無電解めっき技術を用いることができ、例えば、プリント配線板等で用いられている無電解めっき技術を用いることができ、無電解めっきは無電解銅めっきであることが好ましい。
[Physical development and plating]
In the present embodiment, for the purpose of improving the conductivity of the metallic silver portion formed by the exposure and development processing, physical development and / or plating treatment for supporting the conductive metal particles on the metallic silver portion is performed. May be. In the present invention, the conductive metal particles may be supported on the metallic silver portion by only one of physical development and plating treatment, or the conductive metal particles are supported on the metallic silver portion by combining physical development and plating treatment. May be. In addition, the thing which performed the physical development and / or the plating process to the metal silver part is called "conductive metal part".
“Physical development” in the present embodiment means that metal particles such as silver ions are reduced by a reducing agent on metal or metal compound nuclei to deposit metal particles. This physical phenomenon is used for instant B & W film, instant slide film, printing plate manufacturing, and the like, and the technology can be used in the present invention.
Further, the physical development may be performed simultaneously with the development processing after exposure or separately after the development processing.
In the present embodiment, the plating treatment can use electroless plating (chemical reduction plating or displacement plating), electrolytic plating, or both electroless plating and electrolytic plating. For the electroless plating in the present embodiment, a known electroless plating technique can be used, for example, an electroless plating technique used in a printed wiring board or the like can be used. Plating is preferred.
［酸化処理］
本実施の形態では、現像処理後の金属銀部、並びに、物理現像及び／又はめっき処理によって形成された導電性金属部には、酸化処理を施すことが好ましい。酸化処理を行うことにより、例えば、光透過性部に金属が僅かに沈着していた場合に、該金属を除去し、光透過性部の透過性をほぼ１００％にすることができる。
[Oxidation treatment]
In the present embodiment, it is preferable to subject the metallic silver portion after the development treatment and the conductive metal portion formed by physical development and / or plating treatment to oxidation treatment. By performing the oxidation treatment, for example, when a metal is slightly deposited on the light transmissive portion, the metal can be removed and the light transmissive portion can be made almost 100% transparent.
［導電性金属部］
本実施の形態の導電性金属部の線幅は、５μｍ以上２００μｍ（０．２ｍｍ）以下から選択可能であるが、タッチパネルの材料としての用途である場合、３μｍ以上５０μｍ以下が好ましい。より好ましくは３μｍ以上３０μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以上２０μｍ以下、最も好ましくは５μｍ以上１０μｍ以下である。線間隔は３０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、さらに好ましくは５０μｍ以上４００μｍ以下、最も好ましくは１００μｍ以上３５０μｍ以下である。また、導電性金属部は、アース接続等の目的においては、線幅は２００μｍより広い部分を有していてもよい。
本実施の形態における導電性金属部は、可視光透過率の点から開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。開口率とは、第１導電部及び第２導電部の導電部分を除いた透光性部分が全体に占める割合であり、例えば、線幅１５μｍ、ピッチ３００μｍの正方形の格子状の開口率は、９０％である。
[Conductive metal part]
The line width of the conductive metal portion of the present embodiment can be selected from 5 μm to 200 μm (0.2 mm), but preferably 3 μm to 50 μm when used as a touch panel material. More preferably, they are 3 micrometers or more and 30 micrometers or less, More preferably, they are 5 micrometers or more and 20 micrometers or less, Most preferably, they are 5 micrometers or more and 10 micrometers or less. The line spacing is preferably 30 μm or more and 500 μm or less, more preferably 50 μm or more and 400 μm or less, and most preferably 100 μm or more and 350 μm or less. The conductive metal portion may have a portion whose line width is wider than 200 μm for the purpose of ground connection or the like.
The conductive metal portion in the present embodiment preferably has an aperture ratio of 85% or more, more preferably 90% or more, and most preferably 95% or more from the viewpoint of visible light transmittance. The aperture ratio is the ratio of the entire light-transmitting portion excluding the conductive portions of the first conductive portion and the second conductive portion. For example, the aperture ratio of a square lattice having a line width of 15 μm and a pitch of 300 μm is 90%.
［光透過性部］
本実施の形態における「光透過性部」とは、第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂのうち導電性金属部以外の透光性を有する部分を意味する。光透過性部における透過率は、前述のとおり、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂの光吸収及び反射の寄与を除いた３８０〜７８０ｎｍの波長領域における透過率の最小値で示される透過率が９０％以上、好ましくは９５％以上、さらに好ましくは９７％以上であり、さらにより好ましくは９８％以上であり、最も好ましくは９９％以上である。
[Light transmissive part]
The “light transmissive part” in the present embodiment means a part having translucency other than the conductive metal part in the first
［第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂ］
本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂにおける第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂの厚さは、５〜３５０μｍであることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。５〜３５０μｍの範囲であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。
第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に設けられる金属銀部の厚さは、第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ上に塗布される銀塩含有層用塗料の塗布厚みに応じて適宜決定することができる。金属銀部の厚さは、０．００１ｍｍ〜０．２ｍｍから選択可能であるが、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、０．０１〜９μｍであることがさらに好ましく、０．０５〜５μｍであることが最も好ましい。また、金属銀部はパターン状であることが好ましい。金属銀部は１層でもよく、２層以上の重層構成であってもよい。金属銀部がパターン状であり、且つ、２層以上の重層構成である場合、異なる波長に感光できるように、異なる感色性を付与することができる。これにより、露光波長を変えて露光すると、各層において異なるパターンを形成することができる。
導電性金属部の厚さは、タッチパネルの用途としては、薄いほど表示パネルの視野角が広がるため好ましく、視認性の向上の点でも薄膜化が要求される。このような観点から、導電性金属部に担持された導電性金属からなる層の厚さは、９μｍ未満であることが好ましく、０．１μｍ以上５μｍ未満であることがより好ましく、０．１μｍ以上３μｍ未満であることがさらに好ましい。
本実施の形態では、上述した銀塩含有層の塗布厚みをコントロールすることにより所望の厚さの金属銀部を形成し、さらに物理現像及び／又はめっき処理により導電性金属粒子からなる層の厚みを自在にコントロールできるため、５μｍ未満、好ましくは３μｍ未満の厚みを有する第１導電シート１２Ａ及び第２導電シート１２Ｂであっても容易に形成することができる。
なお、本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａや第２導電シート１２Ｂの製造方法では、めっき等の工程は必ずしも行う必要はない。本実施の形態に係る第１導電シート１２Ａや第２導電シート１２Ｂの製造方法では銀塩乳剤層の塗布銀量、銀／バインダー体積比を調整することで所望の表面抵抗を得ることができるからである。なお、必要に応じてカレンダー処理等を行ってもよい。
[First
The thickness of the first
The thickness of the metallic silver portion provided on the first
As the thickness of the conductive metal part, the thinner the display panel, the wider the viewing angle of the display panel, and the thinner the display is required for improving the visibility. From such a viewpoint, the thickness of the layer made of the conductive metal carried on the conductive metal part is preferably less than 9 μm, more preferably 0.1 μm or more and less than 5 μm, and more preferably 0.1 μm or more. More preferably, it is less than 3 μm.
In the present embodiment, the thickness of the layer made of conductive metal particles is formed by controlling the coating thickness of the silver salt-containing layer described above to form a metallic silver portion having a desired thickness, and further by physical development and / or plating treatment. Therefore, even the first
In addition, in the manufacturing method of the first
（現像処理後の硬膜処理）
銀塩乳剤層に対して現像処理を行った後に、硬膜剤に浸漬して硬膜処理を行うことが好ましい。硬膜剤としては、例えば、グルタルアルデヒド、アジポアルデヒド、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサン等のジアルデヒド類及びほう酸等の特開平２−１４１２７９号公報に記載のものを挙げることができる。
(Hardening after development)
It is preferable to perform a film hardening process by immersing the film in a hardener after the silver salt emulsion layer is developed. Examples of the hardener include dialdehydes such as glutaraldehyde, adipaldehyde, 2,3-dihydroxy-1,4-dioxane, and those described in JP-A-2-141279 such as boric acid. it can.
なお、本発明は、下記表１及び表２に記載の公開公報及び国際公開パンフレットの技術と適宜組合わせて使用することができる。「特開」、「号公報」、「号パンフレット」等の表記は省略する。 In addition, this invention can be used in combination with the technique of the publication gazette and international publication pamphlet which are described in following Table 1 and Table 2. FIG. Notations such as “JP,” “Gazette” and “No. Pamphlet” are omitted.
上述の例では、第１透明導電パターン１８Ａを、２以上の第１大格子２４Ａを第１方向に直列に接続して構成し、第２透明導電パターン１８Ｂを、２以上の第２大格子２４Ｂを第２方向に直列に接続して構成した例を示したが、その他、第１透明導電パターン１８Ａを、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）膜による例えばひし形状の２以上の透明電極を第１方向に直列に接続して構成し、第２透明導電パターン１８Ｂを、ＩＴＯ膜による例えばひし形状の２以上の透明電極を第２方向に直列に接続して構成してもよい。
この場合も、ＩＴＯ膜による透明電極が隣接して配置されることによる多数の規則的な透明電極の配列と、透明電極間に形成される第１補助線３６Ａと第２補助線３６Ｂとのずれた配置による上述の透明電極の配列とは異なった配列が混在し、これにより、多数の空間周波数が合わさった形態となり、その結果、液晶表示装置の画素配列との干渉が抑制され、モアレの発生を効果的に低減させることができる。
また、導電シートには、反射防止層やハードコート層などの機能層を付与してもよい。
In the above-described example, the first transparent
In this case as well, a large number of regular transparent electrode arrangements due to the transparent electrodes made of ITO films being arranged adjacent to each other, and a shift between the first
Moreover, you may provide functional layers, such as an antireflection layer and a hard-coat layer, to a conductive sheet.
以下に、本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
この実施例では、比較例１〜３、実施例１〜１６に係るタッチパネルについてのモアレ及び視認性を評価した。比較例１〜３、実施例１〜１６の内訳並びに評価結果を後述する表３に示す。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples of the present invention. In addition, the material, usage-amount, ratio, processing content, processing procedure, etc. which are shown in the following Examples can be changed suitably unless it deviates from the meaning of this invention. Accordingly, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.
In this example, the moire and visibility of the touch panels according to Comparative Examples 1 to 3 and Examples 1 to 16 were evaluated. The breakdown and evaluation results of Comparative Examples 1 to 3 and Examples 1 to 16 are shown in Table 3 described later.
［実施例１］
（ハロゲン化銀感光材料）
水媒体中のＡｇ１５０ｇに対してゼラチン１０．０ｇを含む、球相当径平均０．１μｍの沃臭塩化銀粒子（Ｉ＝０．２モル％、Ｂｒ＝４０モル％）を含有する乳剤を調製した。
また、この乳剤中にはＫ３Ｒｈ２Ｂｒ９及びＫ２ＩｒＣｌ６を濃度が１０−７（モル／モル銀）になるように添加し、臭化銀粒子にＲｈイオンとＩｒイオンをドープした。この乳剤にＮａ２ＰｄＣｌ４を添加し、さらに塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った後、ゼラチン硬膜剤と共に、銀の塗布量が１０ｇ／ｍ２となるように第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂ（ここでは、共にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））上に塗布した。この際、Ａｇ／ゼラチン体積比は２／１とした。
幅３０ｃｍのＰＥＴ支持体に２５ｃｍの幅で２０ｍ分塗布を行ない、塗布の中央部２４ｃｍを残すように両端を３ｃｍずつ切り落としてロール状のハロゲン化銀感光材料を得た。
[Example 1]
(Silver halide photosensitive material)
An emulsion containing 10.0 g of gelatin per 150 g of Ag in an aqueous medium and containing silver iodobromochloride grains having an average equivalent sphere diameter of 0.1 μm (I = 0.2 mol%, Br = 40 mol%) was prepared. .
In this emulsion, K 3 Rh 2 Br 9 and K 2 IrCl 6 were added so as to have a concentration of 10 −7 (mol / mol silver), and silver bromide grains were doped with Rh ions and Ir ions. . After adding Na 2 PdCl 4 to this emulsion and further performing gold-sulfur sensitization using chloroauric acid and sodium thiosulfate, together with the gelatin hardener, the coating amount of silver was 10 g / m 2. The first
Coating was performed for 20 m with a width of 25 cm on a PET support having a width of 30 cm, and both ends were cut off by 3 cm so as to leave a central portion of the coating, thereby obtaining a roll-shaped silver halide photosensitive material.
（露光）
露光のパターンは、タッチパネル用導電シート１０の第１導電シート１２Ａについては図１及び図３に示すパターンで、第２導電シート１２Ｂについては図１及び図４に示すパターンで、Ａ４サイズ（２１０ｍｍ×２９７ｍｍ）の第１透明基体１４Ａ及び第２透明基体１４Ｂに行った。露光は上記パターンのフォトマスクを介して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光した。
(exposure)
The pattern of exposure is the pattern shown in FIGS. 1 and 3 for the first
（現像処理）
・現像液１Ｌ処方
ハイドロキノン ２０ ｇ
亜硫酸ナトリウム ５０ ｇ
炭酸カリウム ４０ ｇ
エチレンジアミン・四酢酸 ２ ｇ
臭化カリウム ３ ｇ
ポリエチレングリコール２０００ １ ｇ
水酸化カリウム ４ ｇ
ｐＨ １０．３に調整
・定着液１Ｌ処方
チオ硫酸アンモニウム液（７５％） ３００ ｍｌ
亜硫酸アンモニウム・１水塩 ２５ ｇ
１，３−ジアミノプロパン・四酢酸 ８ ｇ
酢酸 ５ ｇ
アンモニア水（２７％） １ ｇ
ｐＨ ６．２に調整
上記処理剤を用いて露光済み感材を、富士フイルム社製自動現像機 ＦＧ−７１０ＰＴＳを用いて処理条件：現像３５℃ ３０秒、定着３４℃ ２３秒、水洗 流水（５Ｌ／分）の２０秒処理で行った。
(Development processing)
・ Developer 1L formulation Hydroquinone 20 g
Sodium sulfite 50 g
Potassium carbonate 40 g
Ethylenediamine tetraacetic acid 2 g
Potassium bromide 3 g
Polyethylene glycol 2000 1 g
Potassium hydroxide 4 g
Adjusted to pH 10.3 and formulated 1L fixer ammonium thiosulfate solution (75%) 300 ml
Ammonium sulfite monohydrate 25 g
1,3-diaminopropane tetraacetic acid 8 g
Acetic acid 5 g
Ammonia water (27%) 1 g
Adjusted to pH 6.2 Processed photosensitive material using the above processing agent using Fujifilm's automatic processor FG-710PTS Processing conditions: development 35 ° C. for 30 seconds, fixing 34 ° C. for 23 seconds, washed water (5 L / Min) for 20 seconds.
（タッチパネル）
第２導電シート１２Ｂ上に第１導電シート１２Ａを積層してタッチパネル用導電シートを得た後、液晶表示装置の表示画面にタッチパネル用導電シートを貼り付けて実施例１に係るタッチパネルを構成した。この実施例１では、後述する表３にも示すように、導電部（第１透明導電パターン１８Ａ、第１補助パターン２０Ａ、第２透明導電パターン１８Ｂ、第２補助パターン２０Ｂ）の線幅が５μｍ、小格子２６の一辺の長さが５０μｍ、大格子（第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂ）の一辺の長さが３ｍｍで、第３方向及び第４方向へのずれ量（以下、ずれ量と記す）が２．５μｍである。
［実施例２〜４］
実施例２、３及び４に係るタッチパネルは、ずれ量をそれぞれ５μｍ、１０μｍ、２５μｍとしたこと以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［実施例５］
実施例５に係るタッチパネルは、導電部の線幅を８μｍ、小格子２６の一辺の長さを２５０μｍ、大格子（第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂ）の一辺の長さを５ｍｍとしたこと以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［実施例６〜１０］
実施例６、７、８、９及び１０に係るタッチパネルは、ずれ量をそれぞれ４μｍ、１０μｍ、５０μｍ、１００μｍ、１２５μｍとしたこと以外は、上述した実施例５と同様にして作製した。
［実施例１１］
実施例１１に係るタッチパネルは、導電部の線幅を１０μｍ、小格子２６の一辺の長さを３００μｍ、大格子（第１大格子２４Ａ及び第２大格子２４Ｂ）の一辺の長さを６ｍｍとしたこと以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
［実施例１２〜１６］
実施例１２、１３、１４、１５及び１６に係るタッチパネルは、ずれ量をそれぞれ４μｍ、１０μｍ、５０μｍ、１００μｍ、１５０μｍとしたこと以外は、上述した実施例１１と同様にして作製した。
(Touch panel)
After the first
[Examples 2 to 4]
The touch panels according to Examples 2, 3, and 4 were manufactured in the same manner as in Example 1 described above except that the amounts of displacement were 5 μm, 10 μm, and 25 μm, respectively.
[Example 5]
In the touch panel according to Example 5, the line width of the conductive portion is 8 μm, the length of one side of the
[Examples 6 to 10]
The touch panels according to Examples 6, 7, 8, 9 and 10 were manufactured in the same manner as Example 5 described above except that the shift amounts were 4 μm, 10 μm, 50 μm, 100 μm and 125 μm, respectively.
[Example 11]
In the touch panel according to Example 11, the line width of the conductive portion is 10 μm, the length of one side of the
[Examples 12 to 16]
The touch panels according to Examples 12, 13, 14, 15, and 16 were manufactured in the same manner as Example 11 described above except that the shift amounts were 4 μm, 10 μm, 50 μm, 100 μm, and 150 μm, respectively.
［比較例１〜３］
比較例１に係るタッチパネルは、ずれ量を０μｍとしたこと以外は、上述した実施例１と同様にして作製した。
比較例２に係るタッチパネルは、ずれ量を０μｍとしたこと以外は、上述した実施例５と同様にして作製した。
比較例３に係るタッチパネルは、ずれ量を０μｍとしたこと以外は、上述した実施例１１と同様にして作製した。
[Comparative Examples 1-3]
The touch panel according to Comparative Example 1 was manufactured in the same manner as Example 1 described above except that the shift amount was 0 μm.
The touch panel according to Comparative Example 2 was manufactured in the same manner as Example 5 described above except that the shift amount was 0 μm.
The touch panel according to Comparative Example 3 was manufactured in the same manner as Example 11 described above except that the shift amount was set to 0 μm.
〔評価〕
（モアレの評価）
タッチパネルを回転盤に設置し、液晶表示装置を駆動して白色を表示させる。その状態で、回転盤をバイアス角−４５°〜＋４５°の間で回転し、モアレの目視観察・評価を行った。
モアレの評価は、液晶表示装置の表示画面から観察距離１．５ｍで行い、モアレが顕在化しなかった場合を○、モアレが問題のないレベルでほんの少し見られた場合を△、モアレが顕在化した場合を×とした。
（視認性の評価）
上述のモアレの評価に先立って、タッチパネルを回転盤に設置し、液晶表示装置を駆動して白色を表示させた際に、タッチパネルの表面に線太りや黒い斑点がないかどうかを肉眼で確認した。
（評価結果）
実施例１０及び１６において、線太りや黒い斑点が少し確認されただけであり、全体的に視認性は良好であった。
モアレについては、比較例１〜３共にモアレが顕在化した。一方、実施例１〜１６は、全体的に評価が良好で、実施例３、４、７〜９、１３〜１５については、モアレは顕在化しなかった。実施例１、５、１１については、モアレが問題のないレベルでほんの少し見られた程度であった。実施例２、６、１０、１２、１６については、「△」と「○」の中間レベルであった。
[Evaluation]
(Evaluation of moire)
A touch panel is installed on the turntable and the liquid crystal display device is driven to display white. In this state, the rotating disk was rotated between a bias angle of −45 ° to + 45 °, and the moire was visually observed and evaluated.
Moire is evaluated at an observation distance of 1.5 m from the display screen of the liquid crystal display device. If moire does not appear, ○, if moire is seen only slightly at a level where there is no problem, moiré becomes apparent. The case where it did is made x.
(Visibility evaluation)
Prior to the above moire evaluation, when the touch panel was installed on a turntable and the liquid crystal display device was driven to display white, it was visually confirmed that there were no thick lines or black spots on the surface of the touch panel. .
(Evaluation results)
In Examples 10 and 16, only a few thick lines and black spots were confirmed, and the visibility was good overall.
About moire, the moire became obvious in Comparative Examples 1-3. On the other hand, Examples 1-16 were generally good in evaluation, and no moire was evident in Examples 3, 4, 7-9, 13-15. In Examples 1, 5, and 11, moiré was only slightly observed at a level where there was no problem. Examples 2, 6, 10, 12, and 16 were intermediate levels between “Δ” and “◯”.
なお、図２Ｂに示すように、第１透明基体１４Ａの一主面に第１導電部１６Ａを形成し、第１透明基体１４Ａの他主面に第２導電部１６Ｂを形成して比較例１〜３並びに実施例１〜１６と同様にタッチパネルを作製した場合においても、上述と同様の評価結果となった。
As shown in FIG. 2B, the first
本発明に係るタッチパネル及び導電シートは、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。 Of course, the touch panel and the conductive sheet according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various configurations can be adopted without departing from the gist of the present invention.
１０…タッチパネル用導電シート １２Ａ…第１導電シート
１２Ｂ…第２導電シート １４Ａ…第１透明基体
１４Ｂ…第２透明基体 １６Ａ…第１導電部
１６Ｂ…第２導電部 １８Ａ…第１透明導電パターン
１８Ｂ…第２透明導電パターン ２０Ａ…第１補助パターン
２０Ｂ…第２補助パターン ２４Ａ…第１大格子
２４Ｂ…第２大格子 ２６…小格子
２８Ａ…第１接続部 ２８Ｂ…第２接続部
３０…中格子 ３２Ａ…第１欠除部
３２Ｂ…第２欠除部 ３４Ａ…第１絶縁部
３４Ｂ…第２絶縁部 ３６Ａ…第１補助線
３６Ｂ…第２補助線 ４４…組合せパターン
４６Ａ…第１軸線 ４６Ｂ…第２軸線
DESCRIPTION OF
Claims (14)
前記タッチパネル用導電シートは、
基体と、
前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、
前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、
前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、２以上の第１透明導電パターンを有し、
前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、２以上の第２透明導電パターンを有し、
上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、且つ、前記第１方向及び前記第２方向と異なる方向にずれていることを特徴とするタッチパネル。 In a touch panel having a conductive sheet for a touch panel,
The conductive sheet for touch panel is
A substrate;
A first conductive portion formed on one main surface of the substrate;
A second conductive portion formed on the other main surface of the base body,
The first conductive portions each extend in a first direction and are arranged in a second direction orthogonal to the first direction, and have two or more first transparent conductive patterns,
The second conductive parts each extend in a second direction and are arranged in the first direction, and have two or more second transparent conductive patterns,
When viewed from above, the first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern are arranged so as to intersect with each other, and are shifted in a direction different from the first direction and the second direction. Touch panel characterized by.
前記タッチパネル用導電シートは、
基体と、
前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、
前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、
前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、２以上の第１透明導電パターンと、各第１透明導電パターンの周辺に配列された複数の第１補助線からなる第１補助パターンとを有し、
前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、２以上の第２透明導電パターンと、各第２透明導電パターンの周辺に配列された複数の第２補助線からなる第２補助パターンとを有し、
上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、
前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとの間に、前記第１補助パターンと前記第２補助パターンとが対向することによる組合せパターンが形成され、
前記組合せパターンは、前記第１補助線と前記第２補助線とが直交して重ならない形態を有することを特徴とするタッチパネル。 In a touch panel having a conductive sheet for a touch panel,
The conductive sheet for touch panel is
A substrate;
A first conductive portion formed on one main surface of the substrate;
A second conductive portion formed on the other main surface of the base body,
The first conductive parts each extend in a first direction and are arranged in a second direction orthogonal to the first direction, and two or more first transparent conductive patterns and the periphery of each first transparent conductive pattern A first auxiliary pattern consisting of a plurality of first auxiliary lines arranged in a
Each of the second conductive parts extends in a second direction and is arranged in the first direction, and is provided with a plurality of second transparent conductive patterns and a plurality of second transparent conductive patterns arranged around each of the second transparent conductive patterns. A second auxiliary pattern comprising a second auxiliary line,
When viewed from above, the first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern are arranged to intersect with each other,
A combination pattern is formed between the first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern by the first auxiliary pattern and the second auxiliary pattern facing each other,
The touch panel according to claim 1, wherein the combination pattern has a form in which the first auxiliary line and the second auxiliary line do not overlap at right angles.
前記組合せパターンは、前記第１補助線の第１軸線と前記第２補助線の第２軸線とがほぼ平行とされ、前記第１軸線と前記第２軸線間の距離が、前記第１補助線の線幅及び前記第２補助線の線幅のうち、いずれか短い方の線幅の１／２以上１００μｍ以下であることを特徴とするタッチパネル。 The touch panel according to claim 2,
In the combination pattern, the first axis of the first auxiliary line and the second axis of the second auxiliary line are substantially parallel, and the distance between the first axis and the second axis is the first auxiliary line. A touch panel having a line width of ½ to 100 μm of the shorter one of the line width of the second auxiliary line and the line width of the second auxiliary line.
前記組合せパターンは、前記第１補助線と前記第２補助線とが一部重なる形態を有することを特徴とするタッチパネル。 The touch panel according to claim 3.
The touch panel, wherein the combination pattern has a form in which the first auxiliary line and the second auxiliary line partially overlap.
前記第１軸線と前記第２軸線間の距離が、前記第１補助線の線幅の１／２と前記第２補助線の線幅の１／２との合計よりも長いことを特徴とするタッチパネル。 The touch panel according to claim 3.
The distance between the first axis and the second axis is longer than the sum of 1/2 of the line width of the first auxiliary line and 1/2 of the line width of the second auxiliary line. Touch panel.
前記第１方向と前記第２方向とを二等分する方向を第３方向とし、該第３方向と直交する方向を第４方向としたとき、
前記第１導電部と前記第２導電部は、基準位置から少なくとも前記第３方向に前記第１補助線の線幅及び前記第２補助線の線幅のうち、いずれか短い方の線幅の１／２以上１００μｍ以下だけずれて配置されていることを特徴とするタッチパネル。 In the touch panel according to any one of claims 2 to 5,
When the direction that bisects the first direction and the second direction is the third direction, and the direction orthogonal to the third direction is the fourth direction,
The first conductive part and the second conductive part have a line width of a shorter one of a line width of the first auxiliary line and a line width of the second auxiliary line in at least the third direction from a reference position. A touch panel characterized by being displaced by a distance of ½ or more and 100 μm or less.
前記基準位置は、
前記第１補助線の第１軸線と第２補助線の第２軸線とが一致し、且つ、前記第１補助線と前記第２補助線とが重ならず、且つ、前記第１補助線の一端と前記第２補助線の一端とが一致する位置を示すことを特徴とするタッチパネル。 The touch panel according to claim 6.
The reference position is
The first axis of the first auxiliary line and the second axis of the second auxiliary line coincide with each other, the first auxiliary line and the second auxiliary line do not overlap, and the first auxiliary line A touch panel characterized by showing a position where one end and one end of the second auxiliary line coincide.
前記第１透明導電パターン及び前記第２透明導電パターンは、それぞれ多数の格子にて構成されていることを特徴とするタッチパネル。 In the touch panel of any one of Claims 2-7,
The touch panel, wherein the first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern are each composed of a large number of lattices.
前記第１透明導電パターンは、２以上の第１大格子が前記第１方向に直列に接続されて構成され、
前記第２透明導電パターンは、２以上の第２大格子が前記第２方向に直列に接続されて構成され、
各前記第１大格子及び各前記第２大格子は、それぞれ２以上の小格子が組み合わされて構成され、
前記第１大格子の辺の周囲に、前記第１大格子と非接続とされた前記第１補助パターンが形成され、
前記第２大格子の辺の周囲に、前記第２大格子と非接続とされた前記第２補助パターンが形成されていることを特徴とするタッチパネル。 In the touch panel according to any one of claims 2 to 8,
The first transparent conductive pattern includes two or more first large lattices connected in series in the first direction,
The second transparent conductive pattern includes two or more second large lattices connected in series in the second direction,
Each of the first large lattice and each of the second large lattices is configured by combining two or more small lattices,
The first auxiliary pattern disconnected from the first large lattice is formed around a side of the first large lattice,
The touch panel, wherein the second auxiliary pattern that is not connected to the second large lattice is formed around a side of the second large lattice.
前記組合せパターンは、前記第１補助線の第１軸線と前記第２補助線の第２軸線とがほぼ平行とされ、前記第１軸線と前記第２軸線間の距離が、前記第１補助線の線幅及び前記第２補助線の線幅のうち、いずれか短い方の線幅の１／２以上で、且つ、小格子の配列ピッチの１／２以下であることを特徴とするタッチパネル。 The touch panel according to claim 9,
In the combination pattern, the first axis of the first auxiliary line and the second axis of the second auxiliary line are substantially parallel, and the distance between the first axis and the second axis is the first auxiliary line. A touch panel having a line width equal to or greater than a shorter one of the line width of the second auxiliary line and a width equal to or smaller than a half of the arrangement pitch of the small lattices.
前記第１大格子及び前記第２大格子の一辺の長さが３〜１０ｍｍであり、
前記小格子の一辺の長さが５０〜５００μｍであることを特徴とするタッチパネル。 The touch panel according to claim 9 or 10,
The length of one side of the first large lattice and the second large lattice is 3 to 10 mm,
A length of one side of the small lattice is 50 to 500 μm.
前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンが線幅３〜３０μｍの細線から構成されていることを特徴とするタッチパネル。 The touch panel according to claim 2,
The touch panel, wherein the first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern are composed of thin lines having a line width of 3 to 30 μm.
前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、
前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、
前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、２以上の第１透明導電パターンと、各第１透明導電パターンの周辺に配列された複数の第１補助線からなる第１補助パターンとを有し、
前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、２以上の第２透明導電パターンと、各第２透明導電パターンの周辺に配列された複数の第２補助線からなる第２補助パターンとを有し、
上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、
前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとの間に、前記第１補助パターンと前記第２補助パターンとが対向することによる組合せパターンが形成され、
前記組合せパターンは、前記第１補助線と前記第２補助線とが直交して重ならない形態を有することを特徴とする導電シート。 A substrate;
A first conductive portion formed on one main surface of the substrate;
A second conductive portion formed on the other main surface of the base body,
The first conductive parts each extend in a first direction and are arranged in a second direction orthogonal to the first direction, and two or more first transparent conductive patterns and the periphery of each first transparent conductive pattern A first auxiliary pattern consisting of a plurality of first auxiliary lines arranged in a
Each of the second conductive parts extends in a second direction and is arranged in the first direction, and is provided with a plurality of second transparent conductive patterns and a plurality of second transparent conductive patterns arranged around each of the second transparent conductive patterns. A second auxiliary pattern comprising a second auxiliary line,
When viewed from above, the first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern are arranged to intersect with each other,
A combination pattern is formed between the first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern by the first auxiliary pattern and the second auxiliary pattern facing each other,
The conductive sheet is characterized in that the combination pattern has a form in which the first auxiliary line and the second auxiliary line do not overlap at right angles.
前記基体の一方の主面に形成された第１導電部と、
前記基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、
前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列され、２以上の第１透明導電パターンを有し、
前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列され、２以上の第２透明導電パターンを有し、
上面から見たとき、前記第１透明導電パターンと前記第２透明導電パターンとが交差して配置された形態とされ、且つ、前記第１方向及び前記第２方向と異なる方向にずれていることを特徴とする導電シート。 A substrate;
A first conductive portion formed on one main surface of the substrate;
A second conductive portion formed on the other main surface of the base body,
The first conductive portions each extend in a first direction and are arranged in a second direction orthogonal to the first direction, and have two or more first transparent conductive patterns,
The second conductive parts each extend in a second direction and are arranged in the first direction, and have two or more second transparent conductive patterns,
When viewed from above, the first transparent conductive pattern and the second transparent conductive pattern are arranged so as to intersect with each other, and are shifted in a direction different from the first direction and the second direction. A conductive sheet characterized by the above.
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