JP2011221228A - 偽造防止シールおよび偽造防止シール製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】不正な剥離行為による偽造防止シールの貼り替えを防止することが可能で、かつ、高度な技術を必要とする偏光技術を用いた潜像技術を具備する偽造防止媒体を提供し、さらには、不正に剥がそうとすると潜像パターンと同一のパターン状に破壊される脆性シールを提供すること。
【解決手段】少なくとも支持基材と、接着剤層と、位相差層と、ホログラム反射層またはセキュリティ機能層と、粘着剤層と、から構成される偽造防止シールであって、
前記位相差層は、少なくとも２つの異なる方向に配向した部分を形成したことによってパターンが形成されており、前記接着剤層は、前記接着剤層と接する層との接着強度を前記パターンと一致させて変化させることによって、前記パターンと一致して脆性破壊する部分と脆性破壊しない部分から構成されている、ことを特徴とする偽造防止シール
【選択図】図1
【解決手段】少なくとも支持基材と、接着剤層と、位相差層と、ホログラム反射層またはセキュリティ機能層と、粘着剤層と、から構成される偽造防止シールであって、
前記位相差層は、少なくとも２つの異なる方向に配向した部分を形成したことによってパターンが形成されており、前記接着剤層は、前記接着剤層と接する層との接着強度を前記パターンと一致させて変化させることによって、前記パターンと一致して脆性破壊する部分と脆性破壊しない部分から構成されている、ことを特徴とする偽造防止シール
【選択図】図1
Description
本発明は、物品の偽造防止及び真贋判定を行うための隠し文字や隠しパターンを、フィルタを用いることによって表示させることを目的とした潜像を用いた偽造防止媒体に関するものであり、さらに貼り換え防止機能を付加した偽造防止媒体に関するものである。
近年、高級酒などの比較的高価な商品や電化製品の消耗品など、偽造されては困る物品などにおいては、それらの真贋を判定するために、商品本体やそれを包装したケース等に偽造防止シールを貼り付けることが行われている。この偽造防止シールには、目視による判定(オバート機能)または検証器を用いた判定(コバート機能)により真贋判定を行えるようなセキュリティ機能が具備されており、その判定により本物であるかを確認できる。
しかし、目視により真贋判定が行える偽造防止媒体は偽造されやすい問題を抱えてきた。その解決策として偏光技術を用いた潜像技術が提案され、偏光フィルムを重ねることにより潜像を出現させ真贋判定を行う方法が開示されている(特許文献１)。偏光技術を用いた潜像技術は、高度な技術と設備が必要とされるため、偽造が困難であり、不正行為を抑止することが出来る。しかしながら、不正業者などが、正規物品を偽造した不正物品を扱う場合、正規物品に貼り付けられている偽造防止シールを綺麗に剥し、不正物品に使い回し貼り付けることにより、購入者に対して不正物品を見分け難くすることができるようになってきている。
そこで、例えば、目視判定が行えるホログラムは不正に剥そうとするとその痕跡を残すために、支持基材とホログラム層、或いはこれらの間に設けられた剥離層と基材またはホログラム層で剥離するようにし、被着物から故意に剥離させた場合に少なくともホログラムの一部又は全体が破壊され、何らかの手が加えられたことが容易に判別できるようにしてなるものがある。また特許文献２によれば、基材とホログラム形成層との間にパターン状の剥離層を形成しておき、このホログラム脆性シールの貼付後、このホログラムシールを端部から剥がそうとすると基材とホログラム形成層とがパターン状に剥離するものがある。しかしながら、前記のような工夫を行っているにも係わらず、ホログラムのような目視判定を行う偽造防止シールは、偽造されやすく、また、上記のように脆性パターンを含ませることも容易に出来るため、悪用されやすいという状況がある。
本発明は、不正な剥離行為による偽造防止シールの貼り替えを防止することが可能で、かつ、高度な技術を必要とする偏光技術を用いた潜像技術を具備する偽造防止媒体を提供し、さらには、不正に剥がそうとすると潜像パターンと同一のパターン状に破壊される脆性シールを提供することを課題とした。
上記の課題を解決するための手段として、請求項１の発明は、少なくとも支持基材と、接着剤層と、位相差層と、ホログラム反射層またはセキュリティ機能層と、粘着剤層と、
から構成される偽造防止シールであって、
前記位相差層は、少なくとも２つの異なる方向に配向した部分を形成したことによってパターンが形成されており、
前記接着剤層は、前記接着剤層と接する層との接着強度を前記パターンと一致させて変化させることによって、前記パターンと一致して脆性破壊する部分と脆性破壊しない部分から構成されている、ことを特徴とする偽造防止シールである。
から構成される偽造防止シールであって、
前記位相差層は、少なくとも２つの異なる方向に配向した部分を形成したことによってパターンが形成されており、
前記接着剤層は、前記接着剤層と接する層との接着強度を前記パターンと一致させて変化させることによって、前記パターンと一致して脆性破壊する部分と脆性破壊しない部分から構成されている、ことを特徴とする偽造防止シールである。
また、請求項２の発明は、前記位相差層が高分子液晶からなることを特徴とする請求項１に記載の偽造防止シールである。
また、請求項３の発明は、前記接着剤層が紫外線または電子線硬化型樹脂からなることを特徴とする請求項１または２に記載の偽造防止シールである。
また、請求項４の発明は、前記位相差層と前記ホログラム反射層との間に前記接着剤層を形成したことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の偽造防止シールである。
また、請求項５の発明は、切り欠きまたはミシン目が設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の偽造防止シールである。
また、請求項６の発明は、少なくとも接着剤層形成工程と、位相差層形成工程と、ホログラム反射層またはセキュリティ機能層形成工程と、粘着剤層形成工程と、から構成される偽造防止シール製造方法であって、
配向層形成工程は、位相差層形成工程の直前に実施され、
前記位相差層形成工程は、光配向技術を使用して少なくとも２つの異なる方向に配向した部分を形成することによってパターンを形成し、
前記接着剤層形成工程は、塗布工程と全面露光工程と部分露光工程からなっており、
前記全面露光工程の露光強度は前記部分露光工程の露光強度より弱い露光強度を使用し、且つ、前記部分露光工程は、前記全面露光工程で使用する露光光の偏光方向とは、１つ以上の異なる偏光方向を持った露光光で部分露光を実施すること、を特徴とする偽造防止シール製造方法である。
配向層形成工程は、位相差層形成工程の直前に実施され、
前記位相差層形成工程は、光配向技術を使用して少なくとも２つの異なる方向に配向した部分を形成することによってパターンを形成し、
前記接着剤層形成工程は、塗布工程と全面露光工程と部分露光工程からなっており、
前記全面露光工程の露光強度は前記部分露光工程の露光強度より弱い露光強度を使用し、且つ、前記部分露光工程は、前記全面露光工程で使用する露光光の偏光方向とは、１つ以上の異なる偏光方向を持った露光光で部分露光を実施すること、を特徴とする偽造防止シール製造方法である。
本発明により、偏光技術を用いた潜像を具備する偽造防止媒体が提供され、更に、不正に剥がそうとすると潜像と一致したパターンで破壊される偽造防止シールを提供することが可能となる。
以下、本発明に係る偽造防止構造体、及びその製造方法についての実施形態を詳細に説明する。
図１は、支持基材１２の一方の面に接着剤層１３、ホログラム反射層１４、粘着剤層１５をこの順に積層し、もう一方の面に２つの異なる方向に配向した領域からなる場合の位相差層１１を形成した例を示している。
図１は、支持基材１２の一方の面に接着剤層１３、ホログラム反射層１４、粘着剤層１５をこの順に積層し、もう一方の面に２つの異なる方向に配向した領域からなる場合の位相差層１１を形成した例を示している。
図２は、支持基材２２の一方の面に接着剤層２３、セキュリティ層２４、粘着剤層２５をこの順に積層し、もう一方の面に２つの異なる方向に配向した領域からなる場合の位相差層２１を形成した例を示している。
図３は、支持基材３２の表面に接着剤層３３、位相差層３１、エンボス層３７、ホログラム反射層３４、粘着剤層３５をこの順に積層した例を示している。位相差層３１の直下の配向層は図示していない。
図４は、支持基材４２の表面に接着剤層４３、位相差層４１、セキュリティ層４４、粘着剤層４５をこの順に積層した例を示している。
図５は、図１に示した偽造防止シールを被着物５８に一旦被着物に貼付し、その後シールを剥離した後の偽造防止シールの状態の一例を示している。
図６は、図３に示した偽造防止シールを被着物６８に一旦被着物に貼付し、その後シールを剥離した後の偽造防止シールの状態の一例を示している。
以下本発明の詳細を具体的に説明する。
本発明の偽造防止シールは、支持基材（１２、２２、３２、４２、５２、６２）と、少なくとも２方向に配向した位相差層（１１、２１、３１、４１、５１、６１）と、接着強度が異なる紫外線または電子線硬化型の感光性樹脂からなる接着剤層（１３、２３、３３、４３、５３、６３）とホログラム反射層（１４、６４）またはセキュリティ機能層（２４、４４）が設けられ、さらに粘着剤層（１５、２５、３５、４５、５５、６５）で構成される。また、必要に応じて、エンボス層３７を具備していても良い。
本発明の偽造防止シールは、支持基材（１２、２２、３２、４２、５２、６２）と、少なくとも２方向に配向した位相差層（１１、２１、３１、４１、５１、６１）と、接着強度が異なる紫外線または電子線硬化型の感光性樹脂からなる接着剤層（１３、２３、３３、４３、５３、６３）とホログラム反射層（１４、６４）またはセキュリティ機能層（２４、４４）が設けられ、さらに粘着剤層（１５、２５、３５、４５、５５、６５）で構成される。また、必要に応じて、エンボス層３７を具備していても良い。
本発明に用いることのできる支持基材（１２、２２、３２、４２、５２、６２）について説明をする。利用できる支持基材としては、押出加工やキャスト加工により作製された無延伸フィルム及び、延伸加工により作製された延伸フィルムを用いることができる。延伸フィルムには伸ばし方により、１軸延伸、２軸延伸フィルムがある。これらの無延伸フィルム及び延伸フィルムには、セロハン、ポリカーボネート(ＰＣ)、ポリエチレン(ＰＥ)、ポリプロピレン(ＰＰ)、ポリオレフィン(ＰＯ)、エチレンビニールアルコール(ＥＶＯＨ)、ポリビニールアルコール(ＰＶＡ)、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート(ＰＥＮ)、ポリエチレンテレフタレート(ＰＥＴ)、ナイロン、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(ＴＡＣ)フィルムなどが挙げられる。
本発明に用いることの出来る２方向に配向した位相差層（１１、２１、３１、４１、５１、６１）の材料として、高分子液晶を挙げることが出来る。高分子液晶を２方向に配向させる方法としては、部分的に配向処理方向を変えた配向層上に高分子液晶を塗布することにより形成可能である。高分子液晶を配向させるための配向層の配向処理には、例えば光配向法またはラビング配向法を用いることが出来る。高分子液晶を配向させる方向を３方向以上にするには、配向層の配向処理をする方向の数をそれに対応させて増加させれば良い。
光配向法とは、配向層に偏光等の異方性を有する光を照射または非偏光光を斜めから照射し、配向層内の分子の再配列や異方的な化学反応を誘起する方法で、配向層に異方性を与え、これによって液晶分子が配向することを利用したものである。光配向のメカニズム
としては、アゾベンゼン誘導体の光異方化、桂皮酸エステル、クマリン、カルコンやベンゾフェノン等の誘導体の光二量化や架橋、ポリイミド等の光分解等があげられる。
としては、アゾベンゼン誘導体の光異方化、桂皮酸エステル、クマリン、カルコンやベンゾフェノン等の誘導体の光二量化や架橋、ポリイミド等の光分解等があげられる。
具体的には、適当な波長帯域の偏光光若しくは斜めからの非偏光光によりパターン露光することにより行われる。また、偏光潜像部と偏光背景部の如く、２方向に配向させる場合は、フォトマスクで配向方向を変えたい部分をカバーしてパターン露光し、さらにフォトマスクでカバーされていた未露光部を処理するために全面に方向を変えて露光すれば良い。または、一度全面をパターン露光した後に、部分的にフォトマスクでカバーして方向を変えて再度露光しても良い。３方向以上に配向させる場合は使用するフォトマスクのパターンの種類を増やすことで同様に実施できる。
ラビング法は、基材上にポリマー溶液を塗布して作成した配向層を布で擦る方法で、擦った方向に配向層表面の性質が変化し、この方向に液晶分子が並ぶという性質を利用したものである。配向層には、ポリイミド、ＰＶＡ等を用いることができる。
光軸を２方向に配向させる場合には、配向方向を変えたい部分をマスクでカバーして布で擦った後にマスクを除去し、今度は先ほどラビングした部分をマスクでカバーし、再び方向を変えて布で擦った後、マスクを除去する。または、全面を布で擦った後に、部分的にマスクでカバーし、方向変えて布で擦った後、マスクを除去しても良い。
本発明においては少なくとも２方向の配向パターンと、紫外線または電子線硬化型接着剤層の接着強度が異なるパターンと、を一致させていることが特徴である。そのため、ラビング法を用いる場合、一度マスクを置いてラビングした後に、マスクをそのまま残し電子線または紫外線照射し、さらに、次のマスクを置いてラビングした後に、そのマスクをそのまま残し電子線または紫外線照射しなければいけない。ラビング法を用いても良いが、本発明においては、光配向法を用いることが望ましい。光配向法を用いることにより、配向層に配向規制力を持たせると同時に、紫外線硬化型接着剤層も硬化することが出来る。
これら配向層を形成する方法としては、グラビアコーティング法、マイクログラビアコーティング法等の公知の手法を用いる事が出来る。
高分子液晶材料としては、８０〜２００℃程度の融点を有し、サーモトロピック性（熱や圧力によってのみ相変化をする性質）を示すものが好ましく、例えばポリエステル共重合体、ポリエーテル、ポリカーボネート、ポリイソシアネート、ポリグルタミン酸エステル等のサーモトロピック性高分子材料がある。
これらのサーモトロピック性を示す高分子液晶材料は、通常に形成した状態では特定の結晶構造を有してないランダムな分子配列状態になっている。このような分子配列状態にて形成されている高分子液晶材料に対して熱を加え溶融すると、配向層の配向方向に沿って液晶が配向することとなる。
本発明に用いる紫外線または電子線硬化型接着剤層は紫外線または電子線を照射することにより硬化するものであれば特にその組成等を限定するものではないが、組成物として安定な品質を有する紫外線硬化型または電子線硬化型接着剤を用いることが出来る。この接着剤は、例えば、ラジカル重合反応を利用した紫外線照射直後に反応を開始し、短時間で硬化するタイプの即効性ものや、カチオン重合またはアニオン重合を利用した紫外線照射後の所定時間経過後に硬化が開始するような遅効性のものを用いることが出来る。
この接着剤層に反射層を設ける方法として、反射層を含む転写箔を転写にて設けてもよ
く、例として、接着剤層を塗布後に貼り合せてから紫外線を照射する場合は、ラジカル重合を利用した即効性の接着剤を用いることができ、また、接着剤層を塗布後に紫外線を照射してから貼り合せる場合はカチオン重合を利用した遅効性の接着剤を用いると良い。
く、例として、接着剤層を塗布後に貼り合せてから紫外線を照射する場合は、ラジカル重合を利用した即効性の接着剤を用いることができ、また、接着剤層を塗布後に紫外線を照射してから貼り合せる場合はカチオン重合を利用した遅効性の接着剤を用いると良い。
紫外線硬化型接着剤または電子線硬化型接着剤を塗工する方法としては、特に限定するものではなく、オフセット印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷等の各種印刷機を用いて良い。また、全面に塗布しても良いしパターンで塗布しても良い。
接着剤層の接着強度を異ならせる方法としては、接着剤を全面に塗布してから、接着剤層の硬化を行う際の紫外線照射の際に、まず全面に照射を行い、その後フォトマスクを用いてバターンで紫外線を照射して部分的に接着剤をさらに硬化させることによって、接着剤層の硬化度合いをパターンで異ならせることが出来る。このときに、接着強度を極端に異ならせる方がよく、全面の照射エネルギーに対してパターンの照射エネルギーは３倍から１０倍程度のエネルギーにすると良い。
さらには、この接着剤層のパターン硬化と位相差層（１１、２１、３１、４１、５１、６１）を配向させるための光配向層の露光を同時に行うため、紫外線照射は、光配向層と紫外線硬化接着剤層の両方が形成されている状態で行う必要がある。どちらを先に設けてもよいが、紫外線照射は光配向層越しに行うと良い。このように、紫外線照射を行うことで、潜像パターンと脆性パターンを同時に、同一のパターンで設けることができる。
ホログラム反射層は、接着剤層の表面に形成する。本発明ではレリーフ型ホログラムを採用する為、接着剤層に用いる材料としてエンボス成形性がある材料を使用し、接着剤層を塗布・形成後、レリーフ型ホログラムのパターンを形成した金型を熱圧着することによって接着剤層にホログラムの凹凸に対応した形状が転写される。その表面に反射層を形成することによって、ホログラム反射層が完成する。
ホログラム反射層に使用する反射層材料としては、Ａｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇなどの金属材料の単体、またはこれらの化合物などが挙げられる。反射層を形成する方法としてはドライコーティング法が好ましく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法など公知の方法を適宜使用することができる。
さらに、必要に応じてエンボス層を設けてもよい。エンボス層は、光の干渉を利用したレリーフ型ホログラムか回折格子に係る微小な凹凸を形成し、立体画像の表現や見る角度によりパターンが変化するチェンジングを生じる表示部を形成するための層である。このレリーフ型のホログラム（回折格子）は光学的な撮影方式により、微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスター版を作製した後、電気メッキ法により前記マスター版からパターンを複製したプレス版を得、このプレス版をポリカーボネート樹脂等からなる層に押し当てて賦型することによって得られる。前記エンボス層へのレリーフ型ホログラムもこのような方法、すなわちプレス版を加熱してエンボス層に押し当て、ホログラム等を形成する方法が採られる。それゆえ、エンボス層は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得られる材料によって構成する。
上記エンボス層に用いられる材料としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレート等の紫外線或いは電子線硬化樹脂を、単独またはこれらを複合して使用できる。また、前記以外の樹脂であっても、回折構造パターンを形成可能であれば適宜使用できる。そこで、請求項１のように、前記の紫外線硬化接
着剤層とエンボス層を兼ねても良い。
着剤層とエンボス層を兼ねても良い。
セキュリティ機能層として、ＯＶＤを用いても良い。ＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）とは、前記ホログラムのような光の干渉を利用した画像や立体画像の表現の他、見る角度により色が変化するカラーシフトを生じる表示体を用いてもよい。光学特性の異なるセラミックスや金属材料の薄膜を積層した多層膜方式や、或いは液晶材料等による見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる材料もその例である。これらＯＶＤは、立体画像やカラーシフトといった独特な印象を与え、また高度な製造技術を要することから、偽造防止の有効な手段と言える。
多層薄膜方式を用いる場合、前述したように、ＯＶＤ形成層は、異なる光学特性を有する多層薄膜層からなり、金属薄膜、セラミックス薄膜又はそれらを併設してなる複合薄膜として積層形成される。例えば，屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層するようにしてもよい。それらの組み合わせにより、所望の多層薄膜を得ることができる。
この多層薄膜層は、セラミックスや金属などの材料が用いられ、おおよそ２つ以上の高屈折率材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定の膜厚で積層したものである。以下に、用いられる材料の例を挙げる。括弧内は屈折率を示す。
先ず、セラミックスとしては、Ｓｂ２Ｏ３（３．０）、Ｆｅ２Ｏ３（２．７）、ＴｉＯ２（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ２（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ２（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ２Ｏ３（２．０）、ＷＯ３（２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ２Ｏ３（２．５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ２Ｏ３（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ２（２．０）、ＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ２（１．５）、ＭｇＦ２（１．４）、ＣｅＦ３（１．６）、ＣａＦ２（１．３〜１．４）、ＡｌＦ３（１．６）、Ａｌ２Ｏ３（１．６）、ＧａＯ（１．７）等がある。
先ず、セラミックスとしては、Ｓｂ２Ｏ３（３．０）、Ｆｅ２Ｏ３（２．７）、ＴｉＯ２（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ２（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ２（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ２Ｏ３（２．０）、ＷＯ３（２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ２Ｏ３（２．５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ２Ｏ３（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ２（２．０）、ＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ２（１．５）、ＭｇＦ２（１．４）、ＣｅＦ３（１．６）、ＣａＦ２（１．３〜１．４）、ＡｌＦ３（１．６）、Ａｌ２Ｏ３（１．６）、ＧａＯ（１．７）等がある。
そして、金属単体又は合金の薄膜としては、例えば、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ等が挙げられる。
また、低屈折率の有機ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタアクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等が挙げられる。
また、低屈折率の有機ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタアクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等が挙げられる。
これらの高屈折率材料、又は３０％〜６０％透過の金属薄膜から少なくとも一種を選択し、低屈折率材料から少なくとも一種選択し、所定の厚さで交互に積層させる事により、特定の波長の可視光に対する吸収又は反射を示すようになる。
上記した各材料から屈折率、反射率、透過率等の光学特性や耐候性、層間密着性などに基づき適宜選択され、薄膜として積層され多層薄膜層を形成する。形成方法は公知の手法を用いることができ、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学的膜厚（ｎ・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：物理的膜厚）などの制御が可能な、通常の真空蒸着法、スパッタリング法にて形成される。
さらには、カラーシフトを生じる材料としては、例えばコレステリック液晶が挙げられる。
コレステリック液晶は、螺旋状に配向する液晶で、特定の波長の右又は左の円偏光を反射する偏光分離能を持つ。反射する波長は、螺旋周期のピッチにより決まり、また、円偏光の左右は、螺旋の方向によって決まる。通常の観察光では偏光の左右光が混在しているため画像の確認は出来ないが、偏光フィルタをかざすことによって偏光の一方のみを取り出すことが出来、画像として認識できるものである。つまり、潜像技術と言われるもので
あり、コレステリック液晶は、反射光が角度により反射波長が変化すため、一見、カラーシフトインキとして用いられ、カモフラージュすることができる。
なお、カラーシフトを生じる材料としては、コレステリック液晶に限定されるものではなく同様の効果を発揮するものであればよい。
コレステリック液晶は、螺旋状に配向する液晶で、特定の波長の右又は左の円偏光を反射する偏光分離能を持つ。反射する波長は、螺旋周期のピッチにより決まり、また、円偏光の左右は、螺旋の方向によって決まる。通常の観察光では偏光の左右光が混在しているため画像の確認は出来ないが、偏光フィルタをかざすことによって偏光の一方のみを取り出すことが出来、画像として認識できるものである。つまり、潜像技術と言われるもので
あり、コレステリック液晶は、反射光が角度により反射波長が変化すため、一見、カラーシフトインキとして用いられ、カモフラージュすることができる。
なお、カラーシフトを生じる材料としては、コレステリック液晶に限定されるものではなく同様の効果を発揮するものであればよい。
さらには、セキュリティ機能層としてフィルタを使用した判定ができるような偏光子を用いてもよい。例えば、ＰＶＡにヨウ素または２色性染料を含浸させ、延伸配向させた吸収型偏光子、または、２色性染料を配向層上で配向させた吸収型偏光子、またはコレステリック液晶にλ／４位相差子を組み合わせた反射型偏光子、複屈折性多層フィルムを積層した反射型偏光子、ブルースター角でレンチキュラーレンズ状に形成したプリズム偏光子、複屈折物質を回折格子状に形成した複屈折回折偏光子、回折構造の溝を深く形成した回折偏光子などを利用する事ができる。この他にも、反射光、または、透過光にて特定偏光成分を分離または抽出できる素子であれば利用可能であり、これらは、コーティングや転写等で設けるとよい。
また、セキュリティ機能として、検証器等を用いて判定を行える蛍光インキや蓄光インキ等を用いても良い。
蛍光材料又は蓄光材料としては、蛍光体には、紫外線発光蛍光体及び赤外線発光蛍光体があり、以下にはその例を挙げる。
紫外線蛍光体は紫外線を照射することにより、可視波長領域の光を発光するもので、例えばＣａ２Ｂ５Ｏ３Ｃｌ：Ｅｕ２+，ＣａＷＯ４，ＺｎＯ：Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ，Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ，ＺｎＳ：Ａｇ，ＹＶＯ４：Ｅｕ，Ｙ３０３：Ｅｕ，Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ，Ｌａ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ，Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｃｅ等がある。
これら蛍光体の添加量は、ブラックライトを照射した際の発光が目視で碓認できるか、又は検出器の受光素子にて蛍光が検知可能となるようにする。
紫外線蛍光体は紫外線を照射することにより、可視波長領域の光を発光するもので、例えばＣａ２Ｂ５Ｏ３Ｃｌ：Ｅｕ２+，ＣａＷＯ４，ＺｎＯ：Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ，Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ，ＺｎＳ：Ａｇ，ＹＶＯ４：Ｅｕ，Ｙ３０３：Ｅｕ，Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ，Ｌａ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ，Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｃｅ等がある。
これら蛍光体の添加量は、ブラックライトを照射した際の発光が目視で碓認できるか、又は検出器の受光素子にて蛍光が検知可能となるようにする。
また、赤外線発光蛍光体は、赤外線を照射することにより、可視波長領域の光を発光するものと、赤外波長領域の光を発光するものとがある。
前者のものとして、例えばＹＦ３：ＹＢ，Ｅｒ，ＺｎＳ：ＣｕＣｏ等がある。
また後者のものとして、例えばＬｉＮｄ0.9Ｙｂ0.1Ｐ4Ｏ12、ＬｉＢｉ0.2Ｎｄ0.7Ｙｂ0.1Ｐ4Ｏ12、Ｎｄ0・9Ｙｂ0.1Ｎｄ5（ＭｏＯ4）4、ＮａＮｂ0.3Ｙｂ0.1Ｐ4Ｏ12、Ｎｄ0.8Ｙｂ0.2Ｎa5（Ｗ０4）4、Ｎｄ0.8Ｙｂ0.2Ｎａ5（Ｍｏ0.5ＷＯ0.5）4、Ｃｅ0.05Ｇｄ0.05Ｎｄ0.75Ｙｂ0.25Ｎａ5（Ｗ0.7Ｍｏ0.3０4）4、Ｎｄ0.3Ｙｂ0.1Ａｌ3（ＢＯ3）4、Ｎｄ0・9Ｙｂ0.1Ａｌ2.7Ｃｒ0.3（ＢＯ3）4、Ｎｄ0.4Ｐ5Ｏ4、Ｎｄ0.8Ｙｂ0.2Ｋ3（ＰＯ4）2等がある。後者のものは、赤外線の波長８００ｎｍ近辺の光を照射することにより、９８０ｎｍ〜１０２０ｎｍに発光スペクトルのピークを有する赤外線を発光する。
インキ中の赤外線発光蛍光体の添加量は、発光が目視で確認できるか、又は検出器の受光素子が蛍光を検出可能となるようにする。
これらは、単独で用いても良いし、複数を組み合わせて用いても良い。
前者のものとして、例えばＹＦ３：ＹＢ，Ｅｒ，ＺｎＳ：ＣｕＣｏ等がある。
また後者のものとして、例えばＬｉＮｄ0.9Ｙｂ0.1Ｐ4Ｏ12、ＬｉＢｉ0.2Ｎｄ0.7Ｙｂ0.1Ｐ4Ｏ12、Ｎｄ0・9Ｙｂ0.1Ｎｄ5（ＭｏＯ4）4、ＮａＮｂ0.3Ｙｂ0.1Ｐ4Ｏ12、Ｎｄ0.8Ｙｂ0.2Ｎa5（Ｗ０4）4、Ｎｄ0.8Ｙｂ0.2Ｎａ5（Ｍｏ0.5ＷＯ0.5）4、Ｃｅ0.05Ｇｄ0.05Ｎｄ0.75Ｙｂ0.25Ｎａ5（Ｗ0.7Ｍｏ0.3０4）4、Ｎｄ0.3Ｙｂ0.1Ａｌ3（ＢＯ3）4、Ｎｄ0・9Ｙｂ0.1Ａｌ2.7Ｃｒ0.3（ＢＯ3）4、Ｎｄ0.4Ｐ5Ｏ4、Ｎｄ0.8Ｙｂ0.2Ｋ3（ＰＯ4）2等がある。後者のものは、赤外線の波長８００ｎｍ近辺の光を照射することにより、９８０ｎｍ〜１０２０ｎｍに発光スペクトルのピークを有する赤外線を発光する。
インキ中の赤外線発光蛍光体の添加量は、発光が目視で確認できるか、又は検出器の受光素子が蛍光を検出可能となるようにする。
これらは、単独で用いても良いし、複数を組み合わせて用いても良い。
本発明の偽造防止シールを構成する粘着層は、接する層を冒すものでなければ、一般的な粘着材料を用いて形成することが出来る。例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル系ポリアミド、アクリル系、ブチルゴム系、天然ゴム系、シリコン系、ポリイソブチル系の粘着剤を単独、またはアルキルメタクリレート、ビニルエステル、アクリルニトリル、スチレン、ビニルモノマーなどの凝集成分、不飽和カルボン酸、ヒドロキシ基含有モノマー、アクリルニトリルなどに代表される改質成分や重合開始剤、可塑剤、硬化剤、硬化促進剤、酸化防止剤などの添加剤を必要に応じて添加したものを用いることが出来る。粘着層の形成には公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラビア法、ロールコート法などの塗布方法などを用いる
ことが出来る。
以下、本発明の実施例について説明する。
ことが出来る。
以下、本発明の実施例について説明する。
ＴＡＣフィルム上に紫外線硬化接着剤兼エンボス層となるユニディックＲＣ−１１８（ＤＩＣ社製）をグラビア印刷法にて１．５μｍ塗布し、次に、微小な凹凸の回折格子パターンを有するニッケル製の金型を１６５℃に加熱し、ロールエンボス法により前記紫外線硬化接着剤層の上に押圧することで、その一部に微小な凹凸状の回折格子パターンを形成した。続いて回折格子パターンの上にアルミニウムを真空蒸着法にて厚さ８０ｎｍで成膜した。
さらに、ＴＡＣフィルムのもう一方の面に光配向剤であるＩＡ−０１(大日本インキ化学工業社製)をマイクログラビアにより塗布し製膜を行った。この光配向剤は、３６５ｎｍの偏光光を照射すると、偏光方向に液晶配向力をもつ材料である。光配向層に対して偏光紫外線を用いて全面で０．２Ｊ／ｃｍ2の照射を行い、全面照射した偏光方向に対して４５°の角度差がつけた方向にフォトマスクを用意しパターンで２Ｊ／ｃｍ2の照射を行った。その後、高分子液晶であるキラコールＰＬＣ７００３（ＡＤＥＫＡ社製）をインキ化し、マイクログラビア１．２μｍにて塗工し、１２０℃のオーブンにて熱をかけ配向させ、２軸にパターンで配向した位相差層（１１、２１、３１、４１、５１、６１）を得た。同時に、紫外線硬化接着剤層は、０．２Ｊ／ｃｍ2照射された部分と、全面とパターンで合計２．２Ｊ／ｃｍ2照射された部分では、紫外線硬化接着剤層の硬化度合いが異なり、前記位相差層（１１、２１、３１、４１、５１、６１）のパターンと一致したパターンでアルミニウムとの接着強度を異ならせることができた。
さらに、粘着層として、ＢＰＳ５１６０(東洋インキ製造社製)をダイレクトグラビアにて１０μｍ設けると共に、離型紙を貼り合わせ、所定の大きさに切り取り偽造防止シールを得た。
これを、偽造防止を行いたい被着物に貼り付け、検証フィルターを用いて検証を行ったところ、前記フォトマスクのパターンにて潜像が出現した。さらに検証フィルターを回転させると、潜像のネガとポジが反転し、本物であることが確認された。その後、偽造防止シールを再度利用しようと端部より剥がそうと試みた。すると、図５のように、検証フィルターにて確認したパターンにて紫外線硬化接着剤層とアルミニウムの間で層破壊が起こり、破壊の痕跡を残すことが出来、シールを復元できなくなった。さらに、ホログラム反射層が破壊されるため、単に反射層を再度設けるだけでは復元できず、偽造防止シールの再利用や、変造、改変が極めて困難となり、不正行為を防止することができた。
ＴＡＣフィルム上に紫外線硬化接着剤層となるユニディックＲＣ−１１８（ＤＩＣ社製）をグラビア印刷法にて１．５μｍ塗布し、熱乾燥を行った。次に、紫外線硬化接着剤層の上に光配向剤であるＩＡ−０１(大日本インキ化学工業社製)をマイクログラビアにより塗布し製膜を行った。この光配向剤は、３６５ｎｍの偏光光を照射すると、偏光方向に液晶配向力をもつ材料である。光配向層に対して偏光紫外線を用いて全面で０．２Ｊ／ｃｍ2の照射を行い、全面照射した偏光方向に対して４５°の角度差がつけた方向にフォトマスクを用意しパターンで２Ｊ／ｃｍ2の照射を行った。その後、高分子液晶であるキラコールＰＬＣ７００３（ＡＤＥＫＡ社製）をインキ化し、マイクログラビア１．２μｍにて塗工し、１２０℃のオーブンにて熱をかけ配向させ、２軸にパターンで配向した位相差層を得た。同時に、紫外線硬化接着剤層は、０．２Ｊ／ｃｍ2照射された部分と、全面とパターンで合計２．２Ｊ／ｃｍ2照射された部分では、紫外線硬化接着剤層の硬化度合いが異なり、前記位相差層のパターンと一致したパターンでＴＡＣフィルムとの接着強度を異
ならせることができた。
ならせることができた。
さらに、エンボス層を設け、微小な凹凸の回折格子パターンを有するニッケル製の金型を１６５℃に加熱し、ロールエンボス法により前記紫外線硬化接着剤層の上に押圧することで、その一部に微小な凹凸状の回折格子パターンを形成した。続いて回折格子パターンの上にアルミニウムを真空蒸着法にて厚さ８０ｎｍで成膜した。
さらに、粘着層として、ＢＰＳ５１６０(東洋インキ製造社製)をダイレクトグラビアにて１０μｍ設けると共に、離型紙を貼り合わせ、所定の大きさに切り取り偽造防止シールを得た。
これを、偽造防止を行いたい被着物に貼り付け、検証フィルターを用いて検証を行ったところ、前記フォトマスクのパターンにて潜像が出現した。さらに検証フィルターを回転させると、潜像のネガとポジが反転し、本物であることが確認された。その後、偽造防止シールを再度利用しようと端部より剥がそうと試みた。すると、図６のように検証フィルターにて確認したパターンにて紫外線硬化接着剤層とＴＡＣフィルムの間で層破壊が起こり、破壊の痕跡を残すことが出来、シールを復元できなくなった。さらに、ホログラム反射層が破壊されるため、単に反射層を再度設けるだけでは復元できず、偽造防止シールの再利用や、変造、改変が極めて困難となり、不正行為を防止することができた。
１１、２１、３１、４１、５１、６１・・・位相差層
１２、２２、３２、４２、５２、６２・・・支持基材
１３、２３、３３、４３、５３、６３・・・接着剤層
１４、３４、５４ ・・・ホログラム反射層
１５、２５、３５、４５、５５、６５・・・粘着剤
２４、４４ ・・・セキュリティ機能層
３７ ・・・エンボス層
５８、６８ ・・・被着物
１２、２２、３２、４２、５２、６２・・・支持基材
１３、２３、３３、４３、５３、６３・・・接着剤層
１４、３４、５４ ・・・ホログラム反射層
１５、２５、３５、４５、５５、６５・・・粘着剤
２４、４４ ・・・セキュリティ機能層
３７ ・・・エンボス層
５８、６８ ・・・被着物
Claims (6)
- 少なくとも支持基材と、接着剤層と、位相差層と、ホログラム反射層またはセキュリティ機能層と、粘着剤層と、から構成される偽造防止シールであって、
前記位相差層は、少なくとも２つの異なる方向に配向した部分を形成したことによってパターンが形成されており、
前記接着剤層は、前記接着剤層と接する層との接着強度を前記パターンと一致させて変化させることによって、前記パターンと一致して脆性破壊する部分と脆性破壊しない部分から構成されている、ことを特徴とする偽造防止シール。 - 前記位相差層が高分子液晶からなることを特徴とする請求項１に記載の偽造防止シール。
- 前記接着剤層が紫外線または電子線硬化型樹脂からなることを特徴とする請求項１または２に記載の偽造防止シール。
- 前記位相差層と前記ホログラム反射層との間に前記接着剤層を形成したことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の偽造防止シール。
- 切り欠きまたはミシン目が設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の偽造防止シール。
- 少なくとも接着剤層形成工程と、位相差層形成工程と、ホログラム反射層またはセキュリティ機能層形成工程と、粘着剤層形成工程と、から構成される偽造防止シール製造方法であって、
配向層形成工程は、位相差層形成工程の直前に実施され、
前記位相差層形成工程は、光配向技術を使用して少なくとも２つの異なる方向に配向した部分を形成することによってパターンを形成し、
前記接着剤層形成工程は、塗布工程と全面露光工程と部分露光工程からなっており、
前記全面露光工程の露光強度は前記部分露光工程の露光強度より弱い露光強度を使用し、且つ、前記部分露光工程は、前記全面露光工程で使用する露光光の偏光方向とは、１つ以上の異なる偏光方向を持った露光光で部分露光を実施すること、を特徴とする偽造防止シール製造方法。
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2010
- 2010-04-08 JP JP2010089382A patent/JP2011221228A/ja active Pending
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