JP2011222457A - Gas insulated switchgear - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガス絶縁開閉装置(GIS)に係り、特に、回転シャフトとゴム製のシール部材がグリースなどの潤滑油を介して摺動する軸受機構を備えたガス絶縁開閉装置に関する。 The present invention relates to a gas insulated switchgear (GIS), and more particularly to a gas insulated switchgear having a bearing mechanism in which a rotating shaft and a rubber seal member slide through a lubricating oil such as grease.
例えば、ガス絶縁開閉装置は、事故時の大電流を遮断する遮断器、電気回路を入切する断路器、接地をとる接地開閉器などの大電力用のスイッチや、ブッシングや変圧器までの回路を繋ぐ母線などから構成されている。例えば、ガス絶縁開閉装置が故障した場合、送変電系統に停電などの重大な問題が発生する可能性がある。そのため、ガス絶縁開閉装置においては、性能面で高い信頼性が要求されている。また、最近、都心部を中心にビルの地下に変電所を設置するニーズが増加しており、ガス絶縁開閉装置のコンパクト化の要求も高まっている。 For example, a gas-insulated switchgear is a circuit that cuts off a large current at the time of an accident, a switch for turning on / off an electric circuit, a switch for high power such as a grounding switch for grounding, a circuit to a bushing or a transformer. It is composed of buses that connect the two. For example, when a gas-insulated switchgear breaks down, a serious problem such as a power failure may occur in the transmission and transformation system. Therefore, the gas insulated switchgear is required to have high reliability in terms of performance. Recently, there is an increasing need to install a substation in the basement of a building, mainly in the city center, and there is an increasing demand for a compact gas insulated switchgear.
ガス絶縁開閉装置の容器内には、絶縁ガスが封止されている。ガス絶縁開閉装置において、例えば、回路の遮断時には、容器外の駆動装置の駆動を回転シャフトを介して動力伝達手段に伝え、この動力伝達手段により可動接触子を移動することで電気的な遮断を行う。そのため、ガス絶縁開閉装置には、絶縁ガスを封止しつつ、回転シャフトを回転可能に支持する軸受機構が設けられている。 Insulating gas is sealed in the container of the gas insulated switchgear. In a gas insulated switchgear, for example, when the circuit is shut off, the drive of the drive device outside the container is transmitted to the power transmission means via the rotating shaft, and the movable contact is moved by this power transmission means to electrically cut off the circuit. Do. For this reason, the gas-insulated switchgear is provided with a bearing mechanism that rotatably supports the rotating shaft while sealing the insulating gas.
このような軸受機構では、例えば、金属製の回転シャフトとゴム製のシール部材(例えば、ニトリルブタジエンゴム(NBR)など)がグリースなどの潤滑油を介して摺動する構造になっている。しかしながら、例えば、回転シャフトを長期間駆動させていない状態から駆動させる場合、摺動抵抗が増大し、定常時の5〜10倍の過大なトルクが必要になることがある。そのため、この過大なトルクを発生するための駆動機構が必要となる。この摺動抵抗の増大は、駆動機構のコンパクト化を阻害する大きな要因となっている。
In such a bearing mechanism, for example, a metal rotary shaft and a rubber seal member (for example, nitrile butadiene rubber (NBR) or the like) slide through a lubricating oil such as grease. However, for example, when the rotary shaft is driven from a state where it has not been driven for a long period of time, the sliding resistance increases, and an
このような駆動機構を備えたガス絶縁開閉装置において、様々な技術が開示されている(例えば、特許文献1−3参照。)。 Various techniques have been disclosed for gas-insulated switchgear having such a drive mechanism (see, for example, Patent Documents 1-3).
しかしながら、上記した従来のガス絶縁開閉装置では、長期間駆動させていない状態から駆動させることによる、軸受機構における摺動抵抗の増大を抑制することはできない。 However, in the conventional gas insulated switchgear described above, an increase in sliding resistance in the bearing mechanism due to driving from a state where it is not driven for a long time cannot be suppressed.
また、発明者らは、この軸受機構における摺動抵抗が増大する因子を調査した結果、回転シャフトとゴム製のシール部材との間に存在するグリースなどの潤滑油が、時間の経過に伴いゴム製のシール部材に浸透して枯渇することを明らかにした。また、発明者らは、この潤滑油の枯渇が、長期間駆動させていない状態から駆動させる際、過大なトルクを必要とする一要因であることをつきとめた。なお、パッキンやグリースの材質を変えた場合であっても、程度の差はあるが上記したような現象が生じた。 Further, as a result of investigating the factors that increase the sliding resistance in the bearing mechanism, the inventors have found that the lubricating oil such as grease existing between the rotating shaft and the rubber seal member has been changed over time. It was clarified that it penetrates into the seal member made of metal and depletes. The inventors have also found that the depletion of this lubricating oil is one factor that requires excessive torque when driven from a state where it has not been driven for a long period of time. Even when the packing and grease materials were changed, the phenomenon described above occurred to some extent.
そこで、本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、回転シャフトを長期間停止状態に保持された状態から起動する際においても、内部に充填された絶縁ガスを封止ししつつ、過大な起動トルクを必要とせずに回転シャフトを回転させることができるガス絶縁開閉装置を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention has been made to solve the above-described problems. Even when the rotating shaft is started from a state where it is held for a long time, the insulating gas filled therein is sealed. On the other hand, an object of the present invention is to provide a gas-insulated switchgear that can rotate a rotating shaft without requiring excessive starting torque.
上記目的を達成するために、本発明の一態様によれば、絶縁ガスが封入された容器と、前記容器内に収容され、直線的に進退可能に保持された可動接触子と、前記可動接触子の前方に配置された固定側接触部と、前記容器の外部からの動力をリンク機構を介して前記可動接触子に伝達し、前記可動接触子を進退させて前記固定側接触部との電気的な開閉動作を行わせる回転シャフトと、前記容器の壁面を介して前記容器の内部と外部に連通するように設けられ、内周に前記回転シャフトと潤滑油を介して摺動するシール部材を備え、前記回転シャフトを回転可能に支持する軸支部材とを備えるガス絶縁開閉装置であって、前記回転シャフトの、前記シール部材に摺動する摺動面に、当該摺動面よりも窪んだ凹部が形成されていることを特徴とするガス絶縁開閉装置が提供される。 In order to achieve the above object, according to one aspect of the present invention, a container in which an insulating gas is sealed, a movable contact housed in the container and linearly held so as to be movable forward and backward, and the movable contact A fixed-side contact portion disposed in front of the child and power from the outside of the container is transmitted to the movable contact via a link mechanism, and the movable contact is moved forward and backward to make electrical connection with the fixed-side contact portion. A rotary shaft that performs a typical opening and closing operation, and a seal member that is provided so as to communicate with the inside and the outside of the container via the wall surface of the container, and that slides on the inner periphery via the rotary shaft and lubricating oil A gas-insulated switchgear comprising a shaft support member that rotatably supports the rotating shaft, wherein the sliding surface of the rotating shaft that slides on the seal member is recessed from the sliding surface. It is characterized in that a recess is formed That the gas insulated switchgear is provided.
本発明に係るガス絶縁開閉装置によれば、回転シャフトを長期間停止状態に保持された状態から起動する際においても、内部に充填された絶縁ガスを封止ししつつ、過大な起動トルクを必要とせずに回転シャフトを回転させることができる。 According to the gas-insulated switchgear according to the present invention, even when the rotary shaft is started from a state where it is held for a long period of time, an excessive starting torque is generated while sealing the insulating gas filled inside. The rotating shaft can be rotated without the need.
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は、本発明に係る一実施の形態のガス絶縁開閉装置10の構成を示す側面図である。図2は、母線一体形断路器27の内部における断路部30の断面を示す図である。図3は、可動接触子33を駆動するためのレバー部材35を回動させる回転シャフト37および回転シャフト37を支持する軸受部材70の断面を示す図である。
FIG. 1 is a side view showing a configuration of a gas-insulated
図1に示すように、ガス絶縁開閉装置10において、遮断器20は、その容器21の軸線が据付面に対して垂直になるように設置されている。この遮断器20の上部口出し部22aには変流器23が設けられ、断路器24、接地開閉器25を経て、ケーブルヘッド26に接続されている。また、遮断器20の下部口出し部22bには、母線一体形断路器27を介して母線導体と接続されている。
As shown in FIG. 1, in the gas insulated
ここで、母線一体形断路器27における断路部30の構成について説明する。
Here, the structure of the
母線一体形断路器27の容器内には、例えば、SF6ガスなどの絶縁ガスが封入されている。また、この容器内には、図2に示すように、可動側接触部31、固定側接触部32、および可動接触子33が設けられ、断路部30を構成している。なお、図示しないが、固定側接触部32は、母線導体から分岐した導体と接続されている。
An insulating gas such as SF 6 gas is enclosed in the container of the bus bar integrated
可動側接触部31は、固定側接触部32と対向する位置に設けられ、それぞれの可動接触子33の移動方向に沿う中心軸がほぼ同一軸となるように設けられている。可動側接触部31内には、可動接触子33が摺動自在に挿入されている。この可動接触子33は、可動側接触部31と固定側接触部32との間を電気的に開閉する。
The movable-
可動接触子33の一端には、連結部材である、例えば円筒状のピン34が設けられ、このピン34は、レバー部材35の一端に形成された長穴形状の溝36に、摺動自在に連結されている。レバー部材35の他端は、母線一体形断路器27の容器外に配置された操作機構により発生した回転駆動力をレバー部材35に伝達する回転シャフト37に接続されている。これによって、回転シャフト37から伝達された回転駆動力がレバー部材35を介して可動接触子33に伝わり、可動接触子33が可動側接触部31内を摺動し、固定側接触部32との電気的な開閉(電気的な接触または遮断)を可能とする。
One end of the
また、図3に示すように、可動接触子33を駆動するためのレバー部材35を回動させる回転シャフト37は、母線一体形断路器27の容器60の内側と外側に連通するように、母線一体形断路器27の容器60を貫通して設けられた軸受部材70に回転可能に支持されている。
Further, as shown in FIG. 3, the
軸受部材70は、内周に回転シャフト37と潤滑油を介して摺動するシール部材71を備えている。シール部材71は、軸受部材70の内周面に、周方向に亘って形成され、かつ回転シャフト37の軸方向に所定の間隔をあけて列設された複数の溝72に設置されている。このシール部材71が、回転シャフト37と潤滑油を介して摺動することで、シール効果を発揮し、母線一体形断路器27の容器内に封入された絶縁ガスが、回転シャフト37と軸受部材70との間から外部に流出するのを防止している。シール部材71として、例えば、ニトリルブタジエンゴム(NBR)などからなるゴム製のパッキンが使用される。また、潤滑油として、例えば、グリースなどが使用される。
The bearing
ここで、回転シャフト37の構造について説明する。
Here, the structure of the
図4は、回転シャフト37の斜視図である。図5は、回転シャフト37の摺動面37aの構造を説明するための、回転シャフト37の軸方向に沿う断面の一部を拡大した図である。図6は、シール部材71と回転シャフト37との摺動部における断面を拡大して示した図である。
FIG. 4 is a perspective view of the
図4および図5に示すように、回転シャフト37の摺動面37aには、周方向の全面に亘って、この摺動面37aよりも内側に窪んだ複数の凹部80が形成されている。この凹部80は、ディンプル状の窪みで構成されている。
As shown in FIGS. 4 and 5, the sliding
次に、このディンプル状の凹部80の形成方法について説明する。
Next, a method for forming the dimple-
このディンプル状の凹部80は、例えば、ショットピーニング法により形成される。具体的には、ディンプル状の凹部80は、回転シャフト37を構成する材料よりも硬度の高い材料で構成された、硬質粒子を回転シャフト37の摺動面37aに高速気流で吹付けることで形成される。
The dimple-shaped
ここで、硬質粒子の平均粒子径は、75μm以下であることが好ましい。硬質粒子の平均粒子径を75μm以下とすることが好ましいのは、平均粒子径が大きくなるとディンプル状の凹部80の深さが深くなり、シール部材71との摩擦が大きくなるからである。この平均粒子径は、メディアン径(50%粒子径)である。また、硬質粒子の粒子径は、JIS R 6002の研削砥石用研磨材の粒度の試験方法に準じて測定される。
Here, the average particle diameter of the hard particles is preferably 75 μm or less. The reason why the average particle diameter of the hard particles is preferably 75 μm or less is that as the average particle diameter increases, the depth of the dimple-shaped
平均粒子径を75μm以下の硬質粒子を使用した場合、吹き付ける気流速度に依存するが、直径が3〜30μm程度のディンプル状の凹部80が形成される。また、この場合、ディンプル状の凹部80の深さ(最大深さ)は、1〜10μm程度となる。また、硬質粒子を構成する材料として、例えば、アルミナ、ジルコニア、シリカなどを主成分とする材料が例示される。
When hard particles having an average particle diameter of 75 μm or less are used, a dimple-
このように凹部80が形成された、回転シャフト37の摺動面37aは、図6に示すように、潤滑油90を介して軸受部材70のシール部材71と摺動する。回転シャフト37が回転する際、図6に示すように、ディンプル状の凹部80には、潤滑油90が保持された状態となる。
The sliding
このように、回転シャフト37の摺動面37aにディンプル状の凹部80を形成することで、シール部材71との接触面積が減少し、摩擦抵抗を低減することができる。さらに、凹部80に潤滑油90が保持されることにより、回転シャフト37とシール部材71との間における潤滑油90の枯渇を防止することができる。そのため、回転シャフト37を長期間停止状態に保持された状態から起動する際においても、起動時の過大なトルクが不要となり、回転シャフト37を駆動するための駆動機構をコンパクト化することができる。
Thus, by forming the dimple-shaped
また、ショットピーニング法により凹部80を形成することで、回転シャフト37の摺動面37aのような曲面においても、一様な大きさの微細なディンプル状の凹部80を形成することができる。さらに、製作コストの削減および製作時間の短縮を図ることができる。
Further, by forming the
なお、ディンプル状の凹部80の形成方法は、上記した方法に限られるものではない。例えば、次に示すように、ディンプル状の凹部80を形成してもよい。
The method for forming the dimple-shaped
図7は、回転シャフト37の摺動面37aの構造を説明するための、回転シャフト37の軸方向に沿う断面の一部を拡大した図である。
FIG. 7 is an enlarged view of a part of a cross section along the axial direction of the
まず、平均粒子径が75μm以下の第1の硬質粒子を回転シャフト37の摺動面37aに高速気流で吹付けて、ディンプル状の窪みを形成する。続いて、この第1の硬質粒子の直径よりも、直径が3〜5倍程度大きな第2の硬質粒子を、第1の硬質粒子によって形成されたディンプル状の窪みが形成された回転シャフト37の摺動面37aに高速気流で吹付けて、ディンプル状の凹部80を形成してもよい(図7参照)。
First, the first hard particles having an average particle diameter of 75 μm or less are sprayed on the sliding
このようにディンプル状の凹部80を形成することで、第1の硬質粒子によって形成されたディンプル状の凹部におけるエッジ部(図5において凹部80間に形成される部分)が、第2の硬質粒子によって、図7に示すように、潰されて鈍化する。これにより、回転シャフト37の摺動面37aにおける摩擦抵抗を低減することができる。さらに、エッジ部の形状が鈍化することで、シール部材71の損傷をより効果的に抑制することができる。
By forming the dimple-
また、回転シャフト37の摺動面37aは、上記した凹部80が形成された凹部形成領域と、凹部80が形成されていない平滑面81からなる平滑面領域とを備えるように構成されてもよい。図8は、摺動面37aに凹部形成領域および平滑面領域を備える回転シャフト37の斜視図である。
Further, the sliding
図8に示すように、凹部形成領域および平滑面領域は、所定の幅を有して周方向に形成され、かつ回転シャフト37の軸方向に交互に形成されている。隣接する凹部形成領域間のピッチP0(隣接する凹部形成領域における、凹部形成領域の幅方向の中心間の距離)は、一様となるように構成されることが好ましい。
As shown in FIG. 8, the recessed portion forming region and the smooth surface region are formed in the circumferential direction with a predetermined width, and are alternately formed in the axial direction of the
このように、凹部形成領域および平滑面領域を備える場合、回転シャフト37の摺動面37aにおける、摺動面37a全体面積に対する平滑面81が形成された部分の面積の割合(以下、平滑面積率という)は、30〜60%であることが好ましい。
As described above, in the case where the concave portion forming region and the smooth surface region are provided, the ratio of the area of the sliding
この割合の範囲が好ましいのは、平滑面積率が30%を下回る場合には、特に、摺動面37aとシール部材71との摺動面における面圧が高いときに、凹部80へのシール部材71の食い込み量が増加し、摺動面37aにおける摩擦抵抗が増加するからである。平滑面積率が60%を超える場合には、凹部80における潤滑油90の保持量が少なく、長期間停止状態に保持された状態から起動する際に過大なトルクを必要とするからである。
The range of this ratio is preferable when the smooth area ratio is less than 30%, particularly when the surface pressure on the sliding surface between the sliding
なお、平滑面積率は、ピッチP0を変化させることで、30〜60%の範囲に設定される。 The smooth area ratio is set in the range of 30 to 60% by changing the pitch P0.
また、凹部形成領域および平滑面領域を形成する場合、回転シャフト37の摺動面37aの、凹部80を形成する領域のみに、ディンプル状の凹部80を形成するための上記した処理が施される。
Further, when forming the recessed portion forming region and the smooth surface region, the above-described processing for forming the dimple-shaped recessed
このように、凹部形成領域および平滑面領域を備えることで、上記した凹部80を備えることの作用効果に加え、さらに、摺動面37aとシール部材71との摺動面における面圧が高い場合においても、凹部80へのシール部材71の食い込みを防止することができ、低摩擦化を図ることができる。すなわち、凹部形成領域および平滑面領域を備える構成は、特に、摺動面37aとシール部材71との摺動面における面圧が高い場合に好適である。
As described above, by providing the recessed portion forming region and the smooth surface region, in addition to the effect of providing the recessed
(回転シャフト37の摺動面37aの他の構成)
(孔形状の凹部80)
上記した実施の形態では、ショットピーニング法により形成されたディンプル状の凹部80を備える回転シャフト37の摺動面37aについて説明したが、凹部80の形状は、この形状に限られるものではない。ここでは、回転シャフト37の摺動面37aに形成される他の凹部80の構成について説明する。
(Other configuration of sliding
(Hole-shaped recess 80)
In the above-described embodiment, the sliding
図9は、他の構成の凹部80を備えた、回転シャフト37の摺動面37aの構造を説明するための、回転シャフト37の軸方向に沿う断面の一部を拡大した図である。図10は、回転シャフト37の摺動面37aに形成された凹部80を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察したときの写真である。
FIG. 9 is an enlarged view of a part of the cross section along the axial direction of the
図9および図10に示すように、凹部80は、複数の円形状の孔(孔溝)で構成されてもよい。なお、回転シャフト37の摺動面37aには、これらの凹部80以外に、凹部80が形成されていない平滑面81を備えている。
As shown in FIG. 9 and FIG. 10, the
円形状の各孔の口径D1や深さH1、隣接する孔間のピッチP1(隣接する孔における孔の中心間の距離)は、一様となるように構成されることが好ましい。 It is preferable that the diameter D1 and the depth H1 of each circular hole and the pitch P1 between adjacent holes (the distance between the centers of the holes in the adjacent holes) are uniform.
凹部80の口径D1は、1mm以下、深さH1は、0.5mm以下であることが好ましい。この口径D1および深さH1の範囲が好ましいのは、凹部80に適正な量の潤滑油90を保持することができるからである。
The diameter D1 of the
また、平滑面積率は、30〜60%であることが好ましい。この割合の範囲が好ましいのは、平滑面積率が30%を下回る場合には、特に、摺動面37aとシール部材71との摺動面における面圧が高いときに、凹部80へのシール部材71の食い込み量が増加し、摺動面37aにおける摩擦抵抗が増加するからである。平滑面積率が60%を超える場合には、凹部80における潤滑油90の保持量が少なく、長期間停止状態に保持された状態から起動する際に過大なトルクを必要とするからである。
Moreover, it is preferable that a smooth area ratio is 30 to 60%. The range of this ratio is preferable when the smooth area ratio is less than 30%, particularly when the surface pressure on the sliding surface between the sliding
なお、平滑面積率は、凹部80の口径D1および深さH1を上記した範囲とし、ピッチP1を変化させることで、30〜60%の範囲に設定される。
The smooth area ratio is set to a range of 30 to 60% by changing the pitch P1 with the aperture D1 and the depth H1 of the
円形状の孔からなる凹部80は、例えば、回転シャフト37の摺動面37aに、パルス状に電子ビームやレーザービームを所定時間照射することで形成することができる。このように、電子ビームやレーザービームの照射により凹部80を形成することで、照射した領域のみに高精度で孔を形成することができる。なお、円形状の孔からなる凹部80は、例えば、機械加工などによって形成されてもよい。
The
なお、回転シャフト37の摺動面37aに、前述したような、回転シャフト37の軸方向に、前述したような凹部形成領域および平滑面領域を交互に備えてもよい。この場合、凹部形成領域に、孔からなる複数の凹部80が形成される。また、凹部形成領域における凹部80間のピッチP1は、できる限り小さくすることが好ましい。
The sliding
(溝形状の凹部80)
図11は、他の構成の凹部80を備えた、回転シャフト37の摺動面37aの構造を説明するための、回転シャフト37の軸方向に沿う側面の一部を拡大した図である。図12は、図11に示された回転シャフト37の軸方向に沿う断面を示す図である。
(Groove-shaped recess 80)
FIG. 11 is an enlarged view of a part of the side surface along the axial direction of the
図11および図12に示すように、凹部80は、回転シャフト37の摺動面37aに、回転シャフト37の周方向に亘って形成され、かつ回転シャフト37の軸方向に所定の間隔をあけて列設された複数の溝で構成されてもよい。なお、回転シャフト37の摺動面37aには、これらの凹部80以外に、凹部80が形成されていない平滑面81を備えている。
As shown in FIGS. 11 and 12, the
各溝の溝幅W2や深さH2、隣接する溝間のピッチP2(隣接する溝における、溝の溝幅方向の中心間の距離)は、一様となるように構成されることが好ましい。 It is preferable that the groove width W2 and depth H2 of each groove and the pitch P2 between adjacent grooves (the distance between the centers of adjacent grooves in the groove width direction) are uniform.
凹部80の溝幅W2は、1mm以下、深さH2は、0.5mm以下であることが好ましい。この溝幅W2および深さH2の範囲が好ましいのは、凹部80に適正な量の潤滑油90を保持することができるからである。
The
また、平滑面積率は、30〜60%であることが好ましい。この割合の範囲が好ましいのは、平滑面積率が30%を下回る場合には、特に、摺動面37aとシール部材71との摺動面における面圧が高いときに、凹部80へのシール部材71の食い込み量が増加し、摺動面37aにおける摩擦抵抗が増加するからである。平滑面積率が60%を超える場合には、凹部80における潤滑油90の保持量が少なく、長期間停止状態に保持された状態から起動する際に過大なトルクを必要とするからである。
Moreover, it is preferable that a smooth area ratio is 30 to 60%. The range of this ratio is preferable when the smooth area ratio is less than 30%, particularly when the surface pressure on the sliding surface between the sliding
なお、平滑面積率は、凹部80の溝幅W2および深さH2を上記した範囲とし、ピッチP2を変化させることで、30〜60%の範囲に設定される。
The smooth area ratio is set to a range of 30 to 60% by changing the pitch P2 with the groove width W2 and the depth H2 of the
上記した溝からなる凹部80は、例えば、回転シャフト37の摺動面37aに、パルス状に電子ビームやレーザービームを所定時間照射することで形成することができる。また、上記した溝からなる凹部80は、例えば、回転シャフト37の摺動面37aをフォトエッチング、機械加工などすることによっても形成することができる。
The
(螺旋溝形状)
図13は、他の構成の凹部80を備えた、回転シャフト37の摺動面37aの構造を説明するための、回転シャフト37の軸方向に沿う側面の一部を拡大した図である。図14は、図13に示された回転シャフト37の軸方向に沿う断面を示す図である。
(Spiral groove shape)
FIG. 13 is an enlarged view of a part of the side surface along the axial direction of the
図13および図14に示すように、凹部80は、回転シャフト37の摺動面37aに、回転シャフト37の周方向かつ軸方向に亘って螺旋状に形成された連続する溝で構成されてもよい。なお、回転シャフト37の摺動面37aには、凹部80以外に、凹部80が形成されていない平滑面81を備えている。
As shown in FIGS. 13 and 14, the
この螺旋状の溝の溝幅W3、深さH3、隣接する溝間のピッチP3(隣接する溝における、溝の溝幅方向の中心間の距離)は、一様となるように構成されることが好ましい。 The groove width W3 and depth H3 of this spiral groove and the pitch P3 between adjacent grooves (the distance between the centers of adjacent grooves in the groove width direction) are configured to be uniform. Is preferred.
凹部80の溝幅W3は、1mm以下、深さH3は、0.5mm以下であることが好ましい。この溝幅W3および深さH3の範囲が好ましいのは、凹部80に適正な量の潤滑油90を保持することができるからである。
The
また、平滑面積率は、30〜60%であることが好ましい。この割合の範囲が好ましいのは、平滑面積率が30%を下回る場合には、特に、摺動面37aとシール部材71との摺動面における面圧が高いときに、凹部80へのシール部材71の食い込み量が増加し、摺動面37aにおける摩擦抵抗が増加するからである。平滑面積率が60%を超える場合には、凹部80における潤滑油90の保持量が少なく、長期間停止状態に保持された状態から起動する際に過大なトルクを必要とするからである。
Moreover, it is preferable that a smooth area ratio is 30 to 60%. The range of this ratio is preferable when the smooth area ratio is less than 30%, particularly when the surface pressure on the sliding surface between the sliding
なお、平滑面積率は、凹部80の溝幅W3および深さH3を上記した範囲とし、ピッチP3を変化させることで、30〜60%の範囲に設定される。
The smoothing area ratio is set to a range of 30 to 60% by changing the pitch P3 with the groove width W3 and the depth H3 of the
上記した螺旋状の溝からなる凹部80は、例えば、回転シャフト37の摺動面37aに、パルス状に電子ビームやレーザービームを所定時間照射することで形成することができる。また、上記した溝からなる凹部80は、例えば、回転シャフト37の摺動面37aをフォトエッチング、機械加工などすることによっても形成することができる。
The
上記した他の構成の凹部80を備えた場合においても、ディンプル状の凹部80を備えた場合と同様に、凹部80が形成された、回転シャフト37の摺動面37aは、潤滑油90を介して軸受部材70のシール部材71と摺動する(図6参照)。そして、回転シャフト37が回転する際、凹部80には、潤滑油90が保持された状態となる。
Even when the
このように、回転シャフト37の摺動面37aに凹部80を形成することで、シール部材71との接触面積が減少し、摩擦抵抗を低減することができる。さらに、凹部80に潤滑油90が保持されることにより、回転シャフト37とシール部材71との間における潤滑油90の枯渇を防止することができる。そのため、回転シャフト37を長期間停止状態に保持された状態から起動する際においても、起動時の過大なトルクが不要となり、回転シャフト37を駆動するための駆動機構をコンパクト化することができる。
Thus, by forming the recessed
また、回転シャフト37の摺動面37aに、凹部80と、凹部80が形成されていない平滑面81とを備えることで、摺動面37aとシール部材71との摺動面における面圧が高い場合においても、凹部80へのシール部材71の食い込みを防止することができ、低摩擦化を図ることができる。
Further, by providing the sliding
ここで、回転シャフト37の摺動面37aにおける少なくとも平滑面81に、硬質炭素皮膜を形成することが好ましい。
Here, it is preferable to form a hard carbon film on at least the
図15は、図7に示した回転シャフト37の摺動面37aに硬質炭素皮膜100を形成したときの、回転シャフト37の軸方向に沿う断面の一部を拡大した図である。なお、ここでは、図7に示した回転シャフト37の摺動面37aに硬質炭素皮膜100を形成する場合を例示して説明するが、前述した、回転シャフト37の摺動面37aにおける少なくとも平滑面81のすべてに適用可能である。
FIG. 15 is an enlarged view of a part of the cross section along the axial direction of the
図15には、凹部80および平滑面81の双方、すなわち摺動面37aの全体に硬質炭素皮膜100を形成した一例を示している。なお、硬質炭素皮膜100は、回転シャフト37の摺動面37aにおける少なくとも平滑面81に形成されていればよく、図15に示すように、摺動面37aの全体に形成されても、平滑面81のみに形成されてもよい。
FIG. 15 shows an example in which the
硬質炭素皮膜100は、摩擦係数が小さく、かつ硬度の高い材料で構成され、具体的には、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)などで形成される。DLCからなる硬質炭素皮膜100は、高硬度であるため、磨耗量が少ない。そのため、DLCからなる硬質炭素皮膜100を備えることで、抵抗力が小さく、かつ磨耗量が少ない摺動面37aを得ることができる。また、このDLCは、耐食性にも優れている。
The
なお、回転シャフト37は、例えば、アルミニウム合金、ステンレス鋼、クロムモリブデン鋼などの金属で構成される。
The rotating
ここで、DLCの皮膜の形成方法について説明する。 Here, a method of forming a DLC film will be described.
DLCの皮膜は、メタンガスを原料とするプラズマCVD法、または固体カーボンを原料とするスパッタリング法により形成される。 The DLC film is formed by a plasma CVD method using methane gas as a raw material or a sputtering method using solid carbon as a raw material.
プラズマCVD法では、常温付近でコーティングすることができるが、皮膜中に多量の水素が混入するため、皮膜の硬度をあまり高くできない(例えば、ビッカース硬さ(HV)で最大2000程度)。また、プラズマCVD法において、回転シャフト37の摺動面37aに、DLCからなる皮膜を形成する際、まず金属の表面に、下地として炭素(C)との反応性に優れ、DLCの密着強度を向上させるケイ素(Si)などの皮膜を形成することが好ましい。
In the plasma CVD method, coating can be performed at around room temperature, but since a large amount of hydrogen is mixed in the film, the film hardness cannot be so high (for example, a maximum Vickers hardness (HV) of about 2000). Further, in the plasma CVD method, when a coating made of DLC is formed on the sliding
一方、スパッタリング法では、200〜300℃に加熱する必要があるが、水素量を低くできるので、硬度の高い皮膜を形成することができる(例えば、ビッカース硬さ(HV)で最大4500程度)。また、プラズマCVD法において、回転シャフト37の摺動面37aに、DLCからなる皮膜を形成する際、まず金属の表面に、下地として炭素との反応性に優れ、所定の硬度を有する、タングステン(W)、クロム(Cr)などの皮膜を形成することが好ましい。下地として所定の硬度を有するタングステン(W)、クロム(Cr)などの皮膜を備えることで、回転シャフト37の基材が変形したときでも、DLCの皮膜が、割れたり、剥離したりするなどの損傷を抑制することができる。
On the other hand, in the sputtering method, it is necessary to heat to 200 to 300 ° C., but since the amount of hydrogen can be reduced, a film having high hardness can be formed (for example, a maximum of about 4500 in Vickers hardness (HV)). Further, in the plasma CVD method, when a coating made of DLC is formed on the sliding
なお、スパッタリング法において、下地層およびDLC層を形成する場合、下地層とDLC層との間に、下地層からDLC層に向かって、DLCの濃度が増加し、下地層を構成する材料の濃度が減少する傾斜組成層を備えることが好ましい。この傾斜組成層は、例えば、下地層を形成する金属の蒸着量を徐々に減らし、一方でDLCの蒸着量を徐々に増加させることで形成することができる。この傾斜組成層を備えることで、下地層とDLC層との間に生じる応力集中を抑制し、剥離の発生を抑えることができる。 Note that in the case of forming the base layer and the DLC layer in the sputtering method, the concentration of DLC increases from the base layer to the DLC layer between the base layer and the DLC layer, and the concentration of the material constituting the base layer It is preferable to provide a graded composition layer in which the decrease is. This graded composition layer can be formed, for example, by gradually reducing the deposition amount of the metal forming the underlayer while gradually increasing the deposition amount of DLC. By providing this gradient composition layer, it is possible to suppress stress concentration generated between the base layer and the DLC layer and to suppress the occurrence of peeling.
上記した方法により形成される硬質炭素皮膜100の厚さは、皮膜の残留応力、密着強さ、成膜コストなどを考慮して、1〜10μm程度であることが好ましい。
The thickness of the
また、硬質炭素皮膜100を形成するDLCにおける水素含有量は、概ね10at%以下であることが好ましい。この範囲が好ましいのは、水素含有量が少ないほど高硬度の皮膜が得られるからである。
Moreover, it is preferable that the hydrogen content in DLC which forms the
このように、回転シャフト37の摺動面37aにおける少なくとも平滑面81に、硬質炭素皮膜を形成することで、例えば、回転シャフト37と摺動面37aの平滑面81との間の潤滑油90が枯渇または劣化した場合においても、摩擦抵抗を低減することができる。
In this way, by forming the hard carbon film on at least the
次に、母線一体形断路器27における断路部30の作用について、図2を参照して説明する。
Next, the operation of the disconnecting
母線一体形断路器27の容器外に配置された回動機器により発生した回転駆動力が回転シャフト37に伝達されると、回転シャフト37を中心にレバー部材35が回転する。回転シャフト37が回転する際、摺動面37aの凹部80には、潤滑油90が保持された状態となり、シール部材71との接触面積が減少し、摩擦抵抗が低減される。そのため、回転シャフト37を長期間停止状態に保持された状態から起動する際においても、過大なトルクを必要としない。また、潤滑油90を介して回転シャフト37とシール部材71とが摺動することで、母線一体形断路器27の容器内からの絶縁ガスの漏れを防止することができる。
When the rotational driving force generated by the rotating device disposed outside the container of the bus bar integrated
回転シャフト37を中心にレバー部材35が回転すると、可動接触子33のピン34がレバー部材35の一端の長穴形状の溝36を摺動し、可動接触子33は、駆動される。
When the
可動接触子33が駆動され、可動接触子33が可動側接触部31内を摺動し、可動接触子33の先端部は、固定側接触部32のシールド32bの内径面から固定側接触部32内に挿入する。そして、可動接触子33の先端部の側面に、固定側接触部32の接点端子32aが接触し、電気的に開となった状態(図2で実線で示した状態)となる。
The
次に、本発明に係るガス絶縁開閉装置10において、前述した回転シャフト37の摺動面37aの構成とすることで、長期間停止状態に保持された状態から起動する際において、過大なトルクを必要としないことを説明する。
Next, in the gas insulated
なお、ここでは、図3に示した、回転シャフト37および軸受部材70の構成を備えた装置を、母線一体形断路器27の容器に組み込んでトルクの評価を実施した。
Here, the apparatus having the configuration of the
(凹部80がディンプル状の場合)
まず、ステンレス鋼からなる、直径が45mm、長さが600mmの回転シャフト37の摺動面37aの全体に亘って、ショットピーニング処理を施してディンプル状の凹部80を形成した。
(When the
First, a dimple-
ショットピーニング処理において、平均粒径が16μm、23μm、44μm、75μmの、アルミナを主成分とする硬質粒子を用いて、4種類の試料を作製した。ここで、平均粒径が16μm、23μm、44μm、75μmの硬質粒子を用いて作製された試料を、それぞれ、試料1、試料2、試料3、試料4とした。
In the shot peening treatment, four types of samples were prepared using hard particles mainly composed of alumina having an average particle size of 16 μm, 23 μm, 44 μm, and 75 μm. Here, samples prepared using hard particles having an average particle diameter of 16 μm, 23 μm, 44 μm, and 75 μm were referred to as
なお、この平均粒子径は、メディアン径(50%粒子径)である(以下、同じ)。また、硬質粒子の粒子径は、JIS R 6002の研削砥石用研磨材の粒度の試験方法に準じて測定した(以下、同じ)。 The average particle diameter is the median diameter (50% particle diameter) (hereinafter the same). Moreover, the particle diameter of the hard particles was measured according to the method for testing the particle size of abrasives for grinding wheels according to JIS R 6002 (hereinafter the same).
また、平均粒子径が23μmの第1の硬質粒子を回転シャフト37の摺動面37aに高速気流で吹付けて、ディンプル状の窪みを形成し、平均粒子径が75μmの第2の硬質粒子を、第1の硬質粒子によって形成されたディンプル状の窪みが形成された回転シャフト37の摺動面37aに高速気流で吹付けて、ディンプル状の凹部80を形成した試料5も用意した。なお、第2の硬質粒子を吹き付ける際の圧力は、第1の硬質粒子を吹き付ける際の圧力よりも低い圧力で行った。
In addition, the first hard particles having an average particle diameter of 23 μm are sprayed on the sliding
さらに、比較のために、摺動面37aに凹部80が形成されていないもの(試料6)も用意した。
Further, for comparison, a sample (sample 6) in which the
なお、シール部材71として、ニトリルブタジエンゴム(NBR)からなるゴム製のパッキンを使用した。また、潤滑油90として、グリースを使用した。
As the
ここでは、上記した試料からなる回転シャフト37を用いて回転試験を行うことでトルクを評価した。回転試験は、母線一体形断路器27の容器外に配置された回転駆動装置により回転シャフト37を60rpmで回転させて停止させた後、10分以内に再度同回転数で回転させる試験(連続試験)、および回転停止後24時間経過した時点から、回転駆動装置により回転シャフト37を回転させる試験(稀頻度試験)を行った。双方の試験において、トルクメータによりトルクを測定した。なお、連続試験および稀頻度試験におけるトルクとは、それぞれの試験において停止状態から起動させる起動時における最大トルクである。
Here, the torque was evaluated by performing a rotation test using the rotating
図16は、回転試験の結果を示す図である。なお、図16において、第1の硬質粒子および第2の硬質粒子を用いて凹部80が形成された試料5における結果は、横軸の平均粒子径が23μmの位置に示されている。なお、図16において、試料2における結果と区別するために、試料5における結果に係るシンボルは点線で示されている。また、摺動面37aに凹部80が形成されていない試料6における結果は、平均粒径(横軸)が「0」の位置に示されている。
FIG. 16 is a diagram showing the results of the rotation test. In FIG. 16, the result in the
図16に示すように、試料1〜試料6において、連続試験におけるトルクは、大きな差はなかった。一方、稀頻度試験では、試料6におけるトルクが、他の試料6におけるトルクに比べて高くなることがわかった。具体的には、回転シャフト37の摺動面37aに凹部80を備えた試料1〜試料5におけるトルクは、回転シャフト37の摺動面37aに凹部80を備えない試料6におけるトルクに比べて、40%程度低いことがわかった。この結果から、回転シャフト37の摺動面37aに凹部80を備えることで、特に、回転停止後24時間経過した時点から回転させる稀頻度時におけるトルクを低減できることが明らかとなった。
As shown in FIG. 16, in the
また、連続試験および稀頻度試験において、試料5におけるトルクは、試料1〜試料4におけるトルクよりも低い。この結果から、ディンプル状の凹部におけるエッジ部(図5において平滑面81を形成する部分)を鈍化することにより、摩擦抵抗を低減することができたものと考えられる。
Further, in the continuous test and the rare frequency test, the torque in the
(凹部形成領域および平滑面領域を備える場合)
ここでは、回転シャフト37の摺動面37aに、凹部80が形成された凹部形成領域と、凹部80が形成されていない平滑面81からなる平滑面領域とを備える場合における、長期間停止状態に保持された状態から起動する際のトルクを評価した。
(When provided with a recess forming region and a smooth surface region)
Here, the sliding
凹部形成領域および平滑面領域を、図8に示すように、所定の幅で、周方向に亘って形成し、かつ回転シャフト37の軸方向に交互に形成した。また、凹部形成領域を形成する凹部80の形状は、前述した試料5における凹部80と同様の形状とした。なお、ここでは、図8を参照して説明する。
As shown in FIG. 8, the recessed portion forming region and the smooth surface region were formed with a predetermined width over the circumferential direction and alternately formed in the axial direction of the
また、上記したように凹部80を試料5における凹部80と同様の形状とし、凹部形成領域の幅を一定とし、平滑面積率が0%、30%、60%となるように凹部80を形成した(図8を参照)。すなわち、平滑面積率の設定は、凹部80間のピッチP0を変更することで調整した。そのため、平滑面積率が高い方がピッチPが大きくなる。
Further, as described above, the
ここで、平滑面積率が0%とは、摺動面37aの全体に亘って凹部80が形成されている状態であり、前述した試料5と同じ構成であり、ここでも試料5と表示する。また、凹部面積率が30%のものを試料7、60%のものを試料8とした。
Here, the smooth area ratio of 0% is a state in which the
回転試験は、上記した平滑面積率を有する試料5、試料7および試料8について、稀頻度試験を行った。なお、稀頻度試験は、上述した試験方法と同じ試験方法で行った。また、回転シャフト37の摺動面37aに負荷される面圧を、前述したディンプル状の凹部を有する摺動面37aに負荷される面圧の、1倍(ディンプル状の摺動面37aと同じ面圧)、1.5倍、2倍とした面圧比条件の下、回転試験を行った。
In the rotation test, a rare frequency test was performed on
図17は、回転試験の結果を示す図である。なお、図17の、横軸には面圧比が、縦軸には稀頻度試験におけるトルクが示されている。 FIG. 17 is a diagram showing the results of the rotation test. In FIG. 17, the horizontal axis represents the surface pressure ratio, and the vertical axis represents the torque in the rare frequency test.
図17に示すように、面圧比が低い場合には、平滑面積率が小さい方が、平滑面積率が大きい方よりも、トルクが低いことがわかる。一方、面圧比が高くなるにつれて、平滑面積率が高い方がトルクが低いことがわかる。これは、面圧比が高くなると、凹部80へのシール部材71の食い込みが増加し、摩擦力が大きくなるためと考えられる。
As shown in FIG. 17, when the surface pressure ratio is low, it can be seen that the smaller the smooth area ratio, the lower the torque than the larger smooth area ratio. On the other hand, it can be seen that the higher the surface pressure ratio, the lower the torque when the smooth area ratio is higher. This is considered to be because when the surface pressure ratio increases, the biting of the
また、これらの結果から、凹部形成領域と平滑面領域とを混在させることで、面圧は主として平滑面領域が分担し、潤滑油90の保持効果は、凹部形成領域が分担していることがわかる。また、平滑面積率が30〜60%の範囲においては、面圧比が上昇しても、トルクが急激に増加することがないことがわかった。
Further, from these results, by mixing the recessed portion forming region and the smooth surface region, the surface pressure is mainly shared by the smooth surface region, and the retaining effect of the lubricating
(凹部80が孔状または螺旋溝状の場合)
ここでは、回転シャフト37の摺動面37aの凹部80を孔状または螺旋溝状とした。凹部80が孔状の場合には、図9および図10を、凹部80が螺旋溝状の場合には、図13および図14を参照して説明する。
(When the
Here, the
凹部80を孔状に形成した場合(試料9)、凹部80の口径D1を300μm、深さH1を10μmとし、凹部80間のピッチP1を500μmとした。この場合、図9および図10に示すように、凹部80間に平滑面81が存在する。この場合における平滑面積率は60%であった。なお、回転シャフト37の摺動面37aにパルス状に電子ビームを照射して複数の孔状の溝を形成した。
When the
凹部80を螺旋溝状に形成した場合(試料10)、凹部80の溝幅W3を50μm、深さH3を10μmとし、凹部80間のピッチP3を100μmとした。この場合における平滑面積率は50%であった。なお、回転シャフト37の摺動面37aをフォトエッチングすることで螺旋溝状の凹部80を形成した。
When the
また、試料9および試料10の摺動面37aに、スパッタリング法により、厚さが2μmのダイヤモンドライクカーボン(DLC)からなる硬質炭素皮膜100を形成した。試料9の摺動面37aに硬質炭素皮膜100を形成したものを試料11と、試料10の摺動面37aに硬質炭素皮膜100を形成したものを試料12と示す。
Further, a
なお、比較のために、摺動面37aに凹部80および硬質炭素皮膜100が形成されていない、前述した試料6も用意した。
For comparison, the above-described
回転試験では、上記した試料6、試料9〜試料12について稀頻度試験を行った。なお、稀頻度試験は、上述した試験方法と同じ試験方法で行った。また、回転シャフト37の摺動面37aに負荷される面圧を、前述したディンプル状の凹部を有する摺動面37aに負荷される面圧の2倍とした面圧比条件の下、回転試験を行った。
In the rotation test, a rare frequency test was performed on the above-described
図18は、回転試験の結果を示す図である。図18に示すように、試料9および試料10においても、前述した、ディンプル状の凹部80を有する試料1〜試料6と同様に、試料6に比べて、トルクが低いことがわかった。さらに、硬質炭素皮膜100を備えることで、さらにトルクが低くなることがわかった。
FIG. 18 is a diagram showing the results of the rotation test. As shown in FIG. 18, it was found that Sample 9 and
なお、図示していないが、回転シャフト37の摺動面37aに、回転シャフト37の周方向に亘って形成され、かつ回転シャフト37の軸方向に所定の間隔をあけて列設された複数の溝で構成された凹部80(図11および図12参照)を備える場合においても、凹部80の溝幅W2、深さH2および平滑面積率を上述した範囲とすることで、凹部80を螺旋溝状に形成した場合(試料10)と同程度にトルクが低くなることが確認されている。
Although not shown, a plurality of sliding
以上、本発明を一実施の形態により具体的に説明したが、本発明はこれらの実施の形態にのみ限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。 Although the present invention has been specifically described above with reference to the embodiments, the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention.
10…ガス絶縁開閉装置、20…遮断器、21、60…容器、22a…上部口出し部、22b…下部口出し部、23…変流器、24…断路器、25…接地開閉器、26…ケーブルヘッド、27…母線一体形断路器、30…断路部、31…可動側接触部、32…固定側接触部、32a…接点端子、32b…シールド、33…可動接触子、34…ピン、35…レバー部材、36…溝、37…回転シャフト、37a…摺動面、70…軸受部材、71…シール部材、72…溝、80…凹部、81…平滑面、90…潤滑油、100…硬質炭素皮膜。
DESCRIPTION OF
Claims (13)
前記容器内に収容され、直線的に進退可能に保持された可動接触子と、
前記可動接触子の前方に配置された固定側接触部と、
前記容器の外部からの動力をリンク機構を介して前記可動接触子に伝達し、前記可動接触子を進退させて前記固定側接触部との電気的な開閉動作を行わせる回転シャフトと、
前記容器の壁面を介して前記容器の内部と外部に連通するように設けられ、内周に前記回転シャフトと潤滑油を介して摺動するシール部材を備え、前記回転シャフトを回転可能に支持する軸支部材と
を備えるガス絶縁開閉装置であって、
前記回転シャフトの、前記シール部材に摺動する摺動面に、当該摺動面よりも窪んだ凹部が形成されていることを特徴とするガス絶縁開閉装置。 A container filled with insulating gas;
A movable contact housed in the container and linearly held so as to be movable back and forth;
A stationary contact portion disposed in front of the movable contact;
A rotating shaft that transmits power from outside the container to the movable contact through a link mechanism, and advances and retracts the movable contact to perform an electrical opening and closing operation with the fixed-side contact portion;
A seal member is provided to communicate with the inside and the outside of the container through the wall surface of the container, and includes a seal member that slides on the inner periphery via the rotating shaft and lubricating oil, and rotatably supports the rotating shaft. A gas insulated switchgear comprising a shaft support member,
A gas-insulated switchgear characterized in that a concave portion that is recessed from the sliding surface is formed on a sliding surface of the rotating shaft that slides on the seal member.
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Cited By (2)
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Legal Events
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A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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